塗布装置及び塗布方法
【課題】光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な精密塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラ（特に横段上ムラ）のない良好な面状の塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】バックアップローラ２０に支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッド５０から塗布液１４を塗布すると共に、バックアップローラ２０を塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置１０において、進退移動機構は、バックアップローラ２０両端の回転軸を架橋状のフレーム２１で回転自在に支持して成るローラユニット２５と、バックアップローラ２０が塗布位置と退避位置との間で進退するようにローラユニット２５を揺動させる揺動手段と、を備える。
【解決手段】バックアップローラ２０に支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッド５０から塗布液１４を塗布すると共に、バックアップローラ２０を塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置１０において、進退移動機構は、バックアップローラ２０両端の回転軸を架橋状のフレーム２１で回転自在に支持して成るローラユニット２５と、バックアップローラ２０が塗布位置と退避位置との間で進退するようにローラユニット２５を揺動させる揺動手段と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置及び塗布方法に係り、特に、走行する帯状支持体（以下、ウエブという）に塗布液を高精度に塗布することが要求される塗布において塗布機の近傍に配置されたバックアップローラに係る改良技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
搬送されるウエブの表面に塗布液を塗布する塗布装置には、塗布ヘッドに対向させるか、又は塗布ヘッドの上流側及び下流側にウエブの搬送を支持するバックアップローラを配置して塗布する塗布装置がある。また、塗布機としては、バー塗布装置（ロッド塗布装置ともいう）、リバースロール塗布装置、グラビアロール塗布装置、スロットダイ塗布装置（例えばエクストルージョン塗布装置等）等がある。これらの塗布装置は、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム等）や磁気記録媒体等の製造において使用されており、薄膜で且つ塗布ムラがない面質の良好な高精度の精密塗布が要求されている。
【０００３】
これらバックアップローラを有する塗布装置では、ウエブを塗布ヘッドとバックアップローラとの間を通す場合、あるいは、塗布開始や終了時において、バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる脱着操作を行う。
【０００４】
ところで、塗布操作において塗布ヘッドの振動がウエブの塗布面に伝わると塗布ムラとなって現れ、塗布品質を低下させることから、塗布ヘッドの振動を除振したり制振したりして、塗布ヘッドが振動しないようにすることも提案されている。
【０００５】
塗布ヘッドではないが、例えば特許文献１の露光装置やデバイス装置では、駆動方向が鉛直方向で対向するように配置した一対のエアダンパと、該エアダンパの内圧を制御する手段を設けてエアダンパの固有振動数を調整する除振装置が開示されている。また、特許文献２には、感光ドラムの剛性を変えることで固有振動数を調整することが開示されている。
【特許文献１】特開平１１−３１５８８３号公報
【特許文献２】特開平１０−２２２０１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、光学フィルムや磁気記録媒体等の製造における塗布のように薄膜塗布で且つ塗布ムラを極力小さくした高精度の精密塗布が要求される場合に、塗布中のバックアップローラの振動により横段状ムラが発生することがあるという問題がある。塗布中のバックアップローラの振動を低減させる手段として、そのバックアップローラの昇降部の剛性を高めると同時に昇降機構が持つガタツキを低減させる必要がある。通常、バー塗布での脱着は、バックアップローラを垂直に動作させるため、ガイド（例えば、ＬＭガイド）を使う。そのため、ガイドのガタツキがバックアップローラ昇降部全体のガタツキを発生させる原因となる。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される精密塗布であっても、塗布ムラ（特に横段状ムラ）のない良好な面状の塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明は、前記目的を達成するために、バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置において、前記進退移動機構は、前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットと、前記バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するように前記ローラユニットを揺動させる揺動手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項１によれば、バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットを進退移動機構に備えたことで、剛性を上げることができるので、振動を高周波にずらすことができ、振幅の絶対値を抑えることができる。また、バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するようにローラユニットを揺動させる揺動手段を進退移動機構に備えたことで、塗布中のローラの振動を抑えることができる。このように、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布するようにしたので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１０】
請求項２は請求項１において、前記ローラユニットは、前記塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置に前記バックアップローラを一対設けて成ることを特徴とする。
【００１１】
請求項２によれば、ローラユニットは、塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置にバックアップローラを一対設けて成ることで、好適にウエブを押さえることができるので、塗布ムラの発生を更に効果的に抑制することができる。また、ローラユニットに一対のバックアップローラが設けられていることで、さらに塗布ムラを防止できる。
【００１２】
請求項３は請求項２において、前記一対のバックアップローラの１本の回転軸中心と、前記揺動手段の揺動軸中心が同一であることを特徴とする。
【００１３】
