バンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法

【課題】フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させる。
【解決手段】所定の基板上に現像液を浸透する犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、上記犠牲層上にフォトレジストからなるバンク層を形成するバンク層形成工程と、上記バンク層をマスクを介して露光する露光工程と、上記露光工程後の上記バンク層を現像液によって現像する現像工程とを有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、カラーフィルタ基板の着色層、有機ＥＬ装置の有機機能層及び微細な配線パターン等を液滴吐出法を用いて形成する方法が提案されている。
この液滴吐出法によれば、材料を必要な箇所に必要なだけ配置することができるため、材料使用量の削減や形成時間の短縮化を図ることができる。
【０００３】
このような液滴吐出法では、液状の材料、あるいは、材料を液体に含有させた液状体を吐出するため、材料を基板上に配置する場合には、液滴吐出法によって吐出した液体が流れ出さないよう、基板上に予めバンクと呼ばれるバンクを形成し、このバンク間に液体を吐出配置している。そして、バンク間に配置された液体が乾燥あるいは焼成されることによって、最終的に、バンク間に着色層、有機機能層あるいは配線パターンが形成される。
【０００４】
ところで、液滴吐出法において液体を所定領域、すなわちバンク間に配置する際には、バンク間において液滴吐出法によって吐出された液体を濡れ広がらせる必要がある。ここで、液体が濡れ広がらない場合には、液体の液滴の膜厚等にムラが生じ、均一な機能を発揮することができなくなる。また、バンク間から液体が食み出した場合には、混色等の不良原因となる場合もある。
そこで、例えば、プラズマ処理によって、バンク間の親液性を高めたり（特許文献１）、バンクに撥液性を与えたりすることによって、液体が確実にバンク間においてのみ濡れ広がらせる技術が提案されている。
【特許文献１】特開２００２−３７２９２１号公報
【特許文献２】特開２００３−１７２８１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、現状においては、上述のような技術を用いても、液体を確実にバンク間においてのみ濡れ広がらせることが困難である。
これは、バンクを形成する際に用いられるフォトリソグラフィー法の現像工程に問題があるものと考えられる。より詳細には、現像工程において用いられる現像液がバンク層の厚み方向に浸透しにくいために、結果として現像部の基板面にレジスト残渣を生じたり、形成されるバンクの断面形状がバンク上面から基板面に向けて幅の広がったテーパー状となるためと考えられる。すなわち、フォトリソグラフィー法における現像性が悪いことが原因と考えられる。
【０００６】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のバンク形成方法は、所定の基板上に現像液を浸透する犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、上記犠牲層上にレジストからなるバンク層を形成するバンク層形成工程と、上記バンク層をマスクを介して露光する露光工程と、上記露光工程後の上記バンク層を現像液によって現像する現像工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
このような特徴を有する本発明のバンク形成方法によれば、犠牲層形成工程において現像液を浸透する犠牲層が基板上に形成され、バンク層形成工程において、レジストからなるバンク層が犠牲層上に形成され、露光工程においてバンク層がマスクを介して露光され、現像工程において露光工程後のバンク層が現像液によって現像される。
ここで、本発明のバンク形成方法においては、バンク層と基板との間に犠牲層が形成されているため、現像工程において、基板面にまで達した現像液が犠牲層に浸透し、基板側からバンク層を現像する。このため、基板面にレジスト残渣を生じることがなく、バンクの断面形状がテーパー状になることも抑止することができ、エッジの立ったバンクを形成することができる。
したがって、本発明のバンク形成方法によれば、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させることが可能となる。
【０００９】
また、本発明のバンク形成方法において、具体的には、上記犠牲層が、酸化物からなる微粒子によって形成されているという構成を採用することができる。上記酸化物からなる微粒子は、ケイ素、亜鉛、スズ、ストロンチウム、タングステン、チタン、ビスマス、及び鉄から選択される１種以上の物質の酸化物であるという構成を採用することができる。
また、上記犠牲層は、酸化物を含んでなる微粒子とが少なくとも１種以上混合されて形成されているという構成を採用することもできる。
【００１０】
また、本発明のバンク形成方法においては、上記バンク層と上記犠牲層との間に第２のバンク層を形成する工程を有するという構成を採用することができる。
このような構成を採用することによって、現像工程において、第２のバンク層も現像されるため、２層バンクを形成することができる。
【００１１】
次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、本発明のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とする。
また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法においては、本発明のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とする。
また、本発明の配線パターン形成方法においては、本発明のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とする。
【００１２】
