パターン寸法算出方法、画像解析方法及び装置
【課題】輪郭線の任意の局所的な位置や特定の部位におけるパターン寸法の算出が容易にでき、また、輪郭線パターンの代表寸法値を精度良く求めることができる画像データ解析を実現する。
【解決手段】検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法を開示する。このパターン寸法算出方法では、画像処理部が、対象検査パターンの輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、重なり領域の面積から対象寸法値を算出する。算出された対象寸法値は画像データ及び輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示されるようにしても良い。
【解決手段】検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法を開示する。このパターン寸法算出方法では、画像処理部が、対象検査パターンの輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、重なり領域の面積から対象寸法値を算出する。算出された対象寸法値は画像データ及び輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示されるようにしても良い。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターン寸法算出方法、画像解析方法及び装置に関し、例えば、電子顕微鏡の撮像画像から抽出したパターンの輪郭線から寸法計測値を算出する方法、その寸法計測値を評価する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からＣＡＤ(Computer Aided Design) データや露光シミュレーションデータを用いて、半導体集積回路上のパターンを計測することが知られている。ＣＡＤデータや露光シミュレーションデータは、半導体素子が本来あるべき理想的な形状を示すものであるため、実際に形成されたパターンを比較することによって、半導体製造プロセスの評価が可能である。
【０００３】
その一方で、半導体素子の微細化に伴いパターンを理想的な形状に形成することが困難になっている。その為、露光シミュレーションなどのリソグラフィー・アウェアー・ツール(Lithography Aware Tool)を用い、半導体製造の条件を設計段階から考慮することの重要性が増している。リソグラフィー・アウェアー・ツールには実際に形成された半導体パターンの寸法や形状のデータを入力する必要があり、より多くの計測項目且つ高精度なデータを入力する要求が高まっている。半導体パターンの寸法や形状データは、走査電子顕微鏡で撮像した画像のパターンから算出される。
【０００４】
また、従来、半導体パターンの形状を評価する為の基本的な寸法は、パターンの長さやホールの半径などの代表値である。これは測長走査電子顕微鏡により撮像した画像のパターンから算出している。リソグラフィー・アウェアー・ツールにおいて、パターンの形状を評価及び、露光シミュレーションなどの製造に関するシミュレーションのため、より多項目に亘る計測データを入力する要求が高まっており、測長走査電子顕微鏡などで撮像したパターンから高精度な輪郭データを抽出し、リソグラフィー・アウェアー・ツールに入力することが行われつつある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２２９１７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、リソグラフィー・アウェアー・ツールにおいて、パターンの長さやホールの半径などの代表値に代えて輪郭データを入力した際には様々な問題がある。
【０００７】
例えば、輪郭線から局所的なパターン寸法を算出する場合、算出する為の設定項目が多く、また、精度が不足してしまう。従って、輪郭線から任意の局所的な位置においてパターン寸法算出が望まれる場合に対応できないという問題がある。
【０００８】
また、リソグラフィー・アウェアー・ツールでは、撮像されたパターン全体の輪郭線ではなく、輪郭線の特定部分だけを必要とすることがあるが、輪郭線全体から局所領域を切り出すことが困難という問題がある。
【０００９】
さらに、精度の高い輪郭線を作成する為には、従来の計測器で計測した寸法値と比較し、評価することが必要であるが、輪郭線（２次元的なデータ：どの部分の寸法を代表値とすればいいか特定が困難）と長さなどの寸法値とでは、比較や評価が困難であるという問題がある。
【００１０】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、輪郭線の任意の局所的な位置や特定の部位におけるパターン寸法の算出が容易にでき、また、輪郭線パターンの代表寸法値を精度良く求めることができる画像データ解析を実現するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明は、検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法を開示する。このパターン寸法算出方法では、画像処理部が、対象検査パターンの輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、重なり領域の面積から対象寸法値を算出する。より具体的には、画像処理部は、重なり領域を複数の台形領域に分割し(図２参照)、各台形領域の面積の総和から重なり領域の面積を算出し、重なり領域の面積を測長用矩形データであって輪郭データと交差しない辺（図２では測長Ｂｏｘの縦の辺となっている。輪郭データが図２のように縦ではなく横に伸びている場合には測長Ｂｏｘの横の辺となる。）の寸法で除算することにより、対象寸法値を算出する。なお、算出された対象寸法値は画像データ及び輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示されるようにしても良い。
【００１２】
また、本発明は、検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析装置及び方法を開示する。この画像データ解析装置及び方法では、画像処理部が、画像データを実際に測定して取得した測長値と、画像データから得られる輪郭データから算出した対象寸法値とを比較し、比較結果を表示部に表示する。対象寸法値の算出方法については、上述の通りである。さらに、画像処理部は、測長値と対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を表示部に表示する。
【００１３】
