有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板
【課題】１つの基板を用いて、個別点灯の評価と全面点灯の評価とを評価することが可能であり、しかも、１画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がなく、さらに、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することが可能な有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を提供する。
【解決手段】本発明の工程評価用基板３１は、基板３２上に、個別点灯領域３３、及び個別点灯領域３３の両側に近接して全面点灯領域３４、３５が設けられ、個別点灯領域３３はＦＰＣ４３の端子４４及びＦＰＣ４６の端子４７に並列接続され、全面点灯領域３４、３５は、陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続されている。
【解決手段】本発明の工程評価用基板３１は、基板３２上に、個別点灯領域３３、及び個別点灯領域３３の両側に近接して全面点灯領域３４、３５が設けられ、個別点灯領域３３はＦＰＣ４３の端子４４及びＦＰＣ４６の端子４７に並列接続され、全面点灯領域３４、３５は、陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、自発光型の平面表示型電気光学装置として、有機薄膜により発光層（電気光学層）等を構成した多層構造の有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence：ＥＬ）装置が開発され、これまでにも様々な提案がなされている（例えば、特許文献１等参照）。
この有機ＥＬ装置には、トップエミッション型と、ボトムエミッション型の２種類のものがあり、薄型、軽量、フレキシブル等の優れた特徴を有することから、ディスプレイパネル、電子ペーパー等、様々な分野への応用が進められている。
【０００３】
この有機ＥＬ装置を作製する方法としては、例えば、インクジェット法が挙げられる（例えば、特許文献２参照）。
インクジェット法を用いて有機ＥＬ装置を作製するには、基板上に設けられた発光領域となるバンク内の被塗布領域に、例えば、有機半導体発光材料またはカラーフィルタ材料を含む液滴を吐出して充填し、この充填した液滴に加熱処理、減圧処理のいずれか一方または双方を施して液滴に含まれる溶媒を除去する。これにより、被塗布領域に発光層またはカラーフィルタ層となる薄膜が形成される。
有機半導体発光材料としては、例えば、赤、緑、青から選択され電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生する発光材料が用いられ、また、カラーフィルタ材料としては、例えば、赤、緑、青から選択された着色材料が用いられる。
【０００４】
この有機ＥＬ装置では、インクジェット法によるインクの液滴の吐出量、この吐出された液滴に加熱処理、減圧処理のいずれか一方または双方を施して得られた画素の厚みや発光特性等を、複数の画素をまとめて駆動させることで評価している。また、１画素の個別点灯の評価と、画素部全体の全面点灯の評価とは、それぞれ別個のテスト基板を用いて評価している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−８５４８８号公報
【特許文献２】特許第３３２８２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、従来の有機ＥＬ装置では、複数の画素をまとめて駆動させることで特性を評価しているので、１画素毎の特性がばらつくと、画素部全体の電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）がばらついてしまい、測定精度が低下するという問題点があった。
また、１画素の個別点灯の評価と、画素部全体の全面点灯の評価とを、それぞれ別個のテスト基板を用いて評価しているので、インクジェットプロセスにおける吐出条件等が、個別点灯の評価に用いたテスト基板と、全面点灯の評価に用いたテスト基板とで異なる可能性がある。この場合、個別点灯の評価と全面点灯の評価とで条件等が異なるために、得られた特性の結果についても、これらの条件の違い等を考慮して評価する必要があり、特性評価の簡便性に欠けるという問題点があった。
さらに、個別点灯の評価と全面点灯の評価それぞれに対して個別にテスト基板を作製する必要があり、テスト基板を作製するための余分な工数及び製造コストが掛かるという問題点もあった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、個別点灯の評価と、全面点灯の評価とを、１つの基板を用いて評価することが可能であり、しかも、１画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がなく、さらに、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することが可能な有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を採用した。
すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、基板上に、インクジェット法により複数個の画素領域をマトリックス状に形成して画素部とする際に用いられる有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板であって、基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、前記個別点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極が形成され、前記全面点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、個別点灯領域に、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極を形成し、全面点灯領域に、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極を形成したので、インクジェットプロセスにおける吐出条件等が個別点灯と全面点灯とで同一となり、個別点灯と全面点灯とで特性の結果が異なる虞が無くなる。したがって、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
また、１つの基板を用いて個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うので、個別点灯領域と全面点灯領域が同一のプロセス履歴を有するものとなり、したがって、プロセス履歴の影響を受けることなく個別点灯の評価及び全面点灯の評価を正確に行うことができ、これらの評価の信頼性を高めることができ、画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がない。
また、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することができる。
