皮革残膜厚測定装置
【課題】皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができる皮革残膜厚測定装置を提供する。
【解決手段】スリットＳＷが形成されている皮革Ｗ１の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置１において、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の裏面に線状の先端部１１を接触させて、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０で引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段２０とを有する。
【解決手段】スリットＳＷが形成されている皮革Ｗ１の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置１において、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の裏面に線状の先端部１１を接触させて、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０で引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段２０とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮革残膜厚測定装置に係り、例えば、自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革に設けられた溝部における上記皮革の残膜厚さ（残厚）を測定するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ホーンパッド等の自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革のスリット（エアーバッグ作動時における開裂用の溝）の深さを測定する方法として、例えば、特開２００８−２３３０５４号公報（特許文献１）に記載された方法が提案されている。このスリットの深さを測定する方法は、センサー等で構成された皮革残膜厚測定装置を用いて非接触で皮革の表面の位置を測定することにより、スリットの深さを測定している。
【０００３】
図８及び図９は、特許文献１に記載された皮革残膜厚測定装置の構成を示す図である。図８に示すように、皮革残膜厚測定装置１００は、皮革Ｗ２（図９参照）を設置する基台１０１と、皮革Ｗ２の部位の厚さ（皮革Ｗ２のスリット（溝部）ＳＷ２における残膜の厚さ）ｔ２を測定する測定手段１０２から略構成されている。
【０００４】
図９に示すように、基台１０１は、上端部に凸状で直線状の稜部１０３を備えている。稜部１０３には、皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、矢印Ｔで示す方向に張力を加え、基台１０１に設置された皮革Ｗ２のスリットＳＷ２部位が開くようにし、スリットＳＷ２の裏側（反対側）に位置する部位が稜部１０３に接触する。
【０００５】
そして、測定手段１０２は、基台１０１に設置された皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、レーザ等のセンサー１０４をスリットＳＷ２に照射して、稜部１０３に接触している皮革Ｗ２のスリットＳＷ２における残膜の厚さｔ２を測定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２３３０５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した皮革残膜厚測定装置１００では、皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、皮革Ｗ２に張力を加え、基台１０１に設置され基台１０１に面接触している皮革Ｗ２のスリットＳＷ２が開くように構成しているため、基台１０１に接触している皮革Ｗ２に摩擦力がかかり、張力ＴによるスリットＳＷ２部における皮革Ｗ２の張力が安定せず、スリットＳＷ２部における皮革Ｗ２の残膜の厚さが変化してしまい、皮革Ｗ２の残膜の厚さｔ２を正確に測定することができなくなるおそれがあるという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができる皮革残膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、スリットが形成されている皮革の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置において、前記皮革のスリット形成部の裏面に線状の先端部を接触させて、前記皮革を支持する基台と、前記基台で支持されている前記皮革の両端部側の部位が前記基台から離れて延出し、前記基台で支持されている前記皮革のスリットが開口するように、前記皮革の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段と、前記皮革引っ張り手段で引っ張られている皮革のスリット形成部における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段とを有する皮革残膜厚測定装置である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革引っ張り手段は、前記先端部に接触する皮革のスリット形成部の位置を調整する調整機能を有する皮革残膜厚測定装置である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革引っ張り手段は、前記基台に係合する一対の皮革引っ張り部材から構成されている皮革残膜厚測定装置である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記残膜厚測定手段は、前記皮革のスリット形成部と非接触で該スリット形成部の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、前記基台の線状の先端部は細幅の平面状に形成されている皮革残膜厚測定装置である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革は、過負荷で前記皮革引っ張り部材から外れるように構成されている皮革残膜厚測定装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の基台を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材の装着前を示す図である。
【図５】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の引っ張り部材の装着後を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係るホーンパッドの概略構成を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る皮革と試験片の生成を示す図である。
【図８】従来における皮革残膜厚測定装置の概略構成図である。
【図９】従来における皮革残膜厚測定装置の矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。はじめに、図１から図３を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の構成について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の斜視図である。図２（ａ）は、本発明の実施形態に係る基台の上面図である。図２（ｂ）は、本発明の実施形態に係る基台の正面図である。図２（ｃ）は、本発明の実施形態に係る基台の側面図である。図３（ａ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の上板を示す図である。図３（ｂ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の中板を示す図である。図３（ｃ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の底板を示す図である。
【００１７】
図１に示すように、スリットＳＷが形成されている皮革Ｗ１（後述する試験片）の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０により引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さ（皮革Ｗ１の厚さ；皮革Ｗ１の残厚）を測定する残膜厚測定手段３０から略構成されている。
【００１８】
皮革Ｗ１は、例えば、牛革等の天然皮革であり、長手方向両端が皮革引っ張り手段２０に保持され、所定の力で引っ張られても皮革引っ張り手段２０から外れることがないように、矩形の板状の中央部の両端に、幅広の部分が形成され、ダンベル状の形状になっている。また、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷは、皮革Ｗ１の厚さ方向の一方の面に、たとえば鋭利な刃物によって所定の深さでスリットＳＷが形成されている。また、スリットＳＷは、皮革の長手方向の中央部で皮革の幅方向に延び、幅方向の全長にわたって直線状に形成されている。
【００１９】
図１及び図２に示すように、基台１０は、金属製の材料で形成されており、スリットＳＷが形成されたスリット形成部ＳＷ１の裏面（スリットＳＷの裏面側）に接触する直線状の先端部１１を有する測定子１２と、測定子１２を支持する一対の測定台１３と、皮革引っ張り手段２０と係合する一対の測定ガイド１４とから構成されている。
【００２０】
測定子１２は、スリット形成部ＳＷ１に対応して、板状の皮革Ｗ１の厚さ方向の他の面に存在している線状の部位が、測定子１２の先端部１１に接触するように細幅（約０．５ｍｍ、後述するレーザ光のスポット径よりも僅かに広い幅）の平面状に形成されている。つまり、後述するレーザ光のスポット径よりも幅が僅かに広い形状のため、皮革Ｗ１が載置されていない状態で先端部１１にレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を容易に検出することができる。