さらなる本発明の特徴は、以下本発明を実施するための最良の形態および添付図面によって明らかになるものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、輪郭線の任意の局所的な位置や特定の部位におけるパターン寸法の算出が容易にでき、また、輪郭線パターンの代表寸法値を精度良く求めることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】測長走査電子顕微鏡の構成概要を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態による輪郭線の寸法算出方法を示す図である。
【図３】本発明の実施形態による測長値と輪郭線の寸法を比較する方法を示す図である。
【図４】輪郭線寸法値算出処理の詳細を説明するためのフローチャートである。
【図５】実際の測長値と輪郭線の計算値とを比較する処理を説明するためのフローチャートである。
【図６】本発明の実施例である輪郭線の寸法算出方法を示した図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、電子顕微鏡画像の輪郭線パターンの寸法値（代表値或いは平均値）を容易かつ精度良く求める方法を開示するものである。
【００１７】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。ただし、本実施形態は本発明を実現するための一例に過ぎず、本発明の技術的範囲を限定するものではないことに注意すべきである。また、各図において共通の構成については同一の参照番号が付されている。
【００１８】
＜画像データ解析装置の構成＞
図１は、本発明の実施形態による画像データ解析装置の概略構成を示すブロック図である。図１においては、電子顕微鏡１０１が画像データ解析装置１００の一部の構成に含まれているが、これに限られず、電子顕微鏡装置で別途取得した画像データを入力して解析するような構成であってもよい。
【００１９】
本実施形態による画像データ解析装置１００は、走査型電子顕微鏡１０１と、設計データ格納部１１２と、制御システム１１０と、画像処理プロセッサ１０９と、表示装置１１１と、を備えている。
【００２０】
図１において、電子顕微鏡１０１内の、電子銃１０２から発せられた電子線１０３が電子レンズ１１３によって収束され、試料１０５に照射される。電子線照射によって、試料１０５表面から発生する二次電子１１４、或いは反射電子の強度が電子検出器１０６によって検出され、増幅器１０７で増幅される。電子線１０３の照射位置を移動させる偏向器１０４は、制御システム１１０の制御信号１０８に応答して電子線１０３を試料１０５表面上でラスタ走査させる。画像処理プロセッサ１０９は、増幅器１０７から出力される信号をＡＤ変換し、デジタル画像データを作る。また、表示装置１１１は、画像データを表示する装置である。
【００２１】
ＣＡＤデータ等の半導体チップの設計データ１１２において、検査すべき領域を任意に指定することが可能である。また、試料台制御装置１１６は、電子線１０３に対して試料台１１５を移動させることが可能である。表示装置１１１は、試料１０５を撮像した電子顕微鏡画像１１８及び画像処理プロセッサ１０９で撮像画像から抽出した輪郭線１１７を表示することが可能である。
【００２２】
画像処理プロセッサ１０９は、電子顕微鏡画像１１８より電子顕微鏡画像パターン寸法値１２０を算出すること、輪郭線１１７より輪郭線パターン平均寸法値１１９を算出することが可能である。なお、輪郭線パターンは、顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）に対して、例えばソーベルフィルタ等のエッジ強調フィルタを掛けることにより抽出することができる。輪郭線（エッジ）パターン抽出の詳細については、例えば、特開２００１−３３８３０４号公報や特開２００２−３１５２５号公報等に記載されている。
【００２３】
表示装置１１１は電子顕微鏡画像パターン寸法値１２０と輪郭線パターン平均寸法値１１９との比較結果１２１を表示することが可能である。比較結果については後述するが、例えば、電子顕微鏡画像パターン平均寸法値１２０と輪郭線パターン平均寸法値１１９の差である。
【００２４】
制御システム１１０は、設計データ１１２及び検査すべき領域の情報を用いて半導体ウェーハの撮影や検査の為の制御、また、画像処理プロセッサ１０９への通信を行う。電子顕微鏡１０１、画像処理プロセッサ１０９、制御システム１１０、表示装置１１１、設計データ１１２を格納する装置から構成されるシステムはデータを交換する為の通信手段を有している。
【００２５】
＜輪郭線平均（代表）寸法値の算出＞
図２は、測長走査電子顕微鏡で撮像された画像から抽出したラインパターン輪郭線２０２のデータに基づいてラインパターン輪郭線平均寸法値１１９を算出する方法（概念）を示す図である。
【００２６】
輪郭線データ２０１は、測長走査電子顕微鏡で撮像した画像の所定範囲内におけるパターンの輪郭線を示しており、その中にラインパターン輪郭線２０２が含まれている。図２では斜線部で示した領域がラインパターン輪郭線２０２に囲まれた領域である。ラインパターン輪郭線の抽出は前述の通り、従来から行われており、画像処理による微分フィルタ演算の後、画像二値化、細線化処理などを用いて抽出することが可能である。また、抽出した輪郭線はＧＤＳIIなどのＣＡＤツールに読み込み可能なデータ形式に変換することも可能である。
【００２７】
リソグラフィー・アウェアー・ツールなどの解析ツールでデータ解析を行う場合、ラインパターン輪郭線２０２の横方向の幅を求める必要がある。目的により特定の領域の幅を求めることが必要な場合がある。測長走査電子顕微鏡でライン幅を求める場合、測長Ｂｏｘという特定範囲内の幅を画像より算出している。測長Ｂｏｘ２０３は測長走査電子顕微鏡で撮像した画像上の測長Ｂｏｘを、輪郭線データ２０１上に変換したものである。ここで、測長Ｂｏｘ２０３は長方形である。また、測長Ｂｏｘ高さ２０４は測長Ｂｏｘの縦方向の長さである。
【００２８】
ラインパターン輪郭線２０２と測長Ｂｏｘ２０３を重ねた場合、重なり領域２３１が求められる。重なり領域２３１は交点２０６・２０７・２０８・２０９及び、ラインパターン輪郭線２０２の頂点２１０・２１１・２１２・２１３を頂点とする閉多角形であり、図では斜線部の領域である。この図形の面積を求める為、補助線２０５を作成する。ここで、補助線２０５は長方形の上下の辺に垂直とする。補助線２０５にラインパターン輪郭線２０２の頂点２１０・２１１・２１２・２１３から垂線を下ろすことで重なり領域２３１は６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０に分割することが可能である。台形領域２１５の面積は、台形上底長さ２２１・台形下底長さ２２２・台形高さ２２３及び、式２２４にて算出が可能である。ここで、台形上底長さ２２１は頂点２０６と補助線２０５の距離、台形下底長さ２２２は頂点２１０と補助線２０５の距離、台形高さ２２３は両垂線間の距離であり座標演算により算出が可能である。６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０は同様の方法で面積が算出可能である。従って重なり領域２３１の面積は式２２５により、６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０の面積の総和を求めることで算出が可能である。重なり領域２３１面積と測長Ｂｏｘ高さ２０４、及び式２２７により測長Ｂｏｘ内平均長さ２２８が算出可能である。本手法は輪郭線の局所領域の寸法を精度よく算出する手法である。
