クリーンドラフトと処理用容器と処理装置
【課題】 簡易な構成で、室内に設置され科学機材を用いることをできるクリーンドラフトを提供しようとする。
【解決手段】
従来の室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトにかわって、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を備えるものとした。
【解決手段】
従来の室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトにかわって、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を備えるものとした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトと内部で試料を科学処理させるための処理用容器とそれらを組み合わせた処理装置とに係る。特に、内部に流れる気体の流路の構成に特徴のあるクリーンドラフトと処理用容器と処理装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
科学機材を用いるのに室内に設置されたクリーンドラフトを用いる。
例えば、半導体の製造設備や検査設備において、クリーンルーム内に設置されるクリーンドラフトが用いられる。
半導体用の基板を化学処理させるために、処理容器をクリーンドラフト内に設置して、処理容器により基板を化学処理する。
化学処理する際に、処理容器からかならずしも人体に無害でないガス等がもれることがある。
一般的に、クリーンドラフトの内部の気圧を室内の気圧よりも低くして、さらに、気体の流れをクリーンドラフトの内部につくる。そのため、室内の雰囲気が、クリーンドラフトの内部に流れ込む。
化学処理等を、高度なクリン度を保った雰囲気中で行いたい場合がある。
その様な場合、クリーンベンチとしての機能をもったクリーンドラフトをクリーンルーム内に設置して用いる。
【０００３】
クリーンルーム内の雰囲気は、クリーンドラフトの天井に設けられたフィルタを通過して、クリーンドラフトの内部に流れる。
しかし、クリーンルーム内の雰囲気が、クリーンドラフトに存在する隙間からもクリーンドラフト内へ進入する。特に、クリーンドラフトに室内の雰囲気に連通する扉のついた開口部が設けられている場合、扉をあけると、室内の雰囲気がクリーンドラフト内へ侵入する。
化学処理に要求されるクリーン度がクリーンルーム内のクリーン度よりも高い場合には、この様なクリーンドラフトでは要求させるクリーン度を維持できなかった。
仮に、クリーンドラフトの内部の圧力を室内の圧力よりも高くすると、クリーンドラフト内のクリーン度を高く維持することが容易になるが、クリーンドラフト内の雰囲気が室内に漏れてしまうという不具合が想定される。
【０００４】
例えば、半導体や液晶の製造設備や検査設備において、基板処理装置が使用される。
基板処理装置は、基板を検査するために前処理をする装置である。例えば、基板は、半導体ウエハー、液晶基板等の基板である。半導体ウエハーは、シリコン、ガリウム、炭化ケイ素等のウエハーである。
基板処理査装置は、基板のコンタミネーションを防止するために、簡易で確実な機構が要求される。
また、一部の基板処理装置が、半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜の中の、超微量金属元素（例えば、ナトリウム、カリウム、鉄等）の不純物の量を正確に測定する前処理に用いられる。この基板処理装置では、基板を正確に位置決めすることが、不純物の量を正確に測定するために重要である。
【０００５】
半導体ウエハーの表面の不純物を正確に測定する目的とその方法を簡単に説明する。
半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜中に、不純物が含まれていいると、その不純物の量が微量であっても、半導体素子の電気的特性に大きな影響を与える。
従って、半導体素子の製造設備において、ウエハー表面から不純物の混入をできる限り抑制することが要請されている。
そのために、半導体ウエハーの表面に存在する不純物の量を正確に測定することが行われている。
最近、ウエハー表面に存在する不純物の量を測定するのに用いられていた二次イオン質量分析法やオージェ分光分析法や中性子放射化分析法に代わって、ふっ化物溶液を持ちいて、不純物の量を測定する。例えば、ふっ化物溶液はＨＦ（ふっ化水素）水溶液である。
シリコンウエハーの表面の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解する処理をおこなった後で、そのＨＦ（ふっ化水素）水溶液を捕集して、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液中の不純物を分析することが行われる。捕集したＨＦ（ふっ化水素）水溶液の量が少なくすると、不純物の濃度が高くなり、測定精度が向上するという特徴を有する。
【０００６】
基板の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解する薄膜溶解法は、種々提唱されており、その代表的なものとして、気相分解法（ＶＰＤ）と液滴分解法（ＤＡＤＤ）がある。
気相分解法（ＶＰＤ）では、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気に基板を曝し、基板の酸化層を溶解する。
液滴分解法（ＤＡＤＤ）では、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液を滴下し、液滴により基板の酸化膜を溶解する。
その後で、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液またはＨＦ・Ｈ２О２混合水の液滴を滴下し、その液滴を基板の表面に付着したまま移動する。液滴に酸化膜の中の不純物が捕集される。その液滴中の不純物の量を計測することにより、基板表面の不純物の量を検査する。
【０００７】
クリーンルームに据え付けられたクリーンドラフトの内部で、上記の気相分解法（ＶＰＤ）や液滴分解法（ＤＡＤＤ）を用いて、基板を処理する際には、クリーンドラフトの内部の気体をクリーンルームへ洩らさず、クリーンルーム内のクリーン度の低い雰囲気を直接にクリーンドラフトへ入れないようにすることを要請される。
【０００８】
【特許文献１】特開平０２−２７２３５９号
【特許文献２】特開平０２−０２８５３３号
【特許文献３】特開平０８−２３３７０９号
【特許文献４】特開平０２−２２９４２８号
【特許文献５】特開２００１−２０５１１０号
【特許文献６】特開２００５−０３８９５０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、簡易な構成で、室内に設置され科学機材を用いることをできるクリーンドラフトと内部で試料を化学処理させることをできる処理用容器と室内に設置され試料を化学処理させることをできる処理装置とを提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトを、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を備えるものとした。
【００１１】
上記本発明の構成により、架台の下部構造が、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する。フードが、前記作業空間の側部と上部とを覆い、横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられる。間に隙間空間を挟んだ二重扉が、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき。吸気配管系が、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する。第一排気配管系が、前記作業空間の中の気体を排気する。第二排気配管系が、前記隙間空間の中の気体を排気する。
その結果、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
【００１２】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかのクリーンドラフトを説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００１３】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記第一排気配管系が前記作業空間の中の気体を下方へ排気し、前記第二排気配管系が前記隙間空間の中の気体を下方へ排気する。
上記実施形態の構成により、作業空間の中の気体が下方へ排気されれ、前記隙間空間の中の気体が下方へ排気される。その結果、二重扉が前記開口部を開放すると、作業空間の気体が作業面へ下がって排気され、また作業空間の気体が隙間空間を経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間を経由して排気されるので、作業空間の気体が室内に流れるのを抑制する。
【００１４】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記下部構造が前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みを形成し、前記第一排気配管系が前記第一窪みの中の気体を排気する。
上記実施形態の構成により、作業空間の下側が作業面と前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みで形作られ、前記第一窪みの中の気体を排気する。その結果、作業空間の中の気体が、作業面へ下がって第一窪みに入り、第一排気配管系を経由して排気される。
【００１５】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記下部構造が前記隙間空間に連通し前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みを形成し、前記第二排気配管系が前記第二窪みの中の気体を排気する。
上記実施形態の構成により、隙間空間の下部に繋がる空間が前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みで形成され、前記第二窪みの中の気体を排気する、その結果、前記隙間空間の中の気体が、開口部の最も低い箇所へ下がって第二窪みに入り、第二排気配管系を経由して排気される。
【００１６】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記吸気配管系が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する吸気配管と前記吸気配管の途中に設けられ前記作業空間の側へ送気する送風機とを有する。
上記実施形態の構成により、送風機が途中に設けられた吸気配管が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する。その結果、室内の雰囲気を加圧して作業空間へ送気することをできる。
【００１７】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整可能である。
上記実施形態の構成により、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整される。その結果、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
【００１８】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御される。
上記実施形態の構成により、前記送風機の送気する圧力又は風量が制御され、前記作業空間の圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする。その結果、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
【００１９】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面に流れる液体を排出する排液配管と前記第一窪みへ液体が流れないための仕切り板とを有する。
上記実施形態の構成により、排水配管が前記作業面に流れる液体を排水しても、仕切り板により前記第一窪みへ液体が流れない。その結果、作業空間を簡易に洗浄できる。
【００２０】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記作業面が前記開口部の最も低い箇所より低い位置に形成され、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記開口部の最も低い箇所より低い位置に科学機材を搭載可能な作業面が形成される。前記作業空間の内部の気体が前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気される。その結果、作業面に搭載された科学機材の付近の気体が、開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２１】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記上板構造の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気される。
【００２２】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材と前記床板材の高さを調整する調整部材とを有し、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記作業面の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。床板材の高さを調整可能である。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の高さを調整すると、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２３】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、前記床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低く、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記上板構造の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低い。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２４】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記科学機材を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を有し、第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する。
上記実施形態の構成により、前記作業空間が分離板により前記科学機材を収納する下部作業空間とその上に位置する上部作業空間に区画される。前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される。その結果、科学機材の付近の気体が上部作業空間に流れるのを抑制できる。
【００２５】
上記目的を達成するため、本発明に係る内部で試料を化学処理させるための処理用容器を、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内される扉と、を備え、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する、ものとした。
【００２６】
上記本発明の構成により、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられた容器ケーシングが前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する。所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有する扉が垂直方向に昇降自在に案内される。前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。その結果、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
【００２７】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかの処理用容器を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００２８】
さらに、本発明の実施形態に係る処理用容器は、前記容器ケーシングが前記出入口部の上方に設けられた前記扉の上部がくい込むことをできる被くい込み部を有し、前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。
上記実施形態の構成により、前記扉の上部が前記容器ケーシングの前記出入口部の上方に設けられた被くい込み部にくい込むことをできる。前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。その結果、前記扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、前記接合面と前記被接合面との気密が確実になる。
【００２９】
さらに、本発明の実施形態に係る処理用容器は、前記扉を垂直に昇降させるアクチエータと前記アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した貯留槽と前記アクチエータを上方から覆うアクチエータ覆いとを有する扉昇降機器を備え、前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬る。
上記実施形態の構成により、アクチエータが前記扉を垂直に昇降させる。前記アクチエータの全周を囲って設けられる貯留槽が液体を貯留する。アクチエータ覆いが前記アクチエータを上方から覆う。前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬っている。その結果、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００３０】
