ヒドロフルオロアセタール化合物及びその製造法と利用
本開示は次式［Ｉ］に従う化合物を提供する：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、ｍは１、２又は３であり、ｎが１の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；式中、ｎが２の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせアルキレン基より成る群から選ばれ；各Ｒｆ２は、独立して、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；各Ｒｆ３は独立してフッ素、並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。更にかかる化合物の使用法及び製造法も提供される。
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、ｍは１、２又は３であり、ｎが１の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；式中、ｎが２の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせアルキレン基より成る群から選ばれ；各Ｒｆ２は、独立して、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；各Ｒｆ３は独立してフッ素、並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。更にかかる化合物の使用法及び製造法も提供される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示はヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラス並びにその新規な製造法及び利用に関する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
簡潔に言うと、本開示は以下の式に従う化合物を提供する：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、ｍは１、２又は３であり、ｎが１である場合、Ｒｆ１は高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ、ｎが２の場合、Ｒｆ１は高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ、各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ、少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され、各Ｒｆ３は独立してフッ素及び高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、いくつか又は全てのＲｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３はフッ素化されている。いくつかの実施形態では、各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は独立して鎖状に連結された１つ以上の酸素原子を任意に含むことのできる、一般的にはペルフルオロメチル又はペルフルオロエチルであるペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。
【０００３】
いくつかの実施形態では、この化合物は、一般的には以下の式Ｉ’においてアスタリスクにより標識される各炭素に関する特定のエナンチオマー形態を持つことができる：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
別の態様では、本開示は以下の工程を含む、上記に記載された化合物を含む化合物の製造方法を提供する：
ａ）以下の式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
１つ以上の以下の式［ＩＩＩ］の化合物と反応させ：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
以下の式［Ｉ］に従う化合物を生成させる。
【０００４】
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。いくつかの実施形態では、この反応は触媒の存在下で行われ、この触媒は一般的には炭酸カリウムである。いくつかの実施形態では、この方法は付加的に以下の工程を含む：
ｂ）以下の式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
１つ以上の以下の式［ＶＩ］に従う化合物と反応させ：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
以下の式［ＩＩ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］n ［ＩＩ］
式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１及びＲｆ２は上記で定義されたものである。いくつかの実施形態では、この方法は追加的に以下の工程を含む：
ｃ）以下の式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
１つ以上の脱水剤と反応させて以下の式［Ｖ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
式中、ｎ及びＲｆ１は上記で定義されたものであり並びにＲは直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせ、任意に置換される任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよいアルキル基より成る群から選ばれる。一般的には、上記１つ以上の脱水剤は硫酸を含む。
【０００５】
いくつかの実施形態では、工程ｃ）は第１の反応槽で遂行され、及びその中に生成された式Ｖに従う化合物は形成されるとすぐに第１の反応槽から蒸留によって工程ｂ）が遂行される第２の反応槽に移送される。
【０００６】
別の態様では、本開示は上記で記載される化合物を含む化合物の、発泡プラスチック製造における発泡剤としての、汚染物質の除去するための、消火のための、熱伝導剤としての、気相はんだ付けを遂行するための、コーティング溶媒としての、切削若しくは剥離のための作動流体としての、又は重合の単量体としての使用方法を提供する。
【０００７】
本特許出願で使用される場合：
「鎖状に連結されたへテロ原子」とは、炭素−へテロ原子−炭素鎖を形成するように、炭素鎖中の炭素原子に結合した炭素以外の原子（例えば、酸素、窒素、又はイオウ）を意味し、
「高度にフッ素化された」はフッ素を４０重量％以上含むこと、より一般的には４５重量％以上、より一般的には５０重量％以上、より及び最も一般的には６０重量％以上含むことを意味し；
「ペルフルオロ−」（「ペルフルオロアルキレン」又は「ペルフルオロアルキル」又は「ペルフルオロカーボン」の場合などのように基又は部分を言及する場合）又は「ペルフルオロ化された」はフッ素で置換できる、炭素に結合する水素がなくなるまで完全にフッ素化することを意味し；
「ほぼペルフルオロ化された」（例えば、基又は部分に言及する場合）は、分子内にただ１つのフッ素で置換可能な炭素に結合する水素があるように、ほとんど完全にフッ素化されたことを意味し；及び
「置換された」は、所望の生成物又は方法を妨害しない、例えばアルキル、ペルフルオロアルキル、アルコキシ、ペルフルオロアルコキシ、アリール、フェニル、ハロ（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ、ニトロなどの通常の置換基により化学種、基又は部分が置換されていることを意味する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本開示はヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラス並びにその新規な合成及び使用法を提供する。
【０００９】
ヒドロフルオロアセタール化合物
本開示は以下の式［Ｉ］に従うヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスを提供する：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式Ｉ中、１又は２であり得るが一般的には１である。式Ｉ中、ｍは１、２又は３であり得るが、一般的には１又は２、及び最も一般的には１である。ヒドロフルオロアセタール化合物のこのクラスの実施形態は、ｍ及びｎが以下の組み合わせの値を持つ式Ｉに従う化合物を含む：ｎ＝１及びｍ＝１；ｎ＝１及びｍ＝２；ｎ＝１及びｍ＝３；ｎ＝２及びｍ＝１；ｎ＝２及びｍ＝２；ｎ＝２及びｍ＝３。
【００１０】
式Ｉ中、Ｒｆ１はｎが１の場合１価であり、ｎが２の場合２価である。ｎが１の場合、Ｒｆ１はフッ素化された（一般的には高度にフッ素化された）任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では１価のＲｆ１は、鎖状に連結された１つ以上の酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。一般的な１価のＲｆ１基としては、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ＨＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２−、ｎ−Ｃ３Ｆ７−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−Ｃ４Ｆ９−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、及び最も一般的には、ＣＦ３−及びＣ２Ｆ５−が挙げられる。ｎが２の場合、Ｒｆ１は、フッ素化された任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの（一般的には高度にフッ素化された）アルキレン基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、２価のＲｆ１は、１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキレン基より成る群から選ばれる。一般的な２価のＲｆ１基としては、−ＣＦ２−、−Ｃ２Ｆ４−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ３Ｆ６−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ８−、及び最も一般的には、−Ｃ２Ｆ４−及び−Ｃ３Ｆ６−が挙げられる。Ｒｆ１はフッ素化され、高度にフッ素化され、ほぼペルフルオロ化され、又はペルフルオロ化され、及び最も一般的には高度にフッ素化されている。
【００１１】
式Ｉ中、各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。少なくとも１つのＲｆ２は、高度にフッ素化され、したがって、ｍ＝１の場合、Ｒｆ２は高度にフッ素化され、ｍ＝２の場合、１つのＲｆ２はフッ素化されていなくてよく、及びｍ＝３の場合、２つのＲｆ２基フッ素化されていなくてよい。いくつかの実施形態ではＲｆ２基は、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化された、及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、Ｒｆ２基は酸素原子をヘテロ原子としてを含む（例えば、エーテル結合）。いくつかの実施形態では、Ｒｆ２基はヘテロ原子を含まない。一般的なフッ素化されたＲｆ２基としては、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、Ｃ２Ｆ４Ｈ、ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ８Ｈ−、及び最も一般的には、ＣＦ３−又はＣ２Ｆ５−が挙げられる。Ｒｆ２基は一般的にはほぼペルフルオロ化又はペルフルオロ化され及び最も一般的にはペルフルオロ化されている。一般的なフッ素化されていないＲｆ２基としては、ＣＨ３−及びＣ２Ｈ５−が挙げられ、中でもＣＨ３−が最も一般的である。
【００１２】
式Ｉ中、各Ｒｆ３は、独立してフッ素並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの高度にフッ素化されたアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態ではＲｆ３基は独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化された、及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、Ｒｆ３基は酸素原子をヘテロ原子として含む（例えば、エーテル結合）。いくつかの実施形態では、Ｒｆ３はヘテロ原子を含まない。一般的なＲｆ３としては、Ｆ−、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ｎ−Ｃ３Ｆ７−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−Ｃ４Ｆ９−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、ＣＦ３Ｏ−、Ｃ２Ｆ５Ｏ−、ｎ−Ｃ３Ｆ７Ｏ−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７Ｏ−、ｎ−Ｃ４Ｆ９Ｏ−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９Ｏ−、ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−が挙げられ、より一般的には、Ｒｆ３はＦ、ＣＦ３−、ＣＦ３Ｏ−、ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、及びＣ３Ｆ７Ｏ−から選ばれ、及び最も一般的にはＣＦ３−である。Ｒｆ３基は一般的にはほぼペルフルオロ化され、又はペルフルオロ化され及び最も一般的にはペルフルオロ化されている。
【００１３】
式［Ｉ］に従うヒドロフルオロアセタール化合物：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
は、例えば式Ｉ中で左から１番目の「Ｃ」で表される炭素のように、少なくとも２つのキラルな炭素原子を一般的に含む。いくつかの実施形態では、この化合物はジアステレオマーの混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は単一のエナンチオマー又は単一のエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は（＋）−エナンチオマー又は（＋）−エナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物（−）−エナンチオマー又は（−）−エナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。これらのエナンチオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィーを含み得る任意の適切な方法で分離することができる。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された各炭素が（Ｒ）−エナンチオマー形態を示すエナンチオマー（複数可）として存在するか：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された各炭素が（Ｓ）−エナンチオマー形態を示すエナンチオマー（複数可）として存在するか、又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された１つの炭素が（Ｓ）−エナンチオマー形態であり、他の炭素が（Ｒ）−エナンチオマー形態であるエナンチオマー（複数可）として存在するか、又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。これらのエナンチオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィーを含み得る任意の適切な方法で分離することができる。これらのジアステレオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィー又は蒸留を含み得る任意の適切な方法で分離することができる。