【００２９】
以上の処理をフローチャートで示すと図４のようになる。まず、画像処理プロセッサ１０９は、電子線のスキャン範囲内における電子顕微鏡画像１１８を取得する（ステップＳ４０１）。また、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ４０１で取得した電子顕微鏡画像１１８に基づいて、上述した方法によって輪郭データ２０１を取得する（ステップＳ４０２）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ４０２において取得した輪郭線データ２０１上に測長Ｂｏｘ２０３を配置する（ステップＳ４０３）。
【００３０】
続いて、画像処理プロセッサ１０９は、測長Ｂｏｘ２０３と輪郭線データ２０１のラインパターン輪郭線２０２で囲まれた領域２３１を複数の台形領域２１５乃至２２０に分割する（ステップＳ４０４）。また、画像処理プロセッサ１０９は、各台形領域２１５乃至２２０の面積を、式２２４（図２参照）を用いて算出する（ステップＳ４０５）。そして、画像処理プロセッサ１０９は、式２２５を用いて各台形領域の面積の総和を求める（ステップＳ４０６）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、式２２７を用いて輪郭線パターン平均値１１９を算出し、図示しないメモリに格納する（ステップＳ４０７）。
【００３１】
＜輪郭線寸法差を算出する方法＞
図３は、走査電子顕微鏡（測長ＳＥＭ）の撮像画像３０１から算出する測長値３１５と輪郭線データ３１６から算出する寸法値３２０の輪郭線寸法差３２１を算出する方法（概念）を説明するための図である。
【００３２】
測長走査電子顕微鏡の撮像画像３０１から算出する測長値３１５を算出する手法は既存の手法である。ラインパターン３０２が撮像画像３０１にあり、測長Ｂｏｘ３０３を設定し、内部のラインパターンの幅を算出する。
【００３３】
測長値３１５を求める方法として、例えば、測長Ｂｏｘ３０３を複数個に縦に分割し、その平均をとる方法がある。図３では５個に分割する例が示されている。測長走査電子顕微鏡で撮像される画像はノイズが存在する為、１ｐｉｘの画像プロファイル３０６はノイズが多く、安定したライン幅の算出が困難である。その為、複数のピクセルのラインプロファイルを積算し、積算プロファイル３０７のようにＳ／Ｎを向上したラインプロファイルを作成する。さらに、積算プロファイル３０７に対して平滑化処理を行い、ラインプロファイル３０８のピークの最大値の５０％などの場所の距離をライン幅にする手法などがある。
【００３４】
さらに、この方法により算出したライン幅３１０・３１１・３１２・３１３・３１４の平均をとり、測長Ｂｏｘ３０３に対する測長値３１５が算出される。この手法は既存の手法においても複数種類が存在する。また、輪郭線の抽出方法も様々な手法が存在する。測長のライン幅の算出方法及び輪郭線の抽出方法の両者にはそれぞれ複数種類の方法が存在し、種類によりライン幅・輪郭線の位置が異なる。
【００３５】
しかしながら、前述のように両者の差をできるだけ小さくする必要がある場合がある。その為、図２の手法により測長Ｂｏｘ内平均長さ１１９を算出し、測長値３１５と比較する必要がある。輪郭線データ３１６は撮像画像３０１から抽出したものである。また、ラインパターン輪郭線３１７はラインパターン３０２の輪郭線である。測長Ｂｏｘ３１８は測長Ｂｏｘ３０３を輪郭線データ３１６の座標上に変換したものである。ラインパターン輪郭線３１７の測長Ｂｏｘ３１８内の測長Ｂｏｘ内平均長さ３２０は図２の手法により算出が可能である。また、式３２１により、従来の手法による測長値３１５を基準に輪郭線の位置の確認が可能な輪郭線寸法差が算出可能である。そして、寸法差が所定の範囲内（例えば、１％以内の誤差）である場合に、平均長さ３２０は代表寸法値として用いることができると評価することが出来るようになる。
【００３６】
以上の処理をフローチャートで示すと図５のようになる。まず、画像処理プロセッサ１０９は、電子線のスキャン範囲内における電子顕微鏡画像３０１を取得する（ステップＳ５０１）。また、画像プロセッサ１０９は、測長範囲を確定するように電子顕微鏡画像３０１上に測長Ｂｏｘ３１０を設定する（ステップＳ５０２）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、測長Ｂｏｘ３１０を所定幅間隔で縦に複数領域３０５に分割する（ステップＳ５０３）。
【００３７】
画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ５０３で得られた各領域について、ラインプロファイル３０６を取得し（ステップＳ５０４）、さらにそのラインプロファイルを積算して積算したラインプロファイル３０７を取得する（ステップＳ５０５）。続いて、画像処理プロセッサ１０９は、積算ラインプロファイル３０７に平滑化処理を施す（ステップＳ５０６）。
【００３８】
さらに、画像処理プロセッサ１０９は、各領域において、平滑化した積算ラインプロファイル３０８から測長値（ライン幅）３０９を取得し（ステップＳ５０７）、各領域の測長値３１０乃至３１４のライン幅平均値を算出する（ステップＳ５０８）。なお、ライン幅３０９は、例えば、エッジ部分を示すプロファイルの各極大値の半値幅を測定することにより得られるものである。
【００３９】
また、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ５０８で得られたライン幅平均値を電子顕微鏡画像パターン寸法値とし、これと図４の処理で求めた輪郭線パターン平均寸法値との差を算出する（ステップＳ５０９）。そして、画像処理プロセッサ１０９は、この寸法差が所定値Ａ％以下であるかを判断し（ステップＳ５１０）、所定値Ａ％以下であれば当該輪郭線パターン平均寸法値を代表寸法値として用いることができると判定し（ステップＳ５１１）、所定値Ａ％より大きい場合には当該輪郭線パターン平均寸法値を代表寸法値として用いることができないと判定する（ステップＳ５１２）。代表寸法値として用いることができないと判定された輪郭線パターン平均寸法値はメモリから消去される。この場合、測定位置を変えて再度図４の処理を実行して輪郭線パターン平均寸法値を算出するようにしてもよい。
