傾斜構造体の製造方法およびこの方法で製造される金型用母型
【課題】 傾斜構造体の傾斜面を高精度で形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】 フォトレジスト層10、アルミニウム膜20およびガラス基板30を一体で作製し、ガラス基板30を水平面から傾斜させて中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVをフォトレジスト層10へ照射し、同心のリング状露光領域11a,12a,13aを形成する。リング状露光領域11a,12a,13aを除去し、アルミニウム膜20に多重のリング状開口21,22,23を形成した後に、ガラス基板30側から多重のリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bを形成し、リング状露光領域11b,12b,13bを除去する。
【解決手段】 フォトレジスト層10、アルミニウム膜20およびガラス基板30を一体で作製し、ガラス基板30を水平面から傾斜させて中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVをフォトレジスト層10へ照射し、同心のリング状露光領域11a,12a,13aを形成する。リング状露光領域11a,12a,13aを除去し、アルミニウム膜20に多重のリング状開口21,22,23を形成した後に、ガラス基板30側から多重のリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bを形成し、リング状露光領域11b,12b,13bを除去する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、傾斜構造を有する微小部品の製造方法およびこの方法で製造された金型用母型に関する。
【背景技術】
【0002】
フレネルレンズのようにレンズ中心に向かって傾斜している構造をもつ微小部品の製造には、NC工作機械による切削加工やグレースケールマスクを用いて露光するフォトリソグラフィー技術が用いられている。光の透過率がシートの面方向で連続的に変わるグレースケールマスクを用いる3次元微細加工では、このグレースケールマスクを基板上に形成したフォトレジスト層に接触させ、グレースケールマスクを通してフォトレジスト層に紫外光を照射する。フォトレジスト層は、露光量に比例してエッチングレートが増えるため、露光後にエッチングをすると紫外光の露光量に応じて表面に傾斜を形成することができる(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】特開2003−15275号公報(第2,5頁、図6)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献1のグレースケールマスクを用いる3次元微細加工では、露光されたフォトレジスト層をグレースケールマスクの濃淡分布に正確に比例したエッチング深さでエッチングするためには、フォトレジストの材質やエッチング条件などを厳密にコントロールしなければならず、傾斜面を高精度で形成するのは難しいという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
(1)上記問題点を解決するために、請求項1に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に金属膜を形成する工程と、金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、感光性樹脂層と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、微小開口を通して法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、第1の露光工程で露光された感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、除去された台形円錐筒状の部分領域の金属膜のみを溶解除去して金属膜に輪帯状開口パターンを形成する工程と、輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして透明基板側から感光性樹脂層に垂直に露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
【0006】
(2)請求項2に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に金属膜を形成する工程と、金属膜に同心で多重の輪帯状開口パターンを形成する工程と、金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、透明基板と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、微小開口、透明基板および金属膜の輪帯状開口パターンを通して法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、第1の露光工程で露光された感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして透明基板側から感光性樹脂層に垂直に露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
(3)請求項3に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項1または2の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、微小開口と感光性樹脂層とを前記法線に直交する平面に沿って相対的に移動させて繰り返し行ってもよい。
また、請求項4に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項3の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、微小開口と感光性樹脂層との相対的移動の度に所定の傾斜角度を変更することにより、台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにしてもよい。
【0007】
(4)請求項5に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、透明基板と感光性樹脂層との境界面の所定の集光位置に集光するように露光光を所定の入射角で感光性樹脂層へ照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、集光位置に集光するように露光光の入射角をほぼ0°として感光性樹脂層へ照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第1及び第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
請求項6に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項5の傾斜構造体の製造方法において、第1及び第2の露光工程は、所定の集光位置を変えて繰り返し行ってもよい。
また、請求項7に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項6の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、所定の集光位置を変える度に所定の入射角を変更することにより、台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることができる。
【0008】
(5)請求項8に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、径方向に配列される複数の開口を平面側に有する平凸レンズの外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、平凸レンズに感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、透明基板を中心線廻りに回転させながら平凸レンズの複数の開口を通して露光光を照射することにより、感光性樹脂層を多重の台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、平凸レンズの複数の開口に対応する位置に複数の開口を有する透明平板の外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、透明平板に感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、透明基板を前記中心線廻りに回転させながら透明平板の複数の開口を通して露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第1及び第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
【0009】
(6)請求項9に係る発明の金型用母型は、請求項1〜4のいずれかの製造方法で作製される傾斜構造体を金属膜の表面に形成して成ることを特徴とする。
請求項10に係る発明の金型用母型は、請求項5〜8のいずれかの製造方法で作製される傾斜構造体を有することを特徴とする。
請求項11に係る発明の金型用母型は、請求項4の製造方法で作製される傾斜構造体がフレネルレンズ形状であることを特徴とする。
請求項12に係る発明の金型は、請求項9または10の金型用母型を転写して作製される金型であることを特徴とする。
請求項13に係る発明のフレネルレンズ用金型は、請求項11の金型用母型を転写して作製されるフレネルレンズ用金型であることを特徴とする。
請求項14に係る発明のマイクロフレネルレンズは、請求項13のフレネルレンズ用金型により作製されることを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、中心線廻りに回転している感光性樹脂層に対して露光光を所定の傾斜角度で照射し、感光性樹脂層を輪帯状に部分露光するようにしたので、感光性樹脂層にその傾斜角度に応じた傾斜面を高精度で形成することができる。また、このような傾斜面を有する傾斜構造体を金型用母型とすることにより、この母型から作製される金型にも傾斜面を高精度で形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
以下、本発明の実施の形態による傾斜構造体の製造方法について、図1〜11を参照しながら説明する。
【0012】
〈第1の実施の形態〉
図1は、本発明の第1の実施の形態による製造方法で作製されたフレネルレンズ母型の構造を模式的に示す断面図である。フレネルレンズ母型1は、傾斜構造を有するフォトレジスト層10、アルミニウム膜20Aおよびガラス基板30が一体化され、ガラス基板30に垂直な中心線CLに対して回転対称の形状をなしている。フォトレジスト層10は、輪帯状のフォトレジスト11〜15から成り、中心線CLに最も近いフォトレジスト11の傾斜面が最も緩やかであり、中心線CLから遠ざかるにつれて傾斜面が急になり、全体として正のパワーをもつ凸レンズの機能を有する。アルミニウム膜20Aは、同心で多重の輪帯状の開口21〜24のパターンを有する。
【0013】
図2は、図1のフレネルレンズ母型1の製造工程を説明する図であり、(a)〜(j)は工程順に示す図である。以下、図中、左右方向を水平、上下方向を垂直と呼ぶ。
図2(a)に示すように、ガラス基板30上に厚さ1μm程度のアルミニウム膜20をスパッタリング法で形成し、アルミニウム膜20上に厚さ20μm程度のポジ型のフォトレジスト層10をコーティングする。
【0014】
