加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置
【課題】 加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】 上面に複数個の孔が形成された支え台、そして支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台である。これにより、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて、維持、管理及び使用が容易である。
【解決手段】 上面に複数個の孔が形成された支え台、そして支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台である。これにより、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて、維持、管理及び使用が容易である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に係り、さらに詳細には、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて維持、管理及び使用が容易な蒸着装置の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電界発光ディスプレイ装置は、自発光型ディスプレイ装置であって、視野角が広くてコントラストに優れるだけでなく、応答速度が速いという長所を有しているために、次世代ディスプレイ装置として注目を浴びている。
【０００３】
電界発光ディスプレイ装置は、発光層（ＥＭＬ：Emission layer）形成物質によって無機電界発光ディスプレイ装置と有機電界発光ディスプレイ装置とに区分され、そのうち、有機電界発光ディスプレイ装置は、無機電界発光ディスプレイ装置に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性に優れて多色化が可能であるという長所を有している。
【０００４】
一般的な有機電界発光ディスプレイ装置に備えられる有機電界発光素子は、互いに対向された電極間に少なくとも発光層を含む中間層となる。前記中間層には、多様な層が備えられるが、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層または電子注入層などを挙げられうる。有機電界発光素子の場合、このような中間層は有機物より形成された有機薄膜である。
【０００５】
前記のような構成を有する有機電界発光素子を製造する過程において、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層または電子注入層などの有機薄膜は蒸着装置を用いて蒸着（deposition）の方法により形成されうる。すなわち、内部圧力が１０−６ないし１０−７ｔｏｒｒに調節されるチャンバ内に基板を配置し、前記基板に対向して配置する加熱容器に有機物を注入した後、前記加熱容器を用いて前記加熱容器内の有機物を蒸発または気化させて前記基板に蒸着させるのである。
【０００６】
図１は、従来の蒸着装置に備えられた加熱容器支持台を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線の断面図である。
【０００７】
前記図面を参照して蒸着原理を簡略に説明すれば、加熱容器２０内に蒸着される物質を注入した後、加熱容器２０の外部の熱線３０を通じて加熱容器２０を加熱し、その内部の物質を蒸発または気化させることによって、蒸着がなされる。この際、加熱容器２０の内部から外部への蒸着物質の放出途中で、支え台１０に形成されて内部に加熱容器２０が配置される孔１２の縁部に蒸着物質の塊り１４が付着されるという問題点があった。したがって、蒸着中に周期的にそのような付着物１４を別途に除去する工程を経なければならないという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記問題点を解決するためのものであって、本発明は、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて維持、管理及び使用が容易な蒸着装置の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的及びその他の様々な目的を達成するために、本発明は、上面に複数個の孔が形成された支え台、そして前記支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台を提供する。
【００１０】
このような本発明の他の特徴によれば、前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えうる。
【００１１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台の孔は、円形に配置されうる。
【００１２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えうる。
【００１３】
本発明はまた、前記のような目的を達成するために、（ｉ）蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材と、（ｉｉ）上面に複数個の孔が形成された支え台と、前記支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部とを有する汚染防止板とを備えた支持台、そして（ｉｉｉ）前記支持台の支え台に形成された各孔に配置された加熱容器を備えることを特徴とする蒸着装置を提供する。
【００１４】
このような本発明の他の特徴によれば、前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えうる。
【００１５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台の孔は、円形に配置されうる。
【００１６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えうる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置によれば、加熱容器支持台に備えられた支え台の孔縁部に放出された蒸着物質が付着されることが防止され、汚染防止板だけを取り替えるか、分離して、洗浄すればよい。これにより、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置の使用、維持及び管理がさらに容易になる。そして、これを通じて有機電界発光ディスプレイ装置などを製造することによって、製造コストを低減して所要時間を短縮させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００１９】
