めっき皮膜、およびめっき皮膜の形成方法。
【課題】金色外観を示すめっき皮膜を、高価なＡｕを用いず、かつ有色塗料の塗布等の煩雑な工程を経ることなく、表層のＳｎめっき膜により得る。
【解決手段】 表層めっき層として、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成し、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理を行う。
【解決手段】 表層めっき層として、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成し、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理を行う。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はめっき皮膜、およびめっき皮膜の形成方法に関するものであり、特に金色外観を与えるめっき皮膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、装飾めっきの一種として、金色外観を与える装飾性の高いめっき皮膜を形成することが求められている。金色外観を得るにはＡｕめっき皮膜を形成することが望ましいが、Ａｕは高価であるという課題がある。
【０００３】
そこで、特許文献１には、高価なＡｕを使用することなく、金色外観を有するめっき皮膜を形成する方法が開示されている。すなわち、基材上に光沢Ｎｉめっき層を形成し、その上にＡｇまたはＳｎの白色めっき層を形成し、更にその上に金色の色調を与えるクリヤーラッカー等の塗料を用いて有色透明途膜を形成する方法が開示されている。この方法により、白色めっき層と有色透明途膜の相乗的作用により、金色外観を有する装飾膜をＡｕを用いずに得ることができる。
【特許文献１】特開平１１−３０１１９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１のようにクリヤーラッカー等の塗料を用いる場合、塗膜の厚みが均一でない場合、金色外観にムラが生じるという課題があった。また、均一な厚みの塗膜を形成するには、塗膜の形成工程が煩雑になるという課題があった。
【０００５】
本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであって、金色外観を有するめっき皮膜を、安価にかつ簡便に得ることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで、本発明のめっき皮膜は、Ａｕを含まず、また有色塗料も含むことなく、少なくとも表層部分のＳｎを主成分とするめっき層により、金色外観を与えるものである。
【０００７】
すなわち、本発明は、基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であるめっき皮膜において、前記めっき皮膜の色度が、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たすことを特徴とするめっき皮膜である。
【０００８】
また、本発明のめっき皮膜は、必要に応じて、Ｎｉを主成分とするめっき層を含んでいてもよい。
【０００９】
本発明のめっき皮膜の形成方法は、以下の２つの形成方法により得られる。
【００１０】
第１の形成方法は、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。電解消費型添加剤としては、アルデヒド基を有する化合物が望ましい。
【００１１】
第２の形成方法は、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｎｉを主成分とするめっき層上にＳｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００１２】
【化１】
【発明の効果】
【００１３】
本発明のめっき皮膜は、金色外観を有し、装飾性に優れるものである。また、Ａｕを含まないため、非常に安価に得ることができる。さらに、本発明のめっき皮膜の形成方法によれば、有色塗料の塗布などの余計な工程を必要としないため、工程が簡便であり、かつ金色外観のばらつきが生じにくい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のめっき皮膜について説明する。
【００１５】