【００１０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、前記全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、これらの全面点灯領域を前記個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設け、前記個別点灯領域を第１の端子に接続するとともに、２つの前記全面点灯領域を第２の端子に並列接続してなることを特徴とする。
【００１１】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、これらの全面点灯領域を個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設けたので、個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設けられた２つの全面点灯領域により全面点灯のインクジェットプロセスにおける吐出条件等の経時変化を評価することができる。したがって、１つの基板を用いて、個別点灯の評価と、全面点灯の経時評価とを行うことができる。
【００１２】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、前記全面点灯領域を前記個別点灯領域に隣接して設け、前記個別点灯領域を第１の端子に、前記全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続してなることを特徴とする。
【００１３】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、全面点灯領域を個別点灯領域に隣接して設け、個別点灯領域を第１の端子に、全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続したので、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
したがって、１つの基板を用いて、個別点灯の評価と全面点灯の評価とを簡便に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の画素領域を示す平面構成図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の配線構造を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施形態の工程評価用基板を示す平面図である。
【図４】インクジェット法を用いた液滴吐出装置を示す斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施形態の工程評価用基板を用いた評価方法を示す過程図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の工程評価用基板を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置の工程評価用基板を実施するための形態について説明する。
【００１６】
「第１の実施形態」
図１は、本実施形態の工程評価用基板が適用される有機ＥＬ表示装置を示す平面図、図２は、この有機ＥＬ表示装置の配線構造を示す図であり、この有機ＥＬ表示装置１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置である。
【００１７】
この有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、平面視略矩形状の素子基板２の中央部分に、複数の画素領域３がマトリクス状に配置されて実表示領域４が形成され、この素子基板２上の実表示領域４の外側には、この実表示領域４を囲むように信号線駆動回路５及び一対の走査線駆動回路６が設けられ、これら信号線駆動回路５及び走査線駆動回路６を含む領域がダミー領域７とされ、この素子基板２上のダミー領域７の外側には、陰極用配線８が設けられ、この実表示領域４及びダミー領域７により画素部９が構成されている。
そして、素子基板２の端部には、陰極用配線８等を外部と接続するための配線基板１０が設けられている。
【００１８】
この画素領域３の配列は、図１に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列されている。すなわち、この画素領域３の配列は、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の画素領域３が、他方向（Ｘ軸方向）に所定の間隔をおいて平行に配列されたストライプ型となっている。
この画素領域３におけるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の色は、画素領域３の発光層に発光材料を、または、画素領域３のエレクトロルミネッセンスを発生する発光層上にカラーフィルタを設けることにより可能である。例えば、発光材料としては、電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の有機半導体発光材料が挙げられ、また、エレクトロルミネッセンスを発生する発光層上に設けられるカラーフィルタ材料としては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の着色材料が挙げられる。
【００１９】
この有機ＥＬ表示装置１の配線構造は、図２に示すように、複数（図示では５本）の走査線１１と、これらの走査線１１に直交して延びる複数（図示では４本）の信号線１２及び電源線１３とが設けられており、走査線１１及び信号線１２に囲まれた領域が画素領域３に対応している。
これらの画素領域３それぞれには、画素電極となる陽極層２１と、陰極層２２と、これら陽極層２１及び陰極層２２により挟まれた発光層２３とにより有機ＥＬ素子が構成されている。
また、これらの画素領域３それぞれには、陽極層２１をスイッチング制御するためのスイッチング用ＴＦＴ２４、２５と保持容量２６とが設けられている。
【００２０】
図３は、この有機ＥＬ表示装置１の製造工程の評価に用いられる工程評価用基板３１であり、素子基板２上に、インクジェットにより液滴を吐出することにより複数個の画素領域３をマトリックス状に形成する際の、液滴及びそれにより形成される薄膜の形状及び特性の評価を行うための基板であり、例えば、インクジェットによる液滴の吐出量の調整及び確認、液滴を乾燥して薄膜とした場合の薄膜と液滴の吐出量との相関、液滴の吐出量と薄膜の特性との相関等を評価・確認する場合に用いられる基板である。
【００２１】
この工程評価用基板３１は、矩形板状の基板３２の解像度が一律な発光領域の長手方向の中心線上に、この基板３２の長手方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する個別点灯領域３３が設けられ、この個別点灯領域３３の両側それぞれに、全面点灯領域３４、３５が設けられている。
【００２２】
この個別点灯領域３３は、バンクにより区画された複数個の被塗布領域４１がマトリックス状に配置されたもので、これらの被塗布領域４１の配列は、図３に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列（図３では１９個）され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で複数回（図３では２回）繰り返されるように配列（図３では計６列）されている。すなわち、これらの被塗布領域４１の配列は、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の被塗布領域４１が、他方向（Ｘ軸方向）に所定の間隔をおいて平行に配列されたストライプ型となっている。
