【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ディスク状磁気記録メディア用の微細パターンを回転ステージを回転させつつ電子ビーム走査により描画する際の周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】各半径位置の周方向の所定領域毎に、その所定領域が電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nの経過後(t_n+Δt_n)に、その所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを原則とし、回転速度ムラに起因してある所定領域についての描画開始の基準となるエンコーダパルスE_nから所定時間Δt_nが経過する前に、その所定時間Δt_nの経過後に生じるべきエンコーダパルスE_n+1が生じた場合には、その発生時刻t'_n+1にその領域のパターン描画を開始する。 （もっと読む）

【課題】単一の通過で高解像度、高速度の画像形成を可能にする、レーザベースの画像形成技法、及びリソグラフィ・マーキング装置を提供する。
【解決手段】所定のスキャン画像データに応じて２次元光場１１９を変調する光変調素子１２５−１１〜１２５−４３から成る２次元アレイを有する空間光変調器１２０を含み、画像形成面上に定められた細長画像形成領域１６７上へ、変調光をアナモフィックに画像形成して集光するために、アナモフィック光学システム１３０が用いられる。汚れを回避するために、画像形成面の移動は、画像位置コントローラ回路１８０によって、スキャン画像の画像特徴が画像形成面のスキャン間移動と同じ速度でスクロールされる（スキャン間方向に移動する）ように、光変調素子の変調状態と同期化され、それによって画像形成面の同一部分と一致した状態のままとなる。 （もっと読む）

【課題】第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。
【解決手段】斜入射光学系４０を駆動させて、少なくとも入射角度±θの２つの照明光で露光対象基板２を露光し、照明光の入射角度±θに応じて露光対象基板２上で略平行にシフトする２つの回折像を重複させ、これら回折像の回折によるスイングを抑制する構成としてある。また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】露光装置より照射された平行光７を、被照射体６に傾斜させて出射するフォトマスク１であって、被照射体６を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置で、１度の露光で多角度の斜め露光を、被写体６に対して行うことができるフォトマスク１を提供する。
【解決手段】透明基板の照射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、透明基板の出射面側の、パターンに対応した部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】周辺露光幅の不均一を簡便に把握することを可能とする周辺露光装置及び周辺露光方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜が形成された基板を基板保持回転部により保持するステップと、前記フォトレジスト膜を露光可能な露光光が、前記基板の周辺部に照射されるとともに前記基板の周縁の外側を通過するように、前記基板保持回転部により前記基板を回転しながら前記基板に向けて前記露光光を放射するステップと、前記基板の周縁の外側を通過した前記露光光に基づいて前記周辺部に照射される前記露光光の幅を検出するステップとを含む周辺露光方法により上記課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク保持装置２１は、リニアガイド機構２４ａが設けられたフレーム２３と、フレーム２３に対し鉛直方向に上下移動するＺ軸移動部２５と、Ｚ軸移動部２５の鉛直下方に位置すると共にＺ軸移動部２５に支持され、Ｚ軸移動部２５に対して鉛直軸周りの回転位置が調整されるθ軸移動部２７と、θ軸移動部２７の鉛直下方に位置すると共にθ軸移動部２７に支持され、θ軸移動部２７に対して水平面に対する傾きが調整されるチルト軸移動部２９と、チルト軸移動部２９の鉛直下方に位置すると共にチルト軸移動部２９に支持され、チルト軸移動部２９に対しＹ軸方向での位置が調整されると共に、下面で露光マスクＭを保持する水平方向移動部３１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いることなく、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板（１）を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する。光ビーム照射装置に、それぞれ異なる入射角度の光ビームを空間的光変調器（２５）へ供給する複数の照明光学系を設け、各照明光学系から供給した異なる入射角度の光ビームを空間的光変調器によりそれぞれ変調して、照射光学系（２６ａ，２６ｂ）からチャックに支持された基板へ複数の異なる入射角度の光ビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたレジスト膜の周縁部を短時間にて除去可能にすることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。
【解決手段】冷却プレート８１に保持された基板Ｗの表面の全面にはほぼ均一な厚さにてレジスト膜ＲＦが形成されている。フラッシュ照射部６０は、投光光学系６１を備えており、フラッシュランプＦＬから出射されたフラッシュ光を集光してレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥのみに一括照射する。フラッシュ光照射により周縁部ＲＦＥはガラス転移点Ｔｇ以上に加熱され、脱保護反応によって現像液に溶解可能となる。フラッシュ光照射によるレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥの加熱処理は処理時間が１秒以下の極めて短時間の処理であり、しかも周縁部ＲＦＥの全体に一括してフラッシュ光が照射されるため、その周縁部ＲＦＥを短時間にて除去可能とすることができる。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィにおいて、シリコンウェハに同一パターンを複数形成するときに破断を起こしにくいパターン配置方法及びパターニングされたシリコンウェハを提供すること。また、そのパターン配置方法が用いられた半導体デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明によると、シリコンウェハに、第１の方向及び前記第１の方向に直交する第２の方向に平行に配置された複数のチップパターンを有し、前記複数のチップパターンは、前記第１の方向及び前記第２の方向に配置され、直線状に配置された一つ以上のパターンを含み、前記シリコンウェハのへき開面と前記シリコンウェハの前記パターンを配置する面とが直交する軸と、前記第１の方向とが、異なるように前記複数のチップパターンを配置することを特徴とするシリコンウェハが提供される。 （もっと読む）