【００１４】
本開示により提供されるヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスの代表的な実施形態は以下の化合物を含む：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５
ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
本開示により提供されるヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスの実施形態は、水及び希酸水溶液による処理時に驚異的な安定性を実証した。
【００１５】
ヒドロフルオロアセタール化合物の調製
本開示に従う新規なクラスのヒドロフルオロアセタール化合物は任意の適切な方法により合成され得る。いくつかの実施形態では、本開示に従うヒドロフルオロアセタール化合物は以下に開示される方法に従い調製され得る。
【００１６】
いくつかの実施形態では、式Ｉに従うヒドロフルオロアセタール化合物は、フッ素化されたヘミアセタール化合物をフッ素化されたアルケンと反応させることにより調製され得る。いくつかの実施形態では、式Ｉに従うヒドロフルオロアセタール化合物は、以下の式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
以下の式［ＩＩＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製され得る：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で式Ｉに関して定義されたものである。
【００１７】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、この反応工程は、制御された、及び／又はある場合には３０〜５０℃である上昇した温度条件下に遂行され得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は、減圧下又は不活性雰囲気下に遂行され得る。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は触媒の存在下に遂行され得る。最も一般的にはこの触媒は炭酸カリウムである。
【００１８】
実施例で実証されるように、この反応工程は無機塩基による処理にも関わらず、ヘミアセタール反応剤の感知できる分解なしに遂行され得る。このヘミアセタールはフッ素化されたアルコキシド部分に比較的良好な脱離基を含むため、この結果は卓越している。更に、いくつかの実証された実施例を含む多くの実施形態では、この方法に従い調製されたヒドロフルオロアセタール化合物は、オレフィンを含まないか、又は実質的に含まず、オレフィンの除去のための更なる化学的処理（例えば、無水ＨＦによる処理）の必要性が取り除かれる。
【００１９】
式ＩＩ及びＩＩＩに従う反応剤は、任意の適切な供給源から入手することができるか、又は任意の適切な方法で合成することができる。いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤はフッ素化されたアルデヒドとフッ素化されたアルコールの反応により調製され得る。いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は、フッ素化されたヘミアセタールのフッ素化されたアルデヒドへの変換と、続くフッ素化されたアルコールとの反応により調製された。
【００２０】
いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は、以下の式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
以下の式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製された：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。
【００２１】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、この反応工程は、制御された、及び／又は上昇した温度条件下に遂行され得る。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。
【００２２】
いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は以下の式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
硫酸などの脱水剤と反応させて、以下の式［Ｖ］に従う化合物を生成させ：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
及び更にＶを以下の式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製された：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲは上記で定義されたものであり、並びにＲは任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態ではＲは１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよいＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれ。一般的に、Ｒはメチル又はエチルである。
【００２３】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、式Ｖに従う化合物は、第１の反応槽で調製され、及び生成されるとすぐに第１の反応槽から蒸留によって式ＩＩに従う化合物が調製される第２の反応槽に移送される。かかる実施形態では、適切な蒸留、加熱、及び凝縮装置が使われることができる。いくつかの実施形態では、式ＩＶに従う化合物はゆっくりと、又は滴下により、予め脱水剤が充填されている第一の反応槽に加えられることができる。この反応工程は、反応を促進し若しくは反応混合物からの生成物の蒸留を与えるか若しくはその両方のために、制御された、及び／又はある場合には６０〜９０℃若しくはそれ以上の温度である上昇した温度条件下で遂行されることができる。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。いくつかの実施形態では、式Ｖに従う化合物は、予め式ＩＶに従う化合物が充填されている第２の反応槽に蒸留によって移される。第２の反応槽では任意の適切な反応条件が用いられ得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は制御された、及び／又は上昇した温度条件下で遂行され得る。この反応工程は、一般的には反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。
【００２４】
いくつかの実施形態では、生成する生成物は、次いで、特定のエナンチオマー又はジアステレオマー若しくはそれらをより多く含む混合物、若しくは特定のエナンチオマー若しくはジアステレオマーが枯渇された混合物に分離され得る。このエナンチオマー又はジアステレオマーは、ガスクロマトグラフィー、キラルなカラム上のガスクロマトグラフィー若しくは蒸留を含み得る、任意の適切な方法により分離され得る。
【００２５】
ヒドロフルオロアセタール化合物の使用法
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物（又は通常はこの化合物を含む、この化合物から成る、若しくはこの化合物から本質的に成る液体組成物）は、クロロフルオロカーボン（ＣＦＣ）が用いられているさまざまな適用において用いることができる。ＣＦＣが環境に対して持つと考えられる有害な影響のために、現在ＣＦＣは好まれておらず制限されている。例えば、この化合物は、ディスク若しくは回路基板などの電子的物品の精密洗浄又は金属洗浄のための溶媒として、熱伝導剤として、発泡断熱材（例えば、ポリウレタン、フェノール性、及び熱可塑性発泡剤）のセル寸法制御剤として、流動用途（streaming application）における化学消火剤として、書類保存剤及び潤滑剤のための分散媒若しくは溶媒として、熱ポンプなどの動力サイクルの作動流体として、重合反応の不活性媒体として、宝石若しくは金属部品などの水除去のための排水乾燥剤として、塩素型の現像剤を含む従来の回路製造技術におけるレジスト用現像剤として、例えば、１，１，１−トリクロロエタン又はトリクロロエチレンなどの塩化炭化水素と用いる場合にはフォトレジストのストリッパーとして、並びにホルムアルデヒドの代替品として組織内若しくは生物学的標本の保存剤として用い得る。これらの用途において、これらのヒドロフルオロアセタール化合物のジアステレオマーの混合物は、一般的に更にエナンチオマー形態に分割することなく利用されることができるが、いくつかの実施形態では単一のエナンチオマーが使われてよい。
【００２６】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は一般的に高い誘電強度（例えば、約１０８オーム−ｃｍより大きい）を示し、これらの化合物を半導体工業における用途に良く適したものにしている。予期しない高い熱安定性を示すこれらのヒドロフルオロアセタール化合物は、とりわけ半導体工業での熱伝導用途及びフラットスクリーンパネルぜ製造などの高温での用途において有用であり得る。
【００２７】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は、単独又は互いに若しくは通常用いられる溶媒（例えば、アルコール、エーテル、アルカン、アルケン、ペルフルオロカーボン、ペルフルオロ化三級アミン、ペルフルオロエーテル、シクロアルカン、エステル、ケトン、芳香族化合物、シロキサン、塩化炭化水素、ヒドロクロロフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボンなど及びそれらの混合物）と混合して用いられ得る。かかる共溶媒は、特定の用途のために組成物の性質を修正する又は増強するように選択でき、及び引火点を持たないような比率（共溶媒（複数可）のヒドロフルオロアセタール（複数可）に対する）において用い得る。所望の場合、これらのヒドロフルオロアセタール化合物は、本開示のこれらのヒドロフルオロアセタール化合物から本質的に成る組成物を生成するために、特定用途に対してきわめて類似した他の化合物（例えば、他のヒドロフルオロアセタール化合物）と混合して用い得る。
【００２８】
特定用途のために特別に所望される特性を付与するために、本化合物に微量の任意構成成分を添加することができる。有用な組成物は、従来の添加剤、例えば、界面活性剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、難燃剤、及び同様のもの、並びにこれらの混合物を含むことができる。
【００２９】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は例えば、米国特許第５，１２５，０８９号（Ｆｌｙｎｎら）、３，９０３，０１２号（Ｂｒａｎｄｒｅｔｈ）、４，１６９，８０７号（Ｚｕｂｅｒ）、及び５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）に記載されるような洗浄及び乾燥用途のための溶媒として有用である。有機及び無機基質の両方がそれらを少なくとも１つの本開示のＨＦＥを含む組成物と接触させることにより洗浄され得る。炭化水素汚染物、フルオロカーボン汚染物、微粒子、及び水を包む大抵の汚染物を除去できる。
【００３０】
（回路基板などの）物品の表面の乾燥又は水の排除に本化合物を用いる場合、例えば、米国特許第５，１２５，９７８号（Ｆｌｙｎｎら）に記載される乾燥のための方法などの任意の適切な方法を用い得る。概して、かかる方法は、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物、好適にはそのフッ素化脂肪族界面活性剤との混合物を含む液体組成物に物品の表面を接触させることを含む。湿った物品を液体組成物に浸漬し及びその中でかき混ぜ、置換された水を液体組成物から分離し、そして得られた水が取り除かれた物品を液体組成物から取り出す。方法の更なる説明及び処理可能な物品は、前記米国特許第５，１２５，９７８号中に見出すことができる。
【００３１】
本開示の化合物を気相はんだ付けに用いる場合、例えば、米国特許第５，１０４，０３４号（Ｈａｎｓｅｎ）に記載されるような方法などの任意の適切な方法を用い得る。端的に言うと、かかる方法は、はんだを融解させるために、はんだ付けされる構成要素を、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む蒸気本体に浸漬することを含む。かかる方法の遂行において、タンク中でヒドロフルオロアセタール組成物の液体プールを加熱し沸騰させ、沸騰する液体と凝縮手段の間の空間に飽和蒸気を生成させ、はんだを融解し再流動させるために、はんだ付けされるワークピースを蒸気に浸漬し、それにより蒸気をワークピースの表面に凝縮させ、次いではんだ付けされたワークピースを蒸気を含む空間から取り除く。
【００３２】
本開示の化合物を発泡プラスチック（発泡ポリウレタンなど）のセル寸法制御剤として用いる場合、例えば、米国特許第５，２１０，１０６号（Ｄａｍｓら）及び５，５３９，００８号（Ｄａｍｓら）に記載されるようなプロセス反応剤及び反応条件のような、任意の適切な方法を用い得る。かかる方法の１つは、少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマー前駆体の存在下に少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む発泡剤混合物を蒸発させることを含む。
【００３３】
本開示の化合物を熱伝導剤として用いる場合、例えば、米国特許第３７，１１９Ｅ号（Ｓｈｅｒｗｏｏｄ）及び米国特許第６，３７４，９０７ Ｂ１号（Ｔｏｕｓｉｇｎａｎｔら）に記載される方法のような任意の適切な方法を用い得る。かかる方法の遂行では、熱は、熱源（例えば、シリコンウエハー又はフラットパネルディスプレーの構成成分）及び放熱板の間で、用いられる少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む熱伝導剤を介して伝達される。
【００３４】
これらの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物をコーティング用途での堆積溶媒として用いる場合、又は書類保存剤として用いる場合、例えば米国特許第５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）及び６，０８０，４４８号（Ｌｅｉｎｅｒら）に記載されている方法のような任意の適切な方法を用い得る。基質（例えば、磁気記録媒体又はセルロースを主成分とする物質）上にコーティングを堆積させるための、かかる方法は、基質表面の少なくとも１部分に、（ａ）少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む溶媒組成物；及び（ｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物をコーティングすることを含む。その方法によって付着されることのできるコーティング材料には、顔料、潤滑剤、安定剤、接着剤、酸化防止剤、染料、ポリマー、医薬品、離型剤、無機酸化物、書類保存材料（例えば、紙の脱酸に使用されるアルカリ性材料）及び同様のもの、並びにこれらの組み合せが挙げられる。好適な材料には、ペルフルオロポリエーテル、炭化水素、及びシリコーン潤滑剤、テトラフルオロエチレンの非晶質コポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、書類保存剤、及びそれらの組み合わせが挙げられる。最も好適には、材料はペルフルオロポリエーテル又は書類保存剤である。
