プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルム
【課題】 熱処理時の低分子量物の析出が少なく、光学用途に用いられる層との接着力に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルム。
【解決手段】 紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムに関し、さらに詳しくは、オリゴマー及びＵＶ吸収剤のブリードアウトの少ない、プラズマディスプレイパネルフィルターの近赤外線吸収フィルムを保護する性能に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルムは、近年、各種光学用フィルムの素材として多く用いられ、特に、液晶表示装置の部材のプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや反射防止（ＡＲ）用フィルムのベースフィルムやディスプレイの防爆用ベースフィルム等の用途に用いられている。特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の反射防止フィルムのベースとして注目されている。
【０００３】
一般にＰＤＰは、発光ユニットと前面に配置される光学フィルターユニットから構成されており、光学フィルターユニットには、発光ユニットから放射される近赤外線や各種電磁波をカットする性能が求められる。又、一般的な近赤外線吸収剤は紫外線に対して劣化しやすいと言われており、光学フィルターユニットには紫外線をカットする性能も求められている。紫外線をカットする方法としては、ＡＲ用フィルムのベースや粘着層に紫外線吸収剤を練りこむ方法が提案されている。粘着剤に紫外線吸収剤を練りこむ方式は、近赤外線吸収層を保護する効果が不十分で、コストも高いという問題がある。ＡＲフィルムのベースに紫外線吸収剤を練りこむ方式には、以下の問題があり、それらを解決する技術が望まれていた。
【０００４】
ＡＲ加工工程では、塗膜の高温乾燥が必要な場合がある。特にポリエステルフィルムでは重合時に発生し、残存もしくは熱分解等で発生した低分子量物がこの乾燥理の時に基材表面に析出し、透明性が悪化することがあり、歩留まり低下や洗浄等の余分な工程を増やすことが必要であり、製品の生産性を大きく低下させていた。紫外線吸収剤を添加したフィルムでは、紫外線吸収剤が加熱時に析出するという問題が顕著であり、それらの析出防止技術が求められていた。
【特許文献１】特開２００３−１７１４８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ポリエステルフィルムから発生する低分子量物の発生は基材上に積層物を設けることによって抑制可能である。しかし、易接着能を付与するために塗設するプライマー層のような非常に厚みの薄い層では低分子量物の発生抑制効果を発現することは難い。
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解消し、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、光学用途に用いられる層との接着力に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、光学用途に用いられる層との接着力に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
［ポリエステルフィルム］
本発明において積層フィルムのベースとして用いられるポリエステルフィルムは、紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなる。ポリエステルとしては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６―ナフタリンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸といった芳香族ジカルボン酸成分と、例えばエチレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、１，６―ヘキサンジオールといったグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルを用いることができる。ポリエステルとしては、好ましくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタリンジカルボキシレートを用いる。ポリエステルはホモポリマーであってもよく、コポリマーであってもよい。
【００１０】
ポリエステルには、製膜時のフィルムの巻取り性や、ハードコート層や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて滑剤としての有機又は無機の微粒子を含有させてもよい。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン―プロピレン―ポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００１１】
［紫外線吸収剤］
ポリエステルフィルムを構成するポリエステルには、プラズマパネルディスプレイに組み込まれる近赤外線除去層を保護する為に、紫外線吸収剤を含有させる。紫外線吸収剤としては、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物を、未反応の形態で用いることが好ましい。
【００１２】
【化１】
（式（Ｉ）で、Ｘ１ は、上記式に表わされたＸ１ からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１ はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１ はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【００１３】
【化２】
（式（ＩＩ）で、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基であり；Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ２ は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【００１４】
【化３】
【００１５】
【化４】
【００１６】
かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９５２号公報に記載されている。
【００１７】
前記一般式（Ｉ）中、Ｘ１ は式（Ｉ）に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。
【００１８】
Ｘ１ としては、好ましくは例えば１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレン、下記式（ａ）または（ｂ）で表わされる基を挙げることができる。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好ましい。
【００１９】
【化５】
（式（ａ）または（ｂ）中、Ｒは−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）−または−Ｃ（ＣＨ３）２−である。）
【００２０】
Ｘ１ について例示した上記芳香族残基は、例えば炭素数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール例えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等；炭素数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチル等；炭素数１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、臭素等；炭素数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロポニル、ゼンゾイル、デカノイル等；などの置換基で置換されていてもよい。
【００２１】
Ｒ１ はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３である）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるときに限り直接結合であることができる。
【００２２】
１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）としては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２の未置換脂環族基が挙げられる。
【００２３】
炭素数１〜１０の未置換脂肪族基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等を；炭素数５〜１２の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００２４】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｃ）で表わされる基、
【００２５】
【化６】
（式（ｃ）中、Ｒ４ は炭素数２〜１０のアルキレン、フェニレン又はナフチレンである。）
下記式（ｄ）で表わされる基、
【００２６】
【化７】
（式（ｄ）中、Ｒ５ は炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基又はナフチル基である。）
下記式（ｅ）で表わされる基、
【００２７】
【化８】
（式（ｅ）中、Ｒ４ およびＲ５ の定義は上記に同じであり、Ｒ６ は水素原子又はＲ５ に定義された基のいずれかである。）
下記式（ｆ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００２８】
【化９】
（式（ｆ）中、Ｒ４ およびＲ６ の定義は上記に同じであり、Ｒ７は水素原子又はＲ５に定義された基のいずれかである。）
【００２９】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ１ を表わす芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で置換された場合の例としては、例えばトリル、メチルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロロフェニル、ベンゾイルフェニイル、アセチルフェニル又はアセチルナフチルを挙げることができる。
【００３０】
１価の炭化水素残基としては、上記式（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、すなわち置換された脂肪族残基又は芳香族残基、特にそのうち置換された芳香族残基が好ましい。
【００３１】
２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）としては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基が挙げられる。
【００３２】
２価の炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、デカメチレンを、２価の炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレンを；２価の炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基としては、例えばシクロペンチレン、シクロヘキシレンを挙げることができる。
【００３３】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｇ）又は下記式（ｈ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００３４】
【化１０】
（式（ｇ）中、Ｒ８ はＲ４ に定義された基のいずれかである。）
【００３５】
【化１１】
（式（ｈ）中、Ｒ８ の定義は上記に同じであり、Ｒ９ はＲ４ に定義された基のいずれかであり、そしてＲ１０はＲ６ に定義された基のいずれかである。）
【００３６】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記Ｘ１を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。
【００３７】
ｎが２の場合には、Ｒ１ としては、これらのうち直接結合又は上記第一〜第三の群の未置換又は置換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に２本の結合手が最も離れた位置から出ている第一又は第三の群の未置換又は置換された芳香族炭化水素残基が好ましく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン又は２，６−ナフチレンが好ましい。
