有機発光表示装置
【課題】有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】コントラストを向上できるように、基板と、基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、有機発光素子上に形成される密封部材と、密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、半透過膜上に半透過膜を覆うように形成されて半透過膜を保護する保護膜と、有機発光素子と密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、半透過膜は、保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【解決手段】コントラストを向上できるように、基板と、基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、有機発光素子上に形成される密封部材と、密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、半透過膜上に半透過膜を覆うように形成されて半透過膜を保護する保護膜と、有機発光素子と密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、半透過膜は、保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光表示装置に係り、より詳細には、コントラストと耐衝撃性を向上させる有機発光表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来にディスプレイ装置は、携帯可能な薄型の平板表示装置に代替される勢いである。平板ディスプレイ装置のうちでも、有機または無機発光表示装置は、自発光型ディスプレイ装置であり、視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく、応答速度が速いという長所を持っていて、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層の形成物質が有機物で構成される有機発光表示装置は、無機発光表示装置に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性が優秀で多色化が可能であるという長所を持っている。
【０００３】
一方、平板表示装置は携帯が可能であり、野外で使用可能に軽量かつ薄型に製造する。この時、野外で画像を見る時に陽光が反射されてコントラスト及び視認性が低下するという問題がある。特に、有機発光表示装置では金属反射膜でこのような反射が激しく、さらに大きい問題になる。
【０００４】
また、外部から加えられる衝撃により有機発光表示装置の外面が損傷しやすいという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、コントラスト及び耐衝撃性が向上した有機発光表示装置を提供できる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基板と、前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、前記有機発光素子上に形成される密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置を開示する。
【０００７】
本発明において、前記透過型黒色層は、黒鉛またはダイアモンドライクカーボン（Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ：ＤＬＣ）を含む。
【０００８】
本発明において、前記保護層は、熱硬化性樹脂で形成され、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂を含む。
【０００９】
本発明において、前記半透過膜は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つ。
【００１０】
本発明において、前記半透過膜は、屈折率が１．５ないし５値を持つ。
【００１１】
本発明において、前記半透過膜は、金属コロイドで形成される。
【００１２】
本発明において、前記半透過膜は、銀、金またはチタンを含む。
【００１３】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、前記有機発光素子上に形成される密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置を開示する。
【００１４】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、前記第１電極上に配置されて、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、前記有機発光素子を密封する密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記開口部に露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、前記絶縁層は黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置を開示する。