上記目的を達成するため、本発明に係る室内に設置され試料を化学処理させるための処理装置を、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内された扉と、を有し、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する処理用容器と、前記処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を持つ架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を有するクリーンドラフトと、を備えるものとした。
【００３１】
上記本発明の構成により、処理用容器が容器ケーシングと扉とを有する。化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられた容器ケーシングが、前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を有する。垂直方向に昇降自在に案内される扉が、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有する。前記扉を上昇させると前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。クリーンドラフトが作業台とフードと二重扉と吸気配管系と第一排気配管系と第二排気配管系とを有する。架台の下部構造が処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する。横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードが、前記作業空間の側部と上部とを覆う。間に隙間空間を挟んだ二重扉が、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをできる。吸気配管系が、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する。第一排気配管系が、前記作業空間の中の気体を排気する。第二排気配管系が、前記隙間空間の中の気体を排気する。
その結果、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると出入口部の前面が開放され、試料の出し入れが容易にできる。前記扉昇降機器が前記扉を下降させると出入口部が開き、内部に気体が作業空間に漏れるが、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
【００３２】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかの処理装置を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００３３】
さらに、本発明の実施形態に係る処理装置は、前記架台が前記処理用容器を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を持ち、第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する。
上記実施形態の構成により、前記処理用容器を上方から被う分離板が、前記作業空間を上部作業空間と下部作業空間とに区画する。前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される。その結果、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間へ流れるのを抑制できる。
【００３４】
さらに、本発明の実施形態に係る検査装置は、前記分離板が略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延びている。
上記実施形態の構成により、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間に流れにくく、開口部を経由して室内に流れるのを抑制できる。
【発明の効果】
【００３５】
以上説明したように本発明に係るクリーンドラフトは、その構成により、以下の効果を有する。
架台の下部構造の上方の作業空間をフードで覆い、間に隙間空間を挟んだ二重扉でフードの側面に設けられた開口部を開閉し、室内の雰囲気を作業空間に案内し、前記作業空間の中の気体を外部に排気し、前記隙間空間の中の気体を外部に排気する様にしたので、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
また、作業空間の中の気体を下方に排気し、前記隙間空間の中の気体を下方に排気する様にしたので、二重扉が前記開口部を開放すると、作業空間の気体が上板構造へ下がって排気され、また作業空間の気体が隙間空間を経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間を経由して排気されるので、室内の雰囲気が作業空間のへ流れるのを抑制し、作業空間の気体が室内に流れるのを抑制する。
また、作業空間の下部が前記作業面と下方に凹んだ第一窪みとで覆われ、前記第一窪みの中の気体を排気する様にしたので、作業空間の中の気体が、作業面へ下がって第一窪みに入り、第一排気配管系を経由して排気される。
また、隙間空間の下方に前記開口部よりも下方に凹んだ第二窪みが形成され、前記第二窪みの中の気体を排気する様にしたので、前記隙間空間の中の気体が、第二窪みに入り、第二排気配管系を経由して排気される。
また、送風機を途中に設けられた吸気配管が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する様にしたので、室内の雰囲気を加圧して作業空間へ送気することをできる。
また、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整される様にしたので、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
また、前記送風機の送気する圧力又は風量が指定値に基づいて制御される様にしたので、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
また、作業台の仕切り板により作業面に流す液体が前記第一窪みへ液体が流れない様にしたので、作業空間を簡易に洗浄できる。
また、前記開口部より低い位置に科学機材を搭載可能な作業面を形成し、前記作業空間の内部の気体を前記開口部より下方から排気する様にしたので、搭載された科学機材の付近の気体が、開口部へ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気される。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の高さを調整すると、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、床板材の上面の高さを前記開口部より低くし前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
また、前記作業空間を分離板により前記科学機材を収納する下部作業空間と上部作業空間とに区画し、前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される様にしたので、科学機材の付近の気体が上部作業空間に流れるのを抑制できる。
【００３６】
以上説明したように本発明に係る処理用容器は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシングの前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を設け、扉に所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を設け、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する様にしたので、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉昇降機器が前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
また、被くい込み部を容器ケーシンの出入口部の上方に設け、前記扉昇降機器が前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する様にしたので、前記扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、前記接合面と前記被接合面との気密が確実になる。
また、垂直に昇降させるアクチエータの周囲に水封機構を設けたので、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００３７】
以上説明したように本発明に係る処理装置は、その構成により、以下の効果を有する。
容器のケーシングの前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を設け、扉に所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を設け、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する様にして、架台に搭載した処理用容器を収納する作業空間をフードで覆い、フードの側面に設けられた開口部を間に隙間空間を挟んだ二重扉で開閉し、室内の雰囲気を作業空間に案内し、前記作業空間の中の気体を排気し、前記隙間空間の中の気体を排気する様にしたので、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れが容易にできる。容器ケーシングの内部の気体が作業空間に漏れる場合に、二重扉が前記開口部を閉止していれば、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
また、前記処理用容器を上方から被う分離板が、前記作業空間を上部作業空間と下部作業空間とに区画し、前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される様にしたので、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間へ流れるのを抑制できる。
また、分離板を略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延ばしたので、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間に流れにくく、開口部を経由して室内に流れるのを抑制できる。
従って、簡易な構造と方法とで測定精度をより向上させることのできるクリーンドラフトと処理用容器と処理装置とを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
【００３９】
図１は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの正面図である。図２は、本本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。図３は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＢ−Ｂ断面図である。図４は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＣ−Ｃ断面図である。図５は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。図６は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＥ−Ｅ断面図である。
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０とで構成される。
【００４０】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５とで構成される。
下部構造１０ａは、科学機材５を収納可能な作業空間Ｈの下側を覆う作業面１１を形成する。
上部構造１０ｂは、後述するフード２０や二重扉３０や吸気配管系４０を支持する構造体である。
作業面１１が、後述する開口部Ｗの最も低い箇所より低い位置に形成されてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、作業面１１が、開口部Ｗの下辺より低い位置に形成される。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、作業面１１が下桟２３よりも低い位置に設けられる。
架台１０が、作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成してもよい。
例えば、第一窪み１２は、作業面１１の奥側に設けられ、左右方向に長く深い溝形の窪みである。
架台１０が、後述する隙間空間Ｓに連通し開口部Ｗの最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪み１３を形成してもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合、第二窪み１３は、開口の下辺の二重扉に挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、第二窪み１３は、第一扉３１の下桟と第二扉３２の下桟とに挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
排液配管１５は、作業面に流れる液体を排出する配管である。
仕切り板１４は、第一窪み１２へ液体が流れないための板である。たとえば、仕切り板１４は、第一窪みを囲んで作業面１１に設けられた堰用の板または盛り上がり部である。
【００４１】
フード２０は、作業空間Ｈの側部と上部とを覆い、横側に作業空間Ｈと室内とを連通可能な開口部Ｗを設けられたものである。
例えば、フード２０は、側板２１と天井板２２と構成される。
側板２１は、作業空間Ｈの側部を覆う。
天井板２２は、作業空間Ｈの上部を覆う。
側板２１と天井板２２とは、上部構造１０ｂに支持される。
二重扉３０は、開口部Ｗを各々に閉止しまたは開放することをでき、間に隙間空間Ｓを挟んだ扉であり、第一扉３１と第二扉３２とで構成される。
例えば、開口部Ｗが略矩形の形状を有し、第一扉３１と第二扉３２とは複数に分割された引き戸形式の扉である。第一扉３１と第二扉３２とは、下桟２３と上桟２４のガイド溝にはまって横方向にスライドできる。
隙間空間Ｓは、第一扉３１と第二扉３２とで挟まれた空間である。
【００４２】
吸気配管系４０は、室内の雰囲気を作業空間の中に案内する配管計である。
吸気配管系４０は、室内の雰囲気を作業空間の中に上方から案内する配管系であってもよい。
例えば、吸気配管系４０は、吸気配管４１と送風機４２とフィルタ４３とで構成され、作業空間Ｈに上側に設けられる。
吸気配管４１は、室内の雰囲気と作業空間Ｈとを連通する配管である。
例えば、吸気配管４１は、一方を室内に開放し他方をブロアの吸い込み口に連通した第一吸気配管とブロアの吐出口に連通し吐出口を天井板２２に開放した略６面体の箱形状の第二吸気配管とで構成される。
送風機４２は、吸気配管の途中に設けられ作業空間Ｈの側へ送気する装置である。
例えば、送風機４２は、ブロアである。
フィルタ４３は、吸気配管４１により作業空間Ｈへ案内される気体を濾す装置である。
例えば、フィルタ４３は、吸気配管４１の吐出口に設けられたヘパフィルタである。
ブロアが作動すると、室内の雰囲気が第一吸気配管に案内されて、ブロアで加圧されて、第二吸気配管４１の内部に入る。第二吸気配管４１に入った雰囲気は、ヘパフィルタ４３を通過して、クリーン度の向上した気体となり、作業空間Ｈに上方から吹き込まれる。気体は、作業空間Ｈをダウンフローとなって、流れる。
【００４３】
送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力に応じて調整可能であってもよい。
例えば、ブロアの回転数を設定できる回転制御装置と、作業空間の圧力を確認できる圧力計が設けられる。
圧力計は、作業空間の圧力と室内の雰囲気を圧力の差圧を測定し表示する計器であってもよい。
捜査員が、圧力計の表示を見て、回転制御装置によりブロアの回転数を設定する。
この様にすると、捜査員は、作業空間Ｈの圧力を所望の値に設定できる。
例えば、捜査員は作業空間の圧力を設定し、作業空間Ｈと室内の雰囲気の差圧をゼロにできる。
例えば、捜査員は作業空間の圧力を設定し、作業空間Ｈの圧力が室内の圧力に比べで微小な負圧になる様にすることをできる。
【００４４】
送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御されてもよい。
例えば、ブロアの回転数を設定できる回転制御装置と、作業空間の圧力を確認できる圧力計が設けられる。
例えば、回転制御装置は、圧力計の測定した圧力値を基に、作業空間Ｈの圧力を所定の指令値にする様に、ブロアの回転数をフィードバック制御する。
例えば、作業空間Ｈと室内の雰囲気の差圧がゼロにする。
例えば、作業空間Ｈの圧力が室内の圧力に比べで微小な負圧になる様にする。
また、二重扉が開口部を開放したことを検知して送風機４２の送気する圧力又は風量を一定値に固定し、二重扉が開口部を閉止したことを検知して送風機４２の送気する圧力又は風量を作業空間Ｈの圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御してもよい。
二重扉の位置を検知することにより、二重扉が開口部を開放または閉止することを検知してもよい。
【００４５】
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を排気する配管系である。
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を下方へ排気してもよい。
第一排気配管系５０は、第一窪み１２の中の気体を排気してもよい。
例えば、第一排気配管系５０は、第一配管５１と第一ダンパ５２とで構成される。
第一配管５１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第一窪み１２とを連通する配管である。
第一ダンパ５２は、第一配管５１の途中に設けられたダンパである。第一ダンパ５２は、手動により、その開度を調整可能である。
【００４６】
第二排気配管系６０は、隙間空間Ｓの中の気体を排気する配管系である。
第二排気配管系６０は、隙間空間Ｓの中の気体を下方へ排気してもよい。
第二排気配管系６０は、第二窪み１３の中の気体を排気してもよい。
例えば、第二排気配管系６０は、第二配管６１と第二ダンパ６２とで構成される。
第二配管６１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第二窪み１３とを連通する配管である。
第二ダンパ６２は、第二配管６１の途中に設けられたダンパである。第二ダンパ６２は、手動により、その開度を調整可能である。