【００２１】
一対の測定台１３は、正面視した場合に「Ｌ」字状の形状を有しており、測定子１２を支持する測定台上端部１５（図２参照）と、後述する残膜測定手段３０のステージ３２に固定される測定台下端部１６から構成されている。
【００２２】
測定台上端部１５は、測定子１２の先端部１１が測定台上端部１５よりも所定の長さ上方に突出するように、平面状の測定子１２を正面視した場合の左右方向から挟み測定子１２を支持している。また、測定台下端部１６は、螺子孔を有しており、螺子を螺子孔に挿入して後述する残膜測定手段３０のステージ３２と固定する。
【００２３】
一対の測定ガイド１４は、側面視した場合に「Ｔ」字状の形状を有しており、皮革引っ張り手段２０と係合する係合部１７を有している。また、一対の測定ガイド１４は、螺子孔を有しており、測定子１２を挟んだ一対の測定台１３を正面視した場合の左右方向から挟み、螺子とナットで螺合することにより測定台１３を支持している。また、一対の測定ガイド１４は、側面視した場合に測定台１３の中央から下方にかけて装着する。
【００２４】
係合部１７は、後述する上板切り欠き部２５ａが当接する上板当接部１８と、後述する皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの先端内側部２６が上下方向にスライド可能なスライド部１９を有している。
【００２５】
図１及び図３に示すように、皮革引っ張り手段２０は、金属製の材料で構成され皮革Ｗ１の長手方向両端を保持して基台１０に係合する一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから構成されている。そして、一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの重量により、皮革Ｗ１の両端部を引っ張るようになっている。皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂは、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの幅方向の中央部で厚さ方向に貫通して形成されている矩形状の切り欠き部２５ａ、２５ｂ、２５ｃが形成されている。
【００２６】
図１に示すように、皮革引っ張り部材２１ａは皮革Ｗ１の長手方向一端を保持し、皮革引っ張り部材２１ｂは、皮革Ｗ１の長手方向他端を保持する。また、図３に示すように、皮革引っ張り部材２１ａは、厚さが約１ｍｍの上板２２と、厚さが約１ｍｍの中板２３と、厚さが約２ｍｍの底板２４の３枚の板から構成されている。
【００２７】
上板２２は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１側（上面側）から保持するための矩形状の上板切り欠き部２５ａを有している。また、測定ガイド１４に皮革引っ張り手段２０を係合した際、上板切り欠き部２５ａの一端の上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）に当接可能に形成されている。
【００２８】
また、中板２３は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１の厚さ方向から保持するための矩形状の中板切り欠き部２５ｂを有している。中板切り欠き部２５ｂは、上板切り欠き部２５ａよりも切り欠き部分が大きく、皮革Ｗ１の先端と略同様の形状に形成されている。
【００２９】
底板２４は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１の裏面側から保持し、測定ガイド１４の係合部１７（図２（ｃ）参照）と所定の角度で係合するための底板切り欠き部２５ｃを有している。底板切り欠き部２５ｃは、上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部５ｂよりも切り欠き部分が小さく形成されている。
【００３０】
また、上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部２５ｂ、底板切り欠き部２５ｃの先端内側部２６は、係合部１７のスライド部１９（図２（ｃ）参照）の上下方向にスライド可能にスライド部１９の幅と略同一の幅で形成されている。
【００３１】
底板２４及び中板２３、底板２４は、それぞれ螺子孔又は螺子切を有しており、皮革引っ張り部材２１ａは、底板２４の上面に中板２３、中板２３の上面に上板２２を重ねて螺子で螺合することにより皮革引っ張り部材２１ａとして構成される。
【００３２】
また、皮革引っ張り部材２１ａは、形状がそれぞれ異なる上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部２５ｂ、底板切り欠き部２５ｃにより、上板２２と底板２４の間に皮革Ｗ１の先端を挟んで保持することが可能であり、スリット位置を調整するときに、誤って保持した皮革Ｗ１に過負荷をかけてしまった場合には皮革Ｗ１の端部が変形して皮革Ｗ１が皮革引っ張り部材２１ａから外れるように構成されている。このため、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が過負荷により伸びることがないので、残膜の厚さを正確に測定することができる。また、皮革Ｗ１の保持及び外す作業が簡単になり、測定時間を短縮することができる。
【００３３】
なお、皮革引っ張り部材２１ｂは、皮革引っ張り部材２１ａと同様の構成を有するため、皮革引っ張り部材２１ｂの構成の説明は省略するものとする。
【００３４】
図１に示すように、残膜厚測定手段３０は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に上方からレーザ光を照射することによりスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定する測定装置３１と、基台１０と、測定台下端部１６（図２（ｂ）参照）が固定されることにより基台１０を保持するステージ３２と、測定装置３１により測定した残膜の厚さを表示する表示装置３３から構成されている。
【００３５】
測定装置３１は、測定子１２の先端部１１にレーザ光を照射可能に先端部１１の上方に非接触式レーザセンサー（図示省略）が設けられている。非接触式レーザセンサーは、約０．５ｍｍのレーザ光を皮革Ｗ１に照射し、皮革Ｗ１と非接触でスリット形成部ＳＷ１の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する。測定されたスリット形成部ＳＷの残膜の厚さは表示装置３３に送信され、表示装置３３のディスプレイ３４に表示される。
【００３６】
なお、皮革残膜測定装置１は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定するのであるが、皮革Ｗ１の厚さ（スリットＳＷ１が形成されていない部位の厚さ）をたとえばノギスを用いて別途計測し、測定装置１で測定した残膜の厚さとの差をとれば、スリットＳＷ１の深さを間接的ではあるが測定することになる。
【００３７】
次に、図４及び図５を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置による残膜厚測定に引っ張り部材を装着する方法及び残膜厚測定方法について説明する。図４は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材の装着前を示す図である。図５は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の引っ張り部材の装着後を示す図である。
【００３８】
図４に示すように、皮革Ｗ１の長手方向一端を皮革引っ張り部材２１ａに保持し、皮革Ｗ１の長手方向他端を皮革引っ張り部材２１ｂに保持する。具体的には、皮革Ｗ１の先端を底板２４（図３参照）に接触させて、上板２２の上板切り欠き部２５ａ（図３参照）が皮革Ｗ１の先端の一部を覆うことにより皮革Ｗ１の一端及び他端を保持する。
【００３９】
皮革Ｗ１の長手方向一端及び他端を皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂに保持すると、図５に示すように、皮革Ｗ１を保持した状態で皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂを基台１０の上方から下方へ移動して、皮革引っ張り手段２０を基台１１に係合する。
【００４０】
具体的には、皮革Ｗ１を保持した皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂを基台１０の上方から下方へ所定距離移動させ、皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂの先端内側部２６（図３参照）をスライド部１９（図２（ｃ）参照）の下部から上部へスライドし、上板切り欠き部２５ａ（図３（ａ）参照）の先端上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）と当接させることにより、皮革引っ張り手段２０を基台１１に係合する。
【００４１】
上板切り欠き部２５ａ（図３（ａ）参照）の先端上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）に当接すると、図５に示すように、基台１０の線状の先端部１１が基台１０の頂上部になっているとすると、皮革Ｗ１のスリットが形成されている面が上面となりスリットが形成されていない面が下面となって、皮革Ｗ１が基台１０に載置される。
【００４２】
皮革Ｗ１が基台１０に載置されると、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて空中で延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張る。
【００４３】