【００３８】
３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）としては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げることができる。
【００３９】
かかる芳香族残基としては、例えば下記のもの等を挙げることができる。
【化１２】
【００４０】
かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４１】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ２ は４価の芳香族炭化水素残基である。
【００４２】
Ｒ２ およびＲ３ としては、上記式（Ｉ）の説明において、ｎ＝１の場合のＲ１ について例示したと同じ基を例として挙げることができる。
【００４３】
４価の芳香族炭化水素残基としては、例えば下記で表わされる基を挙げることができる。
【化１３】
（ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。）
【００４４】
上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の説明において、Ｒ１ を表わす１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４５】
本発明において用いられる上記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルの具体例としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００４６】
（上記式（Ｉ）の化合物）
（ｎ＝１の場合の化合物）
２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、Ｎ−フェニル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ベンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、２−（ｐ−（Ｎ−メチルカルボニル）フェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン。
【００４７】
（ｎ＝２の場合の化合物）
２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，５−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フェニル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン。
【００４８】
（ｎ＝３の場合の化合物）
１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン
【００４９】
（上記式（ＩＩ）の化合物）
２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００５０】
上記例示化合物のうち、上記式（Ｉ）の化合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化合物、特に好ましくは下記式（Ｉ）−１で表わされる化合物が有利に用いられる。
【００５１】
【化１４】
（式中、Ｒ１１は２価の芳香族炭化水素残基である。）
【００５２】
式（Ｉ）−１の化合物としては、就中２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好ましい。
【００５３】
これら環状イミノエステルの紫外線吸収特性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１２９５２号公報に記載されているので、それを援用する。
【００５４】
前記環状イミノエステルは、ポリエステルに対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造するのに特別の注意を払う必要は無い。末端基の主たる割合が水酸基であるポリエステルを用いる場合には、溶融混合の時間は、下記式（１）及び式（２）を満足するように、短時間で完了するようにするのが望ましい。
【００５５】
Ｌｏｇｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８ （１）
Ｔｍ＜Ｔ＜３２０ （２）
（式（１）及び（２）中、ｔは溶融混合時間（秒）、Ｔは溶融混合温度（℃）、
Ｔｍはポリエステルの溶融温度（℃）である。）
【００５６】
この場合、環状イミノエステルとポリエステルとが少しの割合で反応する可能性があるが、この反応によってポリエステルの分子量は大きくなるので、この割合によっては可視光吸収剤によるポリエステルの劣化による分子量低下を防ぐことが可能である。なお、環状イミノエステルがポリエステルと反応した場合、紫外線吸収波長領域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸収波長領域より低波長側にずれる傾向を示し、それ故高波長側の紫外線を透過する傾向をもつ。
【００５７】
前記環状イミノエステルは、紫外線から３８０ｎｍ付近の光線を吸収するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィルムの劣化を防止する特性に優れている。
【００５８】
前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．１〜５重量％が好ましく、さらには０．２〜３重量％が好ましい。この量が０．１％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、一方５重量％を超えるとポリエステルの製膜特性が低下し、好ましくない。
【００５９】
前記紫外線吸収剤のポリエステルへの添加方法は特に限定されないが、ポリエステル重合工程、フィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込み、二軸延伸フィルムへの含浸、などを挙げることができ、特にポリエステル重合度低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込みが好ましい。その際、紫外線吸収剤の練込みは、化合物粉体の直接添加法、マスターバッチ法などにより行うことができる。
【００６０】
本発明における光学用易接着性積層フィルムは、ヘーズが３％未満であることが好ましい。このヘーズが３％以上であると、各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがあり好ましくない。
【００６１】
［皮膜］
本発明の積層フィルムは、ポリエステルフィルムの両面に皮膜を備える。皮膜は、固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％の組成物からなる。この皮膜は、上記成分を含有する塗液をポリエステルフィルムに塗布して形成される。
【００６２】
［ポリエステル樹脂］
皮膜の組成物は、ポリエステル樹脂を好ましくは５０〜９５重量％、さらに好ましくは６０〜９０重量％含有する。５０重量％未満であると低分子量物の発生抑制効果を発現できず、又、易接着性に劣り、９５重量％を超えるとフィルム同士でブロッキングが発生しやすく好ましくない。
【００６３】
ポリエステル樹脂は、ガラス転移点が好ましくは４０〜１００℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。この範囲であれば、優れた接着性や耐傷性を得ることができる。他方、ガラス転移温度が４０℃未満であるとフィルム同士でブロッキングが発生しやすくなり、１００℃を超えると塗膜が硬くて脆くなり、耐傷性が悪化して好ましくない。
【００６４】
ポリエステル樹脂の固有粘度は、０．４以上０．７未満、好ましくは０．５以上０．７未満である。この範囲であれば、ポリエステル樹脂自体からの低分子量物の発生を抑制でき、かつポリエステル樹脂の凝集力が高いため優れた接着性や耐傷性を得ることができる。固有粘度が０．４未満であるとポリエステル樹脂自体からの低分子量物の発生が起こり、基材の透明性を悪化さる。
【００６５】
また、ポリエステル樹脂は水に可溶性または分散性のものが好ましいが、多少の有機溶剤を含有する水に可溶なものも用いることができる。
【００６６】
このポリエステル樹脂として、ジカルボン酸酸成分とジオール成分から得られるポリエステルを用いることができる。多価塩基成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２、６−ナフタレンジカルボン酸、１、４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。
【００６７】
皮膜のポリエステル樹脂は、２種以上のジカルボン酸成分を用いた共重合ポリエステルを用いることが好ましい。ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いはｐ−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい。
【００６８】
ポリエステル樹脂のジオール成分としては、エチレングリコール、１、４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１、６−ヘキサンジオール、１、４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。
【００６９】
ポリエステル樹脂は例えば次の方法で製造することができる。ジカルボン酸成分とジオール成分をエステル交換反応器に仕込み、触媒を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃に制御して生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行う。次いで、温度を徐々に２５５℃まで上昇させ、系内を減圧下にして重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得ることができる。重縮合時に分子量が上昇してくると溶融粘度が高くなり、系内の攪拌が難しくなる。塗布層に使用されるポリエステル樹脂はホモのポリエチレンテレフタレートと比較すると分子量が低い割に溶融粘度が高くなり、系内の攪拌が非常に難しく、攪拌設備のモーターのトルクを上げること、羽根の形状を工夫すること、重合時間を延ばすこと等で固有粘度を上げることができる。
【００７０】
［架橋剤］
皮膜の組成物は、架橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％、好ましくは０．１〜３０重量％、さらに好ましくは１０〜２５重量％含有する。１重量％より少ないと塗膜の凝集力が発現しない場合があり、接着性が不足する場合がある。４０重量％より多いと塗膜が非常に硬くなり、応力緩和が少なくなり接着性が発現しない場合や塗設したフィルムを回収使用した場合に架橋体による異物が発生する場合がある。
【００７１】
架橋剤としては、エポキシ架橋剤、オキサゾリン架橋剤、メラミン架橋剤およびイソシアネート架橋剤が好ましい。これらは１種類を用いてもよく、２種類以上を用いてもよい。オキサゾリン架橋剤が取り扱いやすさや塗布液のポットライフの点から好ましい。
【００７２】
以下、架橋剤を例示する。
エポキシ架橋剤は、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等が挙げられ、ポリエポキシ化合物としては、例えば、ソルビトール、ポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ジエポキシ化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、モノエポキシ化合物としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、グリシジルアミン化合物としてはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００７３】