【００４０】
＜まとめ＞
本実施形態では、検査対象パターンの画像データ（電子顕微鏡画像）から輪郭データを取得し、その輪郭データから検査対象パターンの対象寸法値を求めている。つまり、画像処理プロセッサが、重なり領域を複数の台形領域に分割し(図２参照)、各台形領域の面積の総和から重なり領域の面積を算出し、重なり領域の面積を測長Ｂｏｘあって輪郭データと交差しない辺（図２では測長Ｂｏｘの縦の辺となっている。輪郭データが図２のように縦ではなく横に伸びている場合には測長Ｂｏｘの横の辺となる。）の寸法で除算することにより、対象寸法値を算出する。このような演算を実行することにより、局所的な平均寸法値を簡単に、かつ精度良く求めることができる。
【００４１】
また、本実施形態では、画像処理プロセッサが、画像データを実際に測定して取得した測長値と、画像データから得られる輪郭データから算出した対象寸法値とを比較し、比較結果を表示部に表示する。これにより、ユーザは輪郭データからの対象寸法値が指標として使えるか否か判断することができるようになる。また、１つのシステムで従来手法による測長値と輪郭線からの寸法値とを比較することができる。また、測長値と対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を表示部に表示するようにしてもよい。これによれば、ユーザがわざわざ使用可能の是非を判断する必要はなくなる。
【００４２】
なお、本発明は、実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードによっても実現できる。この場合、プログラムコードを記録した記憶媒体をシステム或は装置に提供し、そのシステム或は装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出す。この場合、記憶媒体から読み出されたプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード自体、及びそれを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。このようなプログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭなどが用いられる。
【００４３】
また、プログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）などが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータ上のメモリに書きこまれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータのＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。
【００４４】
また、実施の形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを、ネットワークを介して配信することにより、それをシステム又は装置のハードディスクやメモリ等の記憶手段又はＣＤ-ＲＷ、ＣＤ-Ｒ等の記憶媒体に格納し、使用時にそのシステム又は装置のコンピュータ(又はＣＰＵやＭＰＵ)が当該記憶手段や当該記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出して実行するようにしても良い。
【符号の説明】
【００４５】
１０１・・・走査型電子顕微鏡（測長ＳＥＭ）
１０９・・・画像処理プロセッサ
１１０・・・制御システム
１１１・・・表示装置
１１２・・・設計データ格納部
【技術分野】
【０００１】
本発明はパターン寸法算出方法、画像解析方法及び装置に関し、例えば、電子顕微鏡の撮像画像から抽出したパターンの輪郭線から寸法計測値を算出する方法、その寸法計測値を評価する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からＣＡＤ(Computer Aided Design) データや露光シミュレーションデータを用いて、半導体集積回路上のパターンを計測することが知られている。ＣＡＤデータや露光シミュレーションデータは、半導体素子が本来あるべき理想的な形状を示すものであるため、実際に形成されたパターンを比較することによって、半導体製造プロセスの評価が可能である。
【０００３】
その一方で、半導体素子の微細化に伴いパターンを理想的な形状に形成することが困難になっている。その為、露光シミュレーションなどのリソグラフィー・アウェアー・ツール(Lithography Aware Tool)を用い、半導体製造の条件を設計段階から考慮することの重要性が増している。リソグラフィー・アウェアー・ツールには実際に形成された半導体パターンの寸法や形状のデータを入力する必要があり、より多くの計測項目且つ高精度なデータを入力する要求が高まっている。半導体パターンの寸法や形状データは、走査電子顕微鏡で撮像した画像のパターンから算出される。
【０００４】
また、従来、半導体パターンの形状を評価する為の基本的な寸法は、パターンの長さやホールの半径などの代表値である。これは測長走査電子顕微鏡により撮像した画像のパターンから算出している。リソグラフィー・アウェアー・ツールにおいて、パターンの形状を評価及び、露光シミュレーションなどの製造に関するシミュレーションのため、より多項目に亘る計測データを入力する要求が高まっており、測長走査電子顕微鏡などで撮像したパターンから高精度な輪郭データを抽出し、リソグラフィー・アウェアー・ツールに入力することが行われつつある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２２９１７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、リソグラフィー・アウェアー・ツールにおいて、パターンの長さやホールの半径などの代表値に代えて輪郭データを入力した際には様々な問題がある。
【０００７】
例えば、輪郭線から局所的なパターン寸法を算出する場合、算出する為の設定項目が多く、また、精度が不足してしまう。従って、輪郭線から任意の局所的な位置においてパターン寸法算出が望まれる場合に対応できないという問題がある。
【０００８】
また、リソグラフィー・アウェアー・ツールでは、撮像されたパターン全体の輪郭線ではなく、輪郭線の特定部分だけを必要とすることがあるが、輪郭線全体から局所領域を切り出すことが困難という問題がある。
【０００９】
さらに、精度の高い輪郭線を作成する為には、従来の計測器で計測した寸法値と比較し、評価することが必要であるが、輪郭線（２次元的なデータ：どの部分の寸法を代表値とすればいいか特定が困難）と長さなどの寸法値とでは、比較や評価が困難であるという問題がある。
