プラズマディスプレイ用フィルタ、表示装置およびその製造方法
【課題】 電磁波シールド能や近赤外線カット能、画質改善能などの所望のフィルタ特性を有し、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができるプラズマディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 プラズマディスプレイ用フィルタは、色素を含有する透明粘着層（Ｃ）３１、高分子フィルム（Ｂ）２０、透明導電層（Ｄ）１０、透明粘着層（Ｅ）４０、反射防止性、ハードコート性、ガスバリア性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）６０が順次積層されて構成され、ディスプレイ表示部００の上に接着され、透明導電層（Ｄ）１０は電極５０、導電性銅箔粘着テープ８０を介してディスプレイのグランド端子に接地される。
【解決手段】 プラズマディスプレイ用フィルタは、色素を含有する透明粘着層（Ｃ）３１、高分子フィルム（Ｂ）２０、透明導電層（Ｄ）１０、透明粘着層（Ｅ）４０、反射防止性、ハードコート性、ガスバリア性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）６０が順次積層されて構成され、ディスプレイ表示部００の上に接着され、透明導電層（Ｄ）１０は電極５０、導電性銅箔粘着テープ８０を介してディスプレイのグランド端子に接地される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえばプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等のディスプレイの画面上に設置され、ディスプレイ画面から発生する電磁波のうち可視光以外の電磁波を遮蔽可能なフィルタ特性、及び／又は可視光スペクトルを補正可能なフィルタ特性を有するディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
社会の高度情報化に伴って、光エレクトロニクス関連の部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでも、ディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、その薄型化、大型化が要望されている。大型の薄型ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている。プラズマディスプレイは、その構造や動作原理上、表示画面から強度の漏洩電磁界、近赤外線を発生する。
【０００３】
近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されるようになっており、例えば、漏洩電磁波を、日本のＶＣＣＩ（Voluntary Control
Council for Interference by data processing equipment electronic office machine）による基準値内に抑えることが必要となる。
【０００４】
また、ディスプレイ画面からの近赤外線は、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす可能性がある。リモコンや伝送系光通信では波長８２０ｎｍ，８８０ｎｍ，９８０ｎｍ等の近赤外線が使用されているため、近赤外領域である８００〜１１００ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまで抑圧する必要がある。
【０００５】
近赤外線のカットに関して、従来、近赤外線吸収色素を用いて作製された近赤外吸収フィルターを用いることが知られている。しかしながら、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化を受けやすく、色素を用いた近赤外吸収フィルタは経時とともに近赤外線カット能の低下、フィルタの透過色の変化、等の光学特性の変化を生じる傾向がある。
【０００６】
特にプラズマディスプレイでは、広い波長領域に渡って強度の近赤外線が発生するため、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルタを使用する必要がある。従来の近赤外線吸収フィルタでは可視光線透過率が低いものしか実現していない。
【０００７】
一方、漏洩電磁波のカットに関して、ディスプレイ画面の表面を導電性の高い導電物で覆う必要がある。この方法として透明導電層が用いられるが、この透明導電層は、導電性メッシュと透明導電性薄膜の２つに大別される。導電性メッシュには、アースした金属メッシュ、合成繊維または金属繊維のメッシュに金属被覆したもの、または、金属膜を形成後に格子パターン状にエッチング処理したエッチング膜等が用いられるが、これらの導電性メッシュは、導電性が高く電磁波シールド性能に優れるが、光の干渉による縞の発生、歩留りの悪さによるコスト高などで難がある。
【０００８】
導電性メッシュの代わりに、金属薄膜や酸化物半導体薄膜等から成る透明導電性薄膜を電磁波シールド層として用いる方法がある。金属薄膜は、良好な導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いものは得られない。酸化物半導体薄膜は、金属薄膜に比べ透明性に優れるものの、導電性に劣り、しかも、近赤外線の反射能は乏しい。上記したように、漏洩電磁界のカットを目的とした透明導電層には、そのシールド性能を重視する場合には導電性メッシュが、コスト性を重視する場合には、透明導電性薄膜をそれぞれ用いる場合が多い。
【０００９】
また、ディスプレイの色純度を改善する試みとして色素を用いる方法が、例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３等に記載されている。特許文献１は、プラズマ表示パネル（プラズマディスプレイパネル）への適用について言及している。
【００１０】
しかしながら、これらの先行技術には、プラズマディスプレイパネルに用いる際に必須となる電磁波シールドとしての透明導電層と、色素との組み合わせについては何ら言及がなく、用いる色素についての具体的な言及もない。
【００１１】
プラズマディスプレイ用フィルタは、ディスプレイと別体に形成し、ディスプレイの前面板として、近赤外線、電磁波遮蔽、表示画面の保護を目的に設置することが考えられる。しかしながら、前面板方式は、その構成部材数・製造工程数が多いためコストが高くなり、薄型・軽量化が困難になる。
【００１２】
さらに、プラズマディスプレイ表示部の表面反射は一般に低減されておらず、ガラス基板の反射率を有しているので、熱設計等の観点から前面板を表示部と離して設置する場合には、ディスプレイ表面の外光反射と前面板の外光反射により、反射映像が二重以上になってしまい、ディスプレイの視認性を低下させることがある。また、プラズマディスプレイは、画面表面におけるガラスの反射や蛍光体の反射により、明所コントラストが低く、加えて発光の色再現範囲が狭いという特性を有する。
【００１３】
一方、前面板を除去し、ディスプレイパネル上に光学フィルムを直接貼合わせることが特許文献４、特許文献５、特許文献６などで提案されている。しかしながら、これらの先行技術はいずれも、透明高分子フィルム全体の合計厚さに対する規定はなく、また耐衝撃性の付与について具体的な言及はなされていない。
【００１４】
一方、特許文献７では、外部からの衝撃を吸収するために、直接貼合わせ用の光学フィルムを厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートに積層して使用するとの提案がある。しかしながら、厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートは、ロール形態からの連続貼合わせ工程やディスプレイへの直接貼合わせは実用上困難であり、実施例でも厚さ３ｍｍのアクリルシートに貼合わせていることから、枚葉貼合わせ型の従来前面板型フィルターの改良を意図したものであることは明らかである。
【００１５】
一般に、本発明の利用分野における各機能を有した透明高分子フィルムは、ロール形態にて使用されているが、作業効率などの観点から、通常厚さ７５〜１００μｍのものが使われる。従って、単純に機能を有する２枚の透明高分子フィルムを貼合わせた場合、その厚さ合計は０．３ｍｍに満たない。また、反射防止フィルムでは、一部厚さ１８８μｍのものも利用されているが、ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であり、好適に用いられるベースフィルム厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に比べ反射防止性が劣るため、フィルム同士の貼合わせ用にこれが積極的に用いられることはない。
【００１６】
また、ディスプレイパネル本体に直接フィルムを貼合わせる場合には、ディスプレイ自体が高価であるため、不具合発生時のフィルム剥離処理が不可欠となるが、この作業性については上記先行特許では言及されていない。また、ディスプレイへのフィルム貼合わせに関しては、既に液晶ディスプレイやフラットテレビなどにおいて実施されているが、プラズマディスプレイでは面積が大幅に大きくなることから、既存のディスプレイ以上に、剥離に力を必要とするため手間がかかる、ディスプレイ表面上への糊残りが発生しやすいなど、作業上の問題がある。
【００１７】
また、電磁波シールド体においては、電磁波を電流として外部に取り出す電極を用いて、透明導電層と外部との導通を得なければならない。その手法としては、透明導電層上に保護などの目的でフィルムを貼合わせる際に、フィルターの周囲に当該層が一部露出するようにして貼合わせ、この部分を電極として外部との導通を行う部位とすることが挙げられる。従来、前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体は、この手法によって外部との導通を得ていた。透明導電層を露出させるための方法としては、透明導電層上に貼合わせるフィルムの面積を透明導電層の面積より少し小さくする等の方法が行われていた。
【００１８】
この方法を用いると剛性の高い板等に透明導電層を有するフィルムを枚葉でまず貼付け、さらにそれよりも面積が小さい保護フィルムを枚葉で貼合わせるという２回の枚葉貼合わせ作業が必要であるため、生産性に問題がある。
【００１９】
また、従来前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体においては、全周部分に電極を設けていた。この方法を用いると電極形成作業を枚葉で行う必要があり、生産性に問題がある。
【００２０】
【特許文献１】特開昭５８−１５３９０４号
【特許文献２】特開昭６０−２２１０２号
【特許文献３】特開昭５９−２２１９４３号
【特許文献４】特開平１０−１５６９９１号
【特許文献５】特開平１０−１８８８２２号
【特許文献６】特開２０００−９８１３１号
【特許文献７】特開平１０−２１１６６８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明の目的は、上記従来技術に鑑み、電磁波シールド能や近赤外線カット能、画質改善能などの所望のフィルタ特性を有し、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができるプラズマディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、1)プラズマディスプレイから発生する非常に強度な電磁波を遮蔽するには、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層が必要であること、2)このような透明導電層を備えた電磁波シールド体をプラズマディスプレイ表面に直接形成することによって、電磁波シールド能、近赤外線カット能、画像・視認性・コストに優れるプラズマディスプレイを用いた表示装置が得られること、3)特定の層構成を有し、色素を含有し、且つ、可視光線透過率が３０〜８５％である調光フィルムをディスプレイ表面に直接形成することによって、画像・視認性・コストに優れるディスプレイを用いた表示装置が得られること、4)光学フィルターを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とし、それをディスプレイ前面に直接貼合わせることで、軽量薄型化とパネル保護性を両立した上に、作業性の向上が得られること、5)電極を形成位置を制限し、例えば長方形の光学フィルターの場合、一組の向かい合う２辺のみに電極を形成すること及び電極の形状を工夫することにより、高い生産効率を有するロールツーロール方式で電極形成を行なうことができること、等を見出し、本発明に至った。
【００２３】
本発明は、プラズマディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタである。
【００２４】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることが好ましい。
【００２５】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることが好ましい。
【００２６】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることが好ましい。
【００２７】
また本発明は、複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることが好ましい。
【００２８】
また本発明は、複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることが好ましい。
【００２９】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することが好ましい。
【００３０】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることが好ましい。
【００３１】
また本発明は、高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることが好ましい。
【００３２】
また本発明は、前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることが好ましい。
また本発明は、テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００３３】
【化２】
【００３４】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【００３５】
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることが好ましい。
【００３６】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることが好ましい。
【００３７】
また本発明は、３０〜８５％の可視光線透過率を有することが好ましい。
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることが好ましい。
【００３８】
また本発明は、色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることが好ましい。
【００３９】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
また本発明は、フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることが好ましい。
【００４０】
また本発明は、一部露出した導通部に電極が形成されることが好ましい。
また本発明は、フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることが好ましい。
【００４１】
また本発明は、フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４２】
また本発明は、フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４３】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することが好ましい。
【００４４】
また本発明は、画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設けられ、上記のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置である。
【００４５】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４６】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４７】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４８】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００４９】
本発明によれば、透過特性、透過率、反射特性が優れた調光フィルムとして機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。これをプラズマディスプレイ等の表示装置の画面に直接形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができ、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【００５０】
また、過特性、透過率、可視光線反射率に優れ、プラズマディスプレイ等の表示装置から発生する電磁波を遮断する電磁波シールド体として機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備え、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【００５１】
また、プラズマディスプレイ用フィルタを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、プラズマディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、プラズマディスプレイ前面に直接貼合わせる電磁波シールド体または調光フィルムを提供することができる。
【００５２】
また、電磁波シールド体の電極形状を工夫することによって、充分な電磁波遮断効果をもち、しかも電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産効率が大幅に向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有することによって、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正するフィルタ特性を有する調光フィルムとして機能する。
【００５４】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断するフィルタ特性を有する電磁波シールド体として機能する。
【００５５】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断するフィルタ特性を有する近赤外線フィルタとして機能する。
【００５６】
これらの機能を有するディスプレイ用フィルタをプラズマディスプレイ等のディスプレイ表面に直接貼付けることによって、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができる。
【００５７】
本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成した少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成される透明粘着層（Ｃ）を有し、さらに該透明導電層（Ｄ）上に導通部、及び、直接又は透明粘着層を介して形成された機能性透明層（Ａ）を有する。
【００５８】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）とを有し、さらに、該透明導電層（Ｄ）上に、導電性粘着層および透明粘着層（Ｃ）を有する。
【００５９】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）、透明粘着層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）、を有する。
【００６０】
また、本発明に係る調光フィルムは、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）、該高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された透明粘着層（Ｃ）を有し、且つ、色素を含有し、可視光線透過率が５５〜９０％である。
【００６１】
１．高分子フィルム（Ｂ）
高分子フィルム（Ｂ）は、フィルタの基体として機能し、例えば透明導電層（Ｄ）を形成するための基体であり、しかも、本発明のディスプレイ用フィルタはディスプレイ表面に直接形成されるものであるため、透明な高分子フィルムが用いられる。
【００６２】
高分子フィルム（Ｂ）としては、可視波長領域において透明であればよい。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
高分子フィルムは、通常、厚み１０〜２５０μｍである。薄すぎるとフィルタをディスプレイ表面に直接形成するのが困難であり、可撓性が制限される。従って、高分子フィルム（Ｂ）の厚さは、５０μｍ以上、好ましくは７５μｍ以上が好適である。また、厚さ２５０μｍ以上では可撓性が不足しすぎて、フィルムをロールで巻きとって利用するのに適さないことがある。また、本発明分野のように、高い透明性が要求される分野では、高分子フィルムの厚さ１００μｍ程度のものが広く用いられている。
【００６４】
本発明で用いる透明な高分子フィルムは可撓性を有しており、透明導電膜をロールツーロール法で連続的に形成することができるため、効率よく、また、長尺大面積の透明積層体を生産することができる。さらに、フィルム状のフィルタは、ディスプレイ表面に、ラミネートにより容易に直接形成することができる。さらに、ディスプレイ表面に直接貼合された高分子フィルムを基体とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損したときのガラス飛散を防止することができ、好適である。
【００６５】
本発明においては、高分子フィルム（Ｂ）の表面を、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理により、その上に形成される透明導電層（Ｄ）の高分子フィルム（Ｂ）に対する密着性を予め向上させてもよい。また、高分子フィルム（Ｂ）と透明導電層（Ｄ）の間に任意の金属などの無機物層を形成してもよく、透明導電膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００６６】
また、透明積層体の耐擦傷性を向上させるために、高分子フィルム（Ｂ）の少なくとも一方の主面にハードコート層（Ｆ）が形成されていても良い。
【００６７】
２．ハードコート層（Ｆ）
ハードコート層（Ｆ）となるハードコート膜としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。また、ハードコート層（Ｆ）には後述の色素を１種以上含有させることが出来る。
【００６８】
３．透明導電層（Ｄ）
本発明の電磁波シールド体では、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に透明導電層（Ｄ）が形成される。本発明における透明導電層（Ｄ）とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。なお、本発明では、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層（Ｄ）を形成したものを透明積層体（Ｈ）という。
【００６９】
単層の透明導電膜としては、前述した金属メッシュや導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。
【００７０】
多層の透明導電膜としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及びその自由電子による近赤外線反射特性と、ある波長領域における金属による反射の高屈折率透明薄膜による防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【００７１】
電磁波シールド能、近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜が好適である。
【００７２】
ところで、ＶＣＣＩにおいては、業務用途の規制値を示すClass A では放射電界強度５０ｄＢμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すClass B では４０ｄＢμＶ／ｍ未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。
【００７３】
プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさ及び消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。
【００７４】
本発明者らは、鋭意検討の結果、高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層（Ｄ）が、面抵抗０．０１〜３０Ω／□、より好ましくは０．１〜１５Ω／□、さらに好ましくは０．１〜５Ω／□の低抵抗な導電性を有していることが必要なことを見出した。本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【００７５】
また、本発明者らは、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルターの近赤外線波長領域８００〜１１００ｎｍにおける光線透過率極小を２０％以下にすることが必要であること、この要求を満たすためには、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要であること、を見出した。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。
【００７６】
金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことが可能である。また、層数及び／又はそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることも可能である。
【００７７】
一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。
【００７８】
本発明の電磁波シールド体においては、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に多層薄膜の透明導電層（Ｄ）を形成した透明積層体（Ｈ）を用いることが好ましい。
【００７９】
本発明において好ましい透明導電層（Ｄ）は、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、金属薄膜層（Ｄｍ）の順に、（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２〜４回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを特徴とし、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、可視光線反射率に優れた性能を有する。なお、本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。
【００８０】
本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は２回〜４回が好適である。つまり、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明積層体（Ｄ）は、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）の層構成を有するものである。繰り返し積層数が５回以上では、生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加が生じる傾向がある。また、繰り返し回数が１回であると、低抵抗性、近赤外線カット能と、可視光線反射率を同時に十分なものとすることが出来難い。
【００８１】
なお、繰り返し積層数が２回〜４回の多層薄膜において、近赤外線カット能、可視光線透過率、可視光線反射率を同時に、プラズマディスプレイに好適な特性とするには、その面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを本発明者らは見出した。
【００８２】
なお、将来的にはプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が５〜１５Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができることが予想される。また、さらにプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が１５〜３０Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができるようになることが予想される。一方、放出される電磁波強度とは別の観点として、プラズマディスプレイの更なる大画面化、薄型化が求められる場合には、電磁波シールド体の面抵抗０．０１〜１Ω／□を求められることも想定される。
【００８３】
金属薄膜層（Ｄｍ）の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金や、これら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に金やパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。
【００８４】
銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性、光学特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以上、１００重量％未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性、光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも１つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て最初の層及び／又は最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。
【００８５】
金属薄膜層（Ｄｍ）の厚さは、導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、４ｎｍ以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚さとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。
【００８６】
金属薄膜層（Ｄｍ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００８７】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．８以上、さらに好ましくは２．０以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。
【００８８】
これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。
【００８９】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の厚さは、高分子フィルム（Ｂ）〔透明基体ともいう〕の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、高屈折率透明薄膜第１層…第（ｎ＋１）層（ｎ≧１）は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。
【００９０】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００９１】
上記の透明導電層（Ｄ）の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性、光学特性を著しく損なわない程度に有機物又は無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは、０．２ｎｍ〜２ｎｍ程度である。
【００９２】
所望の光学特性の透明導電層（Ｄ）を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料・厚さを勘案して、透明高分子フィルム（Ｂ）および薄膜材料の光学定数（屈折率、消光係数）を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。この際、透明導電層（Ｄ）上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは透明高分子フィルム（Ｂ）上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率１の入射媒質と違うために透過色（及び透過率、反射色、反射率）が変化するためである。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を形成する際に透明粘着層（Ｃ）を介する場合は、透明粘着層（Ｃ）の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を直接する場合は、透明導電層（Ｄ）と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。
【００９３】
上記のように、透明導電層（Ｄ）の設計を行なうことにより、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層と最上層がその間の層より薄く、金属薄膜層（Ｄｍ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層がその他の層より薄く、屈折率１．４５〜１．６５、消光係数ほぼ０の厚み１０〜５０μｍの粘着材が隣接層であるとき、透明積層体の反射が著しく増加しないこと、すなわち、隣接層形成による界面反射の増加が２％以下であることを見出した。
【００９４】
特に、繰り返し回数が３回、すなわち、計７層からなる透明導電層においては、３層の金属薄膜層（Ｄｍ）の真ん中の２番目の層が他の層より厚いと、前記の粘着材が隣接層であるときに、透明積層体の反射が著しく増加しないことを見出した。
【００９５】
なお、光学定数はエリプソメトリー（楕円偏光解析法）やアッベ屈折計により測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００９６】
上記の方法により形成した透明導電層の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。
【００９７】
なお、膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係を予め明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより制御される。
【００９８】
以上述べた透明導電性薄膜を用いる方法のほか、導電性メッシュを透明導電層として用いる方法もある。導電性メッシュの一例として、以下の単層の金属メッシュについて述べるが、本発明における導電性メッシュはこれに限定されるものではない。
【００９９】
単層の金属メッシュは、高分子フィルム上に銅メッシュ層を形成したものが一般的である。通常は、高分子フィルム上に銅箔を貼合わせ、その後、メッシュ状に加工する。
【０１００】
本発明に用いられる銅箔は、圧延銅、電界銅とも使い得るが、金属層は多孔性のものが好ましく用いられ、その孔径は、０．５〜５μｍが好ましく、さらに好ましくは、０．５〜３μｍであり、さらに好ましくは０．５〜１μｍである。孔径がこれ以上大きくなるとパターニングの障害になるおそれがあり、また、これ以上小さな値になると、光線透過率の向上が期待しにくい。なお、銅箔のポロシティーとしては、０．０１〜２０％の範囲が好ましく、さらに好ましくは、０．０２〜５％である。本発明でいうポロシティーとは、体積Ｒとして、孔容積をＰとしたときに、Ｐ／Ｒで定義される値である。例えば、体積０．１ｃｃに対応する銅箔の孔容積を、水銀ポロシティーで測定したところ、０．００１ｃｃであったとすると、ポロシティーは１％ということができる。用いられる銅箔は、各種表面処理をされていても構わない。具体的に例示すれば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等である。
【０１０１】
銅箔の厚さは３〜３０μｍが好ましく、より好ましくは５〜２０μｍ、さらに好ましくは７〜１０μｍである。この厚さより厚いとエッチングに時間を要するという問題があり、またこの厚さよりも薄いと電磁波シールド能に劣るという問題が発生する。
【０１０２】
光透過部分の開口率は６０％以上、９５％以下が好ましく、より好ましくは６５％以上、９０％以下、さらにより好ましくは７０％以上、８５％以下である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等に形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の代表的な大きさは、１辺もしくは直径が５〜２００μｍの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは１０〜１５０μｍである。この値が大きすぎると、電磁波シールド能が低下し、また小さすぎるとディスプレイの画像に好ましくない影響を与える。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、ピッチが１０〜２５０μｍであることが好ましい。この幅よりも細いと加工がきわめて困難になる一方、この幅より太いと画像に好ましくない影響を与える。
【０１０３】
光透過部分を有する金属層の実質的なシート抵抗とは、上記パターンよりも５倍以上大きな電極を用いて、上記パターンの繰り返し単位よりも５倍以上の電極間隔をもつ４端子法より測定したシート抵抗をいう。例えば、開口部の形状が１辺１００μｍの正方形で金属層の幅が２０μｍをもって規則的に正方形が並べられたものであればφ１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定することができる。あるいはパターン形成したフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗を測り（Ｒ）、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂとすると、実質的なシート抵抗＝Ｒ×ｂ／ａで求めることができる。このように測定された値は、０．０１Ω／□以上、０．５Ω／□以下が好ましく、より好ましくは０．０５Ω／□以上、０．３Ω／□以下である。この値よりも小さな値を得ようとすると膜が厚くなりすぎ、かつ開口部が充分取れなくなり、一方、これ以上大きな値にすると充分な電磁波シールド能を得ることができなくなる。
【０１０４】
銀箔を高分子フィルムにラミネートする方法としては、透明な接着剤を用いる。接着剤の種類としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系等があるが、特に接着剤に限定はない。２液系及び熱硬化タイプが好適に使用される。なお、耐薬品性に優れた接着剤であることが好ましい。高分子フィルムに接着剤を塗布した後、銀箔と貼合わせることもできるし、銀箔に接着剤を貼合わせてもよい。
【０１０５】
光透過部分を形成する方法としては、印刷法やフォトレジスト法を用いることができる。印刷法では、マスク層を印刷レジスト材料を用いてスクリーン印刷法でパターン形成する方法が一般的である。フォトレジスト材料を用いる方法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法などで、金属箔上にフォトレジスト材料をべた形成し、フォトマスクを用いて露光現像してレジストのパターニングを行う。レジストパターニングを完成させた後、開口部とする金属部分を湿式エッチングで除去することで、所望の開口形状と開口率の、光透過部分を有する金属メッシュを得ることができる。
【０１０６】
４．透過特性
電磁波シールド体の透光部における可視光線透過率は、３０〜８５％が好ましい。更に好ましくは５０〜８０％である。３０％未満であると輝度が下がりすぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るために、８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０７】
また、調光フィルムにおいては可視光線透過率は、５５〜９０％が好ましい。さらに好ましくは６０〜８５％である。５５％未満であると輝度が下がり過ぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るためには８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０８】
なお、本発明における可視光線透過率（Ｔｖｉｓ）、可視光線反射率（Ｒｖｉｓ）とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【０１０９】
５．色特性、色素
ところで、ディスプレイ用フィルタの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である５５０ｎｍ前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。
【０１１０】
