ディスプレイ用光学フィルタ及びその製造方法、並びにディスプレイ用光学フィルタを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
【課題】容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供すること。
【解決手段】透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及びその製造方法。
【解決手段】透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及びその製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、前述の反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００６】
さらに上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要があることから、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００７】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【００１０】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１１】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１２】
しかしながら、上記のように塗工によって各機能層を形成すると、導電メッシュ部が露出しない状態となるため電磁シールドのためのアース部を確保できないとの問題がある。
【００１３】
従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
さらに、本発明は、上記接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを簡易に製造する方法を提供することを目的とする。
【００１６】
さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
従って、本発明は、
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部の頂部に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ
にある。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）透明基板が、矩形状である。通常のディスプレイの表示面の形状に相当し、有用である。
（２）凹部が、透明基板の少なくとも相対する両側に設けられている。アースが容易である。
（３）凹部が、間隔をおいて複数設けられている。凹部は、例えば、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状（細い帯状）、例えば直線状又は曲線状である。凹部は、例えば、辺に対し１個の、平面形状が長い直線状の凹部でも良いが、間隔をおいて複数の直線状の凹部が好ましい。これは導電層が露出しやすくなるためである。
（４）導電層が、メッシュ状導電層である。優れた導電性が得られる。
（５）透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている。アースをとりやすい構成である。
（６）ハードコート層の上に、さらに反射防止層（好ましくは低屈折率層）が形成され、最表層を構成している。ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層が設けられていても良い（反射防止機能が向上する）。低屈折率層にさらに保護層が設けられても良い。
（７）近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（８）メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている。優れた透明性が得られる。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１１）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２０】
上記本発明のディスプレイ用光学フィルタは、下記の本発明の製造方法により有利に得ることができる：
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法；及び
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部の頂部に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【００２１】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）カット作業が、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う。切れ込み入れた場合は、切れ込みが入った周囲の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。切削した場合も同様に、切削した凹部の端部の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。導電層の表面又はその近傍までしかカットしなかった場合は、露出導電層は通常凹部の底部がほとんどで、カットによってはその周囲にも導電層が反り返る状態となるが、主としてこの底部の導電層がアース電極を形成する。
（２）透明基板が、矩形状である。カットが容易である。
（３）凹部を、透明基板の少なくとも相対する両側に設ける。
（４）凹部を、間隔をおいて複数設ける。凹部は、例えば、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状である。
（５）導電層が、メッシュ状導電層である。
（６）透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている。
（７）ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成され、最表層を構成している。
（８）近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。
【００２２】
さらにまた、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、フィルタの表面の周囲に露出した導電層が設けられているので、これを電極部として用いて、ディスプレイに装着した場合、この電極部をディスプレイの枠（金属化カバー）と接触させることにより容易にアースをとることができる。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えた光学フィルタということができる。
【００２４】
さらに、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、長尺状のプラスチックフィルム全面に形成された導電層上に、ハードコート層、反射防止膜等の機能層を連続的に形成し、ディスプレイに合った寸法に裁断し、最表層（最外層）の周囲をカットして導電層を露出させることにより得られるので、極めて簡便に製造することができる。
【００２５】
特に、透明フィルムを１枚用いて上記のように光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２６】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の、電極部（アース電極）付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。そしてフィルタの周囲近傍（側端部の内側近傍）に、透明フィルム１２表面にまで達する凹部１８が形成されている。この凹部１８は、メッシュ状導電層１３’、ハードコート層１６’により形成されており、表面に露出したメッシュ状導電層１３’が電極部を形成することができる。これにより、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、容易に導通をとることができる。凹部１８の深さは、透明フィルム１２を破壊しない限り透明フィルム１２の中まで到達していても良い。
【００２９】
このような凹部１８は、最表層の表面をカットすることにより一般に得られる。カット作業は、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う。単に切れ込み入れた場合は、切れ込みが入った周囲の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。切削した場合も同様に、切削した凹部の端部の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。導電層の表面又はその近傍までしかカットしなかった場合は、露出導電層は通常凹部の底部がほとんどで、カットによってはその周囲にも導電層が反り返る状態となるが、主としてこの底部の導電層がアース電極を形成する。
【００３０】
凹部１８は、一般に、間隔をおいて複数設けられている。凹部１８は、一般に、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状（細い帯状）、例えば直線状又は曲線状である。凹部は、例えば、辺に対し１個の、平面形状が長い直線状の凹部でも良いが、間隔をおいて複数の直線状の凹部の方が、導電層が露出しやすく好ましい。
【００３１】
凹部１８の幅（Ｗ）は一般に、０．１〜５ｍｍ、特に１〜３ｍｍが好ましい。下限より小さい場合は導通をとり難くなり、上限を超えるとフィルタ全体の面積に影響を与える。また凹部１８の外側端部の透明フィルムの縁部との距離（Ｅ）は一般に、２〜１０ｍｍ、特に５〜１０ｍｍが好ましい。下限より小さい場合は作業が困難となり、上限を超えるとフィルタ全体の面積に影響を与える。
【００３２】