【００１５】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、前記第１電極上に配置され、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、前記有機発光素子を密封する密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて、前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されて、コントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記開口部で露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、前記絶縁層は、黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置を開示する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に関する有機発光表示装置は、コントラストを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付された図面らに図示された本発明に関する実施形態を参照して本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。有機発光表示装置は、能動駆動型（ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ ｔｙｐｅ：ＡＭ）と受動駆動型（ｐａｓｓｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ：ＰＭ）とに大別される。図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置として能動駆動型を図示しているが、本発明はこれに限定されず、受動駆動型にも適用できる。
【００１９】
図１から分かるように、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層２１及びブラックマトリックス層２２を備える。
【００２０】
基板１０は、ＳｉＯ２を主成分とする透明なガラス材質からなりうる。基板１０は、必ずしもこれに限定されるものではなく、透明なプラスチック材で形成することもある。画像が基板１０方向に具現される背面発光型の場合に、基板１０は透明な材質で形成せねばならない。しかし、図１に図示されたように、画像が密封部材５０方向に具現される前面発光型の場合に、基板１０は、必ずしも透明な材質で形成する必要はない。
【００２１】
基板１０の上面には、基板１０の平滑性及び不純元素の侵入を遮断するためにバッファ層１１を形成できる。バッファ層１１は、ＳｉＯ２及び／またはＳｉＮｘなどで形成できる。
【００２２】
基板１０の上面に薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）が形成されている。このＴＦＴは、各画素別に少なくとも一つずつ形成されるが、有機発光素子３０に電気的に連結される。
【００２３】
具体的に、バッファ層１１上に所定パターンの半導体層１２が形成される。半導体層１２は、アモルファスシリコンまたはポリシリコンのような無機半導体や有機半導体で形成され、ソース領域、ドレイン領域及びチャンネル領域を備える。
【００２４】
半導体層１２の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどで形成されるゲート絶縁膜１３が形成され、ゲート絶縁膜１３の上部の所定領域にはゲート電極１４が形成される。ゲート電極１４は、ＴＦＴオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。
【００２５】
ゲート電極１４の上部には層間絶縁膜１５が形成され、コンタクトホールを通じてソース電極１６及びドレイン電極１７がそれぞれ半導体層１２のソース及びドレイン領域に接するように形成される。このように形成されたＴＦＴは、パッシベーション膜１８で覆われて保護される。パッシベーション膜１８は、無機絶縁膜及び／または有機絶縁膜を使用できるが、無機絶縁膜としては、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、ＢＳＴ、ＰＺＴなどが含まれ、有機絶縁膜としては、一般汎用高分子ＰＭＭＡ、ＰＳ、フェノールグループを持つ高分子誘導体、アクリル系高分子、イミド系高分子、アリールエーテル系高分子、アミド系高分子、フッ素系高分子、ｐ−キシレン系高分子、ビニルアルコール系高分子及びこれらのブレンドなどが含まれる。パッシベーション膜１８は、無機絶縁膜と有機絶縁膜との複合積層体でも形成できる。
【００２６】
パッシベーション膜１８の上部には、有機発光素子のアノード電極となる第１電極３１が形成され、これを覆うように絶縁物で画素定義膜３６が形成される。この画素定義膜３６に所定の開口を形成した後、この開口で限定された領域内に有機発光素子の有機発光層３２を形成する。そして、全体画素をいずれも覆うように有機発光素子のカソード電極となる第２電極３３が形成される。もちろん、第１電極３１と第２電極３３との極性は互いに逆に変わってもよい。
【００２７】
有機発光素子は、電流のフローによって光を発光して画像を表示するものであり、ＴＦＴのドレイン電極１７にコンタクトホールを通じて電気的に連結された第１電極３１、有機発光層３２及び第２電極３３を備える。
【００２８】
第１電極３１は、フォトリソグラフィ法により所定のパターンで形成できる。第１電極３１のパターンは、受動駆動型の場合には互いに所定間隔離れたストライプ状のラインで形成され、能動駆動型の場合には、画素に対応する形態で形成される。第１電極３１の上部に第２電極３３が配置されるが、外部端子（図示せず）に連結されてカソード電極として作用できる。第２電極３３は、受動駆動型の場合には、第１電極３１のパターンに直交するストライプ形状であり、能動駆動型の場合には画像が具現されるアクティブ領域全体にかけて形成されうる。第１電極３１の極性と第２電極３３の極性とは互いに逆になっても構わない。基板１０の方向に画像が具現される背面発光型の場合、第１電極３１は透明電極となり、第２電極３３は反射電極となりうる。第１電極３１は、仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで形成され、第２電極３３は、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａなどで形成されうる。