オキサゾリン架橋剤は、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば制限なく、例えばアルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基）等のア（メタ）クリル酸エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等の不飽和カルボン酸類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）等の不飽和アミド類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付加させたもの等のビニルエステル類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα、β−不飽和モノマー類；スチレン、α−メチルスチレン、等のα、β−不飽和芳香族モノマー等を挙げることができ、これらの１種または２種以上のモノマーを使用することができる。
【００７４】
メラミン架橋剤は、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物およびそれらの混合物が好ましい。メチロールメラミン誘導体としては、例えば、モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。
【００７５】
イソシアネート架橋剤は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、１，６−ジイソシアネートヘキサン、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン−４、４´−ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３´−ビトリレン−４，４´ジイソシアネート、３，３´ジメチルジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００７６】
［微粒子］
皮膜の組成物は、微粒子（Ｃ）を０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％を含有する。０．１重量％未満であると十分な滑性、耐傷性が得られず、２０重量％を超えると塗膜の凝集力が低くなり接着性が悪化する。この微粒子は、平均粒子径２０〜２００ｎｍ、好ましくは４０〜１２０ｎｍである。２００ｎｍより大きいと微粒子の落脱が発生しやすくなり、２０ｎｍよりも小さいと十分な滑性、耐傷性が得られない場合があり好ましくない。微粒子は通常、塗布層の組成物中に含有される。
【００７７】
微粒子としては例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子；アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂等の有機微粒子を用いることができる。これらは１種類を用いてもよく、２種類以上を用いてもよい。
【００７８】
［ワックス］
皮膜は、好ましくはワックスを含有する。ワックスを含有する場合、含有量はワックスを含む皮膜の組成物１００重量部あたり好ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは１重量％〜１０重量％である。含有量が０．５重量％未満ではフィルム表面の滑性が得られないことがあり好ましくない。２０重量％を超えるとポリエステルフィルム基材への密着やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が不足する場合があり好ましくない。
【００７９】
ワックスは脂肪族ワックスを用いることが好ましく、脂肪族ワックスの具体例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスパルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス；ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス；パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス；フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリプロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックスを挙げることができる。就中、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが特に好ましい。これらは環境負荷の低減が可能であることおよび取扱のし易さから水分散体として用いることが好ましい。
【００８０】
皮膜には、上記の成分以外に、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
【００８１】
［製造方法］
本発明においては、ポリエステルフィルムの両面に前記成分を用いた皮膜を塗設するが、例えば延伸可能なポリエステルフィルムに皮膜を形成する成分を含む水性液を塗布した後、乾燥、延伸し、必要に応じて熱処理することにより塗設することができる。この水性液の固形分濃度は、通常３０重量％以下であり、１０重量％以下がさらに好ましい。
【００８２】
前記の延伸可能なポリエステルフィルムとは、未延伸ポリエステルフィルム、一軸延伸ポリエステルフィルム又は二軸延伸ポリエステルフィルムである。このうちフィルムの押出し方向（縦方向）に一軸延伸した縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。
【００８３】
水性塗液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
【００８４】
かかる界面活性剤は、ポリエステルフィルムへの水性塗液の濡れを促進するものであり、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン―脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤は、塗膜を形成する組成物中に、１〜１０重量％含まれていることが好ましい。この範囲であれば４０ｍＮ／ｍ以下にすることができ、塗布層のハジキを防止可能である。
【００８５】
ポリエステルフィルムへ水性液を塗布する場合は、通常の塗工工程、即ち二軸延伸熱固定したポリエステルフィルムに該フィルムの製造工程と切り離した工程で行うと、芥、塵埃等を巻込み易く、好ましくない。かかる観点より、クリーンな雰囲気での塗布、即ちフィルム製造工程での塗布が好ましい。そして、この塗布によれば、皮膜（塗膜）のポリエステルフィルムへの密着性がさらに向上する。
【００８６】
塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組合せて用いることができる。塗布量は走行しているフイルム１ｍ２ 当り、０．５〜２０ｇ、さらには１〜１０ｇが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。なお、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００８７】
水性液を塗布した延伸可能なポリエステルフィルムは、乾燥、延伸処理工程に導かれるが、かかる処理は、従来から当業界に蓄積された条件で行うことができる。好ましい条件としては、例えば乾燥条件は９０〜１３０℃×２〜１０秒であり、延伸温度は９０〜１３０℃、延伸倍率は縦方向３〜５倍、横方向３〜５倍、必要ならば再縦方向１〜３倍であり、熱固定する場合は１８０〜２４０℃×２〜２０秒である。
【００８８】
［物性］
かかる処理後の本発明の積層フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であることが好ましく、１００℃３０分加熱後のオリゴマー、紫外線吸収剤の析出によるヘーズ変化が２．５％以下であることが好ましい。光線透過率が１０％を超えると紫外線の遮蔽性能に劣り、すなわち赤外線吸収フィルム保護性能が不足て好ましくない。ヘーズ変化が２．５％を超えると低分子量物の発生抑制効果が乏しく好ましくない。
【００８９】
積層フィルムの厚さは、好ましくは５０〜２５０μｍ、塗膜の厚さは好ましくは０．０２〜１μｍである。積層フィルムの厚さが５０μ未満であるとフィルムのこしがなく好ましくなく、２５０μｍを超えると取り扱いが困難でありこの用途には好ましくない。塗膜の厚さが０．０２μｍ未満であると低分子量物の発生抑制効果が乏しく好ましくなく、１μｍを超えるとフィルム同士のブロッキングが発生しやすくなり好ましくない。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
各種物性は下記の方法により評価した。
【００９１】
（１）ヘイズ変化
ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じ、日本電色工業社製のヘイズ測定器（ＮＤＨ−２０００）を使用してフィルムのヘイズ値を測定した。更に、フィルムを１５０℃、３０分で熱処理した後のヘイズを同様の方法で測定し、熱処理前後でのヘイズ値変化量を下記の基準で評価した。
◎： ヘイズ値変化量≦０．５ ……フィルムのオリゴマー封止性極めて良好
○： ０．５＜ヘイズ値変化量≦２．５％……フィルムのオリゴマー封止性良好
×： ２．５％＜ヘイズ値変化量 ……フィルムのオリゴマー封止性不良
ヘイズ値変化量＝熱処理後のフィルムのヘイズ値−熱処理前のフィルムのヘイズ値
【００９２】
（２）固有粘度
固有粘度（［η］ｄｌ／ｇ）は、２５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。
【００９３】
（３）二次転移点（Ｔｇ）
デュポン製Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎａｌｙｓｔ ２０００型示差熱量計にて、２０℃／分の昇温速度にて測定した。
【００９４】
（４）赤外線吸収層の保護性能の評価
フィルムをＰＤＰフィルターに用いる赤外線吸収フィルム上に積層し、本発明のフィルム上から、６０℃で１４４時間キセノンランプを照射し、赤外線吸収フィルムの近赤外線（９５０ｎｍ）透過率の変化を測定した。
赤外線吸収フィルムは、紫外線により劣化すると近赤外線の透過率が高くなってしまう。本発明のフィルムの赤外線吸収フィルム保護性能を、以下の基準で評価した。
◎： ９５０ｎｍの透過率変化 ≦ ５％
○： ５％ ＜ ９５０ｎｍの透過率変化 ≦ １０％
×： ２０％ ≦ ９５０ｎｍの透過率変化
キセノンランプには、東洋精機 ＳＵＮＴＥＳＴ ＣＰＳ＋を用い、照射強度は５５０ｍＪ／ｍ２とした。透過スペクトルの測定には、（株）島津製作所製 分光光度計ＭＰＣ３１００を用いた。
【００９５】
また、近赤外線吸収フィルムには、下記を用いた。
＜赤外線吸収フィルム＞
赤外線吸収フィルムは、日本触媒（株）製近赤外線吸収剤ＥＸ８１４Ｋを０．４０重量％、三井化学（株）製金赤外線吸収剤Ｓ１３を０．２０重量％、平均粒径１．７μｍの多孔質シリカを０．００７重量％含有した溶融ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；［η］＝０．６５）をダイより押出し、常法により冷却ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで縦方向に９０℃の温度で延伸倍率３．５倍で延伸した後、引き続いて横方向に１２０℃で３．８倍に延伸し、２３０℃で熱固定して得た厚さ７５μｍの易接着性二軸配向フィルムを用いた。
【００９６】
（５）波長３８０ｎｍの光線透過率
島津製作所（株）製分光光度計ＵＶ−３１０１ＰＣを用い、スキャン速度２００ｎｍ、スリット幅２０ｎｍ、サンプリングピッチ１．０ｎｍの条件は、波長３８０ｎｍの光線透過率を測定した。
【００９７】
（６）固有粘度
固有粘度（［η］ｄｌ／ｇ）は、２５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。
【００９８】
（７）フィルム製造時のスクラッチ傷耐性
製造直後のフィルムにて、面積４ｍ２範囲で塗布層スクラッチ傷の有無を蛍光灯及びハロゲン光の反射光を用いて目視で観察し、あった場合はその場所をマジックでマーキングし、そのスクラッチ傷をキーエンス社製のレーザー光学顕微鏡（ＶＦ−７５０）で長さ、幅及び深さを測定する。長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷個数を求めた。
◎：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．２μｍ以上のスクラッチ傷皆無
……極めて良好
○：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷皆
……良好
×：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷が１個以上存在……不良
【００９９】
（８）接着性
・ハードコート