クリーンドラフトを使用する場所での排気装置の吸引圧力や諷量が一定でないので、設置した際に、第一ダンパ５２の開度と第二ダンパ６２との開度とを調整することにより、第一排気配管系５０と第二排気配管系６０の各々の吸引力や吸引する風量を調整する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、第一排気配管系５０の吸引圧力が、第二排気配管系６０の吸引圧力よりも高くなる様に、設定する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、作業空間Ｈの気体を排気する吸引圧力が、隙間空間の気体を排気する吸引圧力よりも高くなる様に、設定する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、第一窪み１２の上部での圧力が第二窪み１３の上部での圧力よりも高くなるように、設定する。
この様にすれば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、作業空間の気体の一部が隙間空間Ｓの下部に流れ込み、室内の雰囲気が作業空間Ｈへ流れるのを抑制できる。
第一ダンパ５２の開度と第二ダンパ６２との開度を調整するには、手動でおこなう場合と自動で行う場合とがある。
第一扉３１と第二扉３２の両方が、開口部Ｗを閉じると、僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
【００４７】
以下に、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの作用を説明する。
室内がクリンルームであり、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力を室内の圧力との差圧をゼロとする様に制御されている場合を例に、説明する。
吸気配管系が、クリンルームの気体を作業空間Ｈに上方から流し、第一排気配管系５０が第一窪み１２から気体を排気し、第二排気配管系６０が第二窪み１３から気体を排気しする場合を、説明する。
【００４８】
クリーンドラフト１００をクリンルームに納める。
科学機材５が、作業面１１に搭載される。
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを閉じる。
クリンルームの雰囲気が、吸気配管系により、作業空間Ｈに上方から流れ込む。
作業空間Ｈの気体が、第一排気配管系５０により、第一窪み１２から吸い出される。
クリーン度の高い気体が、作業空間Ｈを上から下へ流れ、第一窪み１２へ流れ込む。
僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
【００４９】
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを開放する。
吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ等しいか僅かに負圧にする様に制御する。
ブロアの能力が小さい場合には、吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べてて負圧にする様に制御する。
クリーンルームの雰囲気が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
作業空間Ｈの気体の一部が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
第一ダンパ５２と第二ダンパ６２を最適に調整することで、クリンルームの雰囲気が作業空間Ｈに直接に侵入する量を最小にでき、作業空間Ｈの気体が直接にクリンルームへ漏れる量を最小にすることをできる。
【００５０】
洗浄液で作業空間Ｈを洗浄すると、洗浄液は作業面１１に落ちて、排液配管１５により外部へ排出される。
【００５１】
次に、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフを、図を基に、説明する。
図７は、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。図８は、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【００５２】
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、
架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第二排気配管系６０とで構成される。
フード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０との構成は、第一の実施形態に係るドラフトチャンバのものと同じなので、説明を省略する。
【００５３】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５と床板材１６と調整部材１７と分離板１８とで構成される。
下部構造１０ａは、科学機材５を収納可能な作業空間Ｈの下側を覆う作業面１１を形成する。
上部構造１０ｂは、後述するフード２０と吸気配管系、その他を支持する構造である。
作業面１１が、後述する開口部Ｗの最も低い箇所より低い位置に形成されてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、作業面１１が、開口部Ｗの下辺より低い位置に形成される。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、作業面１１が下桟２３より低い位置に形成される。
架台１０が、作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成してもよい。
例えば、第一窪み１２は、作業面１１の奥側に設けられ、左右方向に長く深い溝形の窪みである。
架台１０が、後述する隙間空間Ｓに連通し開口部Ｗの最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪み１３を形成してもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合、第二窪み１３は、開口部の下辺で二重扉に挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、第二窪み１３は、第一扉３１の下桟と第二扉３２の下桟とに挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
さらに、架台１０が、排水配管１５と仕切り板１４とを備えていてもよい。排液配管１５は、作業面に流れる液体を排出する配管である。仕切り板１４は、第一窪み１２へ液体が流れないための板である。
【００５４】
床板材１６は、作業面１１の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられた科学機材５を搭載可能な板材である。
例えば、床板材１６は、作業面１１の上方に設けられた貫通穴が等間隔で設けられた板材である。貫通孔は、矩形、円形、多角形等の形状を有する。
床板材１６の上面の高さが、開口部の最も低い箇所の高さより低くてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、床板材１６の上面が、開口部Ｗの下辺より低い位置に設けられる。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、床板材１６の上面の高さは、下桟２３の高さよりも低い。
【００５５】
調整部材１７は、床板材１６の高さを調整する部材である。
例えば、科学機材５を床板材１６の上面に据え付けたときに、科学機材５の上部が開口部の最も低い箇所の高さより低くなるように、調整部材１７が床板材１６の高さを調整することをできる。
この様にすると、科学機材５から発生した気体等が、開口部Ｗから室内に直接に洩れるのを抑制できる。
【００５６】
分離板１８は、科学機材５を上方から被い、作業空間Ｈを上下に分かれて互いに連通する上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画する板である。
例えば、開口部Ｗが略矩形の形状である場合、分離板１８が開口部Ｗの下辺から水平に延びて作業空間Ｈの一部を分離する板材である。
【００５７】
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を排気する配管系である。
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を下方に排気してもよい。
第一排気配管系５０は、第一窪み１２の中の気体を排気してもよい。
例えば、第一排気配管系５０は、第一配管５１と第一ダンパ５２とで構成される。
第一配管５１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第一窪み１２とを連通する配管である。
第一ダンパ５２は、第一配管５１の途中に設けられたダンパである。第一ダンパ５２は、手動により、その開度を調整可能である。
第一排気配管系５０が、作業空間Ｈの内部の気体を床板材１６より下方から排気してもよい。
その様にすると、気体は、作業空間Ｈの内部を上から下へ流れ、床板材１６の貫通孔を通過して、床板材１６の下側から外部へ排気される。
また、第一排気配管系５０が、作業空間Ｈの内部の気体を下部作業空間Ｈ２から排気してもよい。
その様にすると、気体は、上部作業空間Ｈ１の内部を上から下へ流れ、下部作業空間Ｈ２へ入り、外部へ排気される。
【００５８】
以下に、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトの作用を説明する。
室内がクリンルームの内部であり、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力を室内の圧力に等しくする様に制御されている場合を例に、説明する。
吸気配管系が、クリンルームの気体を作業空間Ｈに上方から流し、第一排気配管系５０が第一窪み１２から気体を排気し、第二排気配管系６０が第二窪み１３から気体を排気しする場合を、説明する。
【００５９】
クリーンドラフト１００をクリンルームに納める。
科学機材５が、作業面１１に搭載される。
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを閉じる。
クリンルームの雰囲気が、吸気配管系により、作業空間Ｈに上方から流れ込む。
作業空間Ｈの気体が、第一排気配管系５０により、第一窪み１２から吸い出される。
クリーン度の高い気体が、作業空間Ｈを上部作業空間Ｈ１から下部作業空間Ｈ２へ流れ、床板材１６の貫通穴を通過して、第一窪み１２へ流れ込む。
僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
【００６０】
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを開放する。
吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ等しいか僅かに負圧にする様に制御する。
又は、ブロアの能力が小さい場合には、吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ負圧にする様に制御する。
クリーンルームの雰囲気が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
作業空間Ｈの気体の一部が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
第一ダンパ５２と第二ダンパ６２を最適に調整することで、クリンルームの雰囲気が作業空間Ｈに直接に侵入する量を最小にでき、作業空間Ｈの気体が直接にクリンルームへ漏れる量を最小にすることをできる。
【００６１】
洗浄液で作業空間Ｈを洗浄すると、洗浄液は作業面１１に落ちて、排液配管１５により外部へ排出される。
【００６２】
次に、本発明の実施形態に係る処理装置を、図を基に、説明する。
図９は、本発明の実施形態に係る処理装置の正面図である。図１０は、本発明の実施形態に係る処理装置のＦ−Ｆ断面図である。図１１は、本発明の実施形態に係る処理装置のＧ−Ｇ断面図である。図１２は、本発明の実施形態に係る処理装置のＨ−Ｈ断面図である。図１３は、本発明の実施形態に係る処理装置のＩ−Ｉ断面図である。図１４は、本発明の実施形態に係る処理装置のＪ−Ｊ断面図である。図１５は、本発明の実施形態に係る処理装置のＫ−Ｋ断面図である。
処理装置は、室内に設置され試料を化学処理させるための装置であり、クリーンドラフト１００と処理用容器１１０と基板搬送装置１２０とキャリアケース１３０と基板処理装置１４０と基板心出し装置１５０と液体回収装置１６０とで構成される。
説明の便宜上、シリコン基板の表面の処理する場合を例に説明する。
【００６３】
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０とで構成される。
フード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第二排気配管系６０の構成は、第一の実施形態に係るクリーンドラフトのものと同じなので、説明を省略する。
【００６４】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５と分離板１８とで構成される。
架台は、床板材１６を欠いている点と作業面１１の形状と第一窪み１２の設置位置が異なる点と分離板１８の形状とを除くと、第二の実施形態に係るクリーンドラフト１００のものとおなじなので、異なる点のみを説明する。
【００６５】
架台１０の下部構造１１ａは、作業面１１と第一窪み１２とを形成する。
作業面１１は、開口部Ｗに近い箇所が一段高い上段面と開口部Ｗから遠い箇所が一段低いい下段面とで構成される階段状の形状をしている。
後述する処理用容器１１０が上段面に搭載される。
後述する基板搬送装置１２０が下段面に搭載される。
第一窪み１２が、下段面の後述する基板搬送装置１２０と基板処理装置１４０との間に形成される。
【００６６】
分離板１８は、後述する処理用容器１１０を上方から被い、作業空間Ｈを上下に分かれて互いに連通する上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画する板である。
分離板１８は、後述する基板搬送装置１２０の上方に略矩形の切り欠き部を持つ。
上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とは、その切り欠き部で連通する。
また、基板搬送装置１２０は、その切り欠き部を通過して基板を上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２のと間で搬送する。
キャリアケース台１９が、分離板の上面に設けられる。キャリアケース台１９は、後述するキャリアケース１３０を位置決めすることをできる部材である。
【００６７】
処理用容器１１０は、内部で試料を化学処理させるための容器であって、容器ケーシング１１１と扉１１２と扉昇降機器とで構成される。
容器ケーシング１１１は、化学処理をさせる反応空間を覆い反応空間に試料を出入りさせる出入口部Ｐを設けられ出入口部Ｐの周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を有するケーシングである。
扉１１２は、所定の傾斜角度θで斜め上方に向いた接合面Ｒ２を有し垂直方向に昇降自在に案内される。
扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
容器ケーシング１１１が、出入口部Ｐの上方に設けられた扉１１２の上部Ｑ２がくい込むことをできる被くい込み部Ｑ１を有していれてよい。
扉１１２を上昇させると、扉の上部Ｑ２が被くい込み部Ｑ１にくい込んで、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
シール部材が、扉１１２の接合面Ｒ２に設けられる。接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が接合すると、シール部材が気密にする。例えば、シール部材は、接合面に設けられた溝に設置されたＯリングである。
【００６８】
扉昇降機器は、扉１１２を垂直方向に昇降させる機器であって、アクチエータ覆い１１３と貯留槽１１４とアクチエータ１１５とで構成される。
アクチエータ覆い１１３は、アクチエータを上方から覆う部材である。
貯留槽１１４は、アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した部材である。
アクチエータ１１５は、扉を垂直に昇降させる機械要素である。
例えば、アクチエータ１１５は、上下方向に案内され圧力気体により上下に移動する直動エアーシリンダである。直動エアーシリンダが上下動する際に、アクチエータ覆い１１３の下方の縁が貯留槽１１４に貯留された液体に漬る。
【００６９】
基板搬送装置１２０は、基板を水平に保持して、基板搬送装置１２０の軸心を中心に回転し、半径方向に前後移動させ、軸心に沿って上下移動させることをできる機械装置である。
【００７０】
キャリアケース１３０は、複数の基板を収納できるケースである。
【００７１】
基板処理装置１４０と基板を保持して、基板の表面に液滴を付けて、液滴を基板の表面で走査できる装置である。
基板の表面に付着した液体を液滴に捕捉することができる。
【００７２】
基板心出し装置１５０は、基板処理装置１４０に載せた基板のセンター位置を測定する装置である。
【００７３】
液体回収装置１６０は、基板処理装置1４０が基板の表面で保持した液滴を回収する装置である。
【００７４】
以下に、本発明の実施形態に係る処理装置の作用を説明する。
操作員が、二重扉３０を開いて開口部Ｗを開放する。
操作員が、処理前の基板を納められたキャリアケース１３０を作業空間Ｈに入れて、キャリアケース台１９の上に置く。
操作員が、二重扉３０を閉じて開口部Ｗを閉止する。
【００７５】
処理用容器１１０の扉１１２を下降させて、出入口部Ｐを開放する。
基板搬送装置１２０が、キャリアケース１３０に納められた複数の基板のうちの一つの基板を保持し、出入口部Ｐから容器ケーシング１１１の反応空間へ入れる。
基板搬送装置１２０が、基板把持部を容器ケーシング１１１から出すと、扉昇降機器が扉１１２を昇降させる。
接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
反応空間に反応ガスを導入し、基板を化学処理する。
所定の時間を経過すると、反応ガスを吸引し、窒素ガスを反応容器に導入する。
【００７６】
処理用容器１１０の扉１１２を下降させて、出入口部Ｐを開放する。
基板搬送装置１２０が、基板を出入口部Ｐを通過して容器ケーシング１１１の反応空間から出す。
基板搬送装置１２０が、基板を搬送し、基板処理装置１４０に載せる。
基板心出し装置１５０が、基板処理装置１４０に保持された基板のセンター位置を計測する。