この構成において、反射防止性がやや劣るが、反射防止層１７が無くても良い。また、近赤外線遮断性に劣るが、近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５も無くても良い。メッシュ状導電層１３は、メッシュ状でない導電層（例、金属酸化物層等）であっても良いが、メッシュ状導電層が導通をとりやすく好ましい。
【００３３】
一般に、上記メッシュ状導電層１３の凹部をハードコート層１６が完全に覆っており、メッシュ状導電層１３は露出していない。そして本発明の機能層であるハードコート層１６が、優れた平坦性及び高い鉛筆硬度を有している。
【００３４】
図１を、反射防止層１７側から見た平面図を図２に示す。矩形状の反射防止層１７の周辺近傍部に凹部１８が多数形成され、凹部の底部に透明フィルム１２が覗いており、凹部の頂部（頂端部）にメッシュ状導電層１３’が露出している。このメッシュ状導電層１３’に、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、ディスプレイの枠（金属化カバー）と接触させることにより容易にアースをとることができる。
【００３５】
図３に、凹部の形状の例の概略図を示す。即ち凹部３８は、１本の直線状でも（１）、短い直線状の凹部３８がジグザグに多数形成されていても良い（２）。また（３）のように直線状の凹部３８を長短交互に形成しても良い。
【００３６】
メッシュ状導電層１３、１３’は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されている。これにより低抵抗を得られやすい。
【００３７】
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３８】
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３９】
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＰのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００４０】
上述のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法に従い、例えば、表面にメッシュ状導電層を有する長尺状のプラスチックフィルムのその導電層に、ハードコート層及び反射防止層を塗工（必要により加熱又は紫外線線照射）等により形成し、他方の表面に近赤外線吸収層、透明粘着剤層を塗工等により形成することにより、長尺状の光学フィルタを得、その後、作製されたフィルタを、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断、周囲をカットして導電層を露出させる（電極部の形成）ことにより得られる。このように、ロールトゥロールで高い生産性で製造することができる長尺状の光学フィルタから、簡便な方法で電極部を形成して、光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の製造方法は、電極部を有する光学フィルタを、極めて簡便に製造することができる方法である。
【００４１】
矩形状の光学フィルタの周囲をカットする道具としては、メッシュ状導電層が表面に露出するような力を付与できるものであればどのような道具を使用しても良く、例えば、カッター（例、ナイフ、ローラーカッター、超音波カッター、プラ板切刃付きカッター（市販品の例、ＮＴカッター）、切削工具、みぞきり、溝切りのこ等を挙げることができる。例えば、凹部に相当する位置に複数の刃が付いた支持板（例えば自動包装機械用カッターのようなもの）を光学フィルタの表面の辺近傍に押し付けることにより一度に多数の凹部を形成することができる。
【００４２】
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。
【００４３】
本発明の図１の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネル４９の画像表示面に貼付された状態を図４に示す。ディスプレイパネル４０の表示面の表面に透明粘着剤層４５を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明フィルム４２の一方の表面に、メッシュ状導電層４３、ハードコート層４６、低屈折率層等の反射防止層４７がこの順で設けられ、透明フィルム４２の他方の表面には近赤外線吸収層４４及び透明粘着剤層４５が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。そしてフィルタの周囲近傍（一般に側端部近傍）に、透明フィルム４２表面にまで届く凹部４８が形成されている。この凹部４８は、メッシュ状導電層４３’、ハードコート層４６’により形成されており、表面に露出したメッシュ状導電層４３’にプラズマディスプレイパネル４０の周囲に設けられた金属カバー４９に導電性ガスケット又はシールドフィンガー（板バネ状金属部品）等を用いて、接触状態にされている。これにより、光学フィルタと金属カバー４９が導通し、アースが達成される。金属カバー４９は金属枠、フレームでも良い。図４から明らかなように、メッシュ状導電層４３は、視聴者側を向いている。金属カバー４９は、導電層４３の端部の縁部から２〜２０ｍｍ程度覆っている。
【００４４】
次に、本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００４５】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。透明フィルムの表面には、ハードコート層１６との接着性を向上させるために中間層（易接着層）を設けても良い。
【００４６】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４７】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層が好ましい。或いは、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。また導電層は、塗工層でもよい。
【００４８】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インク（例、金属粒子含有樹脂層）をメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４９】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径（線幅）１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。他の材料のメッシュ状の導電層についても、一般に同様の範囲が好ましい。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００５０】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００５１】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５２】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５３】
メッシュ状の導電層として、金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものも好ましい。この場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５４】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ（特に１〜１５μｍ）とするのが好ましい。
【００５５】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５６】
メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００５７】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９５重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５８】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５９】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００６０】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６１】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料（好ましくは、金属または金属酸化物の蒸着層）からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。
【００６２】
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６３】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６４】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６５】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００６６】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６７】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６８】
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層でも良い。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６９】
導電層として、金属酸化物層を設ける場合、一般に気相成膜法により形成される。その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【００７０】