請求項３によれば、バックアップローラの１本の回転中心軸と、揺動手段の揺動軸中心を一致させることで、ローラユニットの振動を更に抑制することができるので、バックアップローラの振動を更に抑制することができる。
【００１４】
請求項４は請求項３において、前記一対のバックアップローラのうちの前記回転軸中心と前記揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、前記帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることを特徴とする。
【００１５】
請求項４によれば、一対のバックアップローラのうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることで、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１６】
請求項５は請求項１〜４の何れか１において、前記塗布ヘッドは、バー塗布用のヘッドであることを特徴とする。
【００１７】
請求項５によれば、塗布ヘッドがバー塗布用のヘッドである場合に、好適に塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１８】
請求項６は請求項１〜５の何れか１において、前記塗布液は、光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液であることを特徴とする。
【００１９】
請求項６によれば、塗布液が光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液である場合に、極めて高精度な塗布が要求されるので、本発明は有効である。
【００２０】
請求項７の発明は、前記目的を達成するために、バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させて塗り付けの脱着操作を行う塗布方法において、前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットごと揺動させることにより前記脱着操作を行うことを特徴とする。
【００２１】
ここで、「塗り付けの脱着操作」とは、帯状支持体を塗布ヘッドとバックアップローラとの間に通す時、塗布開始時や終了時、あるいは必要に応じて、塗布ヘッドに対してバックアップローラを進退移動させて、塗布液が帯状支持体に塗り付く状態（着状態）又は塗り付かない状態（脱状態）にする操作をいう。
【００２２】
請求項７によれば、バックアップローラ両端の回転軸を回転自在に支持した架橋状のフレームごと揺動させることにより脱着操作を行うことで、バックアップローラの進退移動を行う機構の剛性化を図り易く、且つ進退移動の際のガタツキを低減することができる。これにより、塗布中におけるバックアップローラの振動を低減できるので、塗布膜面の塗布ムラを効果的に防止できる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面により本発明の塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２５】
図１は、本発明に係る塗布装置をバー塗布装置で示した一例であり、バー塗布装置１０は、塗布・計量一体型の一例である。
【００２６】
図１に示されるように、塗布・計量一体型のバー塗布装置１０は、主として、所望量の塗布液を塗布するバー塗布ヘッド５０と、ウエブＷの搬送ラインに沿ってバー塗布ヘッドの上流側と下流側とに一対設けられたバックアップローラ２０、２０とで構成される。
【００２７】
バー塗布ヘッド５０は、主として、バー２８と、バー２８を回転自在に支持するバー支持台３０と、コーターブロック５２、５４と、両側の（図では前後の）サイドブロック（図示略）から構成される。バー支持台３０と各コーターブロック５２、５４との間には、ポケット５６、５８及びスリット６０、６２が形成され、各ポケット５６、５８に塗布液が供給される。
【００２８】
各ポケット５６、５８に供給された塗布液は、ウエブＷの幅方向に平行でウエブ搬送方向に狭隘なスリット６０、６２を介してウエブＷの幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２８に対してウエブＷの搬送方向の上流側（以下、「１次側」という）には１次側塗布ビード６４が形成され、下流側（以下、「２次側」という）に２次側塗布ビード６６が形成される。したがって、バー２８はこれらの塗布ビード６４、６６を介して走行するウエブＷに所定量の塗布液を転移塗布する。
【００２９】
ポケット５６、５８から過剰に供給された塗布液は、各コーターブロック５２、５４とウエブＷとの間からオーバーフローし、側溝６５、６７（一部図示）を介して回収される。尚、ポケット５６、５８への塗布液の供給はポケット５６、５８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。
【００３０】
また、バー２８は、図示しない回転駆動系により、ウエブＷと同方向又は逆方向に回転駆動される。これにより、プレコート装置１６によりウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分が、バー２８により掻き落とされて、所望の塗布液量に計量される。また、バー２８を回転させることにより、ウエブＷとバー２８との間に異物がトラップされることを防止し、異物による塗布故障の発生を防止する。
【００３１】
バー２８としては、バー表面がフラットなフラット型のバー、バーにワイヤーを密に巻回したワイヤーバー、バーの表面に溝をつけた溝付バー等を使用することができる。
【００３２】
かかるバー塗布装置１０は、ウエブをバー塗布ヘッドとバックアップローラとの間に通すとき、塗布開始時、あるいは必要に応じてバー塗布ヘッドに対してバックアップローラを進退移動させて脱着操作を行う。
【００３３】
図２及び図３は、本発明に係るバックアップローラ２０、２０の進退移動機構の一例である。ここで、図２において、図２（Ａ）はバックアップローラを退避位置に移動させた場合であり、図２（Ｂ）はバックアップローラを塗布位置に移動させた場合であり、図２（Ｃ）は図２（Ｂ）においてウエブＷを通した場合を示した側面図である。図３はそのバックアップローラ２０、２０の進退移動機構であるローラユニット２５の正面図である。
【００３４】
ここで、ローラユニット２５は、図２及び図３に示すように、バックアップローラ２０、２０の両端の回転軸２０Ａ、２０Ａが、架橋状のフレーム２１に軸受２１Ａ、２１Ａを介して支持されている。尚、軸受２１Ａ、２１Ａにはそれぞれベアリング（不図示）が組み込まれており、それによりバックアップローラはウエブＷの搬送とともに回転する。そして、このフレーム２１は上流側又は下流側の端にはシリンダー２３が取り付けられており、円弧を描くように揺動するようになっている。また、バー塗布装置１０とシリンダー２３により昇降するローラユニット２５は支持台２１Ｂに固定されている。
【００３５】
このようにバックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレーム２１で回転自在に支持して成るローラユニット２５を構成することで、バックアップローラ２０が剛性化する。これにより、塗布中にバックアップローラ２０が振動しにくくなる。また、仮にバックアップローラ２０が振動しても剛性が高くなることで、振動周波数が高周波側にずれるので、振幅の絶対値が小さくなり、横段状ムラになりにくくなる。