基板処理装置１４０が、センター位置のデータを基にして、液滴を基板の表面に乗せて、液滴を基板の表面で走査する。
液滴が所定の領域を走査すると、基板処理装置が液滴を液体回収装置へ移す。
【００７７】
液体回収装置１６０は、回収された液滴の重量を測定する。
基板搬送装置１２０が、処理の終わった基板を基板処理装置１４０から取り上げ、キャリアケース１３０へ移す。
基板搬送装置１２０は、キャリアケース１３０に収納された複数の基板のなかから処理前の基板を取り出す。
以降、キャリアケース１３０に収納された複数の基板の全てを処理する。
【００７８】
操作員が、二重扉３０を開いて開口部Ｗを開放する。
操作員が、処理前の基板は納められたキャリアケース１３０を作業空間Ｈから出す。
操作員が、液体を回収する。
操作員が、二重扉３０を閉じて開口部Ｗを閉止する。
【００７９】
上述の実施形態に係るドラフトチャンバと処理用容器と処理装置とを用いれば、以下の効果を発揮する。
架台の下部構造１１ａの上方の作業空間Ｈをフード２０で覆い、間に隙間空間Ｓを挟んだ二重扉でフード２０の側面に設けられた開口部Ｗを開閉し、室内の雰囲気を作業空間Ｈに案内し、作業空間Ｈの中の気体を排気し、隙間空間Ｓの中の気体を排気する様にしたので、二重扉３０が開口部Ｗを閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系４０を経由して作業空間へ入り、作業空間Ｈの気体が第一排気配管系５０を経由して排気される。また、室内から隙間空間Ｓに漏れた雰囲気は、第二排気配管６０を経由して排気される。また、作業空間Ｈから隙間空間Ｓへ漏れた気体は、第二排気配管６０を経由して排気される。
また、室内の雰囲気を作業空間Ｈの上方から入れ、作業空間Ｈの中の気体を下方に排気し、隙間空間Ｓの中の気体を下方に排気する様にしたので、二重扉３０が開口部Ｗを開放すると、作業空間Ｈの気体が作業面１１へ下がって排気され、また作業空間Ｈの気体が隙間空間Ｓを経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間Ｓを経由して排気されるので、室内の雰囲気が作業空間Ｈへ流れるのを抑制し、作業空間Ｈの気体が室内に流れるのを抑制する。
また、作業空間Ｈの下部が作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成し、第一窪み１２の中の気体を排気する様にしたので、作業空間の中の気体が、作業面１１へ下がって第一窪み１２に入り、第一排気配管系５０を経由して排気される。
また、隙間空間Ｓの下方に下方に凹んだ第二窪み１３が形成され、第二窪み１３の中の気体を排気する様にしたので、隙間空間Ｓの中の気体が、開口部Ｗの最も低い箇所へ下がって第二窪み１３に入り、第二排気配管系６０を経由して排気される。
また、送風機４２を途中に設けられた吸気配管４１が室内の雰囲気を加圧して作業空間へ案内する様にしたので、作業空間Ｈへの圧力を調整できる。
また、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力に応じて調整される様にしたので、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
また、送風機４２の送気する圧力又は風量が指定値に基づいて制御される様にしたので、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
また、開口部Ｗを開放したときに送風機４２の送気する圧力又は風量を一定にするようにしたので、気体が作業空間Ｈの中を安定して流れる。
また、仕切り板１４により作業面１１に流す液体が第一窪みへ液体が流れない様にしたので、作業面１１の洗浄を容易にできる。
また、開口部Ｗより低い位置に科学機材を搭載可能な作業面１１を形成し、作業空間Ｈの内部の気体を開口部Ｗより下方から排気する様にしたので、搭載された科学機材の付近の気体が、開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、作業空間の内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材１６の貫通穴を通過して排気される。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、作業空間Ｈの内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間Ｈの気体が、床板材１６の貫通穴を通過して排気され、床板材１６の高さを調整すると、床板材の付近の気体が開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、床板材１６の上面の高さを開口部Ｗより低くし作業空間Ｈの内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間Ｈの気体が床板材１６の貫通穴を通過して排気され、床板材１６の付近の気体が開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、作業空間Ｈを分離板により科学機材を収納する下部作業空間Ｈ１と上部作業空間Ｈ２に区画し、作業空間の内部の気体が下部作業空間Ｈ２から排気される様にしたので、科学機材の付近の気体が上部作業空間Ｈ１に流れるのを抑制できる。
【００８０】
以上説明したように本発明に係る処理用容器は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシング１１１の反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を設け、扉に所定の傾斜角度で斜め上方に向いた接合面Ｒ２を設け、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にしたので、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると出入口部Ｐが閉じ、扉昇降機器が扉１１２を下降させると、出入口部Ｐの前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
また、被くい込み部Ｑ１を容器ケーシング１１１の出入口部Ｐの上方に設け、扉昇降機器が扉を上昇させると、扉の上部Ｑ２が被くい込み部Ｑ１にくい込んで、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にしたので、扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、接合面Ｒ１と被接合面Ｒ２との気密が確実になる。
また、垂直に昇降させるアクチエータの周囲に水封機構を設けたので、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００８１】
以上説明したように本発明に係る処理装置は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシング１１１の出入口部Ｐの周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を設け、扉１１２に所定の傾斜角度θで斜め上方に向いた接合面Ｒ２を設け、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にして、架台に搭載した処理用容器を収納する作業空間Ｈをフード２０で覆い、隙間空間を挟んだ二重扉でフード２０の側面に設けられた開口部Ｗを開閉し、室内の雰囲気を作業空間に上方から案内し、作業空間Ｈの中の気体を下方へ排気し、隙間空間Ｓの中の気体を下方へ排気する様にしたので、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると出入口部Ｐが閉じ、扉昇降機器が扉１１２を下降させると、出入口部Ｐの前面が開放され、試料の出し入れができる。扉昇降機器が扉１１２を下降させると出入口部Ｐが開き、内部のガスが作業空間Ｈに漏れるが、二重扉３０が開口部Ｗを閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して上方から作業空間Ｈへ入り、作業空間Ｈの気体が第一排気配管系５０を経由して下方へ排気される。また、室内から隙間空間Ｈに侵入した雰囲気は、第二排気配管６０を経由して排気される。また、作業空間Ｈから隙間空間Ｓへ漏れた気体は、第二排気配管６０を経由して排気される。
また、処理用容器を上方から被う分離板１８が、作業空間Ｈを上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画し、作業空間Ｈの内部の気体が下部作業空間Ｈ２から排気される様にしたので、出入口部Ｐからもれた気体が、下部作業空間Ｈ２から上部作業空間Ｈ１へ流れるのを抑制できる。
また、分離板１９を略矩形の開口部の下桟の位置から作業空間Ｈの中へ水平に延ばしたので、出入口部Ｐからもれた気体が、下部作業空間Ｈ２から上部作業空間Ｈ１に流れにくく、開口部Ｗを経由して室内に流れるのを抑制できる。
【００８２】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの正面図である。
【図２】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＢ−Ｂ断面図である。
【図４】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＣ−Ｃ断面図である。
【図５】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【図６】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＥ−Ｅ断面図である。
【図７】本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。
【図８】本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る処理装置の正面図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る処理装置のＦ−Ｆ断面図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る処理装置のＧ−Ｇ断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る処理装置のＨ−Ｈ断面図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る処理装置のＩ−Ｉ断面図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る処理装置のＪ−Ｊ断面図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る処理装置のＫ−Ｋ断面図である。
【符号の説明】
【００８４】
Ｗ 開口部
Ｈ 作業空間
Ｈ１ 上部作業空間
Ｈ２ 下部作業空間
Ｓ 隙間空間
Ｐ 出入口部
Ｒ１ 被接合面
Ｒ２ 接合面
Ｑ１ 被くい込み部
Ｑ２ 扉の上部
θ 傾斜角度
５ 科学機材
１０ 架台
１０ａ 下部構造
１０ｂ 上部構造
１１ 作業面
１２ 第一窪み
１３ 第二窪み
１４ 仕切り板
１５ 排液配管
１６ 床板材
１７ 調整部材
１８ 分離板
１９ キャリアケース台
２０ フード
２１ 側板
２２ 天井板
２３ 下桟
２４ 上桟
３０ 二重扉
３１ 第一扉
３２ 第二扉
４０ 吸気配管系
４１ 吸気配管
４２ 送風機
４３ フィルタ
５０ 第一排気配管系
５１ 第一配管
５２ 第一ダンパ
５３ 外部フランジ
６０ 第二排気配管系
６１ 第二配管
６２ 第二ダンパ
１００ クリーンドラフト
１１０ 処理用容器
１１１ 容器ケーシング
１１２ 扉
１１３ アクチエータ覆い
１１４ 貯留槽
１１５ アクチエータ
１２０ 基板搬送装置
１３０ キャリアケース
１４０ 基板処理装置
１５０ 基板心出し装置
１６０ 液体回収装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトと内部で試料を科学処理させるための処理用容器とそれらを組み合わせた処理装置とに係る。特に、内部に流れる気体の流路の構成に特徴のあるクリーンドラフトと処理用容器と処理装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
科学機材を用いるのに室内に設置されたクリーンドラフトを用いる。
例えば、半導体の製造設備や検査設備において、クリーンルーム内に設置されるクリーンドラフトが用いられる。
半導体用の基板を化学処理させるために、処理容器をクリーンドラフト内に設置して、処理容器により基板を化学処理する。
化学処理する際に、処理容器からかならずしも人体に無害でないガス等がもれることがある。
一般的に、クリーンドラフトの内部の気圧を室内の気圧よりも低くして、さらに、気体の流れをクリーンドラフトの内部につくる。そのため、室内の雰囲気が、クリーンドラフトの内部に流れ込む。
化学処理等を、高度なクリン度を保った雰囲気中で行いたい場合がある。
その様な場合、クリーンベンチとしての機能をもったクリーンドラフトをクリーンルーム内に設置して用いる。
【０００３】
クリーンルーム内の雰囲気は、クリーンドラフトの天井に設けられたフィルタを通過して、クリーンドラフトの内部に流れる。
しかし、クリーンルーム内の雰囲気が、クリーンドラフトに存在する隙間からもクリーンドラフト内へ進入する。特に、クリーンドラフトに室内の雰囲気に連通する扉のついた開口部が設けられている場合、扉をあけると、室内の雰囲気がクリーンドラフト内へ侵入する。
化学処理に要求されるクリーン度がクリーンルーム内のクリーン度よりも高い場合には、この様なクリーンドラフトでは要求させるクリーン度を維持できなかった。
仮に、クリーンドラフトの内部の圧力を室内の圧力よりも高くすると、クリーンドラフト内のクリーン度を高く維持することが容易になるが、クリーンドラフト内の雰囲気が室内に漏れてしまうという不具合が想定される。
【０００４】
例えば、半導体や液晶の製造設備や検査設備において、基板処理装置が使用される。
基板処理装置は、基板を検査するために前処理をする装置である。例えば、基板は、半導体ウエハー、液晶基板等の基板である。半導体ウエハーは、シリコン、ガリウム、炭化ケイ素等のウエハーである。
基板処理査装置は、基板のコンタミネーションを防止するために、簡易で確実な機構が要求される。
また、一部の基板処理装置が、半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜の中の、超微量金属元素（例えば、ナトリウム、カリウム、鉄等）の不純物の量を正確に測定する前処理に用いられる。この基板処理装置では、基板を正確に位置決めすることが、不純物の量を正確に測定するために重要である。
【０００５】
半導体ウエハーの表面の不純物を正確に測定する目的とその方法を簡単に説明する。
半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜中に、不純物が含まれていいると、その不純物の量が微量であっても、半導体素子の電気的特性に大きな影響を与える。
従って、半導体素子の製造設備において、ウエハー表面から不純物の混入をできる限り抑制することが要請されている。
そのために、半導体ウエハーの表面に存在する不純物の量を正確に測定することが行われている。
最近、ウエハー表面に存在する不純物の量を測定するのに用いられていた二次イオン質量分析法やオージェ分光分析法や中性子放射化分析法に代わって、ふっ化物溶液を持ちいて、不純物の量を測定する。例えば、ふっ化物溶液はＨＦ（ふっ化水素）水溶液である。
シリコンウエハーの表面の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解する処理をおこなった後で、そのＨＦ（ふっ化水素）水溶液を捕集して、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液中の不純物を分析することが行われる。捕集したＨＦ（ふっ化水素）水溶液の量が少なくすると、不純物の濃度が高くなり、測定精度が向上するという特徴を有する。
【０００６】
基板の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解する薄膜溶解法は、種々提唱されており、その代表的なものとして、気相分解法（ＶＰＤ）と液滴分解法（ＤＡＤＤ）がある。
気相分解法（ＶＰＤ）では、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気に基板を曝し、基板の酸化層を溶解する。
液滴分解法（ＤＡＤＤ）では、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液を滴下し、液滴により基板の酸化膜を溶解する。
その後で、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液またはＨＦ・Ｈ２О２混合水の液滴を滴下し、その液滴を基板の表面に付着したまま移動する。液滴に酸化膜の中の不純物が捕集される。その液滴中の不純物の量を計測することにより、基板表面の不純物の量を検査する。
【０００７】
クリーンルームに据え付けられたクリーンドラフトの内部で、上記の気相分解法（ＶＰＤ）や液滴分解法（ＤＡＤＤ）を用いて、基板を処理する際には、クリーンドラフトの内部の気体をクリーンルームへ洩らさず、クリーンルーム内のクリーン度の低い雰囲気を直接にクリーンドラフトへ入れないようにすることを要請される。
【０００８】
【特許文献１】特開平０２−２７２３５９号
【特許文献２】特開平０２−０２８５３３号
【特許文献３】特開平０８−２３３７０９号
【特許文献４】特開平０２−２２９４２８号
【特許文献５】特開２００１−２０５１１０号
【特許文献６】特開２００５−０３８９５０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、簡易な構成で、室内に設置され科学機材を用いることをできるクリーンドラフトと内部で試料を化学処理させることをできる処理用容器と室内に設置され試料を化学処理させることをできる処理装置とを提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトを、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を備えるものとした。
【００１１】
上記本発明の構成により、架台の下部構造が、科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する。フードが、前記作業空間の側部と上部とを覆い、横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられる。間に隙間空間を挟んだ二重扉が、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき。吸気配管系が、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する。第一排気配管系が、前記作業空間の中の気体を排気する。第二排気配管系が、前記隙間空間の中の気体を排気する。