また導電層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【００７１】
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７２】
導電層（特にメッシュ状導電層、中でもメッシュ状金属含有導電層）をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。
【００７３】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７４】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理は、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００７５】
本発明の反射防止層は、透明基板（一般に透明フィルム）より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は透明基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、透明基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００７６】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７７】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００７８】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７９】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００８０】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００８１】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８２】
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００８３】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８４】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８５】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８６】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８７】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８８】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００８９】
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００９０】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００９１】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００９２】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９３】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９４】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９５】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９６】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂）を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして必要により硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９７】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９８】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９９】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【０１００】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１０１】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１０２】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１０３】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む透明色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性の観点から有機系色素が好適に用いられる。
【０１０４】
導電性粘着テープを、導電層とＰＤＰ等の他の部分との接着のために必要により用いても良い。導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。この粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【０１０５】
この導電性粒子は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％で使用することが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径にすることにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【０１０６】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。
【０１０７】
上記粘着層は、上記金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合した液をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗布することにより容易に形成することができる。この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。
【０１０８】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１０９】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１０】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１１】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１２】
前記透明粘着剤層の材料として、上記ＥＶＡを使用しても良い。ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１１３】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１１４】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１１５】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１１６】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１１７】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１８】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１９】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１２０】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１２１】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１２２】
上記接着層（或いは透明粘着剤層）は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１２３】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１２４】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１２５】
本発明の光学フィルタは、前述のように、例えば、導電層を有する長尺状の透明フィルムの導電層表面に、ハードコート層、反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより長尺状の積層体を製造し、これを裁断し、上記凹部を形成することにより得られる。
【０１２６】
長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。
【０１２７】
また長尺状の透明フィルムを２枚用いた場合は、一方の長尺状の透明フィルムの一方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等、そして導電層を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの一方の表面に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設け（或いは近赤外線カットフィルムに透明粘着剤層を設けても良い）、これらの２枚の積層体を、両方の透明フィルムの裏面同士を、粘着剤層を介して対向させて、重ね合わさせ、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の積層体を、上記のように裁断すればよい。