【００２９】
図１に示したように、第２電極３３の方向に画像を具現する前面発光型の場合、第１電極３１は反射電極で備えられ、第２電極３３は透明電極で備えられる。この時、第１電極３１となる反射電極は、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などを形成してなりうる。そして、第２電極４３となる透明電極は、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物を蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明導電物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。
【００３０】
両面発光型の場合、第１電極３１と第２電極３３いずれも透明電極で形成できる。
【００３１】
第１電極３１と第２電極３３との間に介在された有機発光層３２は、第１電極３１と第２電極３３との電気的駆動により発光する。有機発光層３２は、低分子または高分子有機物を使用できる。有機発光層３２が低分子有機物で形成される場合、有機発光層３２を中心に第１電極３１の方向にホール輸送層及びホール注入層などが積層され、第２電極３３方向に電子輸送層及び電子注入層などが積層される。それ以外にも、必要に応じて多様な層が積層されうる。使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ：ｃｏｐｐｅｒ ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用可能である。
【００３２】
一方、高分子有機物で形成された高分子有機層の場合には、有機発光層３２を中心に第１電極３１の方向にホール輸送層（Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ）のみ含まれうる。前記高分子ホール輸送層は、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）や、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）などを使用して、インクジェットプリンティングやスピンコーティングの方法により第１電極３１の上部に形成され、高分子有機発光層３２は、ＰＰＶ、Ｓｏｌｕｂｌｅ ＰＰＶ’ｓ、シアノ−ＰＰＶ、ポリフルオレンなどを使用でき、インクジェットプリンティングやスピンコーティングまたはレーザーを利用した熱転写方式などの通常の方法でカラーパターンを形成できる。
【００３３】
有機発光素子３０上に有機発光素子３０を封止する密封部材５０が形成される。密封部材５０は、外部の水分や酸素などから有機発光素子３０を保護するために形成する。図１に示したような前面発光型構造では、密封部材５０は透明な材質からなる。このためにガラス基板、プラスチック基板または有機物と無機物との複数の重畳した構造でもありうる。
【００３４】
密封部材５０の両面のうち、外部に向かう一面の上部に、外光の一部は透過して一部は反射する半透過膜５１を形成する。半透過膜５１は、屈折率が１．５ないし５の値を持つように形成できる。半透過膜５１は、金属コロイド形態で形成できるが、このような金属としては、銀、金またはチタンなどを利用できる。半透過膜５１は、スピンコーティング、ディップコーティングまたはバーコーティングで膜を塗布した後、熱処理工程を経て容易に製造できる。半透過膜５１は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つように形成できる。半透過膜５１の厚さを調節するか、金属コロイド形成時に工程条件を調節して、このような透光率値を持つことができる。半透過膜５１は、１０ｎｍないし１０μｍの厚さを持つように形成できる。半透過膜５１の厚さが厚すぎれば、透光率が低くなって有機発光素子３０で発生する光の効率が低下するので、半透過膜５１は、１０μｍ以下に形成する。半透過膜５１の厚さが薄すぎれば、透光率が過度に高くなり、外光が半透過膜５１を通過して、結果的に外光の反射量が増加する。
【００３５】
半透過膜５１上には保護膜５２が形成される。保護膜５２は、半透過膜５１より屈折率の小さな値を持つように形成する。保護膜５２は、耐衝撃性の強い熱硬化性樹脂で形成できるが、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂で形成できる。したがって、保護膜５２は透明な性質を持つ。具体的にスピンコーティング、ディップコーティングまたはバーコーティングなどで膜を塗布した後、熱処理またはＵＶを利用した硬化工程を経て保護膜５２を形成できる。保護膜５２は、１０ｎｍないし３０μｍの厚さを持つように形成できる。耐衝撃性を確保するために保護膜５２は、１０ｎｍ以上の厚さを持つように形成する。しかし、厚すぎれば、有機発光表示装置の全体的な厚さが増大するので、保護膜５２の厚さを３０μｍ以下になるように形成する。
【００３６】
保護膜５２は、耐衝撃性の強い熱硬化性樹脂で形成されて、外部の衝撃により薄い半透過膜５１が損傷することを防止する。
【００３７】