多層薄膜は、可視光線透過率・可視光線反射率を重視すると、一般に透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能をあげるほど、金属薄膜の総膜厚が厚いことが必要となる。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる電磁波シールド体はその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いことによるコントラスト低下や、赤色及び緑色発光色に比べ青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、電磁波シールド体の透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。
【０１１１】
多層薄膜を透明導電層（Ｄ）に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して電磁波シールド体の透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層（Ｄ）の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。
【０１１２】
カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電により発生する真空紫外光で励起発光する(Y,Gd,Eu)BO3等の赤色（Red）発光蛍光体、(Zn,Mn)2SiO4等の緑色
（Green）発光蛍光体、(Ba,Eu)MgAl10O17:Eu 等の青色（Blue）発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長５８０ｎｍから７００ｎｍ程度までにわたる数本の発光ピークを示しており、比較的強度な短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにＸｅとＮｅの混合ガスを用いた場合、Ｎｅ励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を落としてしまう。また、緑色発光、青色発光に関しても、そのピーク波長の位置、発光のブロードさが色純度を下げる要因となっている。
【０１１３】
色純度の高さは、例えば、国際照明委員会（ＣＩＥ）が定めた横軸色度ｘ、縦軸色度ｙで色相と彩度を表す座標系において、ＲＧＢ三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、ＮＴＳＣ（National Television System Committee）方式で定めているＲＧＢ三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。
【０１１４】
また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は１００〜２００、周囲照度100lx 程度の明時は１０〜３０であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。
【０１１５】
コントラストを向上させるためにはディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ（ＮＤ）フィルタの如く、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法があるが、可視光線透過率が著しく低いと、輝度・画像の鮮明さが低下することになり、また、色純度の改善はあまり見られない。
【０１１６】
本発明者らは、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることは、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減することによって達成できることを見出した。
【０１１７】
また、本発明者らは、色素を用いることによって、電磁波シールド体をニュートラルグレーまたはニュートラルブルーに調色するだけではなく、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減できることを見出した。特に、赤色発光がオレンジに近いものは顕著であり、その原因である波長５８０ｎｍ〜６０５ｎｍの発光を低減することによって赤色発光の色純度を向上させることができることを見い出した。
【０１１８】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、不要発光及び外光反射の低減は、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素をシールド体に含有させることによって行うことができる。この際、ディスプレイ用フィルタによって、赤色である発光ピークのある波長６１５ｎｍ〜６４０ｎｍの光線透過を著しく損なってしまわないことが必要である。
【０１１９】
一般に、色素はブロードな吸収範囲を有しており、所望の吸収ピークを有するものも、その裾の吸収により好適な波長の発光まで吸収してしまうことがある。Ｎｅによる発光が存在する場合は、オレンジ色発光の低減を行うこともできるため、ＲＧＢ表示セルからの発光の色純度が向上する。
【０１２０】
また、カラープラズマディスプレイの緑発光はブロードであり、そのピーク位置は、例えば、ＮＴＳＣ方式で要求される緑色より若干長波長側、すなわち黄緑側にあることがある。
【０１２１】
本発明者らは、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素の短波長側の吸収によって、緑色発光の長波長側を吸収して削り、さらに不要発光を削ること、及び／又は、ピークをシフトさせることによって色純度を向上できることを見出した。
【０１２２】
赤色発光、更に加えて緑色発光の色純度向上には、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素を用いることによって、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍにおける電磁波シールド体の最低透過率が、必要な赤色発光のピーク位置での透過率に対して８０％以下であることが好適である。
【０１２３】
青色発光の色純度が低い場合は、赤色発光、緑色発光と同様に、不要発光を低減し、また、そのピーク波長をシフトさせ、青緑発光を吸収する色素を用いれば良い。さらに、色素による吸収は、外光の蛍光体への入射を低減することによって蛍光体での外光反射を低減させることができる。このことによってもまた色純度及びコントラストを向上させることができる。
【０１２４】
本発明のディスプレイ用フィルタに色素を含有させる方法としては、（１）透明な樹脂に少なくとも１種類以上の色素を混錬させた高分子フィルム、（２）樹脂または樹脂モノマー／有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも１種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルム、（３）樹脂バインダーと有機系溶媒に少なくとも１種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたもの、（４）少なくとも１種類以上の色素を含有する透明な粘着材、のいずれか一つ以上の形態として用いる方法である。
【０１２５】
本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。
【０１２６】
色素は、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではないが、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、透明導電層の色調及び電磁波シールド体に要求される透過特性・透過率、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定されるものではない。
【０１２７】
透明導電層（Ｄ）に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、透明導電層が近赤外線カット能を有していない場合に、近赤外線カット能をディスプレイ用フィルターに付与するために、前記色素に近赤外線吸収色素を１種類以上併用しても良い。
【０１２８】
近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイミニウム系化合物が挙げられる。
【０１２９】
プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは電磁波シールド体の温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、８０℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。
【０１３０】
また、色素によっては、耐熱性に加えて、耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光や外光の紫外線・可視光線による劣化が問題になる場合は、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外線や可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。熱、光に加えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると電磁波シールド体の透過特性が変わってしまう。
【０１３１】
実際に、プラズマディスプレイパネルの表面温度が７０℃から８０℃になることは特開平８−２２０３０３号に明記されている。また、プラズマディスプレイパネルより発生する光は、例えば、３００ｃｄ／ｍ2と明記されており（富士通株式会社Ｉｍａｇｅ Ｓｉｔｅ カタログ ＡＤ２５−００００６１Ｃ Ｏｃｔ．１９９７Ｍ）、立体角を２πとして、これを２万時間照射すると、２π×２００００×３００＝３８００万（ｌｘ・時間）となることから、実用上数千万（ｌｘ・時間）程度の耐光性が必要になることが分かる。
【０１３２】
さらには、色素を媒体または塗膜中に分散させるために、適宜の溶媒への溶解性も重要である。異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。
【０１３３】
本発明のディスプレイ用フィルタは、カラープラズマディスプレイの輝度・視認性を著しく損なわない優れた透過特性・透過率を有し、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることができる。本発明者らは、１種以上含有せしめる色素の、少なくとも一つがテトラアザポルフィリン化合物の場合には、特に低減したい５７０〜６０５ｎｍの不要発光の波長と同じか、または近い波長に主要吸収波長を有し、且つ、吸収波長巾が比較的狭いので、好適な発光を吸収してしまうことによる輝度の損失を少なくできることを見出し、優れた透過特性・透過率・発光色の色純度及びコントラストを向上させる能力が優れたディスプレイ用フィルタを得ることができた。
【０１３４】
本発明で用いるテトラアザポルフィリン化合物は、前記式（１）で示すことができる。以下、式（１）は、下記構造式（２）（化３）の様に略記する。
【０１３５】
【化３】
【０１３６】
〔式（２）中、Ａm及びＡnは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又は、アリールチオ基を表し、ＡmとＡnは各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又は、オキシ金属原子を表す。〕
【０１３７】
式（１）で示されるテトラアザポルフィリン化合物の具体例を次に述べる。式中、Ａ1〜Ａ8の具体例としては、各々独立に、水素原子；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシ基；アミノ基；カルボキシル基；スルホン酸基；メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-へプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、n-ノニル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラメチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、3,5 -ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基、
1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；
クロロメチル基、ジクロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基等の炭素数１〜２０のハロゲノアルキル基；
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、3-メトキシプロピルオキシ基、3-(iso- プロピルオキシ) プロピルオキシ基等の炭素数２〜２０のアルコキシアルコキシ基；
フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メトキシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基；
メチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜２０のモノアルキルアミノ基；
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n- プロピルアミノ基、ジ-n- ブチルアミノ基、N-メチル-N-シクロヘキシルアミノ基等の炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基；
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；
ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基等のヘテロアリール基；
メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、1-メチルブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ基等の炭素数１〜２０のアルキルチオ基；
フェニルチオ基、4-メチルフェニルチオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニルチオ基等の炭素数６〜２０のアリールチオ基などを挙げることができる。
【０１３８】
Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8が連結基を介して環を形成した例としては、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＯ2 ）ＣＨ2−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ2ＣＨ2 −等を挙げることができる。
【０１３９】
Ｍで示される２価金属の例としては、Ｃｕ、Ｚｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｍｎ，Ｓｎ，Ｍｇ，Ｈｇ，Ｃｄ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｂｅ，Ｃａ等が挙げられる。
【０１４０】
１置換の３価金属の例としては、Ａｌ−Ｆ，Ａｌ−Ｃｌ，Ａｌ−Ｂｒ，Ａｌ−Ｉ，Ｇａ−Ｆ，Ｇａ−Ｃｌ，Ｇａ−Ｂｒ，Ｇａ−Ｉ，Ｉｎ−Ｆ，ＩｎＣｌ，Ｉｎ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｉ，Ｔｌ−Ｆ，Ｔｌ−Ｃｌ，Ｔｌ−Ｂｒ，Ｔｌ−Ｉ，Ａｌ−Ｃ6 Ｈ5 ，Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5 ，Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｍｎ（ＯＨ），Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5 ），Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ3）3 ］，Ｆｅ−Ｃｌ，Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられる。
【０１４１】
２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ2 ，ＳｉＦ2 ，ＳｉＣｌ2 ，ＳｉＢｒ2 ，ＳｉＩ2 ，ＳｎＦ2 ，ＳｎＣｌ2 ，ＳｎＢｒ2 ，ＺｒＣｌ2 ，ＧｅＦ2 ，ＧｅＣｌ2 ，ＧｅＢｒ2 ，ＧｅＩ2 ，ＴｉＦ2 ，ＴｉＣｌ2 ，ＴｉＢｒ2 ，Ｓｉ（ＯＨ）2 ，Ｓｎ（ＯＨ）2 ，Ｇｅ（ＯＨ）2 ，Ｚｒ（ＯＨ）2 ，Ｍｎ（ＯＨ）2 ，ＴｉＡ2 ，ＣｒＡ2 ，ＳｉＡ2 ，ＳｎＡ2 ，ＧｅＡ2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＯＡ）2 ，Ｓｎ（ＯＡ）2 、Ｇｅ（ＯＡ）2 、Ｔｉ（ＯＡ）2 ，Ｃｒ（ＯＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＳＡ）2 、Ｓｎ（ＳＡ）2 ，Ｇｅ（ＳＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］等が挙げられる。
【０１４２】
オキシ金属の例としては、ＶＯ，ＭｎＯ，ＴｉＯ等が挙げられる。
好ましくは、Ｐｄ，Ｃｕ，Ｒｕ，Ｐｔ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｚｎ，ＶＯ，ＴｉＯ，Ｓｉ（Ｙ）2 ，Ｇｅ（Ｙ）2 （但し、Ｙはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、トリアルキルシリルオキシ基、トリアルキルスズオキシオ基又はトリアルキルゲルマニウムオキシ基を表す）である。
【０１４３】
さらに好ましくは、Ｃｕ、ＶＯ、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｏである。
本発明者らはさらに、式（１）のアザポルフィリン化合物が、例えば、テトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン錯体やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル−テトラアザポルフィリン錯体であると、製造が比較的容易であること、溶媒への溶解性、錯体が安定であること、吸収特性に優れていること、ｔ−ブチル基やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル基を付与した結果、錯体が立体性を持つことによって溶媒への溶解性が高くなり、色素を含有させやすくなることを見出し、優れた電磁波シールド体を得られることができた。
【０１４４】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいては、前記の色素を含有させる方法（１）〜（４）は、色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、色素を含有する後述の透明粘着層（Ｃ）または第２の透明粘着層、色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）、色素を含有する前述のハードコート層（Ｆ）のいずれか１つ以上の層において実施することが出来る。色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）は、色素を含有し且つ各機能を有する膜でも、色素を含有し且つ各機能を有する膜が高分子フィルム上に形成されたものでも、各機能を有する膜が色素を含有する基材に形成されたもの、のいずれでも良い。
【０１４５】
なお、本発明では、異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を２つ以上有していても良い。
【０１４６】
まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する（１）の方法について説明する。
樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。
【０１４７】
作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通常、(i) ベース高分子の粉体或いはペレットに色素を添加し、１５０〜３５０℃で加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、(ii)押し出し機によりフィルム化する方法、(iii)押し出し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、通常、ベース高分子成形体の重量に対して１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１４８】
（２）のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。
【０１４９】
通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーを用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１５０】
色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、樹脂モノマーの重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１５１】
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜９０％である。
塗料化してコーティングする（３）の方法としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。
【０１５２】
前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１５３】
色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、０．１〜３０％である。
【０１５４】
また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。
後者のアクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。
【０１５５】
上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。
【０１５６】
コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に、電磁波シールド体の他の構成部材を貼合わせても良い。
【０１５７】
色素を含有する粘着材として用いる方法（４）では、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着材または接着剤に、色素を１０ｐｐｍ〜３０％添加して用いる。
【０１５８】
なお、これらの方法では、色素含有の電磁波シールド体の耐光性を上げるために紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１５９】
６．透明粘着層、導電性粘着層
本発明において、貼合わせ（ラミネート）は、任意の透明粘着層を介する。本発明の透明粘着層（Ｃ）などは、任意の透明な接着剤または粘着剤または粘着材からなる層である。具体的にはアクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。この際肝要なことは、ディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着材は可視光線に対して充分透明である必要がある。
【０１６０】
導電性粘着層は、透明導電層（Ｄ）と表示装置のアース部（グランド導体）とを電気的に接続させるための粘着層であって、導電性が必要だが、透明である必要はない。電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、透明粘着層は導電性粘着層による外部との電気的接続を著しく妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層が形成されていない導通部が必要である。例えば、透明粘着層は透明導電層（Ｄ）の周縁部を残すように形成し、導通部を残すことが肝要である。
【０１６１】
導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着材は、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等をベース剤として、導電性粒子としてカーボンやＣｕ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｆｅ等の金属粒子を分散させたものである。分散粒子の導電性が低くて、かつ、粒子径が細かく且つ粒子数が多くて粒子同士の接触面積が広いと、導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗が低くなり好適になる。用いることが出来る導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗は１×１０-4〜１×１０3Ω・ｃｍである。実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。
【０１６２】
粘着材としては感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後にラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６３】
液状のものは塗布、貼合わせ後に室温放置または加熱または紫外線照射により硬化する接着剤である。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。層の厚みは、特に限定されるものではないが、体積固有抵抗と必要な導電性を勘案して０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。また、両面ともに導電性を有する両面接着タイプの市販の導電性テープも好適に使用できる。この厚さもまた特に限定されるものではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。
【０１６４】
粘着材は、実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。粘着材は、感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後に、各部材をラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６５】
液状のものは、塗布、貼合わせ後に、室温放置または加熱により硬化する接着剤である。
【０１６６】
塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。
【０１６７】
層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。透明粘着層を形成される面、貼合わせられる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適である。
【０１６８】
さらに、透明粘着層を介して貼合わせた後は、貼合わせ時に部材間に入り込んだ空気を脱泡、または、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、できれば加圧、加温の条件で養生を行うことが肝要である。このとき、加圧条件としては数気圧〜２０気圧以下程度、加温条件としては各部材の耐熱性に依るが、室温以上８０℃以下程度であるが、これらに特に制限を受けない。透明粘着層の少なくとも１つの層には色素を含有させることができる。
【０１６９】
７．機能性透明層（Ａ）
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイへの設置方法や要求される機能に応じて、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、紫外線カット性のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層（Ａ）が直接または第２の透明粘着層を介して、透明導電層（Ｄ）の上に形成される。１つの機能性透明層（Ａ）が、複数の機能を有していることは好ましいことである。
【０１７０】
本発明における機能性透明層（Ａ）は、上記各機能を一つ以上有する機能膜そのものでも、機能膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により形成した透明な基体でも、各機能を有する透明な基体でも良い。
【０１７１】
機能膜そのものの場合は、機能性透明層（Ａ）を形成する透明導電層（Ｄ）の主面に塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により直接形成する。
【０１７２】
機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材または色素を含有する粘着材を介して透明導電層（Ｄ）の主面に貼付けても良い。これらの作製方法は特に制限を受けない。
【０１７３】
透明な基体は、透明な高分子フィルムであり、その種類、厚さも特に制限を受けないし、透明な基体に色素を含有させることもできる。機能性透明層（Ａ）が機能膜そのものでも、膜中に色素を含有させることができる。
【０１７４】
電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、機能性透明層（Ａ）はこの電気的接続を妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）が形成されていない導通部が必要である。例えば、機能性透明層（Ａ）を透明導電層の周縁部を残すように形成し、この周辺部を導通部とすることができる。
【０１７５】
ディスプレイは、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうので、機能性透明層（Ａ）は、外光反射を抑制するための反射防止（ＡＲ：アンチリフレクション）性、防眩（ＡＧ：アンチグレア）性またはその両特性を備えた反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性のいずれかの機能を有していることが必要である。電磁波シールド体表面の可視光線反射率が低いと、前述した通り、プラズマディスプレイの蛍光体への外光入射及び反射が低減し、映り込み防止だけではなく、コントラスト及び色純度向上につながる。
【０１７６】
反射防止（ＡＲ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、反射防止膜を形成する基体の光学特性を考慮し、光学設計によって反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低いフッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を基体から見て高屈折率層、低屈折率層の順に２層以上積層したものがある。
【０１７７】
単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が２層以上積層したものに比べ劣る。４層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。
【０１７８】
これらの無機化合物薄膜の成膜には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜の成膜には、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等の湿式塗工後に乾燥・硬化させる方法等、従来公知の方法を採用できる。
【０１７９】
反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）の表面の可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１８０】
防眩（ＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層を指している。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化することによっても防眩性を得ることができる。要は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。
【０１８１】
防眩性のヘイズは０．５％以上、２０％以下であり、好ましくは１％以上、１０％以下である。ヘイズが小さすぎると防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる。
【０１８２】
反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、防眩性を有する膜または基体上に前述の反射防止膜を形成することによって得られる。この際、防眩性を有する膜が高屈折率の膜である場合、反射防止膜が単層でも比較的高い反射防止性を付与することができる。
【０１８３】
ＡＲまたはＡＲＡＧによる反射防止はディスプレイ用フィルタの光線透過率を向上させることができる。
【０１８４】
本発明のディスプレイ用フィルタは、透明粘着層（Ｃ）を介してディスプレイ表示部に貼合わせるため、表示部表面の基板ガラス反射が無くなる。従って、さらに加えて、ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）を形成したフィルタは、その表面の反射も低く、ディスプレイのコントラスト及び色純度をさらに向上させることが出来る。ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）の表面における可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１８５】
ディスプレイ用フィルタに耐擦傷性を付加させるために、機能性透明層（Ａ）がハードコート性を有していることも好適である。ハードコート膜としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。ハードコート膜が反射防止性を有する透明機能層（Ａ）の高屈折率層または低屈折率層に用いられたり、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層（Ａ）が反射防止性とハードコート性の両方を有しても良い。同様に防眩性とハードコート性の両方を有しても良い。この場合はハードコート膜が粒子の分散さ等により凹凸を有すれば良いし、その上に反射防止膜が形成されれば反射防止防眩性とハードコート性を両方有する機能性透明層（Ａ）が得られる。ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）の表面硬度は、ＪＩＳ（Ｋ―５４００）に従った鉛筆硬度が少なくともＨ、好ましくは２Ｈ、さらに好ましくは３Ｈ以上である。
【０１８６】
さらに、ディスプレイ用フィルタには、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理が必要とされる場合がある。従って、静電気防止能を付与するために、機能性透明層（Ａ）が導電性を有していても良い。この場合に必要とされる導電性は面抵抗で１０11Ω／□程度以下であれば良いが、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。導電層としてはＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜やＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜が挙げられる。
【０１８７】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層が導電性を有していると好適である。
【０１８８】
また、多層薄膜に銀を用いた場合、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明導電性積層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、水蒸気がさらされないように、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）で被覆することが肝要である。必要とされるガスバリア性は、透湿度で１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下である。ガスバリア性を有する膜の具体例としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１〜１００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これもまた特に制限されるものではない。また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂等が挙げられるが、透湿度が１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下であれば特に限定されるものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィルムの厚みが増えることや適当な添加物を加えることにより、透湿度は低下する。
【０１８９】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、帯電防止性、アンチニュートンリング性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層がガスバリア性を有する膜であったり、全体または隣接する透明粘着層と併用で上記のガスバリア性を有していると、好適である。
【０１９０】
例えば、色素を含有する反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、色素含有のポリエチレンテレフタレートフィルム／ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、等があげられる。
【０１９１】
また、反射防止防眩性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、トリアセチルセルロースフィルム／ＩＴＯ微粒子分散ハードコート膜／含ケイ素化合物化合物、等があげられる。
【０１９２】
さらに、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるよう、機能性透明層（Ａ）表面が防汚性を有していると良い。防汚性を有するものとしては、水及び／または油脂に対して非濡性を有するものであって、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。反射防止性や帯電防止性等の他の機能と併せる際には、それら機能を妨げるものであってはならない。この場合、反射防止膜の構成材料に低屈折率であるフッ素化合物を使用することや、１〜数分子のフッ素系有機分子を最表面にコートすることによって、反射防止性や帯電防止性を維持しつつ防汚性を付与することができる。
【０１９３】
例えば、防汚性、反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／フッ素系有機分子の単分子コート膜、等があげられる。
【０１９４】
さらにまた、電磁波シールド体が含有する色素が、ディスプレイから放射される、または、外光が含む紫外線により劣化することを防ぐために、機能性透明層（Ａ）が、紫外線カット性を有していると良い。例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層または多層からなる反射防止膜、または、紫外線吸収剤を含有する機能性透明膜を形成する基材、ハードコート膜を有している機能性透明層（Ａ）である。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１９５】
また、透明粘着層のうち少なくとも１つの層は紫外線吸収剤を含有していても良い。
紫外線カットする部材は、紫外線が入射する面と色素を含有する層の間に配されることが肝要であり、紫外線カット性は、色素の耐久性によって異なり特に限定されない。
【０１９６】
８．厚さ
「接着・粘着の辞典（朝倉書店）」によると、支持体の厚みと粘着力の関係について、「一般には、支持体の厚みが大きくなると曲げエネルギーが大きくなるので粘着力は大きくなるが、ある点から曲げモーメントなどの影響により粘着力は低下してくる」との記載がある。本発明者らは、透明高分子フィルムの全体厚を０．３ｍｍ以上とすることで、光学フィルターフィルムのガラス面からの剥離を容易に行うことができることを見出した。光学フィルターフィルムの剛性は主に透明高分子フィルムの厚さ合計によって支配されるため、本発明における効果は、上記曲げモーメントの効果によるものと推察される。また、光学フィルターフィルムの剛性が増すことにより、平均した力による連続的な剥離が可能となり、剥離中断点を起点とするガラス板への糊残りが生じることが少なくなる。
【０１９７】
さらには、透明高分子フィルムの厚さ合計を上げることによって耐衝撃性も向上する。透明高分子フィルムの厚さ合計が大きいほど、その耐衝撃性は向上するが、フィルムの積層枚数が多くなると生産効率が低くなる、その剛性が大幅増加することによりディスプレイへの直接貼合わせが困難になる。従って透明高分子フィルムの厚さ合計については特に指定はないが、０．３〜１．０ｍｍが好ましく、さらに好ましくは、０．４ｍｍ〜０．８ｍｍである。また、透明高分子フィルムの積層枚数についても特に指定はないが、２〜６枚が好ましく、さらに好ましくは２枚〜４枚である。
【０１９８】
図１２〜図１７は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０１９９】
図１２において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（１５０μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１８８μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２００】
図１３において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０１】