図５に示すように、基台１０の線状の先端部１１が基台１０の頂上部になっており、先端部１１の下側に基台の基端部側の部位が位置しているとすると、引っ張り手段２０により皮革Ｗ１を引っ張ることにより、スリット形成部ＳＷ１を境にした皮革Ｗ１の長手方向の一方の側の部位が、基台１０の左側で斜め下方に直線的に延出しており、スリット形成部ＳＷ１を境にした皮革Ｗ１の長手方向の他方の側の部位が、基台１０の右側で斜め下方に直線的に延出する。そして、皮革Ｗ１が、スリット形成部ＳＷ１を頂点とした逆「Ｖ」字状となり基台１０に載置される。
【００４４】
このように、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて（空中で）延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が開口するように皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張るため、皮革Ｗ１に従来のもののように摩擦力がかることがない。これにより、スリット形成部ＳＷ１における皮革Ｗ１の部位にかかる張力が安定し、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが変動しなくなり、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷの深さを高精度に測定することができる。
【００４５】
そして、皮革Ｗ１が基台１０に載置された状態で測定装置３１からレーザ光を照射すると、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが表示装置３３のディスプレイ３４に表示される。つまり、皮革Ｗ１が載置されていない状態でレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を検出し、皮革Ｗ１が基台１０に載置された場合にレーザ光を照射してスリット形成部ＳＷ１の厚さ（０点からスリット形成部ＳＷ１の表面の高さ）を測定することによりディスプレイ３４に残膜厚の値を表示する。
【００４６】
また、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有している。つまり、皮革Ｗ１はスリット形成部ＳＷ１を頂点とした逆「Ｖ」字状となり、皮革Ｗ１の両端は皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂにより左右均等に荷重がかかりながら引っ張られるため、皮革Ｗ１は、先端部１１を支点として天秤のように載置される。このため、手動により皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させると、スリット形成部ＳＷ１が矢印Ｂ方向に移動する。
【００４７】
そして、測定装置３１からレーザ光が皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に照射された状態で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させると、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動に伴いレーザ光が照射されるスリット形成部ＳＷ１の位置が変化する。スリット形成部ＳＷ１の位置が変化すると、表示装置３３のディスプレイ３４に表示されるスリット形成部ＳＷの残膜厚も値も変化する。
【００４８】
そして、ディスプレイ３４を目視しながら皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させて、ディスプレイ３４に表示された残膜厚の値のうち、最も低い数値を示した位置で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動を停止する。皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動の停止に伴いレーザ光が照射されるスリット形成部ＳＷ１の位置が停止することにより、スリット形成部ＳＷ１の残膜厚が最も薄い位置を検出することが可能となる。
【００４９】
このように、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有しているため、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を正確に検出することができ、また、簡単に残膜の厚さを測定することができる。
【００５０】
次に、図６及び図７を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置で測定する皮革について説明する。図６（ａ）は、ホーンパッドの概略構成を示す図である。図６（ｂ）は、ホーンパッドのＩ−Ｉ断面図である。図７（ａ）は、皮革と試験片を打ち抜いた直後の状態を示す図である。図７（ｂ）は、皮革と試験片の生成を示す図である。
【００５１】
図６に示すように、ホーンパッド５０は、自動車のステアリングホイール（図示省略）の中央部に設けられており、図６（ａ）に示すホーンパッド１の奥（図６（ａ）の紙面の奥側）には、エアーバッグのユニット（エアーバッグ）が設けられている。
【００５２】
また、ホーンパッド５０は、基材５１と、この基材５１に接着剤や粘着剤を用いて貼り付けられた皮革Ｗとを備えて構成されている。基材５１は平面ではない曲面状で板状に形成されており、基材５１の厚さ方向の一方の面（自動車の運転者とは反対側に位置する面）には、たとえば「Ｖ」字状の溝（予定破断線）５２が延びて形成されている。
【００５３】
皮革Ｗの厚さ方向の一方の面には、スリット（脆弱部）５３が延びて形成されている。皮革Ｗは、基材５１の表面を覆うようにして設けられており、皮革Ｗや基材５１の厚さ方向から見ると、図６（ｂ）に示すように基材５１の溝５２と皮革Ｗのスリット５３とがお互いに重なっている。
【００５４】
そして、エアーバッグ（図示省略）が膨張するときホーンパッド５０が溝５２、スリット５３のところで速やかに破断して開裂するようになっている。なお、スリット５３は、皮革Ｗの床面に形成されており、ホーンパッド５０では、皮革Ｗの床面が基材５１に接触しており、皮革Ｗの銀面が、運転者に面している。
【００５５】
皮革Ｗの床面と銀面について説明する。皮革Ｗとしてたとえば牛皮を考えた場合、銀面とは牛の表皮面に相当する面をいい、床面とは、牛の肉側の面をいう。また、皮革を構成している繊維成分は、銀面側では密になっており、床面側では粗くなっている。したがって、銀面側では、引っ張り強度等の機械的強度が高く、床面側では、機械的強度が低くなっている。
【００５６】
図７に示すように、小片の皮革素材５４は、脱毛処理や鞣し処理などの前処理が施された１枚の大きな皮革素材（図示省略）から複数枚生成される。生成された小片の皮革素材５４からは、例えば、型（図示せず）を用いて打ち抜きをすることにより皮革Ｗが生成される。
【００５７】
図７に示すように、小片皮革素材５４には、スリット５３（５６、５７、５８）、スリットＳＷ（ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３、ＳＷ４）が形成されている。また、小片皮革素材５４を上記型で打ち抜くときに、小片皮革素材５４の姿勢や位置決めをするための切り欠き（図示せず）や円形状の貫通孔５９が形成されている。
【００５８】
また、１枚の小片皮革素材５４からは、上記型による打ち抜きにより、１枚の皮革Ｗと同時に４つの試験片（ダンベル）Ｗ１（Ｗ１Ａ、Ｗ１Ｂ、Ｗ１Ｃ、Ｗ１Ｄ）が生成されるようになっている。４つの試験片（皮革）Ｗ１は、皮革Ｗの周囲に例えば４つ形成されている。
【００５９】
皮革Ｗにはスリット（溝）５３が形成されており、スリット５３は、ほぼ横方向に延びた横スリット（横方向部位）５６と、ほぼ縦方向に延びた第１の縦スリット（第１の縦方向部位）５７と、ほぼ縦方向に延びた第２の縦スリット（第２の縦方向部位）５８とで構成されている。
【００６０】
第１の縦スリット５７は、長手方向の中間部が横スリット５６の長手方向の一端部側の部位に交差しており、第２の縦スリット５８は、長手方向の中間部が横スリット５６の長手方向の他端部側の部位に交差している。そして、スリット５３は、「Ｈ」字状に形成されている。
【００６１】
また、試験片Ｗ１にも、スリット５３と同様なスリットＳＷ（ＳＷＡ、ＳＷＢ、ＳＷＣ、ＳＷＤ）が形成されている。スリット５３、スリットＳＷは、小片皮革素材５４（皮革Ｗ、試験Ｗ１）の床面に形成されている。スリット５３が形成された小片皮革素材５４の残部の厚さは一定になっており、スリットＳＷが形成された小片皮革素材５４の残部の厚さは、スリット５３が形成された小片皮革素材５４の残部の厚さと同じ厚さで、一定になっている。
【００６２】
なお、試験片Ｗ１Ａは、縦方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ａの長手方向の中央部に横方向に延びたスリットＳＷＡが形成されている。同様にして、試験片Ｗ１Ｂは、縦方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｂの長手方向の中央部に横方向に延びたスリットＳＷＢが形成されている。
【００６３】
試験片Ｗ１Ｃは、横方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｂの長手方向の中央部に縦方向に延びたスリットＳＷＣが形成されている。同様にして、試験片Ｗ１Ｄは、横方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｄの長手方向の中央部に縦方向に延びたスリットＳＷＤが形成されている。
【００６４】
図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、スリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢは、スリット５６の一端及び他端の延長線上に形成されている。また、スリットＳＷＣはスリット５７の一端、スリットＳＷＤはスリット５８の一端の延長線状に形成されている。つまり、小片皮革素材５４にスリット５３の第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８を形成し、第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８の延長線上にスリットＳＷＣ及びスリットＳＷＤを形成する。次に、スリット５６の一端及び他端の延長線上にスリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢを形成し、各試験片Ｗ１を形成する。
