【課題】耐熱性及び耐光性に優れたカラーフィルタ用含染料着色感光性組成物、この着色組成物を用いた高明度、高コントラストなカラーフィルタ、及びこのカラーフィルタを備える液晶表示装置並びにＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】
（ａ）色材、（ｂ）バインダー樹脂、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）光重合性化合物（ｅ）有機溶剤からなるカラーフィルタ用着色組成物において、（ａ）色材として、少なくとも1種の染料を含有し、かつ（ｂ）バインダー樹脂として、その樹脂を構成する単位構造として、カルボキシル基を誘導体の官能基とする単位構造（ｂ−１）を含み、その割合が（ｂ）バインダー樹脂の単位構造のモル含有率で３％以上２０％以下である。 （もっと読む）

【課題】密着性などのリソグラフィー性能と、エッジ膜厚均一性などの塗布性能に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有して成る半導体装置の提供。
【解決手段】（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、（ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、及び（ｃ）テトラヒドロリナロール０．０１〜８０質量部を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有し、硬化後の難燃性が高い感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリオキシプロピレンジアミンの残基を有する可溶性ポリイミド、（Ｂ）光重合性化合物としての、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアルケニル基を有する繰り返し数１〜２０の鎖状または環状のフォスファゼン化合物脂および（Ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、長期間に渡る良好な保存安定性及びプロセス適応性を有する化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である高分子化合物、


（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）カルボン酸、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料であって、カルボン酸の酸解離定数（ｐＫａ）が２以下であり、且つ、カルボン酸の含有量が塩基性化合物の含有量を超えないことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】周波数の高い振動に対しても耐えることができるフォトスペーサ作製するための感光性組成物の提供。
【解決手段】側鎖に酸性基を有する樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、及び表面処理二重結合量が微粒子１ｇ当たり０．０２ｍｍｏｌ〜０．３５ｍｍｏｌである表面処理微粒子（Ｄ）を含むフォトスペーサ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。
【解決手段】式（１）で示される繰り返し単位を有するエポキシ基含有高分子化合物。


［ａ、ｂ、ｃ、ｄは０又は正数、０＜（ｃ＋ｄ）／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）≦１．０ （もっと読む）

【課題】液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】[Ａ]水酸基を有するフェニル基又はナフチル基を少なくとも１つ有するスルホニウム塩［Ｂ］フッ素原子を５質量％以上含む重合体、及び、[Ｃ]酸解離性基を有し且つフッ素原子を５質量％未満含む重合体を含有する液浸露光用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたサーマルサイクルテスト耐性、保存安定性を有し、バイアを形成したときの内壁面の形状がスムースである感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、フィラーとを少なくとも含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有し、かつ、ビスフェノールＡ型骨格、及びビスフェノールＦ型骨格のいずれかを有し、前記フィラーが、シランカップリング剤で表面処理された球状のシリカである感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】工程数が少なく、且つ簡単な操作でスルホニウム塩を製造することが可能な、スルホニウム塩の新規製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（７）：


で表されるスルホニウム塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、感光特性が十分であり、絶縁特性、低誘電性、耐熱性、厚膜性、透明性に優れたポジ型感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備えた半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材を提供する。
【解決手段】（ａ）成分：特定の一般式で表される化合物を含むシラン化合物を、加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、（ｂ）成分：フェノール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物、（ｃ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、とを含有する感光性樹脂組成物。前記感光性樹脂組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法。基板と、この基板上に前記シリカ系被膜の形成方法により形成されたシリカ系被膜とを備える、半導体装置、平面表示装置又は電子デバイス用部材。 （もっと読む）