【００３６】
また、従来のようにバックアップローラ２０の両端を一対のＬＭガイドに支持させて塗布ヘッド５０に対して進退移動させる機構は、バックアップローラ２０が進退移動するための支点が２つあり、進退移動時の２つの支点の調和を図るために支点に多少の遊びをもたせる必要がある。この遊びによるガタツキがバックアップローラにガタツキを発生させる原因になり塗布中に振動し易くなる。これに対して、本願発明のように、ローラユニット２５を揺動させることで進退移動する機構は、支点が揺動軸１つになり遊びをもたせる必要がないのでガタツキが発生しにくくなり、塗布中の振動を抑制できる。また、バックアップローラ２０をフレーム２１で剛性化することで、揺動する機構が可能となる。
【００３７】
このように、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布するようにしたので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な精密塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００３８】
そして、図２に示すように、バー塗布ヘッド５０の上流側と下流側とに一対設けられたバックアップローラ２０、２０が同一フレーム（フレーム２１）でユニット化されていることが好ましい。一対のバックアップローラが同一フレームでユニット化されていることで、さらに塗布ムラを防止することできる。
【００３９】
また、図２に示すように、一対のバックアップローラ２０、２０の１本の回転軸中心と、揺動軸中心が同一であることが好ましい。バックアップローラの１本の回転中心軸と、揺動軸中心を一致させることで、ローラユニットの振動を更に抑制することができるので、バックアップローラの振動を更に抑制することができる。
【００４０】
更に、一対のバックアップローラ２０、２０のうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、ウエブＷの走行方向下流側のバックアップローラであることが好ましい。一対のバックアップローラのうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、ウエブの走行方向下流側のバックアップローラであることで、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００４１】
図４のバー塗布装置１０’は塗布・計量別体型の一例である。尚、図１で説明した塗布・計量一体型と同じ部材には同符号を付して説明する。
【００４２】
主として、ウエブＷに塗布液１４を所望の塗布液量よりも過剰に塗布するエクストルージョン型のプレコート装置１６と、ウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分を掻き取る掻取り用バー装置１８と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のパスローラ２０、２０とで構成される。
【００４３】
エクストルージョン型のプレコート装置１６は、ポケット２２（又は、「マニホールド」とも称呼される）内に圧送された塗布液１４を、ポケット２２に連通するスリット２４（又は、「スロット」とも称呼される）の出口２４Ａから、パスローラ２０に装架されて矢印方向に一定の速度で走行するウエブＷにヘッド先端面２６を押し付けながら連続的に吐出する。
【００４４】
これにより、掻取り用バー装置１８の直前においてウエブＷの下面に過剰な塗布液が塗布される。尚、プレコート装置１６としては、エクストルージョン型に限定されるものではなく、ウエブＷに塗布液を塗布する任意の塗布装置を使用することができる。
【００４５】
掻取り用バー装置１８は、ウエブＷの幅方向と平行に配設された円柱状のバー２８をバー支持台３０の支持溝３０Ａに支持して構成され、パスローラ２０により、走行するウエブＷが塗工用バー２８に対して所定のラップ角（巻き掛け角）をもって接触されるように構成されている。
【００４６】
バー２８を支持する支持溝３０Ａの形状としては、図５に示されるＶ字溝、又は図示しないＵ字溝が一般的に使用される。この支持溝３０Ａを形成する壁面３０Ｂの長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度は、バー２８の長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度と同等か、それ以上になるように加工される。
【００４７】
掻取り用バー装置１８においても、図２及び図３に示したローラユニット２５とすることで、図１に示したバー塗布装置１０と同様に、塗布中のローラの振動を抑えることができる。
【００４８】
このように、掻取り用バー装置１８においても、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布することができるで、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００４９】
ここで、円弧を描いて揺動するローラユニット２５のスウィング動作角度は９０°以下が好ましい。そしてベアリング（不図示）は、単列深溝玉軸のものが好ましく、ベアリングのラジアル隙間は４０μｍ以下であることが好ましい。また、バックアップローラがローラユニット２５に取り付けられている本数が１本の場合にも、本発明の効果を得ることができる。
【００５０】
塗布・計量一体型及び塗布・計量別体型の何れのバー塗布装置１０、１０’の場合にも、バー２８の直径Φは３〜１５ｍｍの範囲が好ましく、バー２８がワイヤーバーの場合のワイヤー直径Φは０．０５〜０．２０ｍｍの範囲が好ましい。また、ウエブＷの塗布テンション（搬送方向のテンション）は５０〜１５００Ｎ／ｍの範囲が好ましく、塗布速度は５〜１５０ｍ／分の範囲が好ましい。また、バー２８の異周速比（バー周速度／ウエブ速度）は０．１〜１．５の範囲が好ましい。また、パスローラ２０の１回転周期の速度ムラは１．５％以内が好ましく、１．０％以内がより好ましい。
【００５１】
以上、本実施の形態では、バー塗布装置で説明したが、バックアップローラを有する塗布装置であれば本願発明を適用することができ、例えば図６に示したエクストルージョン型の塗布装置１０’’でもよい。尚、図６の塗布装置１０’’は所望量の塗布液を塗布するエクストルージョン型の塗布ヘッド７０と、ウエブＷを介して塗布ヘッド７０に対向して設けられたバックアップローラ２０とで構成される。塗布ヘッド７０の内部にはマニホールド７２とスロット７４が形成されており、塗布ヘッド７０のマニホールド７２に供給された塗布液１４はスロット７４を介してウエブＷに所望量塗布される。
【００５２】
本発明で使用するウエブＷとしては、一般に、その幅が３００〜３０００ｍｍ、長さが４５〜１００００ｍ、厚さが２〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙等からなる可撓性帯状物あるいは該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が含まれる。