【０１２８】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、前述のようにＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１２９】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１３０】
従って、本発明の光学フィルタは、製造が容易で、アースがとりやすく、そして反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３２】
［実施例１］
＜電極部付きディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層
表面にメッシュ状導電層（線幅は２０μｍ、開口率は７７％、厚さ４μｍの銅層）を有する厚さ１００μｍの長尺状のポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：５４０ｍｍ、長さ６００ｍ）を用意した。
【０１３３】
（２）ハードコート層（インク）の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
トルエン ４０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記メッシュ状導電層に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１３４】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン ５０質量部
メチルイソブチルケトン ５０質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記ハードコート層上にバーコータにより塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍのハードコート層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１３５】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ３８０（有本化学工業（株）製 ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ７μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１３６】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ１０μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１３７】
得られた光学フィルタを、長さ４００ｍｍ及び幅５４０ｍｍの寸法に裁断し、得られた矩形状の光学フィルタの周囲（端部から５ｍｍの位置に、幅２ｍｍ）にカッター（商品名：ＮＴカッターＰ−１Ｐ（プラ板切刃）；エヌティ（株）製）で透明フィルムまで切り込みを入れ、幅２ｍｍ、長さ１０ｍｍの凹部を２ｍｍおきに形成した。
【０１３８】
［比較例１］
凹部を形成しなかった以外、実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３９】
［光学フィルタの評価］
（１）導電性
光学フィルタの電極（相対する２個の電極部）に抵抗計（商品名：ｍΩＨｉ−Ｔｅｓｔｅｒ（ＭＣＰ−Ｔ６００）；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。
【０１４０】
上記結果を表１に示す。
【０１４１】
【表１】
【０１４２】
また実施例１で得られたＰＤＰフィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、一方、電極部設置においては極めて容易に行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本発明の光学フィルタの代表例を示す概略断面図である。
【図２】図１のディスプレイ用光学フィルタの概略平面図である。
【図３】本発明の凹部の平面形状の例を示す。
【図４】図１の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１１、４１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２、４２ 透明フィルム
１３、１３’、４３、４３’ メッシュ状導電層
１６、１６’、４６ ハードコート層
１７、４７ 反射防止層
１４、４４ 近赤外線吸収層
１５、４５ 透明粘着剤層
１８、４８ 凹部
４９ 金属カバー
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、前述の反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００６】
さらに上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要があることから、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００７】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【００１０】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１１】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１２】
しかしながら、上記のように塗工によって各機能層を形成すると、導電メッシュ部が露出しない状態となるため電磁シールドのためのアース部を確保できないとの問題がある。
【００１３】
従って、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
また、本発明は、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
さらに、本発明は、上記接地し易いアース電極を備えたディスプレイ用光学フィルタを簡易に製造する方法を提供することを目的とする。
【００１６】
さらに、本発明は、容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
従って、本発明は、
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部の頂部に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ
にある。
【００１９】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）透明基板が、矩形状である。通常のディスプレイの表示面の形状に相当し、有用である。
（２）凹部が、透明基板の少なくとも相対する両側に設けられている。アースが容易である。
（３）凹部が、間隔をおいて複数設けられている。凹部は、例えば、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状（細い帯状）、例えば直線状又は曲線状である。凹部は、例えば、辺に対し１個の、平面形状が長い直線状の凹部でも良いが、間隔をおいて複数の直線状の凹部が好ましい。これは導電層が露出しやすくなるためである。
（４）導電層が、メッシュ状導電層である。優れた導電性が得られる。
（５）透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている。アースをとりやすい構成である。
（６）ハードコート層の上に、さらに反射防止層（好ましくは低屈折率層）が形成され、最表層を構成している。ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層が設けられていても良い（反射防止機能が向上する）。低屈折率層にさらに保護層が設けられても良い。
（７）近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（８）メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている。優れた透明性が得られる。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１１）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２０】
上記本発明のディスプレイ用光学フィルタは、下記の本発明の製造方法により有利に得ることができる：
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法；及び
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部の頂部に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【００２１】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）カット作業が、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う。切れ込み入れた場合は、切れ込みが入った周囲の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。切削した場合も同様に、切削した凹部の端部の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。導電層の表面又はその近傍までしかカットしなかった場合は、露出導電層は通常凹部の底部がほとんどで、カットによってはその周囲にも導電層が反り返る状態となるが、主としてこの底部の導電層がアース電極を形成する。
（２）透明基板が、矩形状である。カットが容易である。
（３）凹部を、透明基板の少なくとも相対する両側に設ける。
