塗布装置、塗布方法、および光学フィルムの製造方法
【課題】 振動を効果的に抑制する基礎部を備える塗布装置および塗布方法と、そのような塗布装置や塗布方法によって得られる塗布膜を含む光学フィルムの製造方法とを提供する。
【解決手段】 スロットダイを支持する基礎部１４０は、グランドレベルよりも上方に突出する地上部１４２を含む。この地上部１４２は、グランドレベルから５ｍ以下の高さＨ１を有するとともに、３ｍ２以上の水平方向の平均断面積Ａ１を有する。このように基礎部１４０の地上部１４２の高さを制限するとともに水平方向に関して十分な平均断面積を確保することで、基礎部１４０およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【解決手段】 スロットダイを支持する基礎部１４０は、グランドレベルよりも上方に突出する地上部１４２を含む。この地上部１４２は、グランドレベルから５ｍ以下の高さＨ１を有するとともに、３ｍ２以上の水平方向の平均断面積Ａ１を有する。このように基礎部１４０の地上部１４２の高さを制限するとともに水平方向に関して十分な平均断面積を確保することで、基礎部１４０およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置、塗布方法、および光学フィルムの製造方法に係り、特に塗布装置の振動を抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ウェブ（支持体）の表面に所望の厚さの塗布膜（フィルム）を塗布する塗布装置として、マニホールドからスロットを介して塗布液を吐出させるダイコータ（スロットダイ）を用いる装置が広く用いられている。ダイコータには、スライドコータ、ファウンテンコータ、エクストルージョンコータ、等の種類があり、用途に応じたダイコータが用いられ、光学フィルム等の塗布膜が高品質に形成される。
【０００３】
このような塗布装置の塗布部やウェブは、通常、耐振性を有する基礎部に固定設置され、振動の抑制が図られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
精密機器である塗布装置によって高品質な塗布膜を形成するためには、段ムラ等の塗布膜の面状不良に直結しうる塗布装置の振動を可能な限り抑制することが好ましいが、塗布装置の振動を効果的に抑制する基礎部の具体的な構造を開示、提案する文献等は見当たらない。
【０００５】
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、振動を効果的に抑制する基礎部を含む塗布装置および塗布方法と、そのような塗布装置や塗布方法によって得られる塗布膜を含む光学フィルムの製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するために、本発明の一態様は、スロットダイを支持する基礎部を備え、前記基礎部は、グランドレベルから５ｍ以下の高さを有するとともに３ｍ２以上の水平方向の平均断面積を有する地上部を有する塗布装置に関する。
【０００７】
当該塗布装置によれば、基礎部のうちグランドレベル以上に位置する地上部は、高さが制限されるとともに水平方向に関して十分な平均断面積を有するので、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【０００８】
なお、ここでいう「スロットダイ」とは、比較的幅の狭いスロットを介して塗布液が吐出される塗布器全般を含みうる概念であり、いわゆるダイコータを含む。また、「グランドレベル」とは、基礎部を固定する場所の高さを指し、例えば地面の高さを意味する。また、「水平方向の平均断面積」とは、水平方向に切った切り口の断面積の平均値を意味する。
【０００９】
前記基礎部の頂部は、６０秒のサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析によるｒｍｓ値によれば、５Ｈｚ以上の振動数で０．３Ｇａｌ以下の加速度を示すことが好ましい。
【００１０】
この条件を満たす場合に、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【００１１】
前記基礎部は、コンクリート製または鉄筋コンクリート製であることが好ましい。
【００１２】
この場合、基礎部はスロットダイを適切に支持することができる。
【００１３】
前記基礎部は、前記スロットダイを含むコーティング装置と、スロットダイから吐出される塗布液が塗布される支持体を支持するコーティングロール装置と、を支持することが好ましい。
【００１４】
この場合、基礎部によって、スロットダイの振動だけではなくコーティングロール装置の振動も効果的に抑制することができる。したがって、スロットダイは、コーティングロール装置によって支持される支持体に対して塗布液を精度良く塗布することができる。
【００１５】
前記スロットダイと前記基礎部との間に設置される制振装置または免振装置を更に備えることが好ましい。
【００１６】
この場合、制振装置または免振装置によって、基礎部およびスロットダイの振動を更に効果的に抑制することが可能である。なお、制振装置や免振装置として任意の装置を使用しうる。
【００１７】
前記スロットダイは、ダイコータまたはスライドコータであることが好ましい。
【００１８】
ダイコータやスライドコータが用いられる場合、塗布膜を精度良く形成する観点からは振動を可能な限り抑制することが望ましいので、本発明の塗布装置が特に有効である。
【００１９】
本発明の他の態様は、上記の塗布装置を用いて、支持体上に塗布膜を形成する塗布方法に関する。
【００２０】
当該塗布方法によれば、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【００２１】
本発明の他の態様は、上記の塗布装置によって支持体上に塗布膜を形成し、当該塗布膜を用いて光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法に関する。
【００２２】
この場合、上記の塗布装置によって支持体上に精度良く形成された塗布膜が用いられ、高品質な光学フィルムを製造することができる。
【００２３】
前記光学フィルムは、反射防止フィルムであることが好ましい。
【００２４】
このような反射防止フィルムなどの高機能性フィルムを製造する場合には、フィルムを精度良く製造する必要があるため、上述の本発明に係る塗布装置および塗布方法が特に適している。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の塗布液の塗布装置および塗布方法によれば、スロットダイは、基礎部によって支持されて振動が抑制されるので、塗布液を精度良く吐出することができる。また、このような塗布装置および塗布方法により製造された塗布膜を用いることによって、高品質な光学フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の各実施の形態について説明する。
【００２７】
第１の実施形態
図１は、光学フィルムの製造ライン（スロットダイコータ式塗布システム１０）の全体構成を示す図である。図中の矢印はウェブ１４の走行方向を示す。なお、スロットダイコータ式塗布システム１０を簡明に示すために、ウェブ１４を搬送する複数のパスローラ６８については、代表的な位置に配置されるパスローラ６８のみが図示されている。
【００２８】
本実施形態のスロットダイコータ式塗布システム１０では、上流側から下流側に向かって、送り出し機６６、除塵機７４、バックアップローラ１２、エクストルージョン型のダイコータ（スロットダイ）１８、乾燥装置７６、加熱装置７８、紫外線照射装置８０、および巻き取り機８２が順次設置されている。なお、ここでいう「上流」および「下流」は、ウェブ１４の走行方向を基準としている。
【００２９】
送り出し機６６は、ポリマー層が予め形成された透明な支持体であるウェブ１４を、下流側へ順次送り出す。除塵機７４は、ウェブ１４に付着する塵等の異物を除去する。
【００３０】
ダイコータ１８およびバックアップローラ１２の詳細については後述するが、バックアップローラ１２によって搬送、支持されるウェブ１４に向かってダイコータ１８から塗布液が吐出され、ウェブ１４上に塗布膜が形成される。
【００３１】
乾燥装置７６および加熱装置７８は、ウェブ１４上に形成された塗布膜を乾燥させるゾーンを形成する。乾燥装置７６は、ウェブ１４上の塗布膜（塗布層）の表面を気体層でシールしながら抑制した状態で溶媒を蒸発させる。なお、気体層による塗布膜表面のシールとして、気体を、塗布膜の移動速度に対して−０．１ｍ／秒〜＋０．１ｍ／秒の相対速度で塗布膜の表面に沿って移動させることが好ましい。溶媒を抑制した状態で蒸発させる場合、塗布膜中の溶媒含有量の減少速度が時間と比例関係にある間に塗布膜の乾燥を行なうことが好ましい。加熱装置７８は、必要により加熱して溶剤を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。
【００３２】
なお、乾燥装置７６および加熱装置７８による溶媒の乾燥は、覆いが設けられた状態で行われることが好ましい。また、乾燥風として、整流した風、均質な風、等を用いることができる。また、蒸発した溶媒を、塗布膜面に対向して設置された冷却凝縮板により、凝縮させて取り除いてもよい。
【００３３】
紫外線照射装置８０は、紫外線ランプによって塗布膜に紫外線を照射し、塗布膜のモノマー等を架橋させて、所望のポリマーを形成する。巻き取り機８２は、ポリマー化された塗布膜（塗布層）が積層されているウェブ１４を、ロール状に巻き取って回収する。
【００３４】
なお、塗布膜の成分に応じて、塗布膜を熱により硬化させるための熱処理ゾーンを更に設けることもでき、所望の塗布膜の硬化および架橋を行ってもよい。また、本システム１０とは別の工程で、ウェブ１４上の塗布膜に対して熱処理等の他の処理を施してもよい。
【００３５】
このようなスロットダイコータ式塗布システム１０の各機器類の間にはパスローラ６８が複数設けられており、ウェブ１４は、これらのパスローラ６８によって上流側から下流側へ送られる。パスローラ６８の位置および数、隣接するパスローラ６８の回転中心の相互間距離、等は必要に応じて適宜調整される。
【００３６】
上述のスロットダイコータ式塗布システム１０では、バックアップローラ１２およびパスローラ６８が、ウェブ１４を搬送するガイドローラとして働く。また、スロットダイコータ式塗布システム１０には、必要に応じて他の機器類を導入することもできる。例えば、光学補償フィルムでは、塗布膜の液晶部の配向を調整するためのラビング処理装置を除塵機７４の前後に設置することも可能である。
【００３７】
次に、ダイコータ１８およびバックアップローラ１２について説明する。
【００３８】
図２は、ダイコータ１８、バックアップローラ１２、およびその周辺の構成図である。図中のバックアップローラ１２およびウェブ１４の近傍の矢印は、本実施形態の「バックアップローラ１２によるウェブ１４の搬送方向」、すなわち「ウェブ１４の走行方向」を示す。なお、理解を容易にするため、図２に示されている各機器類の大きさや向きは実際の装置と必ずしも一致しないが、図２に示される各機器類は図１に示されている機器類に対応する。
【００３９】
本実施形態では、バックアップローラ１２により支持された状態で連続走行するウェブ（支持体）１４の表面に向かってダイコータ１８のスロット２４から塗布液が吐出され、ダイコータ１８とウェブ１４との間に塗布液のビード２０が液架橋される。そして、ビード２０のウェブ上流側に隣接する空間である減圧チャンバー２６内が減圧された状態で、連続走行するウェブ１４の表面にビード２０の塗布液が塗布され、ウェブ１４上に塗布膜（塗布層）が形成される。
【００４０】
なお、ダイコータ１８によって塗布液が塗布される位置（以下、「塗布位置」とも称する）を基準にして、ウェブ１４の走行方向に関し塗布位置よりも前段の部分を「ウェブ上流」と称し、後段の部分を「ウェブ下流」と称する。したがって、図２に示す横型のダイコータ１８では、ビード２０の下側は「ウェブ上流側」となり、ビード２０の上側は「ウェブ下流側」となる。また、ウェブの搬送方向と垂直を成すウェブの幅方向を「ウェブ幅方向」と称する。
【００４１】
図３は、ダイコータ１８の一部を切断した状態を示す斜視図である。
【００４２】
ダイコータ１８は、本体の内部に設けられたマニホールド２２と、マニホールド２２からダイコータ１８の先端部に延在するスロット２４とを有する。また、ダイコータ１８は、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの二つのブロックによって構成されており、マニホールド２２およびスロット２４が上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの境界の一部となっている。このように、ダイコータ１８を多ブロック構造とすることで、ダイコータ１８の製造精度を高め、洗浄などの後処理を容易にする。なお、ダイコータ１８の具体的な形状やサイズは、自重、使用時の環境、塗布液の温度、製作仕様限界、等に基づいて決定される。
【００４３】
マニホールド２２は、ダイコータ１８に供給された塗布液を塗布幅方向（ウェブ幅方向）へ拡流する液溜め部であり、ウェブ幅方向（長手方向）へ延びる。本実施形態のマニホールド２２は、略円形の断面形状を有し、ウェブ幅方向に沿って略同一の断面形状をもつ空洞部を構成する。マニホールド２２のウェブ幅方向への有効長さは、ウェブ１４に対する塗布幅と同等又は若干長く設定される。なお、マニホールド２２は、「ポケット」とも称される。
【００４４】
ダイコータ１８の本体のウェブ幅方向の両端部には閉鎖板５４が設けられ、マニホールド２２から外部への塗布液の漏出が防がれている。そして、マニホールド２２には、マニホールド２２から塗布液を引き抜くための塗布液排出管５２が接続されている。なお、塗布液供給管４６および塗布液排出管５２は、閉鎖板５４を貫通して、マニホールド２２と連通する。本実施形態では、マニホールド２２への塗布液の供給が塗布液供給管４６および塗布液排出管５２を介して行われるが、これに限定されるものではない。
【００４５】
スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端に至る狭隘な塗布液の流路を構成し、ダイコータ１８の先端部分における開口部２４Ａから塗布液を吐出させて、ダイコータ１８とウェブ１４との間に塗布液から成るビード２０を架設する。このスロット２４は、通常、０. ０１ｍｍ〜０. ５ｍｍ程度の開口幅をもち、ウェブ幅方向に関し、ウェブ１４に対する塗布液の塗布幅に対して略同等以上の長さを持つのが通常である。また、スロット２４の先端部は、バックアップローラ１２のウェブ走行方向の接線と３０°以上９０°以下の角度を成すように配置される。なお、マニホールド２２からウェブ１４に向かって延びるスロット２４の流路長は、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件に基づいて設定可能であり、スロット２４の開口部２４Ａから吐出される塗布液がウェブ幅方向に亘って略均一な流量および液圧をもつように、スロット２４の流路長を設定することが好ましい。
【００４６】
スロット２４のウェブ幅方向の両端部には幅規制板６０が挿入されており、各幅規制板６０は、スロット２４の壁部を構成する上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂに密着している。幅規制板６０は、スロット２４の開口部２４Ａから吐出される塗布液の塗布幅を規制する部材であり、ウェブ幅方向（長手方向）に関して開口部２４Ａが塗布幅と略同等以下となるように配置調整されている。また、幅規制板６０の近傍の塗布液の塗布状態を安定化させる観点から、幅規制板６０に特定の材料や表面加工を採用して、幅規制板６０に対する塗布液の濡れ性を調整することが好ましい。例えば、テフロンやニューライトなどの材料によって幅規制板６０を形成したり、フッ素樹脂などのポリマーによってコーティングされた金属板を幅規制板６０として使用したりすることで、幅規制板６０の塗布液に対する接触角が３０°以上となるように調整されることが好ましい。
【００４７】
ダイコータ１８の先端部分は、図２に示すように先細り状に形成され、その先端はリップランド１６と呼ばれる。スロット２４のウェブ上流側（図２の下側）のリップランド１６を上流側リップランド１６Ａと称し、ウェブ下流側（図２の上側）のリップランド１６を下流側リップランド１６Ｂと称する。
【００４８】
本実施形態のダイコータ１８はオーバーバイト構造を有し、上流側リップランド１６Ａよりも下流側リップランド１６Ｂのほうが、バックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に近い位置に配置される。このようなオーバーバイト構造は、ダイコータ１８のウェブ幅方向の全長に亘って略均一に形成されている。オーバーバイト構造、下流側リップランド１６Ｂが比較的狭い構造、およびリップランド１６とウェブ１４の間隔が狭い低リップクリアランス構造を採用する場合、ビード２０の下流側塗布液の圧損を小さくして、減圧チャンバー２６における減圧値を小さくすることができる。そのため、これらの構造を採用する場合には、ビード２０の変動が抑えられ、塗布液をウェブ１４上に安定塗布することが可能となり、高精度な面状を有する塗布膜を提供することができる。
