【課題】
本発明は、荷電粒子線を試料へ照射して画像を得る装置において、特にビーム傾斜時のように、垂直ビームとは異なる条件にてビーム条件を調整するのに好適なビーム条件調整方法、及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
非点補正，焦点調整、及び視野ずれ補正を行うように、非点補正器，対物レンズ、及び偏向器を自動的に制御する制御装置を備え、非点補正，焦点調整、及び前記視野ずれ補正の少なくとも１つの実施を禁止するための選択手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】小型電子カラムにおける従来の電場デフレクターの問題点を解決し且つ性能を向上させるためのもので、電子ビームを電場より収差の少ない磁場を用いてデフレクトし、或いは電場および磁場を選択的にまたは同時に使用することが可能なデフレクターを提供する。
【解決手段】
本発明は、電子ビームを生成する電子カラムのデフレクターに関し、より詳しくは、磁場を用いて電子ビームをスキャンまたはシフトし或いは収差補正器の役割を果たすことが可能なデフレクターに関する。本発明に係るデフレクター（１００）は、導体または半導体からなるコア（１２）と、前記コア（１２）に巻き付いているコイル（１１）とを含むデフレクター電極を一つ以上含む。 （もっと読む）

【目的】静電レンズで試料面の焦点合わせを行うことが可能な焦点合わせ方法を提供する。
【構成】本発明の一態様の電子ビーム２００の焦点合わせ方法は、レンズコイル２０７を用いて、校正マーク部材１０６の基準面の位置に焦点を合わせるための第１の設定値を測定する工程と、静電レンズ２０８とレンズコイル２０７の設定値を距離に応じて変更する第１と第２の換算係数を取得する工程と、試料１０１面の高さ分布を測定する工程と、第２の換算係数を用いて第１の設定値を補正して、レンズコイル２０７におけるビームの焦点位置を基準面の位置から試料面の高さ分布の中間高さ位置に補正する工程と、第１の換算係数を用いて試料１０１面の高さ位置に応じて静電レンズ２０８の第２の設定値を補正して、静電レンズ２０８により電子ビーム２００の焦点位置を補正する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度、励起制御を緩和する補正レンズ系を提供する。
【解決手段】 本発明は、同一幾何学寸法を有する６段または８段の四極子レンズと３つの開口電極から構成される補正レンズまたは、６段または８段の十二極子レンズと３段以上の八極子レンズで構成される補正レンズにおいて、補正レンズの中心位置に対して幾何学的に対称な構造を有し、励起制御を極性が反対で、励起強度を等しくすることで、補正レンズ内でXZ面とYZ面でそれぞれ線状収束させると共に、補正レンズの中心位置付近で離軸距離が同程度となるように四極子レンズ励起強度を調整し、これらの位置近傍で開口収差係数を補正する。 （もっと読む）

【課題】短時間で容易に、かつ、精度良く荷電粒子光学系の調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、荷電粒子光学系の調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子源９と、荷電粒子ビームＩを入力値と対応するビーム特性値に設定して試料に照射させる荷電粒子光学系１２、１６と、荷電粒子ビームＩの照射位置を相対移動させることが可能な走査手段１７と、画像を取得可能な観察手段３２と、制御部３０とを備え、制御部３０は、入力値を異なる値に設定し、試料に位置を異なるものとして荷電粒子ビームＩを複数回照射させて、複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段３３と、スポット特性値が最小値を示すスポットパターンを選択するスポットパターン解析手段３４とを有し、選択されたスポットパターンと対応する入力値にと等しい値に荷電粒子光学系１２、１６の入力値を設定する。 （もっと読む）

マルチビーム走査式電子ビームデバイスが説明される。カラムを有するマルチビーム走査式電子ビームデバイスは、複数の電子ビームを放出するためのマルチビームエミッタと、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つのための共通開口を有し、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つに共通に作用するように構成される少なくとも１つの共通電子ビーム光学要素と、複数の電子ビームに個別に作用するための少なくとも１つの個別電子ビーム光学要素と、複数の電子ビームのうちの少なくとも２つを集束するための共通励磁を有し、複数の信号ビームを発生させるために試料上に複数の電子ビームを集束するように構成される複数の電子ビームを集束するための共通対物レンズアセンブリと、各信号ビームを対応する検出要素上で個別に検出するための検出アセンブリとを含む。 （もっと読む）

走査荷電粒子ビーム装置が説明される。走査荷電粒子ビーム装置は、一次電子ビームを放出するためのビームエミッタと、試料上にビームを走査させるための第１の走査段と、一次電子ビームから信号電子ビームを分離するように適応されたアクロマチックビームセパレータと、信号電子を検出するための検出ユニットと、を含む。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射する照射系での非点収差を評価する。
【解決手段】基準試料ＷＰの表面に、複数（例えば４つ）の同心円からなる図形パターンを形成し、この基準試料ＷＰを電子線でスキャンすることによって得られる電子信号に基づいて画像（スキャン画像）を形成する。このスキャン画像では、非点収差の方向を長手方向とする領域に像のボケが生じ、また、非点収差の大きさによって、ボケが生じた領域の範囲が変化する。したがって、得られたスキャン画像に基づいて、照射装置１０の照射系での非点収差の方向及び大きさを検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】非点収差、軸外収差、及び、焦点ずれを同時かつ高速に補正することができる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明の荷電粒子線装置によると、対物レンズと試料の間に、荷電粒子線の軌道上に電場を生成する静電レンズが設けられている。静電レンズは、複数の電極に分割され、各電極には独立に電圧を印加することができる。この電圧を調整することにより、対物レンズの非点収差補正、軸外収差補正、及び、焦点ずれ補正のいずれかを行う。 （もっと読む）

【課題】 像分解能を維持して装置のコンパクト化を図る。
【解決手段】 電子銃１、電子銃からの電子ビームを試料４上に集束させる集束レンズ２、電子ビームで試料４上を走査させる走査用偏向レンズ５、試料上の走査により試料４から発生した二次電子ビームを検出する検出器６、検出器で検出された二次電子ビームに基づいて、試料４に関する像若しくはスペクトルを表示する表示装置１２を備えており、試料４の直上に、４段の静電型４極子２１，２２，２３，２４と４段の静電型８極子２７，２８，２９，３０から成る静電型１２極子を配置させ、４段の静電型４極子２１，２２，２３，２４により電子ビームの試料４上のフォーカス調整を行わせ、４段の静電型８極子２７，２８，２９，３０で収差補正を行わせる。 （もっと読む）