本発明のめっき皮膜は、基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であり、金色外観を示すものである。この本発明のめっき皮膜の色度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において、−５≦ａ*≦５、およびｂ*≧１０を満たす。
【００１６】
また、Ｓｎを主成分とするめっき層の下地として、必要に応じてＮｉを主成分とするめっき層を形成しても構わない。
【００１７】
Ｎｉを主成分とするめっき層とＳｎを主成分とするめっき層は、それぞれＮｉ、Ｓｎを主成分とするものであればよく、本発明の目的を損なわない限り、他の金属成分が入っていてもよく、また、他の金属との合金を形成していても構わない。
【００１８】
また、Ｓｎを主成分とするめっき層と基体の間には、本発明の目的を損なわない限り、他の金属皮膜が存在しても構わない。また、基体の材質としては、本発明の目的を損なわない限り、特に限定されるものではない。
【００１９】
次に、本発明のめっき皮膜の形成方法について説明する。一般に、Ｓｎめっき皮膜は白色または銀色であるが、本発明のめっき皮膜の形成方法によれば、表層がＳｎであるにもかかわらず金色外観を示す。
【００２０】
第１の形成方法は、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００２１】
まず、基体上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する。このＳｎめっきは、通電によってＳｎを析出させる電解めっき法により行う。
【００２２】
Ｓｎめっき液中には、電解消費型添加剤が含まれている必要がある。ここでいう電解消費型添加剤とは、通電により析出金属が析出する際、同時に皮膜中に取り込まれる添加剤をいう。代表的なものに、アルデヒド基を有する化合物がある。アルデヒド基を有する化合物としては、ジメトキシベンズアルデヒド、ベンズアルデヒド、シンナムアルデヒド、クミンアルデヒド、Ｐ−アニスアルデヒドが好ましい。
【００２３】
上記電解消費型化合物の出発素材としては、これらの塩を適宜選択することもできる。また、Ｓｎめっき液中のこれらの電解消費型化合物は、その一部がＳｎを主成分とするめっき層中に混入する。
【００２４】
Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後、２３０〜３５０℃の熱処理を行うことにより、めっき皮膜が変色を起こし、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０の色度となり、金色外観を示すようになる。熱処理温度が２３０℃未満であると、めっき皮膜の変色が不十分であり、３５０℃を超えると、めっき皮膜が黒色化する。また、熱処理時の酸素分圧は、所望の色度を得るうえで、１％〜大気圧程度が望ましい。さらに望ましくは、１５〜２０％がより好ましい。
【００２５】
また、熱処理時には、Ｓｎを主成分とするめっき層上には、他の金属膜や塗膜などは、できる限り付着しないほうがよい。仮にこのような付着物があると、熱処理による変色が阻害される可能性が高い。また、熱処理温度は、好ましい金色外観を得るうえで、２５０〜２７０℃が望ましい。
【００２６】
次に、第２の形成方法について説明する。第２の形成方法は、Ｓｎを主成分とするめっき層の下地としてＮｉを主成分とするめっき層を形成することが前提であり、Ｎｉを主成分とするめっき層の形成方法に特徴がある。
【００２７】
第２の形成方法は、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｎｉを主成分とするめっき層上にＳｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００２８】
【化１】
【００２９】
まず、被めっき物となる基体に、Ｎｉめっきにより、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する。このＮｉめっきは、電解Ｎｉめっきでもよいし、還元剤を用いた無電解めっきであってもよい。
【００３０】
Ｎｉめっき液中には、上述の化合物が含まれている必要がある。具体的には、アミノカルボン酸としては、たとえば、グルタミン酸等があげられる。［化１］に示す官能基をもつ化合物としては、例えばサッカリン、１・５ナフタリンジスルホン酸などが使用可能である。これらの化合物は、出発素材として、それらの適切な塩を選択することもできる。また、Ｎｉめっき液中のこれらの化合物は、その一部が、Ｎｉを主成分とするめっき層中に混入する。
【００３１】