【００２３】
この個別点灯領域３３では、個々の画素毎の発光特性を評価するためのもので、複数個の被塗布領域４１それぞれの上端部が配線４２を介して基板３２の長手方向の一方の側面に取り付けられたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）４３のそれぞれの（第１の）端子４４に並列接続され、それぞれの下端部が配線４５を介して基板３２の長手方向の他方の側面に取り付けられたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）４６のそれぞれの（第１の）端子４７に並列接続されている。
【００２４】
また、全面点灯領域３４、３５は、個別点灯領域３３と同様、バンクにより区画された複数個の被塗布領域４１がマトリックス状に配置されたもので、これらの被塗布領域４１の配列は、個別点灯領域３３と同様、図３に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列（図３では１９個）され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列（図３では計６列）されている。
【００２５】
これら全面点灯領域３４、３５では、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の被塗布領域４１それぞれが、配線５１を介して基板３２の長手方向の一方の端部に設けられた陽極端子（第２の端子）５２に並列接続されるとともに、配線５３を介して基板３２の長手方向の他方の端部に設けられた陰極端子（第２の端子）５４に並列接続されている。
例えば、Ｒ（赤）では、Ｙ軸方向に配列された１９個の被塗布領域４１それぞれが配線５１、５３により並列接続されている。Ｇ（緑）及びＢ（青）も同様にＹ軸方向に配列された１９個の被塗布領域４１それぞれが配線５１、５３により並列接続されている。そして、配線５１は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）共通の配線になっている。
【００２６】
次に、この工程評価用基板３１を用いて、インクジェット法による画素領域３の製造工程を評価する方法について説明する。
ここでは、まず、画素領域３の製造に用いられるインクジェット法を用いた液滴吐出装置について、図４に基づき説明する。
この液滴吐出装置６１は、インクジェット法により素子基板２上の所定領域に液滴を吐出して複数の画素領域３を形成する装置であり、装置架台６２と、ワークステージ６３と、ステージ移動装置６４と、キャリッジ６５と、液滴吐出ヘッド６６と、キャリッジ移動装置６７と、チューブ６８と、第１〜第３タンク６９〜７１と、制御装置７２と、を備えている。
【００２７】
装置架台６２は、ワークステージ６３及びステージ移動装置６４の支持台である。ワークステージ６３は、装置架台６２上においてステージ移動装置６４により主走査方向であるＸ軸方向に移動可能に設置されており、上流側の搬送装置（図示略）から搬送される素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）を真空吸着機構によりＸＹ平面上に保持する。
ステージ移動装置６４は、リニアガイド及びボールネジ等の直動機構を備えており、制御装置７２から出力されるワークステージ６３の移動先のＸ座標を示すステージ位置制御信号に基づいて、ワークステージ６３をＸ軸方向に移動させる。
【００２８】
キャリッジ６５は、液滴吐出ヘッド６６を保持しており、キャリッジ移動装置６７により副走査方向であるＹ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に設けられている。
液滴吐出ヘッド６６は、複数のノズル（図示略）を備えており、制御装置７２から出力される描画データ信号や駆動信号に基づいて液滴を吐出する。
この液滴吐出ヘッド６６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各液滴に対応した数だけヘッド（図示略）が設けられており、それぞれキャリッジ６５を介してチューブ６８と接続されている。
そして、Ｒ（赤）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第１タンク６９からＲ（赤）のインク（液体）が供給され、Ｇ（緑）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第２タンク７０からＧ（緑）のインク（液体）が供給され、Ｂ（青）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第３タンク７１からＢ（青）のインク（液体）が供給される。
【００２９】
キャリッジ移動装置６７は、装置架台６２をＹ軸方向に沿って跨ぐように設けられた橋梁構造のものであり、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に沿ってリニアガイド及びボールネジ等の直動機構を備え、制御装置７２から出力されるキャリッジ６５の移動先のＹ座標及びＺ座標を示すキャリッジ位置制御信号に基づいてキャリッジ６５をＹ軸方向及びＺ軸方向に移動させる。
【００３０】
チューブ６８は、第１〜第３タンク６９〜７１からキャリッジ６５にＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各インクを供給するための供給用チューブである。
第１タンク６９は、Ｒ（赤）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＲ（赤）に対応するヘッドにＲ（赤）のインクを供給する。また、第２タンク７０は、Ｇ（緑）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＧ（緑）に対応するヘッドにＧ（緑）のインクを供給する。また、第３タンク７１は、Ｂ（青）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＢ（青）に対応するヘッドにＢ（青）のインクを供給する。
【００３１】
制御装置７２は、ワークステージ６３の移動による素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）の位置決め動作と、キャリッジ６５の移動による液滴吐出ヘッド６６の位置決め動作と、液滴吐出ヘッド６６による素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）上の所定位置にインクを吐出する液滴吐出動作と、を制御する装置である。この制御装置７２では、ステージ移動装置６４にステージ位置制御信号を出力し、キャリッジ移動装置６７にキャリッジ位置制御信号を出力し、液滴吐出ヘッド６６に描画データ及び駆動信号を出力する。
【００３２】
次に、上記の工程評価用基板３１を用いて画素領域３の製造工程を評価する方法について、図３〜図５に基づき説明する。