このような特徴を有する本発明のカラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法及び配線パターンの形成方法においては、本発明のバンク形成方法によってバンクが形成されるため、現像性がよく、エッジの立ったバンクが形成される。
したがって、バンク間に均一な機能を発揮する機能層（カラーフィルタ基板の製造方法においてはカラーフィルタ、有機ＥＬ装置の製造方法においては有機機能層、配線パターンの形成方法においては配線層）が形成されたカラーフィルタ基板、有機機能層、配線パターンを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明に係るバンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法の一実施形態について説明する。
なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１４】
（バンク形成方法）
図１は、本実施形態のバンク形成方法によって形成されたバンク１を備える基板Ｐの断面を模式的に示した図である。
この図に示すように、基板Ｐは、その上面Ｐ１にバンク１が形成された構成を有しており、基板Ｐの上面Ｐ１とバンク１との間には犠牲層２が形成されている。なお、基板Ｐとしては、特に限定されるものではないが、例えば、絶縁性を有する透明基板、半透明基板、不透明基板等の種々の基板を用いることができる。また、犠牲層２は、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像液を浸透する機能を有しており、本実施形態においては、チタンの酸化物である二酸化チタンによって形成されている。
そして、図に示すように、本実施形態のバンク形成方法によって形成されたバンク１は、そのエッジ１１が立ったものとなっており、現像性が良い状態において形成されている。
【００１５】
次に、本実施形態のバンク形成方法について説明する。
【００１６】
まず、図２に示すように、基板Ｐの上面Ｐ１側に、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像液を浸透する犠牲層２を形成する（犠牲層形成工程）。
具体的には、二酸化チタン微粒子を溶媒に分散させ、この溶液を基板Ｐ上に配置した後、溶媒を揮発あるいは蒸発させることによって、犠牲層２が形成される。
【００１７】
続いて、図３に示すように、犠牲層２が形成された基板Ｐ上にフォトレジスト（感光性樹脂）からなるバンク層１０を形成する（バンク層形成工程）。
具体的には、スピンコート法等の所定の方法によって、フォトレジスト材料を基板Ｐ上に配置することによって、バンク層１０が形成される。
【００１８】
そして、図４に示すように、マスクＭを介してレジストによって形成されたバンク層１０を露光したのち、現像液によって現像する。
ここで、本実施形態のバンク形成方法においては、犠牲層形成工程において、バンク層１０と基板Ｐの上面Ｐ１との間に犠牲層２が形成されている。この犠牲層２は、上述のように現像液が浸透するものである。このため、図５に示すように、基板Ｐの上面Ｐ１にまで達した現像液Ｘが犠牲層２に浸透し、基板Ｐ側からバンク層１０を現像する。この結果、バンク層１０が厚み方向に沿ってエッチングされる。したがって、図１に示すように、バンク１の断面形状がテーパー状になることを抑止することができ、エッジの立ったバンクを形成することができる。また、犠牲層２として透明な二酸化チタン微粒子を採用しているため、犠牲層２が基板Ｐの上面Ｐ１に残っていても、そのまま利用することが可能である。
このように、本実施形態のバンク形成方法によれば、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させることが可能となる。
【００１９】
なお、バンク１が撥液性を有する材料によって形成されていない場合には、必要に応じてバンク１をＣＦ_４プラズマ等によって撥液化する撥液化工程を行っても良い。この撥液化工程を行うことによって、撥液性を有するバンク１を形成することができる。このとき、基板Ｐの上面Ｐ１にレジスト残渣が存在すると、バンク１同様に撥液化するため、基板Ｐの上面Ｐ１の濡れ広がり性が悪くなる。しかし、犠牲層２が基板Ｐの上面Ｐ１に残っていた場合は、犠牲層２として二酸化チタン微粒子を採用しているため、ＣＦ４プラズマ等によって撥液化することがなく濡れ広がり性は悪くならない。
また、バンク１，１間に露出した基板Ｐの上面Ｐ１の親液性をＯ_２プラズマによるアッシング処理等によって高める処理を行っても良い。これによって、バンク１，１間に液体材料を配置した場合の液体材料の濡れ拡がり性を高めることができる。
【００２０】
図６は、２層バンク３，４が形成された基板Ｐの断面を模式的に示した図である。
この図に示すように、本実施形態のバンク形成方法によれば、図６に示すような２層バンク３，４を形成する場合であっても、そのエッジ３１，４１を立ったものとすることができる。
【００２１】
具体的には、このような２層バンク３，４を形成する場合には、図７に示すように、基板Ｐの上面Ｐ１側に犠牲層２、バンク層３０、バンク層４０を配置する。なお、バンク層４０は、フォトレジストによって形成されているが、バンク層３０は、必ずしもフォトレジストから構成される必要はない。
続いて、マスクを介してバンク層４０を露光し、その後、現像液によって現像する。ここで、本実施形態のバンク形成方法においては、バンク層３０と基板Ｐの上面Ｐ１との間に犠牲層２が形成されている。このため、基板Ｐの上面Ｐ１にまで達した現像液が犠牲層２に浸透し、基板Ｐ側からバンク層３０を現像する。この結果、バンク層３０，４０が厚み方向に沿ってエッチングされる。したがって、図６に示すように、バンク３，４の断面形状が逆テーパー状になることを抑止することができ、エッジの立ったバンクを形成することができる。
【００２２】
（カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法）
次に、上記実施形態のバンク形成方法を用いたカラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法について説明する。なお、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法においては、上記実施形態のバンク形成方法によって形成されたバンク間に液体材料を液滴吐出法によって吐出配置する点において共通している。このため、まず、液体材料を液滴吐出法によって吐出配置する液滴吐出装置について説明する。