図2(b)に示すように、アルミニウム膜20とフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平面から角度θ1傾斜させ、ピンホール40aを有するマスク40をフォトレジスト層10に近接配置し、ピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射する。つまり、紫外光UVのフォトレジスト層10への入射角はθ1であり、その照射による露光領域11aは線状である。
図2(c)に示すように、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVを照射すると、露光領域11はリング状となる。このリング状露光領域11は、詳細には、円錐筒の頭部を切り取った台形状円錐筒の形状である。
【0015】
図2(d)に示すように、ガラス基板30を水平面から角度θ2(<θ1)傾斜させ、マスク40を図2(c)の位置からガラス基板30の径方向であるX方向にスライドさせる。そして、ピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射すると、線状の露光領域12aが形成される。
図2(e)に示すように、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVを照射し、リング状露光領域11aと同心のリング状露光領域12aを形成する。リング状露光領域12aは、角度θ2<θ1であるからリング状露光領域11aよりも傾斜面が急となる。リング状露光領域12aも、リング状露光領域11aと同じく台形状円錐筒の形状である。
【0016】
図2(f)は、同様に、リング状露光領域13aを形成し、同心のリング状露光領域11a〜13aの部分露光が終了した状態を示す。
図2(g)に示すように、リング状露光領域11a〜13aを溶解除去する。
図2(h)に示すように、溶解除去された空間を通してエッチング液をアルミニウム膜20へ接触させ、その接触部分のアルミニウム膜20を溶解除去する。アルミニウム膜20には、同心で多重のリング状開口21,22,23が形成され、このような開口パターンをもつアルミニウム膜20をアルミニウム膜20Aとして以下用いる。
【0017】
図2(i)に示すように、ガラス基板30側からアルミニウム膜20Aのリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射すると、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bが形成される。リング状露光領域11b,12b,13bのそれぞれは円筒状である。
図2(j)に示すように、リング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去すると、フレネルレンズ母型1が完成する。この工程については、図3を用いて詳述する。
【0018】
図3は、図2(j)のフォトレジスト層10の溶解除去の過程を模式的に示す部分断面図である。図2(i)の工程で形成されたリング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去すると、フォトレジスト層10の露光されなかった領域11c,12c,13cも離脱してフォトレジスト層10の残存領域は、リング状領域11,12,13だけとなり、フレネルレンズの構造が完成する。
【0019】
本実施の形態では、図2(b)〜(e)で示した第1の露光工程でリング状露光領域11a,12a,13aを形成してこれらを部分除去することにより、傾斜面の寸法や角度を高精度で作製することができる。また、ガラス基板30の傾斜角度θ1,θ2を変えることにより、フレネルレンズ母型の傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0020】
フレネルレンズ母型1から金型を製作する方法を説明する。フレネルレンズ母型1のリング状領域11,12,13から成るフォトレジスト層10の表面に、下地金属としてチタンおよびパラジウムをスパッタリング法により連続して成膜する。チタンおよびパラジウムの2層膜上にニッケル層を電気メッキ法により厚く析出させ、フレネルレンズ母型1を除去することにより金型を製作する。電気メッキ法の代わりに、無電解メッキ法を用いることもできる。
【0021】
この金型からプラスチック製のマイクロフレネルレンズを作製するには、溶融または流動状態にあるプラスチック材料を射出成型、圧縮成型、押出成型または紫外線硬化等により加工する一般の製造法が用いられる。特に射出成型は、他の成型法と比べて、複雑形状を有する高精度部品の加工に適しており、部品の寸法安定性にも優れている。また、現在の射出成型機は、生産の自動化がなされており、多量生産が可能である。射出成型に用いられる樹脂材料には、PMMA(ポリメチルメタクリレート)、PS(ポリスチレン)、ABS樹脂、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の熱可塑性樹脂、およびフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂がある。なお、ガラス製のマイクロフレネルレンズの作製には、例えばガラスモールド法が用いられる。
【0022】
〈第2の実施の形態〉
図4は、本発明の第2の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図である。本実施の形態では、第1の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0023】
図4(a)は、ガラス基板30上にアルミニウム膜20をスパッタリング法で形成した状態を示す。アルミニウム膜20に対して多重のリング状開口を有するマスクを用いてエッチング加工を施し、図4(b)に示すように、中心線CLを同心とする多重のリング状開口21,22,23を有するパターン付きアルミニウム膜20Aとした後に、パターン付きアルミニウム膜20A上にフォトレジスト層10を形成する。
【0024】
図4(c)に示すように、パターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平面から角度θ1傾斜させ、ピンホール40aを有するマスク40をフォトレジスト層10に近接配置し、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ入射角θ1で照射する。このとき、ピンホール40aがリング状開口21の真上に位置するように位置決めする。紫外光UVの照射による露光領域11aはリング状、すなわち台形状円錐筒の形状となる。
【0025】
図4(d)は、ガラス基板30とマスク40を水平面から角度θ2(<θ1)傾斜させ、マスク40を図4(c)の位置からX方向にスライドさせ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ入射角θ2で照射し、リング状露光領域11aと同心のリング状露光領域12aを形成した状態を示す。リング状露光領域12aは、角度θ2<θ1であるからリング状露光領域11よりも傾斜面が急となる。
【0026】
図4(e)は、同様に、リング状露光領域13aを形成し、同心のリング状露光領域11a〜13aの部分露光が終了した状態を示す。
図4(f)に示すように、リング状露光領域11a,12a,13aを溶解除去する。
図4(g)は、ガラス基板30側からアルミニウム膜20Aの多重のリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bを形成した状態を示す。
図4(h)は、リング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去し、フレネルレンズ母型が完成した状態を示す。なお、図4(f)と図4(g)を入れ替えて、第1と第2の露光工程が終わった後で、リング状露光領域11a,12a,13aとリング状露光領域11b,12b,13bを同時に除去してもよい。フレネルレンズ母型1から金型を製作する方法および金型からマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0027】
本実施の形態のフレネルレンズ母型の製造方法も、第1の実施の形態の製造方法と同様、傾斜面の寸法や角度を高精度で作製することができ、ガラス基板30の傾斜角度θ1,θ2を変えることにより、フレネルレンズ母型1の傾斜面の角度を自由に変えることができる。また、フレネルレンズ母型1を転写して作製した金型も、その金型を使用して大量に製作されるフレネルレンズも斜面の寸法や角度を高精度に作製することができる。
【0028】
〈第3の実施の形態〉
図5は、本発明の第3の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図である。本実施の形態では、第1および第2の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0029】
図5(a)に示すように、ガラス基板30上に厚さ20μm程度のフォトレジスト層10を形成した後に、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらレーザ光学系50から射出される紫外レーザ光L1を入射角θ3でフォトレジスト層10へ照射する。このとき、紫外レーザ光L1がフォトレジスト層10とガラス基板30の境界面上の集光位置F1に集光するようにレーザ光学系50を配置する。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域11aが形成される。このリング状露光領域11aも上下の肉厚が若干異なるが、台形状円錐筒の形状である。なお、図5では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。
【0030】
図5(b)は、レーザ光照射を停止した上で、レーザ光学系50を紫外レーザ光L1の入射角θ3の角度から入射角がほぼ0°になるまで回転させた後に、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1をほぼ入射角0°でフォトレジスト層10へ照射した状態を示す。このときも、紫外レーザ光L1が集光位置F1に集光するようにレーザ光学系50を位置決めする。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域11bが形成される。
【0031】
図5(c)は、レーザ光学系50を図5(b)の位置からガラス基板30の径方向であるX方向にスライドさせ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1を入射角θ4(>θ3)でフォトレジスト層10へ照射した状態を示す。このとき、紫外レーザ光L1がフォトレジスト層10とガラス基板30の境界面上の集光位置F2に集光するようにレーザ光学系50を位置決めする。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域12aが形成される。
【0032】
その後、図5(b)で説明したのと同様に、レーザ光照射を停止した上で、レーザ光学系50を紫外レーザ光L1の入射角θ4の角度から入射角がほぼ0°になるまで回転させ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1をほぼ入射角0°でフォトレジスト層10へ照射する。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域12bが形成される。なお、本実施の形態では、レーザ光学系50を回転あるいはスライドさせたが、フォトレジスト層10とレーザ光学系50との位置関係は相対的なものであるから、レーザ光学系50は固定しておき、フォトレジスト層10が形成されたガラス基板30を回転あるいはスライドさせてもよい。金型およびマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1および第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0033】