ここでは、液滴吐出ヘッド６６から吐出する液滴として、電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の有機半導体発光材料を含むインクを用いる。
【００３３】
ここでは、ワークステージ６２上に工程評価用基板３１を載置し、この工程評価用基板３１の上面と液滴吐出ヘッド６６とを対向させ、図５（ａ）に示すように、工程評価用基板３１上の個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５それぞれの被塗布領域４１に、上述した液滴吐出装置６１を用いてインク８１を吐出する。
このインク８１は、被塗布領域４１内全体に広がり、塗膜８２となる。
【００３４】
次いで、この塗膜８２を乾燥させる。
これにより、図５（ｂ）に示すように、基板３１上のそれぞれの被塗布領域４１に薄膜８３が形成された工程評価用のテスト基板８４が得られる。
このようにして、基板３１上の個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５それぞれの被塗布領域４１に薄膜８３が形成されることで、Ｙ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列された工程評価用のテスト基板８４が得られる。
【００３５】
次いで、このテスト基板８４の評価を行う。
例えば、個別点灯領域３３における薄膜８３の膜厚及び特性とインク８１の吐出量との相関を得たい場合、フレキシブルプリント配線板４３の端子４４及びフレキシブルプリント配線板４６の端子４７を用いて所望の位置の薄膜８３に定電圧を印加するか、または定電流を流して点灯させ、この薄膜８３自体の発光特性を測定する。このような動作を個別点灯領域３３内の全ての薄膜８３について行うことにより、個別点灯領域３３における薄膜８３の膜厚分布、薄膜８３の発光特性のばらつきとインク８１の吐出量との相関等が得られる。
なお、端子４４、４６の一方をピンプローブ等の直接接触させる端子に置き換えて測定しても、同様の結果を得ることができる。
【００３６】
また、全面点灯領域３４、３５における薄膜８３の膜厚及び特性とインク８１の吐出量との相関を得たい場合、陽極端子５２と陰極端子５４との間に定電圧を印加し、これら全面点灯領域３４、３５内の全ての薄膜８３を点灯させ、これらの薄膜８３それぞれの発光を測定し、発光特性のばらつきを調べる。これにより、全面点灯領域３４、３５における薄膜８３の発光特性のばらつきとインク８１の吐出量との相関が得られる。
【００３７】
以上説明したように、本実施形態の工程評価用基板３１によれば、基板３２上に、個別点灯領域３３と全面点灯領域３４、３５とを設け、個別点灯領域３３に端子４４、４７を並列接続するとともに、全面点灯領域３４、３５に陽極端子５２及び陰極端子５４を並列接続したので、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
また、１つの基板を用いて個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うので、個別点灯領域と全面点灯領域が同一のプロセス履歴を有するものとなり、したがって、プロセス履歴の影響を受けることなく個別点灯の評価及び全面点灯の評価を正確に行うことができる。
【００３８】
また、１画素の単位で電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）を行うことができる。その結果、１画素の単位で膜厚あるいはインクの吐出量等の相関を確認することができる。
また、個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５における配線構造を簡単化することができるので、個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５のレイアウトを簡単化することができる。
また、画素毎に配線を引き出しているので、画素毎の電流−電圧特性（ＩＶ特性）を得ることができる。また、画素毎の輝度を測定することで、１つの画素の電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）を行うことができる。
【００３９】
「第２の実施形態」
図６は、本発明の第２の実施形態の工程評価用基板９１を示す平面図であり、本実施形態の工程評価用基板９１が第１の実施形態の工程評価用基板３１と異なる点は、個別点灯領域３３とフレキシブルプリント配線板４６との間の全面点灯領域３５を配線を結線しないダミー領域９２とし、この個別点灯領域３３からの配線を配線４５のみとしてフレキシブルプリント配線板４６のそれぞれの端子４７に並列接続し、さらに、全面点灯領域３４のみを陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続した点であり、これ以外の点については第１の実施形態の工程評価用基板３１と全く同様である。
【００４０】
本実施形態の工程評価用基板９１においても、第１の実施形態の工程評価用基板３１と同様の作用、効果を奏することができる。
また、個別点灯領域３３からの配線を配線４５のみとし、全面点灯領域３５を配線を結線しないダミー領域９２とし、さらに、全面点灯領域３４のみを陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続したので、個別点灯領域３３の配線と全面点灯領域３４の配線とが交差する虞が無くなり、したがって、独立して駆動させた場合においても、個別点灯領域３３の配線と全面点灯領域３４の配線とが絶縁破壊により短絡したり、あるいは静電気による破壊により短絡する虞がなくなり、その結果、安定した点灯及び測定を行うことができる。
【符号の説明】
【００４１】
１…有機ＥＬ表示装置、２…素子基板、３…画素領域、４…実表示領域、９…画素部、３１…工程評価用基板、３２…基板、３３…個別点灯領域、３４、３５…全面点灯領域、４１…被塗布領域、４４…（第１の）端子、４７…（第１の）端子、５２…陽極端子（第２の端子）、５４…陰極端子（第２の端子）、６６…液滴吐出ヘッド、８１…インク、８２…塗膜、８３…薄膜、９１…工程評価用基板。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、自発光型の平面表示型電気光学装置として、有機薄膜により発光層（電気光学層）等を構成した多層構造の有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence：ＥＬ）装置が開発され、これまでにも様々な提案がなされている（例えば、特許文献１等参照）。
この有機ＥＬ装置には、トップエミッション型と、ボトムエミッション型の２種類のものがあり、薄型、軽量、フレキシブル等の優れた特徴を有することから、ディスプレイパネル、電子ペーパー等、様々な分野への応用が進められている。
【０００３】
この有機ＥＬ装置を作製する方法としては、例えば、インクジェット法が挙げられる（例えば、特許文献２参照）。
インクジェット法を用いて有機ＥＬ装置を作製するには、基板上に設けられた発光領域となるバンク内の被塗布領域に、例えば、有機半導体発光材料またはカラーフィルタ材料を含む液滴を吐出して充填し、この充填した液滴に加熱処理、減圧処理のいずれか一方または双方を施して液滴に含まれる溶媒を除去する。これにより、被塗布領域に発光層またはカラーフィルタ層となる薄膜が形成される。