【００５３】
ウエブＷへの塗布液の塗布量としては、２〜１５ｍＬ／ｍ2 の範囲が好ましく採用できる。また、ウエブＷへの塗布液の塗布幅としては、５００〜３０００ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００５４】
また、塗布液としては、光学フィルムや磁気テープの塗布液のような非ニュートン流体にかぎらず、写真感光層の比較的低粘度のゼラチン溶液をバインダとしてなるようなニュートン流体であってもよい。塗布液の粘度としては、０．８〜１０ｃｐ（０．８〜１０×１０-3Ｐａ・ｓ）の範囲が好ましく採用できる。
【実施例】
【００５５】
［実施例１］
次に、図４に示した塗布・計量別体型のバー塗布装置１０’を用いて、光学補償フィルム用の塗布液を塗布した実施例を説明する。
【００５６】
バックアップローラ２０の振動速度（０〜２００Ｈｚのオーバーオール値）がどうなるかを試験した。試験の評価は、掻取り用バー装置１８のバー２８に最も近い上流側のバックアップローラ２０について行った。
【００５７】
試験は、表１に示すように、ローラの長さ（面長）が１６００ｍｍ、ローラ軸間距離（軸長）が１８００ｍｍのバックアップローラ２０を用いた。
【００５８】
（光学補償フィルム用塗布液の調製）
下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−８のＲ（１）とＲ（２）の重量比で４：１の混合物に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ♯３６０、大阪有機科学（株）製）を１０重量％、セルロースアセテートプチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を０．６重量％、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を３重量％、増感剤（カヤキュアーＤＥＴ−Ｘ、日本化薬（株）製）を１重量％添加し、最終的にその混合物の３２重量％メチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面括性剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）を０．３重量％添加し、塗布液とした。
【００５９】
【化１】
【００６０】
（塗布条件）
・プレコート装置…エクストルージョン型のスロットダイ
・掻取り用バー装置…直径８ｍｍの円柱状の芯材に０．０７ｍｍのワイヤーを密に巻回したワイヤーバー
・塗布速度…２０ｍ／分
・塗布テンション…２００Ｎ／ｍ
（バックアップローラ条件）
・ローラ本体部の直径…９５ｍｍ
・ローラシャフトの直径…３２ｍｍ
・パスローラの真円度…０．０１ｍｍ
・パスローラの円筒度…０．０１ｍｍ
・掻取り用バー装置のバーからパスローラまでの距離…１００ｍｍ
（昇降方式）
バックアップローラをガイドにより垂直に動作させた垂直昇降と、バックアップローラを本発明に係るローラユニットによって円弧を描いて揺動するスウィングアームと、の比較を行った。
【００６１】
垂直昇降式にはＬＭガイドにＴＨＫ製ＨＳＲ２０Ａ２ＳＳＭ＋５２０ＬＨＭIIを使用し、動作シリンダーには油研工業製Ｆ-ＣＪＴ７０−ＦＢ５０Ｂ３２０Ｂを使用した。
【００６２】
スウィングアームについては、動作シリンダーとして油研工業製ＣＪＴ７０ＣＢ５０Ｃ-３５０Ｂ-ＢＡＤ−ＥＫおよびＣＪＴ７０ＣＢ５０Ｃ-３５０Ｂ-ＤＡＢ−ＥＫを使用した（アームが円弧を描くためガイドは無し）。アーム軸受け部（球面軸受け）はＴＨＫ製ＳＢ３０を使用した。
（評価項目）
ローラ周速度が２４ｍ／ｍｉｎと２８ｍ／ｍｉｎの場合（ロータリエンコーダー（仙台ニコン社製のＲＤ−５０００）で周速度を測定）の振動速度をＦＦＴ（小野測器（株）製のＣＦ５２２０）を使用して測定した。
【００６３】
【表１】
【００６４】
（試験結果）
表１から分かるように、本発明のスウィングアームで塗布した場合の振動速度は、従来からのバックアップローラをガイドにより垂直に動作させた垂直昇降で塗布した場合の振動速度に比べ、ローラ周速度が６分の１から７分の１となり、塗布中のローラの振動を抑えることができることが分かる。従って、本発明によれば、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができた。
【００６５】
尚、塗布・計量一体型での実施例は図に示してないが、上記と同様の結果であった。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量一体型の一例を示す側面断面図
【図２】本発明に係るローラユニットを説明する側面図
【図３】本発明に係るローラユニットを説明する正面図
【図４】本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量別体型の一例を示す側面断面図
【図５】図４における掻取り用バー装置の側面断面図
【図６】エクストルージョン型の塗布装置の一例を示す側面断面図
【符号の説明】
【００６７】
１０…塗布・計量一体型のバー塗布装置、１０’…塗布・計量別体型のバー塗布装置、１１…ローラ本体部、１３…ローラシャフト、１４…塗布液、１６…プレコート装置、１８…掻取り用バー装置、２０…バックアップローラ、２１…フレーム、２１Ａ…軸受、２１Ｂ…支持台、２３…シリンダー、２５…ローラユニット、２８…バー、３０…バー支持台、５０…バー塗布ヘッド
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置及び塗布方法に係り、特に、走行する帯状支持体（以下、ウエブという）に塗布液を高精度に塗布することが要求される塗布において塗布機の近傍に配置されたバックアップローラに係る改良技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
搬送されるウエブの表面に塗布液を塗布する塗布装置には、塗布ヘッドに対向させるか、又は塗布ヘッドの上流側及び下流側にウエブの搬送を支持するバックアップローラを配置して塗布する塗布装置がある。また、塗布機としては、バー塗布装置（ロッド塗布装置ともいう）、リバースロール塗布装置、グラビアロール塗布装置、スロットダイ塗布装置（例えばエクストルージョン塗布装置等）等がある。これらの塗布装置は、光学フィルム（光学補償フィルム、反射防止フィルム等）や磁気記録媒体等の製造において使用されており、薄膜で且つ塗布ムラがない面質の良好な高精度の精密塗布が要求されている。
【０００３】
これらバックアップローラを有する塗布装置では、ウエブを塗布ヘッドとバックアップローラとの間を通す場合、あるいは、塗布開始や終了時において、バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる脱着操作を行う。
【０００４】
ところで、塗布操作において塗布ヘッドの振動がウエブの塗布面に伝わると塗布ムラとなって現れ、塗布品質を低下させることから、塗布ヘッドの振動を除振したり制振したりして、塗布ヘッドが振動しないようにすることも提案されている。
【０００５】