【００３５】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を消火剤及び火災防止剤として用いる場合、例えば、米国特許第５，７１８，２９３号（Ｆｌｙｎｎら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。消火のための、かかる方法は、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む組成物を、火に加えるか又は導入することを含む。本開示のヒドロフルオロアセタール化合物は単独又は他の通常用いられる消火剤又防止剤と組み合わせて用い得る。
【００３６】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を切削又は剥離作業操作に用いる場合、例えば、米国特許第６，７５９，３７４号（Ｍｉｌｂｒａｔｈら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。かかる金属、陶性合金、又は複合材料の作業のための方法は、金属、陶性合金、又は複合材料のワークピース及び道具に、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物及び少なくとも１つの潤滑性添加物を含む作動流体を塗布することを含む。作動流体は、１以上の従来の添加剤（例えば、腐食防止剤、酸化防止剤、消泡剤、染料、殺菌剤、凝固点降下剤、金属不活性化剤、共溶媒、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）を更に含むことができる。
【００３７】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を重合用媒質として使用する場合、例えば、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅｓ，Ｎｕｍｂｅｒ ４０５７６，８１ページ（１９９８年１月）並びに米国特許第５，１８２，３４２号（Ｆｅｉｒｉｎｇら）及び６，３９９，７２９号（Ｆａｒｎｈａｍら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。かかる方法は少なくとも１つの単量体（好適には、少なくとも１つの含フッ素単量体）を、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物の存在下で重合させることを含む。
【００３８】
本開示の目的及び利点は以下の実施例によって更に例証されるが、これらの実施例に引用された特定の物質及び量、並びにその他の条件及び詳細は、本開示を過度に制限すると解釈されるべきではない。
【実施例】
【００３９】
他に言及のない限り、全ての試薬はウィスコンシン州ミルウォーキー（Milwaukee）のアルドリッチ・ケミカル株式会社（Aldrich CHemical Co）から得た若しくは入手可能であり、又は既知の方法によって合成してもよい。
【００４０】
以下の実施例において、分子中での２つ（又はそれ以上）の光学中心の存在によってジアステレオマー混合物が得られた。これらのジアステレオマーはガスクロマトグラフィーで分離され、それについては注記される。
【００４１】
実施例１：ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ３の合成
２５０ｍＬの丸底フラスコに温度計、磁気撹拌バー、滴下ロート、及び必要に応じてドライアイスを加えることにより約−３０℃に保たれたイソプロパノールの冷浴中の受液器に連結されたドライアイス凝縮器を取り付けた。硫酸（１７５ｇ）を２５０ｍＬフラスコに入れ、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（Ａｌｄｒｉｃｈ、５７．８ｇ、０．５７８ｍｏｌｅ）を受液器に入れた。トリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を滴下ロートに入れ、滴下により急速に硫酸溶液に加え、滴下が進行すると溶液の温度は７５℃まで加熱された。約６４℃の硫酸溶液のポット温度でアルデヒドは蒸留され始めた。硫酸溶液への添加が完了した後、更に１時間反応混合物を７５℃に保った。受液器は重量において２６．３ｇを獲得し、この溶液を精製することなく次工程で用いられた。
【００４２】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２
との反応受液器の全内容物（目的のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ３をトリフルオロエタノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール（Parr）反応容器に入れた。反応容器を密封し、耐火石材バルブにより吸引装置及び窒素源に反応容器を連結し、最初に吸引装置に繋ぎ、次いで窒素源に繋ぐことを４回繰り返して最後に吸引装置に繋ぐことで終了して空気を脱気した。次いで反応混合物を４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（１００ｇ、０．６７ｍｏｌｅ）を数時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を更に３．５時間同一温度（４０℃）に保った。次いで一晩かけて反応容器を室温まで冷却した。次いで反応容器を開放し内容物に水を加えて分液ロートに移した。下層のフッ素化物層を分離し、水で２回及び飽和食塩水で１回洗浄し生成物を同心管蒸留カラム（concentric tube distillation column）で２回蒸留した。生成物は１１９℃でＧＬＣにより容易に分離されるジアステレオマーの混合物として蒸留された。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５７／４３％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約１６．７％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を４７／５３％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。この物質の室温での無水ＨＦによる処理（本質的にＣｏｓｔｅｌｌｏらの米国特許第２００５／０１２７３２２号の記載に従う）は、両方のオレフィンを所望の生成物に変換することによる完全な除去を達成した。過剰のトリフルオロエタノールはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００４３】
安定性試験手順１：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３（５．２ｇ）を脱イオン水（２０ｇ）で５０℃で６時間及び室温で更に１８時間処理した。下層（４．２ｇ、８１％）を分離してＧＬＣ分析して９９．８％の純度（原料と本質的に同程度の純度）が示され、トリフルオロエタノール生成の兆候は見出されなかった。上層は痕跡程度のトリフルオロエタノールを含んでいた。
【００４４】
安定性試験手順２：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３（４．３ｇ）を５０％の塩酸水溶液を含む脱イオン水（２０ｇ）で５０℃で６時間、更に室温で１２時間処理した。下層の回収されたフッ化物（３．７ｇ、８６％）層のＧＬＣは９９．７％の純度のアセタールが未反応で残存していることを示した。残りの上層の水層は、いくらかのペンタフルオロプロパノールを含んでいたが、その量は自然の加水分解反応におけるものよりは多量ではあったが、少ないものであった。
【００４５】
実施例２：ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５の合成
この反応は実施例１に記載されたものと同じ様式で、硫酸（１７５ｇ）、Ｃ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ（８６．７ｇ、０．５７８ｍｏｌｅ）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行った。受液器は重量において２７．１ｇを獲得し、この溶液は更に精製することなく次工程で用いられた。
【００４６】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５をペンタフルオロプロパノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６２ｇ）及び粉末炭酸カリウム（３．４ｇ）と共に６００ｍＬのパール（Parr）反応容器に入れた。反応容器を密閉して、実施例１に記載したように脱気し４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（１１７ｇ、０．７８ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器一晩同じ温度（４０℃）保った。反応混合物を実施例１に記載した方法で処理し蒸留すると、１２８〜１２９℃の主分画中にＧＬＣにより分離可能な２つのジアステレオマーの混合物を得た。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５７／４３％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約２３．３％のオレフィン［ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を再び５１／４９％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００４７】
実施例３：Ｃ２Ｆ５ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
Ｃ２Ｆ５ＣＨＯはＣ２Ｆ５ＣＯ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ５のＴＨＦ中でのＮａＡｌＨ２（ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）２による還元と、続く濃硫酸からの蒸留により調製された。このアルデヒドは実施例２に記載されるように、直接Ｃ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ中に蒸留され、Ｃ２Ｆ５ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５のペンタフルオロプロパノール溶液（ペンタフルオロプロパノール溶液中の獲得重量１４．０ｇ）が得られた。
【００４８】
このペンタフルオロプロパノール溶液（所望のＣ２Ｆ５ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５を含む）の全内容物をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（２．９ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（６４．８ｇ、０．４３ｍｏｌｅ）を約２時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１４２℃の沸点の主分画が得られた。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５５／４５％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約４．２％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を４３／５７％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され、蒸留中に除去された。
【００４９】
実施例４．ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈの合成
この反応は実施例１に記載されたものと同じ様式で、硫酸（１７５ｇ）、ＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨ（９７．４ｇ、０．４２ｍｏｌｅ、Ｄａｉｋｉｎから入手可能）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行った。受液器は重量において２５ｇを獲得し、この溶液は更に精製することなく次工程で用いられた。
【００５０】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈを過剰のＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１７０ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（８８．２ｇ、０．５９ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度（４０℃）に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１８１℃の沸点の主分画が得られた。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５３／４７％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは約１６％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を再度５３／４７％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨはＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５１】
実施例５．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ（ＣＦ３）２］ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２の合成
この反応は本質的に実施例１に」記載されたものと同一の方法により、硫酸（１７５ｇ）、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨ（７０．６ｇ、０．４２ｍｏｌｅ、Ｓｙｎｑｕｅｓｔ Ｌａｂｓ）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行われた。この場合、アルコールの固化を防ぐために受液器は氷水浴により約０℃に保たれた。受液器は重量において８．６ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５２】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２を過剰のヘキサフルオロイソプロパノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．４０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（８８ｇ、０．５９ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度（４０℃）に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１１８〜１２２℃の沸点の主分画が得られた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータはただ４．５％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のヘキサフルオロイソプロパノールは（ＣＦ３）２ＣＨＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５３】
実施例６．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＨの合成
この物質は、ただ６３ｇのＣ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨを用いることだけが異なる、実施例２の第１部に記載されものと同じ方法により合成された。受液器は重量として２５．４ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５４】