（４）凹部を、間隔をおいて複数設ける。凹部は、例えば、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状である。
（５）導電層が、メッシュ状導電層である。
（６）透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている。
（７）ハードコート層の上に、さらに低屈折率層が形成され、最表層を構成している。
（８）近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている。
（９）透明基板がプラスチックフィルムである。
（１０）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。
【００２２】
さらにまた、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、フィルタの表面の周囲に露出した導電層が設けられているので、これを電極部として用いて、ディスプレイに装着した場合、この電極部をディスプレイの枠（金属化カバー）と接触させることにより容易にアースをとることができる。従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、さらに接地し易いアース電極を備えた光学フィルタということができる。
【００２４】
さらに、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、長尺状のプラスチックフィルム全面に形成された導電層上に、ハードコート層、反射防止膜等の機能層を連続的に形成し、ディスプレイに合った寸法に裁断し、最表層（最外層）の周囲をカットして導電層を露出させることにより得られるので、極めて簡便に製造することができる。
【００２５】
特に、透明フィルムを１枚用いて上記のように光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２６】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明の、電極部（アース電極）付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。そしてフィルタの周囲近傍（側端部の内側近傍）に、透明フィルム１２表面にまで達する凹部１８が形成されている。この凹部１８は、メッシュ状導電層１３’、ハードコート層１６’により形成されており、表面に露出したメッシュ状導電層１３’が電極部を形成することができる。これにより、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、容易に導通をとることができる。凹部１８の深さは、透明フィルム１２を破壊しない限り透明フィルム１２の中まで到達していても良い。
【００２９】
このような凹部１８は、最表層の表面をカットすることにより一般に得られる。カット作業は、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う。単に切れ込み入れた場合は、切れ込みが入った周囲の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。切削した場合も同様に、切削した凹部の端部の導電層が反り返って表面に露出した状態になり、この部分がアース電極を形成する。導電層の表面又はその近傍までしかカットしなかった場合は、露出導電層は通常凹部の底部がほとんどで、カットによってはその周囲にも導電層が反り返る状態となるが、主としてこの底部の導電層がアース電極を形成する。
【００３０】
凹部１８は、一般に、間隔をおいて複数設けられている。凹部１８は、一般に、外周端部（矩形状の場合の辺）に沿って少し内側に設けられており、その平面形状は一般に線状（細い帯状）、例えば直線状又は曲線状である。凹部は、例えば、辺に対し１個の、平面形状が長い直線状の凹部でも良いが、間隔をおいて複数の直線状の凹部の方が、導電層が露出しやすく好ましい。
【００３１】
凹部１８の幅（Ｗ）は一般に、０．１〜５ｍｍ、特に１〜３ｍｍが好ましい。下限より小さい場合は導通をとり難くなり、上限を超えるとフィルタ全体の面積に影響を与える。また凹部１８の外側端部の透明フィルムの縁部との距離（Ｅ）は一般に、２〜１０ｍｍ、特に５〜１０ｍｍが好ましい。下限より小さい場合は作業が困難となり、上限を超えるとフィルタ全体の面積に影響を与える。
【００３２】
この構成において、反射防止性がやや劣るが、反射防止層１７が無くても良い。また、近赤外線遮断性に劣るが、近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５も無くても良い。メッシュ状導電層１３は、メッシュ状でない導電層（例、金属酸化物層等）であっても良いが、メッシュ状導電層が導通をとりやすく好ましい。
【００３３】
一般に、上記メッシュ状導電層１３の凹部をハードコート層１６が完全に覆っており、メッシュ状導電層１３は露出していない。そして本発明の機能層であるハードコート層１６が、優れた平坦性及び高い鉛筆硬度を有している。
【００３４】
図１を、反射防止層１７側から見た平面図を図２に示す。矩形状の反射防止層１７の周辺近傍部に凹部１８が多数形成され、凹部の底部に透明フィルム１２が覗いており、凹部の頂部（頂端部）にメッシュ状導電層１３’が露出している。このメッシュ状導電層１３’に、フィルタをディスプレイの表示部に貼付した際、ディスプレイの枠（金属化カバー）と接触させることにより容易にアースをとることができる。
【００３５】
図３に、凹部の形状の例の概略図を示す。即ち凹部３８は、１本の直線状でも（１）、短い直線状の凹部３８がジグザグに多数形成されていても良い（２）。また（３）のように直線状の凹部３８を長短交互に形成しても良い。
【００３６】
メッシュ状導電層１３、１３’は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されている。これにより低抵抗を得られやすい。
【００３７】
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３８】
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３９】
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＰのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００４０】
上述のディスプレイ用光学フィルタは、本発明の製造方法に従い、例えば、表面にメッシュ状導電層を有する長尺状のプラスチックフィルムのその導電層に、ハードコート層及び反射防止層を塗工（必要により加熱又は紫外線線照射）等により形成し、他方の表面に近赤外線吸収層、透明粘着剤層を塗工等により形成することにより、長尺状の光学フィルタを得、その後、作製されたフィルタを、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断、周囲をカットして導電層を露出させる（電極部の形成）ことにより得られる。このように、ロールトゥロールで高い生産性で製造することができる長尺状の光学フィルタから、簡便な方法で電極部を形成して、光学フィルタを得ることができる。従って、本発明の製造方法は、電極部を有する光学フィルタを、極めて簡便に製造することができる方法である。
【００４１】
矩形状の光学フィルタの周囲をカットする道具としては、メッシュ状導電層が表面に露出するような力を付与できるものであればどのような道具を使用しても良く、例えば、カッター（例、ナイフ、ローラーカッター、超音波カッター、プラ板切刃付きカッター（市販品の例、ＮＴカッター）、切削工具、みぞきり、溝切りのこ等を挙げることができる。例えば、凹部に相当する位置に複数の刃が付いた支持板（例えば自動包装機械用カッターのようなもの）を光学フィルタの表面の辺近傍に押し付けることにより一度に多数の凹部を形成することができる。
【００４２】
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。
【００４３】
本発明の図１の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネル４９の画像表示面に貼付された状態を図４に示す。ディスプレイパネル４０の表示面の表面に透明粘着剤層４５を介して光学フィルタが接着されている。即ち、透明フィルム４２の一方の表面に、メッシュ状導電層４３、ハードコート層４６、低屈折率層等の反射防止層４７がこの順で設けられ、透明フィルム４２の他方の表面には近赤外線吸収層４４及び透明粘着剤層４５が設けられた光学フィルタが表示面に設けられている。そしてフィルタの周囲近傍（一般に側端部近傍）に、透明フィルム４２表面にまで届く凹部４８が形成されている。この凹部４８は、メッシュ状導電層４３’、ハードコート層４６’により形成されており、表面に露出したメッシュ状導電層４３’にプラズマディスプレイパネル４０の周囲に設けられた金属カバー４９に導電性ガスケット又はシールドフィンガー（板バネ状金属部品）等を用いて、接触状態にされている。これにより、光学フィルタと金属カバー４９が導通し、アースが達成される。金属カバー４９は金属枠、フレームでも良い。図４から明らかなように、メッシュ状導電層４３は、視聴者側を向いている。金属カバー４９は、導電層４３の端部の縁部から２〜２０ｍｍ程度覆っている。
【００４４】
次に、本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００４５】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。透明フィルムの表面には、ハードコート層１６との接着性を向上させるために中間層（易接着層）を設けても良い。
【００４６】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４７】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層が好ましい。或いは、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。また導電層は、塗工層でもよい。
