【課題】使用温度で液体であり、銅等の金属が腐食され難く、且つ濾過が容易で再利用し易いレジスト剥離剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明のレジスト剥離剤組成物は、３〜６員環を有する環状エステル（炭酸エチレン、炭酸プロピレン等）、低級アルキル基を有するケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、及び特定のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類（エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等）のうちの１種と、特定の環状アミド類（Ｎ−メチル−２−ピロリドン等）又は特定の直鎖状アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド等）との混合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面に多孔性の低誘電率膜（ポーラスＬｏｗ−ｋ膜）が形成された基板に付着しているレジストを、多孔性の低誘電率膜にダメージを与えるのを防止しながら良好に基板から剥離することができるレジスト剥離方法を提供する。
【解決手段】シリル化剤を必須的に含む強化剤がＳＣＣＯ2と混合されて強化用処理流体が調製され、この強化用処理流体が処理チャンバーに供給される。これにより、基板Ｗに形成されたポーラスＬｏｗ−ｋ膜がシリル化される。続いて、フッ化物成分を必須的に含む剥離剤がＳＣＣＯ2と混合されて剥離用処理流体が調製され、この剥離用処理流体が処理チャンバーに供給される。シリル化によりポーラスＬｏｗ−ｋ膜の剥離剤に対するエッチング耐性が高められていることから、ポーラスＬｏｗ−ｋ膜へのダメージ発生を防止しながらレジストを剥離除去することができる。 （もっと読む）

【課題】 感度、解像度及びレジストの剥離特性に特に優れたレジストパターンを得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用及び／又は１３０℃〜２５０℃の熱によって分解可能な結合を有する不飽和二重結合含有化合物からなる構成単位を含むラジカル重合性ポリマー、（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング法を用いたカラーフィルタの製造方法であって、ドライエッチング処理後のフォトレジスト層の除去が容易であって、所望の着色層パターンを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）支持体上に着色層を形成する工程と、（ｂ）前記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程と、（ｃ）前記フォトレジスト層をパターン様に除去して前記着色層上に画像を形成する工程と、（ｄ）前記パターン様に前記着色層をフッ素系ガスと酸素とを含むガスを用いたドライエッチング処理により除去する工程と、（ｅ）前記ドライエッチング処理によりフォトレジスト層の露出面側に形成された表面変質層を、含酸素ガスを用いたドライエッチング処理により除去する工程と、（ｆ）残存するフォトレジスト層を除去する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦレジスト膜等の難剥離性膜を容易に除去することができる基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ＡｒＦレジスト膜を伴ったウエハからこのＡｒＦレジスト膜を除去する処理方法である。ＡｒＦレジスト膜に紫外線照射処理を施し、次にＡｒＦレジスト膜にオゾンガスと水蒸気を供給して処理することにより、このＡｒＦレジスト膜を水溶性に変性させる。その後、水溶性に変性したＡｒＦレジスト膜に純水を供給することにより、ＡｒＦレジスト膜を基板から剥離する。チャンバに水蒸気とオゾンを供給する際には、チャンバ内に収容されたウエハに結露が生じないように、チャンバへ水蒸気を一定流量で供給しながら、水蒸気に対するオゾンの供給量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＤ製造工程において、Ａｌ又はＡｌ合金配線を腐食することなく、かつ、Ｃｕ又はＣｕ合金配線を腐食することなく、フォトレジストを剥離できるフォトレジスト剥離剤組成物を提供する。
【解決の手段】マルトール、２，６−ジメチルガンマピロン、４−ヒドロキシ−６−メチル−２−ピロン、４−ヒドロキシクマリン、２，４−ジヒドロキシキノリン、２−アミノ−４，６−ジヒドロキシピリミジン、２，４−ジアミノ−６−ヒドロキシピリミジン、２−アミノ−４−ヒドロキシ−６−メチルピリミジン、４，６−ジメチル−２−ヒドロキシピリミジン、ウラシル及び６−メチルウラシルからなる群から選択される少なくとも１種の複素環式化合物０．０５〜１０重量%、一級若しくは二級のアルカノールアミン又はアルキルアミン５〜４５重量%、極性有機溶剤３０〜９４．８５重量％、糖アルコール０．１〜１０重量％含有するフォトレジスト剥離剤組成物。 （もっと読む）

一態様において、その表面上に材料を有する基板を処理チャンバー内に配置すること；液状処理組成物の流れを基板の表面に衝突させるように向けること；及び水蒸気の流れを基板の表面及び／または液状処理組成物に衝突させるように向けること、を含む基板の処理方法。本発明の好ましい態様は、基板から、材料、好ましくはフォトレジストを除去することであり、処理組成物は、硫酸及び／またはその脱水種及び前駆体を含む液体硫酸組成物である。他の態様において、硫酸及び／またはその脱水種及び前駆体を含む液体硫酸組成物は、基板の表面の一部分を処理するために効果的な量で、基板の全表面よりも小さい基板の表面の一部分上に投与され、そして水蒸気に曝露する前の液状硫酸組成物の温度よりも高く、液状硫酸組成物の温度を上昇させるために効果的な量の水蒸気に、液状硫酸組成物が曝露される。基板は、処理工程の間、水蒸気及び／または所望により窒素ガス環境に囲まれることもできる。
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【課題】結晶物や剥離物等の異物を良好に捕捉する一方で、メンテナンスフリーやランニングコスト削減に貢献する。
【解決手段】剥離装置は、シャワーノズル１８を備えたチャンバ１０もつ処理部１と、薬液を貯溜するタンク２とを有し、このタンク２からシャワーノズル１８に薬液を送液しつつチャンバ１０内の使用済みの薬液をタンク２に回収して再使用するように構成される。チャンバ１０には、その内定部の一部に薬液の排出口１１が設けられ、さらに排出口１１と基板Ｓの処理位置（搬送ローラ１６の位置）との間の部分には、前記排出口１１よりも広い濾過面積をもつフィルタ部材２０が配備されている。 （もっと読む）

【課題】レジスト、エッチング残渣、平坦化残渣、及び金属酸化物の一種以上をアルミニウム又はアルミニウム銅合金を含む基板から除去するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】レジスト、エッチング残渣、平坦化残渣、及び金属酸化物の一種以上をアルミニウム又はアルミニウム銅合金を含む基板から除去するための組成物であって、約0.005重量％から約５重量％までのフッ化物を与える成分、約１重量％から約50重量％までのグリコール溶媒、リン含有酸、及び水を含む組成物；該組成物と基板を接触させることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を幅方向に傾斜させて搬送するとともに、その上面全体を処理液によって均一に処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】所定の角度で傾斜しその傾斜方向と交差する方向に搬送される基板の上面を処理液供給装置３１から供給される処理液によって処理する基板の処理装置であって、
処理液供給装置は、基板の傾斜方向に沿って配置され内部に処理液が供給貯留される容器本体３２と、容器本体の下面に開口形成され内部に供給貯留された処理液を基板の搬送方向と交差する方向に沿って直線状に流出させるノズル孔４０と、容器本体の下面側に設けられ基板の搬送方向下流側に向かって低く傾斜した傾斜面４５を有するとともに、傾斜面の下端縁４５ａが搬送される基板の傾斜した上面と平行に離間対向するよう傾斜して形成されていて、ノズル孔から流出する処理液を傾斜面で受けて傾斜面の下端縁から基板の上面に供給するガイド部材４２を具備する。 （もっと読む）