図３は、本発明の望ましい一実施形態による加熱容器支持台を概略的に示す斜視図であり、図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【００２０】
前記図面を参照すれば、支え台１１０の上面には、複数個の孔１１２が形成されている。 図３には、孔１１２が円形に配置される状態に図示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。また、二重の円形にも配置されうるなど多様な変形が可能である。
【００２１】
そして、加熱容器支持台には、汚染防止板１４０がさらに備えられるが、これは支え台１１０の各孔１１２の入口に配置される。この汚染防止板１４０は、孔１１２に対応する開口部を有しており、また孔内壁１１２ａに沿って延びる遮断部を備える。
【００２２】
前述したように、加熱容器支持台に備えられた支え台１１０に形成された孔１１２の内部に加熱容器１２０が配置されて蒸着される。すなわち、その孔内に配置された加熱容器１２０から蒸発または昇華により蒸着される物質が放出されることによって、蒸着がなされるが、この過程で放出された物質が支え台１１０に形成された孔１１２の縁部に付着されうる。したがって、本実施形態による加熱容器支持台は、加熱容器１２０が配置される支え台の孔１１２の入口に汚染防止板１４０をさらに備えることによって、蒸発物質が放出されて支え台１１０に直接付着されることを防止する。すなわち、従来には、支え台１１０に蒸発物質が放出されて直接付着され、よってこれを除去するための別途の工程を経なければならなかった。しかし、本実施形態による加熱容器支持台の場合には、蒸発物質が支え台１１０ではない汚染防止板１４０に付着させることによって、汚染防止板１４０だけを取り替えるか、分離して、洗浄するようにし、加熱容器支持台の維持、管理及び使用をさらに容易にしうる。
【００２３】
一方、前記のような加熱容器支持台に備えられた支え台１１０の各孔内部には、熱線１３０がさらに備えられうるが、この熱線１３０はその孔内部に配置される加熱容器１２０の温度を高める役割を果たす。このために熱線１３０は、主に抵抗の高い伝導性物質で形成されるが、熱線１３０に電流が流れつつ、高い抵抗により熱が発生して加熱容器１２０を加熱する。この熱線１３０の形状は、もちろん図４に示されたように支え台１１０の孔内壁１１２ａに沿って備わりうるなど多様な変形が可能である。
【００２４】
そして、加熱容器支持台の孔底面には、蒸着物質の温度を測定するためのサーモカップルのような温度感知手段がさらに備わりうる。また、加熱容器支持台に備わった支え台１１０を回転させるアクチュエータ（図示せず）がさらに備わりうる。
【００２５】
図５及び図６は、図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【００２６】
前記図面を参照すれば、本変形形態による加熱容器支持台は、前述した実施形態による加熱容器支持台と同一に支え台１１０と汚染防止板１４０とを備える。本変形例による加熱容器支持台が前述した実施形態による加熱容器支持台と異なる点は汚染防止板１４０の形状にある。
【００２７】
汚染防止板１４０は、支え台１１０の各孔１１２の入口に配置されるが、これは孔１１２に対応する開口部を有しており、また孔内壁１１２ａに沿って延びる遮断部を備える。この際、前述した実施形態による加熱容器支持台に備えられた汚染防止板の遮断部は、加熱容器支持台に備えられた支え台の孔の縁部のみを遮断した。しかし、図５に示されたように孔の底面にまで遮断部をさらに延ばすこともできる。これにより、蒸着物質の加熱容器支持台に備えられた支え台１１０の孔内側への蒸着を根本的に防止しうる。
【００２８】
また、図６に示されたように汚染防止板１４０に支え台１１０の中心軸方向に突き出た突出部をさらに備えて、汚染防止板１４０に形成された開口部の半径を、支え台１１０に形成された孔の半径よりさらに小さくでき、その開口部をノズルにすることもできるなど多様な変形が可能である。
【００２９】
図７は、本発明の望ましい他の一実施形態による蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【００３０】
前記図面を参照すれば、本実施形態による蒸着装置は、蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材２１２と、加熱容器が内部に配置された加熱容器支持台２１０と、を備える。 さらに詳細には、本実施形態による蒸着装置には、チャンバ２１１が備えられが、このチャンバ２１１には蒸着しようとする基板２００を支持する基板支持部材２１２と、この基板２００に密着されて蒸着しようとするパターンのスリットが形成された蒸着マスク２１３、そして蒸着マスク２１３を挟んで前記基板２００と対応すべく配置される加熱容器支持台２１０とが備わる。
【００３１】
基板２００を支持する基板支持部材２１２は、基板２００の蒸着面が加熱容器支持台２１０と対応して支持されるように基板２００の縁部を支持するが、これに限定されるものではない。またこの基板支持部材２１２は、基板２００の蒸着中に回転させうるなど多様な変形が可能である。そして、基板支持部材２１２には、基板２００の自重による基板２００の反りを防止するための手段と、蒸着マスク２１３を基板２００に密着させるための手段とがさらに備えられうる。
【００３２】
加熱容器支持台２１０は、前述した実施形態及びその変形例による加熱容器支持台の構造を有する。すなわち、加熱容器支持台２１０は、上面に複数個の孔が形成された支え台と、その支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を有する汚染防止板を備える。そして、この加熱容器支持台２１０を回転させるアクチュエータを必要によってさらに備えうる。
【００３３】
前記のような構造を有する蒸着装置は、加熱容器支持台２１０に備えられた支え台の孔に配置された加熱容器から放出された物質が基板２００に蒸着されるが、前述したように加熱容器支持台２１０に備えられた支え台内の複数個の孔には、相異なる蒸着物質が注入された加熱容器が備えられうる。この加熱容器を選択的あるいは複合的に加熱させることによって、多様な種類の薄膜を形成しうる。この際、蒸着される薄膜の均一度及び再現性が非常に重要なので、蒸着物質が放出される加熱容器が常に一定の位置にあるように前記加熱容器支持台２１０の位置を調節する手段がさらに備えられうる。
【００３４】
前記のような蒸着装置において、前記加熱容器支持台２１０に前述した実施形態に及びその変形例による加熱容器支持台を用いることによって、蒸着装置の維持、管理及び使用をさらに容易にしうる。これにより、このような蒸着装置を用いて有機電界発光ディスプレイ装置などを製造することによって、製造コストを低減して所要時間を短縮させうる。