【００４８】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インク（例、金属粒子含有樹脂層）をメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４９】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径（線幅）１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。他の材料のメッシュ状の導電層についても、一般に同様の範囲が好ましい。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００５０】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００５１】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５２】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５３】
メッシュ状の導電層として、金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものも好ましい。この場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５４】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ（特に１〜１５μｍ）とするのが好ましい。
【００５５】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５６】
メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００５７】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銀、銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９５重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５８】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５９】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００６０】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６１】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料（好ましくは、金属または金属酸化物の蒸着層）からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。
【００６２】
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６３】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６４】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６５】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００６６】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６７】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６８】
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層でも良い。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６９】
導電層として、金属酸化物層を設ける場合、一般に気相成膜法により形成される。その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【００７０】
また導電層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【００７１】
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７２】
導電層（特にメッシュ状導電層、中でもメッシュ状金属含有導電層）をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。
【００７３】
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７４】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理は、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行って、黒化層を設けることにより行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等により行うことができる。
【００７５】
本発明の反射防止層は、透明基板（一般に透明フィルム）より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は透明基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、透明基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００７６】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７７】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００７８】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７９】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００８０】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００８１】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８２】
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００８３】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８４】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８５】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８６】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８７】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８８】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００８９】
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００９０】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００９１】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００９２】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９３】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９４】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９５】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９６】
近赤外線吸収層（即ち、近赤外線遮蔽層）は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂（例えば、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂）を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして必要により硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９７】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９８】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９９】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【０１００】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１０１】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１０２】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１０３】
近赤外線吸収層は、色調補正用の色素を含有していることが好ましい。或いは色調補正用の色素を含む透明色調補正層を、近赤外線吸収層と同様にして設けても良い。色調補正用の色素としては、近赤外線遮蔽層の黄褐色〜緑色の色調を中性化してカラーバランスを整えるために、それらの補色となるようなものが好ましい。このような色素としては、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料、色素等一般的なものが挙げることができる。無機顔料としては、コバルト化合物、鉄化合物、クロム化合物等を挙げることができ、有機顔料としては、アゾ系、インドリノン系、キナクリドン系、バット系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等を挙げることができ、前記有機系染料及び色素には、アゾ系、アジン系、アントラキノン系、インジゴイド系、オキサジン系、キノフタロン系、スクワリウム系、スチルベン系、トリフェニルメタン系、ナフトキノン系、ピラロゾン系、ポリメチン系等を挙げることができるが、これらの内で、発色性の観点から有機系色素が好適に用いられる。