その結果、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
【００１２】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかのクリーンドラフトを説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００１３】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記第一排気配管系が前記作業空間の中の気体を下方へ排気し、前記第二排気配管系が前記隙間空間の中の気体を下方へ排気する。
上記実施形態の構成により、作業空間の中の気体が下方へ排気されれ、前記隙間空間の中の気体が下方へ排気される。その結果、二重扉が前記開口部を開放すると、作業空間の気体が作業面へ下がって排気され、また作業空間の気体が隙間空間を経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間を経由して排気されるので、作業空間の気体が室内に流れるのを抑制する。
【００１４】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記下部構造が前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みを形成し、前記第一排気配管系が前記第一窪みの中の気体を排気する。
上記実施形態の構成により、作業空間の下側が作業面と前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みで形作られ、前記第一窪みの中の気体を排気する。その結果、作業空間の中の気体が、作業面へ下がって第一窪みに入り、第一排気配管系を経由して排気される。
【００１５】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記下部構造が前記隙間空間に連通し前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みを形成し、前記第二排気配管系が前記第二窪みの中の気体を排気する。
上記実施形態の構成により、隙間空間の下部に繋がる空間が前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みで形成され、前記第二窪みの中の気体を排気する、その結果、前記隙間空間の中の気体が、開口部の最も低い箇所へ下がって第二窪みに入り、第二排気配管系を経由して排気される。
【００１６】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記吸気配管系が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する吸気配管と前記吸気配管の途中に設けられ前記作業空間の側へ送気する送風機とを有する。
上記実施形態の構成により、送風機が途中に設けられた吸気配管が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する。その結果、室内の雰囲気を加圧して作業空間へ送気することをできる。
【００１７】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整可能である。
上記実施形態の構成により、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整される。その結果、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
【００１８】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御される。
上記実施形態の構成により、前記送風機の送気する圧力又は風量が制御され、前記作業空間の圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする。その結果、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
【００１９】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面に流れる液体を排出する排液配管と前記第一窪みへ液体が流れないための仕切り板とを有する。
上記実施形態の構成により、排水配管が前記作業面に流れる液体を排水しても、仕切り板により前記第一窪みへ液体が流れない。その結果、作業空間を簡易に洗浄できる。
【００２０】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記作業面が前記開口部の最も低い箇所より低い位置に形成され、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記開口部の最も低い箇所より低い位置に科学機材を搭載可能な作業面が形成される。前記作業空間の内部の気体が前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気される。その結果、作業面に搭載された科学機材の付近の気体が、開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２１】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記上板構造の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気される。
【００２２】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材と前記床板材の高さを調整する調整部材とを有し、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記作業面の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。床板材の高さを調整可能である。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の高さを調整すると、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２３】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、前記床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低く、前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する。
上記実施形態の構成により、前記上板構造の上方に設けられた多くの貫通穴をあけられた床板材が科学機材を搭載可能である。床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低い。前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される。その結果、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
【００２４】
さらに、本発明の実施形態に係るクリーンドラフトは、前記架台が前記科学機材を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を有し、第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する。
上記実施形態の構成により、前記作業空間が分離板により前記科学機材を収納する下部作業空間とその上に位置する上部作業空間に区画される。前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される。その結果、科学機材の付近の気体が上部作業空間に流れるのを抑制できる。
【００２５】
上記目的を達成するため、本発明に係る内部で試料を化学処理させるための処理用容器を、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内される扉と、を備え、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する、ものとした。
【００２６】
上記本発明の構成により、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられた容器ケーシングが前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する。所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有する扉が垂直方向に昇降自在に案内される。前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。その結果、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
【００２７】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかの処理用容器を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００２８】
さらに、本発明の実施形態に係る処理用容器は、前記容器ケーシングが前記出入口部の上方に設けられた前記扉の上部がくい込むことをできる被くい込み部を有し、前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。
上記実施形態の構成により、前記扉の上部が前記容器ケーシングの前記出入口部の上方に設けられた被くい込み部にくい込むことをできる。前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。その結果、前記扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、前記接合面と前記被接合面との気密が確実になる。
【００２９】
さらに、本発明の実施形態に係る処理用容器は、前記扉を垂直に昇降させるアクチエータと前記アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した貯留槽と前記アクチエータを上方から覆うアクチエータ覆いとを有する扉昇降機器を備え、前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬る。
上記実施形態の構成により、アクチエータが前記扉を垂直に昇降させる。前記アクチエータの全周を囲って設けられる貯留槽が液体を貯留する。アクチエータ覆いが前記アクチエータを上方から覆う。前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬っている。その結果、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００３０】
上記目的を達成するため、本発明に係る室内に設置され試料を化学処理させるための処理装置を、化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内された扉と、を有し、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する処理用容器と、前記処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を持つ架台と、前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を有するクリーンドラフトと、を備えるものとした。
【００３１】
上記本発明の構成により、処理用容器が容器ケーシングと扉とを有する。化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられた容器ケーシングが、前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を有する。垂直方向に昇降自在に案内される扉が、所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有する。前記扉を上昇させると前記接合面と前記被接合面が気密に接合する。クリーンドラフトが作業台とフードと二重扉と吸気配管系と第一排気配管系と第二排気配管系とを有する。架台の下部構造が処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する。横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードが、前記作業空間の側部と上部とを覆う。間に隙間空間を挟んだ二重扉が、前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをできる。吸気配管系が、室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する。第一排気配管系が、前記作業空間の中の気体を排気する。第二排気配管系が、前記隙間空間の中の気体を排気する。
その結果、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると出入口部の前面が開放され、試料の出し入れが容易にできる。前記扉昇降機器が前記扉を下降させると出入口部が開き、内部に気体が作業空間に漏れるが、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
【００３２】
以下に、本発明の実施形態に係るいくつかの処理装置を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００３３】
さらに、本発明の実施形態に係る処理装置は、前記架台が前記処理用容器を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を持ち、第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する。
上記実施形態の構成により、前記処理用容器を上方から被う分離板が、前記作業空間を上部作業空間と下部作業空間とに区画する。前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される。その結果、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間へ流れるのを抑制できる。
【００３４】
さらに、本発明の実施形態に係る検査装置は、前記分離板が略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延びている。
上記実施形態の構成により、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間に流れにくく、開口部を経由して室内に流れるのを抑制できる。
【発明の効果】
【００３５】
以上説明したように本発明に係るクリーンドラフトは、その構成により、以下の効果を有する。
架台の下部構造の上方の作業空間をフードで覆い、間に隙間空間を挟んだ二重扉でフードの側面に設けられた開口部を開閉し、室内の雰囲気を作業空間に案内し、前記作業空間の中の気体を外部に排気し、前記隙間空間の中の気体を外部に排気する様にしたので、二重扉が前記開口部を閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
また、作業空間の中の気体を下方に排気し、前記隙間空間の中の気体を下方に排気する様にしたので、二重扉が前記開口部を開放すると、作業空間の気体が上板構造へ下がって排気され、また作業空間の気体が隙間空間を経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間を経由して排気されるので、室内の雰囲気が作業空間のへ流れるのを抑制し、作業空間の気体が室内に流れるのを抑制する。
また、作業空間の下部が前記作業面と下方に凹んだ第一窪みとで覆われ、前記第一窪みの中の気体を排気する様にしたので、作業空間の中の気体が、作業面へ下がって第一窪みに入り、第一排気配管系を経由して排気される。
また、隙間空間の下方に前記開口部よりも下方に凹んだ第二窪みが形成され、前記第二窪みの中の気体を排気する様にしたので、前記隙間空間の中の気体が、第二窪みに入り、第二排気配管系を経由して排気される。
また、送風機を途中に設けられた吸気配管が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する様にしたので、室内の雰囲気を加圧して作業空間へ送気することをできる。
また、前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整される様にしたので、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
また、前記送風機の送気する圧力又は風量が指定値に基づいて制御される様にしたので、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
また、作業台の仕切り板により作業面に流す液体が前記第一窪みへ液体が流れない様にしたので、作業空間を簡易に洗浄できる。
また、前記開口部より低い位置に科学機材を搭載可能な作業面を形成し、前記作業空間の内部の気体を前記開口部より下方から排気する様にしたので、搭載された科学機材の付近の気体が、開口部へ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気される。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の高さを調整すると、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な前記床板材が前記作業面の上方に設けられ、床板材の上面の高さを前記開口部より低くし前記作業空間の内部の気体が前記床板材より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が床板材の貫通穴を通過して排気され、床板材の付近の気体が前記開口部へ流れるのを抑制できる。
また、前記作業空間を分離板により前記科学機材を収納する下部作業空間と上部作業空間とに区画し、前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される様にしたので、科学機材の付近の気体が上部作業空間に流れるのを抑制できる。
【００３６】