以上のように、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成した後、そのＮｉを主成分とするめっき層の上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成するが、このＳｎめっき層の形成方法は、本発明の目的を損なわない限り、特に限定されるものではない。
【００３２】
Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後、２３０〜３５０℃の熱処理を行うことにより、Ｎｉめっき層中の前記化合物の作用により、めっき皮膜が変色を起こし、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たす色度となり、金色外観を表すようになる。熱処理温度が２３０℃未満であると、めっき皮膜の変色が不十分であり、３５０℃を超えると、めっき皮膜が黒色化する。また、熱処理時の酸素分圧は、所望の色度を得るうえで、１％〜大気圧程度が望ましい。さらに望ましくは、１５〜２０％がより好ましい。
【００３３】
また、熱処理時には、Ｓｎを主成分とするめっき層上には、他の金属膜や塗膜などができる限り付着してないほうがよい。仮にこのような付着物があると、熱処理による変色が阻害される可能性が高い。また、熱処理温度は、良好な金色外観を得るうえで、２５０℃〜２７０℃が望ましい。
【００３４】
以上、本発明の金色外観を示すめっき皮膜の形成方法として、２つの方法について説明した。これら２つの方法は、めっき皮膜形成後に熱処理を行うという点で共通するが、第１の形成方法はＳｎめっき方法に特徴を有する一方、第２の形成方法はＮｉめっき方法に特徴を有するという点で相違する。このうち、いずれの形成方法を用いてもよい。また、両方の形成方法を同時に採用すると、ｂ*の値が正方向にさらに大きくなり、より鮮明な金色外観を得ることができる。
【実施例】
【００３５】
以下、本発明のめっき皮膜、およびその形成方法の実施例について説明する。
【００３６】
［実施例１］ 本実施例は、本発明の第１の形成方法を用いた場合の実施例である。試料は、Ｓｎめっき液、熱処理条件を変化させた試料番号１〜５の５種類を用意した。
【００３７】
被めっき物となる基体として、５ｍｍ×５ｍｍ×０.３ｍｍの板状のＣｕ片を１００個用意した。これらを給電端子と鉄製メディアを有する回転バレル中に投入し、表２に示したＳｎめっき液Ａ、ＢまたはＣに浸漬させた。めっき液Ａ、ＢおよびＣの成分については、表１に示す。
【００３８】
次に、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２０Ａ／ｍ2にて４０分間通電し、基体上に厚み約４μｍのＳｎめっき皮膜を形成した。
【００３９】
次いで、Ｓｎめっき皮膜を形成した基体を、表２に示す条件にて熱処理を施した。熱処理後のめっき皮膜の色度をミノルタ社製色彩色差計ＣＲ−２４１により測定した。結果を表２に示す。比較として、熱処理前のめっき皮膜の色度も併せて示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
全試料において、熱処理前の色度はそれぞれ大差なかったが、熱処理によりめっき皮膜に変色が生じ、その変色の大きさは試料によって差が生じた。試料番号１〜３の試料は、熱処理によって大きく変色し、特にｂ*が大きくなったことにより、金色外観を示した。試料番号４の試料は、熱処理温度が２３０℃未満であったため、十分な変色が生じなかった。また、試料番号５の試料は、Ｓｎめっき皮膜中に電解消費型添加剤が含まれていなかったため、熱処理を施しても十分な変色が生じなかった。
【００４３】
［実施例２］ 本実施例は、本発明の第２の形成方法を用いた場合の実施例である。試料は、Ｎｉめっき液、Ｓｎめっき液、熱処理条件を変化させた試料番号１１〜１６の６種類を用意した。
【００４４】
被めっき物となる基体として、５ｍｍ×５ｍｍ×０.３ｍｍの板状のＣｕ片を１００個用意した。これらを給電端子と鉄製メディアを有する回転バレル中に投入し、表５に示したＮｉめっき液に浸漬させた。Ｎｉめっき液の成分については表３に示す。
【００４５】
次に、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２Ａ／ｍ2にて４５分間通電し、基体上に厚み約３.５μｍのＮｉめっき皮膜を形成した。
【００４６】
次いで、前記Ｎｉめっき皮膜を形成した基体を表５に示すＳｎめっき液に浸漬させた。Ｓｎめっき液の成分については表４または表１に示す。そして、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２Ａ／ｍ2にて４０分間通電し、厚み約４μｍのＳｎめっき皮膜を形成した。
【００４７】