【００６５】
このように、スリット５６の一端及び他端の延長線上にスリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢを形成し、第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８の延長線上にスリットＳＷＣ及びスリットＳＷＤを形成することにより、製品加工（スリット５３）の延長線上に試験片Ｗ１（サンプル）の加工部（スリットＳＷ）が形成されるため、ホーンパッド５０に貼り付けられた皮革Ｗ１の代用性が高い試験片Ｗ１を生成することができる。
【００６６】
また、試験片Ｗ１Ａ、Ｗ１Ｂを縦方向に細長く形成し、試験片Ｗ１Ｃ、Ｗ１Ｄを横方向に細長く形成した理由は、小片皮革素材５４において、縦方向と横方向とでは、強度に差がある場合があるからであり、スリット５３が形成されている方向（スリット５３の長手方向）が異なっても、スリット５３のところで、皮革Ｗが確実に破断することを保障するためである。
【００６７】
続いて、図７（ｂ）に示すように、上記型を用いて、小片皮革素材５４から皮革Ｗと試
験片Ｗ１とを打ち抜きにより生成し、皮革Ｗ、各試験片Ｗ１のそれぞれに、ＱＲコード６０等の識別符号を付与する。
【００６８】
そして、上述した皮革残膜厚測定装置１を用いて、スリットＳＷが形成されている部位における試験片Ｗ１の残部の厚さを測定する。この皮革残膜厚測定装置１で得られた測定値を小片皮革素材５４（皮革Ｗ、試験片Ｗ１）に製造年月日と共にＱＲコード６０に対応させて、たとえばコンピュータのメモリに記憶（保管）しておく。
【００６９】
また、皮革Ｗのスリット５３（各部位５６、５７、５８の少なくともいずれか）における残膜の厚さを測定し、ＱＲコード６０に対応させて保管しておいてもよい。
【００７０】
このようにして、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の裏面に線状の先端部１１を接触させて、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１１から離れて延出し、基台１１で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０で引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段３０とを有する。
【００７１】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革引っ張り手段２０は、先端部１１に接触する皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の位置を調整する調整機能を有する。
【００７２】
さらに、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革引っ張り手段２０は、基台１０に係合させる一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから構成されている。
【００７３】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、残膜厚測定手段３０は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１と非接触でスリット形成部ＳＷ１の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、基台１０の線状の先端部１１は細幅の平面状に形成されている。
【００７４】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１は、過負荷で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから外れるように構成されている。
【００７５】
そして、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１によれば、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて（空中で）延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が開口するように皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張るため、皮革Ｗ１に摩擦力がかることがない。また、摩擦抵抗によってスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが低く測定されることがなく、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷの深さを高精度に測定することができる。
【００７６】
また、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有しているため、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を正確に検出することができ、また、簡単に残膜の厚さを測定することができる。
【００７７】
さらに、皮革Ｗ１の両端は皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂにより左右均等に荷重がかかりながら引っ張られるため、皮革Ｗ１は、先端部１１を支点として天秤のように載置される。このため、手動により皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向（図５参照）に移動させると、スリット形成部ＳＷ１が矢印Ｂ方向（図５参照）に移動する。従って、手動で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを移動させることにより、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を簡単に検出することができる。
【００７８】
また、基台１０の先端部１１は、測定装置３１が照射するレーザ光のスポット径よりも幅が僅かに広い形状のため、皮革Ｗ１が載置されていない状態でレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を容易に検出することができる。
【００７９】
また、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂが保持した皮革Ｗ１を、過負荷で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから外れるように構成されているため、皮革Ｗ１の保持及び外す作業が簡単になり、測定時間を短縮することができる。
【００８０】
以上、本発明の皮革残膜厚測定装置を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置き換えることができる。
【００８１】
例えば、上述した実施形態では、測定装置３１には非接触式レーザセンサーが設けられている場合について説明したが、ＣＣＤ式画像センサー等を設け、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定してもよい。
【００８２】
また、上述した実施形態では、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に上方からレーザ光を照射することによりスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定する場合について説明したが、横方向にセンサー等を照射してスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は、自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革に設けられた溝部における皮革の残膜厚さ（残厚）を測定する上で極めて有用である。
【符号の説明】
【００８４】
１ 皮革残膜厚測定装置
１０ 基台
１１ 先端部
１２ 測定子
１３ 測定台
１４ 測定ガイド
１５ 測定台上端部
１６ 測定台下端部
１７ 係合部
１８ 上板当接部
１９ スライド部
２０ 皮革引っ張り手段
２１ 皮革引っ張り部材
２２ 上板
２３ 中板
２４ 底板
２５ 切り欠き部
２６ 先端内側部
３０ 残膜厚測定手段
３１ 測定装置
３２ ステージ
３３ 表示装置
３４ ディスプレイ
Ｗ１ 皮革
ＳＷ スリット
ＳＷ１ スリット形成部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮革残膜厚測定装置に係り、例えば、自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革に設けられた溝部における上記皮革の残膜厚さ（残厚）を測定するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ホーンパッド等の自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革のスリット（エアーバッグ作動時における開裂用の溝）の深さを測定する方法として、例えば、特開２００８−２３３０５４号公報（特許文献１）に記載された方法が提案されている。このスリットの深さを測定する方法は、センサー等で構成された皮革残膜厚測定装置を用いて非接触で皮革の表面の位置を測定することにより、スリットの深さを測定している。
【０００３】
図８及び図９は、特許文献１に記載された皮革残膜厚測定装置の構成を示す図である。図８に示すように、皮革残膜厚測定装置１００は、皮革Ｗ２（図９参照）を設置する基台１０１と、皮革Ｗ２の部位の厚さ（皮革Ｗ２のスリット（溝部）ＳＷ２における残膜の厚さ）ｔ２を測定する測定手段１０２から略構成されている。
【０００４】