第２部：ＣＦ３ＯＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＨを過剰のＣ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１７０ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．１０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル（７６．７ｇ、０．４６ｍｏｌｅ、ＳｙｎＱｕｅｓｔ Ｌａｂｓ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１３０℃の沸点を有しＧＬＣによる純度は９７．４％であった。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。オレフィンは観察されなかった。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５５】
実施例７．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＨの合成
この反応は本質的に実施例１に記載されたものと同じ方法により、硫酸（１７５ｇ）、ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（５５ｇ、７８％純度、メタノールとＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２のフリーラジカル反応により調製された）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、１８ｇ、９０％純度、０．１２５ｍｏｌｅ）を用いて行われた。受液器は重量として１０ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５６】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＨを過剰のＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１６５ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．１ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（３１．７ｇ、０．２１ｍｏｌｅ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１９０℃の沸点を有していた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータは生成物が約１５％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のアルコールはＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５７】
実施例８．ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＨ）ＣＦ３の合成
この反応は本質的に実施例１に記載されたものと同じ方法により、硫酸（１７５ｇ）、ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（１９．８ｇ、０．１２ｍｏｌ、ＭｅＯＣＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯ２Ｍｅの水素化ホウ素ナトリウムによる還元により調製された）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、３１．７ｇ、９０％純度、０．２２ｍｏｌｅ）を用いて行われた。この場合固体のジオールは１００ｍＬのアセトニトリルに溶解し、この溶液を受液器に入れた。受液器は重量として約１８．１ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５８】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のビス（ヘミアセタール）ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＨ）ＣＦ３を含む）をアセトニトリル（合計１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（５１．２ｇ、０．３４ｍｏｌｅ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１０２〜１０６℃／２．６７ｋＰａ（２０ｍｍＨｇ）の沸点を有していた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータは生成物が約１９．２％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。
【００５９】
本開示の様々な修正及び変更は、本開示の範囲及び原理から逸脱することなく当業者には明白であり、また、本発明は、上記で説明した例示的な実施形態に不当に限定して理解すべきではない。
【技術分野】
【０００１】
本開示はヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラス並びにその新規な製造法及び利用に関する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
簡潔に言うと、本開示は以下の式に従う化合物を提供する：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、ｍは１、２又は３であり、ｎが１である場合、Ｒｆ１は高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ、ｎが２の場合、Ｒｆ１は高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ、各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ、少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され、各Ｒｆ３は独立してフッ素及び高度にフッ素化された、任意に置換され、及び鎖状に連結された１つ以上のヘテロ原子を任意に含むことのできる、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、いくつか又は全てのＲｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３はフッ素化されている。いくつかの実施形態では、各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は独立して鎖状に連結された１つ以上の酸素原子を任意に含むことのできる、一般的にはペルフルオロメチル又はペルフルオロエチルであるペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。
【０００３】
いくつかの実施形態では、この化合物は、一般的には以下の式Ｉ’においてアスタリスクにより標識される各炭素に関する特定のエナンチオマー形態を持つことができる：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
別の態様では、本開示は以下の工程を含む、上記に記載された化合物を含む化合物の製造方法を提供する：
ａ）以下の式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
１つ以上の以下の式［ＩＩＩ］の化合物と反応させ：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
以下の式［Ｉ］に従う化合物を生成させる。
【０００４】
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。いくつかの実施形態では、この反応は触媒の存在下で行われ、この触媒は一般的には炭酸カリウムである。いくつかの実施形態では、この方法は付加的に以下の工程を含む：
ｂ）以下の式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
１つ以上の以下の式［ＶＩ］に従う化合物と反応させ：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
以下の式［ＩＩ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］n ［ＩＩ］
式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１及びＲｆ２は上記で定義されたものである。いくつかの実施形態では、この方法は追加的に以下の工程を含む：
ｃ）以下の式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
１つ以上の脱水剤と反応させて以下の式［Ｖ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
式中、ｎ及びＲｆ１は上記で定義されたものであり並びにＲは直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせ、任意に置換される任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよいアルキル基より成る群から選ばれる。一般的には、上記１つ以上の脱水剤は硫酸を含む。
【０００５】
いくつかの実施形態では、工程ｃ）は第１の反応槽で遂行され、及びその中に生成された式Ｖに従う化合物は形成されるとすぐに第１の反応槽から蒸留によって工程ｂ）が遂行される第２の反応槽に移送される。
【０００６】
別の態様では、本開示は上記で記載される化合物を含む化合物の、発泡プラスチック製造における発泡剤としての、汚染物質の除去するための、消火のための、熱伝導剤としての、気相はんだ付けを遂行するための、コーティング溶媒としての、切削若しくは剥離のための作動流体としての、又は重合の単量体としての使用方法を提供する。
【０００７】
本特許出願で使用される場合：
「鎖状に連結されたへテロ原子」とは、炭素−へテロ原子−炭素鎖を形成するように、炭素鎖中の炭素原子に結合した炭素以外の原子（例えば、酸素、窒素、又はイオウ）を意味し、
「高度にフッ素化された」はフッ素を４０重量％以上含むこと、より一般的には４５重量％以上、より一般的には５０重量％以上、より及び最も一般的には６０重量％以上含むことを意味し；
「ペルフルオロ−」（「ペルフルオロアルキレン」又は「ペルフルオロアルキル」又は「ペルフルオロカーボン」の場合などのように基又は部分を言及する場合）又は「ペルフルオロ化された」はフッ素で置換できる、炭素に結合する水素がなくなるまで完全にフッ素化することを意味し；
「ほぼペルフルオロ化された」（例えば、基又は部分に言及する場合）は、分子内にただ１つのフッ素で置換可能な炭素に結合する水素があるように、ほとんど完全にフッ素化されたことを意味し；及び
「置換された」は、所望の生成物又は方法を妨害しない、例えばアルキル、ペルフルオロアルキル、アルコキシ、ペルフルオロアルコキシ、アリール、フェニル、ハロ（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ、ニトロなどの通常の置換基により化学種、基又は部分が置換されていることを意味する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本開示はヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラス並びにその新規な合成及び使用法を提供する。
【０００９】
ヒドロフルオロアセタール化合物
本開示は以下の式［Ｉ］に従うヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスを提供する：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式Ｉ中、１又は２であり得るが一般的には１である。式Ｉ中、ｍは１、２又は３であり得るが、一般的には１又は２、及び最も一般的には１である。ヒドロフルオロアセタール化合物のこのクラスの実施形態は、ｍ及びｎが以下の組み合わせの値を持つ式Ｉに従う化合物を含む：ｎ＝１及びｍ＝１；ｎ＝１及びｍ＝２；ｎ＝１及びｍ＝３；ｎ＝２及びｍ＝１；ｎ＝２及びｍ＝２；ｎ＝２及びｍ＝３。
【００１０】
式Ｉ中、Ｒｆ１はｎが１の場合１価であり、ｎが２の場合２価である。ｎが１の場合、Ｒｆ１はフッ素化された（一般的には高度にフッ素化された）任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では１価のＲｆ１は、鎖状に連結された１つ以上の酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。一般的な１価のＲｆ１基としては、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ＨＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２−、ｎ−Ｃ３Ｆ７−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−Ｃ４Ｆ９−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、及び最も一般的には、ＣＦ３−及びＣ２Ｆ５−が挙げられる。ｎが２の場合、Ｒｆ１は、フッ素化された任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの（一般的には高度にフッ素化された）アルキレン基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、２価のＲｆ１は、１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキレン基より成る群から選ばれる。一般的な２価のＲｆ１基としては、−ＣＦ２−、−Ｃ２Ｆ４−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ３Ｆ６−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ８−、及び最も一般的には、−Ｃ２Ｆ４−及び−Ｃ３Ｆ６−が挙げられる。Ｒｆ１はフッ素化され、高度にフッ素化され、ほぼペルフルオロ化され、又はペルフルオロ化され、及び最も一般的には高度にフッ素化されている。
【００１１】
式Ｉ中、各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。少なくとも１つのＲｆ２は、高度にフッ素化され、したがって、ｍ＝１の場合、Ｒｆ２は高度にフッ素化され、ｍ＝２の場合、１つのＲｆ２はフッ素化されていなくてよく、及びｍ＝３の場合、２つのＲｆ２基フッ素化されていなくてよい。いくつかの実施形態ではＲｆ２基は、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化された、及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、Ｒｆ２基は酸素原子をヘテロ原子としてを含む（例えば、エーテル結合）。いくつかの実施形態では、Ｒｆ２基はヘテロ原子を含まない。一般的なフッ素化されたＲｆ２基としては、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、Ｃ２Ｆ４Ｈ、ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３、ｎ−又はｉｓｏ−Ｃ４Ｆ８Ｈ−、及び最も一般的には、ＣＦ３−又はＣ２Ｆ５−が挙げられる。Ｒｆ２基は一般的にはほぼペルフルオロ化又はペルフルオロ化され及び最も一般的にはペルフルオロ化されている。一般的なフッ素化されていないＲｆ２基としては、ＣＨ３−及びＣ２Ｈ５−が挙げられ、中でもＣＨ３−が最も一般的である。
【００１２】
