【課題】 レーザ光の集光制御での歪み補正を好適に実現することが可能な光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置を提供する。
【解決手段】 空間光変調器を用いたレーザ光の集光照射の制御において、レーザ光の波長数、各波長の値、及びレーザ光の入射条件を取得し（ステップＳ１０１）、集光点数、及び各集光点での集光位置、波長、集光強度を設定し（Ｓ１０４）、各集光点について、レーザ光に空間光変調器を含む光学系で付与される歪み位相パターンを導出する（Ｓ１０７）。そして、歪み位相パターンを考慮して空間光変調器に呈示する変調パターンを設計する（Ｓ１０８）。また、変調パターンの設計において、１画素での位相値の影響に着目した設計法を用いるとともに、集光点での集光状態を評価する際に、歪み位相パターンを加えた伝搬関数を用いる。 （もっと読む）

【課題】フォーカスラグを低減する。
【解決手段】透過率特定部２８は、操作部１７が半押し操作されると、そのタイミングの液晶NDフィルタ４４の透過率を、液晶NDフィルタ４４に印加電圧を変化させたタイミングからの経過時間と、サーミスタ４５により測定される温度とで、温度別透過率対時間テーブル２６を参照して特定する。NDフィルタ制御部２４は、半押し操作されたタイミングにおける透過率に対応する電圧を、透過率対電圧テーブル２５より読み出して、液晶NDフィルタ４４に印加することで、半押し操作されたタイミングの透過率が固定されるようにする。ゲイン制御部２２およびシャッタ制御部２３は、半押しされたタイミングの透過率と、目標とする透過率との差分から、液晶NDフィルタ４４で調整できない明るさをゲインおよびシャッタスピードを変化させて調整する。本技術は、撮像装置に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、任意の波長プロファイルを有する偏波モード分散を発生させる。
【解決手段】本発明は、入力光信号の有する直交偏波の相互間の遅延差を、入力光信号の有する波長に依存するように、入力光信号に付与する（遅延差Ｔ_１（λ））第１遅延差付与装置１Ａと、第１遅延差付与装置１Ａからの出力光信号の有する偏波面を回転させる（回転角Ψ）偏波面回転装置２と、偏波面回転装置２からの出力光信号の有する直交偏波の相互間の遅延差を、偏波面回転装置２からの出力光信号の有する波長に依存するように、偏波面回転装置２からの出力光信号に付与する（遅延差Ｔ_２（λ））第２遅延差付与装置１Ｂと、を備えることを特徴とする偏波モード分散発生装置である。 （もっと読む）

【課題】波長多重フィルタの透過特性は、中心波長に対して両側の波長での透過率が小さくなる特性を有している。また、中心波長も各波長多重フィルタによって波長ずれを持っている。このため、波長多重フィルタ等の帯域制限フィルタが光信号を劣化させるという課題があった。
【解決手段】本願発明の光透過特性補正フィルタは、光領域で光透過率が中心波長に向かって小さくなるよう光透過特性を補正して、波長多重フィルタ等の帯域制限フィルタによる光信号の劣化を緩和する。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスでゾルゲルガラスからなるクラッド・コア材の作製、屈折率の任意制御、光損失の極小制御が可能なポリマー光変調器の製造方法の提供。
【解決手段】下記式（１）
Ｒ^１_ｎＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｎ （１）
で表されるシリコンアルコキシド、その加水分解・縮合物、またはこれらの混合物と、光酸発生剤とを含む硬化性組成物を調製する工程と、
該硬化性組成物を基板上に塗布・硬化し、更にパターン形成を行い、ゾルゲルガラスから形成される下部クラッド層、コア層、側部クラッド層及び上部クラッド層を形成する工程と、
上部クラッド層中に、電気光学ポリマーから形成されるコア層を、該ゾルゲルガラスから形成されるコア層の上部に接触して埋設する工程とを含み、且つ、上部クラッド層と電気光学ポリマーから形成されるコア層との接続部の一部が、導波光の進行方向に対しテーパー構造を有する、ポリマー光変調器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光通信システム用の放射電力等化器に関する。
【解決手段】本発明は、光通信システム用の放射電力等化器を提供し、該等化器は、（ａ）１つ又はそれ以上の放射成分に分割する光デマルチプレクサ（３００）、（ｂ）前記１つ又はそれ以上の放射成分を選択的に伝送又は減衰する液晶セル・アレー（３１０）、（ｃ）光マルチプレクサ（３３０）、（ｄ）１つ又はそれ以上の対応する成分放射電力を示す信号を生成するＰＩＮダイオード検出器アレー（１２０）と結合した発信器エルビウムドープ・ファイバ増幅器（７０）、及び、（ｅ）制御モジュール（１３０）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光透過率制御の可能な表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に光を放出する第１領域、及び第１領域と隣接して外光を透過する第２領域を含む画素を備える透明表示素子；透明表示素子の一面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第１偏光板；第１偏光板と透明表示素子の一面との間に配されて、外光の位相を遅延させて透過する第１リターダー；透明表示素子の一面の反対側である他面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第２偏光板；第２偏光板と透明表示素子の他面との間に配されて、印加される電源により外光の波長を第１位相ないし第２位相の範囲で遅延させて透過する変換リターダー；を備える光透過率制御の可能な表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクレス加工装置に関する。
【解決手段】本発明のマスクレス加工装置は、基板に照射される光を提供する照明光学系と、多数の光変換素子で構成され、前記照明光学系から照射された光を加工パターンに応じて選択的に反射または透過するように当該光変換素子を調節して光量を変換する空間光変調器と、前記多数の光変換素子が前記基板の一つのピクセルに対応して集光するように配列され、前記空間光変調器により変換された光が入射されると、当該ピクセルに前記多数の当該光変換素子によって提供された高エネルギーの光を投射する投射光学系と、前記加工パターンの入力を受け、入力された加工パターンに応じて、前記光源から照射された光を前記多数の光変換素子によって選択的に変換されるように前記空間光変調器を制御する制御部と、を含み、デジタルマスクを用いることにより、マスク使用によるコストが低減し、加工しようとする対象のスケール変形に対する能動的な対応が容易であるだけでなく、前記装置の活用度及び利用度が拡大される。 （もっと読む）