塗布ヘッドではないが、例えば特許文献１の露光装置やデバイス装置では、駆動方向が鉛直方向で対向するように配置した一対のエアダンパと、該エアダンパの内圧を制御する手段を設けてエアダンパの固有振動数を調整する除振装置が開示されている。また、特許文献２には、感光ドラムの剛性を変えることで固有振動数を調整することが開示されている。
【特許文献１】特開平１１−３１５８８３号公報
【特許文献２】特開平１０−２２２０１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、光学フィルムや磁気記録媒体等の製造における塗布のように薄膜塗布で且つ塗布ムラを極力小さくした高精度の精密塗布が要求される場合に、塗布中のバックアップローラの振動により横段状ムラが発生することがあるという問題がある。塗布中のバックアップローラの振動を低減させる手段として、そのバックアップローラの昇降部の剛性を高めると同時に昇降機構が持つガタツキを低減させる必要がある。通常、バー塗布での脱着は、バックアップローラを垂直に動作させるため、ガイド（例えば、ＬＭガイド）を使う。そのため、ガイドのガタツキがバックアップローラ昇降部全体のガタツキを発生させる原因となる。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される精密塗布であっても、塗布ムラ（特に横段状ムラ）のない良好な面状の塗布膜を得ることができる塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の発明は、前記目的を達成するために、バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置において、前記進退移動機構は、前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットと、前記バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するように前記ローラユニットを揺動させる揺動手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項１によれば、バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットを進退移動機構に備えたことで、剛性を上げることができるので、振動を高周波にずらすことができ、振幅の絶対値を抑えることができる。また、バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するようにローラユニットを揺動させる揺動手段を進退移動機構に備えたことで、塗布中のローラの振動を抑えることができる。このように、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布するようにしたので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１０】
請求項２は請求項１において、前記ローラユニットは、前記塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置に前記バックアップローラを一対設けて成ることを特徴とする。
【００１１】
請求項２によれば、ローラユニットは、塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置にバックアップローラを一対設けて成ることで、好適にウエブを押さえることができるので、塗布ムラの発生を更に効果的に抑制することができる。また、ローラユニットに一対のバックアップローラが設けられていることで、さらに塗布ムラを防止できる。
【００１２】
請求項３は請求項２において、前記一対のバックアップローラの１本の回転軸中心と、前記揺動手段の揺動軸中心が同一であることを特徴とする。
【００１３】
請求項３によれば、バックアップローラの１本の回転中心軸と、揺動手段の揺動軸中心を一致させることで、ローラユニットの振動を更に抑制することができるので、バックアップローラの振動を更に抑制することができる。
【００１４】
請求項４は請求項３において、前記一対のバックアップローラのうちの前記回転軸中心と前記揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、前記帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることを特徴とする。
【００１５】
請求項４によれば、一対のバックアップローラのうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることで、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１６】
請求項５は請求項１〜４の何れか１において、前記塗布ヘッドは、バー塗布用のヘッドであることを特徴とする。
【００１７】
請求項５によれば、塗布ヘッドがバー塗布用のヘッドである場合に、好適に塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００１８】
請求項６は請求項１〜５の何れか１において、前記塗布液は、光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液であることを特徴とする。
【００１９】
請求項６によれば、塗布液が光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液である場合に、極めて高精度な塗布が要求されるので、本発明は有効である。
【００２０】
請求項７の発明は、前記目的を達成するために、バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させて塗り付けの脱着操作を行う塗布方法において、前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットごと揺動させることにより前記脱着操作を行うことを特徴とする。
【００２１】
ここで、「塗り付けの脱着操作」とは、帯状支持体を塗布ヘッドとバックアップローラとの間に通す時、塗布開始時や終了時、あるいは必要に応じて、塗布ヘッドに対してバックアップローラを進退移動させて、塗布液が帯状支持体に塗り付く状態（着状態）又は塗り付かない状態（脱状態）にする操作をいう。
【００２２】
請求項７によれば、バックアップローラ両端の回転軸を回転自在に支持した架橋状のフレームごと揺動させることにより脱着操作を行うことで、バックアップローラの進退移動を行う機構の剛性化を図り易く、且つ進退移動の際のガタツキを低減することができる。これにより、塗布中におけるバックアップローラの振動を低減できるので、塗布膜面の塗布ムラを効果的に防止できる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布であっても、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面により本発明の塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００２５】
図１は、本発明に係る塗布装置をバー塗布装置で示した一例であり、バー塗布装置１０は、塗布・計量一体型の一例である。
【００２６】