図１４において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０２】
図１５において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び赤外線遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１５０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０３】
図１６において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、防眩性機能をを示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１５０μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２３の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０４】
図１７において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１８８μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２５と２６の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０５】
図１８は、図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０６】
図１９は、図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。高分子フィルム（Ｂ）２０の反対面には機能性透明層（Ａ）として反射防止膜６１が設けられる。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０７】
図２０は、図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの長辺および短辺を含む周辺部には透明導電層と電気接続された電極５０が形成され、電極５０はディスプレイのグランド端子に接続される。
【０２０８】
９．電極
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮断する。ディスプレイ画面の如く透明性が必要である場合には、透明導電層を形成した窓状の電磁波シールド体を設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下する。従って、電磁波シールド体とディスプレイ本体のアース部が電気的に接続している必要がある。そのため、図３に示したように透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）が形成されている場合は、透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）は、導通部を残すように透明導電層（Ｄ）上に形成されることが好ましい。
【０２０９】
導通部の形状は特に限定しないが、電磁波シールド体とディスプレイ本体の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
【０２１０】
本発明における電極とは、電磁波シールド体における外部との電気的導通部をいう。これは、透明導電層の剥き出し部でもよいし、剥き出し部の上部に、その保護と良好な電気的接触を目的として、導電性の金属ペーストを印刷したり、導電性テープ、導電性粘着材などの導電性材料を貼合わせてもよい。また、機能性透明層上に透明導電層と電気接続がとれる形で形成してもよい。以上のように、電極の形状や材料は特に限定しないが、透明導電層の剥き出し部を導電性材料で覆うように電極を形成することが好適である。
【０２１１】
但し、本発明における電極は、透明導電層を含む本発明のフィルムの断面部に導電性材料を接触させて得てもよい。断面部とは、透明導電層を含むフィルムの断面部は、少なくとも透明導電性層とそれを保護するためのフィルムが層状をなしていることが観察できるが、適当な導電性材料が透明導電層と断面部において接触していれば所望の電極を得ることができる。
【０２１２】
この場合に透明導電層上に形成される透明粘着層の端部が透明導電層の端部よりも内側に入り込んでいると、導電ペースト等を用いて電極を形成する場合にその隙間部分に導電ペーストが入り込み、透明導電層と電極との接触面積が増加するので好ましい。
【０２１３】
図２１〜図２５は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０２１４】
図２１において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１５】
図２２において、外気側からディスプレイ側に向かって、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の周辺に電極５０が形成される。透明導電層（Ｄ）１０の裏面で、電極５０を除いた中央部には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２１６】
図２３において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、積層体の側端面に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１７】
図２４において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明粘着層３０と透明導電層（Ｄ）１０との間に銅テープ等の導電テープ５１がフィルタ周辺部に介在して、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１８】
図２５において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、フィルタの厚さ方向に貫通するスルーホール電極５２が形成され、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１９】
図２６は、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの２つの長辺には透明導電層と電気接続された電極５０、導電テープ５１又はスルーホール電極５２が形成され、これらの電極はディスプレイのグランド端子に接続される。なお、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの電極は、もちろん図２０の平面図に示したように、フィルタの全周に配置されていてもよい。
【０２２０】
図２４に示したように透明導電層とその上に貼合わせる透明粘着層との間に銅テープのような導電テープを挟み込み、その導電テープの一部分を電磁波シールド体外部に引き出すことによって電極を形成しても良い。この場合、外部に引き出された導電性テープが実質的に電極となる。
【０２２１】
図２５に示したように透明導電層から電磁波シールド体最表面に通じるような隙間を設け、電極を形成しても良い。表面から見える隙間の形状には特に指定はなく、円形でもよいし、角型でも良い。また線状に形成されていても構わない。表面から見える個々の隙間の大きさにも特に指定はない。ただし、あまり大きすぎると視認部分にかかってしまうので好ましくない。隙間の形成位置は、視認部分を避ける位置であれば特に指定はない。必然的に端部から近い位置となる。形成する隙間の数にも特に制限はないが、全周に渡ってできるだけ多く形成されている方が電流の取り出し効率が上昇するので好ましい。隙間は透明導電層と電磁波シールド体最表面の間に設けられていれば良いが、形成する電極との接触面積を増やす観点から、透明導電層を貫通していることが好ましい。
【０２２２】
隙間を埋める部材に関しても特に指定はない。金属部材で埋めても良いし、導電性ペーストで埋めても良い。この場合、隙間を埋めた部材が実質的に電極となる。
【０２２３】
導通部は透明導電層（Ｄ）の周縁部に、且つ連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。
【０２２４】
但し、全周に導通部が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。
【０２２５】
例えば、長方形の向い合う辺のみに導電材料を付与し電極を形成する設計にすれば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルターを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。
【０２２６】
長方形の向い合う２辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う２辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。
【０２２７】
導通部を覆う電極は、耐環境性及び耐擦傷性に劣る透明導電層（Ｄ）の保護にもなる。電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。
【０２２８】
用いる導電性材料は電気を通導することのできるものであれば特に指定はない。通常は、銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物が用いられる。
【０２２９】
電極の形成方法としては、ペースト状の物であれば断面部に塗布し乾燥させたりして行う。ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料も用いることができる。
【０２３０】
また、透明支持基体に透明導電性薄膜層が形成された透明高分子フィルムを貼合わせた後に、断面部に塗布することもできる。
【０２３１】
塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。
【０２３２】
また隙間を金属部材で埋めて電極を形成する場合は、電磁波シールド体自体には予め加工を施さなくても構わない。ねじ穴を形成した金属性のアースを予め表示装置の外周部分に準備しておき、金属性のアース部分を含めて、表示装置の表示部分に電磁波シールド体を貼付けた後に電磁波シールド体を貫通するようにして金属性アースのねじ穴に導電性のねじを埋め込めば良い。この場合導電性のねじが実質的に電極の役割を果たす。この手法を用いると電磁波シールド体をロールツーロール方式で生産性高く作製できるうえ、電磁波シールド体の全周部分に渡って電極を形成することも容易である。
【０２３３】
１０．電磁波シールド
電磁波シールド体と表示装置との間からの電磁波の漏れを最小限にするためには、電磁波シールド体の導電層と表示装置との間の絶縁空間をできるだけ減らすことが必要である。空気やその他絶縁物が隙間に介在しているとそこから電磁波が外部に漏れ出してしまい好ましくない。
【０２３４】
従来のように支持基体に透明導電性フィルムを貼合わせて電磁波シールド体を作製する場合は、透明導電層と表示装置との間に主に絶縁物である支持基体が存在することになり、透明導電層と表示装置との間を全周に渡って導電性を保つように接触させなければ、十分な電磁波遮断効果を得ることができなかった。このため、電磁波シールド体の製造工程においては、枚葉により透明支持基体に貼付けるという工程および枚葉で全外週部分に電極を形成するという作業が必要であった。
【０２３５】
本発明において、フィルム状態の電磁波シールド体を表示装置に直接貼付ける場合は、導電層と表示装置との距離が非常に近いため、絶縁空間を従来の手法に比較して大幅に狭くすることができるため、電極を全周部分に渡って形成せずとも十分な電磁波遮断効果を得ることできるので好ましい。このことは電磁波シールド体の透明導電層が表示装置側に形成されている場合に顕著である。すなわち長方形の２つの長辺のみに電極を形成することによって十分な電磁波遮断効果を得ることができる。その場合、製造手法として非常に生産性の高い手法であるロールツーロール法を用いることができるので非常に好適である。
【０２３６】
１１．表示装置及びその製造方法
本発明の表示装置は、装置の表示部に接着された、電磁波シールド体及び／又は調光フィルムとして機能するディスプレイ用フィルタを具備する。電磁波シールド体は、表示装置とを電気的に接触する。
【０２３７】
本発明に係る表示装置の製造方法は、主として以下の（１）〜（１０）の方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２３８】
方法（１）：機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）、または、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明粘着層（Ｃ）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）である本発明の電磁波シールド体を表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にして、貼合わせる。
【０２３９】
貼合わせ後、本発明の電磁波シールド体の導通部または導通部上に形成された電極と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４０】
方法（２）：表示装置の表示部に、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）の順に構成される積層体を、透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または透明粘着層（Ｃ）を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４１】
方法（３）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される積層体を、高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４２】
方法（４）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される透明積層体を高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または第２の透明粘着層を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４３】
方法（５）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなる電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせ面にして貼合わせる。
【０２４４】
方法（６）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成される積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４５】
方法（７）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなり、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性テープの外部露出部分を貼合わせる。
【０２４６】
方法（８）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成され、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４７】
本発明の電磁波シールド体は、透過特性、透過率、可視光線反射率が優れているため、プラズマディスプレイに形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができる。さらにまた、プラズマディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮断する電磁波シールド能に優れ、さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１１００ｎｍ付近の近赤外線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。本発明の電磁波シールド体を具備せしめることにより、優れた特性を有するプラズマディスプレイを提供できる。
【０２４８】
本発明の電磁波シールド体は、光学特性、電磁波シールド能、近赤外線カット能に優れているので、プラズマディスプレイ以外の電磁波及び／又は近赤外線を発生するＦＥＤ
（Field Emission Display)、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube)等の各種ディスプレイに好適に使用できる。
【０２４９】
調光フィルムを具備した表示装置の製造方法に関しては、主として以下の２つの方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２５０】
方法（９）：少なくとも機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明粘着層（Ｃ）である本発明の調光フィルムを表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として貼合わせる。
【０２５１】
方法（１０）：表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）の順に構成される積層体の高分子フィルム（Ｂ）面を貼合わせ面として、表示装置と貼合わせる。
【０２５２】
本発明の調光フィルムは、透過特性、透過率、反射特性が優れているため、カラープラズマディスプレイ等のディスプレイの表示部に直接形成することにより、ディスプレイの輝度を著しく損なうことなく、その色純度及びコントラストを向上させることができる。また、耐擦傷性、防汚性、静電気防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。
【０２５３】
また、本発明の調光フィルムを直接ディスプレイ表面に形成し具備せしめることにより、優れた特性を有する表示装置を提供できる。
【実施例】
【０２５４】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
【０２５５】
実施例中の透明導電層（Ｄ）を構成する薄膜は、基材の一方の主面にマグネトロンＤＣスパッタリング法により成膜した。薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
【０２５６】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）はＩＴＯ薄膜で形成され、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０ｗｔ％）又は酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧５ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５７】
金属薄膜層（Ｄｍ）は銀薄膜又は銀−パラジウム合金薄膜で形成され、ターゲットに銀又は銀−パラジウム合金（パラジウム１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５８】
尚、透明導電層の面抵抗は、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により測定した。また、表面の可視光線反射率（Ｒvis ）は、まず測定対象物の小辺を切り出し、透明粘着層を取り除いて高分子フィルム（Ｂ）側表面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球（光線入射角度６゜）を用いた（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からＪＩＳＲ３１０６に従って計算した。
【０２５９】
（実施例１）
２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層（Ｄ）を有する透明積層体１を作製した。
【０２６０】
ＰＥＴフィルム／透明導電層の断面を、本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図として、（図１）に示した。図１において、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号１１は高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、符号１２は金属薄膜層（Ｄｍ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）である。
【０２６１】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより透明積層体１の高分子フィルム（Ｂ）側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、離型フィルムと透明積層体の高分子フィルム（Ｂ）に挟み込まれた透明粘着層（Ｃ）（粘着材１）を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２６２】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株) 製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中に１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍで含有されるようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。なお、ＰＤ−３１９は下記式（３）（化４）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２６３】
【化４】
【０２６４】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、ガスバリア性（ＡＳＴＭ−Ｅ９６準拠、１．８ｇ／ｍ2・ｄａｙ）、反射防止性（表面のＲvis：１．０％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）として反射防止フィルム１を得た。反射防止フィルム１の他方の主面に、粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（粘着材２）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２６５】
ロール状の透明積層体１／粘着材１／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートした。透明導電層（Ｄ）面から見た平面図を、本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図として、（図２）に示した。図２において、符号０２は電磁波シールド体の透光部、符号０３は電磁波シールド体の導通部である。
【０２６６】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２６７】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の電極部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図３）に示した。図３において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４０は透明粘着層（Ｅ）、符号５０は電極、符号６０は反射防止性、ハードコート性、ガスバリア性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜、符号６３はハードコート膜６２及び反射防止膜６１が形成される透明な基材、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２６８】
（実施例２）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した色素入りＰＥＴフィルム〔高分子フィルム（Ｂ）〕を作製した。
【０２６９】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面にアルコキシシランを氷酢酸で加水分解したものにシリコーン系表面平滑剤を加えたコート液を、グラビアコーターにて塗工・１２０℃の熱硬化によってハードコート膜（膜厚：１０μｍ、鉛筆硬度：３Ｈ）を形成し、ハードコート層（Ｆ）を形成した色素含有のＰＥＴフィルムを得た。該ハードコート層上に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／ハードコート層（Ｆ）／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２を作製した。
【０２７０】
透明積層体２のＰＥＴフィルム面に粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（Ｃ）（粘着材３）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２７１】
ロール状の透明積層体２／粘着材３／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２７２】
多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製した。
【０２７３】
透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して内側だけにフレキソ印刷した後、紫外線硬化し、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２７４】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の導通部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２７５】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図４）に示した。図４において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号２２はハードコート層（Ｆ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２７６】
（実施例３）
実施例１と同様に高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）積層体を作製した。
【０２７７】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）を形成した。上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｂ）面を上にして固定した。酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、バッチ式ダイコーターにより透明導電層（Ｄ）上に、周縁部２２ｍｍを除いて、乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２７８】
有機色素はプラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学( 株) 製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学( 株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化５）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２７９】
【化５】
【０２８０】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、二液性常温硬化型接着剤（（株）スリーボンド製３３８１）をメタルマスクを用いて印刷し、乾燥させ厚さ２５μｍの導電性粘着層を形成した。
【０２８１】
支持体からはずして、透明粘着層（Ｃ）及び導電性粘着層面に離型フィルムをラミネートして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２８２】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２８３】
該電磁波シールド体の透明粘着層側から見た平面を、本発明の電磁波シールド体との一例を示す平面図として、（図５）に示した。図５において、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層である。
【０２８４】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図６）に示した。図６において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１導電性粘着層、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜である。
【０２８５】
（実施例４）
実施例３と同様に高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０２８６】
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
【０２８７】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２をロールツーロールで作製した。
【０２８８】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。
【０２８９】
上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２９０】
実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を離型フィルム上に２５μｍ厚さに形成した。粘着材２／離型フィルムを、透明導電層上且つ周縁部２０ｍｍ残した内側に、粘着材２面を貼合わせ面として額縁貼りラミネーターを用いてラミネートした。さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２０ｍｍの範囲に、導電性両面粘着テープ（寺岡製作所製ＷＭＦＴ７９１）を、片面の離型フィルムを剥離して貼った。
【０２９１】
支持体からはずして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように、位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２９２】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図７）に示した。図７において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素含有の高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））である。
【０２９３】
（比較例１）
ＰＥＴフィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として、その一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４００ｎｍ）からなる面抵抗１５Ω／□の透明導電層を形成し、透明積層体３を作製した。透明積層体３を用いて、色素を使用しないほかは、実施例１と同様に、電磁波シールド体を作製し、それを具備した表示装置を得た。
【０２９４】
以上のようにして得られた実施例１〜４の本発明の電磁波シールド体を有する表示装置であるプラズマディスプレイについて、以下の評価を行った。
【０２９５】
１）電磁波シールド体の透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、電磁波シールド体を形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０２９６】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０２９７】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルターを装着しない場合と、実施例１のディスプレイ用フィルターを装着した場合について測定した。
【０２９８】
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
【０２９９】
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めたＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘ−ｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面積に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０３００】
４）電磁波シールド能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１〜４及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
【０３０１】
ダイポールアンテナを表示部中心位置から面の垂線方向１０ｍの位置に設置し、アドバンテスト性スペクトラル・アナライザ（ＴＰ４１７２）で３０〜２３０ＭＨｚ帯域における放射電界強度を測定した。ＶＣＣＩの３ｍ法においては、この領域での許容値は、
Class Ａで５０ｄＢμＶ／ｍ以下、 ClassＢで４０ｄＢμＶ／ｍ以下である。評価は３３ＭＨｚ、９０ＭＨｚで行った。
【０３０２】
５）電磁波シールド体の近赤外線透過率
実施例１〜４及び比較例１の電磁波シールド体を評価した。
【０３０３】
電磁波シールド体の透光部を小片に切り出し、（株）日立製作所分光光度計（Ｕ−３４００）により、８００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測定し、８２０ｎｍ、８５０ｎｍ、９５０ｎｍにおける透過率を評価した。
【０３０４】
６）近赤外線カット能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１、２及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
【０３０５】
赤外線リモートコントローラーを使用する電子機器として家庭用ＶＴＲを０．２〜５ｍディスプレイから離して、その誤動作を確認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。実用的には、少なくとも３ｍ以下、好適には１．５ｍ以下である。
【０３０６】
実施例１の本発明の電磁波シールド体は、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する、５９５ｎｍの透過率の百分率は３８％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている電磁波シールド体を用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、電磁波シールド体の透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、電磁波シールド体を形成される前が２０であったのに対して４５に向上した。また、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。
【０３０７】
実施例２の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０８】
実施例３の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０９】
実施例４の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５９％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３１０】
（図８）に電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。（図８）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例１の電磁波シールド体を形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３１１】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。
本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例１の電磁波シールド体を形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ１００００Ｋに上昇した。
【０３１２】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例１の電磁波シールド体を用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例１の電磁波シールド体を形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８５％に改善できた。
また、上記の評価４）〜６）の結果を表１にまとめて示した。
【０３１３】
【表１】
【０３１４】
表１より、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格の ClassＢまたは ClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低い程電磁波シールド能に優れていた。
【０３１５】
また、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れていることが判る。金属薄膜と項屈折率透明薄膜を高後に積層した透明導電層を用いた本発明の電磁波シールド体は、近赤外線の透過率が低くて、近赤外線カット能に優れ、その透明導電層の面抵抗が低い程近赤外線カット能に優れていた。さらにまた、本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ｄ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／または耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３１６】
（実施例５）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として用い、その一方の主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明膜１を形成した。
【０３１７】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、機能性透明膜１／ＴＡＣフィルムのＴＡＣフィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３１８】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１６５０（ｗｔ）ｐｐｍ、４５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するように、アクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化６）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０３１９】
【化６】
【０３２０】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３２１】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図９）に示した。図９において、符号００はディスプレイ表示部、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素含有の透明粘着層（Ｃ）、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は静電気防止性を有するハードコート膜である。
【０３２２】
（実施例６）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）ペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に、前記の式（３）で表わされる三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９を０．０１８ｗｔ％、波長５８５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１１を０．０１８ｗｔ％、白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．００４ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２５０μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１２５μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
【０３２３】
ＰＤ−３１１は式（４）（化７）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・銅錯体である。
【０３２４】
【化７】
【０３２５】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルムの一方の主面上に機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有するアンチグレア層である機能性透明膜２を形成した。実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を機能性透明膜２／色素入りＰＥＴフィルムのＰＥＴフィルム面上に形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３２６】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３２７】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図１０）に示した。図１０において、符号００はディスプレイ表示部、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）である。