以上説明したように本発明に係る処理用容器は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシングの前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を設け、扉に所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を設け、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する様にしたので、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉昇降機器が前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
また、被くい込み部を容器ケーシンの出入口部の上方に設け、前記扉昇降機器が前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する様にしたので、前記扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、前記接合面と前記被接合面との気密が確実になる。
また、垂直に昇降させるアクチエータの周囲に水封機構を設けたので、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００３７】
以上説明したように本発明に係る処理装置は、その構成により、以下の効果を有する。
容器のケーシングの前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を設け、扉に所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を設け、前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する様にして、架台に搭載した処理用容器を収納する作業空間をフードで覆い、フードの側面に設けられた開口部を間に隙間空間を挟んだ二重扉で開閉し、室内の雰囲気を作業空間に案内し、前記作業空間の中の気体を排気し、前記隙間空間の中の気体を排気する様にしたので、前記扉を上昇させると出入口部が閉じ、前記扉を下降させると、出入口部の前面が開放され、試料の出し入れが容易にできる。容器ケーシングの内部の気体が作業空間に漏れる場合に、二重扉が前記開口部を閉止していれば、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して作業空間へ入り、作業空間の気体が第一排気配管系を経由して排気される。また、室内から隙間空間に漏れた雰囲気は、第二排気配管を経由して排気される。また、作業空間から隙間空間へ漏れた気体は、第二排気配管を経由して排気される。
また、前記処理用容器を上方から被う分離板が、前記作業空間を上部作業空間と下部作業空間とに区画し、前記作業空間の内部の気体が前記下部作業空間から排気される様にしたので、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間へ流れるのを抑制できる。
また、分離板を略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延ばしたので、容器ケーシングの出入口部からもれた気体が、下部作業空間から上部作業空間に流れにくく、開口部を経由して室内に流れるのを抑制できる。
従って、簡易な構造と方法とで測定精度をより向上させることのできるクリーンドラフトと処理用容器と処理装置とを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
【００３９】
図１は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの正面図である。図２は、本本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。図３は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＢ−Ｂ断面図である。図４は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＣ−Ｃ断面図である。図５は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。図６は、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＥ−Ｅ断面図である。
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０とで構成される。
【００４０】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５とで構成される。
下部構造１０ａは、科学機材５を収納可能な作業空間Ｈの下側を覆う作業面１１を形成する。
上部構造１０ｂは、後述するフード２０や二重扉３０や吸気配管系４０を支持する構造体である。
作業面１１が、後述する開口部Ｗの最も低い箇所より低い位置に形成されてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、作業面１１が、開口部Ｗの下辺より低い位置に形成される。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、作業面１１が下桟２３よりも低い位置に設けられる。
架台１０が、作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成してもよい。
例えば、第一窪み１２は、作業面１１の奥側に設けられ、左右方向に長く深い溝形の窪みである。
架台１０が、後述する隙間空間Ｓに連通し開口部Ｗの最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪み１３を形成してもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合、第二窪み１３は、開口の下辺の二重扉に挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、第二窪み１３は、第一扉３１の下桟と第二扉３２の下桟とに挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
排液配管１５は、作業面に流れる液体を排出する配管である。
仕切り板１４は、第一窪み１２へ液体が流れないための板である。たとえば、仕切り板１４は、第一窪みを囲んで作業面１１に設けられた堰用の板または盛り上がり部である。
【００４１】
フード２０は、作業空間Ｈの側部と上部とを覆い、横側に作業空間Ｈと室内とを連通可能な開口部Ｗを設けられたものである。
例えば、フード２０は、側板２１と天井板２２と構成される。
側板２１は、作業空間Ｈの側部を覆う。
天井板２２は、作業空間Ｈの上部を覆う。
側板２１と天井板２２とは、上部構造１０ｂに支持される。
二重扉３０は、開口部Ｗを各々に閉止しまたは開放することをでき、間に隙間空間Ｓを挟んだ扉であり、第一扉３１と第二扉３２とで構成される。
例えば、開口部Ｗが略矩形の形状を有し、第一扉３１と第二扉３２とは複数に分割された引き戸形式の扉である。第一扉３１と第二扉３２とは、下桟２３と上桟２４のガイド溝にはまって横方向にスライドできる。
隙間空間Ｓは、第一扉３１と第二扉３２とで挟まれた空間である。
【００４２】
吸気配管系４０は、室内の雰囲気を作業空間の中に案内する配管計である。
吸気配管系４０は、室内の雰囲気を作業空間の中に上方から案内する配管系であってもよい。
例えば、吸気配管系４０は、吸気配管４１と送風機４２とフィルタ４３とで構成され、作業空間Ｈに上側に設けられる。
吸気配管４１は、室内の雰囲気と作業空間Ｈとを連通する配管である。
例えば、吸気配管４１は、一方を室内に開放し他方をブロアの吸い込み口に連通した第一吸気配管とブロアの吐出口に連通し吐出口を天井板２２に開放した略６面体の箱形状の第二吸気配管とで構成される。
送風機４２は、吸気配管の途中に設けられ作業空間Ｈの側へ送気する装置である。
例えば、送風機４２は、ブロアである。
フィルタ４３は、吸気配管４１により作業空間Ｈへ案内される気体を濾す装置である。
例えば、フィルタ４３は、吸気配管４１の吐出口に設けられたヘパフィルタである。
ブロアが作動すると、室内の雰囲気が第一吸気配管に案内されて、ブロアで加圧されて、第二吸気配管４１の内部に入る。第二吸気配管４１に入った雰囲気は、ヘパフィルタ４３を通過して、クリーン度の向上した気体となり、作業空間Ｈに上方から吹き込まれる。気体は、作業空間Ｈをダウンフローとなって、流れる。
【００４３】
送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力に応じて調整可能であってもよい。
例えば、ブロアの回転数を設定できる回転制御装置と、作業空間の圧力を確認できる圧力計が設けられる。
圧力計は、作業空間の圧力と室内の雰囲気を圧力の差圧を測定し表示する計器であってもよい。
捜査員が、圧力計の表示を見て、回転制御装置によりブロアの回転数を設定する。
この様にすると、捜査員は、作業空間Ｈの圧力を所望の値に設定できる。
例えば、捜査員は作業空間の圧力を設定し、作業空間Ｈと室内の雰囲気の差圧をゼロにできる。
例えば、捜査員は作業空間の圧力を設定し、作業空間Ｈの圧力が室内の圧力に比べで微小な負圧になる様にすることをできる。
【００４４】
送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御されてもよい。
例えば、ブロアの回転数を設定できる回転制御装置と、作業空間の圧力を確認できる圧力計が設けられる。
例えば、回転制御装置は、圧力計の測定した圧力値を基に、作業空間Ｈの圧力を所定の指令値にする様に、ブロアの回転数をフィードバック制御する。
例えば、作業空間Ｈと室内の雰囲気の差圧がゼロにする。
例えば、作業空間Ｈの圧力が室内の圧力に比べで微小な負圧になる様にする。
また、二重扉が開口部を開放したことを検知して送風機４２の送気する圧力又は風量を一定値に固定し、二重扉が開口部を閉止したことを検知して送風機４２の送気する圧力又は風量を作業空間Ｈの圧力と室内の圧力の差圧を所定の指令値にする様に制御してもよい。
二重扉の位置を検知することにより、二重扉が開口部を開放または閉止することを検知してもよい。
【００４５】
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を排気する配管系である。
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を下方へ排気してもよい。
第一排気配管系５０は、第一窪み１２の中の気体を排気してもよい。
例えば、第一排気配管系５０は、第一配管５１と第一ダンパ５２とで構成される。
第一配管５１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第一窪み１２とを連通する配管である。
第一ダンパ５２は、第一配管５１の途中に設けられたダンパである。第一ダンパ５２は、手動により、その開度を調整可能である。
【００４６】
第二排気配管系６０は、隙間空間Ｓの中の気体を排気する配管系である。
第二排気配管系６０は、隙間空間Ｓの中の気体を下方へ排気してもよい。
第二排気配管系６０は、第二窪み１３の中の気体を排気してもよい。
例えば、第二排気配管系６０は、第二配管６１と第二ダンパ６２とで構成される。
第二配管６１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第二窪み１３とを連通する配管である。
第二ダンパ６２は、第二配管６１の途中に設けられたダンパである。第二ダンパ６２は、手動により、その開度を調整可能である。
クリーンドラフトを使用する場所での排気装置の吸引圧力や諷量が一定でないので、設置した際に、第一ダンパ５２の開度と第二ダンパ６２との開度とを調整することにより、第一排気配管系５０と第二排気配管系６０の各々の吸引力や吸引する風量を調整する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、第一排気配管系５０の吸引圧力が、第二排気配管系６０の吸引圧力よりも高くなる様に、設定する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、作業空間Ｈの気体を排気する吸引圧力が、隙間空間の気体を排気する吸引圧力よりも高くなる様に、設定する。
例えば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、第一窪み１２の上部での圧力が第二窪み１３の上部での圧力よりも高くなるように、設定する。
この様にすれば、二重扉３０が開口部Ｗを開放した状態において、作業空間の気体の一部が隙間空間Ｓの下部に流れ込み、室内の雰囲気が作業空間Ｈへ流れるのを抑制できる。
第一ダンパ５２の開度と第二ダンパ６２との開度を調整するには、手動でおこなう場合と自動で行う場合とがある。
第一扉３１と第二扉３２の両方が、開口部Ｗを閉じると、僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
【００４７】
以下に、本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの作用を説明する。
室内がクリンルームであり、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力を室内の圧力との差圧をゼロとする様に制御されている場合を例に、説明する。
吸気配管系が、クリンルームの気体を作業空間Ｈに上方から流し、第一排気配管系５０が第一窪み１２から気体を排気し、第二排気配管系６０が第二窪み１３から気体を排気しする場合を、説明する。
【００４８】
クリーンドラフト１００をクリンルームに納める。
科学機材５が、作業面１１に搭載される。
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを閉じる。
クリンルームの雰囲気が、吸気配管系により、作業空間Ｈに上方から流れ込む。
作業空間Ｈの気体が、第一排気配管系５０により、第一窪み１２から吸い出される。
クリーン度の高い気体が、作業空間Ｈを上から下へ流れ、第一窪み１２へ流れ込む。
僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
【００４９】
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを開放する。
吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ等しいか僅かに負圧にする様に制御する。
ブロアの能力が小さい場合には、吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べてて負圧にする様に制御する。
クリーンルームの雰囲気が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
作業空間Ｈの気体の一部が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
第一ダンパ５２と第二ダンパ６２を最適に調整することで、クリンルームの雰囲気が作業空間Ｈに直接に侵入する量を最小にでき、作業空間Ｈの気体が直接にクリンルームへ漏れる量を最小にすることをできる。
【００５０】
洗浄液で作業空間Ｈを洗浄すると、洗浄液は作業面１１に落ちて、排液配管１５により外部へ排出される。
【００５１】
次に、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフを、図を基に、説明する。
図７は、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。図８は、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【００５２】
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、
架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第二排気配管系６０とで構成される。
フード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０との構成は、第一の実施形態に係るドラフトチャンバのものと同じなので、説明を省略する。
【００５３】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５と床板材１６と調整部材１７と分離板１８とで構成される。
下部構造１０ａは、科学機材５を収納可能な作業空間Ｈの下側を覆う作業面１１を形成する。
上部構造１０ｂは、後述するフード２０と吸気配管系、その他を支持する構造である。
作業面１１が、後述する開口部Ｗの最も低い箇所より低い位置に形成されてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、作業面１１が、開口部Ｗの下辺より低い位置に形成される。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、作業面１１が下桟２３より低い位置に形成される。
架台１０が、作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成してもよい。
例えば、第一窪み１２は、作業面１１の奥側に設けられ、左右方向に長く深い溝形の窪みである。
架台１０が、後述する隙間空間Ｓに連通し開口部Ｗの最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪み１３を形成してもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合、第二窪み１３は、開口部の下辺で二重扉に挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、第二窪み１３は、第一扉３１の下桟と第二扉３２の下桟とに挟まれた位置に設けられ、左右方向に長くて深い溝形の窪みである。
さらに、架台１０が、排水配管１５と仕切り板１４とを備えていてもよい。排液配管１５は、作業面に流れる液体を排出する配管である。仕切り板１４は、第一窪み１２へ液体が流れないための板である。
【００５４】
床板材１６は、作業面１１の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられた科学機材５を搭載可能な板材である。
例えば、床板材１６は、作業面１１の上方に設けられた貫通穴が等間隔で設けられた板材である。貫通孔は、矩形、円形、多角形等の形状を有する。
床板材１６の上面の高さが、開口部の最も低い箇所の高さより低くてもよい。
例えば、開口部Ｗが略矩形である場合に、床板材１６の上面が、開口部Ｗの下辺より低い位置に設けられる。
例えば、開口部Ｗが上下を下桟２３と上桟２４とで挟まれた略矩形の形状である場合に、床板材１６の上面の高さは、下桟２３の高さよりも低い。
【００５５】
調整部材１７は、床板材１６の高さを調整する部材である。