有機半導体発光材料としては、例えば、赤、緑、青から選択され電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生する発光材料が用いられ、また、カラーフィルタ材料としては、例えば、赤、緑、青から選択された着色材料が用いられる。
【０００４】
この有機ＥＬ装置では、インクジェット法によるインクの液滴の吐出量、この吐出された液滴に加熱処理、減圧処理のいずれか一方または双方を施して得られた画素の厚みや発光特性等を、複数の画素をまとめて駆動させることで評価している。また、１画素の個別点灯の評価と、画素部全体の全面点灯の評価とは、それぞれ別個のテスト基板を用いて評価している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−８５４８８号公報
【特許文献２】特許第３３２８２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、従来の有機ＥＬ装置では、複数の画素をまとめて駆動させることで特性を評価しているので、１画素毎の特性がばらつくと、画素部全体の電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）がばらついてしまい、測定精度が低下するという問題点があった。
また、１画素の個別点灯の評価と、画素部全体の全面点灯の評価とを、それぞれ別個のテスト基板を用いて評価しているので、インクジェットプロセスにおける吐出条件等が、個別点灯の評価に用いたテスト基板と、全面点灯の評価に用いたテスト基板とで異なる可能性がある。この場合、個別点灯の評価と全面点灯の評価とで条件等が異なるために、得られた特性の結果についても、これらの条件の違い等を考慮して評価する必要があり、特性評価の簡便性に欠けるという問題点があった。
さらに、個別点灯の評価と全面点灯の評価それぞれに対して個別にテスト基板を作製する必要があり、テスト基板を作製するための余分な工数及び製造コストが掛かるという問題点もあった。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、個別点灯の評価と、全面点灯の評価とを、１つの基板を用いて評価することが可能であり、しかも、１画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がなく、さらに、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することが可能な有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために、本発明は以下の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板を採用した。
すなわち、本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、基板上に、インクジェット法により複数個の画素領域をマトリックス状に形成して画素部とする際に用いられる有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板であって、基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、前記個別点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極が形成され、前記全面点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、個別点灯領域に、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極を形成し、全面点灯領域に、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極を形成したので、インクジェットプロセスにおける吐出条件等が個別点灯と全面点灯とで同一となり、個別点灯と全面点灯とで特性の結果が異なる虞が無くなる。したがって、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
また、１つの基板を用いて個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うので、個別点灯領域と全面点灯領域が同一のプロセス履歴を有するものとなり、したがって、プロセス履歴の影響を受けることなく個別点灯の評価及び全面点灯の評価を正確に行うことができ、これらの評価の信頼性を高めることができ、画素毎の特性がばらついた場合においても、測定精度が低下する虞がない。
また、テスト基板を作製するための工数及び製造コストを低減することができる。
【００１０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、前記全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、これらの全面点灯領域を前記個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設け、前記個別点灯領域を第１の端子に接続するとともに、２つの前記全面点灯領域を第２の端子に並列接続してなることを特徴とする。
【００１１】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、これらの全面点灯領域を個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設けたので、個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設けられた２つの全面点灯領域により全面点灯のインクジェットプロセスにおける吐出条件等の経時変化を評価することができる。したがって、１つの基板を用いて、個別点灯の評価と、全面点灯の経時評価とを行うことができる。
【００１２】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板は、前記全面点灯領域を前記個別点灯領域に隣接して設け、前記個別点灯領域を第１の端子に、前記全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続してなることを特徴とする。
【００１３】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板では、全面点灯領域を個別点灯領域に隣接して設け、個別点灯領域を第１の端子に、全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続したので、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
したがって、１つの基板を用いて、個別点灯の評価と全面点灯の評価とを簡便に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の画素領域を示す平面構成図である。
【図２】本発明の第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の配線構造を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施形態の工程評価用基板を示す平面図である。