式Ｉ中、各Ｒｆ３は、独立してフッ素並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの高度にフッ素化されたアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態ではＲｆ３基は独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化された、及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態では、Ｒｆ３基は酸素原子をヘテロ原子として含む（例えば、エーテル結合）。いくつかの実施形態では、Ｒｆ３はヘテロ原子を含まない。一般的なＲｆ３としては、Ｆ−、ＣＦ３−、Ｃ２Ｆ５−、ｎ−Ｃ３Ｆ７−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７−、ｎ−Ｃ４Ｆ９−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９−、ＣＦ３Ｏ−、Ｃ２Ｆ５Ｏ−、ｎ−Ｃ３Ｆ７Ｏ−、ｉｓｏ−Ｃ３Ｆ７Ｏ−、ｎ−Ｃ４Ｆ９Ｏ−、ｉｓｏ−Ｃ４Ｆ９Ｏ−、ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、Ｃ３Ｆ７ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ−が挙げられ、より一般的には、Ｒｆ３はＦ、ＣＦ３−、ＣＦ３Ｏ−、ＣＦ３ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−、及びＣ３Ｆ７Ｏ−から選ばれ、及び最も一般的にはＣＦ３−である。Ｒｆ３基は一般的にはほぼペルフルオロ化され、又はペルフルオロ化され及び最も一般的にはペルフルオロ化されている。
【００１３】
式［Ｉ］に従うヒドロフルオロアセタール化合物：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
は、例えば式Ｉ中で左から１番目の「Ｃ」で表される炭素のように、少なくとも２つのキラルな炭素原子を一般的に含む。いくつかの実施形態では、この化合物はジアステレオマーの混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は単一のエナンチオマー又は単一のエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は（＋）−エナンチオマー又は（＋）−エナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物（−）−エナンチオマー又は（−）−エナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。これらのエナンチオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィーを含み得る任意の適切な方法で分離することができる。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された各炭素が（Ｒ）−エナンチオマー形態を示すエナンチオマー（複数可）として存在するか：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された各炭素が（Ｓ）−エナンチオマー形態を示すエナンチオマー（複数可）として存在するか、又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。いくつかの実施形態では、この化合物は、式Ｉ’中でアスタリスクの付された１つの炭素が（Ｓ）−エナンチオマー形態であり、他の炭素が（Ｒ）−エナンチオマー形態であるエナンチオマー（複数可）として存在するか、又はかかるエナンチオマーをより多く含む混合物として存在する。これらのエナンチオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィーを含み得る任意の適切な方法で分離することができる。これらのジアステレオマーは、キラルな固定相を持つガスクロマトグラフィー又は蒸留を含み得る任意の適切な方法で分離することができる。
【００１４】
本開示により提供されるヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスの代表的な実施形態は以下の化合物を含む：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＨＦ２
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＦ２ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）２）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ（ＯＣ（ＣＨ３）２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５
ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３
ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３
本開示により提供されるヒドロフルオロアセタール化合物の新規なクラスの実施形態は、水及び希酸水溶液による処理時に驚異的な安定性を実証した。
【００１５】
ヒドロフルオロアセタール化合物の調製
本開示に従う新規なクラスのヒドロフルオロアセタール化合物は任意の適切な方法により合成され得る。いくつかの実施形態では、本開示に従うヒドロフルオロアセタール化合物は以下に開示される方法に従い調製され得る。
【００１６】
いくつかの実施形態では、式Ｉに従うヒドロフルオロアセタール化合物は、フッ素化されたヘミアセタール化合物をフッ素化されたアルケンと反応させることにより調製され得る。いくつかの実施形態では、式Ｉに従うヒドロフルオロアセタール化合物は、以下の式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
以下の式［ＩＩＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製され得る：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で式Ｉに関して定義されたものである。
【００１７】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、この反応工程は、制御された、及び／又はある場合には３０〜５０℃である上昇した温度条件下に遂行され得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は、減圧下又は不活性雰囲気下に遂行され得る。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は触媒の存在下に遂行され得る。最も一般的にはこの触媒は炭酸カリウムである。
【００１８】
実施例で実証されるように、この反応工程は無機塩基による処理にも関わらず、ヘミアセタール反応剤の感知できる分解なしに遂行され得る。このヘミアセタールはフッ素化されたアルコキシド部分に比較的良好な脱離基を含むため、この結果は卓越している。更に、いくつかの実証された実施例を含む多くの実施形態では、この方法に従い調製されたヒドロフルオロアセタール化合物は、オレフィンを含まないか、又は実質的に含まず、オレフィンの除去のための更なる化学的処理（例えば、無水ＨＦによる処理）の必要性が取り除かれる。
【００１９】
式ＩＩ及びＩＩＩに従う反応剤は、任意の適切な供給源から入手することができるか、又は任意の適切な方法で合成することができる。いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤はフッ素化されたアルデヒドとフッ素化されたアルコールの反応により調製され得る。いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は、フッ素化されたヘミアセタールのフッ素化されたアルデヒドへの変換と、続くフッ素化されたアルコールとの反応により調製された。
【００２０】
いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は、以下の式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
以下の式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製された：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。
【００２１】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、この反応工程は、制御された、及び／又は上昇した温度条件下に遂行され得る。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。
【００２２】
いくつかの実施形態では、式ＩＩに従う反応剤は以下の式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
硫酸などの脱水剤と反応させて、以下の式［Ｖ］に従う化合物を生成させ：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
及び更にＶを以下の式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させる工程を含む方法により調製された：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２、Ｒｆ３及びＲは上記で定義されたものであり、並びにＲは任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。いくつかの実施形態ではＲは１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよいＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれ。一般的に、Ｒはメチル又はエチルである。
【００２３】
任意の適切な反応条件を用いることができる。いくつかの実施形態では、式Ｖに従う化合物は、第１の反応槽で調製され、及び生成されるとすぐに第１の反応槽から蒸留によって式ＩＩに従う化合物が調製される第２の反応槽に移送される。かかる実施形態では、適切な蒸留、加熱、及び凝縮装置が使われることができる。いくつかの実施形態では、式ＩＶに従う化合物はゆっくりと、又は滴下により、予め脱水剤が充填されている第一の反応槽に加えられることができる。この反応工程は、反応を促進し若しくは反応混合物からの生成物の蒸留を与えるか若しくはその両方のために、制御された、及び／又はある場合には６０〜９０℃若しくはそれ以上の温度である上昇した温度条件下で遂行されることができる。この反応工程は、一般的にはその反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。いくつかの実施形態では、式Ｖに従う化合物は、予め式ＩＶに従う化合物が充填されている第２の反応槽に蒸留によって移される。第２の反応槽では任意の適切な反応条件が用いられ得る。いくつかの実施形態では、この反応工程は制御された、及び／又は上昇した温度条件下で遂行され得る。この反応工程は、一般的には反応において不活性である任意の適切な溶媒中で遂行され得るか、又は無溶媒で遂行され得る。
【００２４】
いくつかの実施形態では、生成する生成物は、次いで、特定のエナンチオマー又はジアステレオマー若しくはそれらをより多く含む混合物、若しくは特定のエナンチオマー若しくはジアステレオマーが枯渇された混合物に分離され得る。このエナンチオマー又はジアステレオマーは、ガスクロマトグラフィー、キラルなカラム上のガスクロマトグラフィー若しくは蒸留を含み得る、任意の適切な方法により分離され得る。
【００２５】
ヒドロフルオロアセタール化合物の使用法
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物（又は通常はこの化合物を含む、この化合物から成る、若しくはこの化合物から本質的に成る液体組成物）は、クロロフルオロカーボン（ＣＦＣ）が用いられているさまざまな適用において用いることができる。ＣＦＣが環境に対して持つと考えられる有害な影響のために、現在ＣＦＣは好まれておらず制限されている。例えば、この化合物は、ディスク若しくは回路基板などの電子的物品の精密洗浄又は金属洗浄のための溶媒として、熱伝導剤として、発泡断熱材（例えば、ポリウレタン、フェノール性、及び熱可塑性発泡剤）のセル寸法制御剤として、流動用途（streaming application）における化学消火剤として、書類保存剤及び潤滑剤のための分散媒若しくは溶媒として、熱ポンプなどの動力サイクルの作動流体として、重合反応の不活性媒体として、宝石若しくは金属部品などの水除去のための排水乾燥剤として、塩素型の現像剤を含む従来の回路製造技術におけるレジスト用現像剤として、例えば、１，１，１−トリクロロエタン又はトリクロロエチレンなどの塩化炭化水素と用いる場合にはフォトレジストのストリッパーとして、並びにホルムアルデヒドの代替品として組織内若しくは生物学的標本の保存剤として用い得る。これらの用途において、これらのヒドロフルオロアセタール化合物のジアステレオマーの混合物は、一般的に更にエナンチオマー形態に分割することなく利用されることができるが、いくつかの実施形態では単一のエナンチオマーが使われてよい。
【００２６】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は一般的に高い誘電強度（例えば、約１０８オーム−ｃｍより大きい）を示し、これらの化合物を半導体工業における用途に良く適したものにしている。予期しない高い熱安定性を示すこれらのヒドロフルオロアセタール化合物は、とりわけ半導体工業での熱伝導用途及びフラットスクリーンパネルぜ製造などの高温での用途において有用であり得る。
【００２７】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は、単独又は互いに若しくは通常用いられる溶媒（例えば、アルコール、エーテル、アルカン、アルケン、ペルフルオロカーボン、ペルフルオロ化三級アミン、ペルフルオロエーテル、シクロアルカン、エステル、ケトン、芳香族化合物、シロキサン、塩化炭化水素、ヒドロクロロフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボンなど及びそれらの混合物）と混合して用いられ得る。かかる共溶媒は、特定の用途のために組成物の性質を修正する又は増強するように選択でき、及び引火点を持たないような比率（共溶媒（複数可）のヒドロフルオロアセタール（複数可）に対する）において用い得る。所望の場合、これらのヒドロフルオロアセタール化合物は、本開示のこれらのヒドロフルオロアセタール化合物から本質的に成る組成物を生成するために、特定用途に対してきわめて類似した他の化合物（例えば、他のヒドロフルオロアセタール化合物）と混合して用い得る。
【００２８】
特定用途のために特別に所望される特性を付与するために、本化合物に微量の任意構成成分を添加することができる。有用な組成物は、従来の添加剤、例えば、界面活性剤、着色剤、安定剤、酸化防止剤、難燃剤、及び同様のもの、並びにこれらの混合物を含むことができる。
【００２９】
これらのヒドロフルオロアセタール化合物は例えば、米国特許第５，１２５，０８９号（Ｆｌｙｎｎら）、３，９０３，０１２号（Ｂｒａｎｄｒｅｔｈ）、４，１６９，８０７号（Ｚｕｂｅｒ）、及び５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）に記載されるような洗浄及び乾燥用途のための溶媒として有用である。有機及び無機基質の両方がそれらを少なくとも１つの本開示のＨＦＥを含む組成物と接触させることにより洗浄され得る。炭化水素汚染物、フルオロカーボン汚染物、微粒子、及び水を包む大抵の汚染物を除去できる。
【００３０】
（回路基板などの）物品の表面の乾燥又は水の排除に本化合物を用いる場合、例えば、米国特許第５，１２５，９７８号（Ｆｌｙｎｎら）に記載される乾燥のための方法などの任意の適切な方法を用い得る。概して、かかる方法は、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物、好適にはそのフッ素化脂肪族界面活性剤との混合物を含む液体組成物に物品の表面を接触させることを含む。湿った物品を液体組成物に浸漬し及びその中でかき混ぜ、置換された水を液体組成物から分離し、そして得られた水が取り除かれた物品を液体組成物から取り出す。方法の更なる説明及び処理可能な物品は、前記米国特許第５，１２５，９７８号中に見出すことができる。
【００３１】