このようにして、リング状露光領域を繰り返し形成した後に、その多重のリング状露光領域を除去すれば、図1に示されるようなフレネルレンズ母型1が完成する。また、以上の説明から分かるように、本実施の形態では、フォトレジスト層10とガラス基板30の間にはパターン付きアルミニウム膜20Aを設ける必要がない。従って、第1および第2の実施の形態の製造方法と同様の効果を奏するとともに、パターン付きアルミニウム膜20Aを形成する工程を省略することができる。
【0034】
〈第4の実施の形態〉
図6は、本発明の第4の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図であり、図6(a)は上面図、図6(b)と図6(c)は側面図である。本実施の形態では、第1〜第3の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0035】
図6に示されるように、フォトレジスト層10が形成されたガラス基板30と、平凸レンズ基材60aおよびパターニングされたアルミニウム膜60bから成るマスク付き平凸レンズ60とを上下方向に対向させて配置する。ガラス基板30とマスク付き平凸レンズ60の径はほぼ同じである。ガラス基板30の中心線CLとマスク付き平凸レンズ60の光軸AXとは平行であり、中心線CLにマスク付き平凸レンズ60の外周部が位置し、光軸AX上にガラス基板30の外周部が位置するように、ガラス基板30とマスク付き平凸レンズ60とを位置決めして対向配置する。アルミニウム膜60bは、平凸レンズ60の平面側に配設され、アルミニウム膜60bには、微小な開口61〜64がマスク付き平凸レンズ60の径方向に並ぶように形成されている。
【0036】
上記の配置で、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、開口61〜64を通して平行光束の紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射する。開口61〜64を通過した紫外光UVの4本のビームは、それぞれ平凸レンズ基材60aによる屈折作用を受け、焦点位置Fに集光するように進行するので、フォトレジスト層10には、図6(b)に示すように、同心で多重のリング状露光領域11a〜14aが形成される。なお、図6では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。
【0037】
次に、図6(c)に示すように、マスク付き平凸レンズ60に代えてマスク付きガラス平板70を配置する。マスク付きガラス平板70のアルミニウム膜70bには、微小な開口71〜74がマスク付きガラス平板70の径方向に並ぶように形成されている。ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、開口71〜74を通して平行光束の紫外光UVをフォトレジスト層10へ垂直照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b〜14bを形成する。リング状露光領域11a〜14aと11b〜14bを溶解除去し、フレネルレンズ母型が完成する。
【0038】
なお、本実施の形態では、平凸レンズ基材60aによる屈折作用を利用してリング状露光領域11a〜14aを形成したが、平凸レンズ基材60aに代えて、光軸に直交する1方向のみに屈折力を有するシリンドリカルレンズを用いてもよい。また、平凸レンズ基材60aの正の屈折力を変えることにより、フレネルレンズ母型の傾斜面の角度を自由に変えることができる。金型およびマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1〜第3の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0039】
本実施の形態でも、第1〜第3の実施の形態の製造方法と同様の効果を奏するとともに、ガラス基板30を傾斜させる工程はないので、ガラス基板30を保持するホルダーにも傾斜機能は必要なく、傾斜角度を精度よく設定する機構も工程も省略でき、コスト低減に寄与する。また、マスク付き平凸レンズ60を用いた一括露光でリング状露光領域11a〜14aを形成できるので、露光時間の短縮を図ることもできる。
【0040】
続いて、本発明の実施の形態の変形例について説明する。
図7は、本発明の実施の形態の第1の変形例を説明する概略図であり、図7(a)は、フレネルレンズ母型の製造工程を説明する側面図、図7(b)は下面図である。多重のリング状開口21〜24を有するパターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平に配置し、ガラス基板30と所定間隔でスリット付きマスク80を対向配置する。スリット付きマスク80には、図7(b)に示されるように、中心Cと矩形の一辺とを結ぶ直線状の開口であるスリット80aが形成されている。露光用の光源としては、エキシマレーザを用い、エキシマレーザ光L2がスリット付きマスク80のスリット80aを通ってガラス基板30に斜めに入射するように、光源と光学系を配置する。
【0041】
上記の配置で、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、スリット80a、ガラス基板30、パターン付きアルミニウム膜20Aを順次通してエキシマレーザ光L2をフォトレジスト層10へ照射する。エキシマレーザ光L2は、凸レンズ85により集光点Sに収束し、集光点Sを点光源として拡がり、スリット付きマスク80を照射する。エキシマレーザ光L2は、スリット80aとパターン付きアルミニウム膜20Aのリング状開口21〜24とにより4本のビームとなってフォトレジスト層10を露光する。エキシマレーザ光L2のうち、図7(b)の符号21a〜24aで示す領域を通った光がフォトレジスト層10の露光に実質的に寄与する。フォトレジスト層10には、図7(a)に示すように、多重のリング状露光領域11a〜14aが形成される。なお、図7では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。この後の工程は、第1または第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。斜め入射の角度と凸レンズ85の焦点距離を変えることにより、台形状円錐筒形状のリング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0042】
図8は、本発明の実施の形態の第2の変形例を説明する概略図である。パターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とパターン付きアルミニウム層90Aとが形成されたガラス基板30を水平配置し、パターン付きアルミニウム層90Aの上方に、エキシマレーザ光L2を集光する凸レンズ95,96,97のいずれか1つを配置する。パターン付きアルミニウム膜20Aには、リング状開口21,22,23が形成され、パターン付きアルミニウム層90Aには、リング状開口91,92,93が形成されている。リング状開口91,92,93の直径は、それぞれ対応するリング状開口21,22,23の直径よりも小さく設定されている。すなわち、リング状開口91とリング状開口21とを結ぶ傾斜面の角度、リング状開口92とリング状開口22とを結ぶ傾斜面の角度、リング状開口93とリング状開口23とを結ぶ傾斜面の角度は、順に傾斜が増すように設定される。凸レンズ95,96,97は、それぞれ焦点距離が異なり、それぞれY方向に移動できるように構成されている。
【0043】
凸レンズ95を上下方向の位置y1に設置した場合は、エキシマレーザ光L2をパターン付きアルミニウム層90Aに入射させると、エキシマレーザ光L2は、凸レンズ95の屈折力(焦点距離)に応じた拡がり角でリング状開口91を通ってフォトレジスト層10を露光し、リング状露光領域11aが形成される。同様に、凸レンズ96を位置y2に設置した場合は、リング状露光領域12aが形成され、凸レンズ97を位置y3に設置した場合は、リング状露光領域13aが形成される。露光がすべて終了した段階でパターン付きアルミニウム層90Aを除去する。この後の工程は、第1または第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。なお、凸レンズ95,96,97の焦点距離を変えることにより、リング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。この場合、リング状開口21,22,23とリング状開口91,92,93のそれぞれの位置関係もレンズパワーと相関して設定する。
【0044】
図9は、本発明の実施の形態の第3の変形例を説明する概略図である。アルミニウム膜20とフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平に配置し、フォトレジスト層10と所定間隔で光ファイバホルダー100を対向配置する。光ファイバホルダー100には、光ファイバ101,102,103がそれぞれ異なる傾斜角で保持されている。
【0045】
ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら各光ファイバから平行光束のエキシマレーザ光L2をそれぞれの入射角でフォトレジスト層10へ向けて照射する。光ファイバ101からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域11aが形成される。同様に、光ファイバ102からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域12aが形成され、光ファイバ103からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域13aが形成される。この後の工程は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。なお、光ファイバ101,102,103の傾斜角を変えることにより、台形状円錐筒形状のリング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0046】
図10は、本発明の実施の形態の第4の変形例を説明する概略図である。図10では、中心線CLの右半分を省略し、左半分のみを示す。
図10(a)は、ネガ型フォトレジスト層110が形成されたガラス基板30を水平配置し、先述した第3あるいは第4の実施の形態と同じ方法で、ネガ型フォトレジスト層110中にリング状露光領域111a,112a,113aを形成した状態を示す。
【0047】
図10(b)は、ネガ型フォトレジスト層110をエッチングし、前述したような台形状円錐筒形状のリング状露光領域111a,112a,113aのみを残した状態を示す。本変形例では、ネガ型フォトレジストを用いているので、未露光部分がエッチング液に溶解して除去される。
図10(c)は、リング状露光領域111a,112a,113aの表面にアルミニウム膜120をスパッタリング法で形成した状態を示す。
【0048】
図10(d)は、アルミニウム膜120が形成されたリング状露光領域111a,112a,113aを完全に埋めるように、ネガ型フォトレジスト層130をコーティングした状態を示す。
図10(e)は、ガラス基板30側から紫外光UVをネガ型フォトレジスト層130へ垂直照射し、ネガ型フォトレジスト層130にリング状露光領域131a,132a,133aを形成した状態を示す。ネガ型フォトレジスト層130中の他の部分は、アルミニウム膜120により遮光されるため露光しない。
【0049】