【００３５】
本発明は図面に図示された実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解しうる。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想によって決まるべきである。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明は、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に関するものであって、例えば、電界発光ディスプレイ装置の製造などに好適に適用しうる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】従来の加熱容器支持台を概略的に示す斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線の断面図である。
【図３】本発明の望ましい一実施形態による加熱容器支持台を概略的に示す斜視図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【図５】図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【図６】図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【図７】本発明の望ましい他の一実施形態による蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１１０ 支え台
１２０ 加熱容器
１３０ 熱線
１４０ 汚染防止板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に係り、さらに詳細には、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて維持、管理及び使用が容易な蒸着装置の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電界発光ディスプレイ装置は、自発光型ディスプレイ装置であって、視野角が広くてコントラストに優れるだけでなく、応答速度が速いという長所を有しているために、次世代ディスプレイ装置として注目を浴びている。
【０００３】
電界発光ディスプレイ装置は、発光層（ＥＭＬ：Emission layer）形成物質によって無機電界発光ディスプレイ装置と有機電界発光ディスプレイ装置とに区分され、そのうち、有機電界発光ディスプレイ装置は、無機電界発光ディスプレイ装置に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性に優れて多色化が可能であるという長所を有している。
【０００４】
一般的な有機電界発光ディスプレイ装置に備えられる有機電界発光素子は、互いに対向された電極間に少なくとも発光層を含む中間層となる。前記中間層には、多様な層が備えられるが、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層または電子注入層などを挙げられうる。有機電界発光素子の場合、このような中間層は有機物より形成された有機薄膜である。
【０００５】
前記のような構成を有する有機電界発光素子を製造する過程において、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層または電子注入層などの有機薄膜は蒸着装置を用いて蒸着（deposition）の方法により形成されうる。すなわち、内部圧力が１０−６ないし１０−７ｔｏｒｒに調節されるチャンバ内に基板を配置し、前記基板に対向して配置する加熱容器に有機物を注入した後、前記加熱容器を用いて前記加熱容器内の有機物を蒸発または気化させて前記基板に蒸着させるのである。
【０００６】
図１は、従来の蒸着装置に備えられた加熱容器支持台を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線の断面図である。
【０００７】
前記図面を参照して蒸着原理を簡略に説明すれば、加熱容器２０内に蒸着される物質を注入した後、加熱容器２０の外部の熱線３０を通じて加熱容器２０を加熱し、その内部の物質を蒸発または気化させることによって、蒸着がなされる。この際、加熱容器２０の内部から外部への蒸着物質の放出途中で、支え台１０に形成されて内部に加熱容器２０が配置される孔１２の縁部に蒸着物質の塊り１４が付着されるという問題点があった。したがって、蒸着中に周期的にそのような付着物１４を別途に除去する工程を経なければならないという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記問題点を解決するためのものであって、本発明は、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて維持、管理及び使用が容易な蒸着装置の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的及びその他の様々な目的を達成するために、本発明は、上面に複数個の孔が形成された支え台、そして前記支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台を提供する。
【００１０】
このような本発明の他の特徴によれば、前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えうる。
【００１１】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台の孔は、円形に配置されうる。
【００１２】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えうる。
【００１３】
本発明はまた、前記のような目的を達成するために、（ｉ）蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材と、（ｉｉ）上面に複数個の孔が形成された支え台と、前記支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部とを有する汚染防止板とを備えた支持台、そして（ｉｉｉ）前記支持台の支え台に形成された各孔に配置された加熱容器を備えることを特徴とする蒸着装置を提供する。
【００１４】
このような本発明の他の特徴によれば、前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えうる。
【００１５】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台の孔は、円形に配置されうる。