本開示の化合物を気相はんだ付けに用いる場合、例えば、米国特許第５，１０４，０３４号（Ｈａｎｓｅｎ）に記載されるような方法などの任意の適切な方法を用い得る。端的に言うと、かかる方法は、はんだを融解させるために、はんだ付けされる構成要素を、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む蒸気本体に浸漬することを含む。かかる方法の遂行において、タンク中でヒドロフルオロアセタール組成物の液体プールを加熱し沸騰させ、沸騰する液体と凝縮手段の間の空間に飽和蒸気を生成させ、はんだを融解し再流動させるために、はんだ付けされるワークピースを蒸気に浸漬し、それにより蒸気をワークピースの表面に凝縮させ、次いではんだ付けされたワークピースを蒸気を含む空間から取り除く。
【００３２】
本開示の化合物を発泡プラスチック（発泡ポリウレタンなど）のセル寸法制御剤として用いる場合、例えば、米国特許第５，２１０，１０６号（Ｄａｍｓら）及び５，５３９，００８号（Ｄａｍｓら）に記載されるようなプロセス反応剤及び反応条件のような、任意の適切な方法を用い得る。かかる方法の１つは、少なくとも１つの発泡性ポリマー又は少なくとも１つの発泡性ポリマー前駆体の存在下に少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む発泡剤混合物を蒸発させることを含む。
【００３３】
本開示の化合物を熱伝導剤として用いる場合、例えば、米国特許第３７，１１９Ｅ号（Ｓｈｅｒｗｏｏｄ）及び米国特許第６，３７４，９０７ Ｂ１号（Ｔｏｕｓｉｇｎａｎｔら）に記載される方法のような任意の適切な方法を用い得る。かかる方法の遂行では、熱は、熱源（例えば、シリコンウエハー又はフラットパネルディスプレーの構成成分）及び放熱板の間で、用いられる少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む熱伝導剤を介して伝達される。
【００３４】
これらの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物をコーティング用途での堆積溶媒として用いる場合、又は書類保存剤として用いる場合、例えば米国特許第５，９２５，６１１号（Ｆｌｙｎｎら）及び６，０８０，４４８号（Ｌｅｉｎｅｒら）に記載されている方法のような任意の適切な方法を用い得る。基質（例えば、磁気記録媒体又はセルロースを主成分とする物質）上にコーティングを堆積させるための、かかる方法は、基質表面の少なくとも１部分に、（ａ）少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む溶媒組成物；及び（ｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物をコーティングすることを含む。その方法によって付着されることのできるコーティング材料には、顔料、潤滑剤、安定剤、接着剤、酸化防止剤、染料、ポリマー、医薬品、離型剤、無機酸化物、書類保存材料（例えば、紙の脱酸に使用されるアルカリ性材料）及び同様のもの、並びにこれらの組み合せが挙げられる。好適な材料には、ペルフルオロポリエーテル、炭化水素、及びシリコーン潤滑剤、テトラフルオロエチレンの非晶質コポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、書類保存剤、及びそれらの組み合わせが挙げられる。最も好適には、材料はペルフルオロポリエーテル又は書類保存剤である。
【００３５】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を消火剤及び火災防止剤として用いる場合、例えば、米国特許第５，７１８，２９３号（Ｆｌｙｎｎら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。消火のための、かかる方法は、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を含む組成物を、火に加えるか又は導入することを含む。本開示のヒドロフルオロアセタール化合物は単独又は他の通常用いられる消火剤又防止剤と組み合わせて用い得る。
【００３６】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を切削又は剥離作業操作に用いる場合、例えば、米国特許第６，７５９，３７４号（Ｍｉｌｂｒａｔｈら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。かかる金属、陶性合金、又は複合材料の作業のための方法は、金属、陶性合金、又は複合材料のワークピース及び道具に、少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物及び少なくとも１つの潤滑性添加物を含む作動流体を塗布することを含む。作動流体は、１以上の従来の添加剤（例えば、腐食防止剤、酸化防止剤、消泡剤、染料、殺菌剤、凝固点降下剤、金属不活性化剤、共溶媒、及び同様のもの、並びにこれらの混合物）を更に含むことができる。
【００３７】
本開示のヒドロフルオロアセタール化合物を重合用媒質として使用する場合、例えば、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅｓ，Ｎｕｍｂｅｒ ４０５７６，８１ページ（１９９８年１月）並びに米国特許第５，１８２，３４２号（Ｆｅｉｒｉｎｇら）及び６，３９９，７２９号（Ｆａｒｎｈａｍら）に記載される方法などの任意の適切な方法を用い得る。かかる方法は少なくとも１つの単量体（好適には、少なくとも１つの含フッ素単量体）を、少なくとも１つの重合開始剤及び少なくとも１つの本開示のヒドロフルオロアセタール化合物の存在下で重合させることを含む。
【００３８】
本開示の目的及び利点は以下の実施例によって更に例証されるが、これらの実施例に引用された特定の物質及び量、並びにその他の条件及び詳細は、本開示を過度に制限すると解釈されるべきではない。
【実施例】
【００３９】
他に言及のない限り、全ての試薬はウィスコンシン州ミルウォーキー（Milwaukee）のアルドリッチ・ケミカル株式会社（Aldrich CHemical Co）から得た若しくは入手可能であり、又は既知の方法によって合成してもよい。
【００４０】
以下の実施例において、分子中での２つ（又はそれ以上）の光学中心の存在によってジアステレオマー混合物が得られた。これらのジアステレオマーはガスクロマトグラフィーで分離され、それについては注記される。
【００４１】
実施例１：ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ３の合成
２５０ｍＬの丸底フラスコに温度計、磁気撹拌バー、滴下ロート、及び必要に応じてドライアイスを加えることにより約−３０℃に保たれたイソプロパノールの冷浴中の受液器に連結されたドライアイス凝縮器を取り付けた。硫酸（１７５ｇ）を２５０ｍＬフラスコに入れ、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ（Ａｌｄｒｉｃｈ、５７．８ｇ、０．５７８ｍｏｌｅ）を受液器に入れた。トリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を滴下ロートに入れ、滴下により急速に硫酸溶液に加え、滴下が進行すると溶液の温度は７５℃まで加熱された。約６４℃の硫酸溶液のポット温度でアルデヒドは蒸留され始めた。硫酸溶液への添加が完了した後、更に１時間反応混合物を７５℃に保った。受液器は重量において２６．３ｇを獲得し、この溶液を精製することなく次工程で用いられた。
【００４２】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２
との反応受液器の全内容物（目的のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ３をトリフルオロエタノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール（Parr）反応容器に入れた。反応容器を密封し、耐火石材バルブにより吸引装置及び窒素源に反応容器を連結し、最初に吸引装置に繋ぎ、次いで窒素源に繋ぐことを４回繰り返して最後に吸引装置に繋ぐことで終了して空気を脱気した。次いで反応混合物を４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（１００ｇ、０．６７ｍｏｌｅ）を数時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を更に３．５時間同一温度（４０℃）に保った。次いで一晩かけて反応容器を室温まで冷却した。次いで反応容器を開放し内容物に水を加えて分液ロートに移した。下層のフッ素化物層を分離し、水で２回及び飽和食塩水で１回洗浄し生成物を同心管蒸留カラム（concentric tube distillation column）で２回蒸留した。生成物は１１９℃でＧＬＣにより容易に分離されるジアステレオマーの混合物として蒸留された。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５７／４３％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約１６．７％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を４７／５３％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。この物質の室温での無水ＨＦによる処理（本質的にＣｏｓｔｅｌｌｏらの米国特許第２００５／０１２７３２２号の記載に従う）は、両方のオレフィンを所望の生成物に変換することによる完全な除去を達成した。過剰のトリフルオロエタノールはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００４３】
安定性試験手順１：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３（５．２ｇ）を脱イオン水（２０ｇ）で５０℃で６時間及び室温で更に１８時間処理した。下層（４．２ｇ、８１％）を分離してＧＬＣ分析して９９．８％の純度（原料と本質的に同程度の純度）が示され、トリフルオロエタノール生成の兆候は見出されなかった。上層は痕跡程度のトリフルオロエタノールを含んでいた。
【００４４】
安定性試験手順２：
ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３（４．３ｇ）を５０％の塩酸水溶液を含む脱イオン水（２０ｇ）で５０℃で６時間、更に室温で１２時間処理した。下層の回収されたフッ化物（３．７ｇ、８６％）層のＧＬＣは９９．７％の純度のアセタールが未反応で残存していることを示した。残りの上層の水層は、いくらかのペンタフルオロプロパノールを含んでいたが、その量は自然の加水分解反応におけるものよりは多量ではあったが、少ないものであった。
【００４５】
実施例２：ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５の合成
この反応は実施例１に記載されたものと同じ様式で、硫酸（１７５ｇ）、Ｃ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ（８６．７ｇ、０．５７８ｍｏｌｅ）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行った。受液器は重量において２７．１ｇを獲得し、この溶液は更に精製することなく次工程で用いられた。
【００４６】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５をペンタフルオロプロパノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６２ｇ）及び粉末炭酸カリウム（３．４ｇ）と共に６００ｍＬのパール（Parr）反応容器に入れた。反応容器を密閉して、実施例１に記載したように脱気し４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（１１７ｇ、０．７８ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器一晩同じ温度（４０℃）保った。反応混合物を実施例１に記載した方法で処理し蒸留すると、１２８〜１２９℃の主分画中にＧＬＣにより分離可能な２つのジアステレオマーの混合物を得た。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５７／４３％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約２３．３％のオレフィン［ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を再び５１／４９％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００４７】
実施例３：Ｃ２Ｆ５ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
Ｃ２Ｆ５ＣＨＯはＣ２Ｆ５ＣＯ２ＣＨ２Ｃ２Ｆ５のＴＨＦ中でのＮａＡｌＨ２（ＯＣ２Ｈ４ＯＣＨ３）２による還元と、続く濃硫酸からの蒸留により調製された。このアルデヒドは実施例２に記載されるように、直接Ｃ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ中に蒸留され、Ｃ２Ｆ５ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５のペンタフルオロプロパノール溶液（ペンタフルオロプロパノール溶液中の獲得重量１４．０ｇ）が得られた。
【００４８】
このペンタフルオロプロパノール溶液（所望のＣ２Ｆ５ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５を含む）の全内容物をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（２．９ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（６４．８ｇ、０．４３ｍｏｌｅ）を約２時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１４２℃の沸点の主分画が得られた。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５５／４５％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは生成物が約４．２％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を４３／５７％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され、蒸留中に除去された。
【００４９】
実施例４．ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ）ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈの合成
この反応は実施例１に記載されたものと同じ様式で、硫酸（１７５ｇ）、ＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨ（９７．４ｇ、０．４２ｍｏｌｅ、Ｄａｉｋｉｎから入手可能）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行った。受液器は重量において２５ｇを獲得し、この溶液は更に精製することなく次工程で用いられた。
【００５０】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈを過剰のＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１７０ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（８８．２ｇ、０．５９ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度（４０℃）に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１８１℃の沸点の主分画が得られた。この生成物の同定は、ＧＣ−ＭＳ及びＨ−１及びＦ−１９ ＮＭＲにより、ジアステレオマーの５３／４７％の比率での混合物であることが確認された。１つのジアステレオマーの分画はＳＳ及びＲＲエナンチオマーを含み及び他のものはＳＲ及びＲＳエナンチオマーを含むと考えられた。ＮＭＲデータは約１６％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］を再度５３／４７％のｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＨはＨＣ４Ｆ８ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５１】