易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ１０μｍのハードコート層を形成して碁盤目のクロスカット（１ｍｍ２ のマス目を１００個）を施し、その上に２４ｍｍ幅のセロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付け、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、下記の基準で評価した。
５：剥離面積が１０％未満 ……接着力極めて良好
４：剥離面積が１０％以上２０％未満 ……接着力良好
３：剥離面積が２０％以上３０％未満 ……接着力やや良好
２：剥離面積が３０％以上４０％未満 ……接着力不良
１：剥離面積が４０％を超えるもの ……接着力極めて不良
【０１００】
・粘着剤（ＰＳＡ）
易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ２０μｍの粘着剤（ＰＳＡ）層を形成してフロートガラスに粘着剤層面を貼付、２３℃、６５％ＲＨの雰囲気下で１日経時させ、９０°の剥離角度にて剥離し、ガラス表面に粘着剤（ＰＳＡ）の残留状態を観察し、下記の基準で評価した。
５：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％未満 ……接着力極めて良好
４：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％以上２０％未満 ……接着力良好
３：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が２０％以上３０％未満 ……接着力やや良好
２：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が３０％以上４０％未満 ……接着力不良
１：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が４０％を超えるもの ……接着力極めて不良
【０１０１】
（９）耐ブロッキング性
２枚のフィルムを、塗膜形成面と非形成面が接するように重ね合せ、これに、６０℃、８０％ＲＨの雰囲気下で１７時間にわたって０．６ｋｇ／ｃｍ２ の圧力をかけ、その後、剥離して、その剥離力により耐ブロッキング性を下記の基準で評価した。
◎： 剥離力＜９８ｍＮ／５ｃｍ ……耐ブロッキング性極めて良好
○：９８ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１４７ｍＮ／５ｃｍ ……耐ブロッキング性良好
△：１４７ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１９６ｍＮ／５ｃｍ……耐ブロッキング性やや良好
×：１９６ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力 ……耐ブロッキング性不良
【０１０２】
［実施例１〜４、比較例１、２、５、６］
下記式（Ａ）に示す紫外線吸収剤を１重量％含有するポリエチレンテレフタレート（固有粘度：０．６２）を２０℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出しして未延伸フィルムとした。
【０１０３】
【化１５】
【０１０４】
次いで縦方向に３．４倍に延伸した後、その両面に下記塗膜用組成物（表１）の濃度４％の水性塗液をロールコーターで均一に塗布した。尚、塗膜の厚さは０．０６μｍであった。
【０１０５】
次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、横方向に１２０℃で３．７倍に延伸し、２３０℃で幅方向に３％収縮させ熱固定し、厚さ１００μｍの積層フィルムを得た。なお、塗膜の厚さは０．１０μｍであった。これらの評価結果を表２に示す。
【０１０６】
【表１】
【０１０７】
ポリエステル１：酸成分がテレフタル酸９５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝７２℃、固有粘度０．５７）。
【０１０８】
ポリエステル２：酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸７５モル％／イソフタル酸２０モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝８０℃、固有粘度０．３８）。
【０１０９】
ポリエステル３：酸成分がテレフタル酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール６０モル％／ジエチレングリコール４０モル％で構成されている（Ｔｇ＝４３℃、固有粘度０．５０）。
【０１１０】
ポリエステル４：酸成分がテレフタル酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール５モル％／１，４−ブタンジオール９０モル％で構成されている（Ｔｇ＝２５℃、固有粘度０．５６）。
【０１１１】
ポリエステル５：酸成分が２，６―ナフタレンジカルボン酸８５モル％／イソフタル酸１０モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１０５℃、固有粘度０．３５）。
【０１１２】
架橋剤１：メチルメタクリレート３０モル％／２−イソプロペニル−２−オキサゾリン３０モル％／ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリレート１０モル％／アクリルアミド３０モル％で構成されている（Ｔｇ＝５０℃）。なお、アクリルは、特開昭６３−３７１６７号公報の製造例１〜３に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、イオン交換水３０２部を仕込んで窒素気流中で６０℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム０．５部、亜硝酸水素ナトリウム０．２部を添加し、更にモノマー類である、メタクリル酸メチル２３．３部、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン２２．６部、ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリル酸４０．７部、アクリルアミド１３．３部の混合物を３時間にわたり、液温が６０〜７０℃になるよう調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に２時間保持しつつ、撹拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が２５％のアクリルの水分散体を得た。
【０１１３】
微粒子１：シリカ及びチタニアの複合無機粒子（平均粒径：１００ｎｍ）。なお、微粒子１は、特開平７−２５２０号公報の製造例及び実施例に記載の方法に準じて下記の通り製造した。撹拌羽根付きの内容積４リットルのガラス製反応容器にメタノール１４０ｇ、イソプロパノール２６０ｇ、およびアンモニア水（２５重量％）１００ｇを仕込み、反応液を調製し、反応液の温度を４０℃に保持しつつ攪拌した。次に、３リットルの三角フラスコに、シリコンテトラメトキシド（Ｓｉ（ＯＭｅ）４、コルコート（株）、商品名；メチルシリケート３９）５４２ｇを仕込み、撹拌しながら、メタノール１９５ｇと０．１重量％塩酸水溶液（３５％塩酸、和光純薬工業（株）を１／１０００に水で希釈）２８ｇを加え、約１０分間撹拌した。続いて、チタニウムテトライソプロポキシド（Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）４、日本曹達（株）、品名；Ａ−１（ＴＰＴ））３００ｇをイソプロパノール６３４ｇで希釈した液を加え、透明な均一溶液（シリコンテトラアルコキシドとチタニウムテトラアルコキシドの共縮合物）を得た。上記均一溶液１６９９ｇとアンモニア水（２５重量％）４８０ｇの各々を前記反応液中に、最初は滴下速度を小さくし、終盤にかけて徐々に速度を大きくして、２時間かけて同時に滴下した。滴下終了後、得られた共加水分解物をろ過し、５０℃で有機溶媒を乾燥させ、その後、水に分散化させ、濃度１０重量％の微粒子１を得た。
【０１１４】
微粒子２：シリカフィラー（平均粒径：８０ｎｍ）（触媒化成工業社製 商品名カタロイドＳＩ−８０Ｐ）
微粒子３：アクリルフィラー（平均粒径：８０ｎｍ）（日本触媒社製 商品名ＭＸ−８０Ｗ）
添加剤：カルナバワックス（中京油脂社製 商品名セロゾール５２４）
濡れ剤：ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成社製 商品名ナロアクティーＮ−７０）
【０１１５】
［比較例３、４］
ポリエステルに含有させる紫外線吸収剤とその配合割合を、比較例３では下記式（Ｂ）に示す紫外線吸収剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製：商品名ＴＩＮＵＶＩＮ１５７）を１重量％含有、比較例４では紫外線吸収剤を含まないポリエステルを使用した以外は実施例１と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表２に示す。
【０１１６】
【化１６】
【０１１７】
【表２】
【０１１８】
表２に示す結果から明らかなように、本発明は、かかる従来技術の問題点を解消し、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、ＰＤＰフィルターの赤外線吸収フィルムの保護性能に優れ、しかも耐候性に優れた光学用易接着性積層フィルムとして有用である。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明のプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムは、プラズマディスプレイパネルの部材として好適に用いることができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムに関し、さらに詳しくは、オリゴマー及びＵＶ吸収剤のブリードアウトの少ない、プラズマディスプレイパネルフィルターの近赤外線吸収フィルムを保護する性能に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステルフィルムは、近年、各種光学用フィルムの素材として多く用いられ、特に、液晶表示装置の部材のプリズムレンズシート、タッチパネル、バックライト等のベースフィルムや反射防止（ＡＲ）用フィルムのベースフィルムやディスプレイの防爆用ベースフィルム等の用途に用いられている。特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の反射防止フィルムのベースとして注目されている。
【０００３】
一般にＰＤＰは、発光ユニットと前面に配置される光学フィルターユニットから構成されており、光学フィルターユニットには、発光ユニットから放射される近赤外線や各種電磁波をカットする性能が求められる。又、一般的な近赤外線吸収剤は紫外線に対して劣化しやすいと言われており、光学フィルターユニットには紫外線をカットする性能も求められている。紫外線をカットする方法としては、ＡＲ用フィルムのベースや粘着層に紫外線吸収剤を練りこむ方法が提案されている。粘着剤に紫外線吸収剤を練りこむ方式は、近赤外線吸収層を保護する効果が不十分で、コストも高いという問題がある。ＡＲフィルムのベースに紫外線吸収剤を練りこむ方式には、以下の問題があり、それらを解決する技術が望まれていた。
【０００４】
ＡＲ加工工程では、塗膜の高温乾燥が必要な場合がある。特にポリエステルフィルムでは重合時に発生し、残存もしくは熱分解等で発生した低分子量物がこの乾燥理の時に基材表面に析出し、透明性が悪化することがあり、歩留まり低下や洗浄等の余分な工程を増やすことが必要であり、製品の生産性を大きく低下させていた。紫外線吸収剤を添加したフィルムでは、紫外線吸収剤が加熱時に析出するという問題が顕著であり、それらの析出防止技術が求められていた。
【特許文献１】特開２００３−１７１４８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ポリエステルフィルムから発生する低分子量物の発生は基材上に積層物を設けることによって抑制可能である。しかし、易接着能を付与するために塗設するプライマー層のような非常に厚みの薄い層では低分子量物の発生抑制効果を発現することは難い。
【０００６】
本発明は、かかる従来技術の問題点を解消し、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、光学用途に用いられる層との接着力に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明は紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、光学用途に用いられる層との接着力に優れたプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