また、密封部材５０上に半透過膜５１と保護膜５２とが重畳した構造で形成され、半透過膜５１の屈折率が保護膜５２の屈折率より大きい構造であるため、外光の界面反射を防止できる。したがって、半透過膜５１と保護膜５２との組み合わせで従来の円偏光板機能を行える。特に、半透過膜５１の透光率値が４０ないし８０％であり、保護膜５２は透明な物質であるため、これらを組み合わせて従来の円偏光板の透光率と類似して合せることが容易である。
【００３８】
密封部材５０と有機発光素子３０との間に透過型黒色層２１が形成される。図１を参照すれば、密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう面に透過型黒色層２１が形成される。透過型黒色層２１は、黒鉛またはＤＬＣを含むことができる。透過型黒色層２１は、スパッタリングまたはＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を利用し形成し、劣化を防止するために２５０℃以下で形成する。
【００３９】
透過型黒色層２１は、コントラストを改善する役割を行う。その役割を行うために透過型黒色層２１は、適切な透光率値を持つ必要がある。透光率が低いほどコントラストの改善には有利であるが、有機発光素子３０で発生した光の取出率が低くなるので、適切な値を持つ必要がある。特に前述した半透過膜５１及び保護膜５２の透光率も考慮せねばならない。透過型黒色層２１は、３５ないし８０％の透光率を持つように形成する。透過型黒色層２１の透光率が３５ないし８０％であるため、透過型黒色層２１と半透過膜５１及び保護膜５２を同時に使用しても透光率値を４０ないし６０％に調節できる。したがって、半透過膜５１、保護膜５２及び透過型黒色層２１を使用しても、従来の円偏光板の透光率値である４０％内外の値を維持するか、またはそれより透光率値が向上した範囲で外光の反射防止及びコントラスト向上効果を持つことができる。黒鉛またはＤＬＣで形成される透過型黒色層２１が所望の透光率を持つように水素を含めることができる。水素含有量を５ないし３５％を含めて所望の透光率を持つ透過型黒色層２１を形成できる。
【００４０】
また、透過型黒色層２１の厚さを調節して所望の透光率値を得ることができる。透光率値を高めるためには透過型黒色層２１を厚く形成し、透光率値を低めるためには透過型黒色層２１を薄く形成する。透過型黒色層２１の厚さを５ないし７０ｎｍで形成して所望の透光率値を持つ透過型黒色層２１を形成できる。
【００４１】
前述した半透過膜５１及び保護膜５２と有機発光表示装置の使用条件を考慮して、適切な厚さで透過型黒色層２１を形成できる。
【００４２】
透過型黒色層２１により有機発光表示装置のコントラストがさらに向上する。
【００４３】
透過型黒色層２１上にブラックマトリックス層２２が形成できる。ブラックマトリックス層２２は、有機発光素子３０の非発光領域に配置されるようにパターニングされる。有機発光素子３０の発光領域は、有機発光層３２が配置された領域であり、非発光領域はそれ以外の領域である。ブラックマトリックス層２２は、外光を吸収できるように黒度の高い黒鉛、クロムなどを利用して形成できるが、外光を吸収する物質ならば多様な材料を利用して形成できる。
【００４４】
本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置は、密封部材５０上に半透過膜５１と、半透過膜５１より屈折率が低くて耐衝撃性の強い保護膜５２とが形成される。このような構造を通じて外光の反射を減少させうる。特に、基板１０の界面での外光の反射を減少する。また、有機発光表示装置の外面を外部の衝撃から保護することができる。
【００４５】
また、有機発光素子３０と密封部材５０との間に透過型黒色層２１を形成し、透光率を調節してコントラストを向上させることができる。非発光領域にブラックマトリックス層２２を形成してコントラスト向上効果を増大できる。
【００４６】
図２ないし図４は、図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。以下では、本発明の一実施形態と相異なる点を中心に説明する。同じ参照符号は同じ部材を表す。
【００４７】
図２を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層４１及びブラックマトリックス層４２を備える。透過型黒色層４１は、密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう一面に形成される。ブラックマトリックス層４２は、第２電極３３上に形成される。その他の詳細な構造と効果は前述したことと同一であるので省略する。
【００４８】
図３を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層６１及びブラックマトリックス層６２を備える。密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう一面にブラックマトリックス層６２及び透過型黒色層６１が順に形成される。すなわち、ブラックマトリックス層６２が密封部材５０と透過型黒色層６１との間に配置される。
【００４９】
図４を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層７１及びブラックマトリックス層７２を備える。有機発光素子３０の第２電極３３上に透過型黒色層７１が形成される。透過型黒色層７１上にパターニングされたブラックマトリックス層７２が形成される。
【００５０】
図５は、本発明の他の実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。以下では、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。前述した実施形態と同じ参照符号は同じ部材を表す。
【００５１】