【００２３】
（液滴吐出装置）
図８は、液滴吐出装置ＩＪの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００と、Ｘ軸方向駆動軸６と、Ｙ軸方向ガイド軸５と、制御装置ＣＯＮＴと、ステージ７と、クリーニング機構８と、基台９と、ヒータ１５とを備えている。
ステージ７は、この液滴吐出装置ＩＪによりインク（液体材料）を設けられる基板Ｐを支持するものであって、基板Ｐを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えている。
【００２４】
液滴吐出ヘッド１００は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とＹ軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド１００の下面にＹ軸方向に並んで一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド１００の吐出ノズルからは、ステージ７に支持されている基板Ｐに対して、上述した着色材を含むインクが吐出される。
【００２５】
図９は液滴吐出ヘッド１００をノズル面側（基板Ｐとの対向面側）から見た図である。図９に示すように、液滴吐出ヘッド１００は、複数のヘッド部２１と、これらヘッド部２１を搭載したキャリッジ部２２とを備えている。ヘッド部２１のノズル面２４には液状材料の液滴を吐出する複数の吐出ノズル１１０が設けられている。ヘッド部２１（ノズル面２４）のそれぞれは平面視矩形状であって、吐出ノズル１１０は、ヘッド部２１の長手方向である略Ｙ軸方向に沿って一定間隔で列状に、且つヘッド部２１の幅方向である略Ｘ軸方向に間隔をあけて２列でノズル面２４のそれぞれに複数（例えば、１列１８０ノズル、合計３６０ノズル）設けられている。また、ヘッド部２１は、吐出ノズル１１０を基板側に向けるとともに、Ｙ軸に対して所定角度傾いた状態で略Ｙ軸方向に沿って列状に、且つＸ軸方向に所定間隔をあけて２列に配置された状態でキャリッジ部２２に複数（図９では１列６個、合計１２個）位置決めされて支持されている。
【００２６】
ここで、液滴吐出ヘッド１００は、この液滴吐出ヘッド１００のＹ軸方向に対する取り付け角度を調整可能な角度調整機構（不図示）を備えている。この角度調整機構により、液滴吐出ヘッド１００はＹ軸方向に対する角度θを可変とする。角度調整機構を駆動することにより、吐出ノズル１１０のそれぞれをＹ軸方向に並んで配置したり、吐出ノズル１１０の並び方向のＹ軸に対する角度を調整でき、ノズル間のピッチを調節することが出来る。また、基板Ｐとノズル面との距離を任意に調節することが出来るようにしてもよい。
【００２７】
図８に戻り、Ｘ軸方向駆動軸６には、Ｘ軸方向駆動モータ６１が接続されている。Ｘ軸方向駆動モータ６１はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ軸方向駆動軸６を回転させる。Ｘ軸方向駆動軸６が回転すると、液滴吐出ヘッド１００はＸ軸方向に移動する。
【００２８】
Ｙ軸方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。ステージ７は、Ｙ軸方向駆動モータ５１を備えている。Ｙ軸方向駆動モータ５１はステッピングモータ等であり、制御装置ＣＯＮＴからＹ軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ７をＹ軸方向に移動する。
【００２９】
制御装置ＣＯＮＴは、液滴吐出ヘッド１００における液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ軸方向駆動モータ６１に液滴吐出ヘッド１００のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ軸方向駆動モータ５１にステージ７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
【００３０】
クリーニング機構８は、液滴吐出ヘッド１００をクリーニングするものである。クリーニング機構８には、図示しないＹ軸方向の駆動モータが備えられている。このＹ軸方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構は、Ｙ軸方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３１】
ヒータ１５は、ここではランプアニールにより基板Ｐを熱処理する手段であり、基板Ｐ上に塗布された液体材料に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行う。このヒータ１５の電源の投入及び遮断も制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００３２】
液滴吐出装置ＩＪは、液滴吐出ヘッド１００と基板Ｐを支持するステージ７とを相対的に走査しつつ基板Ｐに対して液滴を吐出する。ここで、以下の説明において、Ｘ軸方向を走査方向、Ｘ軸方向と直交するＹ軸方向を非走査方向とする。したがって、液滴吐出ヘッド１００の吐出ノズルは、非走査方向であるＹ軸方向に一定間隔で並んで設けられている。
【００３３】
図１０は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
図１０において、液体材料を収容する液体室２１に隣接してピエゾ素子２２が設置されている。液体室２１には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系２３を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子２２は駆動回路２４に接続されており、この駆動回路２４を介してピエゾ素子２２に電圧を印加し、ピエゾ素子２２を変形させることにより、液体室２１が変形し、ノズル２５から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子２２の歪み速度が制御される。