例えば、科学機材５を床板材１６の上面に据え付けたときに、科学機材５の上部が開口部の最も低い箇所の高さより低くなるように、調整部材１７が床板材１６の高さを調整することをできる。
この様にすると、科学機材５から発生した気体等が、開口部Ｗから室内に直接に洩れるのを抑制できる。
【００５６】
分離板１８は、科学機材５を上方から被い、作業空間Ｈを上下に分かれて互いに連通する上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画する板である。
例えば、開口部Ｗが略矩形の形状である場合、分離板１８が開口部Ｗの下辺から水平に延びて作業空間Ｈの一部を分離する板材である。
【００５７】
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を排気する配管系である。
第一排気配管系５０は、作業空間Ｈの中の気体を下方に排気してもよい。
第一排気配管系５０は、第一窪み１２の中の気体を排気してもよい。
例えば、第一排気配管系５０は、第一配管５１と第一ダンパ５２とで構成される。
第一配管５１は、室内に設けられた負圧ラインと連通可能な外部フランジ５３と第一窪み１２とを連通する配管である。
第一ダンパ５２は、第一配管５１の途中に設けられたダンパである。第一ダンパ５２は、手動により、その開度を調整可能である。
第一排気配管系５０が、作業空間Ｈの内部の気体を床板材１６より下方から排気してもよい。
その様にすると、気体は、作業空間Ｈの内部を上から下へ流れ、床板材１６の貫通孔を通過して、床板材１６の下側から外部へ排気される。
また、第一排気配管系５０が、作業空間Ｈの内部の気体を下部作業空間Ｈ２から排気してもよい。
その様にすると、気体は、上部作業空間Ｈ１の内部を上から下へ流れ、下部作業空間Ｈ２へ入り、外部へ排気される。
【００５８】
以下に、本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトの作用を説明する。
室内がクリンルームの内部であり、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力を室内の圧力に等しくする様に制御されている場合を例に、説明する。
吸気配管系が、クリンルームの気体を作業空間Ｈに上方から流し、第一排気配管系５０が第一窪み１２から気体を排気し、第二排気配管系６０が第二窪み１３から気体を排気しする場合を、説明する。
【００５９】
クリーンドラフト１００をクリンルームに納める。
科学機材５が、作業面１１に搭載される。
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを閉じる。
クリンルームの雰囲気が、吸気配管系により、作業空間Ｈに上方から流れ込む。
作業空間Ｈの気体が、第一排気配管系５０により、第一窪み１２から吸い出される。
クリーン度の高い気体が、作業空間Ｈを上部作業空間Ｈ１から下部作業空間Ｈ２へ流れ、床板材１６の貫通穴を通過して、第一窪み１２へ流れ込む。
僅かの量の雰囲気が、室内から第一扉３１と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。さらに、僅かの量の気体が、作業空間Ｈから第二扉３２と開口部Ｗとの隙間を通過して隙間空間Ｓに流れ込む。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
【００６０】
第一扉３１と第二扉３２との両方が、開口部Ｗを開放する。
吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ等しいか僅かに負圧にする様に制御する。
又は、ブロアの能力が小さい場合には、吸気配管系が、ブロアの回転数を制御して、作業空間Ｈの圧力をクリンルームの圧力に比べ負圧にする様に制御する。
クリーンルームの雰囲気が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
作業空間Ｈの気体の一部が、開口部Ｗから隙間空間Ｓへ侵入し、第二窪み１３へ吸い込まれる。
その様にするので、クリンルームの雰囲気が直接に作業空間Ｈへ進入することを抑制できる。また、作業空間Ｈの気体がクリンルームの雰囲気へ混じるのを抑制できる。
第一ダンパ５２と第二ダンパ６２を最適に調整することで、クリンルームの雰囲気が作業空間Ｈに直接に侵入する量を最小にでき、作業空間Ｈの気体が直接にクリンルームへ漏れる量を最小にすることをできる。
【００６１】
洗浄液で作業空間Ｈを洗浄すると、洗浄液は作業面１１に落ちて、排液配管１５により外部へ排出される。
【００６２】
次に、本発明の実施形態に係る処理装置を、図を基に、説明する。
図９は、本発明の実施形態に係る処理装置の正面図である。図１０は、本発明の実施形態に係る処理装置のＦ−Ｆ断面図である。図１１は、本発明の実施形態に係る処理装置のＧ−Ｇ断面図である。図１２は、本発明の実施形態に係る処理装置のＨ−Ｈ断面図である。図１３は、本発明の実施形態に係る処理装置のＩ−Ｉ断面図である。図１４は、本発明の実施形態に係る処理装置のＪ−Ｊ断面図である。図１５は、本発明の実施形態に係る処理装置のＫ−Ｋ断面図である。
処理装置は、室内に設置され試料を化学処理させるための装置であり、クリーンドラフト１００と処理用容器１１０と基板搬送装置１２０とキャリアケース１３０と基板処理装置１４０と基板心出し装置１５０と液体回収装置１６０とで構成される。
説明の便宜上、シリコン基板の表面の処理する場合を例に説明する。
【００６３】
クリーンドラフト１００は、室内に設置され科学機材５を用いるためのものであって、架台１０とフード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第一排気配管系５０と第二排気配管系６０とで構成される。
フード２０と二重扉３０と吸気配管系４０と第二排気配管系６０の構成は、第一の実施形態に係るクリーンドラフトのものと同じなので、説明を省略する。
【００６４】
架台１０は、下部構造１０ａと上部構造１０ｂと仕切り板１４と排液配管１５と分離板１８とで構成される。
架台は、床板材１６を欠いている点と作業面１１の形状と第一窪み１２の設置位置が異なる点と分離板１８の形状とを除くと、第二の実施形態に係るクリーンドラフト１００のものとおなじなので、異なる点のみを説明する。
【００６５】
架台１０の下部構造１１ａは、作業面１１と第一窪み１２とを形成する。
作業面１１は、開口部Ｗに近い箇所が一段高い上段面と開口部Ｗから遠い箇所が一段低いい下段面とで構成される階段状の形状をしている。
後述する処理用容器１１０が上段面に搭載される。
後述する基板搬送装置１２０が下段面に搭載される。
第一窪み１２が、下段面の後述する基板搬送装置１２０と基板処理装置１４０との間に形成される。
【００６６】
分離板１８は、後述する処理用容器１１０を上方から被い、作業空間Ｈを上下に分かれて互いに連通する上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画する板である。
分離板１８は、後述する基板搬送装置１２０の上方に略矩形の切り欠き部を持つ。
上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とは、その切り欠き部で連通する。
また、基板搬送装置１２０は、その切り欠き部を通過して基板を上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２のと間で搬送する。
キャリアケース台１９が、分離板の上面に設けられる。キャリアケース台１９は、後述するキャリアケース１３０を位置決めすることをできる部材である。
【００６７】
処理用容器１１０は、内部で試料を化学処理させるための容器であって、容器ケーシング１１１と扉１１２と扉昇降機器とで構成される。
容器ケーシング１１１は、化学処理をさせる反応空間を覆い反応空間に試料を出入りさせる出入口部Ｐを設けられ出入口部Ｐの周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を有するケーシングである。
扉１１２は、所定の傾斜角度θで斜め上方に向いた接合面Ｒ２を有し垂直方向に昇降自在に案内される。
扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
容器ケーシング１１１が、出入口部Ｐの上方に設けられた扉１１２の上部Ｑ２がくい込むことをできる被くい込み部Ｑ１を有していれてよい。
扉１１２を上昇させると、扉の上部Ｑ２が被くい込み部Ｑ１にくい込んで、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
シール部材が、扉１１２の接合面Ｒ２に設けられる。接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が接合すると、シール部材が気密にする。例えば、シール部材は、接合面に設けられた溝に設置されたＯリングである。
【００６８】
扉昇降機器は、扉１１２を垂直方向に昇降させる機器であって、アクチエータ覆い１１３と貯留槽１１４とアクチエータ１１５とで構成される。
アクチエータ覆い１１３は、アクチエータを上方から覆う部材である。
貯留槽１１４は、アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した部材である。
アクチエータ１１５は、扉を垂直に昇降させる機械要素である。
例えば、アクチエータ１１５は、上下方向に案内され圧力気体により上下に移動する直動エアーシリンダである。直動エアーシリンダが上下動する際に、アクチエータ覆い１１３の下方の縁が貯留槽１１４に貯留された液体に漬る。
【００６９】
基板搬送装置１２０は、基板を水平に保持して、基板搬送装置１２０の軸心を中心に回転し、半径方向に前後移動させ、軸心に沿って上下移動させることをできる機械装置である。
【００７０】
キャリアケース１３０は、複数の基板を収納できるケースである。
【００７１】
基板処理装置１４０と基板を保持して、基板の表面に液滴を付けて、液滴を基板の表面で走査できる装置である。
基板の表面に付着した液体を液滴に捕捉することができる。
【００７２】
基板心出し装置１５０は、基板処理装置１４０に載せた基板のセンター位置を測定する装置である。
【００７３】
液体回収装置１６０は、基板処理装置1４０が基板の表面で保持した液滴を回収する装置である。
【００７４】
以下に、本発明の実施形態に係る処理装置の作用を説明する。
操作員が、二重扉３０を開いて開口部Ｗを開放する。
操作員が、処理前の基板を納められたキャリアケース１３０を作業空間Ｈに入れて、キャリアケース台１９の上に置く。
操作員が、二重扉３０を閉じて開口部Ｗを閉止する。
【００７５】
処理用容器１１０の扉１１２を下降させて、出入口部Ｐを開放する。
基板搬送装置１２０が、キャリアケース１３０に納められた複数の基板のうちの一つの基板を保持し、出入口部Ｐから容器ケーシング１１１の反応空間へ入れる。
基板搬送装置１２０が、基板把持部を容器ケーシング１１１から出すと、扉昇降機器が扉１１２を昇降させる。
接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する。
反応空間に反応ガスを導入し、基板を化学処理する。
所定の時間を経過すると、反応ガスを吸引し、窒素ガスを反応容器に導入する。
【００７６】
処理用容器１１０の扉１１２を下降させて、出入口部Ｐを開放する。
基板搬送装置１２０が、基板を出入口部Ｐを通過して容器ケーシング１１１の反応空間から出す。
基板搬送装置１２０が、基板を搬送し、基板処理装置１４０に載せる。
基板心出し装置１５０が、基板処理装置１４０に保持された基板のセンター位置を計測する。
基板処理装置１４０が、センター位置のデータを基にして、液滴を基板の表面に乗せて、液滴を基板の表面で走査する。
液滴が所定の領域を走査すると、基板処理装置が液滴を液体回収装置へ移す。
【００７７】
液体回収装置１６０は、回収された液滴の重量を測定する。
基板搬送装置１２０が、処理の終わった基板を基板処理装置１４０から取り上げ、キャリアケース１３０へ移す。
基板搬送装置１２０は、キャリアケース１３０に収納された複数の基板のなかから処理前の基板を取り出す。
以降、キャリアケース１３０に収納された複数の基板の全てを処理する。
【００７８】
操作員が、二重扉３０を開いて開口部Ｗを開放する。
操作員が、処理前の基板は納められたキャリアケース１３０を作業空間Ｈから出す。
操作員が、液体を回収する。
操作員が、二重扉３０を閉じて開口部Ｗを閉止する。
【００７９】
上述の実施形態に係るドラフトチャンバと処理用容器と処理装置とを用いれば、以下の効果を発揮する。
架台の下部構造１１ａの上方の作業空間Ｈをフード２０で覆い、間に隙間空間Ｓを挟んだ二重扉でフード２０の側面に設けられた開口部Ｗを開閉し、室内の雰囲気を作業空間Ｈに案内し、作業空間Ｈの中の気体を排気し、隙間空間Ｓの中の気体を排気する様にしたので、二重扉３０が開口部Ｗを閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系４０を経由して作業空間へ入り、作業空間Ｈの気体が第一排気配管系５０を経由して排気される。また、室内から隙間空間Ｓに漏れた雰囲気は、第二排気配管６０を経由して排気される。また、作業空間Ｈから隙間空間Ｓへ漏れた気体は、第二排気配管６０を経由して排気される。
また、室内の雰囲気を作業空間Ｈの上方から入れ、作業空間Ｈの中の気体を下方に排気し、隙間空間Ｓの中の気体を下方に排気する様にしたので、二重扉３０が開口部Ｗを開放すると、作業空間Ｈの気体が作業面１１へ下がって排気され、また作業空間Ｈの気体が隙間空間Ｓを経由して排気され、室内の雰囲気が隙間空間Ｓを経由して排気されるので、室内の雰囲気が作業空間Ｈへ流れるのを抑制し、作業空間Ｈの気体が室内に流れるのを抑制する。
また、作業空間Ｈの下部が作業面１１に連なり下方に凹んだ第一窪み１２を形成し、第一窪み１２の中の気体を排気する様にしたので、作業空間の中の気体が、作業面１１へ下がって第一窪み１２に入り、第一排気配管系５０を経由して排気される。
また、隙間空間Ｓの下方に下方に凹んだ第二窪み１３が形成され、第二窪み１３の中の気体を排気する様にしたので、隙間空間Ｓの中の気体が、開口部Ｗの最も低い箇所へ下がって第二窪み１３に入り、第二排気配管系６０を経由して排気される。
また、送風機４２を途中に設けられた吸気配管４１が室内の雰囲気を加圧して作業空間へ案内する様にしたので、作業空間Ｈへの圧力を調整できる。
また、送風機４２の送気する圧力又は風量が作業空間Ｈの圧力に応じて調整される様にしたので、送風機の圧力又は風量を調整して、室内の雰囲気と作業空間との差圧を調整できる。
また、送風機４２の送気する圧力又は風量が指定値に基づいて制御される様にしたので、室内の雰囲気と作業空間との差圧を所定の値に維持できる。
また、開口部Ｗを開放したときに送風機４２の送気する圧力又は風量を一定にするようにしたので、気体が作業空間Ｈの中を安定して流れる。
また、仕切り板１４により作業面１１に流す液体が第一窪みへ液体が流れない様にしたので、作業面１１の洗浄を容易にできる。
また、開口部Ｗより低い位置に科学機材を搭載可能な作業面１１を形成し、作業空間Ｈの内部の気体を開口部Ｗより下方から排気する様にしたので、搭載された科学機材の付近の気体が、開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、作業空間の内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間の気体が、床板材１６の貫通穴を通過して排気される。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、作業空間Ｈの内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間Ｈの気体が、床板材１６の貫通穴を通過して排気され、床板材１６の高さを調整すると、床板材の付近の気体が開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、科学機材を搭載可能な床板材１６が作業面１１の上方に設けられ、床板材１６の上面の高さを開口部Ｗより低くし作業空間Ｈの内部の気体が床板材１６より下方から排気される様にしたので、作業空間Ｈの気体が床板材１６の貫通穴を通過して排気され、床板材１６の付近の気体が開口部Ｗへ流れるのを抑制できる。
また、作業空間Ｈを分離板により科学機材を収納する下部作業空間Ｈ１と上部作業空間Ｈ２に区画し、作業空間の内部の気体が下部作業空間Ｈ２から排気される様にしたので、科学機材の付近の気体が上部作業空間Ｈ１に流れるのを抑制できる。
【００８０】
以上説明したように本発明に係る処理用容器は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシング１１１の反応空間に試料を出入りさせる出入口部の周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を設け、扉に所定の傾斜角度で斜め上方に向いた接合面Ｒ２を設け、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にしたので、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると出入口部Ｐが閉じ、扉昇降機器が扉１１２を下降させると、出入口部Ｐの前面が開放され、試料の出し入れを容易にできる。
また、被くい込み部Ｑ１を容器ケーシング１１１の出入口部Ｐの上方に設け、扉昇降機器が扉を上昇させると、扉の上部Ｑ２が被くい込み部Ｑ１にくい込んで、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にしたので、扉が容器ケーシングに確実に位置決めされ、接合面Ｒ１と被接合面Ｒ２との気密が確実になる。
また、垂直に昇降させるアクチエータの周囲に水封機構を設けたので、扉昇降機器が扉を昇降させる間、作業空間の気体が直動アクチエータに接触するのを防止できる。
【００８１】
以上説明したように本発明に係る処理装置は、その構成により、以下の効果を有する。
容器ケーシング１１１の出入口部Ｐの周囲に所定の傾斜角度θで斜め下方に向いた被接合面Ｒ１を設け、扉１１２に所定の傾斜角度θで斜め上方に向いた接合面Ｒ２を設け、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると、接合面Ｒ２と被接合面Ｒ１が気密に接合する様にして、架台に搭載した処理用容器を収納する作業空間Ｈをフード２０で覆い、隙間空間を挟んだ二重扉でフード２０の側面に設けられた開口部Ｗを開閉し、室内の雰囲気を作業空間に上方から案内し、作業空間Ｈの中の気体を下方へ排気し、隙間空間Ｓの中の気体を下方へ排気する様にしたので、扉昇降機器が扉１１２を上昇させると出入口部Ｐが閉じ、扉昇降機器が扉１１２を下降させると、出入口部Ｐの前面が開放され、試料の出し入れができる。扉昇降機器が扉１１２を下降させると出入口部Ｐが開き、内部のガスが作業空間Ｈに漏れるが、二重扉３０が開口部Ｗを閉止しているときには、室内の雰囲気が吸気配管系を経由して上方から作業空間Ｈへ入り、作業空間Ｈの気体が第一排気配管系５０を経由して下方へ排気される。また、室内から隙間空間Ｈに侵入した雰囲気は、第二排気配管６０を経由して排気される。また、作業空間Ｈから隙間空間Ｓへ漏れた気体は、第二排気配管６０を経由して排気される。