有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、画素定義膜４６、透過型黒色層２１及びブラックマトリックス層２２を備える。
【００５２】
パッシベーション膜１８の上部には、有機発光素子のアノード電極となる第１電極３１が形成され、これを覆うように絶縁物として画素定義膜４６が形成される。画素定義膜４６に所定の開口を形成した後、開口で限定された領域内に有機発光素子の有機発光層３２を形成する。そして、全体画素をいずれも覆うように有機発光素子のカソード電極となる第２電極３３が形成される。もちろん、第１電極と第２電極との極性は互いに逆に変わっても構わない。この時、画素定義膜４６は絶縁層であり、黒度の高い色相を持つように形成できる。画素定義膜４６が黒度の高い色相を持つように形成される場合、外光の反射を最小化してコントラスト向上効果が増大する。
【００５３】
また、本実施形態でも図２ないし図４のような変形例が適用されるということは言うまでもない。
【００５４】
図面に図示された実施形態を参考して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、ディスプレイ装置に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。
【図２】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図３】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図４】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０ 基板
１１ バッファ層
１２ 半導体層
１３ ゲート絶縁膜
１４ ゲート電極
１５ 層間絶縁膜
１６ ソース電極
１７ ドレイン電極
１８ パッシベーション膜
３０ 有機発光素子
３１ 第１電極
３２ 有機発光層
３３ 第２電極
３６ 画素定義膜
５０ 密封部材
５１ 半透過膜
５２ 保護膜
２１、４１、６１、７１ 透過型黒色層
２２、４２、６２、７２ ブラックマトリックス層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光表示装置に係り、より詳細には、コントラストと耐衝撃性を向上させる有機発光表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来にディスプレイ装置は、携帯可能な薄型の平板表示装置に代替される勢いである。平板ディスプレイ装置のうちでも、有機または無機発光表示装置は、自発光型ディスプレイ装置であり、視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく、応答速度が速いという長所を持っていて、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層の形成物質が有機物で構成される有機発光表示装置は、無機発光表示装置に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性が優秀で多色化が可能であるという長所を持っている。
【０００３】
一方、平板表示装置は携帯が可能であり、野外で使用可能に軽量かつ薄型に製造する。この時、野外で画像を見る時に陽光が反射されてコントラスト及び視認性が低下するという問題がある。特に、有機発光表示装置では金属反射膜でこのような反射が激しく、さらに大きい問題になる。
【０００４】
また、外部から加えられる衝撃により有機発光表示装置の外面が損傷しやすいという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、コントラスト及び耐衝撃性が向上した有機発光表示装置を提供できる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、基板と、前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、前記有機発光素子上に形成される密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置を開示する。
【０００７】
本発明において、前記透過型黒色層は、黒鉛またはダイアモンドライクカーボン（Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ：ＤＬＣ）を含む。
【０００８】
本発明において、前記保護層は、熱硬化性樹脂で形成され、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂を含む。
【０００９】
本発明において、前記半透過膜は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つ。
【００１０】
本発明において、前記半透過膜は、屈折率が１．５ないし５値を持つ。
【００１１】
本発明において、前記半透過膜は、金属コロイドで形成される。
【００１２】
本発明において、前記半透過膜は、銀、金またはチタンを含む。
【００１３】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、前記有機発光素子上に形成される密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置を開示する。
【００１４】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、前記第１電極上に配置されて、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、前記有機発光素子を密封する密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記開口部に露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、前記絶縁層は黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置を開示する。