実施例５．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ（ＣＦ３）２］ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２の合成
この反応は本質的に実施例１に」記載されたものと同一の方法により、硫酸（１７５ｇ）、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨ（７０．６ｇ、０．４２ｍｏｌｅ、Ｓｙｎｑｕｅｓｔ Ｌａｂｓ）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、５０ｇ、９０％純度、０．３４６ｍｏｌｅ）を充填して行われた。この場合、アルコールの固化を防ぐために受液器は氷水浴により約０℃に保たれた。受液器は重量において８．６ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５２】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ（ＣＦ３）２を過剰のヘキサフルオロイソプロパノール溶液として含む）をアセトニトリル（１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．４０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（８８ｇ、０．５９ｍｏｌｅ）を１時間にわたって一部分ずつ加え、次いで反応容器を同じ温度（４０℃）に一晩保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。蒸留により１１８〜１２２℃の沸点の主分画が得られた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータはただ４．５％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のヘキサフルオロイソプロパノールは（ＣＦ３）２ＣＨＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５３】
実施例６．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＣＦ２ＣＦＨＯＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＨの合成
この物質は、ただ６３ｇのＣ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨを用いることだけが異なる、実施例２の第１部に記載されものと同じ方法により合成された。受液器は重量として２５．４ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５４】
第２部：ＣＦ３ＯＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２Ｃ２Ｆ５］ＯＨを過剰のＣ２Ｆ５ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１７０ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．１０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル（７６．７ｇ、０．４６ｍｏｌｅ、ＳｙｎＱｕｅｓｔ Ｌａｂｓ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った。反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１３０℃の沸点を有しＧＬＣによる純度は９７．４％であった。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。オレフィンは観察されなかった。過剰のペンタフルオロプロパノールはＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５５】
実施例７．ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＨの合成
この反応は本質的に実施例１に記載されたものと同じ方法により、硫酸（１７５ｇ）、ＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（５５ｇ、７８％純度、メタノールとＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ＝ＣＦ２のフリーラジカル反応により調製された）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、１８ｇ、９０％純度、０．１２５ｍｏｌｅ）を用いて行われた。受液器は重量として１０ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５６】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のＣＦ３ＣＨ［ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦＨＯＣ３Ｆ６ＯＣＦ３］ＯＨを過剰のＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＨ溶液として含む）をアセトニトリル（１６５ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．１ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（３１．７ｇ、０．２１ｍｏｌｅ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１９０℃の沸点を有していた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータは生成物が約１５％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。過剰のアルコールはＣＦ３ＯＣ３Ｆ６ＯＣＦＨＣＦ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３に変換され蒸留中に除去された。
【００５７】
実施例８．ＣＦ３ＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３）ＣＦ３の調製
第１部：ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＨ）ＣＦ３の合成
この反応は本質的に実施例１に記載されたものと同じ方法により、硫酸（１７５ｇ）、ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（１９．８ｇ、０．１２ｍｏｌ、ＭｅＯＣＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯ２Ｍｅの水素化ホウ素ナトリウムによる還元により調製された）及びトリフルオロアセトアルデヒドメチルヘミアセタール（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ、３１．７ｇ、９０％純度、０．２２ｍｏｌｅ）を用いて行われた。この場合固体のジオールは１００ｍＬのアセトニトリルに溶解し、この溶液を受液器に入れた。受液器は重量として約１８．１ｇを獲得し、この溶液は精製することなく次工程で用いられた。
【００５８】
第２部：ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ２との反応
受液器の全内容物（所望のビス（ヘミアセタール）ＣＦ３ＣＨ（ＯＨ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ（ＯＨ）ＣＦ３を含む）をアセトニトリル（合計１６７ｇ）及び粉末の炭酸カリウム（３．０ｇ）と共に６００ｍＬのパール反応容器に入れた。反応容器を密閉し脱気して４０℃に加熱した。ヘキサフルオロプロパン（５１．２ｇ、０．３４ｍｏｌｅ）を一部分ずつ１時間にわたって加え次いで反応容器を一晩同一温度（４０℃）に保った反応混合物を水に注ぎ得られた下層を水で３回洗浄し蒸留した。主分画は１０２〜１０６℃／２．６７ｋＰａ（２０ｍｍＨｇ）の沸点を有していた。生成物の同定はＧＣ−ＭＳ及びＨ−１ ＮＭＲにより確認された。ＮＭＲデータは生成物が約１９．２％のオレフィン［−ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］をｃｉｓ／ｔｒａｎｓ混合物として含むことを示した。
【００５９】
本開示の様々な修正及び変更は、本開示の範囲及び原理から逸脱することなく当業者には明白であり、また、本発明は、上記で説明した例示的な実施形態に不当に限定して理解すべきではない。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次式［Ｉ］に従う化合物であって：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、
ｍは１、２又は３であり、
ｎが１の場合、Ｒｆ１任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
ｎが２の場合、Ｒｆ１は任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化され直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ；
各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；
各Ｒｆ３は独立してフッ素並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの高度にフッ素化されたアルキル基より成る群から選ばれる化合物。
【請求項２】
前記式中、ｎが１である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記式中、ｍが１である請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記式中、ｍが２である請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
前記式中、ｍが１である請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
前記式中、ｍが２である請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
前記式中、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３がペルフルオロ化されている請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
各Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項２に記載の化合物。
【請求項１０】
各Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルから成る群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項２に記載の化合物。
【請求項１２】
次式［Ｉ］に従う化合物を調製する方法であって：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、
ｍは１、２又は３であり、
ｎが１の場合、Ｒｆ１は任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
ｎが２の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ；
各Ｒｆ２は独立して任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；
各Ｒｆ３は、独立してフッ素並びに任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
該方法は以下の工程を含む製造方法：
ａ）式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
式［ＩＩＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させ：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
次式［Ｉ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。
【請求項１３】
工程ａ）が触媒の存在下に遂行される請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記触媒が炭酸カリウムである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
以下の工程を追加的に含む請求項１２に記載の方法：
ｂ）式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させ：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
式［ＩＩ］に従う化合物を生成させる工程：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１及びＲｆ２は上記で定義されたものである。
【請求項１６】
以下の工程を追加的に含む請求項１５に記載の方法：
ｃ）式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
１つ以上の脱水剤と反応させて式［Ｖ］に従う化合物を生成させる工程：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
但し、式中、ｎ及びＲｆ１は上記で定義されたものであり、並びにＲは、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。
【請求項１７】
１つ以上の脱水剤が硫酸を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
工程ｃ）が第１の反応槽で遂行され、及びそこで生成された式Ｖに従う化合物が生成されると第１の反応槽から工程ｂ）が遂行される第２の反応槽へと蒸留される請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
式中、ｎが１である請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
式中、ｍが１である請求項１２に記載の方法。
【請求項２１】
式中、ｍが２である請求項１２に記載の方法。
【請求項２２】
式中、ｍが１である請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
式中、ｍが２である請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
式中、ｎが１である請求項１５に記載の方法。
【請求項２５】
式中、ｎが１である請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３がペルフルオロ化されている請求項１２に記載の方法。
【請求項２７】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１２に記載の方法。
【請求項２８】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２９】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１２に記載の方法。
【請求項３０】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１５に記載の方法。