【００４９】
マニホールド２２には、塗布液を貯留する塗布液タンク４４が塗布液供給管４６を介して接続され、塗布液供給管４６には、塗布液タンク４４からマニホールド２２に塗布液を送る塗布液ポンプ４２が設けられている。
【００５０】
上述のような構成を有するダイコータ１８の先端部分の下方には、ビード２０のウェブ上流側の空間を減圧するための減圧チャンバー２６が設けられている。減圧チャンバー２６は、バックプレート２６Ａ、２枚のサイドプレート２６Ｂ、リアプレート２６Ｃ、およびボトムプレート２６Ｄによって、内部に空間を形成するような箱形形状に構成されている。
【００５１】
バックプレート２６Ａは、減圧チャンバー２６のうちウェブ搬送方向の最も上流側に位置し、ウェブ１４の幅方向に延在するように配置される。２枚のサイドプレート２６Ｂは、バックプレート２６Ａと垂直を成すように配置され、減圧チャンバー２６の両側壁を構成する。バックアップローラ１２と近接するサイドプレート２６Ｂの縁部分（図示省略）は、バックアップローラ１２とほぼ同じ曲率を有する。リアプレート２６Ｃは、ダイコータ１８の下方において、バックプレート２６Ａと略平行に配置されている。ボトムプレート２６Ｄは、減圧チャンバー２６の底部分を構成し、バックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、およびリアプレート２６Ｃと縁部分において接合する。
【００５２】
「バックプレート２６Ａとウェブ１４の間」および「サイドプレート２６Ｂとウェブ１４の間」の各々には、所定の大きさの隙間が存在する。主にこれらの隙間によって構成される「バックアップローラ１２（ウェブ１４）と減圧チャンバー２６との間の隙間」および「ダイコータ１８と減圧チャンバー２６との間の隙間」を介し、減圧チャンバー２６内に外気（空気）が流入する。なお、これらの隙間を介して減圧チャンバー２６内に流入する空気流量は、外気に対する減圧チャンバー２６内の減圧度に応じて変わり、具体的には後述するエアー吸引口３５の吸気流量およびブロア３０の排気流量に応じて決定される。
【００５３】
ボトムプレート２６Ｄには吸引口４０が形成され、この吸引口４０にはエアー配管２８が接続されている。減圧チャンバー２６は、吸引口４０およびエアー配管２８を介してブロア３０に接続され、減圧チャンバー２６とブロア３０との間のエアー配管２８にはバッファ装置３３が設けられている。したがって、減圧チャンバー２６、バッファ装置３３、およびブロア３０が、エアー配管２８を介して順次設けられており、これらによって減圧装置が構成されている。
【００５４】
ブロア３０は、吸引口４０およびエアー配管２８を介して減圧チャンバー２６内の空気を吸引し、減圧チャンバー２６内を負圧にする。本実施形態のブロア３０は、インバータ式であり、吸引風量を適宜変えることができ、エアー排気流量を毎時０．５ｍ３〜５ｍ３（０．００８ｍ３／ｍｉｎ（分）〜０．０８ｍ３／ｍｉｎ（分））の範囲で調整することが可能である。
【００５５】
次に、ダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整する機構について説明する。
【００５６】
図４は、第１の実施形態のダイコータ１８およびバックアップローラ１２を側方からみた構成を示す図である。
【００５７】
ダイコータ１８、バックアップローラ１２、およびダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整するストッパー１１０、等の部材が、土台となる基礎部１４０上に設けられている。
【００５８】
ウェブ１４が巻き掛けられるバックアップローラ１２は、ローラ用架台１３０を介して基礎部１４０に固定支持されている。
【００５９】
ダイコータ１８と基礎部１４０の間には、下部架台１０２、スライドガイド部１０６、スライド部１０４、移動テーブル１００、およびダイ支持部９８が順次設けられている。
【００６０】
下部架台１０２は、基礎部１４０上における安定した固定支持を実現するための架台であり、基礎部１４０上に直接設けられている。スライドガイド部１０６は、スライド部１０４のスライド移動をガイドする部材である。本実施形態のスライドガイド部１０６は、下部架台１０２上において、ダイコータ１８の移動方向（図中矢印Ａ参照）と垂直を成す方向に二つ並置され、各々がダイコータ１８の移動方向に延在する。スライド部１０４は、移動テーブル１００の下部において、スライドガイド部１０６に対応する位置に、ダイコータ１８の移動方向（図中矢印参照）と垂直を成す方向に二つ並置されている。各スライド部１０４は、対応するスライドガイド部１０６に対してスライド自在に嵌合し、移動テーブル１００とともにスライドガイド部１０６に沿ってスライド移動する。
【００６１】
移動テーブル１００は、ダイ支持部９８を介してダイコータ１８を固定支持するテーブルであり、スライド部１０４とともにスライド移動する。ダイ支持部９８は、移動テーブル１００に対してダイコータ１８を固定する部材である。
【００６２】
移動テーブル１００の下方には、ダイコータ１８をスライド移動させるための駆動源である駆動装置１２０が設けられている。この駆動装置１２０は、移動テーブル１００に固定されたストッパー受け部１２２と、ストッパー受け部１２２を貫通するボールネジ１２３と、ボールネジ１２３を軸回転させるサーボモータ１２４と、移動テーブル１００の位置を検出する位置検出装置１２５と、を有する。
【００６３】
ストッパー受け部１２２は、ボールネジ１２３とネジ嵌合しており、ボールネジ１２３の軸回転に伴ってダイコータ１８の移動方向（図中矢印Ａ方向）へ移動する。ボールネジ１２３は、ダイコータ１８の移動方向に延在し、その軸回転によって、ストッパー受け部１２２、移動テーブル１００、ダイ支持部９８、およびダイコータ１８を矢印Ａ方向へ移動させる。位置検出装置１２５は、移動テーブル１００の実際の位置を検出し、その検出結果をサーボモータ１２４に送る。なお、移動テーブル１００の位置を検出することができる任意の装置を位置検出装置１２５として用いることができ、取り付け位置も特に限定されず、検出手法に応じた適切な位置に配置される。サーボモータ１２４は、位置検出装置１２５から送られてくる検出結果に基づいて、ボールネジ１２３の軸回転量をフィードバック制御して、移動テーブル１００、ダイコータ１８、等の位置を正確に制御する。なお、駆動装置１２０の構成はこれに限定されるものではない。
【００６４】
下部架台１０２上には、ストッパー受け部１２２の移動を制限する第１ストッパー１１０が設けられている。第１ストッパー１１０は、ストッパー受け部１２２よりもバックアップローラ１２側（図４の右側）に配置されている。また、第１ストッパー１１０は、図４の紙面に垂直な方向に関して、任意の箇所に設置可能であり、例えばストッパー受け部１２２の略中央部に第１ストッパー１１０を配置することも可能である。
【００６５】
第１ストッパー１１０は、下部架台１０２に取り付けられたストッパー用架台１１４と、ストッパー用架台１１４上に取り付けられたストッパー支持部１１６および接触支持部１１７と、接触支持部１１７の表面のうちストッパー受け部１２２側の面に取り付けられた接触部１１８とを有する。接触部１１８は、ストッパー受け部１２２と直接接触する箇所であるため、剛性が高い素材及び構造がとられるのが望ましい。
【００６６】
上述のように、ダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整する機構では、まず、ストッパー受け部１２２の移動目標位置に合わせて、サーボモータ１２４によってボールネジ１２３の軸回転量が正確にコントロールされる。これにより、ストッパー受け部１２２を移動目標位置まで正確に移動させて、移動テーブル１００およびダイコータ１８を所望の位置に移動させることができる。そして、所望の位置に配置されたダイコータ１８からバックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に向かって塗布液が吐出され、ウェブ１４上に塗布膜が形成される。
【００６７】
次に、基礎部１４０の構成について説明する。図５は、第１の実施形態の基礎部１４０を側方から見た断面図を示す。図６は、第１の実施形態の基礎部１４０を上方から見た図を示す。
【００６８】
基礎部１４０は、グランド（地面）の上方に突出する直方体の地上部１４２と、グランドに埋め込まれる直方体の地中部１４４とによって構成される。水平方向に切られた地上部１４２の断面積（水平断面積）Ａ１はほぼ一定であり、この水平断面積Ａ１の平均値が３ｍ２以上に設定されている。また、地上部１４２の高さＨ１は５ｍ以下に設定されている。一方、地中部１４４の水平断面積Ａ２もほぼ一定であり、水平断面積Ａ２の平均値が５ｍ２以上に設定されている。また、地中部１４４の深さＨ２は２ｍ以上に設定されている。この基礎部１４０は、コンクリートまたは鉄筋コンクリートで作られており、適切な材料が使用状況等に応じて用いられうる。
【００６９】
このような基礎部１４０の上面Ｓ１に、ダイコータ１８およびバックアップローラ１２が載置される（図４参照）。
【００７０】
本件発明者は、鋭意研究の結果、以下の［実施例］に示されているように、図５に示す基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１が高くなるほど、また地上部１４２の断面積が小さくなるほど、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等の振動が抑制され難く増幅しやすいという知見を得た。また特に、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等に１００Ｈｚ以下の低周波域の振動が生じることを抑制することと、特定の固有振動数を各機器類に持たせないようにすることとが、塗布液をウェブ１４上に精度良く塗布する際に有効であるということが分かった。
【００７１】
具体的には、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を５ｍ以下に設定するとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を３ｍ２以上に設定することで、基礎部１４０上の機器類の振動を効果的に抑制することができるという知見を得た。また、６０ｓのサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄ・ピークホールド分析におけるｒｍｓ値（二乗平均平方根値）に基づいて、５Ｈｚ以上の振動数でＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸のいずれの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下の加速度を、運転時の基礎部１４０の頂上部（上面Ｓ１）が持つように、基礎部１４０上の機器類の配置位置、各機器類の重量、等を調整することが好ましいという知見を得た。そして、加速度、速度、および振動値と周波数との関係を示すトリパタイトグラフからも、これらの知見が好ましいことが確認された。
【００７２】
したがって、このような条件を満たすスロットダイコータ式塗布システム１０によれば、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等の振動を効果的に抑制して、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の段ムラ等の面状不良を低減し、高品質な塗布膜を提供することができる。このような装置によって提供される塗布膜は、非常に良好な面状を有しているので、反射防止フィルム等の光学フィルムの分野で特に有益である。
【００７３】
第２の実施形態
本実施形態において、上述の第１の実施形態と同一又は類似の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００７４】
図７は、第２の実施形態の基礎部１４０を側方から見た断面図を示す。図８は、第２の実施形態の基礎部１４０を上方から見た図を示す。
【００７５】
本実施形態では、複数の地上ブロック１４３を相互に連結することによって、基礎部１４０の地上部１４２が形成されている。図７に示す例では、三つの地上ブロック１４３が積み上げられ、隣接する地上ブロック１４３の側部同士が連結部１４６により連結されている。図８に示すように、地上ブロック１４３の両サイドの各々に、連結部１４６が二つ並んで設けられており、隣接する地上ブロック１４３が強固に密着した状態で連結されている。
【００７６】
他の構成は上述の第１の実施形態と略同一である。
【００７７】
本実施形態の基礎部１４０の地上部１４２は、複数のブロックが相互に強固に密着した状態で連結しているので、地上部１４２を一体として構成した上述の第１の実施形態の地上部１４２とほぼ同一構造とみなすことができる。
【００７８】
したがって、本実施形態においても、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を５ｍ以下に設定するとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を３ｍ２以上に設定することで、基礎部１４０上の機器類の振動を効果的に抑制することができる。また、６０ｓのサンプリングデータにおける１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄ・ピークホールド分析におけるｒｍｓ値（二乗平均平方根値）に基づいて、５Ｈｚ以上の振動数でＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸のいずれの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下の加速度を、運転時の基礎部１４０の頂上部（上面Ｓ１）が持つように、基礎部１４０上の機器類の配置位置、各機器類の重量、等を調整することが好ましい。
【００７９】
第３の実施形態
本実施形態において、上述の第１の実施形態と同一又は類似の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００８０】
図９は、第３の実施形態のダイコータ１８およびバックアップローラ１２を側方からみた構成を示す図である。
【００８１】
本実施形態では、ダイコータ１８と基礎部１４０との間（例えば、下部架台１０２と基礎部１４０との間、またはスライドガイド部１０６と下部架台１０２との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。また、第１ストッパー１１０と基礎部１４０との間（例えば、下部架台１０２と基礎部１４０との間、またはストッパー用架台１１４と下部架台１０２との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。また、バックアップローラ１２と基礎部１４０との間（例えばローラ用架台１３０と基礎部１４０との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。なお、基礎部１４０の直上に免振装置または制振装置１４８を設置する場合には、「基礎部１４０と下部架台１０２との間に設けられる免振装置または制振装置１４８」と「基礎部１４０とローラ用架台１３０との間に設けられる免振装置または制振装置１４８」とを、一体として設けてもよいし、別体として設けてもよい。
【００８２】
他の構成は上述の第１の実施形態と略同一である。
【００８３】
免振装置あるいは制振装置と従来の基礎部とを組み合わせた場合でも、塗布装置に生じる振動をある程度抑制することができるが、そのようなシステムと、上述の基礎部１４０を含む本実施形態のスロットダイコータ式塗布システム１０とは、抑制対象とする振動周波数の領域の幅が異なる。通常の免振装置あるいは制振装置は、高周波領域の振動の免振性あるいは制振性には優れているが、免振装置自体あるいは制振装置自体の固有振動が起きやすいため、低周波領域の振動の免振性あるいは制振性はやや劣る。一方、本実施形態の基礎部１４０によれば、低周波領域の振動であっても効果的に抑制することができる。
【００８４】
したがって、本実施形態のように免振装置あるいは制振装置と基礎部１４０とを組み合わせることで、幅広い周波数領域の振動を効果的に抑制することができ、総合性能が極めて高い振動抑制を実現することができる。
【００８５】
次に、本発明によって実現可能な光学フィルムの具体的な構成例について説明する。
【００８６】
[ＬＣＤ用光学補償シート]
以下に、セルロースアシレートフィルム透明支持体（ウェブ１４）上にディスコティック化合物からなる光学異方性層を塗設した光学補償シートを、直接偏光板の保護フィルムとして用いる液晶表示装置について説明するが、本発明を応用可能な光学フィルムはこれに限定されるものではない。
【００８７】