【００１５】
本発明の他の側面によれば、基板と、前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、前記第１電極上に配置され、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、前記有機発光素子を密封する密封部材と、前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて、前記半透過膜を保護する保護膜と、前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されて、コントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、前記開口部で露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、前記絶縁層は、黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置を開示する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に関する有機発光表示装置は、コントラストを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付された図面らに図示された本発明に関する実施形態を参照して本発明の構成及び作用を詳細に説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。有機発光表示装置は、能動駆動型（ａｃｔｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ ｔｙｐｅ：ＡＭ）と受動駆動型（ｐａｓｓｉｖｅ ｍａｔｒｉｘ：ＰＭ）とに大別される。図１は、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置として能動駆動型を図示しているが、本発明はこれに限定されず、受動駆動型にも適用できる。
【００１９】
図１から分かるように、本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層２１及びブラックマトリックス層２２を備える。
【００２０】
基板１０は、ＳｉＯ２を主成分とする透明なガラス材質からなりうる。基板１０は、必ずしもこれに限定されるものではなく、透明なプラスチック材で形成することもある。画像が基板１０方向に具現される背面発光型の場合に、基板１０は透明な材質で形成せねばならない。しかし、図１に図示されたように、画像が密封部材５０方向に具現される前面発光型の場合に、基板１０は、必ずしも透明な材質で形成する必要はない。
【００２１】
基板１０の上面には、基板１０の平滑性及び不純元素の侵入を遮断するためにバッファ層１１を形成できる。バッファ層１１は、ＳｉＯ２及び／またはＳｉＮｘなどで形成できる。
【００２２】
基板１０の上面に薄膜トランジスタ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）が形成されている。このＴＦＴは、各画素別に少なくとも一つずつ形成されるが、有機発光素子３０に電気的に連結される。
【００２３】
具体的に、バッファ層１１上に所定パターンの半導体層１２が形成される。半導体層１２は、アモルファスシリコンまたはポリシリコンのような無機半導体や有機半導体で形成され、ソース領域、ドレイン領域及びチャンネル領域を備える。
【００２４】
半導体層１２の上部には、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどで形成されるゲート絶縁膜１３が形成され、ゲート絶縁膜１３の上部の所定領域にはゲート電極１４が形成される。ゲート電極１４は、ＴＦＴオン／オフ信号を印加するゲートライン（図示せず）と連結されている。
【００２５】
ゲート電極１４の上部には層間絶縁膜１５が形成され、コンタクトホールを通じてソース電極１６及びドレイン電極１７がそれぞれ半導体層１２のソース及びドレイン領域に接するように形成される。このように形成されたＴＦＴは、パッシベーション膜１８で覆われて保護される。パッシベーション膜１８は、無機絶縁膜及び／または有機絶縁膜を使用できるが、無機絶縁膜としては、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、ＺｒＯ２、ＢＳＴ、ＰＺＴなどが含まれ、有機絶縁膜としては、一般汎用高分子ＰＭＭＡ、ＰＳ、フェノールグループを持つ高分子誘導体、アクリル系高分子、イミド系高分子、アリールエーテル系高分子、アミド系高分子、フッ素系高分子、ｐ−キシレン系高分子、ビニルアルコール系高分子及びこれらのブレンドなどが含まれる。パッシベーション膜１８は、無機絶縁膜と有機絶縁膜との複合積層体でも形成できる。
【００２６】
パッシベーション膜１８の上部には、有機発光素子のアノード電極となる第１電極３１が形成され、これを覆うように絶縁物で画素定義膜３６が形成される。この画素定義膜３６に所定の開口を形成した後、この開口で限定された領域内に有機発光素子の有機発光層３２を形成する。そして、全体画素をいずれも覆うように有機発光素子のカソード電極となる第２電極３３が形成される。もちろん、第１電極３１と第２電極３３との極性は互いに逆に変わってもよい。
【００２７】
有機発光素子は、電流のフローによって光を発光して画像を表示するものであり、ＴＦＴのドレイン電極１７にコンタクトホールを通じて電気的に連結された第１電極３１、有機発光層３２及び第２電極３３を備える。