【請求項３１】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１６に記載の方法。
【請求項３２】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項３３】
物品から汚染物質を除く方法であって、少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む組成物と該物品とを接触させることを含む方法。
【請求項３４】
少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む組成物を火に加えることを含む消火のための方法。
【請求項３５】
発泡プラスチックを調製するための方法であって、少なくとも１つの発泡性ポリマー又はその発泡性ポリマーの前駆体の存在下に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む発泡剤混合物を蒸発させることを含む方法。
【請求項３６】
気相はんだ付けのための方法であって、はんだを含む少なくとも１つの構成要素を、少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含むフッ素化された液体の蒸気の本体に浸漬させることにより、はんだを融解させることを含む方法。
【請求項３７】
熱伝達のための方法であって、熱源及び放熱板の間に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物熱伝導剤を使用して熱を伝達するする方法。
【請求項３８】
コーティングを基質上に堆積させるための方法であって、該基質の表面の少なくとも１部分に：ａ）少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む溶媒組成物；及びｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を塗布することを含む方法。
【請求項３９】
切削又は剥離作業のための方法であって、作動流体を金属、陶性合金、又は複合材料のワークピース及び道具に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を及び少なくとも１つの潤滑剤添加物を含む作動流体を塗布することを含む方法。
【請求項４０】
少なくとも１つの単量体を、少なくとも１つの重合開始剤、及び少なくとも１つの請求項１に記載の化合物の存在下に重合させることを含む重合方法。
【請求項４１】
式Ｉ’中のアスタリスクにより表示される各炭素において同一のエナンチオマー形態を示す請求項１に記載の化合物のジアステレオマーの混合物：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
【請求項４２】
式Ｉ’中のアスタリスクにより表示される各炭素の少なくとも１つが（Ｓ）−エナンチオマー形態を示し、アスタリスクにより表示される各炭素の少なくとも１つが（Ｒ）−エナンチオマー形態を示す請求項１に記載の化合物のジアステレオマーの混合物：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
【請求項４３】
単一のエナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【請求項４４】
（＋）−エナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【請求項４５】
（−）−エナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【請求項１】
次式［Ｉ］に従う化合物であって：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、
ｍは１、２又は３であり、
ｎが１の場合、Ｒｆ１任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
ｎが２の場合、Ｒｆ１は任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化され直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ；
各Ｒｆ２は独立して任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；
各Ｒｆ３は独立してフッ素並びに任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせの高度にフッ素化されたアルキル基より成る群から選ばれる化合物。
【請求項２】
前記式中、ｎが１である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記式中、ｍが１である請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
前記式中、ｍが２である請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
前記式中、ｍが１である請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
前記式中、ｍが２である請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
前記式中、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３がペルフルオロ化されている請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
各Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項２に記載の化合物。
【請求項１０】
各Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルから成る群から選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項２に記載の化合物。
【請求項１２】
次式［Ｉ］に従う化合物を調製する方法であって：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
式中、ｎは１又は２であり、
ｍは１、２又は３であり、
ｎが１の場合、Ｒｆ１は任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
ｎが２の場合、Ｒｆ１は、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキレン基より成る群から選ばれ；
各Ｒｆ２は独立して任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
少なくとも１つのＲｆ２は高度にフッ素化され；
各Ｒｆ３は、独立してフッ素並びに任意に置換される、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい高度にフッ素化された直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれ；
該方法は以下の工程を含む製造方法：
ａ）式［ＩＩ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
式［ＩＩＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させ：
ＣＦ２＝ＣＦ−Ｒｆ３ ［ＩＩＩ］
次式［Ｉ］に従う化合物を生成させる：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３は上記で定義されたものである。
【請求項１３】
工程ａ）が触媒の存在下に遂行される請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記触媒が炭酸カリウムである請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
以下の工程を追加的に含む請求項１２に記載の方法：
ｂ）式［Ｖ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
式［ＶＩ］に従う１つ以上の化合物と反応させ：
ＨＯ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ ［ＶＩ］
式［ＩＩ］に従う化合物を生成させる工程：
Ｒｆ１［ＣＨ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−ＯＨ）］ｎ ［ＩＩ］
但し、式中、ｎ、ｍ、Ｒｆ１及びＲｆ２は上記で定義されたものである。
【請求項１６】
以下の工程を追加的に含む請求項１５に記載の方法：
ｃ）式［ＩＶ］に従う化合物を：
Ｒｆ１［ＣＨ（ＯＲ）ＯＨ］ｎ ［ＩＶ］
１つ以上の脱水剤と反応させて式［Ｖ］に従う化合物を生成させる工程：
Ｒｆ１［ＣＨＯ］ｎ ［Ｖ］
但し、式中、ｎ及びＲｆ１は上記で定義されたものであり、並びにＲは、任意に置換され、及び１つ以上の鎖状に連結されたヘテロ原子を任意に含んでよい、直鎖状、分枝状、環状、又はそれらの組み合わせのアルキル基より成る群から選ばれる。
【請求項１７】
１つ以上の脱水剤が硫酸を含む請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
工程ｃ）が第１の反応槽で遂行され、及びそこで生成された式Ｖに従う化合物が生成されると第１の反応槽から工程ｂ）が遂行される第２の反応槽へと蒸留される請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
式中、ｎが１である請求項１２に記載の方法。
【請求項２０】
式中、ｍが１である請求項１２に記載の方法。
【請求項２１】
式中、ｍが２である請求項１２に記載の方法。
【請求項２２】
式中、ｍが１である請求項１９に記載の方法。
【請求項２３】
式中、ｍが２である請求項１９に記載の方法。
【請求項２４】
式中、ｎが１である請求項１５に記載の方法。
【請求項２５】
式中、ｎが１である請求項１６に記載の方法。
【請求項２６】
Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３がペルフルオロ化されている請求項１２に記載の方法。
【請求項２７】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１２に記載の方法。
【請求項２８】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立して１つ以上の鎖状に結合された酸素原子を含んでよい、ペルフルオロ化及びほぼペルフルオロ化されたＣ１〜Ｃ４アルキル基より成る群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項２９】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１２に記載の方法。
【請求項３０】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１５に記載の方法。
【請求項３１】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１６に記載の方法。
【請求項３２】
各Ｒｆ１、Ｒｆ２及びＲｆ３が、独立してペルフルオロメチル及びペルフルオロエチルより成る群から選ばれる請求項１９に記載の方法。
【請求項３３】
物品から汚染物質を除く方法であって、少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む組成物と該物品とを接触させることを含む方法。
【請求項３４】
少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む組成物を火に加えることを含む消火のための方法。
【請求項３５】
発泡プラスチックを調製するための方法であって、少なくとも１つの発泡性ポリマー又はその発泡性ポリマーの前駆体の存在下に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む発泡剤混合物を蒸発させることを含む方法。
【請求項３６】
気相はんだ付けのための方法であって、はんだを含む少なくとも１つの構成要素を、少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含むフッ素化された液体の蒸気の本体に浸漬させることにより、はんだを融解させることを含む方法。
【請求項３７】
熱伝達のための方法であって、熱源及び放熱板の間に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物熱伝導剤を使用して熱を伝達するする方法。
【請求項３８】
コーティングを基質上に堆積させるための方法であって、該基質の表面の少なくとも１部分に：ａ）少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を含む溶媒組成物；及びｂ）前記溶媒組成物に可溶性又は分散性の少なくとも１つのコーティング材料とを含む組成物を塗布することを含む方法。
【請求項３９】
切削又は剥離作業のための方法であって、作動流体を金属、陶性合金、又は複合材料のワークピース及び道具に少なくとも１つの請求項１に記載の化合物を及び少なくとも１つの潤滑剤添加物を含む作動流体を塗布することを含む方法。
【請求項４０】
少なくとも１つの単量体を、少なくとも１つの重合開始剤、及び少なくとも１つの請求項１に記載の化合物の存在下に重合させることを含む重合方法。
【請求項４１】
式Ｉ’中のアスタリスクにより表示される各炭素において同一のエナンチオマー形態を示す請求項１に記載の化合物のジアステレオマーの混合物：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
【請求項４２】
式Ｉ’中のアスタリスクにより表示される各炭素の少なくとも１つが（Ｓ）−エナンチオマー形態を示し、アスタリスクにより表示される各炭素の少なくとも１つが（Ｒ）−エナンチオマー形態を示す請求項１に記載の化合物のジアステレオマーの混合物：
Ｒｆ１［Ｃ＊Ｈ（−Ｏ−ＣＨ（３−ｍ）Ｒｆ２ｍ）（−Ｏ−ＣＦ２−Ｃ＊ＦＨ−Ｒｆ３）］ｎ ［Ｉ’］
【請求項４３】
単一のエナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【請求項４４】
（＋）−エナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【請求項４５】
（−）−エナンチオマーである請求項１に記載の化合物。
【公表番号】特表２０１１−５２６８９６（Ｐ２０１１−５２６８９６Ａ）
【公表日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１６３８７（Ｐ２０１１−５１６３８７）
【出願日】平成２１年６月１日（２００９．６．１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４５７７５
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／００２５２８
【国際公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【出願人】（５０５００５０４９）スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー (2,080)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年１０月２０日（２０１１．１０．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年６月１日（２００９．６．１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４５７７５
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／００２５２８
【国際公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【出願人】（５０５００５０４９）スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー (2,080)
【Ｆターム（参考）】
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