【００１０】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、輪郭線の任意の局所的な位置や特定の部位におけるパターン寸法の算出が容易にでき、また、輪郭線パターンの代表寸法値を精度良く求めることができる画像データ解析を実現するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明は、検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法を開示する。このパターン寸法算出方法では、画像処理部が、対象検査パターンの輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、重なり領域の面積から対象寸法値を算出する。より具体的には、画像処理部は、重なり領域を複数の台形領域に分割し(図２参照)、各台形領域の面積の総和から重なり領域の面積を算出し、重なり領域の面積を測長用矩形データであって輪郭データと交差しない辺（図２では測長Ｂｏｘの縦の辺となっている。輪郭データが図２のように縦ではなく横に伸びている場合には測長Ｂｏｘの横の辺となる。）の寸法で除算することにより、対象寸法値を算出する。なお、算出された対象寸法値は画像データ及び輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示されるようにしても良い。
【００１２】
また、本発明は、検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析装置及び方法を開示する。この画像データ解析装置及び方法では、画像処理部が、画像データを実際に測定して取得した測長値と、画像データから得られる輪郭データから算出した対象寸法値とを比較し、比較結果を表示部に表示する。対象寸法値の算出方法については、上述の通りである。さらに、画像処理部は、測長値と対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を表示部に表示する。
【００１３】
さらなる本発明の特徴は、以下本発明を実施するための最良の形態および添付図面によって明らかになるものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、輪郭線の任意の局所的な位置や特定の部位におけるパターン寸法の算出が容易にでき、また、輪郭線パターンの代表寸法値を精度良く求めることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】測長走査電子顕微鏡の構成概要を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態による輪郭線の寸法算出方法を示す図である。
【図３】本発明の実施形態による測長値と輪郭線の寸法を比較する方法を示す図である。
【図４】輪郭線寸法値算出処理の詳細を説明するためのフローチャートである。
【図５】実際の測長値と輪郭線の計算値とを比較する処理を説明するためのフローチャートである。
【図６】本発明の実施例である輪郭線の寸法算出方法を示した図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明は、電子顕微鏡画像の輪郭線パターンの寸法値（代表値或いは平均値）を容易かつ精度良く求める方法を開示するものである。
【００１７】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。ただし、本実施形態は本発明を実現するための一例に過ぎず、本発明の技術的範囲を限定するものではないことに注意すべきである。また、各図において共通の構成については同一の参照番号が付されている。
【００１８】
＜画像データ解析装置の構成＞
図１は、本発明の実施形態による画像データ解析装置の概略構成を示すブロック図である。図１においては、電子顕微鏡１０１が画像データ解析装置１００の一部の構成に含まれているが、これに限られず、電子顕微鏡装置で別途取得した画像データを入力して解析するような構成であってもよい。
【００１９】
本実施形態による画像データ解析装置１００は、走査型電子顕微鏡１０１と、設計データ格納部１１２と、制御システム１１０と、画像処理プロセッサ１０９と、表示装置１１１と、を備えている。
【００２０】
図１において、電子顕微鏡１０１内の、電子銃１０２から発せられた電子線１０３が電子レンズ１１３によって収束され、試料１０５に照射される。電子線照射によって、試料１０５表面から発生する二次電子１１４、或いは反射電子の強度が電子検出器１０６によって検出され、増幅器１０７で増幅される。電子線１０３の照射位置を移動させる偏向器１０４は、制御システム１１０の制御信号１０８に応答して電子線１０３を試料１０５表面上でラスタ走査させる。画像処理プロセッサ１０９は、増幅器１０７から出力される信号をＡＤ変換し、デジタル画像データを作る。また、表示装置１１１は、画像データを表示する装置である。
【００２１】
ＣＡＤデータ等の半導体チップの設計データ１１２において、検査すべき領域を任意に指定することが可能である。また、試料台制御装置１１６は、電子線１０３に対して試料台１１５を移動させることが可能である。表示装置１１１は、試料１０５を撮像した電子顕微鏡画像１１８及び画像処理プロセッサ１０９で撮像画像から抽出した輪郭線１１７を表示することが可能である。
【００２２】
画像処理プロセッサ１０９は、電子顕微鏡画像１１８より電子顕微鏡画像パターン寸法値１２０を算出すること、輪郭線１１７より輪郭線パターン平均寸法値１１９を算出することが可能である。なお、輪郭線パターンは、顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）に対して、例えばソーベルフィルタ等のエッジ強調フィルタを掛けることにより抽出することができる。輪郭線（エッジ）パターン抽出の詳細については、例えば、特開２００１−３３８３０４号公報や特開２００２−３１５２５号公報等に記載されている。
【００２３】
表示装置１１１は電子顕微鏡画像パターン寸法値１２０と輪郭線パターン平均寸法値１１９との比較結果１２１を表示することが可能である。比較結果については後述するが、例えば、電子顕微鏡画像パターン平均寸法値１２０と輪郭線パターン平均寸法値１１９の差である。
【００２４】
制御システム１１０は、設計データ１１２及び検査すべき領域の情報を用いて半導体ウェーハの撮影や検査の為の制御、また、画像処理プロセッサ１０９への通信を行う。電子顕微鏡１０１、画像処理プロセッサ１０９、制御システム１１０、表示装置１１１、設計データ１１２を格納する装置から構成されるシステムはデータを交換する為の通信手段を有している。
【００２５】
＜輪郭線平均（代表）寸法値の算出＞
