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国際特許分類[G01B11/06]の内容

国際特許分類[G01B11/06]に分類される特許

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【課題】肉厚測定対象部分の外側に補強部材等が設置されている場合であっても、肉厚を正確に測定することができる肉厚測定装置を提供する。
【解決手段】2点以上の基準厚さ測定点の基準厚さを入力する入力部2と、2点以上の基準厚さ測定点を通るように取った前記測定対象部分の型Mを画像として読み込む画像入力部1と、前記画像上に前記測定対象部分の肉厚を測定する際の基準となる背面オフセット線Lを引き、前記画像上の前記測定対象部分の型M上の各点から前記背面オフセット線Lまでの距離を各点の前記画像上の肉厚として算出し、前記測定対象部分の型M上の各点の前記画像上の肉厚から実際の肉厚を算出する肉厚算出部3と、前記実際の肉厚を出力する出力部4とにより構成した。 (もっと読む)


【課題】広帯域干渉法によって透明な膜の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】広帯域干渉法によって膜のコレログラムを作成する工程と、コレログラムにフーリエ変換を適用して、フーリエ位相関数を得る工程と、フーリエ位相関数の線形成分を取り除く工程と、残りの非線形成分に第2積分変換を適用して非線形成分の積分振幅関数を得る工程と、積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、波長に依存する膜の屈折率を考慮して前記膜の厚さを前記ピーク位置の横座標の2倍値として決定する工程と、を含む。最後の2つの工程の代わりに、前記積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、前記ピーク位置の横座標の2倍値として膜の厚みを決定する工程と、を含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】基板表面に薄膜を形成する基板処理で、処理の進行具合をリアルタイムで把握して処理の終了時点を精度よく検出できる方法を提供すること。
【解決手段】基板1上に絶縁膜2を形成する基板処理装置10であって、絶縁膜2を波長可変単色光sで照射し、絶縁膜2および基板1からの各反射光を干渉させる干渉光発生手段12と、所望膜厚での干渉光強度Iが極小になるように単色光sの基準波長λを設定する基準波長設定部28と、基準波長を挟む2波長(λ、λ)間で単色光sを波長変調する変調部26と、これに応じた干渉光強度Iを検出する干渉光検出器18と、絶縁膜2が所望膜厚に達する直前から所望膜厚に達するまでの干渉光強度Iの変化に基づいて、最大波長(λ)時と最小波長(λ)時の干渉光強度の差分ΔIが零または所定値になる時点を基板処理の終了時点として検出する終了時点検出手段20とを備える。 (もっと読む)


【課題】検査精度を保ちつつスループットを向上させることができる検査装置、検査方法および検査プログラムを提供すること。
【解決手段】高倍率で基板の検査測定を行うミクロ検査部と、基板の全体画像をもとに各画素の輝度を算出して全体画像内のムラを検査するマクロ検査部と、全体画像に対して測定を行う測定点を、仮測定点として割り付ける設定部と、各画素の輝度をもとに全体画像を構成する画素をグループ化する分類部と、分類部がグループ化した領域において存在する仮測定点から少なくとも1つの仮測定点を選択して、選択された仮測定点を実測定点として決定する決定部と、実測定点の測定乃至検査をミクロ検査部に行わせるとともに、各実測定点における検査結果を同一の領域における仮測定点にそれぞれ割り付けて検査結果の出力制御を行う制御部と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計(dynamic interferometer)を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計(dynamic interferometer)は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 (もっと読む)


【課題】試料の全反射光のみならず、拡散反射光や反射ヘイズ率などの反射特性を個別に測定(算出)可能にし、この特徴を活かして試料の膜厚を算出する。
【解決手段】全反射光を積分球2により集光させる第1反射光測定光学系3と、拡散反射光を前記積分球2により集光させる第2反射光測定光学系3と、積分球2により集光された光を検出する検出光学系7とを備え、第1反射光測定光学系3及び検出光学系7により得られた全反射光と第2反射光測定光学系3及び検出光学系7により得られた拡散反射光から反射ヘイズ率を算出するとともに、全反射光から試料の膜厚を算出する。 (もっと読む)


【課題】ダイヤモンドライクカーボン等のカーボン薄膜について、その膜厚を簡易な手法で評価できるようにした、カーボン薄膜の膜厚評価方法を提供する。
【解決手段】基材上に形成された厚さ100nm以下のカーボン薄膜の膜厚評価方法である。カーボン薄膜の膜厚と明度計測装置で計測したカーボン薄膜の明度との相関を求める工程と、明度計測装置によって被評価膜となるカーボン薄膜の明度を計測する工程と、計測した被評価膜となるカーボン薄膜の明度から先に求めた相関に基づき、被評価膜となるカーボン薄膜の膜厚を評価する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する1またはn個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 (もっと読む)


【課題】ワーク内部にレーザー光線を集光して改質層を形成する加工装置において、厚さが規格外のワークが搬入されたことを加工前に検出する。
【解決手段】ワーク1を保持手段40に搬入して保持した状態で、光学式の測定手段70により、ワーク1の上面1aの高さ位置を測定する第一の測定工程と基準面に設定した保護テープ10の粘着面10aの高さ位置を測定する第二の測定工程とを行い、第一の測定工程と第二の測定工程とによって得られた値の差分によってワーク1の上面1aから基準面までの距離を検出し、該距離に基づいて、搬入されたワーク1の厚さが規格外であるか否かを判断する。 (もっと読む)


【課題】光学マルチ波長インターフェロメトリーを使用した薄膜素子測定方法の提供。
【解決手段】光学マルチ波長インターフェロメトリー使用の薄膜素子測定方法が開示される。本発明は異なる波長での薄膜の反射係数を使用して薄膜の厚さと光学定数を測定する。試験表面と参考表面の間の反射位相差由来の位相差は異なる波長での測定を行うことで参考光束と試験光束の間の空間経路差に由来する位相差と区別され、なぜならそれらは測定波長変化に伴い異なった変化を示すためである。反射位相がそれから得られる。薄膜の測定反射率と結合され、薄膜の反射係数が得られる。各点の反射係数が収集され、該薄膜の厚さと2次元の光学定数分布が計算される。表面輪郭が、参考光束と私見光束の間の空間経路差を通して知られる。これらは動的干渉計で測定されて振動影響が回避される。 (もっと読む)


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