【課題】コールドスプレーによる噴射体の物理量の測定を実現する。
【解決手段】コールドスプレーによる噴射体の物理量を測定するコールドスプレー測定装置１０であって、噴射体の温度を検出する熱電対１１と、熱電対１１を支持するノーズコーン１５と、を具備し、ノーズコーン１５の頂部１５Ａの半頂角θ１は、コールドスプレーによる噴射体の超音速流をマッハ数Ｍによって表したとき、マッハ数Ｍに対応するマッハ角θ_Ｍ以下の角度となるように形成され、熱電対１１は、ノーズコーン１５に内設され、ノーズコーン１５の頂部１５Ａに熱電対１１が配置される。 （もっと読む）

【課題】基材と被膜との密着性を高めることにより、耐摩耗性に優れた被覆体を提供する。
【解決手段】本発明の被覆体は、基材上に第１被膜が形成されたものであって、該第１被膜は、立方晶窒化硼素微粒子からなり、立方晶窒化硼素微粒子は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の平均粒子径を有し、基材は、第１被膜が形成される側の表面において、立方晶窒化硼素微粒子が基材に浸入するアンカー部を有することを特徴とする。第１被膜は、立方晶窒化硼素粉末を原料とし、該原料を高速気流中で基板に衝突させることにより形成されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】成膜室内に保持された基板を三次元方向に移動させる機能を有すると共に、その機能に伴って設けられたベローズの内部に侵入する成膜関与物質の量を低減する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２の表面に対して真空状態下で成膜処理する成膜室１０と、成膜室１０に形成された開口部１０ａを貫通して基板２を保持する基板保持手段２０と、基板保持手段２０を介して基板２を三次元方向に移動させる基板駆動手段３０と、基板保持手段２０の少なくとも一部を収容し、開口部１０ａに一方の端部６０ａを連通させるように設けられたベローズ６０と、基板保持手段２０が摺動可能となるように開口部１０ａを塞ぐ遮蔽手段８０と、遮蔽手段８０を成膜室１０の上部内壁面１０ｄに押し付ける付勢手段９０とを有する成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】製膜対象物にノズルから噴射されたエアロゾルを吹き付けつつ、その吹き付け位置を連続的に変化させることで、上面と外側面と湾曲面とを連続的に覆う膜を生成する製膜方法であって、簡易な方法で連続的且つ良質な膜の形成を可能とする製膜方法を提供すること。
【解決手段】この製膜方法は、上面Ｗ０１及び上面Ｗ０１に繋がる湾曲面Ｗ０３にエアロゾルを連続的に吹き付け、上面Ｗ０１を覆う膜と湾曲面Ｗ０３の少なくとも一部を覆う膜とを連続的に形成する第一製膜工程と、外側面Ｗ０２を覆う膜と、第一製膜工程において湾曲面Ｗ０３に形成された膜を更に覆う膜とを連続的に形成する第二製膜工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 高い付着効率で、基材との接合性が高い緻密な皮膜を形成することができるコールドスプレー法による金属材料の補修方法及びコールドスプレー用粉末材料の製造方法、並びに、コールドスプレー皮膜を提供すること。
【解決手段】 高炭素鋼又はそれに基いた合金鋼からなる群から選択された金属材料からなる基材の補修を行うために、コールドスプレー用粉末材料の融点又は軟化温度よりも低い温度の作動ガスの超音速流と共に、前記コールドスプレー用粉末材料を流して固相状態のまま前記基材に高速で衝突させて皮膜を形成せしめることによりコールドスプレー法で前記金属材料を補修する方法であって、前記コールドスプレー用粉末材料が、高炭素鋼粉末と軟鋼粉末との混合物をメカニカルアロイング処理により均一混合したものであることを特徴とするコールドスプレー法による金属材料の補修方法。 （もっと読む）

【課題】粉末の供給量を安定させた粉末供給装置を提供する。
【解決手段】粉末供給円盤４５の一部を覆うカバー部材５０に形成された粉末排出通路５
１および第一の気体供給通路５２はそれぞれ、カバー部材５０と粉末供給円盤４５との間
隙部ＧＰを介して互いに対向するとともに、当該間隙部ＧＰに位置する受容部４７の底面
に沿って延びるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】噴射する皮膜材料（原料粉末）の速度分布の適正化を可能にし、これによって所望品質の皮膜が得られるようにしたコールドスプレー装置用エジェクタノズルと、このエジェクタノズルを備えたコールドスプレー装置を提供する。
【解決手段】皮膜材料を作動ガスとともに固相状態のまま対象物に衝突させ、皮膜を形成するコールドスプレー装置１におけるエジェクタノズル３である。皮膜材料及び作動ガスを供給する側となるコンバージェント部１１と、コンバージェント部１１の先端側に設けられたダイバージェント部１２とを有する。コンバージェント部１１は内管１３と外管１４とからなる二重配管構造とされ、ダイバージェント部１２は外管１４に連続して形成されている。内管１３内には皮膜材料及び作動ガスが供給されるように構成され、内管１３と外管１４との間には作動ガスが供給されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のエアロゾルデポジション膜形成用成膜装置で形成された膜は、表面にはランド発生や膜厚の偏りなど、電気的、物理的特性を劣化させる膜質を有しており、それを抑制した優良な膜を成膜可能な成膜装置、成膜方法、形成された成膜を有する成膜基板を提供する。
【解決手段】基板の表面に、膜を形成する、ほぼ均一な厚さの粉末層を形成し、その粉末層に向けてキャリアガスを噴射して、基板表面近傍に、ガスと粉末のエアロゾルを生成し、更にガス噴射で粉末を加速して基板面に衝突させ膜を形成可能とする成膜装置の構成とする。基板上に均一膜を形成するために、例えばメッシュマスク上に静置した粉末を基板面上で走査可能な機構を用いる。良好な膜を得ることが可能になるとともに製造工程面での工数削減にも寄与できる。また本発明の成膜装置、成膜方法によって、小型・薄型のキャパシタ内蔵ＭＣＭ用回路基板などの成膜基板が製造可能となる。 （もっと読む）

【課題】コールドスプレーにより厚膜の皮膜を効率的に形成することが可能なコールドスプレー用金属粉末を提供する。
【解決手段】本発明のコールドスプレー用金属粉末は、第１の平均径を有する第１の金属粒子を２０〜７０質量％の量で含有し、残部が第１の平均径よりも大きな第２の平均径を有する第２の金属粒子からなることにより、粒子径がバイモーダルに分布している。第２の金属粒子の平均径は、２００μｍ以下でかつ第１の金属粒子の平均径の１．５倍以上である。第２の金属粒子のビッカース硬さは、第１の金属粒子のビッカース硬さと同じかそれ以上でかつ１４００以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来コールドスプレー法による被膜形成が困難であった、基材と被膜形成用の粒体の組合せであっても、良好な密着強度を有する被膜の形成を可能にするコールドスプレー法による被膜形成方法及びその方法により得られる複合材の提供。
【解決手段】基材Ｘ表面にコールドスプレー法により被膜を形成する被膜形成方法であって、基材表面を加熱する加熱工程と、加熱工程後又は同時に基材の表面に作動ガスと共に粗化処理用粒体を超音速で噴き付け、基材表面の粗化処理を行う前処理工程と、前処理工程後、基材表面にコールドスプレー法により２００℃以上９００℃以下の作動ガスと共に被膜形成用粒体を噴き付け、基材表面に被膜を形成する被膜形成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）