図２は、測長走査電子顕微鏡で撮像された画像から抽出したラインパターン輪郭線２０２のデータに基づいてラインパターン輪郭線平均寸法値１１９を算出する方法（概念）を示す図である。
【００２６】
輪郭線データ２０１は、測長走査電子顕微鏡で撮像した画像の所定範囲内におけるパターンの輪郭線を示しており、その中にラインパターン輪郭線２０２が含まれている。図２では斜線部で示した領域がラインパターン輪郭線２０２に囲まれた領域である。ラインパターン輪郭線の抽出は前述の通り、従来から行われており、画像処理による微分フィルタ演算の後、画像二値化、細線化処理などを用いて抽出することが可能である。また、抽出した輪郭線はＧＤＳIIなどのＣＡＤツールに読み込み可能なデータ形式に変換することも可能である。
【００２７】
リソグラフィー・アウェアー・ツールなどの解析ツールでデータ解析を行う場合、ラインパターン輪郭線２０２の横方向の幅を求める必要がある。目的により特定の領域の幅を求めることが必要な場合がある。測長走査電子顕微鏡でライン幅を求める場合、測長Ｂｏｘという特定範囲内の幅を画像より算出している。測長Ｂｏｘ２０３は測長走査電子顕微鏡で撮像した画像上の測長Ｂｏｘを、輪郭線データ２０１上に変換したものである。ここで、測長Ｂｏｘ２０３は長方形である。また、測長Ｂｏｘ高さ２０４は測長Ｂｏｘの縦方向の長さである。
【００２８】
ラインパターン輪郭線２０２と測長Ｂｏｘ２０３を重ねた場合、重なり領域２３１が求められる。重なり領域２３１は交点２０６・２０７・２０８・２０９及び、ラインパターン輪郭線２０２の頂点２１０・２１１・２１２・２１３を頂点とする閉多角形であり、図では斜線部の領域である。この図形の面積を求める為、補助線２０５を作成する。ここで、補助線２０５は長方形の上下の辺に垂直とする。補助線２０５にラインパターン輪郭線２０２の頂点２１０・２１１・２１２・２１３から垂線を下ろすことで重なり領域２３１は６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０に分割することが可能である。台形領域２１５の面積は、台形上底長さ２２１・台形下底長さ２２２・台形高さ２２３及び、式２２４にて算出が可能である。ここで、台形上底長さ２２１は頂点２０６と補助線２０５の距離、台形下底長さ２２２は頂点２１０と補助線２０５の距離、台形高さ２２３は両垂線間の距離であり座標演算により算出が可能である。６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０は同様の方法で面積が算出可能である。従って重なり領域２３１の面積は式２２５により、６個の台形領域２１５・２１６・２１７・２１８・２１９・２２０の面積の総和を求めることで算出が可能である。重なり領域２３１面積と測長Ｂｏｘ高さ２０４、及び式２２７により測長Ｂｏｘ内平均長さ２２８が算出可能である。本手法は輪郭線の局所領域の寸法を精度よく算出する手法である。
【００２９】
以上の処理をフローチャートで示すと図４のようになる。まず、画像処理プロセッサ１０９は、電子線のスキャン範囲内における電子顕微鏡画像１１８を取得する（ステップＳ４０１）。また、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ４０１で取得した電子顕微鏡画像１１８に基づいて、上述した方法によって輪郭データ２０１を取得する（ステップＳ４０２）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ４０２において取得した輪郭線データ２０１上に測長Ｂｏｘ２０３を配置する（ステップＳ４０３）。
【００３０】
続いて、画像処理プロセッサ１０９は、測長Ｂｏｘ２０３と輪郭線データ２０１のラインパターン輪郭線２０２で囲まれた領域２３１を複数の台形領域２１５乃至２２０に分割する（ステップＳ４０４）。また、画像処理プロセッサ１０９は、各台形領域２１５乃至２２０の面積を、式２２４（図２参照）を用いて算出する（ステップＳ４０５）。そして、画像処理プロセッサ１０９は、式２２５を用いて各台形領域の面積の総和を求める（ステップＳ４０６）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、式２２７を用いて輪郭線パターン平均値１１９を算出し、図示しないメモリに格納する（ステップＳ４０７）。
【００３１】
＜輪郭線寸法差を算出する方法＞
図３は、走査電子顕微鏡（測長ＳＥＭ）の撮像画像３０１から算出する測長値３１５と輪郭線データ３１６から算出する寸法値３２０の輪郭線寸法差３２１を算出する方法（概念）を説明するための図である。
【００３２】
測長走査電子顕微鏡の撮像画像３０１から算出する測長値３１５を算出する手法は既存の手法である。ラインパターン３０２が撮像画像３０１にあり、測長Ｂｏｘ３０３を設定し、内部のラインパターンの幅を算出する。
【００３３】
測長値３１５を求める方法として、例えば、測長Ｂｏｘ３０３を複数個に縦に分割し、その平均をとる方法がある。図３では５個に分割する例が示されている。測長走査電子顕微鏡で撮像される画像はノイズが存在する為、１ｐｉｘの画像プロファイル３０６はノイズが多く、安定したライン幅の算出が困難である。その為、複数のピクセルのラインプロファイルを積算し、積算プロファイル３０７のようにＳ／Ｎを向上したラインプロファイルを作成する。さらに、積算プロファイル３０７に対して平滑化処理を行い、ラインプロファイル３０８のピークの最大値の５０％などの場所の距離をライン幅にする手法などがある。
【００３４】
さらに、この方法により算出したライン幅３１０・３１１・３１２・３１３・３１４の平均をとり、測長Ｂｏｘ３０３に対する測長値３１５が算出される。この手法は既存の手法においても複数種類が存在する。また、輪郭線の抽出方法も様々な手法が存在する。測長のライン幅の算出方法及び輪郭線の抽出方法の両者にはそれぞれ複数種類の方法が存在し、種類によりライン幅・輪郭線の位置が異なる。
【００３５】
しかしながら、前述のように両者の差をできるだけ小さくする必要がある場合がある。その為、図２の手法により測長Ｂｏｘ内平均長さ１１９を算出し、測長値３１５と比較する必要がある。輪郭線データ３１６は撮像画像３０１から抽出したものである。また、ラインパターン輪郭線３１７はラインパターン３０２の輪郭線である。測長Ｂｏｘ３１８は測長Ｂｏｘ３０３を輪郭線データ３１６の座標上に変換したものである。ラインパターン輪郭線３１７の測長Ｂｏｘ３１８内の測長Ｂｏｘ内平均長さ３２０は図２の手法により算出が可能である。また、式３２１により、従来の手法による測長値３１５を基準に輪郭線の位置の確認が可能な輪郭線寸法差が算出可能である。そして、寸法差が所定の範囲内（例えば、１％以内の誤差）である場合に、平均長さ３２０は代表寸法値として用いることができると評価することが出来るようになる。
【００３６】