【０３２８】
以上のようにして得られた実施例５及び６の本発明の調光フィルムを有する表示装置であるプラズマディスプレイは、調光フィルム形成前のプラズマディスプレイとともに、以下のように評価した。
【０３２９】
１）調光フィルムの透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、調光フィルムを形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０３３０】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
調光フィルムを形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０３３１】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
調光フィルムを形成する前後で評価した。
【０３３２】
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
【０３３３】
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面積に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０３３４】
実施例５の本発明の調光フィルムはプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で６９％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は２１％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている調光フィルムを用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して４１に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。
【０３３５】
同じく、実施例６の本発明の調光フィルムは、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で７０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素と同じ波長５８５ｎｍに吸収極大を有する色素より、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は３０％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して３７に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ及び５８５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。特により短波長を吸収する５８５ｎｍ吸収色素により、その効果が大きかった。
【０３３６】
（図１１）に本発明の調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。
【０３３７】
（図１１）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例５の調光フィルムを形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３３８】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。
本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例５または実施例６の調光フィルムを形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ９５００Ｋに上昇し、黒体軌跡からのずれを示す白色偏差もほぼ０であった。
【０３３９】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例５または実施例６の調光フィルムを用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例５の調光フィルムを形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８６％に改善できた。また、実施例６の調光フィルムを形成した場合は８８％に改善できた。
【０３４０】
さらにまた、本発明の調光フィルムは、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３４１】
（実施例７）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．１５ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３４２】
上記のように作製した近赤外遮蔽フィルム（Ｂ）の上に、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することによって、透明高分子フィルムの厚さ合計が０．３３８ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。
【０３４３】
このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４４】
（実施例８）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．３ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ７５μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３４５】
また、近赤外吸収色素を加えずに、同様の手法を用いて、厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムを作製した。
【０３４６】
近赤外遮蔽フィルムに、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック２２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断後、フィルム厚み２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に貼合わせた。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５５ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４７】
（実施例９）
実施例７に示した厚さ１５０μｍの近赤外線遮蔽フィルムの主面上に機能性透明層（Ａ）として、次の機能性透明膜をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する防眩性機能をもった機能性透明層を形成した。
【０３４８】
この近赤外遮蔽機能と防眩性機能を有する透明高分子フィルムに実施例８で示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムをラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することにより透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４９】
（実施例１０）
押出２軸延伸によって厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層を形成し、面抵抗５．３Ω／□の透明導電性薄膜層（Ｄ）を持った電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルムを作製した。
【０３５０】
上記の電磁波遮蔽フィルムに対し、以下の方法で粘着材層を形成した。
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。有機色素は、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。
【０３５１】
アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより電磁波遮蔽フィルム側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、透明粘着層を形成した。
【０３５２】
このフィルムを実施例８に示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に透明導電性薄膜層を上にしてラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した。
【０３５３】
さらにベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）を長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、透明導電性薄膜層の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように反射防止フィルムを内貼りした。さらに、透明導電性薄膜層の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４６３ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３５４】
（実施例１１）
押出２軸延伸によって厚さ２００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層を有する電磁波遮蔽フィルムを作製した。
【０３５５】
さらに、この電磁波遮蔽フィルムの透明導電性薄膜層が形成されていない他方の主面に、次の機能性透明層をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層を形成した。
【０３５６】
さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、透明導電層面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘着材層を形成した。
【０３５７】
上記機能性透明層付電磁波遮蔽フィルムを長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に、周縁部各２０ｍｍを残して内貼りした。
【０３５８】
さらに、透明導電層の厚さ断面導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３５９】
（比較例２）
実施例９に示した厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、０．２３０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３６０】
（比較例３）
実施例１０に示した厚さ７５μｍの電磁波遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、２６３μｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３６１】
上記のように、各光学フィルターフィルムをガラス板に貼合わせたサンプルについて、耐衝撃性の向上と剥離性、ガラス板への接着剤残り状態を調べた。
【０３６２】
耐衝撃試験は、ガラス板に貼合わせたフィルムサンプルを上面にして高さ１．５ｍから重さ５００ｇの鋼球を落下させ、基板ガラスの損傷状態を調べた。試験は各５枚実施した。
【０３６３】
剥離性とガラスへの糊残り試験については、光学フィルムをガラス板に貼合わせ後１時間経過ののち、フィルムをガラス板から剥離し、その状態を調べた。
以上の結果を表２に掲げた。
【０３６４】
【表２】
【０３６５】
表２から分かるように、全ての実施例において耐衝撃性、剥離性、ガラス板への糊残り状態が向上していることが判る。
【０３６６】
以上のように、本発明によれば、光学フィルターフィルムを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、ディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、ディスプレイ前面に直接貼合わせる光学フィルターフィルムを提供することができる。
【０３６７】
（実施例１４）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３６８】
次に防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを防眩性層と反対側に透明粘着材［厚さ１００μｍ］が貼付けられている状態で用意した。
【０３６９】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。続いてロール両端部の各５ｍｍ幅の透明導電性薄膜層部分にロールコート方式で銀ペーストを塗布した。ロールを送る速さは０．５ｍ／ｓとした。
【０３７０】
上記で得られたフィルムを９５８ｍｍの長さに切断し電磁波シールド体を作製した。図２１に断面図を示した。図２１において、符号２３は電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号２４は機能透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）である。
【０３７１】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ透明粘着層を介して、電磁波シールド体を取り付けた。
【０３７２】
視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。
【０３７３】
プラズマディスプレイパネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。図２２に断面図を示した。
【０３７４】
（実施例１５）
防眩性フィルム［巾５５４ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１４と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材［、巾５４８ｍｍ、厚さ１００μｍ］及び導電性粘着材［巾３ｍｍ、厚さ１００μｍ］を貼合わせた。導電性粘着材は、ロール両端部の位置に貼合わせ、それ以外の部分には、透明粘着材を貼合わせた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３７５】
プラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取りつけた。プラズマディスプレイパネルの２長辺には、予め端部に沿って６ｍｍ幅を銅箔テープを貼付けておいた。導電性粘着材と銅箔テープを合わせた部分が実質的電極になる。視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。その他は、実施例１４と同様に実施した。
【０３７６】
（実施例１６）
実施例１４と同様に透明導電性薄膜フィルムを用意した。
【０３７７】
次に、防眩性フィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを用意し、透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３７８】
ロール端面に銀ペーストを塗布した。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
【０３７９】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取り付けた。電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板状の金属部材を接しさせた。
【０３８０】
プラズマディスプレイバネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。
【０３８１】
（比較例４）
実施例１４と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０３８２】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３８３】
さらに得られたフィルムを切断しながらガラス基板［大きさ５６０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］に弱粘着材を介して貼合わせた。
【０３８４】
続いて、防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０３８５】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。乾燥後、ガラス基板より剥がした。上記により、電磁波シールド体を作製した。その他、実施例１４と同様に実施した。
以上の結果を表３に掲げた。
【０３８６】
【表３】
【０３８７】
表３から分かるように、全ての実施例において、電磁波遮断効果に関しては、比較例４に示した従来の場合と同様に問題がない。さらに電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産するための効率が大幅に向上していることが分かる。
【０３８８】
（実施例１７）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３８９】
次に防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意した。
【０３９０】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３９１】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３９２】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。
【０３９３】
上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
【０３９４】
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。なお、透明導電性フィルムと防眩性フィルムとの光学フィルター１枚当りの貼合わせ時間は、全ロールツーロールでの全貼合わせ時間をそのロールから切り出すことができるフィルムの枚数で割ることによって求めた。
【０３９５】
（実施例１８）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３９６】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３９７】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３９８】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０３９９】
（実施例１９）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成し、防眩性透明導電性フィルムの長さ５００ｍロールを作製した。
【０４００】
銅テープ［巾１５ｍｍ、厚さ７５μｍ、長さ５００ｍ、片面に導電性粘着材付き］のロールを２本用意した。
【０４０１】
防眩性透明導電フィルムの両端部に銅テープを貼合わせた。防眩性透明導電性に形成されている透明導電層に銅テープの導電性粘着材が接するように貼合わせを行った。また、各銅テープと防眩性透明導電性フィルムとの重なり幅は１０ｍｍとなるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。
【０４０２】
透明粘着材［巾５７５ｍｍ、厚さ２５μｍ、長さ５００ｍ］のロールを用意した。銅テープが側面に貼合わせられている防眩性透明導電性フィルムにこの透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断した。透明導電層及び銅テープの未粘着加工面に粘着材を貼合わせるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２４に示した。
【０４０３】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０４０４】
（実施例２０）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断し電磁波シールド体を作製した。
【０４０５】
ガラス基板［大きさ５４５ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を用意し、その２長辺に銅板［大きさ１０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を設置した。その銅板には、ねじ留め用の穴をあけた。ねじ留め用の穴は３０ｍｍ間隔で長手方向の端より端まで形成した。このガラス板と銅板を併せた支持基体に電磁波シールド体を貼合わせた。銅板に形成されているねじ留め用の穴にねじを装着した。ねじの装着は、電磁波シールド体の最表面から電磁波シールド体を貫通させて行った。この時、このねじが実質上のスルーホール電極となる。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２５に示した。
【０４０６】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０４０７】
（比較例５）
実施例１８と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０４０８】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０４０９】
さらに得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０４１０】
続いて、防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０４１１】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０４１２】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
以上の結果を表４に掲げた。
【０４１３】
【表４】
【０４１４】
表４から分かるように、全ての実施例において、電極間の電気抵抗値は、比較例に示した、従来の電極形状のものに比較してほとんど低下していない。また、全ての実施例において、電磁波シールド体１枚当りのフィルム貼合わせ時間が大幅に短縮され、電磁波シールド体の生産効率が大幅に上昇していることが分かる。
【０４１５】
（実施例２１）
以下の点を除いて実施例１と同様に実施した。
【０４１６】
透明積層体１を以下のとおり作製した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４１７】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面に、架橋材を含むポリエステル系の接着剤を厚さ１０μｍに塗布した。次に厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー１２％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両主面には前もってモリブデンを厚み５０μｍとなるようにスパッタリング法により形成しておいた。次に熱硬化型のインキを用いて、スクリーン印刷にて金属層上に格子幅２０μｍ、目の大きさ１５０μｍ×１５０μｍの格子模様を印刷した。９０℃×５分の加熱によりインキを硬化させた後、塩化第２鉄水溶液によりインキにより保護されていない部分の金属層を除去し、次に、溶剤でインキを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率７５％の積層体を得ることができた。可視光線の平均透過率を測定したところ、６７％であった。シート抵抗を測定したところ、０．１１Ω／□であった。
【０４１８】
（実施例２２）
以下の点を除いて実施例３と同様に実施した。
【０４１９】
高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を以下の手法で用意した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４２０】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の上に、アクリル系の接着剤で、厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー８％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両面にも前もってクロメート処理を行っておいた。次にアルカリ現像型のフォトレジストを銅層の上にコーティングし、プリベーク後にフォトマスクを用いて露光、現像して格子幅２５μｍ、目の大きさ１２５μｍ×１２５μｍの格子パターンを設けた後、塩化第２鉄水溶液によりレジストにより保護されていない部分の金属層をエッチングし、次にアルカリ溶液中でレジストを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率６９％の積層体を得ることができた。可視光線透過率を測定したところ６５％、シート抵抗は０．０７Ω／□であった。
【０４２１】
表５により、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格のClassＢまたはClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低いほど電磁波シールド能が優れていた。
【０４２２】
また本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れることが判る。
【０４２３】
金属メッシュ層を用いた本発明の電磁波シールド体は、可視光透過性に優れ、電磁波シールド性、近赤外線シールド性に優れる。
【０４２４】
さらに本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／又は耐擦傷性及び／又は防汚性及び／又は静電気防止性に優れている。
【０４２５】
【表５】
【０４２６】
本発明は、次の実施の形態が可能である。
（１）ディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
ディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２７】
（２）機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２８】
（３）透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２９】
（４）透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３０】
（５）複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３１】
（６）複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３２】
（７）機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３３】
（８）機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３４】
（９）高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３５】
（１０）機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）、透明粘着層（Ｃ）、透明導電層（Ｄ）、粘着層（Ｅ）およびハードコート層（Ｆ）のうち少なくとも１つの層に、１種以上の色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３６】
（１１）波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３７】
（１２）前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３８】
（１３）テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３９】
【化８】
【０４４０】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【０４４１】
（１４）波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４２】
（１５）機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４３】
（１６）３０〜８５％の可視光線透過率を有することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４４】
（１７）波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４５】
（１８）フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４６】
（１９）色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４７】
（２０）透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４８】
（２１）フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４９】
（２２）一部露出した導通部に電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５０】
（２３）フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５１】
（２４）フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５２】
（２５）フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５３】
（２６）透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５４】
（２７）画像を表示するためのディスプレイと、
ディスプレイ画面に設けられ、上記のディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置。
【０４５５】
（２８）表示装置のディスプレイ画面に、上記のディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５６】
（２９）表示装置のディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５７】
（３０）表示装置のディスプレイ画面に、粘着層を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを前記粘着層を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５８】
（３１）表示装置のディスプレイ画面に、粘着層を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを前記粘着層を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５９】
以上詳説したように、透過特性、透過率、反射特性が優れた調光フィルムとして機能するディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。これをプラズマディスプレイ等の表示装置の画面に直接形成することにより、ディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができ、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４６０】
また、過特性、透過率、可視光線反射率に優れ、プラズマディスプレイ等の表示装置から発生する電磁波を遮断する電磁波シールド体として機能するディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。さらに、ディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備え、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４６１】
また、ディスプレイ用フィルタを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、ディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、ディスプレイ前面に直接貼合わせる電磁波シールド体または調光フィルムを提供することができる。
【０４６２】
また、電磁波シールド体の電極形状を工夫することによって、充分な電磁波遮断効果をもち、しかも電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【０４６３】
【図１】本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図３】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例１）を示す断面図である。
【図４】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例２）を示す断面図である。
【図５】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図６】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例３）を示す断面図である。
【図７】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例４）を示す断面図である。
【図８】電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図９】本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例５）を示す断面図である。
【図１０】本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例６）を示す断面図である。
【図１１】調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図１２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１６】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１７】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１８】図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。
【図１９】図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。
【図２０】図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【０４６４】
【図２１】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２６】図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図２７】金属パターンの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０４６５】
００ ディスプレイ表示部
０１ ディスプレイのアース部
０２ 電磁波シールド体の透光部
０３ 電磁波シールド体の導通部
１０ 透明導電層（Ｄ）
１１ 高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）
１２ 金属薄膜層（Ｄｍ）
２０ 高分子フィルム（Ｂ）
２１ 色素含有の高分子フィルム（Ｂ）
２２ ハードコート層（Ｆ）
２３，２４，２６ 透明高分子フィルム（Ｂ）
２５ 嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）
３０ 透明粘着層（Ｃ）
３１ 色素含有の透明粘着層（Ｃ）
４０ 透明粘着層（Ｅ）
４１ 導電性粘着層
５０ 電極
５１ 導電テープ
５２ スルーホール電極
６０ 機能性透明層（Ａ）
６１ 反射防止膜
６２ ハードコート膜
６３ 透明な基材
７０ アンチグレア層（機能性透明層（Ａ））
７１ 防眩性フィルム
８０ 導電性銅箔粘着テープ
１１０ パターン化された導箔
１２０ 光透過部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえばプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等のディスプレイの画面上に設置され、ディスプレイ画面から発生する電磁波のうち可視光以外の電磁波を遮蔽可能なフィルタ特性、及び／又は可視光スペクトルを補正可能なフィルタ特性を有するディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
社会の高度情報化に伴って、光エレクトロニクス関連の部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでも、ディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、その薄型化、大型化が要望されている。大型の薄型ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている。プラズマディスプレイは、その構造や動作原理上、表示画面から強度の漏洩電磁界、近赤外線を発生する。
【０００３】
近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されるようになっており、例えば、漏洩電磁波を、日本のＶＣＣＩ（Voluntary Control
Council for Interference by data processing equipment electronic office machine）による基準値内に抑えることが必要となる。
【０００４】
また、ディスプレイ画面からの近赤外線は、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす可能性がある。リモコンや伝送系光通信では波長８２０ｎｍ，８８０ｎｍ，９８０ｎｍ等の近赤外線が使用されているため、近赤外領域である８００〜１１００ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまで抑圧する必要がある。
【０００５】
近赤外線のカットに関して、従来、近赤外線吸収色素を用いて作製された近赤外吸収フィルターを用いることが知られている。しかしながら、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化を受けやすく、色素を用いた近赤外吸収フィルタは経時とともに近赤外線カット能の低下、フィルタの透過色の変化、等の光学特性の変化を生じる傾向がある。
【０００６】
特にプラズマディスプレイでは、広い波長領域に渡って強度の近赤外線が発生するため、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルタを使用する必要がある。従来の近赤外線吸収フィルタでは可視光線透過率が低いものしか実現していない。
【０００７】
一方、漏洩電磁波のカットに関して、ディスプレイ画面の表面を導電性の高い導電物で覆う必要がある。この方法として透明導電層が用いられるが、この透明導電層は、導電性メッシュと透明導電性薄膜の２つに大別される。導電性メッシュには、アースした金属メッシュ、合成繊維または金属繊維のメッシュに金属被覆したもの、または、金属膜を形成後に格子パターン状にエッチング処理したエッチング膜等が用いられるが、これらの導電性メッシュは、導電性が高く電磁波シールド性能に優れるが、光の干渉による縞の発生、歩留りの悪さによるコスト高などで難がある。
【０００８】
導電性メッシュの代わりに、金属薄膜や酸化物半導体薄膜等から成る透明導電性薄膜を電磁波シールド層として用いる方法がある。金属薄膜は、良好な導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いものは得られない。酸化物半導体薄膜は、金属薄膜に比べ透明性に優れるものの、導電性に劣り、しかも、近赤外線の反射能は乏しい。上記したように、漏洩電磁界のカットを目的とした透明導電層には、そのシールド性能を重視する場合には導電性メッシュが、コスト性を重視する場合には、透明導電性薄膜をそれぞれ用いる場合が多い。
【０００９】
また、ディスプレイの色純度を改善する試みとして色素を用いる方法が、例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３等に記載されている。特許文献１は、プラズマ表示パネル（プラズマディスプレイパネル）への適用について言及している。
【００１０】
しかしながら、これらの先行技術には、プラズマディスプレイパネルに用いる際に必須となる電磁波シールドとしての透明導電層と、色素との組み合わせについては何ら言及がなく、用いる色素についての具体的な言及もない。
【００１１】
プラズマディスプレイ用フィルタは、ディスプレイと別体に形成し、ディスプレイの前面板として、近赤外線、電磁波遮蔽、表示画面の保護を目的に設置することが考えられる。しかしながら、前面板方式は、その構成部材数・製造工程数が多いためコストが高くなり、薄型・軽量化が困難になる。