ディスコティック化合物については、特開平７−２６７９０２号、特開平７−２８１０２８号、特開平７−３０６３１７号の各公報に詳細に記載されている。それらによると、光学異方層はディスクティック構造単位を有する化合物から形成される層である。即ち、光学異方層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマー層である。
【００８８】
また、セルロースアシレートフィルムは、配向膜の支持体（ウェブ１４）として好ましく用いられる。それらは特開平９−１５２５０９号公報に詳細に記載されているものを適用できる。すなわち、配向膜は、セルロースアシレートフィルム上又はそのセルロースアシレートフィルム上に塗設された下塗層上に配設可能であり、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。このような配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。なお、配向膜に用いられるポリマーと、光学異方層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。
【００８９】
セルロースアシレートフィルムは、特開平８−５８３７号、特開平７−１９１２１７号、特開平８−５０２０６号、特開平７−２８１０２８号の各公報に詳細に記載されている基本構成を有する光学補償シートに用いることができる。セルロースアシレートフィルム及びその上に設けられた光学異方層からなる光学補償シートが適用例であり、該光学異方層がディスコティック構造単位を有する化合物から形成される層である。ＬＣＤへの適用例としては、上記光学補償シートを偏光板の片側に粘着剤を介して貼り合わせる、もしくは、保護フィルムとして上記光学補償シートを偏光素子の片側に接着剤等を介して貼り合わせることが好ましい。光学異方素子は、少なくともディスコティック構造単位（ディスコティック液晶が好ましい）を有することが好ましい。
【００９０】
セルロースアシレートフィルムが適用される表記の光学補償シートの作製方法については、例えば特開平９−７３０８１号、特開平８−１６０４３１号、特開平９−７３０１６号の各公報に詳細に記載されているが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
[ＬＣＤ用光学補償シートの応用法]
次にセルロースアシレートフィルムをパネルへ応用する例を示す。それらは、特開平８−９５０３４号、特開平９−１９７３９７号、特開平１１−３１６３７８号の各公報に詳細に記載されている。前記各公報に記載されている光学補償シートは、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持する。光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置することができる。液晶セルのモードは、ＶＡモード、ＴＮモード、またはＯＣＢモードであることが好ましい。
【００９２】
[防眩フィルム、反射防止フィルム]
セルロースアシレートフィルムは、防眩フィルム、反射防止フィルムに対しても好ましく適用できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上させる目的で、セルロースアシレートフィルムの片面または両面に防眩層、反射防止層の何れかあるいは両方を付与することができる。このような機能を付与したフィルムは防眩フィルムまたは反射防止フィルムと呼ばれ、防眩層と反射防止層の両方を具備するものは防眩性反射防止フィルムと呼ばれることがある。一般に、防眩フィルムならば透明支持体と防眩層から構成され、反射防止フィルムならば単層または複数層の光干渉層から成る反射防止層が透明支持体上において最表面に設けられ、必要に応じてハードコート層や防眩層が支持体と光干渉層の間に設けられる。
【００９３】
透明支持体としては、ＬＣＤ用途にはセルロースアシレートフィルムが好ましく、特にセルロースアセテートが好ましい。本発明に係る防眩、反射防止フィルムをＬＣＤに用いる場合、片面に粘着層を設ける等することにより、ディスプレイの最表面やディスプレイ内部の空気との界面に配置可能である。セルローストリアセテートは偏光板の偏光子を保護する保護フィルムに用いられるため、本発明に係る防眩、反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコスト、ディスプレイの薄手化の観点で好ましい。
【００９４】
本発明に係る防眩、反射防止フィルムには、必要に応じてハードコート層を設けることができる。ハードコート層に用いられる化合物は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、架橋構造を有することが好ましい。架橋構造を有するポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを電離放射線または熱により架橋するのが好ましい。
【００９５】
フィルムに防眩性能を付与する手段としては、可視光を散乱する粒径のマット粒子をバインダ中に分散して表面凹凸を有する防眩層を形成する方法、エンボスやサンドブラスト等により支持体表面に凹凸を付与する方法、塗布組成物の相分離構造により表面に凹凸を付与する方法等、様々な手法が公開特許公報にて公開されているが、一般的にはマット粒子をバインダ中に分散する方法が実用化されている。
【００９６】
防眩層の形成には、表面凹凸形成による防眩性付与の目的で、樹脂化合物からなるバインダに加えて樹脂または無機化合物からなる微粒子（マット剤）が用いられることがある。平均粒径は、１．０μｍから１０．０μｍが好ましく、１．５μｍから５．０μｍがより好ましい。また、防眩層のバインダ膜厚よりも小さな粒径の微粒子が、該微粒子全体の５０％未満であることが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法により測定できるが、その分布は粒子数分布に換算して考えることができる。防眩層膜厚は、０．５μｍ乃至１０μｍが好ましく、１μｍ乃至５μｍがより好ましい。
【００９７】
防眩層を形成するために用いられる樹脂バインダには、膜強度、透明性の観点から、上記ハードコート層を形成するための素材が好ましく用いられる。反射防止層と組み合わされる場合には、さらに上記ハードコート素材に加えて、高屈折率モノマーまたは高屈折率無機微粒子を併用することで、層の屈折率を１．５０から２．００まで高くすることができ、反射防止性能を向上させることが可能な場合がある。
【００９８】
エンボスによって支持体表面に凹凸を付与する場合には、複数層の光学干渉層の全てを形成した後に表面凹凸を形成することが好ましい。表面凹凸を形成した後にウエット塗布によって複数の光学干渉層を形成する場合、凹部に塗布液が溜まることによって発生する各層の膜厚ムラのために、反射防止性能の著しい悪化を引き起こすことがあり、好ましくない。全光学干渉層を形成した後にエンボス処理を行うことにより、光学干渉層の膜厚が実質的に均一になる。ここで、実質的に均一とは、中心膜厚±３％以内であることを意味する。
【００９９】
反射防止フィルムには、光学薄膜による光干渉の原理に基づいて設計された膜厚、屈折率、層構成となるように、低屈折率層の単層、あるいは低屈折率層と高屈折率層の複数層から構成される反射防止層を設ける。ここで低屈折率層、高屈折率層とは、それぞれ支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する層、支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する層を指し、いずれも反射防止の対象となる光の波長オーダー以下の膜厚を有する。このような非常に薄い膜厚を有する層は光学薄膜と呼ばれ、光干渉の原理に基づいた反射防止膜や反射膜等の光学機能層として様々な用途に実用化されている。
【０１００】
低屈折率層として、屈折率が１．３０〜１．４９までのものが、膜強度と屈折率のバランスを兼ね備えた素材として選択できる。具体的には、特開平１１−３８２０２号、特開平１１−３２６６０１号の各公報等で開示されるような光の散乱を生じないぐらい粒径が小さな微粒子間に空気の隙間が形成された低屈折率層や、熱または電離放射線により架橋する含フッ素化合物が好ましく用いられる。
【０１０１】
高屈折率層には、上記防眩層を高屈折率化するときに好ましく用いられる素材が同様に用いられる。好ましい屈折率範囲は１．７０〜２．２０であり、好ましい膜厚範囲は５〜３００ｎｍである。
【０１０２】
ハードコート層、防眩層、反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）に基づいて、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、米国特許２９４１８９８号、米国特許３５０８９４７号、米国特許３５２６５２８号の明細書、および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１０３】
なお、特開２００３−１４９４１３には、角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転および色相変化などがほとんど生じない、表示品位に優れる液晶表示装置を提供するために、酢化度５９．０％〜６１．５％のセルロースアセテートフィルム上に、透光性樹脂中に透光性微粒子を含む光拡散層を有する光拡散フィルムであって、セルロースアセテートフィルムの厚みが２０μｍ〜７０μｍであり、長さ１００ｍｍ当たりのカットオフ値が０．８ｍｍであり、平均表面粗さRaが０．２μｍ以下である光拡散フィルムについての記載があり、この光拡散フィルムは本発明にも適応できる。
【０１０４】
本発明の防眩フィルム、反射防止フィルムは、防眩層、反射防止層の形成前または形成後に何らかの手段によって支持体の裏面を鹸化処理することにより、ＬＣＤを始めとする各用途に用いられる偏光板の製造において、保護フィルムとして偏光子の片面若しくは両面に直接偏光子と貼り合わせることができる。
【０１０５】
特にＬＣＤの広視野角化のために液晶を封入したセルと偏光板との間に位相差フィルムを配置する場合には、セルの両面に配置される偏光板のうち、視認側に用いられる偏光板の空気界面側の保護フィルムに防眩フィルムまたは反射防止フィルム、およびその反対面であってセルと偏光子との間に形成される面に位相差フィルムの各々を、偏光子の両面に保護層として貼り合わせて用いることができる。このような構成の偏光板は、従来の偏光板と同等の厚みを持つ一方で、広視野角、低反射といった機能を付与することが可能であり、高機能ＬＣＤ用途に極めて好ましい。
【０１０６】
屈折率が異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を複数積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法、物理蒸着（ＰＶＤ）法、および金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子がマトリックス状に分散されて形成される薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
【０１０７】
上述したような塗布による反射防止フィルムに対して微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
【０１０８】
［塗布型反射防止フィルムの層構成］
基体上において少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。また、透明支持体と中屈折率層の間にハードコート層を設けてもよい。更に、塗布型反射防止フィルムは、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を含んでいてもよい。また、各層に他の機能を付与してもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０１０９】
基体上に防眩層、低屈折率層を積層した層構成からなる防眩性反射防止膜は、「防眩層の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。また、透明支持体と防眩層の間に、ハードコート層を設けてもよい。
【０１１０】
基体上にハードコート層を設け、低屈折率層を積層した層構成のクリア型反射防止膜は「防眩層の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。また透明支持体と防眩層の間にハードコート層を設けてもよい。もしくは基体上に防眩層を設け、高屈折率層、低屈折率層を積層した層構成の防眩性反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。もしくは基体上にハードコート層を設け、高屈折率層、低屈折率層を積層した層構成からなる防眩性反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。
【０１１１】
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成り、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。
【０１１２】
(反射防止フィルムの他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０１１３】
(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体に設けられる。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けられることが好ましい。高屈折率層は、ハードコート層を兼ねることができる。ハードコート層は、平均粒径０．２μｍ〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。
【０１１４】
(前方散乱層)
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報、等が挙げられる。
【０１１５】
(アンチグレア機能)
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法であってもよい。
【０１１６】
なお、上述したスロットダイコータ式塗布システム１０は、特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット塗布量が２０ｍｌ／ｍ２ 以下（塗布時の膜厚が２０μｍ以下）、更には１０ｍｌ／ｍ２の薄層塗布を行う光学フィルムの製造ラインに好適に適用できる。
【０１１７】
スロットダイコータ式塗布システム１０は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【０１１８】
本発明において、塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【０１１９】
以上説明したように、本発明の各実施形態によれば、基礎部１４０の地上部１４２の高さを比較的低く設定するとともに平均水平断面積Ａ１を比較的大きく設定することによって、基礎部１４０上に配置されるダイコータ１８等の機器類の振動を効果的に抑制することができる。これにより、ダイコータ１８からウェブ１４上に塗布される塗布膜の段ムラ等の面状不良を低減することができ、高品質な塗布膜を製造することができる。
【０１２０】
上述の事項は本発明の各態様を例示したものであって、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられたり、公知の要素を応用したりすることも可能であり、そのような各種態様も本発明の範囲に含まれうる。
【０１２１】
例えば、上述の各実施形態ではエクストルージョン型のダイコータを用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、塗布装置全般に対して本発明を適用することができる。
【０１２２】
また、上述の実施形態ではボールネジ１２３およびサーボモータ１２４を組み合わせて駆動装置１２０を構成する例について説明したが、ダイコータ１８を固定支持する移動テーブル１００を所望位置に移動させることができれば、駆動装置１２０の構成は特に限定されない。例えば、油圧装置等の移動装置によってストッパー受け部１２２や移動テーブル１００を押圧し、スライド部１０４をスライドガイド部１０６上で滑動させる構成であってもよい。なお、この油圧装置等の移動装置は、ダイコータ１８の移動方向に関し、ストッパー受け部１２２を挟んで第１ストッパー１１０とは反対側（図４の左側）に配置されることが好ましい。
【０１２３】
また、スロットダイコータ式塗布システム１０におけるバックアップローラ１２、ダイコータ１８、および減圧チャンバー２６は、ウェブ１４上に塗布液を適切に塗布することができれば、どのような配置関係であってもよい。例えば、ウェブ１４に対するダイコータ１８の塗布液の吐出角度、マニホールド２２の断面形状、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け状態、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け部とダイコータ１８や減圧チャンバー２６との相対位置関係、オーバーバイト量、等は、用途に応じて適宜調整可能である。
