【課題】マザー基板の透明導電膜が形成されている側の主面に、透明導電膜にキズをつけることなくスクライブラインを形成でき、部材の汚染を抑制できる、透明導電膜を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、光学ガラス基板であるマザー基板１の一主面を少なくとも２つの領域１ａ、１ｂに分割する未塗布部１ｃが形成されるように、マザー基板１の一主面上に導電性無機粒子、樹脂、及び溶剤を含むコーティング組成物を塗布し、乾燥させることにより、マザー基板１の一主面上に透明導電膜３を形成する工程と、未塗布部１ｃにスクライブライン１ｄを形成する工程と、スクライブライン１ｄに沿ってマザー基板１を切断し、一主面に透明導電膜３を有するガラス基板４を得る工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】超電導線材の層間剥離を防止する被覆超電導線材の製造方法、超電導線材被覆の電着方法、及び、被覆超電導線材を提供する。
【解決手段】基板（１１）の上に超電導層（１４）を形成して超電導線材（１１−１５）を完成し、ポリイミド電着液（２２）に浸漬した超電導線材（１１−１５）に通電して超電導線材（１１−１５）の周りにポリイミド層（１６）を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、作製工程と作製時間の短縮化を図ったうえで、パターンの位置合わせを容易に実現することにある。
【解決手段】第一の透明基板層１ａの片面に少なくとも透明導電層２ａを形成する工程と、第二の透明基板層１ｂの片面に少なくとも透明導電層２ｂを形成する工程と、透明導電層３ａ，３ｂを外側にして、第一の透明基板層１ａと第二の透明基板層１ｂとを粘着剤６で貼り合わせる工程と、第一の透明基板層１ａの透明導電層２ａ及び第二の透明基板層１ｂの透明導電層２ｂを加熱処理する工程とを備えて構成したものである。 （もっと読む）

【課題】量産工程に対応可能な大気圧プラズマＣＶＤ法を用いて、低抵抗な透明導電膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の成膜方法は、基板と成膜用印加電極との間に、有機金属化合物ガス、希ガス、および酸化ガスを含む成膜用ガスを供給するステップと、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、基板と成膜用印加電極との間に高周波電圧を印加することにより、成膜用ガスから成膜用プラズマを発生させるステップと、該成膜用プラズマに基板を暴露する第１ステップと、基板と後処理用印加電極との間に、希ガスを含む後処理用ガスを供給するステップと、基板と後処理用印加電極との間に高周波電圧を印加することにより、後処理用ガスから後処理用プラズマを発生させるステップと、該後処理用プラズマに透明導電膜を暴露する第２ステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放熱用部品としての性能は損なわずに簡便かつ経済的な工程により、熱伝導性と強度、成形性に優れたＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金圧延板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｍｇを０．１〜０．３４質量％（以下、％と記す）、Ｓｉを０．２〜０．８％、Ｃｕを０．２２〜１．０％含有し、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなり、Ｓｉ／Ｍｇ含有量比が１．３以上のＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金を、半連続鋳造で厚さ２５０ｍｍ以上の鋳塊とし、４００〜５４０℃の温度での予備加熱を経て熱間圧延、５０〜８５％の圧下率で冷間圧延を施した後、１４０〜２８０℃の温度で焼鈍をし、ファイバー組織を有し、導電率が５７．５％ＩＡＣＳ以上、引張強度１８０Ｎ／ｍｍ^２以上のＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金圧延板を得る。 （もっと読む）

【課題】安定な金属ナノ粒子組成物を用いて、数μｍの厚みを有し、高いアスペクト比と、低いアニーリング温度を有するような導電性構造を調製するのに適した方法を提供する。
【解決手段】基板の上に導電性部分を作成する方法であって、可とう性のスタンプを金属ナノ粒子組成物で満たすことと、金属ナノ粒子組成物を基板の上に堆積させることと、堆積させている間または堆積させた後に、堆積した金属ナノ粒子組成物を加熱して導電性部分を作成することとを含む、方法。 （もっと読む）

【課題】グラフト重合による優れたプロトン伝導性高分子電解質膜を工業的に製造するための方法を提供する。
【解決手段】樹脂微粒子に放射線を照射する工程と、ビニル系化合物と溶媒とを含む液相中において前記放射線が照射された樹脂微粒子が固相を維持する固液二相系において、樹脂微粒子にビニル系化合物をグラフト重合させて微粒子状のグラフト重合体を得る工程と、グラフト重合体をスルホン化することによりスルホン化重合体を得る工程と、スルホン化重合体におけるスルホン酸基をスルホン酸基前駆体に変換することにより安定化重合体を得る工程と、安定化重合体を溶融成形することによりフィルムを成形する工程と、フィルムにおけるスルホン酸基前駆体をスルホン酸基に変換する工程と、を含むプロトン伝導性高分子電解質膜の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】良好な超電導特性の酸化物超電導導体を提供可能な酸化物超電導導体用基材、及び該酸化物超電導導体用基材を工程時間を短縮して効率的に製造することができる酸化物超電導導体用基材の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、良好な超電導特性の酸化物超電導導体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材１０は、金属基材１上に、第１拡散防止層１１と、第２拡散防止層１２と、第３拡散防止層１３と、イオンビームアシスト蒸着法により成膜された中間層４とがこの順に設けられてなり、第２拡散防止層１２の表面粗さＲａが、金属基材１の表面粗さＲａよりも低く設定されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスを提供する。
【解決手段】ＧａＳ_３^３−構造を主成分とするイオン伝導体と、ＬｉＩとを有することを特徴とする硫化物固体電解質ガラス。ＬｉＩ（ＬｉＩ成分）を有するため、Ｌｉリッチとなり、Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスとすることができる。また、ＧａＳ３３−構造は、水（水分を含む）と接触しても、その構造が変化しないため、水に対する安定性が高い。 （もっと読む）

【課題】積層された複数の仮焼膜を本焼して作製された厚膜タイプの酸化物超電導薄膜であって、充分に高い臨界電流値Ｉｃを有する酸化物超電導薄膜を得ることができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】超電導線材の製造に用いるＲＥ１２３系（ＲＥは希土類元素）酸化物超電導薄膜を、塗布熱分解法により製造する方法であって、基材上への原料溶液の塗布と塗膜の仮焼を複数回繰り返し行って、複数の層を積層させた仮焼膜を形成する仮焼膜形成工程と、仮焼膜を焼成して酸化物超電導薄膜を形成する酸化物超電導薄膜形成工程とを有し、基材の表面に設けられる第１層の塗膜の形成にＲＥ、Ｂａ、Ｃｕの比率が化学量論比からずれた原料溶液を使用する酸化物超電導薄膜の製造方法。 （もっと読む）