次に、Ｎｉめっき層およびＳｎめっき層の形成された基体を、表５に示す温度、酸素分圧により、熱処理を施した。熱処理後のめっき皮膜の色度をミノルタ社製色彩色差計ＣＲ−２４１により測定した。結果を表５に示す。比較として、熱処理前のめっき皮膜の色度も併せて示す。
【００４８】
【表３】
【００４９】
【表４】
【００５０】
【表５】
【００５１】
全試料において、熱処理前の色度はそれぞれ大差なかったが、熱処理により変色が生じ、その変色の大きさは試料によって差が生じた。試料番号１１〜１３の試料は、熱処理によって大きく変色し、特にｂ*が大きくなったことにより、金色外観を示すようになった。試料番号１４の試料は、Ｎｉめっき液中に必要な有機化合物が含まれていなかったため、十分な変色が生じなかった。また、試料番号１５の試料は、熱処理温度が２３０℃未満であったため、十分な変色が生じなかった。なお、試料番号１６の試料は、さらにＳｎめっき液が電解消費型添加剤を含んでいたため、より金色の鮮やかな皮膜が得られた。
【技術分野】
【０００１】
本発明はめっき皮膜、およびめっき皮膜の形成方法に関するものであり、特に金色外観を与えるめっき皮膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、装飾めっきの一種として、金色外観を与える装飾性の高いめっき皮膜を形成することが求められている。金色外観を得るにはＡｕめっき皮膜を形成することが望ましいが、Ａｕは高価であるという課題がある。
【０００３】
そこで、特許文献１には、高価なＡｕを使用することなく、金色外観を有するめっき皮膜を形成する方法が開示されている。すなわち、基材上に光沢Ｎｉめっき層を形成し、その上にＡｇまたはＳｎの白色めっき層を形成し、更にその上に金色の色調を与えるクリヤーラッカー等の塗料を用いて有色透明途膜を形成する方法が開示されている。この方法により、白色めっき層と有色透明途膜の相乗的作用により、金色外観を有する装飾膜をＡｕを用いずに得ることができる。
【特許文献１】特開平１１−３０１１９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１のようにクリヤーラッカー等の塗料を用いる場合、塗膜の厚みが均一でない場合、金色外観にムラが生じるという課題があった。また、均一な厚みの塗膜を形成するには、塗膜の形成工程が煩雑になるという課題があった。
【０００５】
本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであって、金色外観を有するめっき皮膜を、安価にかつ簡便に得ることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで、本発明のめっき皮膜は、Ａｕを含まず、また有色塗料も含むことなく、少なくとも表層部分のＳｎを主成分とするめっき層により、金色外観を与えるものである。
【０００７】
すなわち、本発明は、基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であるめっき皮膜において、前記めっき皮膜の色度が、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たすことを特徴とするめっき皮膜である。
【０００８】
また、本発明のめっき皮膜は、必要に応じて、Ｎｉを主成分とするめっき層を含んでいてもよい。
【０００９】
本発明のめっき皮膜の形成方法は、以下の２つの形成方法により得られる。
【００１０】
第１の形成方法は、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。電解消費型添加剤としては、アルデヒド基を有する化合物が望ましい。
【００１１】
第２の形成方法は、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｎｉを主成分とするめっき層上にＳｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００１２】
【化１】
【発明の効果】
【００１３】
本発明のめっき皮膜は、金色外観を有し、装飾性に優れるものである。また、Ａｕを含まないため、非常に安価に得ることができる。さらに、本発明のめっき皮膜の形成方法によれば、有色塗料の塗布などの余計な工程を必要としないため、工程が簡便であり、かつ金色外観のばらつきが生じにくい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のめっき皮膜について説明する。
【００１５】
