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国際特許分類[G01N21/41]の内容

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【課題】部分的に活性化されたドープ半導体領域の活性化の程度および活性ドーピングプロファイルを非破壊的手法で決定するための方法及び/又は手順を提供する。
【解決手段】ほぼ同じ既知の注入されたままの濃度および、既知の変化する接合深さを有する少なくとも2つの半導体領域のセットを用意する工程10、これらの領域のうち少なくとも1つについて、注入されたままの濃度の決定工程20、前記セットのうち少なくとも2つの半導体領域をPMOR技術により部分的に活性化させる工程30、反射プローブ信号の符号付き振幅を接合深さの関数として、少なくとも2つのレーザ間隔値について測定および/またはDCプローブ反射率を接合深さの関数として測定する工程40、これらの測定値から活性ドーピング濃度を抽出する工程80、全体の注入されたままの濃度および活性ドーピング濃度を用いて、不活性ドーピング濃度を計算する工程90を含む。 (もっと読む)


【課題】密集している細胞群から個々の細胞の大きさおよび形状を正確に測定する。
【解決手段】入力された細胞集合体の2次元的な位相差分布に基づいて、該位相差がピークをとる位置を細胞候補として特定する候補特定部2と、該候補特定部2により特定された細胞候補を含む領域の境界であって、他の細胞候補を含む領域と隣接しない境界線を抽出する境界線抽出部3と、前記候補特定部2により特定された細胞候補の周囲において位相差値が等しい点を結んで得られた環状の等位相差線の内、隣接する他の細胞候補の周囲に形成される等位相差線と交差しない等位相差線の形状を抽出する形状抽出部4と、該形状抽出部4により抽出された等位相差線を、その形状を維持したまま、境界線抽出部3により抽出された境界線に接触するかまたは該境界線との差が最小となる位置まで拡大して細胞の輪郭を予測する輪郭予測部5とを備える細胞測定装置1を提供する。 (もっと読む)


多孔質材料の密度を、光干渉断層法により前記材料の屈折率の測定を利用して非接触測定する方法である。
本発明によれば、光干渉断層法により、前記材料により作製されるオブジェクト(20)と前記方法に使用される光ビームとの交差部に対応する光路長を求め、前記オブジェクトの厚さを求め、前記光路長及び前記厚さから前記材料の屈折率を求め、前記屈折率から前記材料の前記密度を求める。
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【課題】 位置や角度の調整が容易なシングルパス方式のブライス型示差屈折率計で、圧力や温度の変動により溶媒の屈折率が変化した場合にも、照射位置のシフトの影響を除くことが可能で、かつ不感帯が生じにくい示差屈折率計を提供すること。
【解決の手段】 フローセルの位置検出光センサ側に、フローセルに近接して凸レンズを、凸レンズの焦点位置に複数の分割された受光面からなる位置検出光センサをそれぞれ設置し、さらに、前記センサに照射される前記凸レンズを透過した収束光の幅を、前記センサの有する素子間ギャップより広く、前記センサの有する受光面の全幅より狭くすることで前記課題を解決することができた。 (もっと読む)


【課題】食物を飲食する動作および飲食する食物に含まれる成分の時間的な変動を知ることができる食事具を提供する。
【解決手段】箸10a,10b組み込まれた食事解析装置50a,50bは、食物を飲食する動作および前記食物に含まれる成分の少なくとも1つに関する情報を検出する検出部60と、前記検出部60が検出した前記情報を記憶する記憶部75と、前記記憶部75が記憶した前記情報に基づいて、前記情報を時系列に解析する解析部72と、前記解析部72が解析した結果を出力する出力部80a,80bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】 VOCを含む測定ガス中の炭素濃度測定を、連続的に、かつ、溶剤ガスの種類に関わらず、確実に行うことのできる光干渉式炭素濃度計を提供すること。
【解決手段】 この光干渉式炭素濃度計は、揮発性有機化合物を含む測定ガスの、揮発性有機化合物を含まない標準ガスに対する屈折率増加量を検出し、屈折率増加量と測定ガス中の炭素濃度とが比例関係にあることを利用して、検出された屈折率増加量に応じた測定ガス中の炭素濃度を算出するものであり、具体的には、標準ガスが空気である場合において、測定ガスの標準ガスに対する屈折率増加量Y〔×10-6〕と測定ガス中の炭素濃度X〔ppmC〕との間の関係が(式)Y=α×X(α:比例係数)により示され、前記関係式における比例係数αが0.230×10-3〜0.310×10-3の範囲内において設定される。 (もっと読む)


【課題】 積層膜構成中の欠陥検査において、フォーカス位置を正確に制御して、各膜上、又は膜中の欠陥を的確に捉える。
【解決手段】 欠陥検査装置(1)は、ウェーハ上の屈折率を測定する屈折率測定手段(10)と、前記ウェーハの画像データを取得して欠陥を検出する欠陥検出光学系(20)と、前記測定した屈折率を膜種ごとに分類し、設計された成膜情報から欠陥撮像光学系のフォーカス位置を決定する制御部(45)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】透明基板上に作成した薄膜のリタデーションは、波長に対し薄膜内の多重干渉の影響を受けて波打つものとなり、3次元屈折率を波長ごとにもしくは波長依存性を算出するための基礎データとしては不十分であるという問題がある。
【解決手段】透明基板上に形成した薄膜からの反射率ができるだけ少ない透明基板を用い、直線偏光を垂直入射させて前記薄膜の面内の光学軸を求めるステップ、前記光学軸を含みかつ薄膜に垂直な平面内を進む単色偏光光を少なくとも3つ以上の複数の入射角φiで前記薄膜に入射させてリタデーションR(φi)を求めるステップ、3次元屈折率の計算式R(φi;nx,ny,nz,β)を決めるステップ、前記リタデーションR(φi)と計算式Rを用いて、(R(φi)−R(φi;nx,ny,nz,β))2ができるだけ小さくなるように、nx,ny,nz,βを求めるステップ、からなる薄膜の3次元屈折率測定方法である。 (もっと読む)


【課題】測定対象である液体または溶融材料の量が少なくても、容易に平らな測定面で光学測定ができ、また蒸散や他の物質との反応を起さずに液体または溶融材料の物性を測定できる光学測定装置および測定方法を提供する。
【解決手段】光学測定装置は被測定材料を収容し、かつ、少なくとも底面が平坦面で透明となった底面透明容器6と、容器6の底面に投光し、かつ、その底面6aからの反射光11を検出、測定する光学装置とを有しており、液体または溶融材料13を収容した透明容器6の底面6aに光源1から入射光10を照射し、その反射光11のうち液体または溶融材料13からの反射光成分を検出、測定する。 (もっと読む)


レスピレータシステムに配置された曝露指標デバイス。この曝露指標デバイスが光学的回折エレメントを含む。曝露指標デバイスが、化学物質蒸気への曝露に相関して変化する屈折率を有する材料を含み、そして曝露指標デバイスが、化学物質蒸気への曝露に相関して光学的特性が変化する光学的信号を提供する。
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