【図４】インクジェット法を用いた液滴吐出装置を示す斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施形態の工程評価用基板を用いた評価方法を示す過程図である。
【図６】本発明の第２の実施形態の工程評価用基板を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）装置の工程評価用基板を実施するための形態について説明する。
【００１６】
「第１の実施形態」
図１は、本実施形態の工程評価用基板が適用される有機ＥＬ表示装置を示す平面図、図２は、この有機ＥＬ表示装置の配線構造を示す図であり、この有機ＥＬ表示装置１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置である。
【００１７】
この有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、平面視略矩形状の素子基板２の中央部分に、複数の画素領域３がマトリクス状に配置されて実表示領域４が形成され、この素子基板２上の実表示領域４の外側には、この実表示領域４を囲むように信号線駆動回路５及び一対の走査線駆動回路６が設けられ、これら信号線駆動回路５及び走査線駆動回路６を含む領域がダミー領域７とされ、この素子基板２上のダミー領域７の外側には、陰極用配線８が設けられ、この実表示領域４及びダミー領域７により画素部９が構成されている。
そして、素子基板２の端部には、陰極用配線８等を外部と接続するための配線基板１０が設けられている。
【００１８】
この画素領域３の配列は、図１に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列されている。すなわち、この画素領域３の配列は、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の画素領域３が、他方向（Ｘ軸方向）に所定の間隔をおいて平行に配列されたストライプ型となっている。
この画素領域３におけるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の色は、画素領域３の発光層に発光材料を、または、画素領域３のエレクトロルミネッセンスを発生する発光層上にカラーフィルタを設けることにより可能である。例えば、発光材料としては、電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の有機半導体発光材料が挙げられ、また、エレクトロルミネッセンスを発生する発光層上に設けられるカラーフィルタ材料としては、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の着色材料が挙げられる。
【００１９】
この有機ＥＬ表示装置１の配線構造は、図２に示すように、複数（図示では５本）の走査線１１と、これらの走査線１１に直交して延びる複数（図示では４本）の信号線１２及び電源線１３とが設けられており、走査線１１及び信号線１２に囲まれた領域が画素領域３に対応している。
これらの画素領域３それぞれには、画素電極となる陽極層２１と、陰極層２２と、これら陽極層２１及び陰極層２２により挟まれた発光層２３とにより有機ＥＬ素子が構成されている。
また、これらの画素領域３それぞれには、陽極層２１をスイッチング制御するためのスイッチング用ＴＦＴ２４、２５と保持容量２６とが設けられている。
【００２０】
図３は、この有機ＥＬ表示装置１の製造工程の評価に用いられる工程評価用基板３１であり、素子基板２上に、インクジェットにより液滴を吐出することにより複数個の画素領域３をマトリックス状に形成する際の、液滴及びそれにより形成される薄膜の形状及び特性の評価を行うための基板であり、例えば、インクジェットによる液滴の吐出量の調整及び確認、液滴を乾燥して薄膜とした場合の薄膜と液滴の吐出量との相関、液滴の吐出量と薄膜の特性との相関等を評価・確認する場合に用いられる基板である。
【００２１】
この工程評価用基板３１は、矩形板状の基板３２の解像度が一律な発光領域の長手方向の中心線上に、この基板３２の長手方向（Ｙ軸方向）に沿って延在する個別点灯領域３３が設けられ、この個別点灯領域３３の両側それぞれに、全面点灯領域３４、３５が設けられている。
【００２２】
この個別点灯領域３３は、バンクにより区画された複数個の被塗布領域４１がマトリックス状に配置されたもので、これらの被塗布領域４１の配列は、図３に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列（図３では１９個）され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で複数回（図３では２回）繰り返されるように配列（図３では計６列）されている。すなわち、これらの被塗布領域４１の配列は、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の被塗布領域４１が、他方向（Ｘ軸方向）に所定の間隔をおいて平行に配列されたストライプ型となっている。
【００２３】
この個別点灯領域３３では、個々の画素毎の発光特性を評価するためのもので、複数個の被塗布領域４１それぞれの上端部が配線４２を介して基板３２の長手方向の一方の側面に取り付けられたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）４３のそれぞれの（第１の）端子４４に並列接続され、それぞれの下端部が配線４５を介して基板３２の長手方向の他方の側面に取り付けられたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）４６のそれぞれの（第１の）端子４７に並列接続されている。
【００２４】
また、全面点灯領域３４、３５は、個別点灯領域３３と同様、バンクにより区画された複数個の被塗布領域４１がマトリックス状に配置されたもので、これらの被塗布領域４１の配列は、個別点灯領域３３と同様、図３に示すＹ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列（図３では１９個）され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列（図３では計６列）されている。
【００２５】
これら全面点灯領域３４、３５では、一方向（Ｙ軸方向）に直線状に配列された同一色の被塗布領域４１それぞれが、配線５１を介して基板３２の長手方向の一方の端部に設けられた陽極端子（第２の端子）５２に並列接続されるとともに、配線５３を介して基板３２の長手方向の他方の端部に設けられた陰極端子（第２の端子）５４に並列接続されている。
例えば、Ｒ（赤）では、Ｙ軸方向に配列された１９個の被塗布領域４１それぞれが配線５１、５３により並列接続されている。Ｇ（緑）及びＢ（青）も同様にＹ軸方向に配列された１９個の被塗布領域４１それぞれが配線５１、５３により並列接続されている。そして、配線５１は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）共通の配線になっている。
【００２６】
次に、この工程評価用基板３１を用いて、インクジェット法による画素領域３の製造工程を評価する方法について説明する。
ここでは、まず、画素領域３の製造に用いられるインクジェット法を用いた液滴吐出装置について、図４に基づき説明する。