本発明のめっき皮膜は、基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であり、金色外観を示すものである。この本発明のめっき皮膜の色度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において、−５≦ａ*≦５、およびｂ*≧１０を満たす。
【００１６】
また、Ｓｎを主成分とするめっき層の下地として、必要に応じてＮｉを主成分とするめっき層を形成しても構わない。
【００１７】
Ｎｉを主成分とするめっき層とＳｎを主成分とするめっき層は、それぞれＮｉ、Ｓｎを主成分とするものであればよく、本発明の目的を損なわない限り、他の金属成分が入っていてもよく、また、他の金属との合金を形成していても構わない。
【００１８】
また、Ｓｎを主成分とするめっき層と基体の間には、本発明の目的を損なわない限り、他の金属皮膜が存在しても構わない。また、基体の材質としては、本発明の目的を損なわない限り、特に限定されるものではない。
【００１９】
次に、本発明のめっき皮膜の形成方法について説明する。一般に、Ｓｎめっき皮膜は白色または銀色であるが、本発明のめっき皮膜の形成方法によれば、表層がＳｎであるにもかかわらず金色外観を示す。
【００２０】
第１の形成方法は、Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００２１】
まず、基体上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する。このＳｎめっきは、通電によってＳｎを析出させる電解めっき法により行う。
【００２２】
Ｓｎめっき液中には、電解消費型添加剤が含まれている必要がある。ここでいう電解消費型添加剤とは、通電により析出金属が析出する際、同時に皮膜中に取り込まれる添加剤をいう。代表的なものに、アルデヒド基を有する化合物がある。アルデヒド基を有する化合物としては、ジメトキシベンズアルデヒド、ベンズアルデヒド、シンナムアルデヒド、クミンアルデヒド、Ｐ−アニスアルデヒドが好ましい。
【００２３】
上記電解消費型化合物の出発素材としては、これらの塩を適宜選択することもできる。また、Ｓｎめっき液中のこれらの電解消費型化合物は、その一部がＳｎを主成分とするめっき層中に混入する。
【００２４】
Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後、２３０〜３５０℃の熱処理を行うことにより、めっき皮膜が変色を起こし、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０の色度となり、金色外観を示すようになる。熱処理温度が２３０℃未満であると、めっき皮膜の変色が不十分であり、３５０℃を超えると、めっき皮膜が黒色化する。また、熱処理時の酸素分圧は、所望の色度を得るうえで、１％〜大気圧程度が望ましい。さらに望ましくは、１５〜２０％がより好ましい。
【００２５】
また、熱処理時には、Ｓｎを主成分とするめっき層上には、他の金属膜や塗膜などは、できる限り付着しないほうがよい。仮にこのような付着物があると、熱処理による変色が阻害される可能性が高い。また、熱処理温度は、好ましい金色外観を得るうえで、２５０〜２７０℃が望ましい。
【００２６】
次に、第２の形成方法について説明する。第２の形成方法は、Ｓｎを主成分とするめっき層の下地としてＮｉを主成分とするめっき層を形成することが前提であり、Ｎｉを主成分とするめっき層の形成方法に特徴がある。
【００２７】
第２の形成方法は、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｎｉを主成分とするめっき層上にＳｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする。
【００２８】
【化１】
【００２９】
まず、被めっき物となる基体に、Ｎｉめっきにより、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する。このＮｉめっきは、電解Ｎｉめっきでもよいし、還元剤を用いた無電解めっきであってもよい。
【００３０】
Ｎｉめっき液中には、上述の化合物が含まれている必要がある。具体的には、アミノカルボン酸としては、たとえば、グルタミン酸等があげられる。［化１］に示す官能基をもつ化合物としては、例えばサッカリン、１・５ナフタリンジスルホン酸などが使用可能である。これらの化合物は、出発素材として、それらの適切な塩を選択することもできる。また、Ｎｉめっき液中のこれらの化合物は、その一部が、Ｎｉを主成分とするめっき層中に混入する。
【００３１】