［ポリエステルフィルム］
本発明において積層フィルムのベースとして用いられるポリエステルフィルムは、紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなる。ポリエステルとしては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６―ナフタリンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸といった芳香族ジカルボン酸成分と、例えばエチレングリコール、１，４―ブタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、１，６―ヘキサンジオールといったグリコール成分とから構成される芳香族ポリエステルを用いることができる。ポリエステルとしては、好ましくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタリンジカルボキシレートを用いる。ポリエステルはホモポリマーであってもよく、コポリマーであってもよい。
【００１０】
ポリエステルには、製膜時のフィルムの巻取り性や、ハードコート層や粘着剤等を塗設する際のフィルムの搬送性等を良くするため、必要に応じて滑剤としての有機又は無機の微粒子を含有させてもよい。かかる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン―プロピレン―ポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂等も透明性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。
【００１１】
［紫外線吸収剤］
ポリエステルフィルムを構成するポリエステルには、プラズマパネルディスプレイに組み込まれる近赤外線除去層を保護する為に、紫外線吸収剤を含有させる。紫外線吸収剤としては、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物を、未反応の形態で用いることが好ましい。
【００１２】
【化１】
（式（Ｉ）で、Ｘ１ は、上記式に表わされたＸ１ からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１ はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１ はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【００１３】
【化２】
（式（ＩＩ）で、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基であり；Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ２ は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【００１４】
【化３】
【００１５】
【化４】
【００１６】
かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９５２号公報に記載されている。
【００１７】
前記一般式（Ｉ）中、Ｘ１ は式（Ｉ）に表わされたＸ１からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１はｎ＝２のとき直接結合であることができる。
【００１８】
Ｘ１ としては、好ましくは例えば１，２−フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレン、下記式（ａ）または（ｂ）で表わされる基を挙げることができる。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好ましい。
【００１９】
【化５】
（式（ａ）または（ｂ）中、Ｒは−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）−または−Ｃ（ＣＨ３）２−である。）
【００２０】
Ｘ１ について例示した上記芳香族残基は、例えば炭素数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２のアリール例えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２のシクロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等；炭素数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチル等；炭素数１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エトキシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩素、臭素等；炭素数２〜１０のアシル例えばアセチル、プロポニル、ゼンゾイル、デカノイル等；などの置換基で置換されていてもよい。
【００２１】
Ｒ１ はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３である）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるときに限り直接結合であることができる。
【００２２】
１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）としては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２の未置換脂環族基が挙げられる。
【００２３】
炭素数１〜１０の未置換脂肪族基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシル等を、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル等を；炭素数５〜１２の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００２４】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｃ）で表わされる基、
【００２５】
【化６】
（式（ｃ）中、Ｒ４ は炭素数２〜１０のアルキレン、フェニレン又はナフチレンである。）
下記式（ｄ）で表わされる基、
【００２６】
【化７】
（式（ｄ）中、Ｒ５ は炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基又はナフチル基である。）
下記式（ｅ）で表わされる基、
【００２７】
【化８】
（式（ｅ）中、Ｒ４ およびＲ５ の定義は上記に同じであり、Ｒ６ は水素原子又はＲ５ に定義された基のいずれかである。）
下記式（ｆ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００２８】
【化９】
（式（ｆ）中、Ｒ４ およびＲ６ の定義は上記に同じであり、Ｒ７は水素原子又はＲ５に定義された基のいずれかである。）
【００２９】
また、上記１価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ１ を表わす芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。それ故、かかる置換基で置換された場合の例としては、例えばトリル、メチルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチル、クロロフェニル、ベンゾイルフェニイル、アセチルフェニル又はアセチルナフチルを挙げることができる。
【００３０】
１価の炭化水素残基としては、上記式（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、すなわち置換された脂肪族残基又は芳香族残基、特にそのうち置換された芳香族残基が好ましい。
【００３１】
２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）としては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基が挙げられる。
【００３２】
２価の炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチレン、デカメチレンを、２価の炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレンを；２価の炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基としては、例えばシクロペンチレン、シクロヘキシレンを挙げることができる。
【００３３】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第二に、例えば下記式（ｇ）又は下記式（ｈ）で表わされる置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げることができる。
【００３４】
【化１０】
（式（ｇ）中、Ｒ８ はＲ４ に定義された基のいずれかである。）
【００３５】
【化１１】
（式（ｈ）中、Ｒ８ の定義は上記に同じであり、Ｒ９ はＲ４ に定義された基のいずれかであり、そしてＲ１０はＲ６ に定義された基のいずれかである。）
【００３６】
また、上記２価の炭化水素残基としては、第三に、上記未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記Ｘ１を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されているものを挙げることができる。
【００３７】
ｎが２の場合には、Ｒ１ としては、これらのうち直接結合又は上記第一〜第三の群の未置換又は置換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に２本の結合手が最も離れた位置から出ている第一又は第三の群の未置換又は置換された芳香族炭化水素残基が好ましく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン又は２，６−ナフチレンが好ましい。
【００３８】
３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）としては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げることができる。
【００３９】
かかる芳香族残基としては、例えば下記のもの等を挙げることができる。
【化１２】
【００４０】
かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４１】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ２ は４価の芳香族炭化水素残基である。
【００４２】
Ｒ２ およびＲ３ としては、上記式（Ｉ）の説明において、ｎ＝１の場合のＲ１ について例示したと同じ基を例として挙げることができる。
【００４３】
４価の芳香族炭化水素残基としては、例えば下記で表わされる基を挙げることができる。
【化１３】
（ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。）
【００４４】
上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の説明において、Ｒ１ を表わす１価の芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。
【００４５】
本発明において用いられる上記式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルの具体例としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００４６】
（上記式（Ｉ）の化合物）
（ｎ＝１の場合の化合物）
２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又はｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、Ｎ−フェニル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ベンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン、２−（ｐ−（Ｎ−メチルカルボニル）フェニル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン。
【００４７】
（ｎ＝２の場合の化合物）