【００１２】
さらに、プラズマディスプレイ表示部の表面反射は一般に低減されておらず、ガラス基板の反射率を有しているので、熱設計等の観点から前面板を表示部と離して設置する場合には、ディスプレイ表面の外光反射と前面板の外光反射により、反射映像が二重以上になってしまい、ディスプレイの視認性を低下させることがある。また、プラズマディスプレイは、画面表面におけるガラスの反射や蛍光体の反射により、明所コントラストが低く、加えて発光の色再現範囲が狭いという特性を有する。
【００１３】
一方、前面板を除去し、ディスプレイパネル上に光学フィルムを直接貼合わせることが特許文献４、特許文献５、特許文献６などで提案されている。しかしながら、これらの先行技術はいずれも、透明高分子フィルム全体の合計厚さに対する規定はなく、また耐衝撃性の付与について具体的な言及はなされていない。
【００１４】
一方、特許文献７では、外部からの衝撃を吸収するために、直接貼合わせ用の光学フィルムを厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートに積層して使用するとの提案がある。しかしながら、厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートは、ロール形態からの連続貼合わせ工程やディスプレイへの直接貼合わせは実用上困難であり、実施例でも厚さ３ｍｍのアクリルシートに貼合わせていることから、枚葉貼合わせ型の従来前面板型フィルターの改良を意図したものであることは明らかである。
【００１５】
一般に、本発明の利用分野における各機能を有した透明高分子フィルムは、ロール形態にて使用されているが、作業効率などの観点から、通常厚さ７５〜１００μｍのものが使われる。従って、単純に機能を有する２枚の透明高分子フィルムを貼合わせた場合、その厚さ合計は０．３ｍｍに満たない。また、反射防止フィルムでは、一部厚さ１８８μｍのものも利用されているが、ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であり、好適に用いられるベースフィルム厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に比べ反射防止性が劣るため、フィルム同士の貼合わせ用にこれが積極的に用いられることはない。
【００１６】
また、ディスプレイパネル本体に直接フィルムを貼合わせる場合には、ディスプレイ自体が高価であるため、不具合発生時のフィルム剥離処理が不可欠となるが、この作業性については上記先行特許では言及されていない。また、ディスプレイへのフィルム貼合わせに関しては、既に液晶ディスプレイやフラットテレビなどにおいて実施されているが、プラズマディスプレイでは面積が大幅に大きくなることから、既存のディスプレイ以上に、剥離に力を必要とするため手間がかかる、ディスプレイ表面上への糊残りが発生しやすいなど、作業上の問題がある。
【００１７】
また、電磁波シールド体においては、電磁波を電流として外部に取り出す電極を用いて、透明導電層と外部との導通を得なければならない。その手法としては、透明導電層上に保護などの目的でフィルムを貼合わせる際に、フィルターの周囲に当該層が一部露出するようにして貼合わせ、この部分を電極として外部との導通を行う部位とすることが挙げられる。従来、前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体は、この手法によって外部との導通を得ていた。透明導電層を露出させるための方法としては、透明導電層上に貼合わせるフィルムの面積を透明導電層の面積より少し小さくする等の方法が行われていた。
【００１８】
この方法を用いると剛性の高い板等に透明導電層を有するフィルムを枚葉でまず貼付け、さらにそれよりも面積が小さい保護フィルムを枚葉で貼合わせるという２回の枚葉貼合わせ作業が必要であるため、生産性に問題がある。
【００１９】
また、従来前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体においては、全周部分に電極を設けていた。この方法を用いると電極形成作業を枚葉で行う必要があり、生産性に問題がある。
【００２０】
【特許文献１】特開昭５８−１５３９０４号
【特許文献２】特開昭６０−２２１０２号
【特許文献３】特開昭５９−２２１９４３号
【特許文献４】特開平１０−１５６９９１号
【特許文献５】特開平１０−１８８８２２号
【特許文献６】特開２０００−９８１３１号
【特許文献７】特開平１０−２１１６６８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明の目的は、上記従来技術に鑑み、電磁波シールド能や近赤外線カット能、画質改善能などの所望のフィルタ特性を有し、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができるプラズマディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、1)プラズマディスプレイから発生する非常に強度な電磁波を遮蔽するには、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層が必要であること、2)このような透明導電層を備えた電磁波シールド体をプラズマディスプレイ表面に直接形成することによって、電磁波シールド能、近赤外線カット能、画像・視認性・コストに優れるプラズマディスプレイを用いた表示装置が得られること、3)特定の層構成を有し、色素を含有し、且つ、可視光線透過率が３０〜８５％である調光フィルムをディスプレイ表面に直接形成することによって、画像・視認性・コストに優れるディスプレイを用いた表示装置が得られること、4)光学フィルターを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とし、それをディスプレイ前面に直接貼合わせることで、軽量薄型化とパネル保護性を両立した上に、作業性の向上が得られること、5)電極を形成位置を制限し、例えば長方形の光学フィルターの場合、一組の向かい合う２辺のみに電極を形成すること及び電極の形状を工夫することにより、高い生産効率を有するロールツーロール方式で電極形成を行なうことができること、等を見出し、本発明に至った。
【００２３】
本発明は、プラズマディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタである。
【００２４】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることが好ましい。
【００２５】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることが好ましい。
【００２６】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることが好ましい。
【００２７】
また本発明は、複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることが好ましい。
【００２８】
また本発明は、複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることが好ましい。
【００２９】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することが好ましい。
【００３０】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることが好ましい。
【００３１】
また本発明は、高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることが好ましい。
【００３２】
また本発明は、前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることが好ましい。
また本発明は、テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００３３】
【化２】
【００３４】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【００３５】
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることが好ましい。
【００３６】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることが好ましい。
【００３７】
また本発明は、３０〜８５％の可視光線透過率を有することが好ましい。
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることが好ましい。
【００３８】
また本発明は、色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることが好ましい。
【００３９】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
また本発明は、フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることが好ましい。
【００４０】
また本発明は、一部露出した導通部に電極が形成されることが好ましい。
また本発明は、フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることが好ましい。
【００４１】
また本発明は、フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４２】
また本発明は、フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４３】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することが好ましい。
【００４４】
また本発明は、画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設けられ、上記のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置である。
【００４５】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４６】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４７】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４８】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００４９】
本発明によれば、透過特性、透過率、反射特性が優れた調光フィルムとして機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。これをプラズマディスプレイ等の表示装置の画面に直接形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができ、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【００５０】
また、過特性、透過率、可視光線反射率に優れ、プラズマディスプレイ等の表示装置から発生する電磁波を遮断する電磁波シールド体として機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備え、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【００５１】
また、プラズマディスプレイ用フィルタを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、プラズマディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、プラズマディスプレイ前面に直接貼合わせる電磁波シールド体または調光フィルムを提供することができる。
【００５２】
また、電磁波シールド体の電極形状を工夫することによって、充分な電磁波遮断効果をもち、しかも電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産効率が大幅に向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有することによって、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正するフィルタ特性を有する調光フィルムとして機能する。
【００５４】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断するフィルタ特性を有する電磁波シールド体として機能する。
【００５５】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断するフィルタ特性を有する近赤外線フィルタとして機能する。
【００５６】
これらの機能を有するディスプレイ用フィルタをプラズマディスプレイ等のディスプレイ表面に直接貼付けることによって、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができる。
【００５７】
本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成した少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成される透明粘着層（Ｃ）を有し、さらに該透明導電層（Ｄ）上に導通部、及び、直接又は透明粘着層を介して形成された機能性透明層（Ａ）を有する。
【００５８】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）とを有し、さらに、該透明導電層（Ｄ）上に、導電性粘着層および透明粘着層（Ｃ）を有する。
【００５９】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）、透明粘着層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）、を有する。
【００６０】
また、本発明に係る調光フィルムは、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）、該高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された透明粘着層（Ｃ）を有し、且つ、色素を含有し、可視光線透過率が５５〜９０％である。
【００６１】
１．高分子フィルム（Ｂ）
高分子フィルム（Ｂ）は、フィルタの基体として機能し、例えば透明導電層（Ｄ）を形成するための基体であり、しかも、本発明のディスプレイ用フィルタはディスプレイ表面に直接形成されるものであるため、透明な高分子フィルムが用いられる。
【００６２】
高分子フィルム（Ｂ）としては、可視波長領域において透明であればよい。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６３】
高分子フィルムは、通常、厚み１０〜２５０μｍである。薄すぎるとフィルタをディスプレイ表面に直接形成するのが困難であり、可撓性が制限される。従って、高分子フィルム（Ｂ）の厚さは、５０μｍ以上、好ましくは７５μｍ以上が好適である。また、厚さ２５０μｍ以上では可撓性が不足しすぎて、フィルムをロールで巻きとって利用するのに適さないことがある。また、本発明分野のように、高い透明性が要求される分野では、高分子フィルムの厚さ１００μｍ程度のものが広く用いられている。
【００６４】
本発明で用いる透明な高分子フィルムは可撓性を有しており、透明導電膜をロールツーロール法で連続的に形成することができるため、効率よく、また、長尺大面積の透明積層体を生産することができる。さらに、フィルム状のフィルタは、ディスプレイ表面に、ラミネートにより容易に直接形成することができる。さらに、ディスプレイ表面に直接貼合された高分子フィルムを基体とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損したときのガラス飛散を防止することができ、好適である。
【００６５】
本発明においては、高分子フィルム（Ｂ）の表面を、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理により、その上に形成される透明導電層（Ｄ）の高分子フィルム（Ｂ）に対する密着性を予め向上させてもよい。また、高分子フィルム（Ｂ）と透明導電層（Ｄ）の間に任意の金属などの無機物層を形成してもよく、透明導電膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００６６】
また、透明積層体の耐擦傷性を向上させるために、高分子フィルム（Ｂ）の少なくとも一方の主面にハードコート層（Ｆ）が形成されていても良い。
【００６７】
２．ハードコート層（Ｆ）
ハードコート層（Ｆ）となるハードコート膜としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。また、ハードコート層（Ｆ）には後述の色素を１種以上含有させることが出来る。
【００６８】
３．透明導電層（Ｄ）
本発明の電磁波シールド体では、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に透明導電層（Ｄ）が形成される。本発明における透明導電層（Ｄ）とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。なお、本発明では、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層（Ｄ）を形成したものを透明積層体（Ｈ）という。
【００６９】
単層の透明導電膜としては、前述した金属メッシュや導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。
【００７０】
多層の透明導電膜としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及びその自由電子による近赤外線反射特性と、ある波長領域における金属による反射の高屈折率透明薄膜による防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【００７１】
電磁波シールド能、近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜が好適である。
【００７２】
ところで、ＶＣＣＩにおいては、業務用途の規制値を示すClass A では放射電界強度５０ｄＢμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すClass B では４０ｄＢμＶ／ｍ未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。
【００７３】
プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさ及び消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。
【００７４】
本発明者らは、鋭意検討の結果、高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層（Ｄ）が、面抵抗０．０１〜３０Ω／□、より好ましくは０．１〜１５Ω／□、さらに好ましくは０．１〜５Ω／□の低抵抗な導電性を有していることが必要なことを見出した。本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【００７５】
また、本発明者らは、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルターの近赤外線波長領域８００〜１１００ｎｍにおける光線透過率極小を２０％以下にすることが必要であること、この要求を満たすためには、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要であること、を見出した。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。
【００７６】
金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことが可能である。また、層数及び／又はそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることも可能である。
【００７７】
一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。
【００７８】
本発明の電磁波シールド体においては、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に多層薄膜の透明導電層（Ｄ）を形成した透明積層体（Ｈ）を用いることが好ましい。
【００７９】
本発明において好ましい透明導電層（Ｄ）は、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、金属薄膜層（Ｄｍ）の順に、（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２〜４回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを特徴とし、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、可視光線反射率に優れた性能を有する。なお、本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。
【００８０】
本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は２回〜４回が好適である。つまり、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明積層体（Ｄ）は、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）の層構成を有するものである。繰り返し積層数が５回以上では、生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加が生じる傾向がある。また、繰り返し回数が１回であると、低抵抗性、近赤外線カット能と、可視光線反射率を同時に十分なものとすることが出来難い。
【００８１】
なお、繰り返し積層数が２回〜４回の多層薄膜において、近赤外線カット能、可視光線透過率、可視光線反射率を同時に、プラズマディスプレイに好適な特性とするには、その面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを本発明者らは見出した。
【００８２】
なお、将来的にはプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が５〜１５Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができることが予想される。また、さらにプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が１５〜３０Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができるようになることが予想される。一方、放出される電磁波強度とは別の観点として、プラズマディスプレイの更なる大画面化、薄型化が求められる場合には、電磁波シールド体の面抵抗０．０１〜１Ω／□を求められることも想定される。
【００８３】
金属薄膜層（Ｄｍ）の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金や、これら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に金やパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。
【００８４】
銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性、光学特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以上、１００重量％未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性、光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも１つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て最初の層及び／又は最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。
【００８５】
金属薄膜層（Ｄｍ）の厚さは、導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、４ｎｍ以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚さとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。
【００８６】
金属薄膜層（Ｄｍ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００８７】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．８以上、さらに好ましくは２．０以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。
【００８８】
これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。
【００８９】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の厚さは、高分子フィルム（Ｂ）〔透明基体ともいう〕の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、高屈折率透明薄膜第１層…第（ｎ＋１）層（ｎ≧１）は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。
【００９０】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００９１】
上記の透明導電層（Ｄ）の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性、光学特性を著しく損なわない程度に有機物又は無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは、０．２ｎｍ〜２ｎｍ程度である。
【００９２】
所望の光学特性の透明導電層（Ｄ）を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料・厚さを勘案して、透明高分子フィルム（Ｂ）および薄膜材料の光学定数（屈折率、消光係数）を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。この際、透明導電層（Ｄ）上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは透明高分子フィルム（Ｂ）上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率１の入射媒質と違うために透過色（及び透過率、反射色、反射率）が変化するためである。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を形成する際に透明粘着層（Ｃ）を介する場合は、透明粘着層（Ｃ）の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を直接する場合は、透明導電層（Ｄ）と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。
【００９３】
上記のように、透明導電層（Ｄ）の設計を行なうことにより、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層と最上層がその間の層より薄く、金属薄膜層（Ｄｍ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層がその他の層より薄く、屈折率１．４５〜１．６５、消光係数ほぼ０の厚み１０〜５０μｍの粘着材が隣接層であるとき、透明積層体の反射が著しく増加しないこと、すなわち、隣接層形成による界面反射の増加が２％以下であることを見出した。
【００９４】
特に、繰り返し回数が３回、すなわち、計７層からなる透明導電層においては、３層の金属薄膜層（Ｄｍ）の真ん中の２番目の層が他の層より厚いと、前記の粘着材が隣接層であるときに、透明積層体の反射が著しく増加しないことを見出した。
【００９５】
なお、光学定数はエリプソメトリー（楕円偏光解析法）やアッベ屈折計により測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００９６】
上記の方法により形成した透明導電層の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。
【００９７】
なお、膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係を予め明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより制御される。
【００９８】
以上述べた透明導電性薄膜を用いる方法のほか、導電性メッシュを透明導電層として用いる方法もある。導電性メッシュの一例として、以下の単層の金属メッシュについて述べるが、本発明における導電性メッシュはこれに限定されるものではない。
【００９９】
単層の金属メッシュは、高分子フィルム上に銅メッシュ層を形成したものが一般的である。通常は、高分子フィルム上に銅箔を貼合わせ、その後、メッシュ状に加工する。
【０１００】
本発明に用いられる銅箔は、圧延銅、電界銅とも使い得るが、金属層は多孔性のものが好ましく用いられ、その孔径は、０．５〜５μｍが好ましく、さらに好ましくは、０．５〜３μｍであり、さらに好ましくは０．５〜１μｍである。孔径がこれ以上大きくなるとパターニングの障害になるおそれがあり、また、これ以上小さな値になると、光線透過率の向上が期待しにくい。なお、銅箔のポロシティーとしては、０．０１〜２０％の範囲が好ましく、さらに好ましくは、０．０２〜５％である。本発明でいうポロシティーとは、体積Ｒとして、孔容積をＰとしたときに、Ｐ／Ｒで定義される値である。例えば、体積０．１ｃｃに対応する銅箔の孔容積を、水銀ポロシティーで測定したところ、０．００１ｃｃであったとすると、ポロシティーは１％ということができる。用いられる銅箔は、各種表面処理をされていても構わない。具体的に例示すれば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等である。
【０１０１】
銅箔の厚さは３〜３０μｍが好ましく、より好ましくは５〜２０μｍ、さらに好ましくは７〜１０μｍである。この厚さより厚いとエッチングに時間を要するという問題があり、またこの厚さよりも薄いと電磁波シールド能に劣るという問題が発生する。
【０１０２】
光透過部分の開口率は６０％以上、９５％以下が好ましく、より好ましくは６５％以上、９０％以下、さらにより好ましくは７０％以上、８５％以下である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等に形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の代表的な大きさは、１辺もしくは直径が５〜２００μｍの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは１０〜１５０μｍである。この値が大きすぎると、電磁波シールド能が低下し、また小さすぎるとディスプレイの画像に好ましくない影響を与える。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、ピッチが１０〜２５０μｍであることが好ましい。この幅よりも細いと加工がきわめて困難になる一方、この幅より太いと画像に好ましくない影響を与える。
【０１０３】
光透過部分を有する金属層の実質的なシート抵抗とは、上記パターンよりも５倍以上大きな電極を用いて、上記パターンの繰り返し単位よりも５倍以上の電極間隔をもつ４端子法より測定したシート抵抗をいう。例えば、開口部の形状が１辺１００μｍの正方形で金属層の幅が２０μｍをもって規則的に正方形が並べられたものであればφ１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定することができる。あるいはパターン形成したフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗を測り（Ｒ）、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂとすると、実質的なシート抵抗＝Ｒ×ｂ／ａで求めることができる。このように測定された値は、０．０１Ω／□以上、０．５Ω／□以下が好ましく、より好ましくは０．０５Ω／□以上、０．３Ω／□以下である。この値よりも小さな値を得ようとすると膜が厚くなりすぎ、かつ開口部が充分取れなくなり、一方、これ以上大きな値にすると充分な電磁波シールド能を得ることができなくなる。
【０１０４】
銀箔を高分子フィルムにラミネートする方法としては、透明な接着剤を用いる。接着剤の種類としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系等があるが、特に接着剤に限定はない。２液系及び熱硬化タイプが好適に使用される。なお、耐薬品性に優れた接着剤であることが好ましい。高分子フィルムに接着剤を塗布した後、銀箔と貼合わせることもできるし、銀箔に接着剤を貼合わせてもよい。
【０１０５】
光透過部分を形成する方法としては、印刷法やフォトレジスト法を用いることができる。印刷法では、マスク層を印刷レジスト材料を用いてスクリーン印刷法でパターン形成する方法が一般的である。フォトレジスト材料を用いる方法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法などで、金属箔上にフォトレジスト材料をべた形成し、フォトマスクを用いて露光現像してレジストのパターニングを行う。レジストパターニングを完成させた後、開口部とする金属部分を湿式エッチングで除去することで、所望の開口形状と開口率の、光透過部分を有する金属メッシュを得ることができる。
【０１０６】
４．透過特性
電磁波シールド体の透光部における可視光線透過率は、３０〜８５％が好ましい。更に好ましくは５０〜８０％である。３０％未満であると輝度が下がりすぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るために、８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０７】
また、調光フィルムにおいては可視光線透過率は、５５〜９０％が好ましい。さらに好ましくは６０〜８５％である。５５％未満であると輝度が下がり過ぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るためには８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０８】
なお、本発明における可視光線透過率（Ｔｖｉｓ）、可視光線反射率（Ｒｖｉｓ）とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【０１０９】
５．色特性、色素
ところで、ディスプレイ用フィルタの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である５５０ｎｍ前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。
【０１１０】
多層薄膜は、可視光線透過率・可視光線反射率を重視すると、一般に透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能をあげるほど、金属薄膜の総膜厚が厚いことが必要となる。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる電磁波シールド体はその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いことによるコントラスト低下や、赤色及び緑色発光色に比べ青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、電磁波シールド体の透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。
【０１１１】
多層薄膜を透明導電層（Ｄ）に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して電磁波シールド体の透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層（Ｄ）の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。
【０１１２】
カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電により発生する真空紫外光で励起発光する(Y,Gd,Eu)BO3等の赤色（Red）発光蛍光体、(Zn,Mn)2SiO4等の緑色
（Green）発光蛍光体、(Ba,Eu)MgAl10O17:Eu 等の青色（Blue）発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長５８０ｎｍから７００ｎｍ程度までにわたる数本の発光ピークを示しており、比較的強度な短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにＸｅとＮｅの混合ガスを用いた場合、Ｎｅ励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を落としてしまう。また、緑色発光、青色発光に関しても、そのピーク波長の位置、発光のブロードさが色純度を下げる要因となっている。
【０１１３】
色純度の高さは、例えば、国際照明委員会（ＣＩＥ）が定めた横軸色度ｘ、縦軸色度ｙで色相と彩度を表す座標系において、ＲＧＢ三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、ＮＴＳＣ（National Television System Committee）方式で定めているＲＧＢ三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。
【０１１４】
また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は１００〜２００、周囲照度100lx 程度の明時は１０〜３０であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。
【０１１５】
コントラストを向上させるためにはディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ（ＮＤ）フィルタの如く、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法があるが、可視光線透過率が著しく低いと、輝度・画像の鮮明さが低下することになり、また、色純度の改善はあまり見られない。
【０１１６】
本発明者らは、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることは、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減することによって達成できることを見出した。
【０１１７】
また、本発明者らは、色素を用いることによって、電磁波シールド体をニュートラルグレーまたはニュートラルブルーに調色するだけではなく、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減できることを見出した。特に、赤色発光がオレンジに近いものは顕著であり、その原因である波長５８０ｎｍ〜６０５ｎｍの発光を低減することによって赤色発光の色純度を向上させることができることを見い出した。
【０１１８】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、不要発光及び外光反射の低減は、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素をシールド体に含有させることによって行うことができる。この際、ディスプレイ用フィルタによって、赤色である発光ピークのある波長６１５ｎｍ〜６４０ｎｍの光線透過を著しく損なってしまわないことが必要である。
【０１１９】
一般に、色素はブロードな吸収範囲を有しており、所望の吸収ピークを有するものも、その裾の吸収により好適な波長の発光まで吸収してしまうことがある。Ｎｅによる発光が存在する場合は、オレンジ色発光の低減を行うこともできるため、ＲＧＢ表示セルからの発光の色純度が向上する。
【０１２０】
また、カラープラズマディスプレイの緑発光はブロードであり、そのピーク位置は、例えば、ＮＴＳＣ方式で要求される緑色より若干長波長側、すなわち黄緑側にあることがある。
【０１２１】
本発明者らは、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素の短波長側の吸収によって、緑色発光の長波長側を吸収して削り、さらに不要発光を削ること、及び／又は、ピークをシフトさせることによって色純度を向上できることを見出した。
【０１２２】
赤色発光、更に加えて緑色発光の色純度向上には、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素を用いることによって、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍにおける電磁波シールド体の最低透過率が、必要な赤色発光のピーク位置での透過率に対して８０％以下であることが好適である。
【０１２３】
青色発光の色純度が低い場合は、赤色発光、緑色発光と同様に、不要発光を低減し、また、そのピーク波長をシフトさせ、青緑発光を吸収する色素を用いれば良い。さらに、色素による吸収は、外光の蛍光体への入射を低減することによって蛍光体での外光反射を低減させることができる。このことによってもまた色純度及びコントラストを向上させることができる。
【０１２４】