以上のように、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成した後、そのＮｉを主成分とするめっき層の上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成するが、このＳｎめっき層の形成方法は、本発明の目的を損なわない限り、特に限定されるものではない。
【００３２】
Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後、２３０〜３５０℃の熱処理を行うことにより、Ｎｉめっき層中の前記化合物の作用により、めっき皮膜が変色を起こし、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たす色度となり、金色外観を表すようになる。熱処理温度が２３０℃未満であると、めっき皮膜の変色が不十分であり、３５０℃を超えると、めっき皮膜が黒色化する。また、熱処理時の酸素分圧は、所望の色度を得るうえで、１％〜大気圧程度が望ましい。さらに望ましくは、１５〜２０％がより好ましい。
【００３３】
また、熱処理時には、Ｓｎを主成分とするめっき層上には、他の金属膜や塗膜などができる限り付着してないほうがよい。仮にこのような付着物があると、熱処理による変色が阻害される可能性が高い。また、熱処理温度は、良好な金色外観を得るうえで、２５０℃〜２７０℃が望ましい。
【００３４】
以上、本発明の金色外観を示すめっき皮膜の形成方法として、２つの方法について説明した。これら２つの方法は、めっき皮膜形成後に熱処理を行うという点で共通するが、第１の形成方法はＳｎめっき方法に特徴を有する一方、第２の形成方法はＮｉめっき方法に特徴を有するという点で相違する。このうち、いずれの形成方法を用いてもよい。また、両方の形成方法を同時に採用すると、ｂ*の値が正方向にさらに大きくなり、より鮮明な金色外観を得ることができる。
【実施例】
【００３５】
以下、本発明のめっき皮膜、およびその形成方法の実施例について説明する。
【００３６】
［実施例１］ 本実施例は、本発明の第１の形成方法を用いた場合の実施例である。試料は、Ｓｎめっき液、熱処理条件を変化させた試料番号１〜５の５種類を用意した。
【００３７】
被めっき物となる基体として、５ｍｍ×５ｍｍ×０.３ｍｍの板状のＣｕ片を１００個用意した。これらを給電端子と鉄製メディアを有する回転バレル中に投入し、表２に示したＳｎめっき液Ａ、ＢまたはＣに浸漬させた。めっき液Ａ、ＢおよびＣの成分については、表１に示す。
【００３８】
次に、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２０Ａ／ｍ2にて４０分間通電し、基体上に厚み約４μｍのＳｎめっき皮膜を形成した。
【００３９】
次いで、Ｓｎめっき皮膜を形成した基体を、表２に示す条件にて熱処理を施した。熱処理後のめっき皮膜の色度をミノルタ社製色彩色差計ＣＲ−２４１により測定した。結果を表２に示す。比較として、熱処理前のめっき皮膜の色度も併せて示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
全試料において、熱処理前の色度はそれぞれ大差なかったが、熱処理によりめっき皮膜に変色が生じ、その変色の大きさは試料によって差が生じた。試料番号１〜３の試料は、熱処理によって大きく変色し、特にｂ*が大きくなったことにより、金色外観を示した。試料番号４の試料は、熱処理温度が２３０℃未満であったため、十分な変色が生じなかった。また、試料番号５の試料は、Ｓｎめっき皮膜中に電解消費型添加剤が含まれていなかったため、熱処理を施しても十分な変色が生じなかった。
【００４３】
［実施例２］ 本実施例は、本発明の第２の形成方法を用いた場合の実施例である。試料は、Ｎｉめっき液、Ｓｎめっき液、熱処理条件を変化させた試料番号１１〜１６の６種類を用意した。
【００４４】
被めっき物となる基体として、５ｍｍ×５ｍｍ×０.３ｍｍの板状のＣｕ片を１００個用意した。これらを給電端子と鉄製メディアを有する回転バレル中に投入し、表５に示したＮｉめっき液に浸漬させた。Ｎｉめっき液の成分については表３に示す。
【００４５】
次に、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２Ａ／ｍ2にて４５分間通電し、基体上に厚み約３.５μｍのＮｉめっき皮膜を形成した。
【００４６】
次いで、前記Ｎｉめっき皮膜を形成した基体を表５に示すＳｎめっき液に浸漬させた。Ｓｎめっき液の成分については表４または表１に示す。そして、回転速度２４rpm.で回転させながら、電流密度２Ａ／ｍ2にて４０分間通電し、厚み約４μｍのＳｎめっき皮膜を形成した。
