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国際特許分類[H01L31/04]の内容

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【課題】セレン化または硫化用高圧炉を提供する。
【解決手段】処理炉(100)は、第一チャンバー(110)と、第一チャンバー(110)を内部に収納する第二チャンバー(120)と、第一チャンバー(110)にセレン化用ガスを供給する処理ガス供給源(130)と、第一チャンバー(110)の内部を加熱する加熱装置(140)と、第一チャンバー(110)の内圧及び第二チャンバー(120)の内圧並びに第一チャンバー(110)の内部の温度を制御する制御装置(150)と、からなり、制御装置(150)は第二チャンバー(120)の内圧を第一チャンバー(110)の内圧よりも高く維持する。 (もっと読む)


【課題】 導電性ペーストを用いて太陽電池電極を形成するに当たり、工程の複雑化または煩雑化を招くことなく、太陽電池電極のアスペクト比を大きくすることができるとともに、ライン抵抗および比抵抗も優れたものとする。
【解決手段】 本発明に係る太陽電池電極形成用導電性ペーストは、ライン幅が80μm以下の太陽電池電極を形成するために用いられ、(A)銀粉末、(B)ガラスフリット、(C)有機バインダ、および(D)有機溶剤から少なくとも構成されている。(A)銀粉末としては、(A−1)アトマイズ銀粉および(A−2)湿式還元銀粉の混合粉が用いられ、その混合割合が、アトマイズ銀粉/湿式還元銀粉=70/30〜99/1の範囲内である。 (もっと読む)


【課題】 太陽光発電において、静電圧による絶縁破壊を防止することができる、太陽光発電モジュール等を提供する。
【解決手段】 支持体11と、支持体上で発電素子を保持するフレキシブルプリント配線板10とを備え、フレキシブルプリント配線板が、絶縁をとるための絶縁基材層1b、および、絶縁基材層に固着されて発電素子を直列に接続する金属層からなる導電層パターン1a、を有し、少なくとも導電層パターンの端縁に沿って、当該端縁と絶縁基材層との段差を埋めるように被覆する絶縁破壊防止膜3を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明電極層との密着性に優れ且つ接触抵抗が小さい電極構造、及びその電極構造を備えた太陽電池等を提供する。
【解決手段】透明電極層5上にパターン状に設けられて導電性粒子及び高分子化合物を有する第1導電層6aと、第1導電層6a上に設けられてバインダーとしての高分子化合物を有さずに導電性粒子を有する第2導電層6bとを備える電極構造6によって、上記課題を解決した。第2導電層6bは、粒径分布の異なる少なくとも2種類の導電性粒子群を含み、かつ該導電性粒子群の含有率が99.0質量%超であることが好ましい。高分子化合物を120℃以上180℃未満で硬化する硬化剤とすることにより、カルコパイライト化合物半導体層を有する太陽電池の集電電極として好ましく用いることができる。 (もっと読む)


【課題】ソースガスから選択的に抽出されたBイオンを、結晶基板の一方の主面側に注入して、必要なp型不純物濃度のプロファイルを形成することを可能とする、結晶太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】光を受光する受光面と、受光面と対向する裏面との間で光電変換機能を発現する、結晶基板101を備えた結晶太陽電池100の製造方法であって、減圧雰囲気とした真空槽内に結晶基板を配して、真空槽内にB分子を含むソースガスを導入し、ソースガスをプラズマ励起することにより、選択的にイオン化させたBイオンを抽出し、前記結晶基板100の片方の主面101b側に注入して、P型半導体層102を形成する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】 FZ単結晶シリコンは体積固有抵抗やライフ・タイム等、品質上はCZ単結晶シリコンに比べて優れているにも拘わらず、コストが「約5〜8倍」と高価なため、太陽電池用としては使用されていない。このため、本発明では太陽電池用に特化することにより、大幅なコスト・ダウンをはかる手段を提供することにより、FZ単結晶シリコンを使用し大幅に効率アップした太陽電池の普及に貢献する。
【解決手段】
単結晶製造のスムーズな引き上げのみを考慮した単純な製造機器により、成長スピードを2〜5mm/min、場合により8mm/minまであげる。
又、芯ドープには空洞部に特殊加工したドーピングマザーメタルを使用する等を行う。
亜鉛還元法によるシリコンについては、熔融が簡単で短時間融解で済み、吸い上げを含めても石英等とのコンタミネーションも極端に少なくなる。 (もっと読む)


【課題】第1真性非晶質半導体膜と第2真性非晶質半導体膜の間隔を広げても、光電変換効率が低減しないような太陽電池を提供する。
【解決手段】第1導電型のシリコン基板4の裏面上の一部領域に形成した、第1の真性非晶質半導体膜6及び第1導電型非晶質半導体膜8を順に積層した積層膜16と、シリコン基板4の裏面上の他の領域に形成した、第2の真性非晶質半導体膜12及び第2導電型非晶質半導体膜13を順に積層した積層膜15と、シリコン基板4の裏面に形成した第1導電型拡散層5とを有し、第1導電型拡散層5は、第1の真性非晶質半導体膜6を形成した領域と、第2の真性非晶質半導体膜12を形成した領域との間の領域に形成した。 (もっと読む)


【課題】 多孔質半導体微粒子層への増感色素の吸着を、増感色素を含む電解液により行うことで、製造工程を簡略化した色素増感型太陽電池モジュールの製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性基板上に、増感色素を担持した多孔質半導体粒子層からなる光電極層、電解液層および対向電極層をこの順で有する色素増感型太陽電池または光電変換素子の製造方法であって、導電性基板上に多孔質半導体微粒子層を形成する半導体層形成工程、前記多孔質半導体微粒子層を形成した導電性基板と対向電極層を形成した対向電極基板とを封止層を介して貼り合せて電解液注入層を形成する封止工程、5員環環状エーテルを電解液溶媒とし、増感色素と電解質成分からなる色素含有電解液を前記電解液注入層に注入する電解液注入工程、をこの順に行う。 (もっと読む)


【課題】結晶シリコンの表面をパッシベートできる光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電変換素子10は、結晶シリコン基板1と、非晶質膜2と、電極3,6と、パッシベーション膜5とを備える。結晶シリコン基板1は、太陽光の入射方向に突出した凹部1cを含む凹凸構造を一方の表面に有する。結晶シリコン基板1は、太陽光の入射側に拡散領域1a,1bを含む。非晶質膜2は、非晶質相からなり、結晶シリコン基板1の凹部1cを含む凹凸構造に接して形成される。電極3は、結晶シリコン基板1の拡散領域1bに接して形成される。パッシベーション膜5は、結晶シリコン基板1の裏面に接して形成される。電極6は、結晶シリコン基板1の裏面およびパッシベーション膜5に接して形成される。 (もっと読む)


【課題】結晶系太陽電池モジュールの発電性能を安定させる。
【解決手段】複数の結晶系太陽電池セルを準備するセル工程S100と、複数の結晶系太陽電池セルを互いに電気的に接続して結晶系太陽電池モジュールを作製するモジュール工程S120とを備える。モジュール工程S120は、接続前の複数の結晶系太陽電池セルを加熱してこの結晶系太陽電池セルの発電性能に係る特性値を補償する加熱工程S124を含む。 (もっと読む)


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