図１に示されるように、塗布・計量一体型のバー塗布装置１０は、主として、所望量の塗布液を塗布するバー塗布ヘッド５０と、ウエブＷの搬送ラインに沿ってバー塗布ヘッドの上流側と下流側とに一対設けられたバックアップローラ２０、２０とで構成される。
【００２７】
バー塗布ヘッド５０は、主として、バー２８と、バー２８を回転自在に支持するバー支持台３０と、コーターブロック５２、５４と、両側の（図では前後の）サイドブロック（図示略）から構成される。バー支持台３０と各コーターブロック５２、５４との間には、ポケット５６、５８及びスリット６０、６２が形成され、各ポケット５６、５８に塗布液が供給される。
【００２８】
各ポケット５６、５８に供給された塗布液は、ウエブＷの幅方向に平行でウエブ搬送方向に狭隘なスリット６０、６２を介してウエブＷの幅方向に均一に押し出される。これにより、バー２８に対してウエブＷの搬送方向の上流側（以下、「１次側」という）には１次側塗布ビード６４が形成され、下流側（以下、「２次側」という）に２次側塗布ビード６６が形成される。したがって、バー２８はこれらの塗布ビード６４、６６を介して走行するウエブＷに所定量の塗布液を転移塗布する。
【００２９】
ポケット５６、５８から過剰に供給された塗布液は、各コーターブロック５２、５４とウエブＷとの間からオーバーフローし、側溝６５、６７（一部図示）を介して回収される。尚、ポケット５６、５８への塗布液の供給はポケット５６、５８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。
【００３０】
また、バー２８は、図示しない回転駆動系により、ウエブＷと同方向又は逆方向に回転駆動される。これにより、プレコート装置１６によりウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分が、バー２８により掻き落とされて、所望の塗布液量に計量される。また、バー２８を回転させることにより、ウエブＷとバー２８との間に異物がトラップされることを防止し、異物による塗布故障の発生を防止する。
【００３１】
バー２８としては、バー表面がフラットなフラット型のバー、バーにワイヤーを密に巻回したワイヤーバー、バーの表面に溝をつけた溝付バー等を使用することができる。
【００３２】
かかるバー塗布装置１０は、ウエブをバー塗布ヘッドとバックアップローラとの間に通すとき、塗布開始時、あるいは必要に応じてバー塗布ヘッドに対してバックアップローラを進退移動させて脱着操作を行う。
【００３３】
図２及び図３は、本発明に係るバックアップローラ２０、２０の進退移動機構の一例である。ここで、図２において、図２（Ａ）はバックアップローラを退避位置に移動させた場合であり、図２（Ｂ）はバックアップローラを塗布位置に移動させた場合であり、図２（Ｃ）は図２（Ｂ）においてウエブＷを通した場合を示した側面図である。図３はそのバックアップローラ２０、２０の進退移動機構であるローラユニット２５の正面図である。
【００３４】
ここで、ローラユニット２５は、図２及び図３に示すように、バックアップローラ２０、２０の両端の回転軸２０Ａ、２０Ａが、架橋状のフレーム２１に軸受２１Ａ、２１Ａを介して支持されている。尚、軸受２１Ａ、２１Ａにはそれぞれベアリング（不図示）が組み込まれており、それによりバックアップローラはウエブＷの搬送とともに回転する。そして、このフレーム２１は上流側又は下流側の端にはシリンダー２３が取り付けられており、円弧を描くように揺動するようになっている。また、バー塗布装置１０とシリンダー２３により昇降するローラユニット２５は支持台２１Ｂに固定されている。
【００３５】
このようにバックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレーム２１で回転自在に支持して成るローラユニット２５を構成することで、バックアップローラ２０が剛性化する。これにより、塗布中にバックアップローラ２０が振動しにくくなる。また、仮にバックアップローラ２０が振動しても剛性が高くなることで、振動周波数が高周波側にずれるので、振幅の絶対値が小さくなり、横段状ムラになりにくくなる。
【００３６】
また、従来のようにバックアップローラ２０の両端を一対のＬＭガイドに支持させて塗布ヘッド５０に対して進退移動させる機構は、バックアップローラ２０が進退移動するための支点が２つあり、進退移動時の２つの支点の調和を図るために支点に多少の遊びをもたせる必要がある。この遊びによるガタツキがバックアップローラにガタツキを発生させる原因になり塗布中に振動し易くなる。これに対して、本願発明のように、ローラユニット２５を揺動させることで進退移動する機構は、支点が揺動軸１つになり遊びをもたせる必要がないのでガタツキが発生しにくくなり、塗布中の振動を抑制できる。また、バックアップローラ２０をフレーム２１で剛性化することで、揺動する機構が可能となる。
【００３７】
このように、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布するようにしたので、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な精密塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００３８】
そして、図２に示すように、バー塗布ヘッド５０の上流側と下流側とに一対設けられたバックアップローラ２０、２０が同一フレーム（フレーム２１）でユニット化されていることが好ましい。一対のバックアップローラが同一フレームでユニット化されていることで、さらに塗布ムラを防止することできる。
【００３９】
また、図２に示すように、一対のバックアップローラ２０、２０の１本の回転軸中心と、揺動軸中心が同一であることが好ましい。バックアップローラの１本の回転中心軸と、揺動軸中心を一致させることで、ローラユニットの振動を更に抑制することができるので、バックアップローラの振動を更に抑制することができる。
【００４０】
更に、一対のバックアップローラ２０、２０のうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、ウエブＷの走行方向下流側のバックアップローラであることが好ましい。一対のバックアップローラのうちの回転軸中心と揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、ウエブの走行方向下流側のバックアップローラであることで、塗布ムラのない良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００４１】
図４のバー塗布装置１０’は塗布・計量別体型の一例である。尚、図１で説明した塗布・計量一体型と同じ部材には同符号を付して説明する。
【００４２】
主として、ウエブＷに塗布液１４を所望の塗布液量よりも過剰に塗布するエクストルージョン型のプレコート装置１６と、ウエブＷに過剰に塗布された塗布液１４の過剰分を掻き取る掻取り用バー装置１８と、ウエブＷの搬送ラインに沿って設けられた複数のパスローラ２０、２０とで構成される。
【００４３】
エクストルージョン型のプレコート装置１６は、ポケット２２（又は、「マニホールド」とも称呼される）内に圧送された塗布液１４を、ポケット２２に連通するスリット２４（又は、「スロット」とも称呼される）の出口２４Ａから、パスローラ２０に装架されて矢印方向に一定の速度で走行するウエブＷにヘッド先端面２６を押し付けながら連続的に吐出する。