【００１６】
本発明のさらに他の特徴によれば、前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えうる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置によれば、加熱容器支持台に備えられた支え台の孔縁部に放出された蒸着物質が付着されることが防止され、汚染防止板だけを取り替えるか、分離して、洗浄すればよい。これにより、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置の使用、維持及び管理がさらに容易になる。そして、これを通じて有機電界発光ディスプレイ装置などを製造することによって、製造コストを低減して所要時間を短縮させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００１９】
図３は、本発明の望ましい一実施形態による加熱容器支持台を概略的に示す斜視図であり、図４は、図３のＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【００２０】
前記図面を参照すれば、支え台１１０の上面には、複数個の孔１１２が形成されている。 図３には、孔１１２が円形に配置される状態に図示されているが、本発明はこれに限定されるものではない。また、二重の円形にも配置されうるなど多様な変形が可能である。
【００２１】
そして、加熱容器支持台には、汚染防止板１４０がさらに備えられるが、これは支え台１１０の各孔１１２の入口に配置される。この汚染防止板１４０は、孔１１２に対応する開口部を有しており、また孔内壁１１２ａに沿って延びる遮断部を備える。
【００２２】
前述したように、加熱容器支持台に備えられた支え台１１０に形成された孔１１２の内部に加熱容器１２０が配置されて蒸着される。すなわち、その孔内に配置された加熱容器１２０から蒸発または昇華により蒸着される物質が放出されることによって、蒸着がなされるが、この過程で放出された物質が支え台１１０に形成された孔１１２の縁部に付着されうる。したがって、本実施形態による加熱容器支持台は、加熱容器１２０が配置される支え台の孔１１２の入口に汚染防止板１４０をさらに備えることによって、蒸発物質が放出されて支え台１１０に直接付着されることを防止する。すなわち、従来には、支え台１１０に蒸発物質が放出されて直接付着され、よってこれを除去するための別途の工程を経なければならなかった。しかし、本実施形態による加熱容器支持台の場合には、蒸発物質が支え台１１０ではない汚染防止板１４０に付着させることによって、汚染防止板１４０だけを取り替えるか、分離して、洗浄するようにし、加熱容器支持台の維持、管理及び使用をさらに容易にしうる。
【００２３】
一方、前記のような加熱容器支持台に備えられた支え台１１０の各孔内部には、熱線１３０がさらに備えられうるが、この熱線１３０はその孔内部に配置される加熱容器１２０の温度を高める役割を果たす。このために熱線１３０は、主に抵抗の高い伝導性物質で形成されるが、熱線１３０に電流が流れつつ、高い抵抗により熱が発生して加熱容器１２０を加熱する。この熱線１３０の形状は、もちろん図４に示されたように支え台１１０の孔内壁１１２ａに沿って備わりうるなど多様な変形が可能である。
【００２４】
そして、加熱容器支持台の孔底面には、蒸着物質の温度を測定するためのサーモカップルのような温度感知手段がさらに備わりうる。また、加熱容器支持台に備わった支え台１１０を回転させるアクチュエータ（図示せず）がさらに備わりうる。
【００２５】
図５及び図６は、図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【００２６】
前記図面を参照すれば、本変形形態による加熱容器支持台は、前述した実施形態による加熱容器支持台と同一に支え台１１０と汚染防止板１４０とを備える。本変形例による加熱容器支持台が前述した実施形態による加熱容器支持台と異なる点は汚染防止板１４０の形状にある。
【００２７】
汚染防止板１４０は、支え台１１０の各孔１１２の入口に配置されるが、これは孔１１２に対応する開口部を有しており、また孔内壁１１２ａに沿って延びる遮断部を備える。この際、前述した実施形態による加熱容器支持台に備えられた汚染防止板の遮断部は、加熱容器支持台に備えられた支え台の孔の縁部のみを遮断した。しかし、図５に示されたように孔の底面にまで遮断部をさらに延ばすこともできる。これにより、蒸着物質の加熱容器支持台に備えられた支え台１１０の孔内側への蒸着を根本的に防止しうる。
【００２８】
また、図６に示されたように汚染防止板１４０に支え台１１０の中心軸方向に突き出た突出部をさらに備えて、汚染防止板１４０に形成された開口部の半径を、支え台１１０に形成された孔の半径よりさらに小さくでき、その開口部をノズルにすることもできるなど多様な変形が可能である。
【００２９】
図７は、本発明の望ましい他の一実施形態による蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【００３０】
前記図面を参照すれば、本実施形態による蒸着装置は、蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材２１２と、加熱容器が内部に配置された加熱容器支持台２１０と、を備える。 さらに詳細には、本実施形態による蒸着装置には、チャンバ２１１が備えられが、このチャンバ２１１には蒸着しようとする基板２００を支持する基板支持部材２１２と、この基板２００に密着されて蒸着しようとするパターンのスリットが形成された蒸着マスク２１３、そして蒸着マスク２１３を挟んで前記基板２００と対応すべく配置される加熱容器支持台２１０とが備わる。
【００３１】
基板２００を支持する基板支持部材２１２は、基板２００の蒸着面が加熱容器支持台２１０と対応して支持されるように基板２００の縁部を支持するが、これに限定されるものではない。またこの基板支持部材２１２は、基板２００の蒸着中に回転させうるなど多様な変形が可能である。そして、基板支持部材２１２には、基板２００の自重による基板２００の反りを防止するための手段と、蒸着マスク２１３を基板２００に密着させるための手段とがさらに備えられうる。
【００３２】
加熱容器支持台２１０は、前述した実施形態及びその変形例による加熱容器支持台の構造を有する。すなわち、加熱容器支持台２１０は、上面に複数個の孔が形成された支え台と、その支え台の各孔の入口に配置されて孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を有する汚染防止板を備える。そして、この加熱容器支持台２１０を回転させるアクチュエータを必要によってさらに備えうる。
【００３３】