また、処理用容器を上方から被う分離板１８が、作業空間Ｈを上部作業空間Ｈ１と下部作業空間Ｈ２とに区画し、作業空間Ｈの内部の気体が下部作業空間Ｈ２から排気される様にしたので、出入口部Ｐからもれた気体が、下部作業空間Ｈ２から上部作業空間Ｈ１へ流れるのを抑制できる。
また、分離板１９を略矩形の開口部の下桟の位置から作業空間Ｈの中へ水平に延ばしたので、出入口部Ｐからもれた気体が、下部作業空間Ｈ２から上部作業空間Ｈ１に流れにくく、開口部Ｗを経由して室内に流れるのを抑制できる。
【００８２】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトの正面図である。
【図２】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＢ−Ｂ断面図である。
【図４】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＣ−Ｃ断面図である。
【図５】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【図６】本発明の第一の実施形態に係るクリーンドラフトのＥ−Ｅ断面図である。
【図７】本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＡ−Ａ断面図である。
【図８】本発明の第二の実施形態に係るクリーンドラフトのＤ−Ｄ断面図である。
【図９】本発明の実施形態に係る処理装置の正面図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る処理装置のＦ−Ｆ断面図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る処理装置のＧ−Ｇ断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る処理装置のＨ−Ｈ断面図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る処理装置のＩ−Ｉ断面図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る処理装置のＪ−Ｊ断面図である。
【図１５】本発明の実施形態に係る処理装置のＫ−Ｋ断面図である。
【符号の説明】
【００８４】
Ｗ 開口部
Ｈ 作業空間
Ｈ１ 上部作業空間
Ｈ２ 下部作業空間
Ｓ 隙間空間
Ｐ 出入口部
Ｒ１ 被接合面
Ｒ２ 接合面
Ｑ１ 被くい込み部
Ｑ２ 扉の上部
θ 傾斜角度
５ 科学機材
１０ 架台
１０ａ 下部構造
１０ｂ 上部構造
１１ 作業面
１２ 第一窪み
１３ 第二窪み
１４ 仕切り板
１５ 排液配管
１６ 床板材
１７ 調整部材
１８ 分離板
１９ キャリアケース台
２０ フード
２１ 側板
２２ 天井板
２３ 下桟
２４ 上桟
３０ 二重扉
３１ 第一扉
３２ 第二扉
４０ 吸気配管系
４１ 吸気配管
４２ 送風機
４３ フィルタ
５０ 第一排気配管系
５１ 第一配管
５２ 第一ダンパ
５３ 外部フランジ
６０ 第二排気配管系
６１ 第二配管
６２ 第二ダンパ
１００ クリーンドラフト
１１０ 処理用容器
１１１ 容器ケーシング
１１２ 扉
１１３ アクチエータ覆い
１１４ 貯留槽
１１５ アクチエータ
１２０ 基板搬送装置
１３０ キャリアケース
１４０ 基板処理装置
１５０ 基板心出し装置
１６０ 液体回収装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトであって、
科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、
前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、
前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、
室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、
前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、
前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、
を備えることを特徴とするクリーンドラフト。
【請求項２】
前記第一排気配管系が前記作業空間の中の気体を下方へ排気し、
前記第二排気配管系が前記隙間空間の中の気体を下方へ排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項３】
前記下部構造が前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みを形成し、
前記第一排気配管系が前記第一窪みの中の気体を排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項４】
前記下部構造が前記隙間空間に連通し前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みを形成し、
前記第二排気配管系が前記第二窪みの中の気体を排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項５】
前記吸気配管系が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する吸気配管と前記吸気配管の途中に設けられ前記作業空間の側へ送気する送風機とを有する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項６】
前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整可能である、
ことを特徴とする請求項５に記載のクリーンドラフト。
【請求項７】
前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力と室内の圧力との差圧を所定の指令値にする様に制御される、
ことを特徴とする請求項５に記載のクリーンドラフト。
【請求項８】
前記架台が前記作業面に流れる液体を排出する排液配管と前記第一窪みへ液体が流れないための仕切り板とを有する、
ことを特徴とする請求項３に記載のクリーンドラフト。
【請求項９】
前記作業面が前記開口部の最も低い箇所より低い位置に形成され、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１０】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１１】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材と前記床板材の高さを調整する調整部材とを有し、
を備え、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１２】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、
前記床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低く、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１３】
前記架台が前記科学機材を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を有し、
第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１４】
内部で試料を化学処理させるための処理用容器であって、
化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、
所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内される扉と、
を備え、
前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する、
ことを特徴とする反応用容器。
【請求項１５】
前記容器ケーシングが前記出入口部の上方に設けられた前記扉の上部がくい込むことをできる被くい込み部を有し、
前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する、
ことを特徴とする請求項１４に記載の反応用容器。
【請求項１６】
前記扉を垂直に昇降させるアクチエータと前記アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した貯留槽と前記アクチエータを上方から覆うアクチエータ覆いとを有する扉昇降機器を備え、
前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬る、
ことを特徴とする請求項１４に記載の反応用容器。
【請求項１７】
室内に設置され試料を化学処理させるための処理装置であって、
化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、
所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内された扉と、
を有し、
前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する処理用容器と、
前記処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を持つ架台と、
前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、
前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、
室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、
前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、
前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を有するクリーンドラフトと、
を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項１８】
前記架台が前記反応用容器を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を持ち、
第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する、
ことを特徴とする請求項１７に記載の処理装置。
【請求項１９】
前記分離板が略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延びている、
ことを特徴とする請求項１８に記載の処理装置。
【請求項１】
室内に設置され科学機材を用いるためのクリーンドラフトであって、
科学機材を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を有する架台と、
前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、
前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、
室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、
前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、
前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、
を備えることを特徴とするクリーンドラフト。
【請求項２】
前記第一排気配管系が前記作業空間の中の気体を下方へ排気し、
前記第二排気配管系が前記隙間空間の中の気体を下方へ排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項３】
前記下部構造が前記作業面に連なり下方に凹んだ第一窪みを形成し、
前記第一排気配管系が前記第一窪みの中の気体を排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項４】
前記下部構造が前記隙間空間に連通し前記開口部の最も低いの箇所よりも下方に凹んだ第二窪みを形成し、
前記第二排気配管系が前記第二窪みの中の気体を排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項５】
前記吸気配管系が室内の雰囲気と前記作業空間とを連通する吸気配管と前記吸気配管の途中に設けられ前記作業空間の側へ送気する送風機とを有する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項６】
前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力に応じて調整可能である、
ことを特徴とする請求項５に記載のクリーンドラフト。
【請求項７】
前記送風機の送気する圧力又は風量が前記作業空間の圧力と室内の圧力との差圧を所定の指令値にする様に制御される、
ことを特徴とする請求項５に記載のクリーンドラフト。
【請求項８】
前記架台が前記作業面に流れる液体を排出する排液配管と前記第一窪みへ液体が流れないための仕切り板とを有する、
ことを特徴とする請求項３に記載のクリーンドラフト。
【請求項９】
前記作業面が前記開口部の最も低い箇所より低い位置に形成され、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記開口部の最も低い箇所の高さより下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１０】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１１】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材と前記床板材の高さを調整する調整部材とを有し、
を備え、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１２】
前記架台が前記作業面の上方に設けられ多くの貫通穴をあけられ科学機材を搭載可能な床板材を有し、
前記床板材の上面の高さが前記開口部の最も低い箇所の高さより低く、
前記第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記床板材より下方から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１３】
前記架台が前記科学機材を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を有し、
第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する、
ことを特徴とする請求項１に記載のクリーンドラフト。
【請求項１４】
内部で試料を化学処理させるための処理用容器であって、
化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、
所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内される扉と、
を備え、
前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する、
ことを特徴とする反応用容器。
【請求項１５】
前記容器ケーシングが前記出入口部の上方に設けられた前記扉の上部がくい込むことをできる被くい込み部を有し、
前記扉を上昇させると、前記扉の上部が前記被くい込み部にくい込んで、前記接合面と前記被接合面が気密に接合する、
ことを特徴とする請求項１４に記載の反応用容器。
【請求項１６】
前記扉を垂直に昇降させるアクチエータと前記アクチエータの全周を囲って設けられ液体を貯留した貯留槽と前記アクチエータを上方から覆うアクチエータ覆いとを有する扉昇降機器を備え、
前記アクチエータ覆いの下方の縁が前記貯留槽に貯留された液体に漬る、
ことを特徴とする請求項１４に記載の反応用容器。
【請求項１７】
室内に設置され試料を化学処理させるための処理装置であって、
化学処理をさせる反応空間を覆い前記反応空間に試料を出入りさせる出入口部を設けられ前記出入口部の周囲に所定の傾斜角度で斜め下方に向いた被接合面を形成する容器ケーシングと、
所定の前記傾斜角度で斜め上方に向いた接合面を有し垂直方向に昇降自在に案内された扉と、
を有し、
前記扉を上昇させると、前記接合面と前記被接合面とが気密に接合する処理用容器と、
前記処理用容器を収納可能な作業空間の下側を覆う作業面を形成する下部構造を持つ架台と、
前記作業空間の側部と上部とを覆い横側に前記作業空間と室内とを連通可能な開口部を設けられたフードと、
前記開口部を各々に閉止しまたは開放することをでき間に隙間空間を挟んだ二重扉と、
室内の雰囲気を前記作業空間の中に案内する吸気配管系と、
前記作業空間の中の気体を排気する第一排気配管系と、
前記隙間空間の中の気体を排気する第二排気配管系と、を有するクリーンドラフトと、
を備えることを特徴とする処理装置。
【請求項１８】
前記架台が前記反応用容器を上方から被い前記作業空間を上下に分かれて互いに連通する上部作業空間と下部作業空間とに区画する分離板を持ち、
第一排気配管系が前記作業空間の内部の気体を前記下部作業空間から排気する、
ことを特徴とする請求項１７に記載の処理装置。
【請求項１９】
前記分離板が略矩形の前記開口部の下辺の位置から前記作業空間の中を水平に延びている、
ことを特徴とする請求項１８に記載の処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２００７−３８０５０（Ｐ２００７−３８０５０Ａ）
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２２２２６４（Ｐ２００５−２２２２６４）
【出願日】平成１７年７月２９日（２００５．７．２９）
【出願人】（３０４０００４１２）有限会社ＮＡＳ技研 (10)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年２月１５日（２００７．２．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年７月２９日（２００５．７．２９）
【出願人】（３０４０００４１２）有限会社ＮＡＳ技研 (10)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]