説明

半導体冷却構造

【課題】半導体素子を冷却する際に、冷却構造に密着させる際に密着しないという課題があった。
【解決手段】本発明の半導体冷却構造は、複数個の半導体素子を、互いに間隙を有しながら取付面に並列配置してなる半導体冷却構造において、前記半導体素子を前記取付面に対して接触させるための狭圧手段が、前記複数個の半導体素子ごとに設置してあり、前記半導体素子と前記取付面の間に絶縁材が配置され、前記半導体素子と前記絶縁材の公差を含めた厚み方向の寸法が、前記狭圧手段の前記半導体素子への接触面から取付面の寸法以上とする。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体素子の冷却構造に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来技術の半導体冷却構造を、図7から図9を用いて説明する。図7は、従来技術の半導体冷却構造の平面図である。図8は、従来技術の半導体冷却構造の正面図である。図9は、従来技術の半導体冷却構造の断面図である。
【0003】
半導体冷却構造101は、冷却媒体を内部に流通させる一対の冷却管103の間に、半導体素子121を内蔵した半導体モジュール102を複数個、互いの間に間隙部111を設けながら並列配置してなる。
【0004】
そして、図7に示すごとく、上記一対の冷却管121を半導体モジュール102に押圧するための挟圧手段104が、各半導体モジュール102ごとに個別に配設してある。なお、図8、図9においては、挟圧手段104の記載を省略してある。
【0005】
一対の冷却管103のうちの少なくとも一方は、隣り合う半導体モジュール102の間の間隙部111に対向する部分に、挟圧手段104の加圧力によって変形可能な可変形部131を設けてなる。
【0006】
可変形部131は、塑性変形可能に構成されている。すなわち、冷却管103のうち少なくとも可変形部131は、塑性材料によって構成されている。
【0007】
図7に示すごとく、挟圧手段104は、冷却管103における半導体モジュール102と反対側の面に配された一対の押圧板141と、一対の押圧板141をその端部において貫通する複数のスルーボルト142と、該スルーボルト142に螺合するナット143とからなる。そして、挟圧手段104は、スルーボルト142とナット143とによって、一対の押圧板141を互いに近づける方向に締め付けることによって、一対の冷却管103を半導体モジュール102に押圧させる。
【0008】
このようにして、複数の半導体モジュール102に対してそれぞれ設けられた複数の挟圧手段104によって、それぞれの半導体モジュール102に冷却管103を押圧して密着させる。このとき、各半導体モジュール102への冷却管103の加圧力は、複数の半導体モジュール102において均等になるようにするものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0009】
【特許文献1】特開2009−182312号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
しかしながら,前記従来の構成では半導体素子を冷却管に密着させるために複雑な形状の狭圧手段を用いる必要があった。
【0011】
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、単純な構造により取付面に対しての接触圧を確保することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0012】
前記従来の課題を解決するために、本発明の半導体素子の冷却構造は、半導体素子と取付面の間に設置した絶縁材の合計寸法を狭圧手段の寸法より大きくすることで,半導体素子の固定を行うものである。また、前記課題を解決するために,本発明の半導体素子の冷却構造は、半導体素子の位置規制用の固定部を持つものである。
【発明の効果】
【0013】
本発明の半導体素子の冷却構造は、複数の半導体素子を一定の圧力で取付面に対しての接触圧を確保することが出来るものである。また,本発明の半導体素子の冷却構造は、半導体素子の取付角度、位置決めを可能とするものである。また、本発明の半導体素子の冷却構造は、半導体素子の取付角度,位置決めを可能とすると同時に冷却性を向上させるものである。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】実施の形態1における半導体素子の冷却構造の断面図
【図2】実施の形態1における半導体素子の冷却構造の平面図
【図3】実施の形態1における半導体素子の平面図
【図4】実施の形態2における半導体素子の冷却構造の平面図
【図5】実施の形態3における半導体素子の冷却構造平面図
【図6】実施の形態4における半導体素子の冷却構造正面図
【図7】従来の半導体冷却構造における平面図
【図8】従来の半導体冷却構造における正面図
【図9】従来の半導体冷却構造における断面図
【発明を実施するための形態】