２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，５−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フェニル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、Ｎ−ｐ−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）アニリン。
【００４８】
（ｎ＝３の場合の化合物）
１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン
【００４９】
（上記式（ＩＩ）の化合物）
２，８−ジメチル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジメチル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４Ｈ，８Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４Ｈ，９Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−スルホニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。
【００５０】
上記例示化合物のうち、上記式（Ｉ）の化合物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化合物、特に好ましくは下記式（Ｉ）−１で表わされる化合物が有利に用いられる。
【００５１】
【化１４】
（式中、Ｒ１１は２価の芳香族炭化水素残基である。）
【００５２】
式（Ｉ）−１の化合物としては、就中２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好ましい。
【００５３】
これら環状イミノエステルの紫外線吸収特性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１２９５２号公報に記載されているので、それを援用する。
【００５４】
前記環状イミノエステルは、ポリエステルに対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造するのに特別の注意を払う必要は無い。末端基の主たる割合が水酸基であるポリエステルを用いる場合には、溶融混合の時間は、下記式（１）及び式（２）を満足するように、短時間で完了するようにするのが望ましい。
【００５５】
Ｌｏｇｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８ （１）
Ｔｍ＜Ｔ＜３２０ （２）
（式（１）及び（２）中、ｔは溶融混合時間（秒）、Ｔは溶融混合温度（℃）、
Ｔｍはポリエステルの溶融温度（℃）である。）
【００５６】
この場合、環状イミノエステルとポリエステルとが少しの割合で反応する可能性があるが、この反応によってポリエステルの分子量は大きくなるので、この割合によっては可視光吸収剤によるポリエステルの劣化による分子量低下を防ぐことが可能である。なお、環状イミノエステルがポリエステルと反応した場合、紫外線吸収波長領域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸収波長領域より低波長側にずれる傾向を示し、それ故高波長側の紫外線を透過する傾向をもつ。
【００５７】
前記環状イミノエステルは、紫外線から３８０ｎｍ付近の光線を吸収するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィルムの劣化を防止する特性に優れている。
【００５８】
前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、０．１〜５重量％が好ましく、さらには０．２〜３重量％が好ましい。この量が０．１％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、一方５重量％を超えるとポリエステルの製膜特性が低下し、好ましくない。
【００５９】
前記紫外線吸収剤のポリエステルへの添加方法は特に限定されないが、ポリエステル重合工程、フィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込み、二軸延伸フィルムへの含浸、などを挙げることができ、特にポリエステル重合度低下を防止する意味でもフィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込みが好ましい。その際、紫外線吸収剤の練込みは、化合物粉体の直接添加法、マスターバッチ法などにより行うことができる。
【００６０】
本発明における光学用易接着性積層フィルムは、ヘーズが３％未満であることが好ましい。このヘーズが３％以上であると、各種ディスプレイ用途において視認性を損なうなど光学用途として適さないことがあり好ましくない。
【００６１】
［皮膜］
本発明の積層フィルムは、ポリエステルフィルムの両面に皮膜を備える。皮膜は、固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％の組成物からなる。この皮膜は、上記成分を含有する塗液をポリエステルフィルムに塗布して形成される。
【００６２】
［ポリエステル樹脂］
皮膜の組成物は、ポリエステル樹脂を好ましくは５０〜９５重量％、さらに好ましくは６０〜９０重量％含有する。５０重量％未満であると低分子量物の発生抑制効果を発現できず、又、易接着性に劣り、９５重量％を超えるとフィルム同士でブロッキングが発生しやすく好ましくない。
【００６３】
ポリエステル樹脂は、ガラス転移点が好ましくは４０〜１００℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。この範囲であれば、優れた接着性や耐傷性を得ることができる。他方、ガラス転移温度が４０℃未満であるとフィルム同士でブロッキングが発生しやすくなり、１００℃を超えると塗膜が硬くて脆くなり、耐傷性が悪化して好ましくない。
【００６４】
ポリエステル樹脂の固有粘度は、０．４以上０．７未満、好ましくは０．５以上０．７未満である。この範囲であれば、ポリエステル樹脂自体からの低分子量物の発生を抑制でき、かつポリエステル樹脂の凝集力が高いため優れた接着性や耐傷性を得ることができる。固有粘度が０．４未満であるとポリエステル樹脂自体からの低分子量物の発生が起こり、基材の透明性を悪化さる。
【００６５】
また、ポリエステル樹脂は水に可溶性または分散性のものが好ましいが、多少の有機溶剤を含有する水に可溶なものも用いることができる。
【００６６】
このポリエステル樹脂として、ジカルボン酸酸成分とジオール成分から得られるポリエステルを用いることができる。多価塩基成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２、６−ナフタレンジカルボン酸、１、４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。
【００６７】
皮膜のポリエステル樹脂は、２種以上のジカルボン酸成分を用いた共重合ポリエステルを用いることが好ましい。ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いはｐ−ヒドロキシ安息香酸等の如きヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい。
【００６８】
ポリエステル樹脂のジオール成分としては、エチレングリコール、１、４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１、６−ヘキサンジオール、１、４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。
【００６９】
ポリエステル樹脂は例えば次の方法で製造することができる。ジカルボン酸成分とジオール成分をエステル交換反応器に仕込み、触媒を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃に制御して生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行う。次いで、温度を徐々に２５５℃まで上昇させ、系内を減圧下にして重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得ることができる。重縮合時に分子量が上昇してくると溶融粘度が高くなり、系内の攪拌が難しくなる。塗布層に使用されるポリエステル樹脂はホモのポリエチレンテレフタレートと比較すると分子量が低い割に溶融粘度が高くなり、系内の攪拌が非常に難しく、攪拌設備のモーターのトルクを上げること、羽根の形状を工夫すること、重合時間を延ばすこと等で固有粘度を上げることができる。
【００７０】
［架橋剤］
皮膜の組成物は、架橋剤（Ｂ）を１〜４０重量％、好ましくは０．１〜３０重量％、さらに好ましくは１０〜２５重量％含有する。１重量％より少ないと塗膜の凝集力が発現しない場合があり、接着性が不足する場合がある。４０重量％より多いと塗膜が非常に硬くなり、応力緩和が少なくなり接着性が発現しない場合や塗設したフィルムを回収使用した場合に架橋体による異物が発生する場合がある。
【００７１】
架橋剤としては、エポキシ架橋剤、オキサゾリン架橋剤、メラミン架橋剤およびイソシアネート架橋剤が好ましい。これらは１種類を用いてもよく、２種類以上を用いてもよい。オキサゾリン架橋剤が取り扱いやすさや塗布液のポットライフの点から好ましい。
【００７２】
以下、架橋剤を例示する。
エポキシ架橋剤は、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等が挙げられ、ポリエポキシ化合物としては、例えば、ソルビトール、ポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアネート、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ジエポキシ化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、モノエポキシ化合物としては、例えば、アリルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、グリシジルアミン化合物としてはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノ）シクロヘキサン等が挙げられる。
【００７３】
オキサゾリン架橋剤は、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば制限なく、例えばアルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基）等のア（メタ）クリル酸エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等の不飽和カルボン酸類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）等の不飽和アミド類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付加させたもの等のビニルエステル類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα、β−不飽和モノマー類；スチレン、α−メチルスチレン、等のα、β−不飽和芳香族モノマー等を挙げることができ、これらの１種または２種以上のモノマーを使用することができる。
【００７４】
メラミン架橋剤は、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物およびそれらの混合物が好ましい。メチロールメラミン誘導体としては、例えば、モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。
【００７５】
イソシアネート架橋剤は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、１，６−ジイソシアネートヘキサン、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン−４、４´−ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３´−ビトリレン−４，４´ジイソシアネート、３，３´ジメチルジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。
【００７６】
［微粒子］