前記のような構造を有する蒸着装置は、加熱容器支持台２１０に備えられた支え台の孔に配置された加熱容器から放出された物質が基板２００に蒸着されるが、前述したように加熱容器支持台２１０に備えられた支え台内の複数個の孔には、相異なる蒸着物質が注入された加熱容器が備えられうる。この加熱容器を選択的あるいは複合的に加熱させることによって、多様な種類の薄膜を形成しうる。この際、蒸着される薄膜の均一度及び再現性が非常に重要なので、蒸着物質が放出される加熱容器が常に一定の位置にあるように前記加熱容器支持台２１０の位置を調節する手段がさらに備えられうる。
【００３４】
前記のような蒸着装置において、前記加熱容器支持台２１０に前述した実施形態に及びその変形例による加熱容器支持台を用いることによって、蒸着装置の維持、管理及び使用をさらに容易にしうる。これにより、このような蒸着装置を用いて有機電界発光ディスプレイ装置などを製造することによって、製造コストを低減して所要時間を短縮させうる。
【００３５】
本発明は図面に図示された実施形態を参考にして説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解しうる。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想によって決まるべきである。
【産業上の利用可能性】
【００３６】
本発明は、加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置に関するものであって、例えば、電界発光ディスプレイ装置の製造などに好適に適用しうる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】従来の加熱容器支持台を概略的に示す斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線の断面図である。
【図３】本発明の望ましい一実施形態による加熱容器支持台を概略的に示す斜視図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線の断面図である。
【図５】図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【図６】図３に示された加熱容器支持台の変形例を示す図面である。
【図７】本発明の望ましい他の一実施形態による蒸着装置を概略的に示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３８】
１１０ 支え台
１２０ 加熱容器
１３０ 熱線
１４０ 汚染防止板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に複数個の孔が形成された支え台と、
前記支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板と、を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項２】
前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項３】
前記支え台の孔は、円形に配置されることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項４】
前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項５】
蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材と、
上面に複数個の孔が形成された支え台と、前記支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を有する汚染防止板と、を備えた支持台と、
前記支持台の支え台に形成された各孔に配置された加熱容器と、を備えることを特徴とする蒸着装置。
【請求項６】
前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記支え台の孔は、円形に配置されることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項１】
上面に複数個の孔が形成された支え台と、
前記支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板と、を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項２】
前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項３】
前記支え台の孔は、円形に配置されることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項４】
前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置の加熱容器支持台。
【請求項５】
蒸着膜が形成される基板を支持する支持部材と、
上面に複数個の孔が形成された支え台と、前記支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を有する汚染防止板と、を備えた支持台と、
前記支持台の支え台に形成された各孔に配置された加熱容器と、を備えることを特徴とする蒸着装置。
【請求項６】
前記支え台の各孔内部に配置された熱線をさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記支え台の孔は、円形に配置されることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【請求項８】
前記支え台を回転させるアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項５に記載の蒸着装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００６−２０００４０（Ｐ２００６−２０００４０Ａ）
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１２５１５（Ｐ２００６−１２５１５）
【出願日】平成１８年１月２０日（２００６．１．２０）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年８月３日（２００６．８．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１月２０日（２００６．１．２０）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
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