図10(f)は、ネガ型フォトレジスト層130をエッチングしてリング状露光領域1131,132,133のみを残し、アルミニウム膜120を溶解除去した状態を示す。リング状露光領域111a+131a,112a+132a,113a+133aによる傾斜構造をもつフレネルレンズ母型が完成する。
【0050】
図11は、本発明の実施の形態の第5の変形例を説明する概略図である。図11では、中心線CLの左半分のみを示す。
図11(a)は、同心の多重リングパターンをもつマスクを介してICP−RIE(inductively coupled plasma - reactive ion etching)により、シリコン基板140をエッチングしたときの状態を示す。シリコン基板140の表面に、同心で多重の環状凹部141,142,143が形成される。
【0051】
図11(b)は、シリコン基板140にフォトレジスト層150をコーティングした状態を示す。シリコン基板140の凹部には、リング状フォトレジスト層151,152,153が形成される。
図11(c)は、シリコン基板140を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVをシリコン基板140の中心線CL側から外周側へ斜めにフォトレジスト層150に照射し、リング状フォトレジスト層151,152,153にそれぞれリング状露光領域151b,152b,153bを形成した状態を示す。この変形例では、紫外光UVをフォトレジスト層150に斜め入射させるため、リング状フォトレジスト層151,152,153には、それぞれ未露光部分151a,152a,153aが生じる。
【0052】
図11(d)は、リング状フォトレジスト層151,152,153をマスクとしてICP−RIEにより、シリコン基板140をエッチングしたときの状態を示す。
図11(e)は、凹凸表面にアルミニウム膜160をスパッタリング法で形成した状態を示す。
図11(f)は、アルミニウム膜160で覆われた凹凸表面の凹部にリング状フォトレジスト層171,172,173をコーティングした状態を示す。
【0053】
図11(g)は、シリコン基板140を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVをシリコン基板140の中心線CL側から外周側へ斜めにフォトレジスト層に照射し、リング状フォトレジスト層171,172,173にそれぞれリング状露光領域171b,172b,173bを形成した状態を示す。リング状フォトレジスト層171,172,173には、それぞれ未露光部分171a,172a,173aが生じる。
【0054】
図11(h)は、アルミニウム膜160を溶解除去し、図11(c)の紫外光UV露光で形成されたリング状露光領域151b,152b,153bと、図11(g)の紫外光UV露光で形成されたリング状露光領域171b,172b,173bを除去した状態を示す。すなわち、リング状未露光部分151a,152a,153aと171a,172a,173aが残り、これらによる傾斜構造をもつフレネルレンズ母型が完成する。このフレネルレンズ母型では、リング状未露光部分151a,152a,153a,171a,172a,173aのそれぞれの境界に平坦のギャップが生じない。
【0055】
本発明の傾斜構造体の製造方法は、フレネルレンズ母型に限らず、傾斜構造を有する光学素子や精密機器部品、例えば回折格子、ホログラム用光学素子、インクジェットプリンタ用ヘッドの作製に用いられる金型用母型にも適用することができる。また、傾斜構造体は1つでもよいし、複数でもよく、傾斜構造体が複数個配列する場合、各々の傾斜構造体の傾斜面は、同一角度でもよいし、異なる角度であってもよい。本発明は、その特徴を損なわない限り、以上説明した実施の形態に何ら限定されない。
【図面の簡単な説明】
【0056】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法で作製されたフレネルレンズ母型の構造を模式的に示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法の一工程を説明するための部分断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図6】本発明の第4の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図7】本発明の実施の形態の第1の変形例を説明する図である。
【図8】本発明の実施の形態の第2の変形例を説明する図である。
【図9】本発明の実施の形態の第3の変形例を説明する図である。
【図10】本発明の実施の形態の第4の変形例を説明する図である。
【図11】本発明の実施の形態の第5の変形例を説明する図である。
【符号の説明】
【0057】
1:フレネルレンズ母型
10:フォトレジスト層
11〜15:輪帯状フォトレジスト
11a〜14a、11b〜14b:リング状露光領域
20,20A:アルミニウム膜
21〜24:リング状開口
30:ガラス基板
40:マスク
40a:ピンホール
50:レーザ光学系
60:マスク付き平凸レンズ
70:マスク付きガラス平板
80:スリット付きマスク
85,95,96,97:凸レンズ
90A:アルミニウム層
100:光ファイバホルダー
101,102,103:光ファイバ
110,130:ネガ型フォトレジスト層
120:アルミニウム膜
140:シリコン基板
150,170:フォトレジスト層
AX:光軸
CL:中心線
L1:紫外レーザ光
L2:エキシマレーザ光
UV:紫外光
【技術分野】
【0001】
本発明は、傾斜構造を有する微小部品の製造方法およびこの方法で製造された金型用母型に関する。
【背景技術】
【0002】
フレネルレンズのようにレンズ中心に向かって傾斜している構造をもつ微小部品の製造には、NC工作機械による切削加工やグレースケールマスクを用いて露光するフォトリソグラフィー技術が用いられている。光の透過率がシートの面方向で連続的に変わるグレースケールマスクを用いる3次元微細加工では、このグレースケールマスクを基板上に形成したフォトレジスト層に接触させ、グレースケールマスクを通してフォトレジスト層に紫外光を照射する。フォトレジスト層は、露光量に比例してエッチングレートが増えるため、露光後にエッチングをすると紫外光の露光量に応じて表面に傾斜を形成することができる(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】特開2003−15275号公報(第2,5頁、図6)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献1のグレースケールマスクを用いる3次元微細加工では、露光されたフォトレジスト層をグレースケールマスクの濃淡分布に正確に比例したエッチング深さでエッチングするためには、フォトレジストの材質やエッチング条件などを厳密にコントロールしなければならず、傾斜面を高精度で形成するのは難しいという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
(1)上記問題点を解決するために、請求項1に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に金属膜を形成する工程と、金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、感光性樹脂層と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、微小開口を通して法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、第1の露光工程で露光された感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、除去された台形円錐筒状の部分領域の金属膜のみを溶解除去して金属膜に輪帯状開口パターンを形成する工程と、輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして透明基板側から感光性樹脂層に垂直に露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
【0006】
(2)請求項2に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に金属膜を形成する工程と、金属膜に同心で多重の輪帯状開口パターンを形成する工程と、金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、透明基板と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、微小開口、透明基板および金属膜の輪帯状開口パターンを通して法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、第1の露光工程で露光された感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして透明基板側から感光性樹脂層に垂直に露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
(3)請求項3に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項1または2の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、微小開口と感光性樹脂層とを前記法線に直交する平面に沿って相対的に移動させて繰り返し行ってもよい。
また、請求項4に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項3の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、微小開口と感光性樹脂層との相対的移動の度に所定の傾斜角度を変更することにより、台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにしてもよい。
【0007】
(4)請求項5に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、透明基板と感光性樹脂層との境界面の所定の集光位置に集光するように露光光を所定の入射角で感光性樹脂層へ照射することにより、感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、集光位置に集光するように露光光の入射角をほぼ0°として感光性樹脂層へ照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第1及び第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
請求項6に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項5の傾斜構造体の製造方法において、第1及び第2の露光工程は、所定の集光位置を変えて繰り返し行ってもよい。
また、請求項7に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、請求項6の傾斜構造体の製造方法において、第1の露光工程は、所定の集光位置を変える度に所定の入射角を変更することにより、台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることができる。
【0008】
