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国際特許分類[H05K3/44]の内容

国際特許分類[H05K3/44]に分類される特許

21 - 30 / 202


【課題】アクチュエータ素子を接続するための導電性接着剤との電気接続の信頼性を向上させることができるサスペンション用基板を提供する。
【解決手段】サスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10に設けられた金属支持層11と、絶縁層10に設けられ、複数の配線と、接続構造領域に設けられてアクチュエータ素子44に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部16と、を有する配線層12と、を備えている。接続構造領域において、金属支持層11を貫通する金属支持層貫通孔31と、絶縁層10を貫通する絶縁層貫通孔32と、を有し、配線接続部16のアクチュエータ44の側の面を露出させ、導電性接着剤が注入される注入孔30が設けられている。絶縁層貫通孔32の外縁32aは、金属支持層貫通孔31の外縁31aに対応する位置、または、金属支持層貫通孔31の外縁31aより外方の位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】機械的穿孔技術およびレーザー穿孔技術に比べて、ビア形成コストを減少させる製造技術を用いて基材中に固体ブラインドビア、または導電性を高めた構造を形成する方法の提供。
【解決手段】導電性コアを第一除去可能材料でコーティングする工程;該第一除去可能材料中に開口部を作成し、該導電性コアの一部を曝露する工程;該導電性コアの曝露された一部上に導電性材料(34)をめっきする工程;該導電性材料を第二除去可能材料でコーティングする工程;該第一除去可能材料を除去する工程;該導電性コアを誘電コーティングで電気泳動的にコーティングする工程;および、該第二除去可能材料を除去する工程を包含する方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム板と銅めっき皮膜を同時かつ選択的にエッチングするという複雑な加工方法を必要とせず、かつエッチング時に高度な液管理技術も必要がないプリント配線基板及びこのプリント配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】コア用アルミニウム板10と、前記コア用アルミニウム板の少なくとも一方の表面に積層されるプリプレグ21、22と、前記プリプレグ21、22の表面に積層される回路形成用アルミニウム板31、32と、を有するプリント配線基板100において、コア用アルミニウム板10と、プリプレグ21、22と、回路形成用アルミニウム板31、32とを接着積層した積層板の最外層に配置される回路形成用アルミニウム板31、32をめっき工程より先にエッチングして導電パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は高放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属コア100を準備し、該金属コア100に陽極酸化処理(anodizing)を行って第1の絶縁層200を形成し、該第1の絶縁層200の形成された金属コア100に電着塗装(Electro−deposition Coating)を行って第2の絶縁層300を形成し、回路層400を形成する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム基板の上面にアルマイト層を形成した後、配線電極形成を行った場合、配線電極形成のプロセス時に発生する熱等によりアルマイト層の表面にクラック等が発生し、回路基板の絶縁性特性に対して悪影響が生じる。
【解決手段】アルミニウム基板3の上面にシードメタル層4を介して配線電極1を形成した後、所定の配線電極1の幅に対応した時間に応じて陽極酸化処理を行うことにより、配線電極1の下部も含めて、アルミニウム基板3の上層部全域に所定の厚みのアルマイト層を形成した回路基板であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導体薄膜と金属支持層との密着性を向上させることができ、金属接続部の金属支持層からの剥離を有効に防止することのできる配線回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属支持層2を用意し、ベース絶縁層3を、金属支持層2の上に、ベース開口部13が形成されるように形成し、導体薄膜4を、ベース絶縁層3の上と、ベース絶縁層のベース開口部13から露出する金属支持層2の上とに形成し、導体薄膜4を加熱し、導体パターン5を、ベース絶縁層3の上に形成される導体薄膜4の上に形成するとともに、グランド接続部12を、ベース絶縁層3のベース開口部13から露出する金属支持層2の上に形成される導体薄膜4の上に、グランド配線9に連続して形成する。 (もっと読む)


【課題】積層品である配線基板を効率良く生産することが可能な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】銅箔を有する絶縁層を金属コアに重ねたワークWを搬送用PET上フィルム50と搬送用PET下フィルム60との間に挟んで第1ステージ70及び第2ステージ80へ順に搬送し、第1ステージ70でワークWを真空下で加熱・加圧して金属コアに絶縁層を一体化させるラミネート処理を行い、第2ステージ80でラミネート処理を施したワークWを加熱・加圧して絶縁層の表面を平坦化させる平坦化処理を行う配線基板の製造方法であって、第1ステージ70のタクトタイムと第2ステージ80のタクトタイムとを整合させ、第2ステージでの処理と並行して第1ステージでの次のワークWの処理を実行させる。 (もっと読む)


【課題】アルミベース基板を備えたプリント配線板からアルミベース基板部分を分別して回収する方法を提供する。
【解決手段】本発明のアルミベース基板の回収方法は、アルミベース基板2上に、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などのいずれかからなる絶縁層3を介して電子回路4を形成したプリント配線板1を、絶縁層3の樹脂の熱分解開始温度以上アルミの溶融温度未満で加熱する、例えば、200℃以上660℃未満で1秒以上加熱することを特徴とする。
このようにプリント配線板1を加熱すると、アルミベース基板2が絶縁層3から容易に剥離し、効率的にアルミベース基板2を回収することができる。 (もっと読む)


【課題】ワイヤハーネス等との接続が可能な放熱性に優れた配線基板を低コストで容易に製造することができる配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属コア22となる金属板に、接続端子31の固定部32を形成する固定部形成工程と、金属板の端子部形成領域をマスキングテープで覆うマスキング工程と、絶縁層23を金属板に重ねて、真空下で加熱・加圧し、金属板に絶縁層23を一体化させる絶縁層積層工程と、端子部形成領域における絶縁層23と導電層24を除去して金属板を露出させる絶縁層除去工程と、露出させた金属板を加工して接続端子31の端子部33を形成する端子部形成工程と、を含む配線基板11の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】基板の信頼性を向上させる基板構造を提供する。
【解決手段】基板構造は、第1金属基板と、第2金属基板と、フレーム治具と、第1導電層と、第2導電層と、第1接着層と、第2接着層とを備えた基板構造を提供する。第2金属基板は、第1金属基板の上に積み重ねられる。フレーム治具は、第1金属基板および第2金属基板の周囲に配置される。第1接着層は、第1導電層と第1金属基板の間、および第1導電層とフレーム治具の間に配置される。第1導電層は、第1接着層によって、フレーム治具の上表面に固定される。第2接着層は、第2導電層と第2金属基板の間、および第2導電層とフレーム治具の間に配置される。第2導電層は、第2接着層によって、フレーム治具の下表面に固定される。 (もっと読む)


21 - 30 / 202