【００４７】
次に、Ｎｉめっき層およびＳｎめっき層の形成された基体を、表５に示す温度、酸素分圧により、熱処理を施した。熱処理後のめっき皮膜の色度をミノルタ社製色彩色差計ＣＲ−２４１により測定した。結果を表５に示す。比較として、熱処理前のめっき皮膜の色度も併せて示す。
【００４８】
【表３】
【００４９】
【表４】
【００５０】
【表５】
【００５１】
全試料において、熱処理前の色度はそれぞれ大差なかったが、熱処理により変色が生じ、その変色の大きさは試料によって差が生じた。試料番号１１〜１３の試料は、熱処理によって大きく変色し、特にｂ*が大きくなったことにより、金色外観を示すようになった。試料番号１４の試料は、Ｎｉめっき液中に必要な有機化合物が含まれていなかったため、十分な変色が生じなかった。また、試料番号１５の試料は、熱処理温度が２３０℃未満であったため、十分な変色が生じなかった。なお、試料番号１６の試料は、さらにＳｎめっき液が電解消費型添加剤を含んでいたため、より金色の鮮やかな皮膜が得られた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であるめっき皮膜において、
前記めっき皮膜の色度が、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たすことを特徴とする、めっき皮膜。
【請求項２】
少なくともＮｉを主成分とするめっき層を含む、請求項１に記載のめっき皮膜。
【請求項３】
請求項１または２に記載のめっき皮膜の形成方法であって、
Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする、めっき皮膜の形成方法。
【請求項４】
前記電解消費型添加剤が、アルデヒド基を含む、請求項３に記載のめっき皮膜の形成方法。
【請求項５】
請求項２に記載のめっき皮膜の形成方法であって、
基体上に、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｎｉを主成分とするめっき層上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする、めっき皮膜の形成方法。
【化１】
【請求項１】
基体上に形成された、少なくとも表層がＳｎを主成分とするめっき層であるめっき皮膜において、
前記めっき皮膜の色度が、Ｌ*ａ*ｂ*表色系において−５≦ａ*≦５、ｂ*≧１０を満たすことを特徴とする、めっき皮膜。
【請求項２】
少なくともＮｉを主成分とするめっき層を含む、請求項１に記載のめっき皮膜。
【請求項３】
請求項１または２に記載のめっき皮膜の形成方法であって、
Ｓｎイオン、および電解消費型添加剤を有する化合物を含むめっき液を用いて、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする、めっき皮膜の形成方法。
【請求項４】
前記電解消費型添加剤が、アルデヒド基を含む、請求項３に記載のめっき皮膜の形成方法。
【請求項５】
請求項２に記載のめっき皮膜の形成方法であって、
基体上に、Ｎｉイオン、ならびに、アミノカルボン酸、アミノアルコール、および［化１］に示される官能基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含むめっき液を用いて、Ｎｉを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｎｉを主成分とするめっき層上に、Ｓｎを主成分とするめっき層を形成する工程と、
前記Ｓｎを主成分とするめっき層を形成した後に、２３０〜３５０℃の温度にて熱処理する工程とを備えることを特徴とする、めっき皮膜の形成方法。
【化１】
【公開番号】特開２００７−８４８５７（Ｐ２００７−８４８５７Ａ）
【公開日】平成１９年４月５日（２００７．４．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２７２４８６（Ｐ２００５−２７２４８６）
【出願日】平成１７年９月２０日（２００５．９．２０）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月５日（２００７．４．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２０日（２００５．９．２０）
【出願人】（０００００６２３１）株式会社村田製作所 (3,635)
【Ｆターム（参考）】
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