皮膜の組成物は、微粒子（Ｃ）を０．１〜２０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％を含有する。０．１重量％未満であると十分な滑性、耐傷性が得られず、２０重量％を超えると塗膜の凝集力が低くなり接着性が悪化する。この微粒子は、平均粒子径２０〜２００ｎｍ、好ましくは４０〜１２０ｎｍである。２００ｎｍより大きいと微粒子の落脱が発生しやすくなり、２０ｎｍよりも小さいと十分な滑性、耐傷性が得られない場合があり好ましくない。微粒子は通常、塗布層の組成物中に含有される。
【００７７】
微粒子としては例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子；アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂等の有機微粒子を用いることができる。これらは１種類を用いてもよく、２種類以上を用いてもよい。
【００７８】
［ワックス］
皮膜は、好ましくはワックスを含有する。ワックスを含有する場合、含有量はワックスを含む皮膜の組成物１００重量部あたり好ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは１重量％〜１０重量％である。含有量が０．５重量％未満ではフィルム表面の滑性が得られないことがあり好ましくない。２０重量％を超えるとポリエステルフィルム基材への密着やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が不足する場合があり好ましくない。
【００７９】
ワックスは脂肪族ワックスを用いることが好ましく、脂肪族ワックスの具体例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスパルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス；ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス；パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス；フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリプロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックスを挙げることができる。就中、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスが特に好ましい。これらは環境負荷の低減が可能であることおよび取扱のし易さから水分散体として用いることが好ましい。
【００８０】
皮膜には、上記の成分以外に、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
【００８１】
［製造方法］
本発明においては、ポリエステルフィルムの両面に前記成分を用いた皮膜を塗設するが、例えば延伸可能なポリエステルフィルムに皮膜を形成する成分を含む水性液を塗布した後、乾燥、延伸し、必要に応じて熱処理することにより塗設することができる。この水性液の固形分濃度は、通常３０重量％以下であり、１０重量％以下がさらに好ましい。
【００８２】
前記の延伸可能なポリエステルフィルムとは、未延伸ポリエステルフィルム、一軸延伸ポリエステルフィルム又は二軸延伸ポリエステルフィルムである。このうちフィルムの押出し方向（縦方向）に一軸延伸した縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。
【００８３】
水性塗液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
【００８４】
かかる界面活性剤は、ポリエステルフィルムへの水性塗液の濡れを促進するものであり、例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン―脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩等のアニオン型、ノニオン型界面活性剤を挙げることができる。界面活性剤は、塗膜を形成する組成物中に、１〜１０重量％含まれていることが好ましい。この範囲であれば４０ｍＮ／ｍ以下にすることができ、塗布層のハジキを防止可能である。
【００８５】
ポリエステルフィルムへ水性液を塗布する場合は、通常の塗工工程、即ち二軸延伸熱固定したポリエステルフィルムに該フィルムの製造工程と切り離した工程で行うと、芥、塵埃等を巻込み易く、好ましくない。かかる観点より、クリーンな雰囲気での塗布、即ちフィルム製造工程での塗布が好ましい。そして、この塗布によれば、皮膜（塗膜）のポリエステルフィルムへの密着性がさらに向上する。
【００８６】
塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組合せて用いることができる。塗布量は走行しているフイルム１ｍ２ 当り、０．５〜２０ｇ、さらには１〜１０ｇが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。なお、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
【００８７】
水性液を塗布した延伸可能なポリエステルフィルムは、乾燥、延伸処理工程に導かれるが、かかる処理は、従来から当業界に蓄積された条件で行うことができる。好ましい条件としては、例えば乾燥条件は９０〜１３０℃×２〜１０秒であり、延伸温度は９０〜１３０℃、延伸倍率は縦方向３〜５倍、横方向３〜５倍、必要ならば再縦方向１〜３倍であり、熱固定する場合は１８０〜２４０℃×２〜２０秒である。
【００８８】
［物性］
かかる処理後の本発明の積層フィルムは、波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であることが好ましく、１００℃３０分加熱後のオリゴマー、紫外線吸収剤の析出によるヘーズ変化が２．５％以下であることが好ましい。光線透過率が１０％を超えると紫外線の遮蔽性能に劣り、すなわち赤外線吸収フィルム保護性能が不足て好ましくない。ヘーズ変化が２．５％を超えると低分子量物の発生抑制効果が乏しく好ましくない。
【００８９】
積層フィルムの厚さは、好ましくは５０〜２５０μｍ、塗膜の厚さは好ましくは０．０２〜１μｍである。積層フィルムの厚さが５０μ未満であるとフィルムのこしがなく好ましくなく、２５０μｍを超えると取り扱いが困難でありこの用途には好ましくない。塗膜の厚さが０．０２μｍ未満であると低分子量物の発生抑制効果が乏しく好ましくなく、１μｍを超えるとフィルム同士のブロッキングが発生しやすくなり好ましくない。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
各種物性は下記の方法により評価した。
【００９１】
（１）ヘイズ変化
ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じ、日本電色工業社製のヘイズ測定器（ＮＤＨ−２０００）を使用してフィルムのヘイズ値を測定した。更に、フィルムを１５０℃、３０分で熱処理した後のヘイズを同様の方法で測定し、熱処理前後でのヘイズ値変化量を下記の基準で評価した。
◎： ヘイズ値変化量≦０．５ ……フィルムのオリゴマー封止性極めて良好
○： ０．５＜ヘイズ値変化量≦２．５％……フィルムのオリゴマー封止性良好
×： ２．５％＜ヘイズ値変化量 ……フィルムのオリゴマー封止性不良
ヘイズ値変化量＝熱処理後のフィルムのヘイズ値−熱処理前のフィルムのヘイズ値
【００９２】
（２）固有粘度
固有粘度（［η］ｄｌ／ｇ）は、２５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。
【００９３】
（３）二次転移点（Ｔｇ）
デュポン製Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎａｌｙｓｔ ２０００型示差熱量計にて、２０℃／分の昇温速度にて測定した。
【００９４】
（４）赤外線吸収層の保護性能の評価
フィルムをＰＤＰフィルターに用いる赤外線吸収フィルム上に積層し、本発明のフィルム上から、６０℃で１４４時間キセノンランプを照射し、赤外線吸収フィルムの近赤外線（９５０ｎｍ）透過率の変化を測定した。
赤外線吸収フィルムは、紫外線により劣化すると近赤外線の透過率が高くなってしまう。本発明のフィルムの赤外線吸収フィルム保護性能を、以下の基準で評価した。
◎： ９５０ｎｍの透過率変化 ≦ ５％
○： ５％ ＜ ９５０ｎｍの透過率変化 ≦ １０％
×： ２０％ ≦ ９５０ｎｍの透過率変化
キセノンランプには、東洋精機 ＳＵＮＴＥＳＴ ＣＰＳ＋を用い、照射強度は５５０ｍＪ／ｍ２とした。透過スペクトルの測定には、（株）島津製作所製 分光光度計ＭＰＣ３１００を用いた。
【００９５】
また、近赤外線吸収フィルムには、下記を用いた。
＜赤外線吸収フィルム＞
赤外線吸収フィルムは、日本触媒（株）製近赤外線吸収剤ＥＸ８１４Ｋを０．４０重量％、三井化学（株）製金赤外線吸収剤Ｓ１３を０．２０重量％、平均粒径１．７μｍの多孔質シリカを０．００７重量％含有した溶融ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ；［η］＝０．６５）をダイより押出し、常法により冷却ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで縦方向に９０℃の温度で延伸倍率３．５倍で延伸した後、引き続いて横方向に１２０℃で３．８倍に延伸し、２３０℃で熱固定して得た厚さ７５μｍの易接着性二軸配向フィルムを用いた。
【００９６】
（５）波長３８０ｎｍの光線透過率
島津製作所（株）製分光光度計ＵＶ−３１０１ＰＣを用い、スキャン速度２００ｎｍ、スリット幅２０ｎｍ、サンプリングピッチ１．０ｎｍの条件は、波長３８０ｎｍの光線透過率を測定した。
【００９７】
（６）固有粘度
固有粘度（［η］ｄｌ／ｇ）は、２５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。
【００９８】
（７）フィルム製造時のスクラッチ傷耐性
製造直後のフィルムにて、面積４ｍ２範囲で塗布層スクラッチ傷の有無を蛍光灯及びハロゲン光の反射光を用いて目視で観察し、あった場合はその場所をマジックでマーキングし、そのスクラッチ傷をキーエンス社製のレーザー光学顕微鏡（ＶＦ−７５０）で長さ、幅及び深さを測定する。長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷個数を求めた。
◎：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．２μｍ以上のスクラッチ傷皆無
……極めて良好
○：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷皆
……良好
×：長さ１ｍｍ以上、幅０．５ｍｍ以上、深さ０．５μｍ以上のスクラッチ傷が１個以上存在……不良
【００９９】
（８）接着性
・ハードコート
易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ１０μｍのハードコート層を形成して碁盤目のクロスカット（１ｍｍ２ のマス目を１００個）を施し、その上に２４ｍｍ幅のセロハンテープ（ニチバン社製）を貼り付け、１８０°の剥離角度で急激に剥がした後、剥離面を観察し、下記の基準で評価した。
５：剥離面積が１０％未満 ……接着力極めて良好
４：剥離面積が１０％以上２０％未満 ……接着力良好
３：剥離面積が２０％以上３０％未満 ……接着力やや良好
２：剥離面積が３０％以上４０％未満 ……接着力不良
１：剥離面積が４０％を超えるもの ……接着力極めて不良
【０１００】
・粘着剤（ＰＳＡ）
易接着性ポリエステルフィルムの塗膜形成面に厚さ２０μｍの粘着剤（ＰＳＡ）層を形成してフロートガラスに粘着剤層面を貼付、２３℃、６５％ＲＨの雰囲気下で１日経時させ、９０°の剥離角度にて剥離し、ガラス表面に粘着剤（ＰＳＡ）の残留状態を観察し、下記の基準で評価した。
５：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％未満 ……接着力極めて良好
４：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が１０％以上２０％未満 ……接着力良好
３：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が２０％以上３０％未満 ……接着力やや良好
２：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が３０％以上４０％未満 ……接着力不良
１：粘着剤（ＰＳＡ）残留面積が４０％を超えるもの ……接着力極めて不良
【０１０１】
（９）耐ブロッキング性
２枚のフィルムを、塗膜形成面と非形成面が接するように重ね合せ、これに、６０℃、８０％ＲＨの雰囲気下で１７時間にわたって０．６ｋｇ／ｃｍ２ の圧力をかけ、その後、剥離して、その剥離力により耐ブロッキング性を下記の基準で評価した。