以上の処理をフローチャートで示すと図５のようになる。まず、画像処理プロセッサ１０９は、電子線のスキャン範囲内における電子顕微鏡画像３０１を取得する（ステップＳ５０１）。また、画像プロセッサ１０９は、測長範囲を確定するように電子顕微鏡画像３０１上に測長Ｂｏｘ３１０を設定する（ステップＳ５０２）。さらに、画像処理プロセッサ１０９は、測長Ｂｏｘ３１０を所定幅間隔で縦に複数領域３０５に分割する（ステップＳ５０３）。
【００３７】
画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ５０３で得られた各領域について、ラインプロファイル３０６を取得し（ステップＳ５０４）、さらにそのラインプロファイルを積算して積算したラインプロファイル３０７を取得する（ステップＳ５０５）。続いて、画像処理プロセッサ１０９は、積算ラインプロファイル３０７に平滑化処理を施す（ステップＳ５０６）。
【００３８】
さらに、画像処理プロセッサ１０９は、各領域において、平滑化した積算ラインプロファイル３０８から測長値（ライン幅）３０９を取得し（ステップＳ５０７）、各領域の測長値３１０乃至３１４のライン幅平均値を算出する（ステップＳ５０８）。なお、ライン幅３０９は、例えば、エッジ部分を示すプロファイルの各極大値の半値幅を測定することにより得られるものである。
【００３９】
また、画像処理プロセッサ１０９は、ステップＳ５０８で得られたライン幅平均値を電子顕微鏡画像パターン寸法値とし、これと図４の処理で求めた輪郭線パターン平均寸法値との差を算出する（ステップＳ５０９）。そして、画像処理プロセッサ１０９は、この寸法差が所定値Ａ％以下であるかを判断し（ステップＳ５１０）、所定値Ａ％以下であれば当該輪郭線パターン平均寸法値を代表寸法値として用いることができると判定し（ステップＳ５１１）、所定値Ａ％より大きい場合には当該輪郭線パターン平均寸法値を代表寸法値として用いることができないと判定する（ステップＳ５１２）。代表寸法値として用いることができないと判定された輪郭線パターン平均寸法値はメモリから消去される。この場合、測定位置を変えて再度図４の処理を実行して輪郭線パターン平均寸法値を算出するようにしてもよい。
【００４０】
＜まとめ＞
本実施形態では、検査対象パターンの画像データ（電子顕微鏡画像）から輪郭データを取得し、その輪郭データから検査対象パターンの対象寸法値を求めている。つまり、画像処理プロセッサが、重なり領域を複数の台形領域に分割し(図２参照)、各台形領域の面積の総和から重なり領域の面積を算出し、重なり領域の面積を測長Ｂｏｘあって輪郭データと交差しない辺（図２では測長Ｂｏｘの縦の辺となっている。輪郭データが図２のように縦ではなく横に伸びている場合には測長Ｂｏｘの横の辺となる。）の寸法で除算することにより、対象寸法値を算出する。このような演算を実行することにより、局所的な平均寸法値を簡単に、かつ精度良く求めることができる。
【００４１】
また、本実施形態では、画像処理プロセッサが、画像データを実際に測定して取得した測長値と、画像データから得られる輪郭データから算出した対象寸法値とを比較し、比較結果を表示部に表示する。これにより、ユーザは輪郭データからの対象寸法値が指標として使えるか否か判断することができるようになる。また、１つのシステムで従来手法による測長値と輪郭線からの寸法値とを比較することができる。また、測長値と対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を表示部に表示するようにしてもよい。これによれば、ユーザがわざわざ使用可能の是非を判断する必要はなくなる。
【００４２】
なお、本発明は、実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードによっても実現できる。この場合、プログラムコードを記録した記憶媒体をシステム或は装置に提供し、そのシステム或は装置のコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ）が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出す。この場合、記憶媒体から読み出されたプログラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現することになり、そのプログラムコード自体、及びそれを記憶した記憶媒体は本発明を構成することになる。このようなプログラムコードを供給するための記憶媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−Ｒ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭなどが用いられる。
【００４３】
また、プログラムコードの指示に基づき、コンピュータ上で稼動しているＯＳ（オペレーティングシステム）などが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。さらに、記憶媒体から読み出されたプログラムコードが、コンピュータ上のメモリに書きこまれた後、そのプログラムコードの指示に基づき、コンピュータのＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によって前述した実施の形態の機能が実現されるようにしてもよい。
【００４４】
また、実施の形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを、ネットワークを介して配信することにより、それをシステム又は装置のハードディスクやメモリ等の記憶手段又はＣＤ-ＲＷ、ＣＤ-Ｒ等の記憶媒体に格納し、使用時にそのシステム又は装置のコンピュータ(又はＣＰＵやＭＰＵ)が当該記憶手段や当該記憶媒体に格納されたプログラムコードを読み出して実行するようにしても良い。
【符号の説明】
【００４５】
１０１・・・走査型電子顕微鏡（測長ＳＥＭ）
１０９・・・画像処理プロセッサ
１１０・・・制御システム
１１１・・・表示装置
１１２・・・設計データ格納部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、前記検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法であって、
画像処理部が、前記対象検査パターンの前記輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、前記重なり領域の面積から前記対象寸法値を算出することを特徴とするパターン寸法算出方法。
【請求項２】
前記画像処理部は、前記重なり領域を複数の台形領域に分割し、各台形領域の面積の総和から前記重なり領域の面積を算出し、前記重なり領域の面積を前記測長用矩形データであって前記輪郭データと交差しない辺の寸法で除算することにより、前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項１に記載のパターン寸法算出方法。