(5)請求項8に係る発明の傾斜構造体の製造方法は、透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、径方向に配列される複数の開口を平面側に有する平凸レンズの外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、平凸レンズに感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、透明基板を中心線廻りに回転させながら平凸レンズの複数の開口を通して露光光を照射することにより、感光性樹脂層を多重の台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、平凸レンズの複数の開口に対応する位置に複数の開口を有する透明平板の外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、透明平板に感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、透明基板を前記中心線廻りに回転させながら透明平板の複数の開口を通して露光光を照射することにより、感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、第1及び第2の露光工程で露光された感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする。
【0009】
(6)請求項9に係る発明の金型用母型は、請求項1〜4のいずれかの製造方法で作製される傾斜構造体を金属膜の表面に形成して成ることを特徴とする。
請求項10に係る発明の金型用母型は、請求項5〜8のいずれかの製造方法で作製される傾斜構造体を有することを特徴とする。
請求項11に係る発明の金型用母型は、請求項4の製造方法で作製される傾斜構造体がフレネルレンズ形状であることを特徴とする。
請求項12に係る発明の金型は、請求項9または10の金型用母型を転写して作製される金型であることを特徴とする。
請求項13に係る発明のフレネルレンズ用金型は、請求項11の金型用母型を転写して作製されるフレネルレンズ用金型であることを特徴とする。
請求項14に係る発明のマイクロフレネルレンズは、請求項13のフレネルレンズ用金型により作製されることを特徴とする。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、中心線廻りに回転している感光性樹脂層に対して露光光を所定の傾斜角度で照射し、感光性樹脂層を輪帯状に部分露光するようにしたので、感光性樹脂層にその傾斜角度に応じた傾斜面を高精度で形成することができる。また、このような傾斜面を有する傾斜構造体を金型用母型とすることにより、この母型から作製される金型にも傾斜面を高精度で形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
以下、本発明の実施の形態による傾斜構造体の製造方法について、図1〜11を参照しながら説明する。
【0012】
〈第1の実施の形態〉
図1は、本発明の第1の実施の形態による製造方法で作製されたフレネルレンズ母型の構造を模式的に示す断面図である。フレネルレンズ母型1は、傾斜構造を有するフォトレジスト層10、アルミニウム膜20Aおよびガラス基板30が一体化され、ガラス基板30に垂直な中心線CLに対して回転対称の形状をなしている。フォトレジスト層10は、輪帯状のフォトレジスト11〜15から成り、中心線CLに最も近いフォトレジスト11の傾斜面が最も緩やかであり、中心線CLから遠ざかるにつれて傾斜面が急になり、全体として正のパワーをもつ凸レンズの機能を有する。アルミニウム膜20Aは、同心で多重の輪帯状の開口21〜24のパターンを有する。
【0013】
図2は、図1のフレネルレンズ母型1の製造工程を説明する図であり、(a)〜(j)は工程順に示す図である。以下、図中、左右方向を水平、上下方向を垂直と呼ぶ。
図2(a)に示すように、ガラス基板30上に厚さ1μm程度のアルミニウム膜20をスパッタリング法で形成し、アルミニウム膜20上に厚さ20μm程度のポジ型のフォトレジスト層10をコーティングする。
【0014】
図2(b)に示すように、アルミニウム膜20とフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平面から角度θ1傾斜させ、ピンホール40aを有するマスク40をフォトレジスト層10に近接配置し、ピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射する。つまり、紫外光UVのフォトレジスト層10への入射角はθ1であり、その照射による露光領域11aは線状である。
図2(c)に示すように、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVを照射すると、露光領域11はリング状となる。このリング状露光領域11は、詳細には、円錐筒の頭部を切り取った台形状円錐筒の形状である。
【0015】
図2(d)に示すように、ガラス基板30を水平面から角度θ2(<θ1)傾斜させ、マスク40を図2(c)の位置からガラス基板30の径方向であるX方向にスライドさせる。そして、ピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射すると、線状の露光領域12aが形成される。
図2(e)に示すように、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVを照射し、リング状露光領域11aと同心のリング状露光領域12aを形成する。リング状露光領域12aは、角度θ2<θ1であるからリング状露光領域11aよりも傾斜面が急となる。リング状露光領域12aも、リング状露光領域11aと同じく台形状円錐筒の形状である。
【0016】
図2(f)は、同様に、リング状露光領域13aを形成し、同心のリング状露光領域11a〜13aの部分露光が終了した状態を示す。
図2(g)に示すように、リング状露光領域11a〜13aを溶解除去する。
図2(h)に示すように、溶解除去された空間を通してエッチング液をアルミニウム膜20へ接触させ、その接触部分のアルミニウム膜20を溶解除去する。アルミニウム膜20には、同心で多重のリング状開口21,22,23が形成され、このような開口パターンをもつアルミニウム膜20をアルミニウム膜20Aとして以下用いる。
【0017】
図2(i)に示すように、ガラス基板30側からアルミニウム膜20Aのリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射すると、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bが形成される。リング状露光領域11b,12b,13bのそれぞれは円筒状である。
図2(j)に示すように、リング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去すると、フレネルレンズ母型1が完成する。この工程については、図3を用いて詳述する。
【0018】
図3は、図2(j)のフォトレジスト層10の溶解除去の過程を模式的に示す部分断面図である。図2(i)の工程で形成されたリング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去すると、フォトレジスト層10の露光されなかった領域11c,12c,13cも離脱してフォトレジスト層10の残存領域は、リング状領域11,12,13だけとなり、フレネルレンズの構造が完成する。
【0019】
本実施の形態では、図2(b)〜(e)で示した第1の露光工程でリング状露光領域11a,12a,13aを形成してこれらを部分除去することにより、傾斜面の寸法や角度を高精度で作製することができる。また、ガラス基板30の傾斜角度θ1,θ2を変えることにより、フレネルレンズ母型の傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0020】
フレネルレンズ母型1から金型を製作する方法を説明する。フレネルレンズ母型1のリング状領域11,12,13から成るフォトレジスト層10の表面に、下地金属としてチタンおよびパラジウムをスパッタリング法により連続して成膜する。チタンおよびパラジウムの2層膜上にニッケル層を電気メッキ法により厚く析出させ、フレネルレンズ母型1を除去することにより金型を製作する。電気メッキ法の代わりに、無電解メッキ法を用いることもできる。
【0021】
この金型からプラスチック製のマイクロフレネルレンズを作製するには、溶融または流動状態にあるプラスチック材料を射出成型、圧縮成型、押出成型または紫外線硬化等により加工する一般の製造法が用いられる。特に射出成型は、他の成型法と比べて、複雑形状を有する高精度部品の加工に適しており、部品の寸法安定性にも優れている。また、現在の射出成型機は、生産の自動化がなされており、多量生産が可能である。射出成型に用いられる樹脂材料には、PMMA(ポリメチルメタクリレート)、PS(ポリスチレン)、ABS樹脂、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の熱可塑性樹脂、およびフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂がある。なお、ガラス製のマイクロフレネルレンズの作製には、例えばガラスモールド法が用いられる。
【0022】
〈第2の実施の形態〉
図4は、本発明の第2の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図である。本実施の形態では、第1の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0023】
図4(a)は、ガラス基板30上にアルミニウム膜20をスパッタリング法で形成した状態を示す。アルミニウム膜20に対して多重のリング状開口を有するマスクを用いてエッチング加工を施し、図4(b)に示すように、中心線CLを同心とする多重のリング状開口21,22,23を有するパターン付きアルミニウム膜20Aとした後に、パターン付きアルミニウム膜20A上にフォトレジスト層10を形成する。
【0024】
図4(c)に示すように、パターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平面から角度θ1傾斜させ、ピンホール40aを有するマスク40をフォトレジスト層10に近接配置し、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ入射角θ1で照射する。このとき、ピンホール40aがリング状開口21の真上に位置するように位置決めする。紫外光UVの照射による露光領域11aはリング状、すなわち台形状円錐筒の形状となる。
【0025】
図4(d)は、ガラス基板30とマスク40を水平面から角度θ2(<θ1)傾斜させ、マスク40を図4(c)の位置からX方向にスライドさせ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらピンホール40aを通して紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ入射角θ2で照射し、リング状露光領域11aと同心のリング状露光領域12aを形成した状態を示す。リング状露光領域12aは、角度θ2<θ1であるからリング状露光領域11よりも傾斜面が急となる。
【0026】
図4(e)は、同様に、リング状露光領域13aを形成し、同心のリング状露光領域11a〜13aの部分露光が終了した状態を示す。
図4(f)に示すように、リング状露光領域11a,12a,13aを溶解除去する。
図4(g)は、ガラス基板30側からアルミニウム膜20Aの多重のリング状開口21,22,23を通して紫外光UVを入射角0°でフォトレジスト層10へ照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b,12b,13bを形成した状態を示す。