なお、液滴吐出方式としては、液体材料を加熱し発生した泡（バブル）により液体材料を吐出させるバブル（サーマル）方式でも採用可能であるが、ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
【００３４】
（カラーフィルタ基板の製造方法）
続いて、上記実施形態のバンク形成方法及び上述の液滴吐出装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。
【００３５】
まず、図１１に示すように、透明の基板７４２の一方の面に対し、上記実施形態のバンク形成方法によってバンク７０６（ブラックマトリクス）を形成する。なお、このバンク７０６を形成する際には、光透過性のない樹脂（好ましくは黒色樹脂）をバンク形成材料としてもちいる。
【００３６】
次に、図１２に示すように、上述した液滴吐出装置からＲの液滴７９０Ｒ（液体材料）を吐出し、これをバンク７０６，７０６間に着弾させる。次いで、液状体の仮焼成を行い、図１３に示すようなＲ着色層７０３Ｒとする。そして、以上の工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色について繰り返し、図１４に示すように、着色層７０３Ｇ，７０３Ｂを順次形成する。着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを全て形成した後、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを一括して焼成する。
ここで、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法においては、上記実施形態のバンク形成方法によってバンク７０６を形成している。このため、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性が向上されており、バンク７０６，７０６間にバンク形成材料の残渣がなく、エッジの立ったバンク７０６となっている。したがって、膜厚の均一な着色層７０３が形成される。
【００３７】
次に、基板７４２を平坦化し、かつ着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂを保護するため、図１５に示すように各着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂやバンク７０６を覆うオーバーコート膜（保護膜）７０４を形成する。この保護膜７０４の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法等の方法を採用することもできるが、着色層７０３Ｒ，７０３Ｇ，７０３Ｂの場合と同様に液滴吐出プロセスを用いることもできる。
そして、以上の工程によって、カラーフィルタ基板が製造される。
【００３８】
以上のように、本実施形態では、上記実施形態のバンク形成方法を用いているため、現像工程の現像性が向上されており、エッジの立ったバンク７０６が形成される。このため、ムラがなく平坦且つ均一な厚さの着色層を得ることができる。
【００３９】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
続いて、上記実施形態のバンク形成方法及び上述の液滴吐出装置を用いた有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置の製造方法について説明する。
【００４０】
まず、図１６に示すように、スイッチング素子８１０が透明画素電極８２０毎に形成された基板８０１を用意する。そして、バンク８０６，８０６間に透明画素電極８２０が露出するように、上記実施形態のバンク形成方法によって、図１７に示すように、バンク８０６を形成する。
【００４１】
続いて、有機機能層材料を液滴吐出装置によって、図１８に示すように、バンク８０６，８０６間、すなわち透明画素電極８２０上に配置し、その後、焼成することによって、有機機能層８３０を形成する。なお、フルカラー表示可能な有機ＥＬ装置を製造する場合には、図１９に示すように、赤色光を発光する有機機能層８３０Ｒと、緑色光を発光する有機機能層８３０Ｇと、青色光を発光する有機機能層８３０Ｂとを形成する。
ここで、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法においては、上記実施形態のバンク形成方法によってバンク８０６を形成している。このため、フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性が向上されており、バンク８０６，８０６間にバンク形成材料の残渣がなく、エッジの立ったバンク８０６となっている。したがって、膜厚の均一な有機機能層８３０が形成される。
【００４２】
そして、図２０に示すように、有機機能層８３０及びバンク８０６を覆う陰極８４０を形成し、その後封止することによって有機ＥＬ装置が製造される。
【００４３】
以上のように、本実施形態では、上記実施形態のバンク形成方法を用いているため、現像工程の現像性が向上されており、バンク８０６，８０６間にバンク形成材料の残渣がなく、エッジの立ったバンク８０６が形成される。このため、ムラがなく平坦且つ均一な厚さの有機機能層を得ることができる。
【００４４】
（配線パターンの形成方法）
続いて、上記実施形態のバンク形成方法及び上述の液滴吐出装置を用いた配線パターンの形成方法について説明する。
【００４５】
まず、図２１に示すように、絶縁性の基板９０１の一方の面に対し、上記実施形態のバンク形成方法によって、バンク９０６を形成する。なお、本実施形態においては、バンク９０６，９０６間が配線パターンの形状に沿った形で形成される。
そして、上述した液滴吐出装置によって、図２２に示すように、配線パターン材料９２０をバンク９０６，９０６間に吐出配置し、その後、焼成することによって、図２３に示すように、配線パターン９１０が得られる。
【００４６】
以上のように、本実施形態では、上記実施形態のバンク形成方法を用いているため、現像工程の現像性が向上されており、バンク９０６，９０６間にバンク形成材料の残渣がなく、エッジの立ったバンク９０６が形成される。このため、ムラがなく平坦且つ均一な厚さの配線パターンを得ることができる。
