【課題】 パターン形成において、低コスト化及び形成時間の短縮化を図るとともに、微細パターンの形成を可能としたパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン形成方法は、基板１８上に第１金属膜２８を形成する第１金属膜形成工程と、第１金属膜２８上に、パターンを形成しない基板１８上の位置に対応する第１金属膜２８が露出するようにマスクパターン３８を形成するマスクパターン形成工程と、マスクパターン３８をマスクとして第１金属膜２８上に絶縁膜４０を形成する絶縁膜形成工程と、マスクパターン３８を除去し、メッキ法により、マスクパターン３８を除去した第１金属膜２８上に絶縁膜４０をマスクとして少なくとも第２金属膜４２を形成する第２金属膜形成工程と、を有する。 （もっと読む）

めっき膜の密着性を向上させるのに好適な無電解銅めっき液、また、さらに低温で均一なめっきが可能となる無電解銅めっき液を提供する。無電解銅めっき液中に水溶性窒素含有ポリマーを含むことを特徴とする無電解銅めっき液であり、さらに前記無電解銅めっき液中に還元剤としてグリオキシル酸、及びホスフィン酸を含有することが好ましい。また、前記水溶性窒素含有ポリマーとしては、ポリアクリルアミドまたはポリエチレンイミンが好ましく、その重量平均分子量（Ｍｗ）が１００，０００以上、かつＭｗ／Ｍｎが１０．０以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】インクジェット印刷あるいはディスペンサ印刷を用いた数μｍの高精細なソース・ドレイン電極パターンが形成された有機薄膜トランジスタ及び有機薄膜トランジスタをアクティブ素子として用いるアクティブマトリックス表示装置を提供する。
【解決手段】基板、ゲート電極、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極、及び有機半導体層を有する有機薄膜トランジスタにおいて、エネルギー付与により表面エネルギーを変化させた前記ゲート絶縁膜の電極形成領域上に、少なくとも１つ以上の角部のいずれかに鈍角形状を有する電極形成領域を設定し、該電極形成領域に前記形状と略同一の鈍角形状を有するソース電極及び／又はドレイン電極を形成したことを特徴とする有機薄膜トランジスタを主たる構成にする。 （もっと読む）

【課題】導電性粒子の精密パターニングに使われうるドナー基材を提供すること。
【解決手段】ベース基材と、ナノ導電性粒子及び有機半導体を含む前記ベース基材上の転写層と、を有することを特徴とするナノ導電性膜形成用のドナー基材。 （もっと読む）

【課題】 材料強度が比較的弱い極薄な半導体ウエーハ等の被めっき物に対して伝導板を接触させた場合でも、被めっき物に破損、損傷等が生じる事態を解消できるようにする。
【解決手段】 半導体ウエーハＷをボルト２１を用いて第１の絶縁板１０と第２の絶縁板２０との間で挟持する。そして、弾性を有する環状の平板からなる導電ゴム（伝導板）６０を、第１の絶縁板１０と半導体ウエーハＷとの間に介在させ、この導電ゴム６０を半導体ウエーハＷに弾性的に面接触させる。これにより、導電ゴム６０は半導体ウエーハＷに対するクッションとして機能し、半導体ウエーハＷに加えられる導電ゴム６０からの荷重（押付力）を和らげるようにする。 （もっと読む）

めっき反応が起こりにくい半導体ウェハー等の鏡面上等で無電解銅めっきを行う際に、より低温で均一なめっきが可能となる無電解銅めっき液を提供することを目的とする。還元剤として第一の還元剤とともに、第二の還元剤として次亜リン酸または次亜リン酸塩を使用し、さらに銅析出抑制用安定剤を同時に使用することを特徴とする無電解銅めっき液。第一の還元剤としては、ホルマリン、グリオキシル酸等が挙げられ、次亜リン酸塩としては、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム、次亜リン酸アンモニウム等が挙げられる。銅析出抑制用安定剤としては２，２’−ビピリジル、イミダゾール、ニコチン酸、チオ尿素、２−メルカプトベンゾチアゾール、シアン化ナトリウム、チオグリコール酸等が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出法などのマスクレスプロセスを用いて円形薄膜トランジスタを作製することにより、工程の簡略化、作製時間の短縮、及び作製費用の低減を図ると共に、従来よりもその形状が制御された円形薄膜トランジスタの作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液滴吐出法等のマスクレスプロセスを用いて、基板上に同心円状の薄膜を積層し、円形の電極を有する円形薄膜トランジスタを形成する。また、液滴吐出法等のマスクレスプロセスを用いて、基板上に同心円状の薄膜を積層し、円形の半導体層を有する円形薄膜トランジスタを形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】 電解めっきによって歩留りよく基板のスル―ホール内に導電体を充填できる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０にスルーホール１０ｘを形成し、基板１０の一方の面に金属箔１４を配置し、弾性体２２を介在させた状態で基板１０及び金属箔１４を押圧して基板１０と金属箔１４とを圧着する。さらに、金属箔１４をめっき給電電極に利用する電解めっきにより、スルーホール１０ｘ内に導電体１６を充填した後に、基板１０から金属箔１４を剥離する。 （もっと読む）

【課題】バンクの撥液化処理に起因する不都合を解消したバンクの形成方法と、膜パター
ンの形成方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】機能液からなる膜パターンの形成領域を区画するバンクの形成方法である。
基板Ｐ上にレジスト液を塗布し乾燥してレジストからなるバンク膜３１を形成する工程と
、バンク膜３１に撥液化処理ガスとプラズマとを用いた撥液化処理を行う工程と、撥液化
処理後のバンク膜３１に対し、マスクＭを用いて選択的に紫外線を照射し、撥液性を低下
させる工程と、撥液化処理後のバンク膜３１に対し、マスクＭを用いて選択的に露光する
工程と、撥液性を低下させる工程と露光する工程の後、バンク膜３１を現像してパターニ
ングし、バンクを形成する工程と、を備えている。撥液性を低下させる工程と露光する工
程とを、同じマスクＭを用いて連続してあるいは同時に行う。 （もっと読む）

太陽電池の構成及び製造方法を開示する。本発明は、概して、固体部分と有機部分を含む混合物から作られる太陽電池コンタクトを提供するものであって、該太陽電池コンタクトは、該固体部分が、約８５〜約９９重量％の金属成分、及び約１〜約１５重量％の鉛フリーガラス成分を含む。前面コンタクトと裏面コンタクトの両者が開示される。 （もっと読む）