図4(h)は、リング状露光領域11b,12b,13bを溶解除去し、フレネルレンズ母型が完成した状態を示す。なお、図4(f)と図4(g)を入れ替えて、第1と第2の露光工程が終わった後で、リング状露光領域11a,12a,13aとリング状露光領域11b,12b,13bを同時に除去してもよい。フレネルレンズ母型1から金型を製作する方法および金型からマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0027】
本実施の形態のフレネルレンズ母型の製造方法も、第1の実施の形態の製造方法と同様、傾斜面の寸法や角度を高精度で作製することができ、ガラス基板30の傾斜角度θ1,θ2を変えることにより、フレネルレンズ母型1の傾斜面の角度を自由に変えることができる。また、フレネルレンズ母型1を転写して作製した金型も、その金型を使用して大量に製作されるフレネルレンズも斜面の寸法や角度を高精度に作製することができる。
【0028】
〈第3の実施の形態〉
図5は、本発明の第3の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図である。本実施の形態では、第1および第2の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0029】
図5(a)に示すように、ガラス基板30上に厚さ20μm程度のフォトレジスト層10を形成した後に、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながらレーザ光学系50から射出される紫外レーザ光L1を入射角θ3でフォトレジスト層10へ照射する。このとき、紫外レーザ光L1がフォトレジスト層10とガラス基板30の境界面上の集光位置F1に集光するようにレーザ光学系50を配置する。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域11aが形成される。このリング状露光領域11aも上下の肉厚が若干異なるが、台形状円錐筒の形状である。なお、図5では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。
【0030】
図5(b)は、レーザ光照射を停止した上で、レーザ光学系50を紫外レーザ光L1の入射角θ3の角度から入射角がほぼ0°になるまで回転させた後に、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1をほぼ入射角0°でフォトレジスト層10へ照射した状態を示す。このときも、紫外レーザ光L1が集光位置F1に集光するようにレーザ光学系50を位置決めする。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域11bが形成される。
【0031】
図5(c)は、レーザ光学系50を図5(b)の位置からガラス基板30の径方向であるX方向にスライドさせ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1を入射角θ4(>θ3)でフォトレジスト層10へ照射した状態を示す。このとき、紫外レーザ光L1がフォトレジスト層10とガラス基板30の境界面上の集光位置F2に集光するようにレーザ光学系50を位置決めする。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域12aが形成される。
【0032】
その後、図5(b)で説明したのと同様に、レーザ光照射を停止した上で、レーザ光学系50を紫外レーザ光L1の入射角θ4の角度から入射角がほぼ0°になるまで回転させ、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら紫外レーザ光L1をほぼ入射角0°でフォトレジスト層10へ照射する。これにより、紫外レーザ光L1によるリング状露光領域12bが形成される。なお、本実施の形態では、レーザ光学系50を回転あるいはスライドさせたが、フォトレジスト層10とレーザ光学系50との位置関係は相対的なものであるから、レーザ光学系50は固定しておき、フォトレジスト層10が形成されたガラス基板30を回転あるいはスライドさせてもよい。金型およびマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1および第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0033】
このようにして、リング状露光領域を繰り返し形成した後に、その多重のリング状露光領域を除去すれば、図1に示されるようなフレネルレンズ母型1が完成する。また、以上の説明から分かるように、本実施の形態では、フォトレジスト層10とガラス基板30の間にはパターン付きアルミニウム膜20Aを設ける必要がない。従って、第1および第2の実施の形態の製造方法と同様の効果を奏するとともに、パターン付きアルミニウム膜20Aを形成する工程を省略することができる。
【0034】
〈第4の実施の形態〉
図6は、本発明の第4の実施の形態によるフレネルレンズ母型の製造工程を説明する図であり、図6(a)は上面図、図6(b)と図6(c)は側面図である。本実施の形態では、第1〜第3の実施の形態で説明した構成部品、領域などに対応するものには同一符号を付す。
【0035】
図6に示されるように、フォトレジスト層10が形成されたガラス基板30と、平凸レンズ基材60aおよびパターニングされたアルミニウム膜60bから成るマスク付き平凸レンズ60とを上下方向に対向させて配置する。ガラス基板30とマスク付き平凸レンズ60の径はほぼ同じである。ガラス基板30の中心線CLとマスク付き平凸レンズ60の光軸AXとは平行であり、中心線CLにマスク付き平凸レンズ60の外周部が位置し、光軸AX上にガラス基板30の外周部が位置するように、ガラス基板30とマスク付き平凸レンズ60とを位置決めして対向配置する。アルミニウム膜60bは、平凸レンズ60の平面側に配設され、アルミニウム膜60bには、微小な開口61〜64がマスク付き平凸レンズ60の径方向に並ぶように形成されている。
【0036】
上記の配置で、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、開口61〜64を通して平行光束の紫外光UVを上から下にフォトレジスト層10へ照射する。開口61〜64を通過した紫外光UVの4本のビームは、それぞれ平凸レンズ基材60aによる屈折作用を受け、焦点位置Fに集光するように進行するので、フォトレジスト層10には、図6(b)に示すように、同心で多重のリング状露光領域11a〜14aが形成される。なお、図6では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。
【0037】
次に、図6(c)に示すように、マスク付き平凸レンズ60に代えてマスク付きガラス平板70を配置する。マスク付きガラス平板70のアルミニウム膜70bには、微小な開口71〜74がマスク付きガラス平板70の径方向に並ぶように形成されている。ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、開口71〜74を通して平行光束の紫外光UVをフォトレジスト層10へ垂直照射し、フォトレジスト層10にリング状露光領域11b〜14bを形成する。リング状露光領域11a〜14aと11b〜14bを溶解除去し、フレネルレンズ母型が完成する。
【0038】
なお、本実施の形態では、平凸レンズ基材60aによる屈折作用を利用してリング状露光領域11a〜14aを形成したが、平凸レンズ基材60aに代えて、光軸に直交する1方向のみに屈折力を有するシリンドリカルレンズを用いてもよい。また、平凸レンズ基材60aの正の屈折力を変えることにより、フレネルレンズ母型の傾斜面の角度を自由に変えることができる。金型およびマイクロフレネルレンズを作製する方法については、第1〜第3の実施の形態と同様であるので説明を省略する。
【0039】
本実施の形態でも、第1〜第3の実施の形態の製造方法と同様の効果を奏するとともに、ガラス基板30を傾斜させる工程はないので、ガラス基板30を保持するホルダーにも傾斜機能は必要なく、傾斜角度を精度よく設定する機構も工程も省略でき、コスト低減に寄与する。また、マスク付き平凸レンズ60を用いた一括露光でリング状露光領域11a〜14aを形成できるので、露光時間の短縮を図ることもできる。
【0040】
続いて、本発明の実施の形態の変形例について説明する。
図7は、本発明の実施の形態の第1の変形例を説明する概略図であり、図7(a)は、フレネルレンズ母型の製造工程を説明する側面図、図7(b)は下面図である。多重のリング状開口21〜24を有するパターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平に配置し、ガラス基板30と所定間隔でスリット付きマスク80を対向配置する。スリット付きマスク80には、図7(b)に示されるように、中心Cと矩形の一辺とを結ぶ直線状の開口であるスリット80aが形成されている。露光用の光源としては、エキシマレーザを用い、エキシマレーザ光L2がスリット付きマスク80のスリット80aを通ってガラス基板30に斜めに入射するように、光源と光学系を配置する。
【0041】
上記の配置で、ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら、スリット80a、ガラス基板30、パターン付きアルミニウム膜20Aを順次通してエキシマレーザ光L2をフォトレジスト層10へ照射する。エキシマレーザ光L2は、凸レンズ85により集光点Sに収束し、集光点Sを点光源として拡がり、スリット付きマスク80を照射する。エキシマレーザ光L2は、スリット80aとパターン付きアルミニウム膜20Aのリング状開口21〜24とにより4本のビームとなってフォトレジスト層10を露光する。エキシマレーザ光L2のうち、図7(b)の符号21a〜24aで示す領域を通った光がフォトレジスト層10の露光に実質的に寄与する。フォトレジスト層10には、図7(a)に示すように、多重のリング状露光領域11a〜14aが形成される。なお、図7では、フォトレジスト層10の右半分の露光については図示を省略している。この後の工程は、第1または第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。斜め入射の角度と凸レンズ85の焦点距離を変えることにより、台形状円錐筒形状のリング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0042】
図8は、本発明の実施の形態の第2の変形例を説明する概略図である。パターン付きアルミニウム膜20Aとフォトレジスト層10とパターン付きアルミニウム層90Aとが形成されたガラス基板30を水平配置し、パターン付きアルミニウム層90Aの上方に、エキシマレーザ光L2を集光する凸レンズ95,96,97のいずれか1つを配置する。パターン付きアルミニウム膜20Aには、リング状開口21,22,23が形成され、パターン付きアルミニウム層90Aには、リング状開口91,92,93が形成されている。リング状開口91,92,93の直径は、それぞれ対応するリング状開口21,22,23の直径よりも小さく設定されている。すなわち、リング状開口91とリング状開口21とを結ぶ傾斜面の角度、リング状開口92とリング状開口22とを結ぶ傾斜面の角度、リング状開口93とリング状開口23とを結ぶ傾斜面の角度は、順に傾斜が増すように設定される。凸レンズ95,96,97は、それぞれ焦点距離が異なり、それぞれY方向に移動できるように構成されている。
【0043】
凸レンズ95を上下方向の位置y1に設置した場合は、エキシマレーザ光L2をパターン付きアルミニウム層90Aに入射させると、エキシマレーザ光L2は、凸レンズ95の屈折力(焦点距離)に応じた拡がり角でリング状開口91を通ってフォトレジスト層10を露光し、リング状露光領域11aが形成される。同様に、凸レンズ96を位置y2に設置した場合は、リング状露光領域12aが形成され、凸レンズ97を位置y3に設置した場合は、リング状露光領域13aが形成される。露光がすべて終了した段階でパターン付きアルミニウム層90Aを除去する。この後の工程は、第1または第2の実施の形態と同様であるので説明を省略する。なお、凸レンズ95,96,97の焦点距離を変えることにより、リング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。この場合、リング状開口21,22,23とリング状開口91,92,93のそれぞれの位置関係もレンズパワーと相関して設定する。