本発明のディスプレイ用フィルタに色素を含有させる方法としては、（１）透明な樹脂に少なくとも１種類以上の色素を混錬させた高分子フィルム、（２）樹脂または樹脂モノマー／有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも１種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルム、（３）樹脂バインダーと有機系溶媒に少なくとも１種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたもの、（４）少なくとも１種類以上の色素を含有する透明な粘着材、のいずれか一つ以上の形態として用いる方法である。
【０１２５】
本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。
【０１２６】
色素は、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではないが、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、透明導電層の色調及び電磁波シールド体に要求される透過特性・透過率、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定されるものではない。
【０１２７】
透明導電層（Ｄ）に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、透明導電層が近赤外線カット能を有していない場合に、近赤外線カット能をディスプレイ用フィルターに付与するために、前記色素に近赤外線吸収色素を１種類以上併用しても良い。
【０１２８】
近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイミニウム系化合物が挙げられる。
【０１２９】
プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは電磁波シールド体の温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、８０℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。
【０１３０】
また、色素によっては、耐熱性に加えて、耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光や外光の紫外線・可視光線による劣化が問題になる場合は、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外線や可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。熱、光に加えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると電磁波シールド体の透過特性が変わってしまう。
【０１３１】
実際に、プラズマディスプレイパネルの表面温度が７０℃から８０℃になることは特開平８−２２０３０３号に明記されている。また、プラズマディスプレイパネルより発生する光は、例えば、３００ｃｄ／ｍ2と明記されており（富士通株式会社Ｉｍａｇｅ Ｓｉｔｅ カタログ ＡＤ２５−００００６１Ｃ Ｏｃｔ．１９９７Ｍ）、立体角を２πとして、これを２万時間照射すると、２π×２００００×３００＝３８００万（ｌｘ・時間）となることから、実用上数千万（ｌｘ・時間）程度の耐光性が必要になることが分かる。
【０１３２】
さらには、色素を媒体または塗膜中に分散させるために、適宜の溶媒への溶解性も重要である。異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。
【０１３３】
本発明のディスプレイ用フィルタは、カラープラズマディスプレイの輝度・視認性を著しく損なわない優れた透過特性・透過率を有し、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることができる。本発明者らは、１種以上含有せしめる色素の、少なくとも一つがテトラアザポルフィリン化合物の場合には、特に低減したい５７０〜６０５ｎｍの不要発光の波長と同じか、または近い波長に主要吸収波長を有し、且つ、吸収波長巾が比較的狭いので、好適な発光を吸収してしまうことによる輝度の損失を少なくできることを見出し、優れた透過特性・透過率・発光色の色純度及びコントラストを向上させる能力が優れたディスプレイ用フィルタを得ることができた。
【０１３４】
本発明で用いるテトラアザポルフィリン化合物は、前記式（１）で示すことができる。以下、式（１）は、下記構造式（２）（化３）の様に略記する。
【０１３５】
【化３】
【０１３６】
〔式（２）中、Ａm及びＡnは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又は、アリールチオ基を表し、ＡmとＡnは各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又は、オキシ金属原子を表す。〕
【０１３７】
式（１）で示されるテトラアザポルフィリン化合物の具体例を次に述べる。式中、Ａ1〜Ａ8の具体例としては、各々独立に、水素原子；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシ基；アミノ基；カルボキシル基；スルホン酸基；メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-へプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、n-ノニル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラメチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、3,5 -ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基、
1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；
クロロメチル基、ジクロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基等の炭素数１〜２０のハロゲノアルキル基；
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、3-メトキシプロピルオキシ基、3-(iso- プロピルオキシ) プロピルオキシ基等の炭素数２〜２０のアルコキシアルコキシ基；
フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メトキシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基；
メチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜２０のモノアルキルアミノ基；
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n- プロピルアミノ基、ジ-n- ブチルアミノ基、N-メチル-N-シクロヘキシルアミノ基等の炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基；
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；
ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基等のヘテロアリール基；
メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、1-メチルブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ基等の炭素数１〜２０のアルキルチオ基；
フェニルチオ基、4-メチルフェニルチオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニルチオ基等の炭素数６〜２０のアリールチオ基などを挙げることができる。
【０１３８】
Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8が連結基を介して環を形成した例としては、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＯ2 ）ＣＨ2−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ2ＣＨ2 −等を挙げることができる。
【０１３９】
Ｍで示される２価金属の例としては、Ｃｕ、Ｚｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｍｎ，Ｓｎ，Ｍｇ，Ｈｇ，Ｃｄ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｂｅ，Ｃａ等が挙げられる。
【０１４０】
１置換の３価金属の例としては、Ａｌ−Ｆ，Ａｌ−Ｃｌ，Ａｌ−Ｂｒ，Ａｌ−Ｉ，Ｇａ−Ｆ，Ｇａ−Ｃｌ，Ｇａ−Ｂｒ，Ｇａ−Ｉ，Ｉｎ−Ｆ，ＩｎＣｌ，Ｉｎ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｉ，Ｔｌ−Ｆ，Ｔｌ−Ｃｌ，Ｔｌ−Ｂｒ，Ｔｌ−Ｉ，Ａｌ−Ｃ6 Ｈ5 ，Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5 ，Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｍｎ（ＯＨ），Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5 ），Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ3）3 ］，Ｆｅ−Ｃｌ，Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられる。
【０１４１】
２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ2 ，ＳｉＦ2 ，ＳｉＣｌ2 ，ＳｉＢｒ2 ，ＳｉＩ2 ，ＳｎＦ2 ，ＳｎＣｌ2 ，ＳｎＢｒ2 ，ＺｒＣｌ2 ，ＧｅＦ2 ，ＧｅＣｌ2 ，ＧｅＢｒ2 ，ＧｅＩ2 ，ＴｉＦ2 ，ＴｉＣｌ2 ，ＴｉＢｒ2 ，Ｓｉ（ＯＨ）2 ，Ｓｎ（ＯＨ）2 ，Ｇｅ（ＯＨ）2 ，Ｚｒ（ＯＨ）2 ，Ｍｎ（ＯＨ）2 ，ＴｉＡ2 ，ＣｒＡ2 ，ＳｉＡ2 ，ＳｎＡ2 ，ＧｅＡ2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＯＡ）2 ，Ｓｎ（ＯＡ）2 、Ｇｅ（ＯＡ）2 、Ｔｉ（ＯＡ）2 ，Ｃｒ（ＯＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＳＡ）2 、Ｓｎ（ＳＡ）2 ，Ｇｅ（ＳＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］等が挙げられる。
【０１４２】
オキシ金属の例としては、ＶＯ，ＭｎＯ，ＴｉＯ等が挙げられる。
好ましくは、Ｐｄ，Ｃｕ，Ｒｕ，Ｐｔ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｚｎ，ＶＯ，ＴｉＯ，Ｓｉ（Ｙ）2 ，Ｇｅ（Ｙ）2 （但し、Ｙはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、トリアルキルシリルオキシ基、トリアルキルスズオキシオ基又はトリアルキルゲルマニウムオキシ基を表す）である。
【０１４３】
さらに好ましくは、Ｃｕ、ＶＯ、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｏである。
本発明者らはさらに、式（１）のアザポルフィリン化合物が、例えば、テトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン錯体やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル−テトラアザポルフィリン錯体であると、製造が比較的容易であること、溶媒への溶解性、錯体が安定であること、吸収特性に優れていること、ｔ−ブチル基やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル基を付与した結果、錯体が立体性を持つことによって溶媒への溶解性が高くなり、色素を含有させやすくなることを見出し、優れた電磁波シールド体を得られることができた。
【０１４４】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいては、前記の色素を含有させる方法（１）〜（４）は、色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、色素を含有する後述の透明粘着層（Ｃ）または第２の透明粘着層、色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）、色素を含有する前述のハードコート層（Ｆ）のいずれか１つ以上の層において実施することが出来る。色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）は、色素を含有し且つ各機能を有する膜でも、色素を含有し且つ各機能を有する膜が高分子フィルム上に形成されたものでも、各機能を有する膜が色素を含有する基材に形成されたもの、のいずれでも良い。
【０１４５】
なお、本発明では、異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を２つ以上有していても良い。
【０１４６】
まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する（１）の方法について説明する。
樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。
【０１４７】
作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通常、(i) ベース高分子の粉体或いはペレットに色素を添加し、１５０〜３５０℃で加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、(ii)押し出し機によりフィルム化する方法、(iii)押し出し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、通常、ベース高分子成形体の重量に対して１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１４８】
（２）のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。
【０１４９】
通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーを用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１５０】
色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、樹脂モノマーの重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１５１】
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜９０％である。
塗料化してコーティングする（３）の方法としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。
【０１５２】
前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１５３】
色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、０．１〜３０％である。
【０１５４】
また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。
後者のアクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。
【０１５５】
上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。
【０１５６】
コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に、電磁波シールド体の他の構成部材を貼合わせても良い。
【０１５７】
色素を含有する粘着材として用いる方法（４）では、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着材または接着剤に、色素を１０ｐｐｍ〜３０％添加して用いる。
【０１５８】
なお、これらの方法では、色素含有の電磁波シールド体の耐光性を上げるために紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１５９】
６．透明粘着層、導電性粘着層
本発明において、貼合わせ（ラミネート）は、任意の透明粘着層を介する。本発明の透明粘着層（Ｃ）などは、任意の透明な接着剤または粘着剤または粘着材からなる層である。具体的にはアクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。この際肝要なことは、ディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着材は可視光線に対して充分透明である必要がある。
【０１６０】
導電性粘着層は、透明導電層（Ｄ）と表示装置のアース部（グランド導体）とを電気的に接続させるための粘着層であって、導電性が必要だが、透明である必要はない。電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、透明粘着層は導電性粘着層による外部との電気的接続を著しく妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層が形成されていない導通部が必要である。例えば、透明粘着層は透明導電層（Ｄ）の周縁部を残すように形成し、導通部を残すことが肝要である。
【０１６１】
導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着材は、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等をベース剤として、導電性粒子としてカーボンやＣｕ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｆｅ等の金属粒子を分散させたものである。分散粒子の導電性が低くて、かつ、粒子径が細かく且つ粒子数が多くて粒子同士の接触面積が広いと、導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗が低くなり好適になる。用いることが出来る導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗は１×１０-4〜１×１０3Ω・ｃｍである。実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。
【０１６２】
粘着材としては感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後にラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６３】
液状のものは塗布、貼合わせ後に室温放置または加熱または紫外線照射により硬化する接着剤である。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。層の厚みは、特に限定されるものではないが、体積固有抵抗と必要な導電性を勘案して０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。また、両面ともに導電性を有する両面接着タイプの市販の導電性テープも好適に使用できる。この厚さもまた特に限定されるものではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。
【０１６４】
粘着材は、実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。粘着材は、感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後に、各部材をラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６５】
液状のものは、塗布、貼合わせ後に、室温放置または加熱により硬化する接着剤である。
【０１６６】
塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。
【０１６７】
層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。透明粘着層を形成される面、貼合わせられる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適である。
【０１６８】
さらに、透明粘着層を介して貼合わせた後は、貼合わせ時に部材間に入り込んだ空気を脱泡、または、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、できれば加圧、加温の条件で養生を行うことが肝要である。このとき、加圧条件としては数気圧〜２０気圧以下程度、加温条件としては各部材の耐熱性に依るが、室温以上８０℃以下程度であるが、これらに特に制限を受けない。透明粘着層の少なくとも１つの層には色素を含有させることができる。
【０１６９】
７．機能性透明層（Ａ）
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイへの設置方法や要求される機能に応じて、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、紫外線カット性のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層（Ａ）が直接または第２の透明粘着層を介して、透明導電層（Ｄ）の上に形成される。１つの機能性透明層（Ａ）が、複数の機能を有していることは好ましいことである。
【０１７０】
本発明における機能性透明層（Ａ）は、上記各機能を一つ以上有する機能膜そのものでも、機能膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により形成した透明な基体でも、各機能を有する透明な基体でも良い。
【０１７１】
機能膜そのものの場合は、機能性透明層（Ａ）を形成する透明導電層（Ｄ）の主面に塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により直接形成する。
【０１７２】
機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材または色素を含有する粘着材を介して透明導電層（Ｄ）の主面に貼付けても良い。これらの作製方法は特に制限を受けない。
【０１７３】
透明な基体は、透明な高分子フィルムであり、その種類、厚さも特に制限を受けないし、透明な基体に色素を含有させることもできる。機能性透明層（Ａ）が機能膜そのものでも、膜中に色素を含有させることができる。
【０１７４】
電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、機能性透明層（Ａ）はこの電気的接続を妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）が形成されていない導通部が必要である。例えば、機能性透明層（Ａ）を透明導電層の周縁部を残すように形成し、この周辺部を導通部とすることができる。
【０１７５】
ディスプレイは、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうので、機能性透明層（Ａ）は、外光反射を抑制するための反射防止（ＡＲ：アンチリフレクション）性、防眩（ＡＧ：アンチグレア）性またはその両特性を備えた反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性のいずれかの機能を有していることが必要である。電磁波シールド体表面の可視光線反射率が低いと、前述した通り、プラズマディスプレイの蛍光体への外光入射及び反射が低減し、映り込み防止だけではなく、コントラスト及び色純度向上につながる。
【０１７６】
反射防止（ＡＲ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、反射防止膜を形成する基体の光学特性を考慮し、光学設計によって反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低いフッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を基体から見て高屈折率層、低屈折率層の順に２層以上積層したものがある。
【０１７７】
単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が２層以上積層したものに比べ劣る。４層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。
【０１７８】
これらの無機化合物薄膜の成膜には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜の成膜には、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等の湿式塗工後に乾燥・硬化させる方法等、従来公知の方法を採用できる。
【０１７９】
反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）の表面の可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１８０】
防眩（ＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層を指している。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化することによっても防眩性を得ることができる。要は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。
【０１８１】
防眩性のヘイズは０．５％以上、２０％以下であり、好ましくは１％以上、１０％以下である。ヘイズが小さすぎると防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる。
【０１８２】
反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、防眩性を有する膜または基体上に前述の反射防止膜を形成することによって得られる。この際、防眩性を有する膜が高屈折率の膜である場合、反射防止膜が単層でも比較的高い反射防止性を付与することができる。
【０１８３】
ＡＲまたはＡＲＡＧによる反射防止はディスプレイ用フィルタの光線透過率を向上させることができる。
【０１８４】
本発明のディスプレイ用フィルタは、透明粘着層（Ｃ）を介してディスプレイ表示部に貼合わせるため、表示部表面の基板ガラス反射が無くなる。従って、さらに加えて、ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）を形成したフィルタは、その表面の反射も低く、ディスプレイのコントラスト及び色純度をさらに向上させることが出来る。ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）の表面における可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１８５】
ディスプレイ用フィルタに耐擦傷性を付加させるために、機能性透明層（Ａ）がハードコート性を有していることも好適である。ハードコート膜としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。ハードコート膜が反射防止性を有する透明機能層（Ａ）の高屈折率層または低屈折率層に用いられたり、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層（Ａ）が反射防止性とハードコート性の両方を有しても良い。同様に防眩性とハードコート性の両方を有しても良い。この場合はハードコート膜が粒子の分散さ等により凹凸を有すれば良いし、その上に反射防止膜が形成されれば反射防止防眩性とハードコート性を両方有する機能性透明層（Ａ）が得られる。ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）の表面硬度は、ＪＩＳ（Ｋ―５４００）に従った鉛筆硬度が少なくともＨ、好ましくは２Ｈ、さらに好ましくは３Ｈ以上である。
【０１８６】
さらに、ディスプレイ用フィルタには、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理が必要とされる場合がある。従って、静電気防止能を付与するために、機能性透明層（Ａ）が導電性を有していても良い。この場合に必要とされる導電性は面抵抗で１０11Ω／□程度以下であれば良いが、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。導電層としてはＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜やＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜が挙げられる。
【０１８７】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層が導電性を有していると好適である。
【０１８８】
また、多層薄膜に銀を用いた場合、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明導電性積層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、水蒸気がさらされないように、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）で被覆することが肝要である。必要とされるガスバリア性は、透湿度で１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下である。ガスバリア性を有する膜の具体例としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１〜１００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これもまた特に制限されるものではない。また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂等が挙げられるが、透湿度が１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下であれば特に限定されるものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィルムの厚みが増えることや適当な添加物を加えることにより、透湿度は低下する。
【０１８９】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、帯電防止性、アンチニュートンリング性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層がガスバリア性を有する膜であったり、全体または隣接する透明粘着層と併用で上記のガスバリア性を有していると、好適である。
【０１９０】
例えば、色素を含有する反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、色素含有のポリエチレンテレフタレートフィルム／ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、等があげられる。
【０１９１】
また、反射防止防眩性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、トリアセチルセルロースフィルム／ＩＴＯ微粒子分散ハードコート膜／含ケイ素化合物化合物、等があげられる。
【０１９２】
さらに、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるよう、機能性透明層（Ａ）表面が防汚性を有していると良い。防汚性を有するものとしては、水及び／または油脂に対して非濡性を有するものであって、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。反射防止性や帯電防止性等の他の機能と併せる際には、それら機能を妨げるものであってはならない。この場合、反射防止膜の構成材料に低屈折率であるフッ素化合物を使用することや、１〜数分子のフッ素系有機分子を最表面にコートすることによって、反射防止性や帯電防止性を維持しつつ防汚性を付与することができる。
【０１９３】
例えば、防汚性、反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／フッ素系有機分子の単分子コート膜、等があげられる。
【０１９４】
さらにまた、電磁波シールド体が含有する色素が、ディスプレイから放射される、または、外光が含む紫外線により劣化することを防ぐために、機能性透明層（Ａ）が、紫外線カット性を有していると良い。例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層または多層からなる反射防止膜、または、紫外線吸収剤を含有する機能性透明膜を形成する基材、ハードコート膜を有している機能性透明層（Ａ）である。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１９５】
また、透明粘着層のうち少なくとも１つの層は紫外線吸収剤を含有していても良い。
紫外線カットする部材は、紫外線が入射する面と色素を含有する層の間に配されることが肝要であり、紫外線カット性は、色素の耐久性によって異なり特に限定されない。
【０１９６】
８．厚さ
「接着・粘着の辞典（朝倉書店）」によると、支持体の厚みと粘着力の関係について、「一般には、支持体の厚みが大きくなると曲げエネルギーが大きくなるので粘着力は大きくなるが、ある点から曲げモーメントなどの影響により粘着力は低下してくる」との記載がある。本発明者らは、透明高分子フィルムの全体厚を０．３ｍｍ以上とすることで、光学フィルターフィルムのガラス面からの剥離を容易に行うことができることを見出した。光学フィルターフィルムの剛性は主に透明高分子フィルムの厚さ合計によって支配されるため、本発明における効果は、上記曲げモーメントの効果によるものと推察される。また、光学フィルターフィルムの剛性が増すことにより、平均した力による連続的な剥離が可能となり、剥離中断点を起点とするガラス板への糊残りが生じることが少なくなる。
【０１９７】
さらには、透明高分子フィルムの厚さ合計を上げることによって耐衝撃性も向上する。透明高分子フィルムの厚さ合計が大きいほど、その耐衝撃性は向上するが、フィルムの積層枚数が多くなると生産効率が低くなる、その剛性が大幅増加することによりディスプレイへの直接貼合わせが困難になる。従って透明高分子フィルムの厚さ合計については特に指定はないが、０．３〜１．０ｍｍが好ましく、さらに好ましくは、０．４ｍｍ〜０．８ｍｍである。また、透明高分子フィルムの積層枚数についても特に指定はないが、２〜６枚が好ましく、さらに好ましくは２枚〜４枚である。
【０１９８】
図１２〜図１７は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０１９９】
図１２において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（１５０μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１８８μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２００】
図１３において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０１】
図１４において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０２】
図１５において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び赤外線遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１５０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０３】
図１６において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、防眩性機能をを示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１５０μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２３の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０４】
図１７において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１８８μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２５と２６の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０５】
図１８は、図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０６】
図１９は、図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。高分子フィルム（Ｂ）２０の反対面には機能性透明層（Ａ）として反射防止膜６１が設けられる。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０７】
図２０は、図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの長辺および短辺を含む周辺部には透明導電層と電気接続された電極５０が形成され、電極５０はディスプレイのグランド端子に接続される。
【０２０８】
９．電極
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮断する。ディスプレイ画面の如く透明性が必要である場合には、透明導電層を形成した窓状の電磁波シールド体を設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下する。従って、電磁波シールド体とディスプレイ本体のアース部が電気的に接続している必要がある。そのため、図３に示したように透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）が形成されている場合は、透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）は、導通部を残すように透明導電層（Ｄ）上に形成されることが好ましい。
【０２０９】
導通部の形状は特に限定しないが、電磁波シールド体とディスプレイ本体の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
【０２１０】
本発明における電極とは、電磁波シールド体における外部との電気的導通部をいう。これは、透明導電層の剥き出し部でもよいし、剥き出し部の上部に、その保護と良好な電気的接触を目的として、導電性の金属ペーストを印刷したり、導電性テープ、導電性粘着材などの導電性材料を貼合わせてもよい。また、機能性透明層上に透明導電層と電気接続がとれる形で形成してもよい。以上のように、電極の形状や材料は特に限定しないが、透明導電層の剥き出し部を導電性材料で覆うように電極を形成することが好適である。
【０２１１】
但し、本発明における電極は、透明導電層を含む本発明のフィルムの断面部に導電性材料を接触させて得てもよい。断面部とは、透明導電層を含むフィルムの断面部は、少なくとも透明導電性層とそれを保護するためのフィルムが層状をなしていることが観察できるが、適当な導電性材料が透明導電層と断面部において接触していれば所望の電極を得ることができる。
【０２１２】
この場合に透明導電層上に形成される透明粘着層の端部が透明導電層の端部よりも内側に入り込んでいると、導電ペースト等を用いて電極を形成する場合にその隙間部分に導電ペーストが入り込み、透明導電層と電極との接触面積が増加するので好ましい。
【０２１３】
図２１〜図２５は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０２１４】
図２１において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１５】
図２２において、外気側からディスプレイ側に向かって、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の周辺に電極５０が形成される。透明導電層（Ｄ）１０の裏面で、電極５０を除いた中央部には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２１６】
図２３において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、積層体の側端面に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１７】
図２４において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明粘着層３０と透明導電層（Ｄ）１０との間に銅テープ等の導電テープ５１がフィルタ周辺部に介在して、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１８】
図２５において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、フィルタの厚さ方向に貫通するスルーホール電極５２が形成され、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１９】