【００４４】
これにより、掻取り用バー装置１８の直前においてウエブＷの下面に過剰な塗布液が塗布される。尚、プレコート装置１６としては、エクストルージョン型に限定されるものではなく、ウエブＷに塗布液を塗布する任意の塗布装置を使用することができる。
【００４５】
掻取り用バー装置１８は、ウエブＷの幅方向と平行に配設された円柱状のバー２８をバー支持台３０の支持溝３０Ａに支持して構成され、パスローラ２０により、走行するウエブＷが塗工用バー２８に対して所定のラップ角（巻き掛け角）をもって接触されるように構成されている。
【００４６】
バー２８を支持する支持溝３０Ａの形状としては、図５に示されるＶ字溝、又は図示しないＵ字溝が一般的に使用される。この支持溝３０Ａを形成する壁面３０Ｂの長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度は、バー２８の長手方向（ウエブ幅方向と同じ）の真直度と同等か、それ以上になるように加工される。
【００４７】
掻取り用バー装置１８においても、図２及び図３に示したローラユニット２５とすることで、図１に示したバー塗布装置１０と同様に、塗布中のローラの振動を抑えることができる。
【００４８】
このように、掻取り用バー装置１８においても、バックアップローラによる振動を抑えた状態で塗布することができるで、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができる。従って、光学フィルムや磁気記録媒体等の極めて高精度な塗布が要求される塗布膜の塗布であっても、良好な面状の塗布膜を得ることができる。
【００４９】
ここで、円弧を描いて揺動するローラユニット２５のスウィング動作角度は９０°以下が好ましい。そしてベアリング（不図示）は、単列深溝玉軸のものが好ましく、ベアリングのラジアル隙間は４０μｍ以下であることが好ましい。また、バックアップローラがローラユニット２５に取り付けられている本数が１本の場合にも、本発明の効果を得ることができる。
【００５０】
塗布・計量一体型及び塗布・計量別体型の何れのバー塗布装置１０、１０’の場合にも、バー２８の直径Φは３〜１５ｍｍの範囲が好ましく、バー２８がワイヤーバーの場合のワイヤー直径Φは０．０５〜０．２０ｍｍの範囲が好ましい。また、ウエブＷの塗布テンション（搬送方向のテンション）は５０〜１５００Ｎ／ｍの範囲が好ましく、塗布速度は５〜１５０ｍ／分の範囲が好ましい。また、バー２８の異周速比（バー周速度／ウエブ速度）は０．１〜１．５の範囲が好ましい。また、パスローラ２０の１回転周期の速度ムラは１．５％以内が好ましく、１．０％以内がより好ましい。
【００５１】
以上、本実施の形態では、バー塗布装置で説明したが、バックアップローラを有する塗布装置であれば本願発明を適用することができ、例えば図６に示したエクストルージョン型の塗布装置１０’’でもよい。尚、図６の塗布装置１０’’は所望量の塗布液を塗布するエクストルージョン型の塗布ヘッド７０と、ウエブＷを介して塗布ヘッド７０に対向して設けられたバックアップローラ２０とで構成される。塗布ヘッド７０の内部にはマニホールド７２とスロット７４が形成されており、塗布ヘッド７０のマニホールド７２に供給された塗布液１４はスロット７４を介してウエブＷに所望量塗布される。
【００５２】
本発明で使用するウエブＷとしては、一般に、その幅が３００〜３０００ｍｍ、長さが４５〜１００００ｍ、厚さが２〜２００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−2,6 −ナフタレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等のプラスチックフィルム、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンブテン共重合体等の炭素数が２〜１０のα−ポリオレフィン類を塗布又はラミネートした紙等からなる可撓性帯状物あるいは該帯状物を基材としてその表面に加工層を形成した帯状物が含まれる。
【００５３】
ウエブＷへの塗布液の塗布量としては、２〜１５ｍＬ／ｍ2 の範囲が好ましく採用できる。また、ウエブＷへの塗布液の塗布幅としては、５００〜３０００ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００５４】
また、塗布液としては、光学フィルムや磁気テープの塗布液のような非ニュートン流体にかぎらず、写真感光層の比較的低粘度のゼラチン溶液をバインダとしてなるようなニュートン流体であってもよい。塗布液の粘度としては、０．８〜１０ｃｐ（０．８〜１０×１０-3Ｐａ・ｓ）の範囲が好ましく採用できる。
【実施例】
【００５５】
［実施例１］
次に、図４に示した塗布・計量別体型のバー塗布装置１０’を用いて、光学補償フィルム用の塗布液を塗布した実施例を説明する。
【００５６】
バックアップローラ２０の振動速度（０〜２００Ｈｚのオーバーオール値）がどうなるかを試験した。試験の評価は、掻取り用バー装置１８のバー２８に最も近い上流側のバックアップローラ２０について行った。
【００５７】
試験は、表１に示すように、ローラの長さ（面長）が１６００ｍｍ、ローラ軸間距離（軸長）が１８００ｍｍのバックアップローラ２０を用いた。
【００５８】
（光学補償フィルム用塗布液の調製）
下記に示すディスコティック化合物ＴＥ−８のＲ（１）とＲ（２）の重量比で４：１の混合物に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ♯３６０、大阪有機科学（株）製）を１０重量％、セルロースアセテートプチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）を０．６重量％、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を３重量％、増感剤（カヤキュアーＤＥＴ−Ｘ、日本化薬（株）製）を１重量％添加し、最終的にその混合物の３２重量％メチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面括性剤（フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックＦ７８０、大日本インキ（株）製）を０．３重量％添加し、塗布液とした。
【００５９】
【化１】
【００６０】
（塗布条件）
・プレコート装置…エクストルージョン型のスロットダイ
・掻取り用バー装置…直径８ｍｍの円柱状の芯材に０．０７ｍｍのワイヤーを密に巻回したワイヤーバー
・塗布速度…２０ｍ／分
・塗布テンション…２００Ｎ／ｍ
（バックアップローラ条件）
・ローラ本体部の直径…９５ｍｍ
・ローラシャフトの直径…３２ｍｍ
・パスローラの真円度…０．０１ｍｍ
・パスローラの円筒度…０．０１ｍｍ
・掻取り用バー装置のバーからパスローラまでの距離…１００ｍｍ
（昇降方式）
バックアップローラをガイドにより垂直に動作させた垂直昇降と、バックアップローラを本発明に係るローラユニットによって円弧を描いて揺動するスウィングアームと、の比較を行った。
【００６１】
垂直昇降式にはＬＭガイドにＴＨＫ製ＨＳＲ２０Ａ２ＳＳＭ＋５２０ＬＨＭIIを使用し、動作シリンダーには油研工業製Ｆ-ＣＪＴ７０−ＦＢ５０Ｂ３２０Ｂを使用した。