図９に示すように、基台１０１は、上端部に凸状で直線状の稜部１０３を備えている。稜部１０３には、皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、矢印Ｔで示す方向に張力を加え、基台１０１に設置された皮革Ｗ２のスリットＳＷ２部位が開くようにし、スリットＳＷ２の裏側（反対側）に位置する部位が稜部１０３に接触する。
【０００５】
そして、測定手段１０２は、基台１０１に設置された皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、レーザ等のセンサー１０４をスリットＳＷ２に照射して、稜部１０３に接触している皮革Ｗ２のスリットＳＷ２における残膜の厚さｔ２を測定する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−２３３０５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した皮革残膜厚測定装置１００では、皮革Ｗ２のスリットＳＷ２の深さを測定する際、皮革Ｗ２に張力を加え、基台１０１に設置され基台１０１に面接触している皮革Ｗ２のスリットＳＷ２が開くように構成しているため、基台１０１に接触している皮革Ｗ２に摩擦力がかかり、張力ＴによるスリットＳＷ２部における皮革Ｗ２の張力が安定せず、スリットＳＷ２部における皮革Ｗ２の残膜の厚さが変化してしまい、皮革Ｗ２の残膜の厚さｔ２を正確に測定することができなくなるおそれがあるという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができる皮革残膜厚測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、スリットが形成されている皮革の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置において、前記皮革のスリット形成部の裏面に線状の先端部を接触させて、前記皮革を支持する基台と、前記基台で支持されている前記皮革の両端部側の部位が前記基台から離れて延出し、前記基台で支持されている前記皮革のスリットが開口するように、前記皮革の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段と、前記皮革引っ張り手段で引っ張られている皮革のスリット形成部における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段とを有する皮革残膜厚測定装置である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革引っ張り手段は、前記先端部に接触する皮革のスリット形成部の位置を調整する調整機能を有する皮革残膜厚測定装置である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革引っ張り手段は、前記基台に係合する一対の皮革引っ張り部材から構成されている皮革残膜厚測定装置である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記残膜厚測定手段は、前記皮革のスリット形成部と非接触で該スリット形成部の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、前記基台の線状の先端部は細幅の平面状に形成されている皮革残膜厚測定装置である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項３又は請求項４に記載の皮革残膜厚測定装置において、前記皮革は、過負荷で前記皮革引っ張り部材から外れるように構成されている皮革残膜厚測定装置である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、皮革に摩擦力がかからず、皮革に形成された溝の深さを高精度に測定することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の基台を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材を示す図である。
【図４】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材の装着前を示す図である。
【図５】本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の引っ張り部材の装着後を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に係るホーンパッドの概略構成を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に係る皮革と試験片の生成を示す図である。
【図８】従来における皮革残膜厚測定装置の概略構成図である。
【図９】従来における皮革残膜厚測定装置の矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。はじめに、図１から図３を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の構成について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の斜視図である。図２（ａ）は、本発明の実施形態に係る基台の上面図である。図２（ｂ）は、本発明の実施形態に係る基台の正面図である。図２（ｃ）は、本発明の実施形態に係る基台の側面図である。図３（ａ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の上板を示す図である。図３（ｂ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の中板を示す図である。図３（ｃ）は、本発明の実施形態に係る皮革引っ張り部材の底板を示す図である。
【００１７】
図１に示すように、スリットＳＷが形成されている皮革Ｗ１（後述する試験片）の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０により引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さ（皮革Ｗ１の厚さ；皮革Ｗ１の残厚）を測定する残膜厚測定手段３０から略構成されている。
【００１８】
皮革Ｗ１は、例えば、牛革等の天然皮革であり、長手方向両端が皮革引っ張り手段２０に保持され、所定の力で引っ張られても皮革引っ張り手段２０から外れることがないように、矩形の板状の中央部の両端に、幅広の部分が形成され、ダンベル状の形状になっている。また、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷは、皮革Ｗ１の厚さ方向の一方の面に、たとえば鋭利な刃物によって所定の深さでスリットＳＷが形成されている。また、スリットＳＷは、皮革の長手方向の中央部で皮革の幅方向に延び、幅方向の全長にわたって直線状に形成されている。
【００１９】
図１及び図２に示すように、基台１０は、金属製の材料で形成されており、スリットＳＷが形成されたスリット形成部ＳＷ１の裏面（スリットＳＷの裏面側）に接触する直線状の先端部１１を有する測定子１２と、測定子１２を支持する一対の測定台１３と、皮革引っ張り手段２０と係合する一対の測定ガイド１４とから構成されている。
【００２０】
測定子１２は、スリット形成部ＳＷ１に対応して、板状の皮革Ｗ１の厚さ方向の他の面に存在している線状の部位が、測定子１２の先端部１１に接触するように細幅（約０．５ｍｍ、後述するレーザ光のスポット径よりも僅かに広い幅）の平面状に形成されている。つまり、後述するレーザ光のスポット径よりも幅が僅かに広い形状のため、皮革Ｗ１が載置されていない状態で先端部１１にレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を容易に検出することができる。
【００２１】
一対の測定台１３は、正面視した場合に「Ｌ」字状の形状を有しており、測定子１２を支持する測定台上端部１５（図２参照）と、後述する残膜測定手段３０のステージ３２に固定される測定台下端部１６から構成されている。
【００２２】
測定台上端部１５は、測定子１２の先端部１１が測定台上端部１５よりも所定の長さ上方に突出するように、平面状の測定子１２を正面視した場合の左右方向から挟み測定子１２を支持している。また、測定台下端部１６は、螺子孔を有しており、螺子を螺子孔に挿入して後述する残膜測定手段３０のステージ３２と固定する。
【００２３】
一対の測定ガイド１４は、側面視した場合に「Ｔ」字状の形状を有しており、皮革引っ張り手段２０と係合する係合部１７を有している。また、一対の測定ガイド１４は、螺子孔を有しており、測定子１２を挟んだ一対の測定台１３を正面視した場合の左右方向から挟み、螺子とナットで螺合することにより測定台１３を支持している。また、一対の測定ガイド１４は、側面視した場合に測定台１３の中央から下方にかけて装着する。
【００２４】
係合部１７は、後述する上板切り欠き部２５ａが当接する上板当接部１８と、後述する皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの先端内側部２６が上下方向にスライド可能なスライド部１９を有している。
【００２５】
図１及び図３に示すように、皮革引っ張り手段２０は、金属製の材料で構成され皮革Ｗ１の長手方向両端を保持して基台１０に係合する一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから構成されている。そして、一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの重量により、皮革Ｗ１の両端部を引っ張るようになっている。皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂは、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの幅方向の中央部で厚さ方向に貫通して形成されている矩形状の切り欠き部２５ａ、２５ｂ、２５ｃが形成されている。
【００２６】