図２６は、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの２つの長辺には透明導電層と電気接続された電極５０、導電テープ５１又はスルーホール電極５２が形成され、これらの電極はディスプレイのグランド端子に接続される。なお、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの電極は、もちろん図２０の平面図に示したように、フィルタの全周に配置されていてもよい。
【０２２０】
図２４に示したように透明導電層とその上に貼合わせる透明粘着層との間に銅テープのような導電テープを挟み込み、その導電テープの一部分を電磁波シールド体外部に引き出すことによって電極を形成しても良い。この場合、外部に引き出された導電性テープが実質的に電極となる。
【０２２１】
図２５に示したように透明導電層から電磁波シールド体最表面に通じるような隙間を設け、電極を形成しても良い。表面から見える隙間の形状には特に指定はなく、円形でもよいし、角型でも良い。また線状に形成されていても構わない。表面から見える個々の隙間の大きさにも特に指定はない。ただし、あまり大きすぎると視認部分にかかってしまうので好ましくない。隙間の形成位置は、視認部分を避ける位置であれば特に指定はない。必然的に端部から近い位置となる。形成する隙間の数にも特に制限はないが、全周に渡ってできるだけ多く形成されている方が電流の取り出し効率が上昇するので好ましい。隙間は透明導電層と電磁波シールド体最表面の間に設けられていれば良いが、形成する電極との接触面積を増やす観点から、透明導電層を貫通していることが好ましい。
【０２２２】
隙間を埋める部材に関しても特に指定はない。金属部材で埋めても良いし、導電性ペーストで埋めても良い。この場合、隙間を埋めた部材が実質的に電極となる。
【０２２３】
導通部は透明導電層（Ｄ）の周縁部に、且つ連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。
【０２２４】
但し、全周に導通部が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。
【０２２５】
例えば、長方形の向い合う辺のみに導電材料を付与し電極を形成する設計にすれば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルターを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。
【０２２６】
長方形の向い合う２辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う２辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。
【０２２７】
導通部を覆う電極は、耐環境性及び耐擦傷性に劣る透明導電層（Ｄ）の保護にもなる。電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。
【０２２８】
用いる導電性材料は電気を通導することのできるものであれば特に指定はない。通常は、銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物が用いられる。
【０２２９】
電極の形成方法としては、ペースト状の物であれば断面部に塗布し乾燥させたりして行う。ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料も用いることができる。
【０２３０】
また、透明支持基体に透明導電性薄膜層が形成された透明高分子フィルムを貼合わせた後に、断面部に塗布することもできる。
【０２３１】
塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。
【０２３２】
また隙間を金属部材で埋めて電極を形成する場合は、電磁波シールド体自体には予め加工を施さなくても構わない。ねじ穴を形成した金属性のアースを予め表示装置の外周部分に準備しておき、金属性のアース部分を含めて、表示装置の表示部分に電磁波シールド体を貼付けた後に電磁波シールド体を貫通するようにして金属性アースのねじ穴に導電性のねじを埋め込めば良い。この場合導電性のねじが実質的に電極の役割を果たす。この手法を用いると電磁波シールド体をロールツーロール方式で生産性高く作製できるうえ、電磁波シールド体の全周部分に渡って電極を形成することも容易である。
【０２３３】
１０．電磁波シールド
電磁波シールド体と表示装置との間からの電磁波の漏れを最小限にするためには、電磁波シールド体の導電層と表示装置との間の絶縁空間をできるだけ減らすことが必要である。空気やその他絶縁物が隙間に介在しているとそこから電磁波が外部に漏れ出してしまい好ましくない。
【０２３４】
従来のように支持基体に透明導電性フィルムを貼合わせて電磁波シールド体を作製する場合は、透明導電層と表示装置との間に主に絶縁物である支持基体が存在することになり、透明導電層と表示装置との間を全周に渡って導電性を保つように接触させなければ、十分な電磁波遮断効果を得ることができなかった。このため、電磁波シールド体の製造工程においては、枚葉により透明支持基体に貼付けるという工程および枚葉で全外週部分に電極を形成するという作業が必要であった。
【０２３５】
本発明において、フィルム状態の電磁波シールド体を表示装置に直接貼付ける場合は、導電層と表示装置との距離が非常に近いため、絶縁空間を従来の手法に比較して大幅に狭くすることができるため、電極を全周部分に渡って形成せずとも十分な電磁波遮断効果を得ることできるので好ましい。このことは電磁波シールド体の透明導電層が表示装置側に形成されている場合に顕著である。すなわち長方形の２つの長辺のみに電極を形成することによって十分な電磁波遮断効果を得ることができる。その場合、製造手法として非常に生産性の高い手法であるロールツーロール法を用いることができるので非常に好適である。
【０２３６】
１１．表示装置及びその製造方法
本発明の表示装置は、装置の表示部に接着された、電磁波シールド体及び／又は調光フィルムとして機能するディスプレイ用フィルタを具備する。電磁波シールド体は、表示装置とを電気的に接触する。
【０２３７】
本発明に係る表示装置の製造方法は、主として以下の（１）〜（１０）の方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２３８】
方法（１）：機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）、または、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明粘着層（Ｃ）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）である本発明の電磁波シールド体を表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にして、貼合わせる。
【０２３９】
貼合わせ後、本発明の電磁波シールド体の導通部または導通部上に形成された電極と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４０】
方法（２）：表示装置の表示部に、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）の順に構成される積層体を、透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または透明粘着層（Ｃ）を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４１】
方法（３）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される積層体を、高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４２】
方法（４）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される透明積層体を高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または第２の透明粘着層を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４３】
方法（５）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなる電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせ面にして貼合わせる。
【０２４４】
方法（６）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成される積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４５】
方法（７）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなり、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性テープの外部露出部分を貼合わせる。
【０２４６】
方法（８）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成され、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４７】
本発明の電磁波シールド体は、透過特性、透過率、可視光線反射率が優れているため、プラズマディスプレイに形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができる。さらにまた、プラズマディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮断する電磁波シールド能に優れ、さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１１００ｎｍ付近の近赤外線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。本発明の電磁波シールド体を具備せしめることにより、優れた特性を有するプラズマディスプレイを提供できる。
【０２４８】
本発明の電磁波シールド体は、光学特性、電磁波シールド能、近赤外線カット能に優れているので、プラズマディスプレイ以外の電磁波及び／又は近赤外線を発生するＦＥＤ
（Field Emission Display)、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube)等の各種ディスプレイに好適に使用できる。
【０２４９】
調光フィルムを具備した表示装置の製造方法に関しては、主として以下の２つの方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２５０】
方法（９）：少なくとも機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明粘着層（Ｃ）である本発明の調光フィルムを表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として貼合わせる。
【０２５１】
方法（１０）：表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）の順に構成される積層体の高分子フィルム（Ｂ）面を貼合わせ面として、表示装置と貼合わせる。
【０２５２】
本発明の調光フィルムは、透過特性、透過率、反射特性が優れているため、カラープラズマディスプレイ等のディスプレイの表示部に直接形成することにより、ディスプレイの輝度を著しく損なうことなく、その色純度及びコントラストを向上させることができる。また、耐擦傷性、防汚性、静電気防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。
【０２５３】
また、本発明の調光フィルムを直接ディスプレイ表面に形成し具備せしめることにより、優れた特性を有する表示装置を提供できる。
【実施例】
【０２５４】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
【０２５５】
実施例中の透明導電層（Ｄ）を構成する薄膜は、基材の一方の主面にマグネトロンＤＣスパッタリング法により成膜した。薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
【０２５６】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）はＩＴＯ薄膜で形成され、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０ｗｔ％）又は酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧５ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５７】
金属薄膜層（Ｄｍ）は銀薄膜又は銀−パラジウム合金薄膜で形成され、ターゲットに銀又は銀−パラジウム合金（パラジウム１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５８】
尚、透明導電層の面抵抗は、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により測定した。また、表面の可視光線反射率（Ｒvis ）は、まず測定対象物の小辺を切り出し、透明粘着層を取り除いて高分子フィルム（Ｂ）側表面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球（光線入射角度６゜）を用いた（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からＪＩＳＲ３１０６に従って計算した。
【０２５９】
（実施例１）
２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層（Ｄ）を有する透明積層体１を作製した。
【０２６０】
ＰＥＴフィルム／透明導電層の断面を、本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図として、（図１）に示した。図１において、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号１１は高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、符号１２は金属薄膜層（Ｄｍ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）である。
【０２６１】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより透明積層体１の高分子フィルム（Ｂ）側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、離型フィルムと透明積層体の高分子フィルム（Ｂ）に挟み込まれた透明粘着層（Ｃ）（粘着材１）を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２６２】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株) 製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中に１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍで含有されるようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。なお、ＰＤ−３１９は下記式（３）（化４）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２６３】
【化４】
【０２６４】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、ガスバリア性（ＡＳＴＭ−Ｅ９６準拠、１．８ｇ／ｍ2・ｄａｙ）、反射防止性（表面のＲvis：１．０％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）として反射防止フィルム１を得た。反射防止フィルム１の他方の主面に、粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（粘着材２）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２６５】
ロール状の透明積層体１／粘着材１／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートした。透明導電層（Ｄ）面から見た平面図を、本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図として、（図２）に示した。図２において、符号０２は電磁波シールド体の透光部、符号０３は電磁波シールド体の導通部である。
【０２６６】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２６７】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の電極部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図３）に示した。図３において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４０は透明粘着層（Ｅ）、符号５０は電極、符号６０は反射防止性、ハードコート性、ガスバリア性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜、符号６３はハードコート膜６２及び反射防止膜６１が形成される透明な基材、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２６８】
（実施例２）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した色素入りＰＥＴフィルム〔高分子フィルム（Ｂ）〕を作製した。
【０２６９】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面にアルコキシシランを氷酢酸で加水分解したものにシリコーン系表面平滑剤を加えたコート液を、グラビアコーターにて塗工・１２０℃の熱硬化によってハードコート膜（膜厚：１０μｍ、鉛筆硬度：３Ｈ）を形成し、ハードコート層（Ｆ）を形成した色素含有のＰＥＴフィルムを得た。該ハードコート層上に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／ハードコート層（Ｆ）／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２を作製した。
【０２７０】
透明積層体２のＰＥＴフィルム面に粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（Ｃ）（粘着材３）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２７１】
ロール状の透明積層体２／粘着材３／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２７２】
多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製した。
【０２７３】
透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して内側だけにフレキソ印刷した後、紫外線硬化し、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２７４】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の導通部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２７５】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図４）に示した。図４において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号２２はハードコート層（Ｆ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２７６】
（実施例３）
実施例１と同様に高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）積層体を作製した。
【０２７７】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）を形成した。上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｂ）面を上にして固定した。酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、バッチ式ダイコーターにより透明導電層（Ｄ）上に、周縁部２２ｍｍを除いて、乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２７８】
有機色素はプラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学( 株) 製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学( 株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化５）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２７９】
【化５】
【０２８０】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、二液性常温硬化型接着剤（（株）スリーボンド製３３８１）をメタルマスクを用いて印刷し、乾燥させ厚さ２５μｍの導電性粘着層を形成した。
【０２８１】
支持体からはずして、透明粘着層（Ｃ）及び導電性粘着層面に離型フィルムをラミネートして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２８２】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２８３】
該電磁波シールド体の透明粘着層側から見た平面を、本発明の電磁波シールド体との一例を示す平面図として、（図５）に示した。図５において、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層である。
【０２８４】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図６）に示した。図６において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１導電性粘着層、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜である。
【０２８５】
（実施例４）
実施例３と同様に高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０２８６】
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
【０２８７】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２をロールツーロールで作製した。
【０２８８】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。
【０２８９】
上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２９０】
実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を離型フィルム上に２５μｍ厚さに形成した。粘着材２／離型フィルムを、透明導電層上且つ周縁部２０ｍｍ残した内側に、粘着材２面を貼合わせ面として額縁貼りラミネーターを用いてラミネートした。さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２０ｍｍの範囲に、導電性両面粘着テープ（寺岡製作所製ＷＭＦＴ７９１）を、片面の離型フィルムを剥離して貼った。
【０２９１】
支持体からはずして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように、位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２９２】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図７）に示した。図７において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素含有の高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））である。
【０２９３】
（比較例１）
ＰＥＴフィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として、その一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４００ｎｍ）からなる面抵抗１５Ω／□の透明導電層を形成し、透明積層体３を作製した。透明積層体３を用いて、色素を使用しないほかは、実施例１と同様に、電磁波シールド体を作製し、それを具備した表示装置を得た。
【０２９４】
以上のようにして得られた実施例１〜４の本発明の電磁波シールド体を有する表示装置であるプラズマディスプレイについて、以下の評価を行った。
【０２９５】
１）電磁波シールド体の透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、電磁波シールド体を形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０２９６】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０２９７】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルターを装着しない場合と、実施例１のディスプレイ用フィルターを装着した場合について測定した。
【０２９８】
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
【０２９９】
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めたＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘ−ｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面積に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０３００】
４）電磁波シールド能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１〜４及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
【０３０１】
ダイポールアンテナを表示部中心位置から面の垂線方向１０ｍの位置に設置し、アドバンテスト性スペクトラル・アナライザ（ＴＰ４１７２）で３０〜２３０ＭＨｚ帯域における放射電界強度を測定した。ＶＣＣＩの３ｍ法においては、この領域での許容値は、
Class Ａで５０ｄＢμＶ／ｍ以下、 ClassＢで４０ｄＢμＶ／ｍ以下である。評価は３３ＭＨｚ、９０ＭＨｚで行った。
【０３０２】
５）電磁波シールド体の近赤外線透過率
実施例１〜４及び比較例１の電磁波シールド体を評価した。
【０３０３】
電磁波シールド体の透光部を小片に切り出し、（株）日立製作所分光光度計（Ｕ−３４００）により、８００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測定し、８２０ｎｍ、８５０ｎｍ、９５０ｎｍにおける透過率を評価した。
【０３０４】
６）近赤外線カット能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１、２及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
【０３０５】
赤外線リモートコントローラーを使用する電子機器として家庭用ＶＴＲを０．２〜５ｍディスプレイから離して、その誤動作を確認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。実用的には、少なくとも３ｍ以下、好適には１．５ｍ以下である。
【０３０６】
実施例１の本発明の電磁波シールド体は、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する、５９５ｎｍの透過率の百分率は３８％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている電磁波シールド体を用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、電磁波シールド体の透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、電磁波シールド体を形成される前が２０であったのに対して４５に向上した。また、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。
【０３０７】
実施例２の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０８】
実施例３の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０９】
実施例４の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５９％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３１０】
（図８）に電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。（図８）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例１の電磁波シールド体を形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３１１】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。
本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例１の電磁波シールド体を形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ１００００Ｋに上昇した。
【０３１２】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例１の電磁波シールド体を用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例１の電磁波シールド体を形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８５％に改善できた。
また、上記の評価４）〜６）の結果を表１にまとめて示した。
【０３１３】
【表１】
【０３１４】
表１より、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格の ClassＢまたは ClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低い程電磁波シールド能に優れていた。
【０３１５】
また、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れていることが判る。金属薄膜と項屈折率透明薄膜を高後に積層した透明導電層を用いた本発明の電磁波シールド体は、近赤外線の透過率が低くて、近赤外線カット能に優れ、その透明導電層の面抵抗が低い程近赤外線カット能に優れていた。さらにまた、本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ｄ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／または耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３１６】
（実施例５）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として用い、その一方の主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明膜１を形成した。
【０３１７】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、機能性透明膜１／ＴＡＣフィルムのＴＡＣフィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３１８】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１６５０（ｗｔ）ｐｐｍ、４５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するように、アクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化６）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０３１９】
【化６】
【０３２０】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３２１】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図９）に示した。図９において、符号００はディスプレイ表示部、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素含有の透明粘着層（Ｃ）、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は静電気防止性を有するハードコート膜である。
【０３２２】
（実施例６）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）ペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に、前記の式（３）で表わされる三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９を０．０１８ｗｔ％、波長５８５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１１を０．０１８ｗｔ％、白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．００４ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２５０μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１２５μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
【０３２３】
ＰＤ−３１１は式（４）（化７）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・銅錯体である。
【０３２４】
【化７】
【０３２５】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルムの一方の主面上に機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有するアンチグレア層である機能性透明膜２を形成した。実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を機能性透明膜２／色素入りＰＥＴフィルムのＰＥＴフィルム面上に形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３２６】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３２７】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図１０）に示した。図１０において、符号００はディスプレイ表示部、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）である。
【０３２８】
以上のようにして得られた実施例５及び６の本発明の調光フィルムを有する表示装置であるプラズマディスプレイは、調光フィルム形成前のプラズマディスプレイとともに、以下のように評価した。
【０３２９】
１）調光フィルムの透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、調光フィルムを形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０３３０】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
調光フィルムを形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０３３１】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
調光フィルムを形成する前後で評価した。
【０３３２】
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
【０３３３】
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面積に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０３３４】
実施例５の本発明の調光フィルムはプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で６９％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は２１％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている調光フィルムを用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して４１に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。
【０３３５】
同じく、実施例６の本発明の調光フィルムは、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で７０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素と同じ波長５８５ｎｍに吸収極大を有する色素より、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は３０％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して３７に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ及び５８５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。特により短波長を吸収する５８５ｎｍ吸収色素により、その効果が大きかった。
【０３３６】
（図１１）に本発明の調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。
【０３３７】
（図１１）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例５の調光フィルムを形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３３８】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。
本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例５または実施例６の調光フィルムを形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ９５００Ｋに上昇し、黒体軌跡からのずれを示す白色偏差もほぼ０であった。
【０３３９】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例５または実施例６の調光フィルムを用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例５の調光フィルムを形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８６％に改善できた。また、実施例６の調光フィルムを形成した場合は８８％に改善できた。
【０３４０】
さらにまた、本発明の調光フィルムは、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３４１】
（実施例７）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．１５ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３４２】
上記のように作製した近赤外遮蔽フィルム（Ｂ）の上に、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することによって、透明高分子フィルムの厚さ合計が０．３３８ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。
【０３４３】
このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４４】
（実施例８）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．３ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ７５μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３４５】
また、近赤外吸収色素を加えずに、同様の手法を用いて、厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムを作製した。