【０１０４】
導電性粘着テープを、導電層とＰＤＰ等の他の部分との接着のために必要により用いても良い。導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂に硬化剤を配合したものを用いることができる。この粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、りん片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【０１０５】
この導電性粒子は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％で使用することが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径にすることにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【０１０６】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。
【０１０７】
上記粘着層は、上記金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合した液をロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗布することにより容易に形成することができる。この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。
【０１０８】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１０９】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１０】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１１】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１１２】
前記透明粘着剤層の材料として、上記ＥＶＡを使用しても良い。ＥＶＡを使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１１３】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１１４】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１１５】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１１６】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１１７】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１８】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１９】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１２０】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１２１】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１２２】
上記接着層（或いは透明粘着剤層）は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１２３】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１２４】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１２５】
本発明の光学フィルタは、前述のように、例えば、導電層を有する長尺状の透明フィルムの導電層表面に、ハードコート層、反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより長尺状の積層体を製造し、これを裁断し、上記凹部を形成することにより得られる。
【０１２６】
長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。
【０１２７】
また長尺状の透明フィルムを２枚用いた場合は、一方の長尺状の透明フィルムの一方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等、そして導電層を順次設け、別の長尺状の透明フィルムの一方の表面に近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設け（或いは近赤外線カットフィルムに透明粘着剤層を設けても良い）、これらの２枚の積層体を、両方の透明フィルムの裏面同士を、粘着剤層を介して対向させて、重ね合わさせ、一体化することにより容易に製造することができる。このようにして得られた長尺状の積層体を、上記のように裁断すればよい。
【０１２８】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、前述のようにＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１２９】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１３０】
従って、本発明の光学フィルタは、製造が容易で、アースがとりやすく、そして反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【０１３１】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１３２】
［実施例１］
＜電極部付きディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層
表面にメッシュ状導電層（線幅は２０μｍ、開口率は７７％、厚さ４μｍの銅層）を有する厚さ１００μｍの長尺状のポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：５４０ｍｍ、長さ６００ｍ）を用意した。
【０１３３】
（２）ハードコート層（インク）の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ） ２０質量部
メチルエチルケトン ４０質量部
トルエン ４０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記メッシュ状導電層に、バーコータにより塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１３４】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン ５０質量部
メチルイソブチルケトン ５０質量部
を混合して得たインク（塗工液）を、上記ハードコート層上にバーコータにより塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍのハードコート層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１３５】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ３８０（有本化学工業（株）製 ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ７μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１３６】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ１０μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１３７】
得られた光学フィルタを、長さ４００ｍｍ及び幅５４０ｍｍの寸法に裁断し、得られた矩形状の光学フィルタの周囲（端部から５ｍｍの位置に、幅２ｍｍ）にカッター（商品名：ＮＴカッターＰ−１Ｐ（プラ板切刃）；エヌティ（株）製）で透明フィルムまで切り込みを入れ、幅２ｍｍ、長さ１０ｍｍの凹部を２ｍｍおきに形成した。
【０１３８】
［比較例１］
凹部を形成しなかった以外、実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３９】
［光学フィルタの評価］
（１）導電性
光学フィルタの電極（相対する２個の電極部）に抵抗計（商品名：ｍΩＨｉ−Ｔｅｓｔｅｒ（ＭＣＰ−Ｔ６００）；日置電機（株）製）を接続して、抵抗値を測定した。
【０１４０】
上記結果を表１に示す。
【０１４１】
【表１】
【０１４２】
また実施例１で得られたＰＤＰフィルタは、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等において、従来のものと遜色はなく、一方、電極部設置においては極めて容易に行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本発明の光学フィルタの代表例を示す概略断面図である。
【図２】図１のディスプレイ用光学フィルタの概略平面図である。
【図３】本発明の凹部の平面形状の例を示す。
【図４】図１の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１１、４１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２、４２ 透明フィルム