【０１２４】
また、マニホールド２２への塗布液の供給方式は、マニホールド２２に塗布液を適切に供給することができればどのような手法であってもよい。例えば、マニホールド２２の一端側から塗布液を供給する方式だけではなく（図３参照）、マニホールド２２の中央部から塗布液を供給する方式、塗布液が漏れ出ることを防止する栓をマニホールド２２の両端部に設けて、マニホールド２２の一方端から新規な塗布液を供給するとともに、他方端から抜き取られた一部の塗布液を再び一方端に循環させる方式、等も用いられうる。また、マニホールド２２の断面形状は、各図に示す略円形に限定されるものではなく、例えば半円形、台形などの矩形、あるいはそれらに類似する形状であってもよい。
【０１２５】
また、上述の実施形態では、エアー吸引口３５、およびブロア３０がコントローラ３８によって自動的に制御される例について示したが、これらの各機器をユーザが手動で適宜制御してもよい。
【０１２６】
また、上述の実施形態では、ウェブ１４上に塗布膜が単層で形成される例について説明したが、防眩層や反射防止層などの何らかの機能を有する塗布膜を複数層に形成してもよい。ウェブ１４上に複数層の塗布膜が形成される場合には、各層の塗布液をウェブ１４上に逐次塗布してもよいし、各層の塗布液をウェブ１４上に同時に塗布してもよい。なお、ウェブ１４（基材、フィルム）上に逐次塗布を行って２層以上の塗布膜を形成する場合、これらの塗布工程を連続で行うことが生産上は好ましく、最終層以外の層（塗布膜）に対する巻き取り工程を省略し、各層に対する塗布工程および乾燥工程を繰り返して、最終的に巻き取って回収することがより好ましい。
【実施例】
【０１２７】
以下に上述の第１の実施形態に係るスロットダイコータ式塗布システム１０を用いた実施例について記述するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２８】
実施例１
まず、下地として防眩層（防眩フィルム）を製作した。
【０１２９】
塗布液は、次のように調整した。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２４０ｇを、１０４ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶解した。
【０１３０】
得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０重量％の含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した（なお、この溶液を塗布、紫外線硬化させて得られた塗布膜の屈折率は１．６５であった）。
【０１３１】
更に、この溶液に個数平均粒径２．０μｍ、屈折率１．６１の架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを、１６０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルタ（それぞれＰＰＥ−１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にて濾過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用の塗布液として調製した。この塗布液の粘度は８ｍｐａ・ｓ／ｍ２ であり、表面張力は３０ｍＮ／ｍであった。
【０１３２】
このようにして得られた塗布液を、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の湿潤膜厚が８μｍ、ウェブ１４上の塗布液の塗布量が８ｍＬ／ｍ２、塗布幅が１４４０ｍｍとなるように、バーコータによってウェブ１４上に塗布した。この時、ウェブ１４を１０ｍ／ｍｉｎの速さで搬送した。このようにして塗布液が塗布されたウェブ１４を、巻き取り機８２によってロール状に巻き取った。
【０１３３】
次に、反射防止膜用の塗布液の準備（低屈折率層用塗布液の調製）を行った。屈折率が１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）８ｇ、メチルエチルケトン１８８ｇ及びシクロヘキサノン１２ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、反射防止膜用塗布液を調製した。この反射防止膜用塗布液の粘度は１ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２４ｍＮ／ｍとなった。
【０１３４】
このようにして得られた反射防止膜用塗布液を、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の湿潤膜厚が６μｍ、ウェブ１４上の塗布液の塗布量が６ｍＬ／ｍ２、塗布幅が１４９０ｍｍとなるように、ダイコータ１８によってウェブ１４上に塗布した。
【０１３５】
なお、ウェブ１４として、上記の防眩層が設けられたフジタックの１４７０ｍｍ幅のウェブ１４が用いられ、１０ｍ／ｍｉｎの速さでこのウェブ１４を搬送した。このようにして反射防止膜用の塗布液が塗布されたウェブ１４を、巻き取り機８２によってロール状に巻き取った。
【０１３６】
上述のような塗布膜の形成は、以下の構成の基礎部１４０上に載せられたダイコータ１８およびバックアップローラ１２によって行われた。すなわち、基礎部１４０の地中部１４４として、５ｍ×６ｍ×２ｍ（幅×長さ×深さ（Ｈ２））の大きさのコンクリート部材を用いた。また、基礎部１４０の地上部１４２として、地中部１４４の中央部に３ｍ２の断面積の鉄筋入りコンクリート部材（本体）を積み上げて地中部１４４と連結した。なお、３ｍ２の断面積を有する本体の周りに鉄筋入りコンクリートブロックを積み上げて本体と連結することにより、地上部１４２の平均断面積を調整した。
【０１３７】
基礎部１４０および基礎部１４０上の機器類に作用させる振動は、一般的な外部振動を想定した。具体的には、基礎部１４０から２０ｍほど離れたアスファルト舗装路における所定の段差上を１０ｔトラックが走行することによって、上記振動を発生させた。この時発生させた振動は、基礎部１４０に隣接するグランド（地面）において、５Ｈｚから５０Ｈｚの間の周波数を有するとともに５μｍ程度の振幅を有する振動が発生するように、調整された。
【０１３８】
上述の条件の下、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１および平均水平断面積Ａ１を変えることによって、以下の表１に示す結果を得ることができた。
【０１３９】
【表１】
【０１４０】
表１において、「基礎上部地上高さ」は基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を示し、「地上断面積（平均）」は地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を示し、「最大固有振動数」は基礎部１４０の固有振動数のうち最大の振動数を示す固有振動数をいう。また、「５Ｈｚ以上のピーク振動量（Ｘ，Ｙ，Ｚ）」は５Ｈｚ以上の周波数を有する振動が基礎部１４０に作用する時の地上部１４２の頂上部Ｓ１の加速度を示し、相互に直交するＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向への加速度が順次記されている。また、「段ムラ膜厚変動率」はウェブ１４上に形成された塗布膜の乾燥時の膜厚の変動率を示し、基準膜厚を９０ｎｍとして、この基準膜厚に対する最大誤差量がパーセント表記（％）で記されている。また、「段ムラ目視確認」はウェブ１４上に形成された塗布膜の面状を示し、本例では、サンプルの裏面を黒のマジックでべた塗りし、表面から散乱白色蛍光灯を照射した状態で、目視により確認した。「段ムラ目視確認」の項目において、「◎」は面状が非常に良好であることを意味し、「○」は面状が良好であることを意味し、「△」は面状が普通であることを意味し、「×」は段ムラが目立つことを意味する。
【０１４１】
なお、基礎部１４０の振動量（加速度）の測定は、リオン株式会社のサーボ加速時計ＬＳ−１０Ｃによって行い、汎用ＦＦＴ（高速フーリエ変換）に基づいて得られたデータを解析した。この解析は、６０ｓのサンプリングデータにおける１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析におけるｒｍｓ値に基づいて行った。また、基礎部１４０の最大固有振動数は、モーダル解析に基づいて算出した。
【０１４２】
表１に示すように、基礎部１４０の地上部１４２のグランドレベルからの高さが５ｍ以下であって（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」と「Ｎｏ４」とを参照）、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１が３ｍ２以上の場合（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」と「Ｎｏ５」とを参照）に、ウェブ１４上の塗布膜の膜厚の変動率が抑えられ、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、塗布膜の面状が良好になる場合には（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」参照）、上記の解析の結果得られた「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向のいずれかの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下になることが分かった。これに対し、塗布膜の面状に段ムラが目立つ場合には（表１の「Ｎｏ．４、Ｎｏ．５」参照）、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向のうちいずれの方向に関して、０．３Ｇａｌよりも大きな値を示すことが分かった。
【０１４３】
また、塗布膜の面状が良好になる場合には（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」参照）、塗布膜の膜厚変動率が０．６％以下を示すとともに、基礎部１４０の最大固有振動数が１４０Ｈｚ以上の比較的高い振動数を示すことが分かった。これに対し、塗布膜の面状に段ムラが目立つ場合には（表１の「Ｎｏ．４、Ｎｏ．５」参照）、塗布膜の膜厚変動率が１．０％以上を示すとともに、基礎部１４０の最大固有振動数が１１０Ｈｚ以下を示すことが分かった。
【０１４４】
実施例２
上述の実施例１とほぼ同じ条件で、ウェブ１４上に塗布膜を形成した。
【０１４５】
本例では、免振装置１４８を設置した場合と設置しない場合との効果を比較した。免振装置１４８を設置する場合には、図９に示す構成のスロットダイコータ式塗布システム１０を使用し、「基礎部１４０と下部架台１０２との間に設けられる免振装置１４８」と「基礎部１４０とローラ用架台１３０との間に設けられる免振装置１４８」とを、一体として設けた。一方、免振装置１４８を設置しない場合には、図４に示す構成のスロットダイコータ式塗布システム１０を使用した。
【０１４６】
免振装置１４８として、特許機器株式会社のアクティブ除振装置α２を用いた。また、この免振装置１４８の「アクティブモード（アクティブ除振モード）」と「パッシブモード（パッシブ除振モード）」とを適宜切り換えた。
【０１４７】
なお、本例では、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１（「基礎上部地上高さ」）を５ｍに保つとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１（「地上断面積（平均）」）を３ｍ２に保った。
【０１４８】
上記の条件下で、以下の表２に示す結果を得ることができた。
【０１４９】
【表２】
【０１５０】
表２において、「免振装置」は、免振装置１４８の有無およびその除振モード（アクティブモードおよびパッシブモード）を示す。
【０１５１】
本例においても、表２に示すように、基礎部１４０の地上部１４２のグランドレベルからの高さが５ｍ以下であって地上部１４２の平均水平断面積Ａ１が３ｍ２以上という条件を満たすいずれの場合にも（表２の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３」参照）、ウェブ１４上の塗布膜の膜厚の変動率が抑えられ、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、免振装置１４８が存在しない場合に比べ（表２の「Ｎｏ．１」参照）、免振装置１４８が存在する場合には（表２の「Ｎｏ．２、Ｎｏ．３」参照）、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」がより効果的に抑えられ、塗布膜の膜厚変動率も低減し、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、免振装置１４８は、パッシブモードに比べて、アクティブモードのほうが、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が効果的に抑えられ、塗布膜の膜厚変動率がより効果的に抑えられることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】光学フィルムの製造ライン（スロットダイコータ式塗布システム）の全体構成を示す図である。
【図２】ダイコータ、バックアップローラ、およびその周辺の構成図である。
【図３】ダイコータの一部を切断した状態を示す斜視図である。
【図４】第１の実施形態のダイコータおよびバックアップローラを側方からみた構成を示す図である。
【図５】第１の実施形態の基礎部を側方から見た断面図を示す図である。
【図６】第１の実施形態の基礎部を上方から見た図を示す図である。
【図７】第２の実施形態の基礎部を側方から見た断面図を示す図である。
【図８】第２の実施形態の基礎部を上方から見た図を示す図である。
【図９】第３の実施形態のダイコータおよびバックアップローラを側方からみた構成を示す図である。
【符号の説明】
【０１５３】
１０…スロットダイコータ式塗布システム、１２…バックアップローラ、１４…ウェブ、１６…リップランド、２０…ビード、２２…マニホールド、２４…スロット、２４Ａ…開口部、２６…減圧チャンバー、２６Ａ…バックプレート、２６Ｂ…サイドプレート、２６Ｃ…リアプレート、２６Ｄ…ボトムプレート、２８…エアー配管、３０…ブロア、３３…バッファ装置、３４…バッファタンク、３５…エアー吸引口、３６…圧力計、３８…コントローラ、４０…吸引口、４２…塗布液ポンプ、４４…塗布液タンク、４６…塗布液供給管、５２…塗布液排出管、５４…閉鎖板、６０…幅規制板、６２…幅規制板先端面、６６…送り出し機、６８…パスローラ、７４…除塵機、７６…乾燥装置、７８…加熱装置、８０…紫外線照射装置、８２…巻き取り機、９８…ダイ支持部、１００…移動テーブル、１０２…下部架台、１０４…スライド部、１０６…スライドガイド部、１１０…第１ストッパー、１１４…ストッパー用架台、１１６…ストッパー支持部、１１７…接触支持部、１１８…接触部、１２０…駆動装置、１２２…ストッパー受け部、１２３…ボールネジ、１２４…サーボモータ、１３０…ローラ用架台、１３４…押し付け装置、１３６…押し付け部、１３８…押し付け支持部、１４０…基礎部、１４２…地上部、１４３…地上ブロック、１４４…地中部、１４６…連結部、１４８…免振装置または制振装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置、塗布方法、および光学フィルムの製造方法に係り、特に塗布装置の振動を抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ウェブ（支持体）の表面に所望の厚さの塗布膜（フィルム）を塗布する塗布装置として、マニホールドからスロットを介して塗布液を吐出させるダイコータ（スロットダイ）を用いる装置が広く用いられている。ダイコータには、スライドコータ、ファウンテンコータ、エクストルージョンコータ、等の種類があり、用途に応じたダイコータが用いられ、光学フィルム等の塗布膜が高品質に形成される。
【０００３】
このような塗布装置の塗布部やウェブは、通常、耐振性を有する基礎部に固定設置され、振動の抑制が図られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
精密機器である塗布装置によって高品質な塗布膜を形成するためには、段ムラ等の塗布膜の面状不良に直結しうる塗布装置の振動を可能な限り抑制することが好ましいが、塗布装置の振動を効果的に抑制する基礎部の具体的な構造を開示、提案する文献等は見当たらない。
【０００５】
