【課題】ゲート電極によるチャネルのポテンシャル制御性を大幅に向上させ、信頼性の高い所期の高耐圧及び高出力を得ることのできる化合物半導体装置を実現する。
【解決手段】ＡｌＧａＮ／ＧａＮ・ＨＥＭＴは、Ｓｉ基板１と、Ｓｉ基板１の上方に形成された電子走行層２ｂと、電子走行層２ｂの上方に形成された電子供給層２ｃと、電子供給層２ｃの上方に形成されたソース電極４、ドレイン電極５及びゲート電極６とを含み構成されており、電子走行層２ｃは、平面視でソース電極４とドレイン電極５とを結ぶ方向と交差する方向に並ぶ複数の段差、例えば第１の段差２ｃａ、第２の段差２ｃｂ、第３の段差２ｃｃを有する。 （もっと読む）

【課題】ダイオード部とトランジスタ部の面積比率を自由に設定することが可能な窒化物系半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１ＨＥＭＴ部３０及び第２ＨＥＭＴ部３１から成るトランジスタ部１と、第１電極２４と電気的に短絡された第１ショットキー電極２８及び第１ゲート電極２６と電気的に第２ショットキー電極２９から成るダイオード部２と、を備えて構成されている。また、第１電極２４と第２電極２５との間の領域に第１電極２４に沿って、第１ゲート電極２６及び第１ショットキー電極２８が交互に形成され、かつ、第２電極２５に沿って、第２ゲート電極２７及び第２ショットキー電極２９が交互に形成されている。さらに、第１ゲート電極２６と第２ゲート電極２７とは、対向して形成されており、第１ショットキー電極２８と第２ショットキー電極２９とは対向して形成されている。 （もっと読む）

【課題】オン抵抗が低く高速動作が可能でありノーマリオフ特性を有し、かつ一の基板を用いて構成された炭化珪素半導体装置を提供する。
【解決手段】第１、第２、第４および第５不純物領域１１、１２、２１、２２は第１導電型を有し、第３不純物領域１３は第２導電型を有する。第１〜第３不純物領域１１〜１３は第１導電型の第１層３４に達する。第４および第５不純物領域２１、２２は第２層３５上に設けられている。第１〜第５電極Ｓ１、Ｄ１、Ｇ１、Ｓ２、Ｄ２は第１〜第５不純物領域のそれぞれの上に設けられている。第１および第５電極Ｓ１、Ｄ２の間と、第３および第４電極Ｇ１、Ｓ２の間とは電気的に接続されている。第４および第５不純物領域２１、２２の間を覆うゲート絶縁膜Ｉ２上に第６電極Ｇ２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】スイッチング素子のソースおよびドレイン間に還流ダイオードが接続された構造を有する炭化珪素半導体装置を一の炭化珪素基板を用いて提供する。
【解決手段】第１層３４は第１導電型を有する。第２層３５は、第１層３４の一部が露出されるように第１層３４上に設けられ、第２導電型を有する。第１〜第３不純物領域は、第２層３５を貫通して第１層３４に達する。第１および第２不純物領域１１、１２の各々は第１導電型を有する。第３不純物領域１３は、第１および第２不純物領域１１、１２の間に配置され、かつ第２導電型を有する。第１〜第３電極Ｓ１、Ｄ１、Ｇ１は、第１〜第３不純物領域１１〜１３のそれぞれの上に設けられている。ショットキー電極ＳＫは、第１層３４の一部の上に設けられ、第１電極Ｓ１に電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】 高電子移動度トランジスタを用いて駆動回路を形成し、信頼性を低下させることなく、スイッチングトランジスタを高速に駆動する。
【解決手段】 駆動回路は、ドレインが第２ハイレベル電圧線に接続され、ソースが第１スイッチングトランジスタのゲートに接続される第１高電子移動度トランジスタと、ドレインが第１スイッチングトランジスタのゲートに接続される第２高電子移動度トランジスタと、ドレインが第２高電子移動度トランジスタのソースに接続され、ソースが接続ノードに接続される第１フィールドプレートと、第１および第２高電子移動度トランジスタを排他的にオンするために、第１および第２高電子移動度トランジスタのゲート電圧を生成し、第２高電子移動度トランジスタをオフするときに、第２高電子移動度トランジスタのゲートをロウレベル電圧線のロウレベル電圧に設定する制御部とを有している。 （もっと読む）