【0044】
図9は、本発明の実施の形態の第3の変形例を説明する概略図である。アルミニウム膜20とフォトレジスト層10とが形成されたガラス基板30を水平に配置し、フォトレジスト層10と所定間隔で光ファイバホルダー100を対向配置する。光ファイバホルダー100には、光ファイバ101,102,103がそれぞれ異なる傾斜角で保持されている。
【0045】
ガラス基板30を中心線CL廻りに回転させながら各光ファイバから平行光束のエキシマレーザ光L2をそれぞれの入射角でフォトレジスト層10へ向けて照射する。光ファイバ101からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域11aが形成される。同様に、光ファイバ102からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域12aが形成され、光ファイバ103からの平行光束のエキシマレーザ光L2によりリング状露光領域13aが形成される。この後の工程は、第1の実施の形態と同様であるので説明を省略する。なお、光ファイバ101,102,103の傾斜角を変えることにより、台形状円錐筒形状のリング状露光領域11a〜14aの傾斜面の角度を自由に変えることができる。
【0046】
図10は、本発明の実施の形態の第4の変形例を説明する概略図である。図10では、中心線CLの右半分を省略し、左半分のみを示す。
図10(a)は、ネガ型フォトレジスト層110が形成されたガラス基板30を水平配置し、先述した第3あるいは第4の実施の形態と同じ方法で、ネガ型フォトレジスト層110中にリング状露光領域111a,112a,113aを形成した状態を示す。
【0047】
図10(b)は、ネガ型フォトレジスト層110をエッチングし、前述したような台形状円錐筒形状のリング状露光領域111a,112a,113aのみを残した状態を示す。本変形例では、ネガ型フォトレジストを用いているので、未露光部分がエッチング液に溶解して除去される。
図10(c)は、リング状露光領域111a,112a,113aの表面にアルミニウム膜120をスパッタリング法で形成した状態を示す。
【0048】
図10(d)は、アルミニウム膜120が形成されたリング状露光領域111a,112a,113aを完全に埋めるように、ネガ型フォトレジスト層130をコーティングした状態を示す。
図10(e)は、ガラス基板30側から紫外光UVをネガ型フォトレジスト層130へ垂直照射し、ネガ型フォトレジスト層130にリング状露光領域131a,132a,133aを形成した状態を示す。ネガ型フォトレジスト層130中の他の部分は、アルミニウム膜120により遮光されるため露光しない。
【0049】
図10(f)は、ネガ型フォトレジスト層130をエッチングしてリング状露光領域1131,132,133のみを残し、アルミニウム膜120を溶解除去した状態を示す。リング状露光領域111a+131a,112a+132a,113a+133aによる傾斜構造をもつフレネルレンズ母型が完成する。
【0050】
図11は、本発明の実施の形態の第5の変形例を説明する概略図である。図11では、中心線CLの左半分のみを示す。
図11(a)は、同心の多重リングパターンをもつマスクを介してICP−RIE(inductively coupled plasma - reactive ion etching)により、シリコン基板140をエッチングしたときの状態を示す。シリコン基板140の表面に、同心で多重の環状凹部141,142,143が形成される。
【0051】
図11(b)は、シリコン基板140にフォトレジスト層150をコーティングした状態を示す。シリコン基板140の凹部には、リング状フォトレジスト層151,152,153が形成される。
図11(c)は、シリコン基板140を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVをシリコン基板140の中心線CL側から外周側へ斜めにフォトレジスト層150に照射し、リング状フォトレジスト層151,152,153にそれぞれリング状露光領域151b,152b,153bを形成した状態を示す。この変形例では、紫外光UVをフォトレジスト層150に斜め入射させるため、リング状フォトレジスト層151,152,153には、それぞれ未露光部分151a,152a,153aが生じる。
【0052】
図11(d)は、リング状フォトレジスト層151,152,153をマスクとしてICP−RIEにより、シリコン基板140をエッチングしたときの状態を示す。
図11(e)は、凹凸表面にアルミニウム膜160をスパッタリング法で形成した状態を示す。
図11(f)は、アルミニウム膜160で覆われた凹凸表面の凹部にリング状フォトレジスト層171,172,173をコーティングした状態を示す。
【0053】
図11(g)は、シリコン基板140を中心線CL廻りに回転させながら紫外光UVをシリコン基板140の中心線CL側から外周側へ斜めにフォトレジスト層に照射し、リング状フォトレジスト層171,172,173にそれぞれリング状露光領域171b,172b,173bを形成した状態を示す。リング状フォトレジスト層171,172,173には、それぞれ未露光部分171a,172a,173aが生じる。
【0054】
図11(h)は、アルミニウム膜160を溶解除去し、図11(c)の紫外光UV露光で形成されたリング状露光領域151b,152b,153bと、図11(g)の紫外光UV露光で形成されたリング状露光領域171b,172b,173bを除去した状態を示す。すなわち、リング状未露光部分151a,152a,153aと171a,172a,173aが残り、これらによる傾斜構造をもつフレネルレンズ母型が完成する。このフレネルレンズ母型では、リング状未露光部分151a,152a,153a,171a,172a,173aのそれぞれの境界に平坦のギャップが生じない。
【0055】
本発明の傾斜構造体の製造方法は、フレネルレンズ母型に限らず、傾斜構造を有する光学素子や精密機器部品、例えば回折格子、ホログラム用光学素子、インクジェットプリンタ用ヘッドの作製に用いられる金型用母型にも適用することができる。また、傾斜構造体は1つでもよいし、複数でもよく、傾斜構造体が複数個配列する場合、各々の傾斜構造体の傾斜面は、同一角度でもよいし、異なる角度であってもよい。本発明は、その特徴を損なわない限り、以上説明した実施の形態に何ら限定されない。
【図面の簡単な説明】
【0056】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法で作製されたフレネルレンズ母型の構造を模式的に示す断面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態に係る製造方法の一工程を説明するための部分断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図6】本発明の第4の実施の形態に係る製造方法の工程を説明する図である。
【図7】本発明の実施の形態の第1の変形例を説明する図である。
【図8】本発明の実施の形態の第2の変形例を説明する図である。
【図9】本発明の実施の形態の第3の変形例を説明する図である。
【図10】本発明の実施の形態の第4の変形例を説明する図である。
【図11】本発明の実施の形態の第5の変形例を説明する図である。
【符号の説明】
【0057】
1:フレネルレンズ母型
10:フォトレジスト層
11〜15:輪帯状フォトレジスト
11a〜14a、11b〜14b:リング状露光領域
20,20A:アルミニウム膜
21〜24:リング状開口
30:ガラス基板
40:マスク
40a:ピンホール
50:レーザ光学系
60:マスク付き平凸レンズ
70:マスク付きガラス平板
80:スリット付きマスク
85,95,96,97:凸レンズ
90A:アルミニウム層
100:光ファイバホルダー
101,102,103:光ファイバ
110,130:ネガ型フォトレジスト層
120:アルミニウム膜
140:シリコン基板
150,170:フォトレジスト層
AX:光軸
CL:中心線
L1:紫外レーザ光
L2:エキシマレーザ光
UV:紫外光
【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明基板上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記微小開口を通して前記法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記第1の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、
前記除去された台形円錐筒状の部分領域の金属膜のみを溶解除去して前記金属膜に輪帯状開口パターンを形成する工程と、
前記輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして前記透明基板側から前記感光性樹脂層に垂直に前記露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項2】
透明基板上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜に同心で多重の輪帯状開口パターンを形成する工程と、
前記金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記透明基板と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記微小開口、前記透明基板および前記金属膜の輪帯状開口パターンを通して前記法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記第1の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、
前記輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして前記透明基板側から前記感光性樹脂層に垂直に前記露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項3】
請求項1または2に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記微小開口と前記感光性樹脂層とを前記法線に直交する平面に沿って相対的に移動させて繰り返し行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項4】
請求項3に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記微小開口と前記感光性樹脂層との相対的移動の度に前記所定の傾斜角度を変更することにより、前記台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項5】
透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記透明基板と前記感光性樹脂層との境界面の所定の集光位置に集光するように露光光を所定の入射角で前記感光性樹脂層へ照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記集光位置に集光するように前記露光光の前記入射角をほぼ0°として前記感光性樹脂層へ照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第1及び第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項6】