本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、振動を効果的に抑制する基礎部を含む塗布装置および塗布方法と、そのような塗布装置や塗布方法によって得られる塗布膜を含む光学フィルムの製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するために、本発明の一態様は、スロットダイを支持する基礎部を備え、前記基礎部は、グランドレベルから５ｍ以下の高さを有するとともに３ｍ２以上の水平方向の平均断面積を有する地上部を有する塗布装置に関する。
【０００７】
当該塗布装置によれば、基礎部のうちグランドレベル以上に位置する地上部は、高さが制限されるとともに水平方向に関して十分な平均断面積を有するので、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【０００８】
なお、ここでいう「スロットダイ」とは、比較的幅の狭いスロットを介して塗布液が吐出される塗布器全般を含みうる概念であり、いわゆるダイコータを含む。また、「グランドレベル」とは、基礎部を固定する場所の高さを指し、例えば地面の高さを意味する。また、「水平方向の平均断面積」とは、水平方向に切った切り口の断面積の平均値を意味する。
【０００９】
前記基礎部の頂部は、６０秒のサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析によるｒｍｓ値によれば、５Ｈｚ以上の振動数で０．３Ｇａｌ以下の加速度を示すことが好ましい。
【００１０】
この条件を満たす場合に、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【００１１】
前記基礎部は、コンクリート製または鉄筋コンクリート製であることが好ましい。
【００１２】
この場合、基礎部はスロットダイを適切に支持することができる。
【００１３】
前記基礎部は、前記スロットダイを含むコーティング装置と、スロットダイから吐出される塗布液が塗布される支持体を支持するコーティングロール装置と、を支持することが好ましい。
【００１４】
この場合、基礎部によって、スロットダイの振動だけではなくコーティングロール装置の振動も効果的に抑制することができる。したがって、スロットダイは、コーティングロール装置によって支持される支持体に対して塗布液を精度良く塗布することができる。
【００１５】
前記スロットダイと前記基礎部との間に設置される制振装置または免振装置を更に備えることが好ましい。
【００１６】
この場合、制振装置または免振装置によって、基礎部およびスロットダイの振動を更に効果的に抑制することが可能である。なお、制振装置や免振装置として任意の装置を使用しうる。
【００１７】
前記スロットダイは、ダイコータまたはスライドコータであることが好ましい。
【００１８】
ダイコータやスライドコータが用いられる場合、塗布膜を精度良く形成する観点からは振動を可能な限り抑制することが望ましいので、本発明の塗布装置が特に有効である。
【００１９】
本発明の他の態様は、上記の塗布装置を用いて、支持体上に塗布膜を形成する塗布方法に関する。
【００２０】
当該塗布方法によれば、基礎部およびスロットダイの振動を効果的に抑制することができる。
【００２１】
本発明の他の態様は、上記の塗布装置によって支持体上に塗布膜を形成し、当該塗布膜を用いて光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法に関する。
【００２２】
この場合、上記の塗布装置によって支持体上に精度良く形成された塗布膜が用いられ、高品質な光学フィルムを製造することができる。
【００２３】
前記光学フィルムは、反射防止フィルムであることが好ましい。
【００２４】
このような反射防止フィルムなどの高機能性フィルムを製造する場合には、フィルムを精度良く製造する必要があるため、上述の本発明に係る塗布装置および塗布方法が特に適している。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の塗布液の塗布装置および塗布方法によれば、スロットダイは、基礎部によって支持されて振動が抑制されるので、塗布液を精度良く吐出することができる。また、このような塗布装置および塗布方法により製造された塗布膜を用いることによって、高品質な光学フィルムを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の各実施の形態について説明する。
【００２７】
第１の実施形態
図１は、光学フィルムの製造ライン（スロットダイコータ式塗布システム１０）の全体構成を示す図である。図中の矢印はウェブ１４の走行方向を示す。なお、スロットダイコータ式塗布システム１０を簡明に示すために、ウェブ１４を搬送する複数のパスローラ６８については、代表的な位置に配置されるパスローラ６８のみが図示されている。
【００２８】
本実施形態のスロットダイコータ式塗布システム１０では、上流側から下流側に向かって、送り出し機６６、除塵機７４、バックアップローラ１２、エクストルージョン型のダイコータ（スロットダイ）１８、乾燥装置７６、加熱装置７８、紫外線照射装置８０、および巻き取り機８２が順次設置されている。なお、ここでいう「上流」および「下流」は、ウェブ１４の走行方向を基準としている。
【００２９】
送り出し機６６は、ポリマー層が予め形成された透明な支持体であるウェブ１４を、下流側へ順次送り出す。除塵機７４は、ウェブ１４に付着する塵等の異物を除去する。
【００３０】
ダイコータ１８およびバックアップローラ１２の詳細については後述するが、バックアップローラ１２によって搬送、支持されるウェブ１４に向かってダイコータ１８から塗布液が吐出され、ウェブ１４上に塗布膜が形成される。
【００３１】
乾燥装置７６および加熱装置７８は、ウェブ１４上に形成された塗布膜を乾燥させるゾーンを形成する。乾燥装置７６は、ウェブ１４上の塗布膜（塗布層）の表面を気体層でシールしながら抑制した状態で溶媒を蒸発させる。なお、気体層による塗布膜表面のシールとして、気体を、塗布膜の移動速度に対して−０．１ｍ／秒〜＋０．１ｍ／秒の相対速度で塗布膜の表面に沿って移動させることが好ましい。溶媒を抑制した状態で蒸発させる場合、塗布膜中の溶媒含有量の減少速度が時間と比例関係にある間に塗布膜の乾燥を行なうことが好ましい。加熱装置７８は、必要により加熱して溶剤を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。
【００３２】
なお、乾燥装置７６および加熱装置７８による溶媒の乾燥は、覆いが設けられた状態で行われることが好ましい。また、乾燥風として、整流した風、均質な風、等を用いることができる。また、蒸発した溶媒を、塗布膜面に対向して設置された冷却凝縮板により、凝縮させて取り除いてもよい。
【００３３】
紫外線照射装置８０は、紫外線ランプによって塗布膜に紫外線を照射し、塗布膜のモノマー等を架橋させて、所望のポリマーを形成する。巻き取り機８２は、ポリマー化された塗布膜（塗布層）が積層されているウェブ１４を、ロール状に巻き取って回収する。
【００３４】
なお、塗布膜の成分に応じて、塗布膜を熱により硬化させるための熱処理ゾーンを更に設けることもでき、所望の塗布膜の硬化および架橋を行ってもよい。また、本システム１０とは別の工程で、ウェブ１４上の塗布膜に対して熱処理等の他の処理を施してもよい。
【００３５】
このようなスロットダイコータ式塗布システム１０の各機器類の間にはパスローラ６８が複数設けられており、ウェブ１４は、これらのパスローラ６８によって上流側から下流側へ送られる。パスローラ６８の位置および数、隣接するパスローラ６８の回転中心の相互間距離、等は必要に応じて適宜調整される。
【００３６】
上述のスロットダイコータ式塗布システム１０では、バックアップローラ１２およびパスローラ６８が、ウェブ１４を搬送するガイドローラとして働く。また、スロットダイコータ式塗布システム１０には、必要に応じて他の機器類を導入することもできる。例えば、光学補償フィルムでは、塗布膜の液晶部の配向を調整するためのラビング処理装置を除塵機７４の前後に設置することも可能である。
【００３７】
次に、ダイコータ１８およびバックアップローラ１２について説明する。
【００３８】
図２は、ダイコータ１８、バックアップローラ１２、およびその周辺の構成図である。図中のバックアップローラ１２およびウェブ１４の近傍の矢印は、本実施形態の「バックアップローラ１２によるウェブ１４の搬送方向」、すなわち「ウェブ１４の走行方向」を示す。なお、理解を容易にするため、図２に示されている各機器類の大きさや向きは実際の装置と必ずしも一致しないが、図２に示される各機器類は図１に示されている機器類に対応する。
【００３９】
本実施形態では、バックアップローラ１２により支持された状態で連続走行するウェブ（支持体）１４の表面に向かってダイコータ１８のスロット２４から塗布液が吐出され、ダイコータ１８とウェブ１４との間に塗布液のビード２０が液架橋される。そして、ビード２０のウェブ上流側に隣接する空間である減圧チャンバー２６内が減圧された状態で、連続走行するウェブ１４の表面にビード２０の塗布液が塗布され、ウェブ１４上に塗布膜（塗布層）が形成される。
【００４０】
なお、ダイコータ１８によって塗布液が塗布される位置（以下、「塗布位置」とも称する）を基準にして、ウェブ１４の走行方向に関し塗布位置よりも前段の部分を「ウェブ上流」と称し、後段の部分を「ウェブ下流」と称する。したがって、図２に示す横型のダイコータ１８では、ビード２０の下側は「ウェブ上流側」となり、ビード２０の上側は「ウェブ下流側」となる。また、ウェブの搬送方向と垂直を成すウェブの幅方向を「ウェブ幅方向」と称する。
【００４１】
図３は、ダイコータ１８の一部を切断した状態を示す斜視図である。
【００４２】
ダイコータ１８は、本体の内部に設けられたマニホールド２２と、マニホールド２２からダイコータ１８の先端部に延在するスロット２４とを有する。また、ダイコータ１８は、上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの二つのブロックによって構成されており、マニホールド２２およびスロット２４が上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂの境界の一部となっている。このように、ダイコータ１８を多ブロック構造とすることで、ダイコータ１８の製造精度を高め、洗浄などの後処理を容易にする。なお、ダイコータ１８の具体的な形状やサイズは、自重、使用時の環境、塗布液の温度、製作仕様限界、等に基づいて決定される。
【００４３】
マニホールド２２は、ダイコータ１８に供給された塗布液を塗布幅方向（ウェブ幅方向）へ拡流する液溜め部であり、ウェブ幅方向（長手方向）へ延びる。本実施形態のマニホールド２２は、略円形の断面形状を有し、ウェブ幅方向に沿って略同一の断面形状をもつ空洞部を構成する。マニホールド２２のウェブ幅方向への有効長さは、ウェブ１４に対する塗布幅と同等又は若干長く設定される。なお、マニホールド２２は、「ポケット」とも称される。
【００４４】
ダイコータ１８の本体のウェブ幅方向の両端部には閉鎖板５４が設けられ、マニホールド２２から外部への塗布液の漏出が防がれている。そして、マニホールド２２には、マニホールド２２から塗布液を引き抜くための塗布液排出管５２が接続されている。なお、塗布液供給管４６および塗布液排出管５２は、閉鎖板５４を貫通して、マニホールド２２と連通する。本実施形態では、マニホールド２２への塗布液の供給が塗布液供給管４６および塗布液排出管５２を介して行われるが、これに限定されるものではない。
【００４５】
スロット２４は、マニホールド２２からスロット先端に至る狭隘な塗布液の流路を構成し、ダイコータ１８の先端部分における開口部２４Ａから塗布液を吐出させて、ダイコータ１８とウェブ１４との間に塗布液から成るビード２０を架設する。このスロット２４は、通常、０. ０１ｍｍ〜０. ５ｍｍ程度の開口幅をもち、ウェブ幅方向に関し、ウェブ１４に対する塗布液の塗布幅に対して略同等以上の長さを持つのが通常である。また、スロット２４の先端部は、バックアップローラ１２のウェブ走行方向の接線と３０°以上９０°以下の角度を成すように配置される。なお、マニホールド２２からウェブ１４に向かって延びるスロット２４の流路長は、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件に基づいて設定可能であり、スロット２４の開口部２４Ａから吐出される塗布液がウェブ幅方向に亘って略均一な流量および液圧をもつように、スロット２４の流路長を設定することが好ましい。
【００４６】
スロット２４のウェブ幅方向の両端部には幅規制板６０が挿入されており、各幅規制板６０は、スロット２４の壁部を構成する上流側ダイブロック１８Ａおよび下流側ダイブロック１８Ｂに密着している。幅規制板６０は、スロット２４の開口部２４Ａから吐出される塗布液の塗布幅を規制する部材であり、ウェブ幅方向（長手方向）に関して開口部２４Ａが塗布幅と略同等以下となるように配置調整されている。また、幅規制板６０の近傍の塗布液の塗布状態を安定化させる観点から、幅規制板６０に特定の材料や表面加工を採用して、幅規制板６０に対する塗布液の濡れ性を調整することが好ましい。例えば、テフロンやニューライトなどの材料によって幅規制板６０を形成したり、フッ素樹脂などのポリマーによってコーティングされた金属板を幅規制板６０として使用したりすることで、幅規制板６０の塗布液に対する接触角が３０°以上となるように調整されることが好ましい。
【００４７】
ダイコータ１８の先端部分は、図２に示すように先細り状に形成され、その先端はリップランド１６と呼ばれる。スロット２４のウェブ上流側（図２の下側）のリップランド１６を上流側リップランド１６Ａと称し、ウェブ下流側（図２の上側）のリップランド１６を下流側リップランド１６Ｂと称する。
【００４８】
本実施形態のダイコータ１８はオーバーバイト構造を有し、上流側リップランド１６Ａよりも下流側リップランド１６Ｂのほうが、バックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に近い位置に配置される。このようなオーバーバイト構造は、ダイコータ１８のウェブ幅方向の全長に亘って略均一に形成されている。オーバーバイト構造、下流側リップランド１６Ｂが比較的狭い構造、およびリップランド１６とウェブ１４の間隔が狭い低リップクリアランス構造を採用する場合、ビード２０の下流側塗布液の圧損を小さくして、減圧チャンバー２６における減圧値を小さくすることができる。そのため、これらの構造を採用する場合には、ビード２０の変動が抑えられ、塗布液をウェブ１４上に安定塗布することが可能となり、高精度な面状を有する塗布膜を提供することができる。
【００４９】
マニホールド２２には、塗布液を貯留する塗布液タンク４４が塗布液供給管４６を介して接続され、塗布液供給管４６には、塗布液タンク４４からマニホールド２２に塗布液を送る塗布液ポンプ４２が設けられている。
【００５０】
上述のような構成を有するダイコータ１８の先端部分の下方には、ビード２０のウェブ上流側の空間を減圧するための減圧チャンバー２６が設けられている。減圧チャンバー２６は、バックプレート２６Ａ、２枚のサイドプレート２６Ｂ、リアプレート２６Ｃ、およびボトムプレート２６Ｄによって、内部に空間を形成するような箱形形状に構成されている。
【００５１】
バックプレート２６Ａは、減圧チャンバー２６のうちウェブ搬送方向の最も上流側に位置し、ウェブ１４の幅方向に延在するように配置される。２枚のサイドプレート２６Ｂは、バックプレート２６Ａと垂直を成すように配置され、減圧チャンバー２６の両側壁を構成する。バックアップローラ１２と近接するサイドプレート２６Ｂの縁部分（図示省略）は、バックアップローラ１２とほぼ同じ曲率を有する。リアプレート２６Ｃは、ダイコータ１８の下方において、バックプレート２６Ａと略平行に配置されている。ボトムプレート２６Ｄは、減圧チャンバー２６の底部分を構成し、バックプレート２６Ａ、サイドプレート２６Ｂ、およびリアプレート２６Ｃと縁部分において接合する。
【００５２】
「バックプレート２６Ａとウェブ１４の間」および「サイドプレート２６Ｂとウェブ１４の間」の各々には、所定の大きさの隙間が存在する。主にこれらの隙間によって構成される「バックアップローラ１２（ウェブ１４）と減圧チャンバー２６との間の隙間」および「ダイコータ１８と減圧チャンバー２６との間の隙間」を介し、減圧チャンバー２６内に外気（空気）が流入する。なお、これらの隙間を介して減圧チャンバー２６内に流入する空気流量は、外気に対する減圧チャンバー２６内の減圧度に応じて変わり、具体的には後述するエアー吸引口３５の吸気流量およびブロア３０の排気流量に応じて決定される。
【００５３】
ボトムプレート２６Ｄには吸引口４０が形成され、この吸引口４０にはエアー配管２８が接続されている。減圧チャンバー２６は、吸引口４０およびエアー配管２８を介してブロア３０に接続され、減圧チャンバー２６とブロア３０との間のエアー配管２８にはバッファ装置３３が設けられている。したがって、減圧チャンバー２６、バッファ装置３３、およびブロア３０が、エアー配管２８を介して順次設けられており、これらによって減圧装置が構成されている。
【００５４】