◎： 剥離力＜９８ｍＮ／５ｃｍ ……耐ブロッキング性極めて良好
○：９８ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１４７ｍＮ／５ｃｍ ……耐ブロッキング性良好
△：１４７ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力＜１９６ｍＮ／５ｃｍ……耐ブロッキング性やや良好
×：１９６ｍＮ／５ｃｍ≦剥離力 ……耐ブロッキング性不良
【０１０２】
［実施例１〜４、比較例１、２、５、６］
下記式（Ａ）に示す紫外線吸収剤を１重量％含有するポリエチレンテレフタレート（固有粘度：０．６２）を２０℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出しして未延伸フィルムとした。
【０１０３】
【化１５】
【０１０４】
次いで縦方向に３．４倍に延伸した後、その両面に下記塗膜用組成物（表１）の濃度４％の水性塗液をロールコーターで均一に塗布した。尚、塗膜の厚さは０．０６μｍであった。
【０１０５】
次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、横方向に１２０℃で３．７倍に延伸し、２３０℃で幅方向に３％収縮させ熱固定し、厚さ１００μｍの積層フィルムを得た。なお、塗膜の厚さは０．１０μｍであった。これらの評価結果を表２に示す。
【０１０６】
【表１】
【０１０７】
ポリエステル１：酸成分がテレフタル酸９５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝７２℃、固有粘度０．５７）。
【０１０８】
ポリエステル２：酸成分が２，６−ナフタレンジカルボン酸７５モル％／イソフタル酸２０モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝８０℃、固有粘度０．３８）。
【０１０９】
ポリエステル３：酸成分がテレフタル酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール６０モル％／ジエチレングリコール４０モル％で構成されている（Ｔｇ＝４３℃、固有粘度０．５０）。
【０１１０】
ポリエステル４：酸成分がテレフタル酸８０モル％／イソフタル酸１５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール５モル％／１，４−ブタンジオール９０モル％で構成されている（Ｔｇ＝２５℃、固有粘度０．５６）。
【０１１１】
ポリエステル５：酸成分が２，６―ナフタレンジカルボン酸８５モル％／イソフタル酸１０モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝１０５℃、固有粘度０．３５）。
【０１１２】
架橋剤１：メチルメタクリレート３０モル％／２−イソプロペニル−２−オキサゾリン３０モル％／ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリレート１０モル％／アクリルアミド３０モル％で構成されている（Ｔｇ＝５０℃）。なお、アクリルは、特開昭６３−３７１６７号公報の製造例１〜３に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、イオン交換水３０２部を仕込んで窒素気流中で６０℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム０．５部、亜硝酸水素ナトリウム０．２部を添加し、更にモノマー類である、メタクリル酸メチル２３．３部、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン２２．６部、ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリル酸４０．７部、アクリルアミド１３．３部の混合物を３時間にわたり、液温が６０〜７０℃になるよう調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に２時間保持しつつ、撹拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が２５％のアクリルの水分散体を得た。
【０１１３】
微粒子１：シリカ及びチタニアの複合無機粒子（平均粒径：１００ｎｍ）。なお、微粒子１は、特開平７−２５２０号公報の製造例及び実施例に記載の方法に準じて下記の通り製造した。撹拌羽根付きの内容積４リットルのガラス製反応容器にメタノール１４０ｇ、イソプロパノール２６０ｇ、およびアンモニア水（２５重量％）１００ｇを仕込み、反応液を調製し、反応液の温度を４０℃に保持しつつ攪拌した。次に、３リットルの三角フラスコに、シリコンテトラメトキシド（Ｓｉ（ＯＭｅ）４、コルコート（株）、商品名；メチルシリケート３９）５４２ｇを仕込み、撹拌しながら、メタノール１９５ｇと０．１重量％塩酸水溶液（３５％塩酸、和光純薬工業（株）を１／１０００に水で希釈）２８ｇを加え、約１０分間撹拌した。続いて、チタニウムテトライソプロポキシド（Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）４、日本曹達（株）、品名；Ａ−１（ＴＰＴ））３００ｇをイソプロパノール６３４ｇで希釈した液を加え、透明な均一溶液（シリコンテトラアルコキシドとチタニウムテトラアルコキシドの共縮合物）を得た。上記均一溶液１６９９ｇとアンモニア水（２５重量％）４８０ｇの各々を前記反応液中に、最初は滴下速度を小さくし、終盤にかけて徐々に速度を大きくして、２時間かけて同時に滴下した。滴下終了後、得られた共加水分解物をろ過し、５０℃で有機溶媒を乾燥させ、その後、水に分散化させ、濃度１０重量％の微粒子１を得た。
【０１１４】
微粒子２：シリカフィラー（平均粒径：８０ｎｍ）（触媒化成工業社製 商品名カタロイドＳＩ−８０Ｐ）
微粒子３：アクリルフィラー（平均粒径：８０ｎｍ）（日本触媒社製 商品名ＭＸ−８０Ｗ）
添加剤：カルナバワックス（中京油脂社製 商品名セロゾール５２４）
濡れ剤：ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成社製 商品名ナロアクティーＮ−７０）
【０１１５】
［比較例３、４］
ポリエステルに含有させる紫外線吸収剤とその配合割合を、比較例３では下記式（Ｂ）に示す紫外線吸収剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製：商品名ＴＩＮＵＶＩＮ１５７）を１重量％含有、比較例４では紫外線吸収剤を含まないポリエステルを使用した以外は実施例１と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムの特性を表２に示す。
【０１１６】
【化１６】
【０１１７】
【表２】
【０１１８】
表２に示す結果から明らかなように、本発明は、かかる従来技術の問題点を解消し、熱処理時の低分子量物の析出が少なく、ＰＤＰフィルターの赤外線吸収フィルムの保護性能に優れ、しかも耐候性に優れた光学用易接着性積層フィルムとして有用である。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明のプラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルムは、プラズマディスプレイパネルの部材として好適に用いることができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルム。
【請求項２】
架橋剤（Ｂ）が、オキサゾリン基含有ポリマー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂及びエポキシ系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
皮膜が、固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％ならびにワックス０．５〜２０重量％の合計１００重量％からなる、請求項１記載の積層フィルム。
【請求項４】
１００℃３０分加熱後のオリゴマー、紫外線吸収剤の析出によるヘーズ変化が２．５％以下である、請求項１記載の積層フィルム。
【請求項５】
紫外線吸収剤が、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１記載の積層フィルム。
【化１】
（式（Ｉ）で、Ｘ１ は、上記式に表わされたＸ１ からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１ はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１ はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【化２】
（式（ＩＩ）で、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基であり；Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ２ は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【化３】
【化４】
【請求項１】
紫外線吸収剤を含有するポリエステル組成物からなるポリエステルフィルム、該フィルムの両面に塗設された皮膜からなる積層フィルムであって、積層フィルムは波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下であり、皮膜は固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および平均粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％の合計１００重量％からなることを特徴とする、プラズマディスプレイパネル部材用易接着性積層フィルム。
【請求項２】
架橋剤（Ｂ）が、オキサゾリン基含有ポリマー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂及びエポキシ系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
皮膜が、固形分としてガラス転移点４０〜１００℃かつ固有粘度が０．４以上０．７未満のポリエステル樹脂（Ａ）５０〜９５重量％、架橋剤（Ｂ）１〜４０重量％および粒子径０．０２〜０．２μｍの微粒子（Ｃ）０．１〜２０重量％ならびにワックス０．５〜２０重量％の合計１００重量％からなる、請求項１記載の積層フィルム。
【請求項４】
１００℃３０分加熱後のオリゴマー、紫外線吸収剤の析出によるヘーズ変化が２．５％以下である、請求項１記載の積層フィルム。
【請求項５】
紫外線吸収剤が、下記式（Ｉ）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（ＩＩ）で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくとも１種の化合物である、請求項１記載の積層フィルム。
【化１】
（式（Ｉ）で、Ｘ１ は、上記式に表わされたＸ１ からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ１ はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい、又はＲ１ はｎ＝２のとき直接結合であることができる。）
【化２】
（式（ＩＩ）で、Ａは下記式（ＩＩ）−ａで表わされる基であるか又は下記式（ＩＩ）−ｂで表わされる基であり；Ｒ２ およびＲ３ は同一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ２ は４価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
【化３】
【化４】
【公開番号】特開２００６−２１２８１５（Ｐ２００６−２１２８１５Ａ）
【公開日】平成１８年８月１７日（２００６．８．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２５１３９（Ｐ２００５−２５１３９）
【出願日】平成１７年２月１日（２００５．２．１）
【出願人】（３０１０２０２２６）帝人デュポンフィルム株式会社 (517)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月１７日（２００６．８．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年２月１日（２００５．２．１）
【出願人】（３０１０２０２２６）帝人デュポンフィルム株式会社 (517)
【Ｆターム（参考）】
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