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国際特許分類[G01B11/06]の内容

国際特許分類[G01B11/06]に分類される特許

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【目的】種々の麺類の太さを麺に対して非接触状態で計測することができ、且つ麺の太さが合格基準範囲内に収まっているか否かを瞬時に判定することができる麺測定器を提供すること。
【構成】 サンプル麺Mの長さ方向の一端を挟持固定する上部クランプAと、前記麺の他端を挟持固定する下部クランプBと、前記上部クランプAと前記下部クランプBとを結ぶ仮想線Lvに対して交差する光を発するセンサ8と、該センサ8よる麺の太さを数値表示する表示部83とからなること。前記上部クランプAと前記下部クランプBは水平面を同一角度回動自在とすること。 (もっと読む)


【課題】長尺フィルム状の基材aを成膜処理部4を経由して搬送しつつ、成膜処理部4で基材aの表面に膜を形成する成膜装置における膜厚測定方法であって、基材aが導電性であっても膜厚を正確に測定できるようにした方法を提供する。
【解決手段】成膜処理部4の下流側の基材搬送路の部分に、基材表面に対向する第1の光学式変位計10と基材裏面に対向する第2の光学式変位計10とを互いの光軸が同一直線上に位置するように配置する。そして、第1と第2の両光学式変位計10,10の計測距離に基づいて、基材表面に形成された膜の膜厚を算出する。好ましくは、基材aの未成膜部分で計測された両光学式変位計10,10の計測距離の合計値と、基材aの成膜部分で計測された両光学式変位計10,10の計測距離の合計値との差で膜厚を求める。 (もっと読む)


【課題】表面反射と裏面反射を有し、且つ、厚さを有する物体のチルト角と厚さを同時に測定できる厚さチルトセンサを提供する。
【解決手段】厚さチルトセンサは、測定対象物に向けて測定用光を出射する投光部と、測定対象物の表面反射光及び測定対象物の裏面反射光を受光する受光部とからなる光学系を備えており、投光部は、投光素子と投光レンズと平行光を細くする手段とを具備し、平行光を細くする手段により得られた細い平行光を測定用光とし、受光部は、表面反射光を受光するチルト角測定部と、表面反射光及び裏面反射光を受光する厚さ測定部とを具備し、チルト角測定部は、チルト角測定用受光レンズとチルト角測定用受光素子とを具備し、測定対象物のチルト角を測定し、厚さ測定部は、厚さ測定用受光レンズと厚さ測定用受光素子とを具備し、測定対象物の厚さを測定する。 (もっと読む)


【課題】所定の圧力及び所定の温度に加圧された部屋に配置した基板に形成されている物質(特に、薄膜)の間隙率を求める装置及び非破壊方法に関する。
【解決手段】ガス物質(例えば、トルエン蒸気)が部屋1に導入され、所定時間後、部屋に配置した基板2に形成されている薄膜の間隙率が、少なくとも偏光解析測定によって求められる。特に、偏光解析器6から得られる光学的特性は、薄膜の間隙(ポア)に凝縮されたガス物質の量を求めるために利用される。その量は、薄膜の間隙率を計算するために利用される。 (もっと読む)


【課題】非測定対象膜との屈折率の差が小さい基板上に形成された被測定対象膜の膜厚を高精度に測定する。
【解決手段】被測定対象膜である保護膜16の表面に45度以上の入射角度を有してパルス光41を照射する光源42と、表面から反射した表面反射光と誘電体層15と保護膜16との界面から反射した界面反射光とによって形成された干渉光を分光する分光器44と、パルス光41の位相と周期の情報に基づいて光源42からの信号と外乱光によるノイズとを分離する分離器47と、分光器44で分光された光を検知する光検出器46とを備えている。 (もっと読む)


【課題】テラヘルツ波を用いて、従来全く不可能であった1〜10μmの皮膚角層の厚さを、簡便且つ高精度に計測する技術を提供する。
【解決手段】皮膚角層の厚さを計測する技術であって、テラヘルツ波を用いた透過反射法において、ミラーとシリコンとで検体である皮膚角層を挟むことによって生じる干渉現象を利用する、又は、テラヘルツ波を用いたメタルメッシュ法を利用する、皮膚角層の厚さを簡便且つ精度良く計測する技術に関する。 (もっと読む)


【課題】皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができる皮革残膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】スリットSWが形成されている皮革W1の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置1において、皮革W1のスリット形成部SW1の裏面に線状の先端部11を接触させて、皮革W1を支持する基台10と、基台10で支持されている皮革W1の両端部側の部位が基台10から離れて延出し、基台10で支持されている皮革W1のスリットSWが開口するように、皮革W1の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段20と、皮革引っ張り手段20で引っ張られている皮革W1のスリット形成部SW1における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段20とを有する。 (もっと読む)


【課題】ガラス製の部材やプラスチック製の部材の品質安定化のためには、屈折率の分布を高精度に測定する必要があるが、従来の測定方法では、破壊検査であったり、有毒物を使用したり、平面でしか測れないといった課題がある。
【解決手段】光センサで得られた干渉信号に基づいて、被検物なしの基準反射面と、被検物の表面と、被検物の裏面と、被検物を透過後の基準反射面および被検物の手前で集光し平行光で反射する基準反射面の少なくとも一方との、それぞれの距離を測定し、これらの測定距離に基づいて被検物の屈折率を算出する。 (もっと読む)


【課題】測定物の厚さや温度測定を、非接触により高精度で行うこと。
【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光を放射する光源10と、SC光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ11と、ミラー12と、ミラー12の位置を調整する位置調整装置13と、測定光と参照光との干渉強度の波長スペクトルを測定する受光装置14と、干渉強度のスペクトルを空間座標に逆フーリエ変換して、干渉強度の空間分布を求め、その空間分布から測定物の厚さや温度を測定する干渉波形解析装置15と、によって構成されている。 (もっと読む)


【課題】局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する方法を提供する。
【解決手段】マスクブランクス用のガラス基板1の被測定面および裏面の凹凸形状と板厚ばらつきを測定する凹凸形状測定工程と、前記測定結果にもとづいて、表面加工を施すことにより、前記被測定面および裏面の平坦度と板厚ばらつきを所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、表面加工の施された前記ガラス基板1の表面を基板押圧手段67により研磨布61に押圧しつつ、回転させて研磨する際、前記ガラス基板1の表面における押圧力分布が均一となるように、前記ガラス基板1を研磨布61に押し当て、かつ、研磨布押圧手段67が、前記ガラス基板1の外周部近傍の前記研磨布61を押圧しながら、前記ガラス基板1を研磨する研磨工程と、を有する。 (もっと読む)


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