【０３４６】
近赤外遮蔽フィルムに、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック２２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断後、フィルム厚み２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に貼合わせた。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５５ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４７】
（実施例９）
実施例７に示した厚さ１５０μｍの近赤外線遮蔽フィルムの主面上に機能性透明層（Ａ）として、次の機能性透明膜をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する防眩性機能をもった機能性透明層を形成した。
【０３４８】
この近赤外遮蔽機能と防眩性機能を有する透明高分子フィルムに実施例８で示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムをラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することにより透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４９】
（実施例１０）
押出２軸延伸によって厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層を形成し、面抵抗５．３Ω／□の透明導電性薄膜層（Ｄ）を持った電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルムを作製した。
【０３５０】
上記の電磁波遮蔽フィルムに対し、以下の方法で粘着材層を形成した。
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。有機色素は、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。
【０３５１】
アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより電磁波遮蔽フィルム側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、透明粘着層を形成した。
【０３５２】
このフィルムを実施例８に示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に透明導電性薄膜層を上にしてラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した。
【０３５３】
さらにベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）を長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、透明導電性薄膜層の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように反射防止フィルムを内貼りした。さらに、透明導電性薄膜層の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４６３ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３５４】
（実施例１１）
押出２軸延伸によって厚さ２００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層を有する電磁波遮蔽フィルムを作製した。
【０３５５】
さらに、この電磁波遮蔽フィルムの透明導電性薄膜層が形成されていない他方の主面に、次の機能性透明層をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層を形成した。
【０３５６】
さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、透明導電層面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘着材層を形成した。
【０３５７】
上記機能性透明層付電磁波遮蔽フィルムを長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に、周縁部各２０ｍｍを残して内貼りした。
【０３５８】
さらに、透明導電層の厚さ断面導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３５９】
（比較例２）
実施例９に示した厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、０．２３０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３６０】
（比較例３）
実施例１０に示した厚さ７５μｍの電磁波遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、２６３μｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３６１】
上記のように、各光学フィルターフィルムをガラス板に貼合わせたサンプルについて、耐衝撃性の向上と剥離性、ガラス板への接着剤残り状態を調べた。
【０３６２】
耐衝撃試験は、ガラス板に貼合わせたフィルムサンプルを上面にして高さ１．５ｍから重さ５００ｇの鋼球を落下させ、基板ガラスの損傷状態を調べた。試験は各５枚実施した。
【０３６３】
剥離性とガラスへの糊残り試験については、光学フィルムをガラス板に貼合わせ後１時間経過ののち、フィルムをガラス板から剥離し、その状態を調べた。
以上の結果を表２に掲げた。
【０３６４】
【表２】
【０３６５】
表２から分かるように、全ての実施例において耐衝撃性、剥離性、ガラス板への糊残り状態が向上していることが判る。
【０３６６】
以上のように、本発明によれば、光学フィルターフィルムを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、ディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、ディスプレイ前面に直接貼合わせる光学フィルターフィルムを提供することができる。
【０３６７】
（実施例１４）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３６８】
次に防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを防眩性層と反対側に透明粘着材［厚さ１００μｍ］が貼付けられている状態で用意した。
【０３６９】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。続いてロール両端部の各５ｍｍ幅の透明導電性薄膜層部分にロールコート方式で銀ペーストを塗布した。ロールを送る速さは０．５ｍ／ｓとした。
【０３７０】
上記で得られたフィルムを９５８ｍｍの長さに切断し電磁波シールド体を作製した。図２１に断面図を示した。図２１において、符号２３は電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号２４は機能透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）である。
【０３７１】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ透明粘着層を介して、電磁波シールド体を取り付けた。
【０３７２】
視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。
【０３７３】
プラズマディスプレイパネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。図２２に断面図を示した。
【０３７４】
（実施例１５）
防眩性フィルム［巾５５４ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１４と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材［、巾５４８ｍｍ、厚さ１００μｍ］及び導電性粘着材［巾３ｍｍ、厚さ１００μｍ］を貼合わせた。導電性粘着材は、ロール両端部の位置に貼合わせ、それ以外の部分には、透明粘着材を貼合わせた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３７５】
プラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取りつけた。プラズマディスプレイパネルの２長辺には、予め端部に沿って６ｍｍ幅を銅箔テープを貼付けておいた。導電性粘着材と銅箔テープを合わせた部分が実質的電極になる。視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。その他は、実施例１４と同様に実施した。
【０３７６】
（実施例１６）
実施例１４と同様に透明導電性薄膜フィルムを用意した。
【０３７７】
次に、防眩性フィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを用意し、透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３７８】
ロール端面に銀ペーストを塗布した。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
【０３７９】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取り付けた。電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板状の金属部材を接しさせた。
【０３８０】
プラズマディスプレイバネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。
【０３８１】
（比較例４）
実施例１４と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０３８２】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３８３】
さらに得られたフィルムを切断しながらガラス基板［大きさ５６０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］に弱粘着材を介して貼合わせた。
【０３８４】
続いて、防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０３８５】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。乾燥後、ガラス基板より剥がした。上記により、電磁波シールド体を作製した。その他、実施例１４と同様に実施した。
以上の結果を表３に掲げた。
【０３８６】
【表３】
【０３８７】
表３から分かるように、全ての実施例において、電磁波遮断効果に関しては、比較例４に示した従来の場合と同様に問題がない。さらに電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産するための効率が大幅に向上していることが分かる。
【０３８８】
（実施例１７）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３８９】
次に防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意した。
【０３９０】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３９１】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３９２】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。
【０３９３】
上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
【０３９４】
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。なお、透明導電性フィルムと防眩性フィルムとの光学フィルター１枚当りの貼合わせ時間は、全ロールツーロールでの全貼合わせ時間をそのロールから切り出すことができるフィルムの枚数で割ることによって求めた。
【０３９５】
（実施例１８）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３９６】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３９７】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３９８】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０３９９】
（実施例１９）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成し、防眩性透明導電性フィルムの長さ５００ｍロールを作製した。
【０４００】
銅テープ［巾１５ｍｍ、厚さ７５μｍ、長さ５００ｍ、片面に導電性粘着材付き］のロールを２本用意した。
【０４０１】
防眩性透明導電フィルムの両端部に銅テープを貼合わせた。防眩性透明導電性に形成されている透明導電層に銅テープの導電性粘着材が接するように貼合わせを行った。また、各銅テープと防眩性透明導電性フィルムとの重なり幅は１０ｍｍとなるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。
【０４０２】
透明粘着材［巾５７５ｍｍ、厚さ２５μｍ、長さ５００ｍ］のロールを用意した。銅テープが側面に貼合わせられている防眩性透明導電性フィルムにこの透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断した。透明導電層及び銅テープの未粘着加工面に粘着材を貼合わせるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２４に示した。
【０４０３】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０４０４】
（実施例２０）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断し電磁波シールド体を作製した。
【０４０５】
ガラス基板［大きさ５４５ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を用意し、その２長辺に銅板［大きさ１０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を設置した。その銅板には、ねじ留め用の穴をあけた。ねじ留め用の穴は３０ｍｍ間隔で長手方向の端より端まで形成した。このガラス板と銅板を併せた支持基体に電磁波シールド体を貼合わせた。銅板に形成されているねじ留め用の穴にねじを装着した。ねじの装着は、電磁波シールド体の最表面から電磁波シールド体を貫通させて行った。この時、このねじが実質上のスルーホール電極となる。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２５に示した。
【０４０６】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０４０７】
（比較例５）
実施例１８と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ７５μｍ）の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０４０８】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０４０９】
さらに得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０４１０】
続いて、防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０４１１】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０４１２】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
以上の結果を表４に掲げた。
【０４１３】
【表４】
【０４１４】
表４から分かるように、全ての実施例において、電極間の電気抵抗値は、比較例に示した、従来の電極形状のものに比較してほとんど低下していない。また、全ての実施例において、電磁波シールド体１枚当りのフィルム貼合わせ時間が大幅に短縮され、電磁波シールド体の生産効率が大幅に上昇していることが分かる。
【０４１５】
（実施例２１）
以下の点を除いて実施例１と同様に実施した。
【０４１６】
透明積層体１を以下のとおり作製した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４１７】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面に、架橋材を含むポリエステル系の接着剤を厚さ１０μｍに塗布した。次に厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー１２％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両主面には前もってモリブデンを厚み５０μｍとなるようにスパッタリング法により形成しておいた。次に熱硬化型のインキを用いて、スクリーン印刷にて金属層上に格子幅２０μｍ、目の大きさ１５０μｍ×１５０μｍの格子模様を印刷した。９０℃×５分の加熱によりインキを硬化させた後、塩化第２鉄水溶液によりインキにより保護されていない部分の金属層を除去し、次に、溶剤でインキを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率７５％の積層体を得ることができた。可視光線の平均透過率を測定したところ、６７％であった。シート抵抗を測定したところ、０．１１Ω／□であった。
【０４１８】
（実施例２２）
以下の点を除いて実施例３と同様に実施した。
【０４１９】
高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を以下の手法で用意した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４２０】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の上に、アクリル系の接着剤で、厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー８％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両面にも前もってクロメート処理を行っておいた。次にアルカリ現像型のフォトレジストを銅層の上にコーティングし、プリベーク後にフォトマスクを用いて露光、現像して格子幅２５μｍ、目の大きさ１２５μｍ×１２５μｍの格子パターンを設けた後、塩化第２鉄水溶液によりレジストにより保護されていない部分の金属層をエッチングし、次にアルカリ溶液中でレジストを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率６９％の積層体を得ることができた。可視光線透過率を測定したところ６５％、シート抵抗は０．０７Ω／□であった。
【０４２１】
表５により、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格のClassＢまたはClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低いほど電磁波シールド能が優れていた。
【０４２２】
また本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れることが判る。
【０４２３】
金属メッシュ層を用いた本発明の電磁波シールド体は、可視光透過性に優れ、電磁波シールド性、近赤外線シールド性に優れる。
【０４２４】
さらに本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／又は耐擦傷性及び／又は防汚性及び／又は静電気防止性に優れている。
【０４２５】
【表５】
【０４２６】
本発明は、次の実施の形態が可能である。
（１）ディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
ディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２７】
（２）機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２８】
（３）透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４２９】
（４）透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３０】
（５）複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３１】
（６）複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３２】
（７）機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３３】
（８）機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３４】
（９）高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３５】
（１０）機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）、透明粘着層（Ｃ）、透明導電層（Ｄ）、粘着層（Ｅ）およびハードコート層（Ｆ）のうち少なくとも１つの層に、１種以上の色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３６】
（１１）波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３７】
（１２）前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３８】
（１３）テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４３９】
【化８】
【０４４０】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【０４４１】
（１４）波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４２】
（１５）機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４３】
（１６）３０〜８５％の可視光線透過率を有することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４４】
（１７）波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４５】
（１８）フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４６】
（１９）色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４７】
（２０）透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４８】
（２１）フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４４９】
（２２）一部露出した導通部に電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５０】
（２３）フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５１】
（２４）フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５２】
（２５）フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５３】
（２６）透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【０４５４】
（２７）画像を表示するためのディスプレイと、
ディスプレイ画面に設けられ、上記のディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置。
【０４５５】
（２８）表示装置のディスプレイ画面に、上記のディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５６】
（２９）表示装置のディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５７】
（３０）表示装置のディスプレイ画面に、粘着層を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを前記粘着層を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５８】
（３１）表示装置のディスプレイ画面に、粘着層を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを前記粘着層を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【０４５９】
以上詳説したように、透過特性、透過率、反射特性が優れた調光フィルムとして機能するディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。これをプラズマディスプレイ等の表示装置の画面に直接形成することにより、ディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができ、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４６０】
また、過特性、透過率、可視光線反射率に優れ、プラズマディスプレイ等の表示装置から発生する電磁波を遮断する電磁波シールド体として機能するディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。さらに、ディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備え、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４６１】
また、ディスプレイ用フィルタを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、ディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、ディスプレイ前面に直接貼合わせる電磁波シールド体または調光フィルムを提供することができる。
【０４６２】
また、電磁波シールド体の電極形状を工夫することによって、充分な電磁波遮断効果をもち、しかも電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【０４６３】
【図１】本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図３】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例１）を示す断面図である。
【図４】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例２）を示す断面図である。
【図５】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図６】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例３）を示す断面図である。
【図７】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例４）を示す断面図である。
【図８】電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図９】本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例５）を示す断面図である。
【図１０】本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例６）を示す断面図である。
【図１１】調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図１２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１６】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１７】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１８】図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。
【図１９】図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。
【図２０】図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【０４６４】
【図２１】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２６】図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図２７】金属パターンの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０４６５】
００ ディスプレイ表示部
０１ ディスプレイのアース部
０２ 電磁波シールド体の透光部
０３ 電磁波シールド体の導通部
１０ 透明導電層（Ｄ）
１１ 高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）
１２ 金属薄膜層（Ｄｍ）
２０ 高分子フィルム（Ｂ）
２１ 色素含有の高分子フィルム（Ｂ）
２２ ハードコート層（Ｆ）
２３，２４，２６ 透明高分子フィルム（Ｂ）
２５ 嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）
３０ 透明粘着層（Ｃ）
３１ 色素含有の透明粘着層（Ｃ）
４０ 透明粘着層（Ｅ）
４１ 導電性粘着層
５０ 電極
５１ 導電テープ
５２ スルーホール電極
６０ 機能性透明層（Ａ）
６１ 反射防止膜
６２ ハードコート膜
６３ 透明な基材
７０ アンチグレア層（機能性透明層（Ａ））
７１ 防眩性フィルム
８０ 導電性銅箔粘着テープ
１１０ パターン化された導箔
１２０ 光透過部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２】
機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項３】
透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項４】
透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項５】
複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項６】
複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項７】
機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項８】
機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項９】
高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１０】
前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１１】
テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１０記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【化１】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【請求項１２】
波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１３】
機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１４】
３０〜８５％の可視光線透過率を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１５】
波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１６】
色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１７】
透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項２または３記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１８】
フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることを特徴とする請求項１７記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１９】
一部露出した導通部に電極が形成されることを特徴とする請求項１７記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２０】
フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることを特徴とする請求項１８または１９記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２１】
フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項１８または１９記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２２】
フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２３】
透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２４】
画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設けられ、請求項１〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置。
【請求項２５】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２６】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２７】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２８】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１】
プラズマディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
フィルタ全体における高分子フィルムの厚さ合計が０．３ｍｍ以上であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２】
機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項３】
透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項４】
透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項５】
複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項６】
複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項７】
機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項８】
機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項９】
高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１０】
前記色素は、テトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１１】
テトラアザポルフィリン化合物は、下記の化学式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１０記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【化１】
（式中、Ａ1〜Ａ8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又はアリールチオ基を表し、Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8はそれぞれ独立に、連結基を介して芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又はオキシ金属原子を表す。）
【請求項１２】
波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１３】
機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１４】
３０〜８５％の可視光線透過率を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１５】
波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１６】
色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１７】
透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項２または３記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１８】
フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることを特徴とする請求項１７記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項１９】
一部露出した導通部に電極が形成されることを特徴とする請求項１７記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２０】
フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることを特徴とする請求項１８または１９記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２１】
フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項１８または１９記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２２】
フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２３】
透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。
【請求項２４】
画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設けられ、請求項１〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置。
【請求項２５】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２６】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２７】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２８】
請求項１７〜２３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【公開番号】特開２００６−５８８９６（Ｐ２００６−５８８９６Ａ）
【公開日】平成１８年３月２日（２００６．３．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２３９１０８（Ｐ２００５−２３９１０８）
【出願日】平成１７年８月１９日（２００５．８．１９）
【分割の表示】特願２００１−２３０７１（Ｐ２００１−２３０７１）の分割
【原出願日】平成１３年１月３１日（２００１．１．３１）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年３月２日（２００６．３．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月１９日（２００５．８．１９）
【分割の表示】特願２００１−２３０７１（Ｐ２００１−２３０７１）の分割
【原出願日】平成１３年１月３１日（２００１．１．３１）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【Ｆターム（参考）】
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