【請求項３】
前記画像処理部は、前記対象寸法値を前記画像データ及び前記輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示することを特徴とする請求項２に記載のパターン寸法算出方法。
【請求項４】
検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析装置であって、
表示部と、
前記画像データを解析し、前記表示部に解析結果を表示する画像処理部と、を備え、
前記画像処理部は、前記画像データを測定して測長値を取得し、前記画像データから得られる輪郭データから対象寸法値を算出し、前記測長値と前記対象寸法値を比較し、比較結果を前記表示部に表示することを特徴とする画像データ解析装置。
【請求項５】
前記画像処理部は、前記輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、前記重なり領域の面積から前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項４に記載の画像データ解析装置。
【請求項６】
前記画像処理部は、前記重なり領域を複数の台形領域に分割し、各台形領域の面積の総和から前記重なり領域の面積を算出し、前記重なり領域の面積を前記測長用矩形データであって前記輪郭データと交差しない辺の寸法で除算することにより、前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項５に記載の画像解析装置。
【請求項７】
前記画像処理部は、前記測長値と前記対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、前記対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を前記表示部に表示することを特徴とする請求項４に記載の画像データ解析装置。
【請求項８】
検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析方法であって、
画像処理部が、前記画像データを測定して測長値を取得し、前記画像データから得られる輪郭データから対象寸法値を算出し、前記測長値と前記対象寸法値を比較し、比較結果を表示部に表示することを特徴とする画像データ解析方法。
【請求項９】
前記画像処理部は、前記測長値と前記対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、前記対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を前記表示部に表示することを特徴とする請求項８に記載の画像データ解析方法。
【請求項１】
検査対象パターンの画像データから得られる輪郭データから、前記検査対象パターンの対象寸法値を求めるパターン寸法算出方法であって、
画像処理部が、前記対象検査パターンの前記輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、前記重なり領域の面積から前記対象寸法値を算出することを特徴とするパターン寸法算出方法。
【請求項２】
前記画像処理部は、前記重なり領域を複数の台形領域に分割し、各台形領域の面積の総和から前記重なり領域の面積を算出し、前記重なり領域の面積を前記測長用矩形データであって前記輪郭データと交差しない辺の寸法で除算することにより、前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項１に記載のパターン寸法算出方法。
【請求項３】
前記画像処理部は、前記対象寸法値を前記画像データ及び前記輪郭データの少なくとも１つと共に表示部に表示することを特徴とする請求項２に記載のパターン寸法算出方法。
【請求項４】
検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析装置であって、
表示部と、
前記画像データを解析し、前記表示部に解析結果を表示する画像処理部と、を備え、
前記画像処理部は、前記画像データを測定して測長値を取得し、前記画像データから得られる輪郭データから対象寸法値を算出し、前記測長値と前記対象寸法値を比較し、比較結果を前記表示部に表示することを特徴とする画像データ解析装置。
【請求項５】
前記画像処理部は、前記輪郭データと測長用矩形データとの重なり領域を算出し、前記重なり領域の面積から前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項４に記載の画像データ解析装置。
【請求項６】
前記画像処理部は、前記重なり領域を複数の台形領域に分割し、各台形領域の面積の総和から前記重なり領域の面積を算出し、前記重なり領域の面積を前記測長用矩形データであって前記輪郭データと交差しない辺の寸法で除算することにより、前記対象寸法値を算出することを特徴とする請求項５に記載の画像解析装置。
【請求項７】
前記画像処理部は、前記測長値と前記対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、前記対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を前記表示部に表示することを特徴とする請求項４に記載の画像データ解析装置。
【請求項８】
検査対象パターンの画像データを解析する画像データ解析方法であって、
画像処理部が、前記画像データを測定して測長値を取得し、前記画像データから得られる輪郭データから対象寸法値を算出し、前記測長値と前記対象寸法値を比較し、比較結果を表示部に表示することを特徴とする画像データ解析方法。
【請求項９】
前記画像処理部は、前記測長値と前記対象寸法値との寸法差が所定範囲内にある場合に、前記対象寸法値を寸法代表値として使用可能と判断し、判断結果を前記表示部に表示することを特徴とする請求項８に記載の画像データ解析方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２３６９７８（Ｐ２０１０−２３６９７８Ａ）
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−８４１９８（Ｐ２００９−８４１９８）
【出願日】平成２１年３月３１日（２００９．３．３１）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月３１日（２００９．３．３１）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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