この液滴吐出装置６１は、インクジェット法により素子基板２上の所定領域に液滴を吐出して複数の画素領域３を形成する装置であり、装置架台６２と、ワークステージ６３と、ステージ移動装置６４と、キャリッジ６５と、液滴吐出ヘッド６６と、キャリッジ移動装置６７と、チューブ６８と、第１〜第３タンク６９〜７１と、制御装置７２と、を備えている。
【００２７】
装置架台６２は、ワークステージ６３及びステージ移動装置６４の支持台である。ワークステージ６３は、装置架台６２上においてステージ移動装置６４により主走査方向であるＸ軸方向に移動可能に設置されており、上流側の搬送装置（図示略）から搬送される素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）を真空吸着機構によりＸＹ平面上に保持する。
ステージ移動装置６４は、リニアガイド及びボールネジ等の直動機構を備えており、制御装置７２から出力されるワークステージ６３の移動先のＸ座標を示すステージ位置制御信号に基づいて、ワークステージ６３をＸ軸方向に移動させる。
【００２８】
キャリッジ６５は、液滴吐出ヘッド６６を保持しており、キャリッジ移動装置６７により副走査方向であるＹ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に設けられている。
液滴吐出ヘッド６６は、複数のノズル（図示略）を備えており、制御装置７２から出力される描画データ信号や駆動信号に基づいて液滴を吐出する。
この液滴吐出ヘッド６６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各液滴に対応した数だけヘッド（図示略）が設けられており、それぞれキャリッジ６５を介してチューブ６８と接続されている。
そして、Ｒ（赤）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第１タンク６９からＲ（赤）のインク（液体）が供給され、Ｇ（緑）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第２タンク７０からＧ（緑）のインク（液体）が供給され、Ｂ（青）に対応するヘッドには、チューブ６８を介して第３タンク７１からＢ（青）のインク（液体）が供給される。
【００２９】
キャリッジ移動装置６７は、装置架台６２をＹ軸方向に沿って跨ぐように設けられた橋梁構造のものであり、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に沿ってリニアガイド及びボールネジ等の直動機構を備え、制御装置７２から出力されるキャリッジ６５の移動先のＹ座標及びＺ座標を示すキャリッジ位置制御信号に基づいてキャリッジ６５をＹ軸方向及びＺ軸方向に移動させる。
【００３０】
チューブ６８は、第１〜第３タンク６９〜７１からキャリッジ６５にＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各インクを供給するための供給用チューブである。
第１タンク６９は、Ｒ（赤）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＲ（赤）に対応するヘッドにＲ（赤）のインクを供給する。また、第２タンク７０は、Ｇ（緑）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＧ（緑）に対応するヘッドにＧ（緑）のインクを供給する。また、第３タンク７１は、Ｂ（青）のインクを貯留すると共にチューブ６８を介して液滴吐出ヘッド６６のＢ（青）に対応するヘッドにＢ（青）のインクを供給する。
【００３１】
制御装置７２は、ワークステージ６３の移動による素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）の位置決め動作と、キャリッジ６５の移動による液滴吐出ヘッド６６の位置決め動作と、液滴吐出ヘッド６６による素子基板２（あるいは工程評価用基板３１）上の所定位置にインクを吐出する液滴吐出動作と、を制御する装置である。この制御装置７２では、ステージ移動装置６４にステージ位置制御信号を出力し、キャリッジ移動装置６７にキャリッジ位置制御信号を出力し、液滴吐出ヘッド６６に描画データ及び駆動信号を出力する。
【００３２】
次に、上記の工程評価用基板３１を用いて画素領域３の製造工程を評価する方法について、図３〜図５に基づき説明する。
ここでは、液滴吐出ヘッド６６から吐出する液滴として、電界の印加によりエレクトロルミネッセンスを発生するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々の有機半導体発光材料を含むインクを用いる。
【００３３】
ここでは、ワークステージ６２上に工程評価用基板３１を載置し、この工程評価用基板３１の上面と液滴吐出ヘッド６６とを対向させ、図５（ａ）に示すように、工程評価用基板３１上の個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５それぞれの被塗布領域４１に、上述した液滴吐出装置６１を用いてインク８１を吐出する。
このインク８１は、被塗布領域４１内全体に広がり、塗膜８２となる。
【００３４】
次いで、この塗膜８２を乾燥させる。
これにより、図５（ｂ）に示すように、基板３１上のそれぞれの被塗布領域４１に薄膜８３が形成された工程評価用のテスト基板８４が得られる。
このようにして、基板３１上の個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５それぞれの被塗布領域４１に薄膜８３が形成されることで、Ｙ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）各々が同一色となるように配列され、Ｘ軸方向ではＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）がこの順で繰り返されるように配列された工程評価用のテスト基板８４が得られる。
【００３５】
次いで、このテスト基板８４の評価を行う。
例えば、個別点灯領域３３における薄膜８３の膜厚及び特性とインク８１の吐出量との相関を得たい場合、フレキシブルプリント配線板４３の端子４４及びフレキシブルプリント配線板４６の端子４７を用いて所望の位置の薄膜８３に定電圧を印加するか、または定電流を流して点灯させ、この薄膜８３自体の発光特性を測定する。このような動作を個別点灯領域３３内の全ての薄膜８３について行うことにより、個別点灯領域３３における薄膜８３の膜厚分布、薄膜８３の発光特性のばらつきとインク８１の吐出量との相関等が得られる。
なお、端子４４、４６の一方をピンプローブ等の直接接触させる端子に置き換えて測定しても、同様の結果を得ることができる。
【００３６】
また、全面点灯領域３４、３５における薄膜８３の膜厚及び特性とインク８１の吐出量との相関を得たい場合、陽極端子５２と陰極端子５４との間に定電圧を印加し、これら全面点灯領域３４、３５内の全ての薄膜８３を点灯させ、これらの薄膜８３それぞれの発光を測定し、発光特性のばらつきを調べる。これにより、全面点灯領域３４、３５における薄膜８３の発光特性のばらつきとインク８１の吐出量との相関が得られる。
【００３７】
以上説明したように、本実施形態の工程評価用基板３１によれば、基板３２上に、個別点灯領域３３と全面点灯領域３４、３５とを設け、個別点灯領域３３に端子４４、４７を並列接続するとともに、全面点灯領域３４、３５に陽極端子５２及び陰極端子５４を並列接続したので、１つの基板を用いて同一の条件の下で個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うことができる。