ブロア３０は、吸引口４０およびエアー配管２８を介して減圧チャンバー２６内の空気を吸引し、減圧チャンバー２６内を負圧にする。本実施形態のブロア３０は、インバータ式であり、吸引風量を適宜変えることができ、エアー排気流量を毎時０．５ｍ３〜５ｍ３（０．００８ｍ３／ｍｉｎ（分）〜０．０８ｍ３／ｍｉｎ（分））の範囲で調整することが可能である。
【００５５】
次に、ダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整する機構について説明する。
【００５６】
図４は、第１の実施形態のダイコータ１８およびバックアップローラ１２を側方からみた構成を示す図である。
【００５７】
ダイコータ１８、バックアップローラ１２、およびダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整するストッパー１１０、等の部材が、土台となる基礎部１４０上に設けられている。
【００５８】
ウェブ１４が巻き掛けられるバックアップローラ１２は、ローラ用架台１３０を介して基礎部１４０に固定支持されている。
【００５９】
ダイコータ１８と基礎部１４０の間には、下部架台１０２、スライドガイド部１０６、スライド部１０４、移動テーブル１００、およびダイ支持部９８が順次設けられている。
【００６０】
下部架台１０２は、基礎部１４０上における安定した固定支持を実現するための架台であり、基礎部１４０上に直接設けられている。スライドガイド部１０６は、スライド部１０４のスライド移動をガイドする部材である。本実施形態のスライドガイド部１０６は、下部架台１０２上において、ダイコータ１８の移動方向（図中矢印Ａ参照）と垂直を成す方向に二つ並置され、各々がダイコータ１８の移動方向に延在する。スライド部１０４は、移動テーブル１００の下部において、スライドガイド部１０６に対応する位置に、ダイコータ１８の移動方向（図中矢印参照）と垂直を成す方向に二つ並置されている。各スライド部１０４は、対応するスライドガイド部１０６に対してスライド自在に嵌合し、移動テーブル１００とともにスライドガイド部１０６に沿ってスライド移動する。
【００６１】
移動テーブル１００は、ダイ支持部９８を介してダイコータ１８を固定支持するテーブルであり、スライド部１０４とともにスライド移動する。ダイ支持部９８は、移動テーブル１００に対してダイコータ１８を固定する部材である。
【００６２】
移動テーブル１００の下方には、ダイコータ１８をスライド移動させるための駆動源である駆動装置１２０が設けられている。この駆動装置１２０は、移動テーブル１００に固定されたストッパー受け部１２２と、ストッパー受け部１２２を貫通するボールネジ１２３と、ボールネジ１２３を軸回転させるサーボモータ１２４と、移動テーブル１００の位置を検出する位置検出装置１２５と、を有する。
【００６３】
ストッパー受け部１２２は、ボールネジ１２３とネジ嵌合しており、ボールネジ１２３の軸回転に伴ってダイコータ１８の移動方向（図中矢印Ａ方向）へ移動する。ボールネジ１２３は、ダイコータ１８の移動方向に延在し、その軸回転によって、ストッパー受け部１２２、移動テーブル１００、ダイ支持部９８、およびダイコータ１８を矢印Ａ方向へ移動させる。位置検出装置１２５は、移動テーブル１００の実際の位置を検出し、その検出結果をサーボモータ１２４に送る。なお、移動テーブル１００の位置を検出することができる任意の装置を位置検出装置１２５として用いることができ、取り付け位置も特に限定されず、検出手法に応じた適切な位置に配置される。サーボモータ１２４は、位置検出装置１２５から送られてくる検出結果に基づいて、ボールネジ１２３の軸回転量をフィードバック制御して、移動テーブル１００、ダイコータ１８、等の位置を正確に制御する。なお、駆動装置１２０の構成はこれに限定されるものではない。
【００６４】
下部架台１０２上には、ストッパー受け部１２２の移動を制限する第１ストッパー１１０が設けられている。第１ストッパー１１０は、ストッパー受け部１２２よりもバックアップローラ１２側（図４の右側）に配置されている。また、第１ストッパー１１０は、図４の紙面に垂直な方向に関して、任意の箇所に設置可能であり、例えばストッパー受け部１２２の略中央部に第１ストッパー１１０を配置することも可能である。
【００６５】
第１ストッパー１１０は、下部架台１０２に取り付けられたストッパー用架台１１４と、ストッパー用架台１１４上に取り付けられたストッパー支持部１１６および接触支持部１１７と、接触支持部１１７の表面のうちストッパー受け部１２２側の面に取り付けられた接触部１１８とを有する。接触部１１８は、ストッパー受け部１２２と直接接触する箇所であるため、剛性が高い素材及び構造がとられるのが望ましい。
【００６６】
上述のように、ダイコータ１８とバックアップローラ１２（ウェブ１４）との間の距離を調整する機構では、まず、ストッパー受け部１２２の移動目標位置に合わせて、サーボモータ１２４によってボールネジ１２３の軸回転量が正確にコントロールされる。これにより、ストッパー受け部１２２を移動目標位置まで正確に移動させて、移動テーブル１００およびダイコータ１８を所望の位置に移動させることができる。そして、所望の位置に配置されたダイコータ１８からバックアップローラ１２に巻き掛けられたウェブ１４に向かって塗布液が吐出され、ウェブ１４上に塗布膜が形成される。
【００６７】
次に、基礎部１４０の構成について説明する。図５は、第１の実施形態の基礎部１４０を側方から見た断面図を示す。図６は、第１の実施形態の基礎部１４０を上方から見た図を示す。
【００６８】
基礎部１４０は、グランド（地面）の上方に突出する直方体の地上部１４２と、グランドに埋め込まれる直方体の地中部１４４とによって構成される。水平方向に切られた地上部１４２の断面積（水平断面積）Ａ１はほぼ一定であり、この水平断面積Ａ１の平均値が３ｍ２以上に設定されている。また、地上部１４２の高さＨ１は５ｍ以下に設定されている。一方、地中部１４４の水平断面積Ａ２もほぼ一定であり、水平断面積Ａ２の平均値が５ｍ２以上に設定されている。また、地中部１４４の深さＨ２は２ｍ以上に設定されている。この基礎部１４０は、コンクリートまたは鉄筋コンクリートで作られており、適切な材料が使用状況等に応じて用いられうる。
【００６９】
このような基礎部１４０の上面Ｓ１に、ダイコータ１８およびバックアップローラ１２が載置される（図４参照）。
【００７０】
本件発明者は、鋭意研究の結果、以下の［実施例］に示されているように、図５に示す基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１が高くなるほど、また地上部１４２の断面積が小さくなるほど、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等の振動が抑制され難く増幅しやすいという知見を得た。また特に、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等に１００Ｈｚ以下の低周波域の振動が生じることを抑制することと、特定の固有振動数を各機器類に持たせないようにすることとが、塗布液をウェブ１４上に精度良く塗布する際に有効であるということが分かった。
【００７１】
具体的には、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を５ｍ以下に設定するとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を３ｍ２以上に設定することで、基礎部１４０上の機器類の振動を効果的に抑制することができるという知見を得た。また、６０ｓのサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄ・ピークホールド分析におけるｒｍｓ値（二乗平均平方根値）に基づいて、５Ｈｚ以上の振動数でＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸のいずれの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下の加速度を、運転時の基礎部１４０の頂上部（上面Ｓ１）が持つように、基礎部１４０上の機器類の配置位置、各機器類の重量、等を調整することが好ましいという知見を得た。そして、加速度、速度、および振動値と周波数との関係を示すトリパタイトグラフからも、これらの知見が好ましいことが確認された。
【００７２】
したがって、このような条件を満たすスロットダイコータ式塗布システム１０によれば、基礎部１４０上のダイコータ１８、バックアップローラ１２、等の振動を効果的に抑制して、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の段ムラ等の面状不良を低減し、高品質な塗布膜を提供することができる。このような装置によって提供される塗布膜は、非常に良好な面状を有しているので、反射防止フィルム等の光学フィルムの分野で特に有益である。
【００７３】
第２の実施形態
本実施形態において、上述の第１の実施形態と同一又は類似の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００７４】
図７は、第２の実施形態の基礎部１４０を側方から見た断面図を示す。図８は、第２の実施形態の基礎部１４０を上方から見た図を示す。
【００７５】
本実施形態では、複数の地上ブロック１４３を相互に連結することによって、基礎部１４０の地上部１４２が形成されている。図７に示す例では、三つの地上ブロック１４３が積み上げられ、隣接する地上ブロック１４３の側部同士が連結部１４６により連結されている。図８に示すように、地上ブロック１４３の両サイドの各々に、連結部１４６が二つ並んで設けられており、隣接する地上ブロック１４３が強固に密着した状態で連結されている。
【００７６】
他の構成は上述の第１の実施形態と略同一である。
【００７７】
本実施形態の基礎部１４０の地上部１４２は、複数のブロックが相互に強固に密着した状態で連結しているので、地上部１４２を一体として構成した上述の第１の実施形態の地上部１４２とほぼ同一構造とみなすことができる。
【００７８】
したがって、本実施形態においても、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を５ｍ以下に設定するとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を３ｍ２以上に設定することで、基礎部１４０上の機器類の振動を効果的に抑制することができる。また、６０ｓのサンプリングデータにおける１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄ・ピークホールド分析におけるｒｍｓ値（二乗平均平方根値）に基づいて、５Ｈｚ以上の振動数でＸ軸、Ｙ軸、およびＺ軸のいずれの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下の加速度を、運転時の基礎部１４０の頂上部（上面Ｓ１）が持つように、基礎部１４０上の機器類の配置位置、各機器類の重量、等を調整することが好ましい。
【００７９】
第３の実施形態
本実施形態において、上述の第１の実施形態と同一又は類似の部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００８０】
図９は、第３の実施形態のダイコータ１８およびバックアップローラ１２を側方からみた構成を示す図である。
【００８１】
本実施形態では、ダイコータ１８と基礎部１４０との間（例えば、下部架台１０２と基礎部１４０との間、またはスライドガイド部１０６と下部架台１０２との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。また、第１ストッパー１１０と基礎部１４０との間（例えば、下部架台１０２と基礎部１４０との間、またはストッパー用架台１１４と下部架台１０２との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。また、バックアップローラ１２と基礎部１４０との間（例えばローラ用架台１３０と基礎部１４０との間）に免振装置または制振装置１４８が設置される。なお、基礎部１４０の直上に免振装置または制振装置１４８を設置する場合には、「基礎部１４０と下部架台１０２との間に設けられる免振装置または制振装置１４８」と「基礎部１４０とローラ用架台１３０との間に設けられる免振装置または制振装置１４８」とを、一体として設けてもよいし、別体として設けてもよい。
【００８２】
他の構成は上述の第１の実施形態と略同一である。
【００８３】
免振装置あるいは制振装置と従来の基礎部とを組み合わせた場合でも、塗布装置に生じる振動をある程度抑制することができるが、そのようなシステムと、上述の基礎部１４０を含む本実施形態のスロットダイコータ式塗布システム１０とは、抑制対象とする振動周波数の領域の幅が異なる。通常の免振装置あるいは制振装置は、高周波領域の振動の免振性あるいは制振性には優れているが、免振装置自体あるいは制振装置自体の固有振動が起きやすいため、低周波領域の振動の免振性あるいは制振性はやや劣る。一方、本実施形態の基礎部１４０によれば、低周波領域の振動であっても効果的に抑制することができる。
【００８４】
したがって、本実施形態のように免振装置あるいは制振装置と基礎部１４０とを組み合わせることで、幅広い周波数領域の振動を効果的に抑制することができ、総合性能が極めて高い振動抑制を実現することができる。
【００８５】
次に、本発明によって実現可能な光学フィルムの具体的な構成例について説明する。
【００８６】
[ＬＣＤ用光学補償シート]
以下に、セルロースアシレートフィルム透明支持体（ウェブ１４）上にディスコティック化合物からなる光学異方性層を塗設した光学補償シートを、直接偏光板の保護フィルムとして用いる液晶表示装置について説明するが、本発明を応用可能な光学フィルムはこれに限定されるものではない。
【００８７】
ディスコティック化合物については、特開平７−２６７９０２号、特開平７−２８１０２８号、特開平７−３０６３１７号の各公報に詳細に記載されている。それらによると、光学異方層はディスクティック構造単位を有する化合物から形成される層である。即ち、光学異方層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物層、または重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合（硬化）により得られるポリマー層である。
【００８８】
また、セルロースアシレートフィルムは、配向膜の支持体（ウェブ１４）として好ましく用いられる。それらは特開平９−１５２５０９号公報に詳細に記載されているものを適用できる。すなわち、配向膜は、セルロースアシレートフィルム上又はそのセルロースアシレートフィルム上に塗設された下塗層上に配設可能であり、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するように機能する。このような配向膜は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。なお、配向膜に用いられるポリマーと、光学異方層の液晶性化合物とが、これらの層の界面を介して化学的に結合していることが好ましい。
【００８９】
セルロースアシレートフィルムは、特開平８−５８３７号、特開平７−１９１２１７号、特開平８−５０２０６号、特開平７−２８１０２８号の各公報に詳細に記載されている基本構成を有する光学補償シートに用いることができる。セルロースアシレートフィルム及びその上に設けられた光学異方層からなる光学補償シートが適用例であり、該光学異方層がディスコティック構造単位を有する化合物から形成される層である。ＬＣＤへの適用例としては、上記光学補償シートを偏光板の片側に粘着剤を介して貼り合わせる、もしくは、保護フィルムとして上記光学補償シートを偏光素子の片側に接着剤等を介して貼り合わせることが好ましい。光学異方素子は、少なくともディスコティック構造単位（ディスコティック液晶が好ましい）を有することが好ましい。
【００９０】
セルロースアシレートフィルムが適用される表記の光学補償シートの作製方法については、例えば特開平９−７３０８１号、特開平８−１６０４３１号、特開平９−７３０１６号の各公報に詳細に記載されているが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
[ＬＣＤ用光学補償シートの応用法]
次にセルロースアシレートフィルムをパネルへ応用する例を示す。それらは、特開平８−９５０３４号、特開平９−１９７３９７号、特開平１１−３１６３７８号の各公報に詳細に記載されている。前記各公報に記載されている光学補償シートは、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持する。光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置することができる。液晶セルのモードは、ＶＡモード、ＴＮモード、またはＯＣＢモードであることが好ましい。
【００９２】
[防眩フィルム、反射防止フィルム]