【0015】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、この実施の形態によってこの発明が限定されるものではない。
【0016】
(実施の形態1)
図1、図2、および図3を用いて本実施の形態に係る半導体素子の冷却構造を説明する。
【0017】
図1は、本実施の形態における半導体素子の冷却構造の断面図である。図2は、本実施の形態における半導体素子の冷却構造の平面図である。
【0018】
半導体素子の冷却構造は、半導体素子1と、絶縁材2と、取付面3と、狭圧手段4と、ネジ5と、接触面6とによって構成されている。
【0019】
図3は半導体素子1を取付面から見た平面図である。半導体素子1は、放熱板31と、電極端子32と、樹脂モールド部33と、ネジ穴34と、ネジ穴樹脂モールド部35で構成されている。よ放熱板31は電極端子32と電気的に接合され、放熱板以外をモールドすることで樹脂モールド部33を形成しており、単品での取付けのためにネジ穴34が配されている。ネジ穴34にネジが通った場合のネジと放熱板31の絶縁距離を確保出来るようにネジ穴と同心円状に形成されたネジ穴樹脂モールド部35が形成されている。
【0020】
図1において、複数個の半導体素子1が一定の間隙を設けて並列に配置されており、半導体素子1は取付面3との絶縁性と熱伝導性を考慮し熱伝導の良好な絶縁材2を介して取付面3に接触しており,狭圧手段4は半導体素子1を十分冷却できる一定の接触圧で狭圧手段4の両端部でネジ5によって取付面3に取り付けられている。
【0021】
このとき、狭圧手段4の半導体素子1との接触面6から取付面3の寸法が、半導体素子1の取付面3に対して高さ方向の寸法以下、かつその差が絶縁材2の厚み以下となるようにし、狭圧手段4がネジ5を所定のトルクで締め付けた時に、半導体素子1の高さ方向の寸法公差以下の弾性変化となるようにすることで、半導体素子1を絶縁材2を介し取付面3に密着させることができる。
【0022】
なお、取付面3と狭圧手段4の接触面に絶縁材2を介さないことでも同様の結果を得ることが出来る。
【0023】
(実施の形態2)
図4を用いて本実施の形態に係る半導体素子の冷却構造を説明する。ただし、実施の形態1と同じ箇所は説明を省略する。
【0024】
図4に示すように、図1の構成に加え、複数の半導体素子1それぞれの間にリブ40を設けることにより、横方向の位置ずれを規制することにより、半導体素子1の取付が行いやすくなるものである。
【0025】
(実施の形態3)
図5を用いて本実施の形態に係る半導体素子の冷却構造を説明する。ただし、実施の形態1又は2と同じ箇所は説明を省略する。
【0026】
図5に示すように、図4の構成に加え、ネジ穴34に挿入されるようにリブ41を設けることによって縦方向のずれを規制することにより、半導体素子1の取り付けが行いやすくなるものである。
【0027】
(実施の形態4)
図6を用いて本発明の実施の形態を説明する。ただし、実施の形態1ないし3と同じ箇所は説明を省略する。
【0028】
図6に示すように、放熱用フィン50を設けることによって取付面3への熱伝導だけではなく、狭圧手段4を通じて空間への熱放射をさせやすい構造とするものである。
【産業上の利用可能性】
【0029】
本発明は、電力変換装置に幅広く適用できるものである。
【符号の説明】
【0030】
1 半導体素子
2 絶縁材
3 取付面
4 狭圧手段
5 ネジ
6 接触面
31 放熱板
32 電極端子
33 樹脂モールド部
34 ネジ穴
35 ネジ穴樹脂モールド部
50 放熱用フィン

【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数個の半導体素子を、互いに間隙を有しながら取付面に並列配置してなる半導体冷却構造において、前記半導体素子を前記取付面に対して接触させるための狭圧手段が、前記複数個の半導体素子ごとに設置してあり、前記半導体素子と前記取付面の間に絶縁材が配置され、前記半導体素子と前記絶縁材の公差を含めた厚み方向の寸法が、前記狭圧手段の前記半導体素子への接触面から取付面の寸法以上になることを特徴とする半導体冷却構造。
【請求項2】
前記複数個の半導体素子間の間隙部にリブを設けた狭圧手段を持つことを特徴とする請求項1に記載の半導体冷却構造。
【請求項3】
前記複数個の半導体素子のネジ用穴にリブを設けた狭圧手段を持つことを特徴とする請求項2に記載の半導体冷却構造。
【請求項4】
前記狭圧手段に放熱用のフィンを設けたことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体冷却構造。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【公開番号】特開2012−227235(P2012−227235A)
【公開日】平成24年11月15日(2012.11.15)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−91668(P2011−91668)
【出願日】平成23年4月18日(2011.4.18)
【出願人】(000005821)パナソニック株式会社 (73,050)
【Fターム(参考)】