１３、１３’、４３、４３’ メッシュ状導電層
１６、１６’、４６ ハードコート層
１７、４７ 反射防止層
１４、４４ 近赤外線吸収層
１５、４５ 透明粘着剤層
１８、４８ 凹部
４９ 金属カバー
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部の頂部に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
透明基板が、矩形状である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
凹部が、透明基板の少なくとも相対する両側に設けられている請求項３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
凹部が、間隔をおいて複数設けられている請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
凹部の平面形状が、線状である請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
導電層が、メッシュ状導電層である請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項９】
ハードコート層の上に、さらに反射防止層が形成され、最表層を構成している請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項８又は９に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている請求項７〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１５】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部の頂部に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１６】
カット作業が、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う請求項１４又は１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
透明基板が、矩形状である請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
凹部を、透明基板の少なくとも相対する両側に設ける請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
凹部を、間隔をおいて複数設ける請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
凹部の平面形状が、線状である請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２１】
導電層が、メッシュ状導電層である請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２２】
透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２３】
ハードコート層の上に、さらに反射防止層が形成され、最表層を構成している請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２４】
近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項２２又は２３に記載の製造方法。
【請求項２５】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１４〜２４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２６】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項２４又は２５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２７】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２８】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項２９】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍に、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部が形成され、その凹部の頂部に導電層が露出しており、その露出導電層が電極部を形成していることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項３】
透明基板が、矩形状である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項４】
凹部が、透明基板の少なくとも相対する両側に設けられている請求項３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項５】
凹部が、間隔をおいて複数設けられている請求項１〜４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
凹部の平面形状が、線状である請求項１〜５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
導電層が、メッシュ状導電層である請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項９】
ハードコート層の上に、さらに反射防止層が形成され、最表層を構成している請求項１〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項８又は９に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
メッシュ状導電層のメッシュの間隙にはハードコート層が埋め込まれている請求項７〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも導電層表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部及び／又はその近傍に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１５】
透明基板の一方の表面に導電層及びハードコート層がこの順で設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタにおける、当該ハードコート層又はその上に別の層が設けられている場合はそれらの最表層の、周囲の近傍をカットすることにより、少なくとも透明基板表面に達する複数の凹部を形成して、その凹部の頂部に導電層が露出させ、これによりその露出導電層の電極部を形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１６】
カット作業が、切れ込み入れるか、或いは切削することにより行う請求項１４又は１５に記載の製造方法。
【請求項１７】
透明基板が、矩形状である請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
凹部を、透明基板の少なくとも相対する両側に設ける請求項１７に記載の製造方法。
【請求項１９】
凹部を、間隔をおいて複数設ける請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
凹部の平面形状が、線状である請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２１】
導電層が、メッシュ状導電層である請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２２】
透明基板のハードコート層が設けられていない側には近赤外線吸収層が設けられている請求項１４〜２１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２３】
ハードコート層の上に、さらに反射防止層が形成され、最表層を構成している請求項１４〜２２のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２４】
近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項２２又は２３に記載の製造方法。
【請求項２５】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１４〜２４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２６】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項２４又は２５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項２７】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２８】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項２９】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−１４７３４７（Ｐ２００８−１４７３４７Ａ）
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３１７１３（Ｐ２００６−３３１７１３）
【出願日】平成１８年１２月８日（２００６．１２．８）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月８日（２００６．１２．８）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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