【００６２】
スウィングアームについては、動作シリンダーとして油研工業製ＣＪＴ７０ＣＢ５０Ｃ-３５０Ｂ-ＢＡＤ−ＥＫおよびＣＪＴ７０ＣＢ５０Ｃ-３５０Ｂ-ＤＡＢ−ＥＫを使用した（アームが円弧を描くためガイドは無し）。アーム軸受け部（球面軸受け）はＴＨＫ製ＳＢ３０を使用した。
（評価項目）
ローラ周速度が２４ｍ／ｍｉｎと２８ｍ／ｍｉｎの場合（ロータリエンコーダー（仙台ニコン社製のＲＤ−５０００）で周速度を測定）の振動速度をＦＦＴ（小野測器（株）製のＣＦ５２２０）を使用して測定した。
【００６３】
【表１】
【００６４】
（試験結果）
表１から分かるように、本発明のスウィングアームで塗布した場合の振動速度は、従来からのバックアップローラをガイドにより垂直に動作させた垂直昇降で塗布した場合の振動速度に比べ、ローラ周速度が６分の１から７分の１となり、塗布中のローラの振動を抑えることができることが分かる。従って、本発明によれば、塗布ムラの発生を効果的に抑制することができた。
【００６５】
尚、塗布・計量一体型での実施例は図に示してないが、上記と同様の結果であった。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量一体型の一例を示す側面断面図
【図２】本発明に係るローラユニットを説明する側面図
【図３】本発明に係るローラユニットを説明する正面図
【図４】本発明に係るバー塗布装置であって、塗布・計量別体型の一例を示す側面断面図
【図５】図４における掻取り用バー装置の側面断面図
【図６】エクストルージョン型の塗布装置の一例を示す側面断面図
【符号の説明】
【００６７】
１０…塗布・計量一体型のバー塗布装置、１０’…塗布・計量別体型のバー塗布装置、１１…ローラ本体部、１３…ローラシャフト、１４…塗布液、１６…プレコート装置、１８…掻取り用バー装置、２０…バックアップローラ、２１…フレーム、２１Ａ…軸受、２１Ｂ…支持台、２３…シリンダー、２５…ローラユニット、２８…バー、３０…バー支持台、５０…バー塗布ヘッド
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置において、
前記進退移動機構は、
前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットと、
前記バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するように前記ローラユニットを揺動させる揺動手段と、を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ローラユニットは、
前記塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置に前記バックアップローラを一対設けて成ることを特徴とする請求項１の塗布装置。
【請求項３】
前記一対のバックアップローラの１本の回転軸中心と、前記揺動手段の揺動軸中心が同一であることを特徴とする請求項２の塗布装置。
【請求項４】
前記一対のバックアップローラのうちの前記回転軸中心と前記揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、前記帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることを特徴とする請求項３の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布ヘッドは、バー塗布用のヘッドであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の塗布装置。
【請求項６】
前記塗布液は、光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１の塗布装置。
【請求項７】
バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させて塗り付けの脱着操作を行う塗布方法において、
前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットごと揺動させることにより前記脱着操作を行うことを特徴とする塗布方法。
【請求項１】
バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させる進退移動機構を有する塗布装置において、
前記進退移動機構は、
前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットと、
前記バックアップローラが前記塗布位置と退避位置との間で進退するように前記ローラユニットを揺動させる揺動手段と、を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ローラユニットは、
前記塗布ヘッドを挟んだ上流側と下流側との位置に前記バックアップローラを一対設けて成ることを特徴とする請求項１の塗布装置。
【請求項３】
前記一対のバックアップローラの１本の回転軸中心と、前記揺動手段の揺動軸中心が同一であることを特徴とする請求項２の塗布装置。
【請求項４】
前記一対のバックアップローラのうちの前記回転軸中心と前記揺動軸中心とが同一なバックアップローラは、前記帯状支持体の走行方向下流側のバックアップローラであることを特徴とする請求項３の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布ヘッドは、バー塗布用のヘッドであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の塗布装置。
【請求項６】
前記塗布液は、光学フィルム又は磁気記録媒体を製造するための塗布液であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１の塗布装置。
【請求項７】
バックアップローラに支持された状態で連続走行する帯状支持体の表面に塗布ヘッドから塗布液を塗布すると共に、前記バックアップローラを塗布位置と退避位置との間で進退移動させて塗り付けの脱着操作を行う塗布方法において、
前記バックアップローラ両端の回転軸を架橋状のフレームで回転自在に支持して成るローラユニットごと揺動させることにより前記脱着操作を行うことを特徴とする塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００８−２２１０８５（Ｐ２００８−２２１０８５Ａ）
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−６０７１７（Ｐ２００７−６０７１７）
【出願日】平成１９年３月９日（２００７．３．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年９月２５日（２００８．９．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月９日（２００７．３．９）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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