【課題】ダイオード等の保護素子の外付けによる部品点数の増加及び占有面積の増大を抑えた、双方向に高いアバランシュエネルギー耐量を有する窒化物半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板１０は、第１のｎ型領域１２Ａ、第２のｎ型領域１２Ｂとともにトランジスタ１１を構成する。半導体基板１０の裏面には、裏面電極１３が接合され、また、半導体基板１０の上には、ＨＦＥＴ２１が形成されている。ＨＦＥＴ２１は、ＡｌＧａＮ層２３Ａ及びＧａＮ層２３Ｂを備える半導体層積層体２３と、第１のオーミック電極２４Ａ、第２のオーミック電極２４Ｂ、第１のゲート電極２５Ａ、第２のゲート電極２５Ｂにより構成されている。第１のオーミック電極２４Ａと第１のｎ型領域１２Ａ、第２のオーミック電極２４Ｂと第２のｎ型領域１２Ｂはそれぞれ電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】ＧａＮ系トランジスタを簡便な構造で適切に保護することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極１１０ｇと保護ダイオード用電極１１５ｐとが互いに接続されている。絶縁膜１１３は、所定値以上の電圧がゲート電極１１０ｇに印加された場合にリーク電流を保護ダイオード用電極１１５ｐと電子走行層１０４及び電子供給層１０３との間に流し、所定値は、ＨＥＭＴがオン動作する電圧より高く、ゲート絶縁膜１０９ｇの耐圧よりも低い。 （もっと読む）

【課題】ｎ型不純物としてＴｅを用いたノンアロイ層を有していても、ベース電流、コレクタ電流のリーク電流が少ないトランジスタ素子を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に設けられた高電子移動度トランジスタ構造層２８と、高電子移動度トランジスタ構造層２８上に設けられたヘテロバイポーラトランジスタ構造層２９とを備えたトランジスタ素子１０において、ヘテロバイポーラトランジスタ構造層２９のノンアロイ層２６，２７は、ｎ型不純物としてＴｅがドーピングされており、ｎ型不純物濃度が１．０×１０¹⁹ｃｍ^-3以上２．０×１０¹⁹ｃｍ^-3以下にされているものである。 （もっと読む）

【課題】ビアホールの数を少なくしてもループ発振などの特性劣化が生じにくい半導体電力増幅器を提供する。
【解決手段】半導体電力増幅器は、ゲート電極Ｇと、ドレイン電極Ｄと、前記ゲートフィンガー電極に対向して配置されるソースフィンガー電極横手方向の両サイドに引き出される２つのソース電極Ｓと、を有するユニットＦＥＴと、前記ユニットＦＥＴが、前記ソース電極間を結ぶ略直線方向に複数個並列配置され、隣り合うユニットＦＥＴ間に存在する２つのソース電極の両方を共通して高周波グランド面と接続する第１の接地インダクタンス値を有する第１のビアホール１８Ｋと、隣り合うユニットＦＥＴが存在しない側のソース電極上に配置され、接地インダクタンスを等しくするために前記高周波グランド面に接続する第２の接地インダクタンス値を有する第２のビアホール１８Ｄと、を有する。 （もっと読む）

【課題】ゲート電流を抑制し且つ高速動作が可能なスイッチング回路を提供する。
【解決手段】窒化物半導体層の主面上に互いに離間して配置された第１及び第２の主電極、及び前記第１の主電極と前記第２の主電極間で前記主面上に配置された制御電極を有するスイッチング素子Ｔ_ＳＷと、コレクタ端子とエミッタ端子と制御端子とを有する第１の駆動素子Ｔ_Ｄ１及び入力端子を含む駆動回路１０と、を備え、前記第１の駆動素子の前記コレクタ端子は前記スイッチング素子の前記第１の主電極に接続され、前記第１の駆動素子の前記エミッタ端子は前記スイッチング素子の前記制御電極に接続され、前記第１の駆動素子の前記制御端子は前記入力端子及び前記エミッタ端子に接続される。 （もっと読む）