また、１つの基板を用いて個別点灯の評価と全面点灯の評価とを行うので、個別点灯領域と全面点灯領域が同一のプロセス履歴を有するものとなり、したがって、プロセス履歴の影響を受けることなく個別点灯の評価及び全面点灯の評価を正確に行うことができる。
【００３８】
また、１画素の単位で電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）を行うことができる。その結果、１画素の単位で膜厚あるいはインクの吐出量等の相関を確認することができる。
また、個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５における配線構造を簡単化することができるので、個別点灯領域３３及び全面点灯領域３４、３５のレイアウトを簡単化することができる。
また、画素毎に配線を引き出しているので、画素毎の電流−電圧特性（ＩＶ特性）を得ることができる。また、画素毎の輝度を測定することで、１つの画素の電流−電圧−輝度評価（ＩＶＬ評価）を行うことができる。
【００３９】
「第２の実施形態」
図６は、本発明の第２の実施形態の工程評価用基板９１を示す平面図であり、本実施形態の工程評価用基板９１が第１の実施形態の工程評価用基板３１と異なる点は、個別点灯領域３３とフレキシブルプリント配線板４６との間の全面点灯領域３５を配線を結線しないダミー領域９２とし、この個別点灯領域３３からの配線を配線４５のみとしてフレキシブルプリント配線板４６のそれぞれの端子４７に並列接続し、さらに、全面点灯領域３４のみを陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続した点であり、これ以外の点については第１の実施形態の工程評価用基板３１と全く同様である。
【００４０】
本実施形態の工程評価用基板９１においても、第１の実施形態の工程評価用基板３１と同様の作用、効果を奏することができる。
また、個別点灯領域３３からの配線を配線４５のみとし、全面点灯領域３５を配線を結線しないダミー領域９２とし、さらに、全面点灯領域３４のみを陽極端子５２及び陰極端子５４に並列接続したので、個別点灯領域３３の配線と全面点灯領域３４の配線とが交差する虞が無くなり、したがって、独立して駆動させた場合においても、個別点灯領域３３の配線と全面点灯領域３４の配線とが絶縁破壊により短絡したり、あるいは静電気による破壊により短絡する虞がなくなり、その結果、安定した点灯及び測定を行うことができる。
【符号の説明】
【００４１】
１…有機ＥＬ表示装置、２…素子基板、３…画素領域、４…実表示領域、９…画素部、３１…工程評価用基板、３２…基板、３３…個別点灯領域、３４、３５…全面点灯領域、４１…被塗布領域、４４…（第１の）端子、４７…（第１の）端子、５２…陽極端子（第２の端子）、５４…陰極端子（第２の端子）、６６…液滴吐出ヘッド、８１…インク、８２…塗膜、８３…薄膜、９１…工程評価用基板。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、インクジェット法により複数個の画素領域をマトリックス状に形成して画素部とする際に用いられる有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板であって、
基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、
前記個別点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極が形成され、
前記全面点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【請求項２】
前記全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、
これらの全面点灯領域を前記個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設け、
前記個別点灯領域を第１の端子に接続するとともに、２つの前記全面点灯領域を第２の端子に並列接続してなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【請求項３】
前記全面点灯領域を前記個別点灯領域に隣接して設け、
前記個別点灯領域を第１の端子に、前記全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続してなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【請求項１】
基板上に、インクジェット法により複数個の画素領域をマトリックス状に形成して画素部とする際に用いられる有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板であって、
基板上に、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した個別点灯領域と、複数個の被塗布領域をマトリックス状に配置した全面点灯領域とを備え、
前記個別点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して独立して電流を供給することが可能な複数の画素電極が形成され、
前記全面点灯領域には、各被塗布領域に配置される有機発光層に対して一括して電流を供給することが可能な単一の若しくは互いに配線にて接続された複数の画素電極が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【請求項２】
前記全面点灯領域を２つの全面点灯領域により構成し、
これらの全面点灯領域を前記個別点灯領域の両側それぞれに隣接して設け、
前記個別点灯領域を第１の端子に接続するとともに、２つの前記全面点灯領域を第２の端子に並列接続してなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【請求項３】
前記全面点灯領域を前記個別点灯領域に隣接して設け、
前記個別点灯領域を第１の端子に、前記全面点灯領域を第２の端子に、それぞれ接続してなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の工程評価用基板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１１−１０３２４４（Ｐ２０１１−１０３２４４Ａ）
【公開日】平成２３年５月２６日（２０１１．５．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２５８１５３（Ｐ２００９−２５８１５３）
【出願日】平成２１年１１月１１日（２００９．１１．１１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月２６日（２０１１．５．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１１月１１日（２００９．１１．１１）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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