請求項5に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1及び第2の露光工程は、前記所定の集光位置を径方向に変えて繰り返し行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項7】
請求項6に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記所定の集光位置を径方向に変える度に前記所定の入射角を変更することにより、前記台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項8】
透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
径方向に配列される複数の開口を平面側に有する平凸レンズの外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、前記透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、前記平凸レンズに前記感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、
前記透明基板を前記中心線廻りに回転させながら前記平凸レンズの複数の開口を通して露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を多重の台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記平凸レンズの複数の開口に対応する位置に複数の開口を有する透明平板の外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、前記透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、前記透明平板に前記感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、
前記透明基板を前記中心線廻りに回転させながら前記透明平板の複数の開口を通して露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第1及び第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項9】
請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法で作製される傾斜構造体を前記金属膜の表面に形成して成ることを特徴とする金型用母型。
【請求項10】
請求項5〜8のいずれか一項に記載の製造方法で作製される傾斜構造体を有することを特徴とする金型用母型。
【請求項11】
請求項4に記載の製造方法で作製される傾斜構造体がフレネルレンズ形状であることを特徴とする金型用母型。
【請求項12】
請求項9または10に記載の金型用母型を転写して作製される金型。
【請求項13】
請求項11に記載の金型用母型を転写して作製されるフレネルレンズ用金型。
【請求項14】
請求項13に記載のフレネルレンズ用金型により作製されるマイクロフレネルレンズ。
【請求項1】
透明基板上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記感光性樹脂層と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記微小開口を通して前記法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記第1の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、
前記除去された台形円錐筒状の部分領域の金属膜のみを溶解除去して前記金属膜に輪帯状開口パターンを形成する工程と、
前記輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして前記透明基板側から前記感光性樹脂層に垂直に前記露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項2】
透明基板上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜に同心で多重の輪帯状開口パターンを形成する工程と、
前記金属膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記透明基板と微小開口を有する遮光部材とを近接して対向配置し、前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記微小開口、前記透明基板および前記金属膜の輪帯状開口パターンを通して前記法線と所定の傾斜角度で露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記第1の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の台形円錐筒状の部分領域を除去する工程と、
前記輪帯状開口パターンが形成された金属膜をマスクとして前記透明基板側から前記感光性樹脂層に垂直に前記露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の円筒状の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項3】
請求項1または2に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記微小開口と前記感光性樹脂層とを前記法線に直交する平面に沿って相対的に移動させて繰り返し行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項4】
請求項3に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記微小開口と前記感光性樹脂層との相対的移動の度に前記所定の傾斜角度を変更することにより、前記台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項5】
透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記透明基板と前記感光性樹脂層との境界面の所定の集光位置に集光するように露光光を所定の入射角で前記感光性樹脂層へ照射することにより、前記感光性樹脂層を台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記透明基板をその法線に平行な中心線廻りに回転させながら、前記集光位置に集光するように前記露光光の前記入射角をほぼ0°として前記感光性樹脂層へ照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第1及び第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項6】
請求項5に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1及び第2の露光工程は、前記所定の集光位置を径方向に変えて繰り返し行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項7】
請求項6に記載の傾斜構造体の製造方法において、
前記第1の露光工程は、前記所定の集光位置を径方向に変える度に前記所定の入射角を変更することにより、前記台形円錐筒体の傾斜面角度をそれぞれ異なるようにすることを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項8】
透明基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、
径方向に配列される複数の開口を平面側に有する平凸レンズの外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、前記透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、前記平凸レンズに前記感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、
前記透明基板を前記中心線廻りに回転させながら前記平凸レンズの複数の開口を通して露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を多重の台形円錐筒状に部分露光する第1の露光工程と、
前記平凸レンズの複数の開口に対応する位置に複数の開口を有する透明平板の外周上の一点を光軸方向に延長した延長線に、前記透明基板の法線に平行な中心線を一致させ、前記透明平板に前記感光性樹脂層を所定間隔で対向配置する工程と、
前記透明基板を前記中心線廻りに回転させながら前記透明平板の複数の開口を通して露光光を照射することにより、前記感光性樹脂層を円筒状に部分露光する第2の露光工程と、
前記第1及び第2の露光工程で露光された前記感光性樹脂層の部分領域を除去する工程とを行うことを特徴とする傾斜構造体の製造方法。
【請求項9】
請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法で作製される傾斜構造体を前記金属膜の表面に形成して成ることを特徴とする金型用母型。
【請求項10】
請求項5〜8のいずれか一項に記載の製造方法で作製される傾斜構造体を有することを特徴とする金型用母型。
【請求項11】
請求項4に記載の製造方法で作製される傾斜構造体がフレネルレンズ形状であることを特徴とする金型用母型。
【請求項12】
請求項9または10に記載の金型用母型を転写して作製される金型。
【請求項13】
請求項11に記載の金型用母型を転写して作製されるフレネルレンズ用金型。
【請求項14】
請求項13に記載のフレネルレンズ用金型により作製されるマイクロフレネルレンズ。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2009−48208(P2009−48208A)
【公開日】平成21年3月5日(2009.3.5)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−275389(P2008−275389)
【出願日】平成20年10月27日(2008.10.27)
【分割の表示】特願2004−240817(P2004−240817)の分割
【原出願日】平成16年8月20日(2004.8.20)
【出願人】(304028346)国立大学法人 香川大学 (285)
【出願人】(390022471)アオイ電子株式会社 (85)
【出願人】(591235164)株式会社ユーミック (2)
【出願人】(391007024)株式会社アドバネクス (45)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年3月5日(2009.3.5)
【国際特許分類】
【出願日】平成20年10月27日(2008.10.27)
【分割の表示】特願2004−240817(P2004−240817)の分割
【原出願日】平成16年8月20日(2004.8.20)
【出願人】(304028346)国立大学法人 香川大学 (285)
【出願人】(390022471)アオイ電子株式会社 (85)
【出願人】(591235164)株式会社ユーミック (2)
【出願人】(391007024)株式会社アドバネクス (45)
【Fターム(参考)】
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