図１に示すように、皮革引っ張り部材２１ａは皮革Ｗ１の長手方向一端を保持し、皮革引っ張り部材２１ｂは、皮革Ｗ１の長手方向他端を保持する。また、図３に示すように、皮革引っ張り部材２１ａは、厚さが約１ｍｍの上板２２と、厚さが約１ｍｍの中板２３と、厚さが約２ｍｍの底板２４の３枚の板から構成されている。
【００２７】
上板２２は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１側（上面側）から保持するための矩形状の上板切り欠き部２５ａを有している。また、測定ガイド１４に皮革引っ張り手段２０を係合した際、上板切り欠き部２５ａの一端の上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）に当接可能に形成されている。
【００２８】
また、中板２３は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１の厚さ方向から保持するための矩形状の中板切り欠き部２５ｂを有している。中板切り欠き部２５ｂは、上板切り欠き部２５ａよりも切り欠き部分が大きく、皮革Ｗ１の先端と略同様の形状に形成されている。
【００２９】
底板２４は、皮革Ｗ１の長手方向一端をスリット形成部ＳＷ１の裏面側から保持し、測定ガイド１４の係合部１７（図２（ｃ）参照）と所定の角度で係合するための底板切り欠き部２５ｃを有している。底板切り欠き部２５ｃは、上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部５ｂよりも切り欠き部分が小さく形成されている。
【００３０】
また、上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部２５ｂ、底板切り欠き部２５ｃの先端内側部２６は、係合部１７のスライド部１９（図２（ｃ）参照）の上下方向にスライド可能にスライド部１９の幅と略同一の幅で形成されている。
【００３１】
底板２４及び中板２３、底板２４は、それぞれ螺子孔又は螺子切を有しており、皮革引っ張り部材２１ａは、底板２４の上面に中板２３、中板２３の上面に上板２２を重ねて螺子で螺合することにより皮革引っ張り部材２１ａとして構成される。
【００３２】
また、皮革引っ張り部材２１ａは、形状がそれぞれ異なる上板切り欠き部２５ａ及び中板切り欠き部２５ｂ、底板切り欠き部２５ｃにより、上板２２と底板２４の間に皮革Ｗ１の先端を挟んで保持することが可能であり、スリット位置を調整するときに、誤って保持した皮革Ｗ１に過負荷をかけてしまった場合には皮革Ｗ１の端部が変形して皮革Ｗ１が皮革引っ張り部材２１ａから外れるように構成されている。このため、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が過負荷により伸びることがないので、残膜の厚さを正確に測定することができる。また、皮革Ｗ１の保持及び外す作業が簡単になり、測定時間を短縮することができる。
【００３３】
なお、皮革引っ張り部材２１ｂは、皮革引っ張り部材２１ａと同様の構成を有するため、皮革引っ張り部材２１ｂの構成の説明は省略するものとする。
【００３４】
図１に示すように、残膜厚測定手段３０は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に上方からレーザ光を照射することによりスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定する測定装置３１と、基台１０と、測定台下端部１６（図２（ｂ）参照）が固定されることにより基台１０を保持するステージ３２と、測定装置３１により測定した残膜の厚さを表示する表示装置３３から構成されている。
【００３５】
測定装置３１は、測定子１２の先端部１１にレーザ光を照射可能に先端部１１の上方に非接触式レーザセンサー（図示省略）が設けられている。非接触式レーザセンサーは、約０．５ｍｍのレーザ光を皮革Ｗ１に照射し、皮革Ｗ１と非接触でスリット形成部ＳＷ１の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する。測定されたスリット形成部ＳＷの残膜の厚さは表示装置３３に送信され、表示装置３３のディスプレイ３４に表示される。
【００３６】
なお、皮革残膜測定装置１は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定するのであるが、皮革Ｗ１の厚さ（スリットＳＷ１が形成されていない部位の厚さ）をたとえばノギスを用いて別途計測し、測定装置１で測定した残膜の厚さとの差をとれば、スリットＳＷ１の深さを間接的ではあるが測定することになる。
【００３７】
次に、図４及び図５を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置による残膜厚測定に引っ張り部材を装着する方法及び残膜厚測定方法について説明する。図４は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の皮革引っ張り部材の装着前を示す図である。図５は、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置の引っ張り部材の装着後を示す図である。
【００３８】
図４に示すように、皮革Ｗ１の長手方向一端を皮革引っ張り部材２１ａに保持し、皮革Ｗ１の長手方向他端を皮革引っ張り部材２１ｂに保持する。具体的には、皮革Ｗ１の先端を底板２４（図３参照）に接触させて、上板２２の上板切り欠き部２５ａ（図３参照）が皮革Ｗ１の先端の一部を覆うことにより皮革Ｗ１の一端及び他端を保持する。
【００３９】
皮革Ｗ１の長手方向一端及び他端を皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂに保持すると、図５に示すように、皮革Ｗ１を保持した状態で皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂを基台１０の上方から下方へ移動して、皮革引っ張り手段２０を基台１１に係合する。
【００４０】
具体的には、皮革Ｗ１を保持した皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂを基台１０の上方から下方へ所定距離移動させ、皮革引っ張り部材２１ａ及び皮革引っ張り部材２１ｂの先端内側部２６（図３参照）をスライド部１９（図２（ｃ）参照）の下部から上部へスライドし、上板切り欠き部２５ａ（図３（ａ）参照）の先端上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）と当接させることにより、皮革引っ張り手段２０を基台１１に係合する。
【００４１】
上板切り欠き部２５ａ（図３（ａ）参照）の先端上面が係合部１７の上板当接部１８（図２（ｃ）参照）に当接すると、図５に示すように、基台１０の線状の先端部１１が基台１０の頂上部になっているとすると、皮革Ｗ１のスリットが形成されている面が上面となりスリットが形成されていない面が下面となって、皮革Ｗ１が基台１０に載置される。
【００４２】
皮革Ｗ１が基台１０に載置されると、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて空中で延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張る。
【００４３】
図５に示すように、基台１０の線状の先端部１１が基台１０の頂上部になっており、先端部１１の下側に基台の基端部側の部位が位置しているとすると、引っ張り手段２０により皮革Ｗ１を引っ張ることにより、スリット形成部ＳＷ１を境にした皮革Ｗ１の長手方向の一方の側の部位が、基台１０の左側で斜め下方に直線的に延出しており、スリット形成部ＳＷ１を境にした皮革Ｗ１の長手方向の他方の側の部位が、基台１０の右側で斜め下方に直線的に延出する。そして、皮革Ｗ１が、スリット形成部ＳＷ１を頂点とした逆「Ｖ」字状となり基台１０に載置される。
【００４４】
このように、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて（空中で）延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が開口するように皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張るため、皮革Ｗ１に従来のもののように摩擦力がかることがない。これにより、スリット形成部ＳＷ１における皮革Ｗ１の部位にかかる張力が安定し、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが変動しなくなり、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷの深さを高精度に測定することができる。
【００４５】
そして、皮革Ｗ１が基台１０に載置された状態で測定装置３１からレーザ光を照射すると、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが表示装置３３のディスプレイ３４に表示される。つまり、皮革Ｗ１が載置されていない状態でレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を検出し、皮革Ｗ１が基台１０に載置された場合にレーザ光を照射してスリット形成部ＳＷ１の厚さ（０点からスリット形成部ＳＷ１の表面の高さ）を測定することによりディスプレイ３４に残膜厚の値を表示する。
【００４６】
また、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有している。つまり、皮革Ｗ１はスリット形成部ＳＷ１を頂点とした逆「Ｖ」字状となり、皮革Ｗ１の両端は皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂにより左右均等に荷重がかかりながら引っ張られるため、皮革Ｗ１は、先端部１１を支点として天秤のように載置される。このため、手動により皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させると、スリット形成部ＳＷ１が矢印Ｂ方向に移動する。
【００４７】