【課題】サーボ領域を半径によらず一定の角度のパターンで形成することを可能にするとともに、データ領域を半径によらず一定の間隔のパターンで形成することを可能にする。
【解決手段】基板を回転させる回転機構と、移動機構と、電子銃と、電子線をブランキング制御信号に基づいてブランキングもしくは偏向制御信号に基づいて偏向、またはブランキング制御信号および偏向制御信号に基づいてブランキングおよび偏向させる偏向器と、ステージにおける描画半径位置に応じて変化する周期を有する第１基準クロック信号を発生する第１クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号と独立な周期を有する第２基準クロック信号を発生する第２クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号および第２基準クロック信号に基づいて、ブランキング制御信号および偏向制御信号のうちの少なくとも一方の制御信号を発生する制御信号発生回路と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイを使用した露光装置において、露光装置特性及び温度条件等の製造条件の変動に起因して、被露光基板の大きさの変動が生じても、マスクパターンの像を所定位置に合わせることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２が、露光すべき基板１の上方に、スキャン方向に垂直の方向に配列して支持基板に支持されている。そして、各マイクロレンズアレイは、その配列方向に対し、露光基板に平行の方向から傾斜することができるように支持基板に支持されている。これらのマイクロレンズアレイの傾斜角度は前記配列方向に関し、徐々に大きく又は小さくなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストＲへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】液体容器３０に光入射窓３１と光出射窓３２を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜させる。この光出射窓３２に、マスクＭをレジストＲに密着させた被照射物Ｗを間に空気が介在しないように取り付ける。光出射窓３２は液体容器３０に回転ベアリング３２ａを介して回転可能に取り付けられており、液体容器３０の光入射窓３１に光照射部１０からの光を入射させ、光出射窓３２から光を出射させて被照射物Ｗに照射するとともに、被照射物Ｗを光出射窓３２とともに回転させる。被照射物Ｗが光出射窓３２に密着しているので、液体中に被照射物を浸すことなく、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも２つの交互材料の層を有する多層系を備えた反射面を基板上に含む紫外から極紫外までの波長範囲の反射光学要素、及び投影露光装置を提供する。
【解決手段】作動波長で屈折率の異なる実数部を有する少なくとも２つの交互材料の層（４１，４２）を有する多層系を備えた反射光学要素を提案し、作動波長である一定の入射角帯域幅分布を有する放射線は、反射光学要素上に入射することができ、反射面は、層（４１，４２）が第１の周期の厚み（Ｐ１）の交互材料を有する１つ又はそれよりも多くの第１の部分（Ａ１）と、交互材料の層（４１，４２）が第１（Ｐ１）及び少なくとも１つの更に別の周期の厚み（Ｐ２）を有する１つ又はそれよりも多くの更に別の部分（Ａ２）とを含み、反射面にわたる第１（Ａ１）及び更に別の部分（Ａ２）の配列は、入射角帯域幅分布に適応される。 （もっと読む）

【課題】複数の光学式変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】チャック１０ａ，１０ｂを、ＸＹ方向へ移動及びθ方向へ回転する移動ステージに搭載する。複数の光学式変位計（レーザー変位計４２）によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定し、移動ステージのθ方向の角度に応じて、光学式変位計毎に予め決定した補正値により、各光学式変位計の測定値を補正する。補正した測定値から、チャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出したチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きに応じて、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）