【００４７】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係るバンク形成方法、カラーフィルタ基板の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法、配線パターンの形成方法の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４８】
例えば、上記実施形態においては、犠牲層２がチタンの酸化物である二酸化チタン微粒子によって形成されているものとして説明した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、犠牲層が酸化物を含んでなる微粒子が少なくとも１種以上混合されて形成されているという構成を採用することができる。なお、この酸化物としては、ケイ素、亜鉛、スズ、ストロンチウム、タングステン、チタン、ビスマス、及び鉄から選択される１種以上の物質の酸化物である。例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化スズ、チタン酸ストロンチウム、酸化タングステン、酸化ビヒマス、あるいは酸化鉄等を挙げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の一実施形態であるバンク形成方法によってバンクが形成された基板の断面を模式的に示した図である。
【図２】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図３】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図４】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図５】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図６】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図７】本発明の一実施形態であるバンク形成方法を説明するための説明図である。
【図８】液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。
【図９】液滴吐出ヘッドをノズル面側から見た図である。
【図１０】ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図である。
【図１１】本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための説明図である。
【図１２】本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための説明図である。
【図１３】本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための説明図である。
【図１４】本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための説明図である。
【図１５】本発明の一実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するための説明図である。
【図１６】本発明の一実施形態である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図１７】本発明の一実施形態である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図１８】本発明の一実施形態である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図１９】本発明の一実施形態である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図２０】本発明の一実施形態である有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための説明図である。
【図２１】本発明の一実施形態である配線パターンの形成方法を説明するための説明図である。
【図２２】本発明の一実施形態である配線パターンの形成方法を説明するための説明図である。
【図２３】本発明の一実施形態である配線パターンの形成方法を説明するための説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
１……バンク、１０……バンク層、２……犠牲層、Ｐ……基板、Ｍ……マスク

【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の基板上に現像液を浸透する犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、
前記犠牲層上にフォトレジストからなるバンク層を形成するバンク層形成工程と、
前記バンク層をマスクを介して露光する露光工程と、
前記露光工程後の前記バンク層を現像液によって現像する現像工程と
を有することを特徴とするバンク形成方法。
【請求項２】
前記犠牲層は、酸化物からなる微粒子によって形成されていることを特徴とする請求項１記載のバンク形成方法。
【請求項３】
前記酸化物からなる微粒子は、ケイ素、亜鉛、スズ、ストロンチウム、タングステン、チタン、ビスマス、及び鉄から選択される１種以上の物質の酸化物であることを特徴とする請求項２記載のバンク形成方法。
【請求項４】
前記バンク層と前記犠牲層との間に第２のバンク層を形成する工程を有することを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載のバンク形成方法。
【請求項５】
請求項１〜４いずれかに記載のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４いずれかに記載のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４いずれかに記載のバンク形成方法によってバンクが形成されることを特徴とする配線パターンの形成方法。

【図１】