セルロースアシレートフィルムは、防眩フィルム、反射防止フィルムに対しても好ましく適用できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上させる目的で、セルロースアシレートフィルムの片面または両面に防眩層、反射防止層の何れかあるいは両方を付与することができる。このような機能を付与したフィルムは防眩フィルムまたは反射防止フィルムと呼ばれ、防眩層と反射防止層の両方を具備するものは防眩性反射防止フィルムと呼ばれることがある。一般に、防眩フィルムならば透明支持体と防眩層から構成され、反射防止フィルムならば単層または複数層の光干渉層から成る反射防止層が透明支持体上において最表面に設けられ、必要に応じてハードコート層や防眩層が支持体と光干渉層の間に設けられる。
【００９３】
透明支持体としては、ＬＣＤ用途にはセルロースアシレートフィルムが好ましく、特にセルロースアセテートが好ましい。本発明に係る防眩、反射防止フィルムをＬＣＤに用いる場合、片面に粘着層を設ける等することにより、ディスプレイの最表面やディスプレイ内部の空気との界面に配置可能である。セルローストリアセテートは偏光板の偏光子を保護する保護フィルムに用いられるため、本発明に係る防眩、反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコスト、ディスプレイの薄手化の観点で好ましい。
【００９４】
本発明に係る防眩、反射防止フィルムには、必要に応じてハードコート層を設けることができる。ハードコート層に用いられる化合物は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、架橋構造を有することが好ましい。架橋構造を有するポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを電離放射線または熱により架橋するのが好ましい。
【００９５】
フィルムに防眩性能を付与する手段としては、可視光を散乱する粒径のマット粒子をバインダ中に分散して表面凹凸を有する防眩層を形成する方法、エンボスやサンドブラスト等により支持体表面に凹凸を付与する方法、塗布組成物の相分離構造により表面に凹凸を付与する方法等、様々な手法が公開特許公報にて公開されているが、一般的にはマット粒子をバインダ中に分散する方法が実用化されている。
【００９６】
防眩層の形成には、表面凹凸形成による防眩性付与の目的で、樹脂化合物からなるバインダに加えて樹脂または無機化合物からなる微粒子（マット剤）が用いられることがある。平均粒径は、１．０μｍから１０．０μｍが好ましく、１．５μｍから５．０μｍがより好ましい。また、防眩層のバインダ膜厚よりも小さな粒径の微粒子が、該微粒子全体の５０％未満であることが好ましい。粒度分布はコールターカウンター法により測定できるが、その分布は粒子数分布に換算して考えることができる。防眩層膜厚は、０．５μｍ乃至１０μｍが好ましく、１μｍ乃至５μｍがより好ましい。
【００９７】
防眩層を形成するために用いられる樹脂バインダには、膜強度、透明性の観点から、上記ハードコート層を形成するための素材が好ましく用いられる。反射防止層と組み合わされる場合には、さらに上記ハードコート素材に加えて、高屈折率モノマーまたは高屈折率無機微粒子を併用することで、層の屈折率を１．５０から２．００まで高くすることができ、反射防止性能を向上させることが可能な場合がある。
【００９８】
エンボスによって支持体表面に凹凸を付与する場合には、複数層の光学干渉層の全てを形成した後に表面凹凸を形成することが好ましい。表面凹凸を形成した後にウエット塗布によって複数の光学干渉層を形成する場合、凹部に塗布液が溜まることによって発生する各層の膜厚ムラのために、反射防止性能の著しい悪化を引き起こすことがあり、好ましくない。全光学干渉層を形成した後にエンボス処理を行うことにより、光学干渉層の膜厚が実質的に均一になる。ここで、実質的に均一とは、中心膜厚±３％以内であることを意味する。
【００９９】
反射防止フィルムには、光学薄膜による光干渉の原理に基づいて設計された膜厚、屈折率、層構成となるように、低屈折率層の単層、あるいは低屈折率層と高屈折率層の複数層から構成される反射防止層を設ける。ここで低屈折率層、高屈折率層とは、それぞれ支持体の屈折率よりも低い屈折率を有する層、支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する層を指し、いずれも反射防止の対象となる光の波長オーダー以下の膜厚を有する。このような非常に薄い膜厚を有する層は光学薄膜と呼ばれ、光干渉の原理に基づいた反射防止膜や反射膜等の光学機能層として様々な用途に実用化されている。
【０１００】
低屈折率層として、屈折率が１．３０〜１．４９までのものが、膜強度と屈折率のバランスを兼ね備えた素材として選択できる。具体的には、特開平１１−３８２０２号、特開平１１−３２６６０１号の各公報等で開示されるような光の散乱を生じないぐらい粒径が小さな微粒子間に空気の隙間が形成された低屈折率層や、熱または電離放射線により架橋する含フッ素化合物が好ましく用いられる。
【０１０１】
高屈折率層には、上記防眩層を高屈折率化するときに好ましく用いられる素材が同様に用いられる。好ましい屈折率範囲は１．７０〜２．２０であり、好ましい膜厚範囲は５〜３００ｎｍである。
【０１０２】
ハードコート層、防眩層、反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）に基づいて、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、米国特許２９４１８９８号、米国特許３５０８９４７号、米国特許３５２６５２８号の明細書、および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１０３】
なお、特開２００３−１４９４１３には、角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反転および色相変化などがほとんど生じない、表示品位に優れる液晶表示装置を提供するために、酢化度５９．０％〜６１．５％のセルロースアセテートフィルム上に、透光性樹脂中に透光性微粒子を含む光拡散層を有する光拡散フィルムであって、セルロースアセテートフィルムの厚みが２０μｍ〜７０μｍであり、長さ１００ｍｍ当たりのカットオフ値が０．８ｍｍであり、平均表面粗さRaが０．２μｍ以下である光拡散フィルムについての記載があり、この光拡散フィルムは本発明にも適応できる。
【０１０４】
本発明の防眩フィルム、反射防止フィルムは、防眩層、反射防止層の形成前または形成後に何らかの手段によって支持体の裏面を鹸化処理することにより、ＬＣＤを始めとする各用途に用いられる偏光板の製造において、保護フィルムとして偏光子の片面若しくは両面に直接偏光子と貼り合わせることができる。
【０１０５】
特にＬＣＤの広視野角化のために液晶を封入したセルと偏光板との間に位相差フィルムを配置する場合には、セルの両面に配置される偏光板のうち、視認側に用いられる偏光板の空気界面側の保護フィルムに防眩フィルムまたは反射防止フィルム、およびその反対面であってセルと偏光子との間に形成される面に位相差フィルムの各々を、偏光子の両面に保護層として貼り合わせて用いることができる。このような構成の偏光板は、従来の偏光板と同等の厚みを持つ一方で、広視野角、低反射といった機能を付与することが可能であり、高機能ＬＣＤ用途に極めて好ましい。
【０１０６】
屈折率が異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を複数積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法、物理蒸着（ＰＶＤ）法、および金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子がマトリックス状に分散されて形成される薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
【０１０７】
上述したような塗布による反射防止フィルムに対して微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
【０１０８】
［塗布型反射防止フィルムの層構成］
基体上において少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。また、透明支持体と中屈折率層の間にハードコート層を設けてもよい。更に、塗布型反射防止フィルムは、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層を含んでいてもよい。また、各層に他の機能を付与してもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【０１０９】
基体上に防眩層、低屈折率層を積層した層構成からなる防眩性反射防止膜は、「防眩層の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。また、透明支持体と防眩層の間に、ハードコート層を設けてもよい。
【０１１０】
基体上にハードコート層を設け、低屈折率層を積層した層構成のクリア型反射防止膜は「防眩層の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。また透明支持体と防眩層の間にハードコート層を設けてもよい。もしくは基体上に防眩層を設け、高屈折率層、低屈折率層を積層した層構成の防眩性反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。もしくは基体上にハードコート層を設け、高屈折率層、低屈折率層を積層した層構成からなる防眩性反射防止膜は、「高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率」を満足する様に設計される。
【０１１１】
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成り、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。
【０１１２】
(反射防止フィルムの他の層)
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０１１３】
(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体に設けられる。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けられることが好ましい。高屈折率層は、ハードコート層を兼ねることができる。ハードコート層は、平均粒径０．２μｍ〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。
【０１１４】
(前方散乱層)
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設けられる。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。例えば、前方散乱係数を特定化した特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報、等が挙げられる。
【０１１５】
(アンチグレア機能)
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法であってもよい。
【０１１６】
なお、上述したスロットダイコータ式塗布システム１０は、特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット塗布量が２０ｍｌ／ｍ２ 以下（塗布時の膜厚が２０μｍ以下）、更には１０ｍｌ／ｍ２の薄層塗布を行う光学フィルムの製造ラインに好適に適用できる。
【０１１７】
スロットダイコータ式塗布システム１０は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【０１１８】
本発明において、塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【０１１９】
以上説明したように、本発明の各実施形態によれば、基礎部１４０の地上部１４２の高さを比較的低く設定するとともに平均水平断面積Ａ１を比較的大きく設定することによって、基礎部１４０上に配置されるダイコータ１８等の機器類の振動を効果的に抑制することができる。これにより、ダイコータ１８からウェブ１４上に塗布される塗布膜の段ムラ等の面状不良を低減することができ、高品質な塗布膜を製造することができる。
【０１２０】
上述の事項は本発明の各態様を例示したものであって、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられたり、公知の要素を応用したりすることも可能であり、そのような各種態様も本発明の範囲に含まれうる。
【０１２１】
例えば、上述の各実施形態ではエクストルージョン型のダイコータを用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、塗布装置全般に対して本発明を適用することができる。
【０１２２】
また、上述の実施形態ではボールネジ１２３およびサーボモータ１２４を組み合わせて駆動装置１２０を構成する例について説明したが、ダイコータ１８を固定支持する移動テーブル１００を所望位置に移動させることができれば、駆動装置１２０の構成は特に限定されない。例えば、油圧装置等の移動装置によってストッパー受け部１２２や移動テーブル１００を押圧し、スライド部１０４をスライドガイド部１０６上で滑動させる構成であってもよい。なお、この油圧装置等の移動装置は、ダイコータ１８の移動方向に関し、ストッパー受け部１２２を挟んで第１ストッパー１１０とは反対側（図４の左側）に配置されることが好ましい。
【０１２３】
また、スロットダイコータ式塗布システム１０におけるバックアップローラ１２、ダイコータ１８、および減圧チャンバー２６は、ウェブ１４上に塗布液を適切に塗布することができれば、どのような配置関係であってもよい。例えば、ウェブ１４に対するダイコータ１８の塗布液の吐出角度、マニホールド２２の断面形状、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け状態、バックアップローラ１２に対するウェブ１４の巻き掛け部とダイコータ１８や減圧チャンバー２６との相対位置関係、オーバーバイト量、等は、用途に応じて適宜調整可能である。
【０１２４】
また、マニホールド２２への塗布液の供給方式は、マニホールド２２に塗布液を適切に供給することができればどのような手法であってもよい。例えば、マニホールド２２の一端側から塗布液を供給する方式だけではなく（図３参照）、マニホールド２２の中央部から塗布液を供給する方式、塗布液が漏れ出ることを防止する栓をマニホールド２２の両端部に設けて、マニホールド２２の一方端から新規な塗布液を供給するとともに、他方端から抜き取られた一部の塗布液を再び一方端に循環させる方式、等も用いられうる。また、マニホールド２２の断面形状は、各図に示す略円形に限定されるものではなく、例えば半円形、台形などの矩形、あるいはそれらに類似する形状であってもよい。
【０１２５】
また、上述の実施形態では、エアー吸引口３５、およびブロア３０がコントローラ３８によって自動的に制御される例について示したが、これらの各機器をユーザが手動で適宜制御してもよい。
【０１２６】
また、上述の実施形態では、ウェブ１４上に塗布膜が単層で形成される例について説明したが、防眩層や反射防止層などの何らかの機能を有する塗布膜を複数層に形成してもよい。ウェブ１４上に複数層の塗布膜が形成される場合には、各層の塗布液をウェブ１４上に逐次塗布してもよいし、各層の塗布液をウェブ１４上に同時に塗布してもよい。なお、ウェブ１４（基材、フィルム）上に逐次塗布を行って２層以上の塗布膜を形成する場合、これらの塗布工程を連続で行うことが生産上は好ましく、最終層以外の層（塗布膜）に対する巻き取り工程を省略し、各層に対する塗布工程および乾燥工程を繰り返して、最終的に巻き取って回収することがより好ましい。
【実施例】
【０１２７】
以下に上述の第１の実施形態に係るスロットダイコータ式塗布システム１０を用いた実施例について記述するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２８】
実施例１
まず、下地として防眩層（防眩フィルム）を製作した。
【０１２９】
塗布液は、次のように調整した。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２４０ｇを、１０４ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶解した。
【０１３０】
得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０重量％の含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した（なお、この溶液を塗布、紫外線硬化させて得られた塗布膜の屈折率は１．６５であった）。
【０１３１】