そして、測定装置３１からレーザ光が皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に照射された状態で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させると、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動に伴いレーザ光が照射されるスリット形成部ＳＷ１の位置が変化する。スリット形成部ＳＷ１の位置が変化すると、表示装置３３のディスプレイ３４に表示されるスリット形成部ＳＷの残膜厚も値も変化する。
【００４８】
そして、ディスプレイ３４を目視しながら皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向に移動させて、ディスプレイ３４に表示された残膜厚の値のうち、最も低い数値を示した位置で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動を停止する。皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂの移動の停止に伴いレーザ光が照射されるスリット形成部ＳＷ１の位置が停止することにより、スリット形成部ＳＷ１の残膜厚が最も薄い位置を検出することが可能となる。
【００４９】
このように、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有しているため、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を正確に検出することができ、また、簡単に残膜の厚さを測定することができる。
【００５０】
次に、図６及び図７を参照して、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置で測定する皮革について説明する。図６（ａ）は、ホーンパッドの概略構成を示す図である。図６（ｂ）は、ホーンパッドのＩ−Ｉ断面図である。図７（ａ）は、皮革と試験片を打ち抜いた直後の状態を示す図である。図７（ｂ）は、皮革と試験片の生成を示す図である。
【００５１】
図６に示すように、ホーンパッド５０は、自動車のステアリングホイール（図示省略）の中央部に設けられており、図６（ａ）に示すホーンパッド１の奥（図６（ａ）の紙面の奥側）には、エアーバッグのユニット（エアーバッグ）が設けられている。
【００５２】
また、ホーンパッド５０は、基材５１と、この基材５１に接着剤や粘着剤を用いて貼り付けられた皮革Ｗとを備えて構成されている。基材５１は平面ではない曲面状で板状に形成されており、基材５１の厚さ方向の一方の面（自動車の運転者とは反対側に位置する面）には、たとえば「Ｖ」字状の溝（予定破断線）５２が延びて形成されている。
【００５３】
皮革Ｗの厚さ方向の一方の面には、スリット（脆弱部）５３が延びて形成されている。皮革Ｗは、基材５１の表面を覆うようにして設けられており、皮革Ｗや基材５１の厚さ方向から見ると、図６（ｂ）に示すように基材５１の溝５２と皮革Ｗのスリット５３とがお互いに重なっている。
【００５４】
そして、エアーバッグ（図示省略）が膨張するときホーンパッド５０が溝５２、スリット５３のところで速やかに破断して開裂するようになっている。なお、スリット５３は、皮革Ｗの床面に形成されており、ホーンパッド５０では、皮革Ｗの床面が基材５１に接触しており、皮革Ｗの銀面が、運転者に面している。
【００５５】
皮革Ｗの床面と銀面について説明する。皮革Ｗとしてたとえば牛皮を考えた場合、銀面とは牛の表皮面に相当する面をいい、床面とは、牛の肉側の面をいう。また、皮革を構成している繊維成分は、銀面側では密になっており、床面側では粗くなっている。したがって、銀面側では、引っ張り強度等の機械的強度が高く、床面側では、機械的強度が低くなっている。
【００５６】
図７に示すように、小片の皮革素材５４は、脱毛処理や鞣し処理などの前処理が施された１枚の大きな皮革素材（図示省略）から複数枚生成される。生成された小片の皮革素材５４からは、例えば、型（図示せず）を用いて打ち抜きをすることにより皮革Ｗが生成される。
【００５７】
図７に示すように、小片皮革素材５４には、スリット５３（５６、５７、５８）、スリットＳＷ（ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３、ＳＷ４）が形成されている。また、小片皮革素材５４を上記型で打ち抜くときに、小片皮革素材５４の姿勢や位置決めをするための切り欠き（図示せず）や円形状の貫通孔５９が形成されている。
【００５８】
また、１枚の小片皮革素材５４からは、上記型による打ち抜きにより、１枚の皮革Ｗと同時に４つの試験片（ダンベル）Ｗ１（Ｗ１Ａ、Ｗ１Ｂ、Ｗ１Ｃ、Ｗ１Ｄ）が生成されるようになっている。４つの試験片（皮革）Ｗ１は、皮革Ｗの周囲に例えば４つ形成されている。
【００５９】
皮革Ｗにはスリット（溝）５３が形成されており、スリット５３は、ほぼ横方向に延びた横スリット（横方向部位）５６と、ほぼ縦方向に延びた第１の縦スリット（第１の縦方向部位）５７と、ほぼ縦方向に延びた第２の縦スリット（第２の縦方向部位）５８とで構成されている。
【００６０】
第１の縦スリット５７は、長手方向の中間部が横スリット５６の長手方向の一端部側の部位に交差しており、第２の縦スリット５８は、長手方向の中間部が横スリット５６の長手方向の他端部側の部位に交差している。そして、スリット５３は、「Ｈ」字状に形成されている。
【００６１】
また、試験片Ｗ１にも、スリット５３と同様なスリットＳＷ（ＳＷＡ、ＳＷＢ、ＳＷＣ、ＳＷＤ）が形成されている。スリット５３、スリットＳＷは、小片皮革素材５４（皮革Ｗ、試験Ｗ１）の床面に形成されている。スリット５３が形成された小片皮革素材５４の残部の厚さは一定になっており、スリットＳＷが形成された小片皮革素材５４の残部の厚さは、スリット５３が形成された小片皮革素材５４の残部の厚さと同じ厚さで、一定になっている。
【００６２】
なお、試験片Ｗ１Ａは、縦方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ａの長手方向の中央部に横方向に延びたスリットＳＷＡが形成されている。同様にして、試験片Ｗ１Ｂは、縦方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｂの長手方向の中央部に横方向に延びたスリットＳＷＢが形成されている。
【００６３】
試験片Ｗ１Ｃは、横方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｂの長手方向の中央部に縦方向に延びたスリットＳＷＣが形成されている。同様にして、試験片Ｗ１Ｄは、横方向に細長く形成されており、試験片Ｗ１Ｄの長手方向の中央部に縦方向に延びたスリットＳＷＤが形成されている。
【００６４】
図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、スリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢは、スリット５６の一端及び他端の延長線上に形成されている。また、スリットＳＷＣはスリット５７の一端、スリットＳＷＤはスリット５８の一端の延長線状に形成されている。つまり、小片皮革素材５４にスリット５３の第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８を形成し、第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８の延長線上にスリットＳＷＣ及びスリットＳＷＤを形成する。次に、スリット５６の一端及び他端の延長線上にスリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢを形成し、各試験片Ｗ１を形成する。
【００６５】
このように、スリット５６の一端及び他端の延長線上にスリットＳＷＡ及びスリットＳＷＢを形成し、第１の縦スリット５７及び第２の縦スリット５８の延長線上にスリットＳＷＣ及びスリットＳＷＤを形成することにより、製品加工（スリット５３）の延長線上に試験片Ｗ１（サンプル）の加工部（スリットＳＷ）が形成されるため、ホーンパッド５０に貼り付けられた皮革Ｗ１の代用性が高い試験片Ｗ１を生成することができる。
【００６６】
また、試験片Ｗ１Ａ、Ｗ１Ｂを縦方向に細長く形成し、試験片Ｗ１Ｃ、Ｗ１Ｄを横方向に細長く形成した理由は、小片皮革素材５４において、縦方向と横方向とでは、強度に差がある場合があるからであり、スリット５３が形成されている方向（スリット５３の長手方向）が異なっても、スリット５３のところで、皮革Ｗが確実に破断することを保障するためである。
【００６７】
続いて、図７（ｂ）に示すように、上記型を用いて、小片皮革素材５４から皮革Ｗと試
験片Ｗ１とを打ち抜きにより生成し、皮革Ｗ、各試験片Ｗ１のそれぞれに、ＱＲコード６０等の識別符号を付与する。
【００６８】
そして、上述した皮革残膜厚測定装置１を用いて、スリットＳＷが形成されている部位における試験片Ｗ１の残部の厚さを測定する。この皮革残膜厚測定装置１で得られた測定値を小片皮革素材５４（皮革Ｗ、試験片Ｗ１）に製造年月日と共にＱＲコード６０に対応させて、たとえばコンピュータのメモリに記憶（保管）しておく。
【００６９】
また、皮革Ｗのスリット５３（各部位５６、５７、５８の少なくともいずれか）における残膜の厚さを測定し、ＱＲコード６０に対応させて保管しておいてもよい。
【００７０】
このようにして、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の裏面に線状の先端部１１を接触させて、皮革Ｗ１を支持する基台１０と、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１１から離れて延出し、基台１１で支持されている皮革Ｗ１のスリットＳＷが開口するように、皮革Ｗ１の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段２０と、皮革引っ張り手段２０で引っ張られている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段３０とを有する。
【００７１】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革引っ張り手段２０は、先端部１１に接触する皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１の位置を調整する調整機能を有する。
【００７２】
さらに、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革引っ張り手段２０は、基台１０に係合させる一対の皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから構成されている。
【００７３】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、残膜厚測定手段３０は、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１と非接触でスリット形成部ＳＷ１の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、基台１０の線状の先端部１１は細幅の平面状に形成されている。
【００７４】
また、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１は、皮革Ｗ１は、過負荷で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから外れるように構成されている。
【００７５】
そして、本発明の実施形態に係る皮革残膜厚測定装置１によれば、引っ張り手段２０は、基台１０で支持されている皮革Ｗ１の両端部側の部位が基台１０から離れて（空中で）延出し、基台１０で支持されている皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１が開口するように皮革Ｗ１の両端部を所定の力で引っ張るため、皮革Ｗ１に摩擦力がかることがない。また、摩擦抵抗によってスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さが低く測定されることがなく、皮革Ｗ１に形成されたスリットＳＷの深さを高精度に測定することができる。
【００７６】
また、引っ張り手段２０は、先端部１１に接触するスリット形成部ＳＷ１の裏面の位置を調整する調整機能を有しているため、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を正確に検出することができ、また、簡単に残膜の厚さを測定することができる。
【００７７】
さらに、皮革Ｗ１の両端は皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂにより左右均等に荷重がかかりながら引っ張られるため、皮革Ｗ１は、先端部１１を支点として天秤のように載置される。このため、手動により皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを矢印Ａ方向（図５参照）に移動させると、スリット形成部ＳＷ１が矢印Ｂ方向（図５参照）に移動する。従って、手動で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂを移動させることにより、スリット形成部ＳＷ１の残膜が最も薄い位置を簡単に検出することができる。
【００７８】
また、基台１０の先端部１１は、測定装置３１が照射するレーザ光のスポット径よりも幅が僅かに広い形状のため、皮革Ｗ１が載置されていない状態でレーザ光を照射して「０」点（皮革Ｗ１の残膜の厚さを測定する上で基準となる値）を容易に検出することができる。
【００７９】
また、皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂが保持した皮革Ｗ１を、過負荷で皮革引っ張り部材２１ａ、２１ｂから外れるように構成されているため、皮革Ｗ１の保持及び外す作業が簡単になり、測定時間を短縮することができる。
【００８０】
以上、本発明の皮革残膜厚測定装置を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置き換えることができる。
【００８１】
例えば、上述した実施形態では、測定装置３１には非接触式レーザセンサーが設けられている場合について説明したが、ＣＣＤ式画像センサー等を設け、スリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定してもよい。
【００８２】
また、上述した実施形態では、皮革Ｗ１のスリット形成部ＳＷ１に上方からレーザ光を照射することによりスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定する場合について説明したが、横方向にセンサー等を照射してスリット形成部ＳＷ１の残膜の厚さを測定してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は、自動車用エアーバッグカバーに使用される皮革に設けられた溝部における皮革の残膜厚さ（残厚）を測定する上で極めて有用である。
【符号の説明】
【００８４】
１ 皮革残膜厚測定装置
１０ 基台
１１ 先端部
１２ 測定子
１３ 測定台
１４ 測定ガイド
１５ 測定台上端部
１６ 測定台下端部
１７ 係合部
１８ 上板当接部
１９ スライド部
２０ 皮革引っ張り手段
２１ 皮革引っ張り部材
２２ 上板
２３ 中板
２４ 底板
２５ 切り欠き部
２６ 先端内側部
３０ 残膜厚測定手段
３１ 測定装置
３２ ステージ
３３ 表示装置
３４ ディスプレイ
Ｗ１ 皮革
ＳＷ スリット
ＳＷ１ スリット形成部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スリットが形成されている皮革の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革のスリット形成部の裏面に線状の先端部を接触させて、前記皮革を支持する基台と、
前記基台で支持されている前記皮革の両端部側の部位が前記基台から離れて延出し、前記基台で支持されている前記皮革のスリットが開口するように、前記皮革の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段と、
前記皮革引っ張り手段で引っ張られている皮革のスリット形成部における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段と、
を有することを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革引っ張り手段は、前記先端部に接触する皮革のスリット形成部の位置を調整する調整機能を有することを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革引っ張り手段は、前記基台に係合する一対の皮革引っ張り部材から構成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記残膜厚測定手段は、前記皮革のスリット形成部と非接触で該スリット形成部の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、
前記基台の線状の先端部は細幅の平面状に形成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革は、過負荷で前記皮革引っ張り部材から外れるように構成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項１】
スリットが形成されている皮革の部位における残膜の厚さを測定する皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革のスリット形成部の裏面に線状の先端部を接触させて、前記皮革を支持する基台と、
前記基台で支持されている前記皮革の両端部側の部位が前記基台から離れて延出し、前記基台で支持されている前記皮革のスリットが開口するように、前記皮革の両端部を引っ張る皮革引っ張り手段と、
前記皮革引っ張り手段で引っ張られている皮革のスリット形成部における残膜の厚さを測定する残膜厚測定手段と、
を有することを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革引っ張り手段は、前記先端部に接触する皮革のスリット形成部の位置を調整する調整機能を有することを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革引っ張り手段は、前記基台に係合する一対の皮革引っ張り部材から構成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記残膜厚測定手段は、前記皮革のスリット形成部と非接触で該スリット形成部の表面の位置を検出することにより残膜の厚さを測定する非接触式レーザセンサーを備え、
前記基台の線状の先端部は細幅の平面状に形成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の皮革残膜厚測定装置において、
前記皮革は、過負荷で前記皮革引っ張り部材から外れるように構成されていることを特徴とする皮革残膜厚測定装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−２２０８３３（Ｐ２０１１−２２０８３３Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９０３６３（Ｐ２０１０−９０３６３）
【出願日】平成２２年４月９日（２０１０．４．９）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＱＲコード
【出願人】（５０６２９２３３２）株式会社ミドリテクノパーク (9)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月９日（２０１０．４．９）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．ＱＲコード
【出願人】（５０６２９２３３２）株式会社ミドリテクノパーク (9)
【Ｆターム（参考）】
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