更に、この溶液に個数平均粒径２．０μｍ、屈折率１．６１の架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを、１６０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルタ（それぞれＰＰＥ−１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にて濾過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用の塗布液として調製した。この塗布液の粘度は８ｍｐａ・ｓ／ｍ２ であり、表面張力は３０ｍＮ／ｍであった。
【０１３２】
このようにして得られた塗布液を、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の湿潤膜厚が８μｍ、ウェブ１４上の塗布液の塗布量が８ｍＬ／ｍ２、塗布幅が１４４０ｍｍとなるように、バーコータによってウェブ１４上に塗布した。この時、ウェブ１４を１０ｍ／ｍｉｎの速さで搬送した。このようにして塗布液が塗布されたウェブ１４を、巻き取り機８２によってロール状に巻き取った。
【０１３３】
次に、反射防止膜用の塗布液の準備（低屈折率層用塗布液の調製）を行った。屈折率が１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ２ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）８ｇ、メチルエチルケトン１８８ｇ及びシクロヘキサノン１２ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、反射防止膜用塗布液を調製した。この反射防止膜用塗布液の粘度は１ｍＰａ・ｓであり、表面張力は２４ｍＮ／ｍとなった。
【０１３４】
このようにして得られた反射防止膜用塗布液を、ウェブ１４上に塗布される塗布膜の湿潤膜厚が６μｍ、ウェブ１４上の塗布液の塗布量が６ｍＬ／ｍ２、塗布幅が１４９０ｍｍとなるように、ダイコータ１８によってウェブ１４上に塗布した。
【０１３５】
なお、ウェブ１４として、上記の防眩層が設けられたフジタックの１４７０ｍｍ幅のウェブ１４が用いられ、１０ｍ／ｍｉｎの速さでこのウェブ１４を搬送した。このようにして反射防止膜用の塗布液が塗布されたウェブ１４を、巻き取り機８２によってロール状に巻き取った。
【０１３６】
上述のような塗布膜の形成は、以下の構成の基礎部１４０上に載せられたダイコータ１８およびバックアップローラ１２によって行われた。すなわち、基礎部１４０の地中部１４４として、５ｍ×６ｍ×２ｍ（幅×長さ×深さ（Ｈ２））の大きさのコンクリート部材を用いた。また、基礎部１４０の地上部１４２として、地中部１４４の中央部に３ｍ２の断面積の鉄筋入りコンクリート部材（本体）を積み上げて地中部１４４と連結した。なお、３ｍ２の断面積を有する本体の周りに鉄筋入りコンクリートブロックを積み上げて本体と連結することにより、地上部１４２の平均断面積を調整した。
【０１３７】
基礎部１４０および基礎部１４０上の機器類に作用させる振動は、一般的な外部振動を想定した。具体的には、基礎部１４０から２０ｍほど離れたアスファルト舗装路における所定の段差上を１０ｔトラックが走行することによって、上記振動を発生させた。この時発生させた振動は、基礎部１４０に隣接するグランド（地面）において、５Ｈｚから５０Ｈｚの間の周波数を有するとともに５μｍ程度の振幅を有する振動が発生するように、調整された。
【０１３８】
上述の条件の下、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１および平均水平断面積Ａ１を変えることによって、以下の表１に示す結果を得ることができた。
【０１３９】
【表１】
【０１４０】
表１において、「基礎上部地上高さ」は基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１を示し、「地上断面積（平均）」は地上部１４２の平均水平断面積Ａ１を示し、「最大固有振動数」は基礎部１４０の固有振動数のうち最大の振動数を示す固有振動数をいう。また、「５Ｈｚ以上のピーク振動量（Ｘ，Ｙ，Ｚ）」は５Ｈｚ以上の周波数を有する振動が基礎部１４０に作用する時の地上部１４２の頂上部Ｓ１の加速度を示し、相互に直交するＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向への加速度が順次記されている。また、「段ムラ膜厚変動率」はウェブ１４上に形成された塗布膜の乾燥時の膜厚の変動率を示し、基準膜厚を９０ｎｍとして、この基準膜厚に対する最大誤差量がパーセント表記（％）で記されている。また、「段ムラ目視確認」はウェブ１４上に形成された塗布膜の面状を示し、本例では、サンプルの裏面を黒のマジックでべた塗りし、表面から散乱白色蛍光灯を照射した状態で、目視により確認した。「段ムラ目視確認」の項目において、「◎」は面状が非常に良好であることを意味し、「○」は面状が良好であることを意味し、「△」は面状が普通であることを意味し、「×」は段ムラが目立つことを意味する。
【０１４１】
なお、基礎部１４０の振動量（加速度）の測定は、リオン株式会社のサーボ加速時計ＬＳ−１０Ｃによって行い、汎用ＦＦＴ（高速フーリエ変換）に基づいて得られたデータを解析した。この解析は、６０ｓのサンプリングデータにおける１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析におけるｒｍｓ値に基づいて行った。また、基礎部１４０の最大固有振動数は、モーダル解析に基づいて算出した。
【０１４２】
表１に示すように、基礎部１４０の地上部１４２のグランドレベルからの高さが５ｍ以下であって（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」と「Ｎｏ４」とを参照）、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１が３ｍ２以上の場合（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」と「Ｎｏ５」とを参照）に、ウェブ１４上の塗布膜の膜厚の変動率が抑えられ、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、塗布膜の面状が良好になる場合には（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」参照）、上記の解析の結果得られた「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向のいずれかの方向に関しても０．３Ｇａｌ以下になることが分かった。これに対し、塗布膜の面状に段ムラが目立つ場合には（表１の「Ｎｏ．４、Ｎｏ．５」参照）、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が、Ｘ方向、Ｙ方向、およびＺ方向のうちいずれの方向に関して、０．３Ｇａｌよりも大きな値を示すことが分かった。
【０１４３】
また、塗布膜の面状が良好になる場合には（表１の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３、Ｎｏ．６」参照）、塗布膜の膜厚変動率が０．６％以下を示すとともに、基礎部１４０の最大固有振動数が１４０Ｈｚ以上の比較的高い振動数を示すことが分かった。これに対し、塗布膜の面状に段ムラが目立つ場合には（表１の「Ｎｏ．４、Ｎｏ．５」参照）、塗布膜の膜厚変動率が１．０％以上を示すとともに、基礎部１４０の最大固有振動数が１１０Ｈｚ以下を示すことが分かった。
【０１４４】
実施例２
上述の実施例１とほぼ同じ条件で、ウェブ１４上に塗布膜を形成した。
【０１４５】
本例では、免振装置１４８を設置した場合と設置しない場合との効果を比較した。免振装置１４８を設置する場合には、図９に示す構成のスロットダイコータ式塗布システム１０を使用し、「基礎部１４０と下部架台１０２との間に設けられる免振装置１４８」と「基礎部１４０とローラ用架台１３０との間に設けられる免振装置１４８」とを、一体として設けた。一方、免振装置１４８を設置しない場合には、図４に示す構成のスロットダイコータ式塗布システム１０を使用した。
【０１４６】
免振装置１４８として、特許機器株式会社のアクティブ除振装置α２を用いた。また、この免振装置１４８の「アクティブモード（アクティブ除振モード）」と「パッシブモード（パッシブ除振モード）」とを適宜切り換えた。
【０１４７】
なお、本例では、基礎部１４０の地上部１４２の高さＨ１（「基礎上部地上高さ」）を５ｍに保つとともに、地上部１４２の平均水平断面積Ａ１（「地上断面積（平均）」）を３ｍ２に保った。
【０１４８】
上記の条件下で、以下の表２に示す結果を得ることができた。
【０１４９】
【表２】
【０１５０】
表２において、「免振装置」は、免振装置１４８の有無およびその除振モード（アクティブモードおよびパッシブモード）を示す。
【０１５１】
本例においても、表２に示すように、基礎部１４０の地上部１４２のグランドレベルからの高さが５ｍ以下であって地上部１４２の平均水平断面積Ａ１が３ｍ２以上という条件を満たすいずれの場合にも（表２の「Ｎｏ．１〜Ｎｏ．３」参照）、ウェブ１４上の塗布膜の膜厚の変動率が抑えられ、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、免振装置１４８が存在しない場合に比べ（表２の「Ｎｏ．１」参照）、免振装置１４８が存在する場合には（表２の「Ｎｏ．２、Ｎｏ．３」参照）、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」がより効果的に抑えられ、塗布膜の膜厚変動率も低減し、塗布膜の面状も良好になることが分かった。また、免振装置１４８は、パッシブモードに比べて、アクティブモードのほうが、「基礎部１４０の頂上部Ｓ１の加速度」が効果的に抑えられ、塗布膜の膜厚変動率がより効果的に抑えられることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１５２】
【図１】光学フィルムの製造ライン（スロットダイコータ式塗布システム）の全体構成を示す図である。
【図２】ダイコータ、バックアップローラ、およびその周辺の構成図である。
【図３】ダイコータの一部を切断した状態を示す斜視図である。
【図４】第１の実施形態のダイコータおよびバックアップローラを側方からみた構成を示す図である。
【図５】第１の実施形態の基礎部を側方から見た断面図を示す図である。
【図６】第１の実施形態の基礎部を上方から見た図を示す図である。
【図７】第２の実施形態の基礎部を側方から見た断面図を示す図である。
【図８】第２の実施形態の基礎部を上方から見た図を示す図である。
【図９】第３の実施形態のダイコータおよびバックアップローラを側方からみた構成を示す図である。
【符号の説明】
【０１５３】
１０…スロットダイコータ式塗布システム、１２…バックアップローラ、１４…ウェブ、１６…リップランド、２０…ビード、２２…マニホールド、２４…スロット、２４Ａ…開口部、２６…減圧チャンバー、２６Ａ…バックプレート、２６Ｂ…サイドプレート、２６Ｃ…リアプレート、２６Ｄ…ボトムプレート、２８…エアー配管、３０…ブロア、３３…バッファ装置、３４…バッファタンク、３５…エアー吸引口、３６…圧力計、３８…コントローラ、４０…吸引口、４２…塗布液ポンプ、４４…塗布液タンク、４６…塗布液供給管、５２…塗布液排出管、５４…閉鎖板、６０…幅規制板、６２…幅規制板先端面、６６…送り出し機、６８…パスローラ、７４…除塵機、７６…乾燥装置、７８…加熱装置、８０…紫外線照射装置、８２…巻き取り機、９８…ダイ支持部、１００…移動テーブル、１０２…下部架台、１０４…スライド部、１０６…スライドガイド部、１１０…第１ストッパー、１１４…ストッパー用架台、１１６…ストッパー支持部、１１７…接触支持部、１１８…接触部、１２０…駆動装置、１２２…ストッパー受け部、１２３…ボールネジ、１２４…サーボモータ、１３０…ローラ用架台、１３４…押し付け装置、１３６…押し付け部、１３８…押し付け支持部、１４０…基礎部、１４２…地上部、１４３…地上ブロック、１４４…地中部、１４６…連結部、１４８…免振装置または制振装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スロットダイを支持する基礎部を備え、
前記基礎部は、グランドレベルから５ｍ以下の高さを有するとともに３ｍ２以上の水平方向の平均断面積を有する地上部を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記基礎部の頂部は、６０秒のサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析によるｒｍｓ値によれば、５Ｈｚ以上の振動数で０．３Ｇａｌ以下の加速度を示すことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記基礎部は、コンクリート製または鉄筋コンクリート製であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記基礎部は、前記スロットダイを含むコーティング装置と、スロットダイから吐出される塗布液が塗布される支持体を支持するコーティングロール装置と、を支持することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項５】
前記スロットダイと前記基礎部との間に設置される制振装置または免振装置を更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項６】
前記スロットダイは、ダイコータまたはスライドコータであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の塗布装置を用いて、支持体上に塗布膜を形成する塗布方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の塗布装置によって支持体上に塗布膜を形成し、
当該塗布膜を用いて光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記光学フィルムは、反射防止フィルムであることを特徴とする請求項８に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１】
スロットダイを支持する基礎部を備え、
前記基礎部は、グランドレベルから５ｍ以下の高さを有するとともに３ｍ２以上の水平方向の平均断面積を有する地上部を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記基礎部の頂部は、６０秒のサンプリングデータの１／３ｏｃｔ．ｂａｎｄピークホールド分析によるｒｍｓ値によれば、５Ｈｚ以上の振動数で０．３Ｇａｌ以下の加速度を示すことを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記基礎部は、コンクリート製または鉄筋コンクリート製であることを特徴とする請求項１または２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記基礎部は、前記スロットダイを含むコーティング装置と、スロットダイから吐出される塗布液が塗布される支持体を支持するコーティングロール装置と、を支持することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項５】
前記スロットダイと前記基礎部との間に設置される制振装置または免振装置を更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項６】
前記スロットダイは、ダイコータまたはスライドコータであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の塗布装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の塗布装置を用いて、支持体上に塗布膜を形成する塗布方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の塗布装置によって支持体上に塗布膜を形成し、
当該塗布膜を用いて光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記光学フィルムは、反射防止フィルムであることを特徴とする請求項８に記載の光学フィルムの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００７−２６８３８５（Ｐ２００７−２６８３８５Ａ）
【公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−９５８１９（Ｐ２００６−９５８１９）
【出願日】平成１８年３月３０日（２００６．３．３０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年３月３０日（２００６．３．３０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]