【００２８】
第１電極３１は、フォトリソグラフィ法により所定のパターンで形成できる。第１電極３１のパターンは、受動駆動型の場合には互いに所定間隔離れたストライプ状のラインで形成され、能動駆動型の場合には、画素に対応する形態で形成される。第１電極３１の上部に第２電極３３が配置されるが、外部端子（図示せず）に連結されてカソード電極として作用できる。第２電極３３は、受動駆動型の場合には、第１電極３１のパターンに直交するストライプ形状であり、能動駆動型の場合には画像が具現されるアクティブ領域全体にかけて形成されうる。第１電極３１の極性と第２電極３３の極性とは互いに逆になっても構わない。基板１０の方向に画像が具現される背面発光型の場合、第１電極３１は透明電極となり、第２電極３３は反射電極となりうる。第１電極３１は、仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで形成され、第２電極３３は、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａなどで形成されうる。
【００２９】
図１に示したように、第２電極３３の方向に画像を具現する前面発光型の場合、第１電極３１は反射電極で備えられ、第２電極３３は透明電極で備えられる。この時、第１電極３１となる反射電極は、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物で反射膜を形成した後、その上に仕事関数の高いＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などを形成してなりうる。そして、第２電極４３となる透明電極は、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、Ｌｉ、Ｃａ及びこれらの化合物を蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などの透明導電物質で補助電極層やバス電極ラインを形成できる。
【００３０】
両面発光型の場合、第１電極３１と第２電極３３いずれも透明電極で形成できる。
【００３１】
第１電極３１と第２電極３３との間に介在された有機発光層３２は、第１電極３１と第２電極３３との電気的駆動により発光する。有機発光層３２は、低分子または高分子有機物を使用できる。有機発光層３２が低分子有機物で形成される場合、有機発光層３２を中心に第１電極３１の方向にホール輸送層及びホール注入層などが積層され、第２電極３３方向に電子輸送層及び電子注入層などが積層される。それ以外にも、必要に応じて多様な層が積層されうる。使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ：ｃｏｐｐｅｒ ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用可能である。
【００３２】
一方、高分子有機物で形成された高分子有機層の場合には、有機発光層３２を中心に第１電極３１の方向にホール輸送層（Ｈｏｌｅ Ｔｒａｎｓｐｏｒｔ Ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ）のみ含まれうる。前記高分子ホール輸送層は、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）や、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）などを使用して、インクジェットプリンティングやスピンコーティングの方法により第１電極３１の上部に形成され、高分子有機発光層３２は、ＰＰＶ、Ｓｏｌｕｂｌｅ ＰＰＶ’ｓ、シアノ−ＰＰＶ、ポリフルオレンなどを使用でき、インクジェットプリンティングやスピンコーティングまたはレーザーを利用した熱転写方式などの通常の方法でカラーパターンを形成できる。
【００３３】
有機発光素子３０上に有機発光素子３０を封止する密封部材５０が形成される。密封部材５０は、外部の水分や酸素などから有機発光素子３０を保護するために形成する。図１に示したような前面発光型構造では、密封部材５０は透明な材質からなる。このためにガラス基板、プラスチック基板または有機物と無機物との複数の重畳した構造でもありうる。
【００３４】
密封部材５０の両面のうち、外部に向かう一面の上部に、外光の一部は透過して一部は反射する半透過膜５１を形成する。半透過膜５１は、屈折率が１．５ないし５の値を持つように形成できる。半透過膜５１は、金属コロイド形態で形成できるが、このような金属としては、銀、金またはチタンなどを利用できる。半透過膜５１は、スピンコーティング、ディップコーティングまたはバーコーティングで膜を塗布した後、熱処理工程を経て容易に製造できる。半透過膜５１は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つように形成できる。半透過膜５１の厚さを調節するか、金属コロイド形成時に工程条件を調節して、このような透光率値を持つことができる。半透過膜５１は、１０ｎｍないし１０μｍの厚さを持つように形成できる。半透過膜５１の厚さが厚すぎれば、透光率が低くなって有機発光素子３０で発生する光の効率が低下するので、半透過膜５１は、１０μｍ以下に形成する。半透過膜５１の厚さが薄すぎれば、透光率が過度に高くなり、外光が半透過膜５１を通過して、結果的に外光の反射量が増加する。
【００３５】
半透過膜５１上には保護膜５２が形成される。保護膜５２は、半透過膜５１より屈折率の小さな値を持つように形成する。保護膜５２は、耐衝撃性の強い熱硬化性樹脂で形成できるが、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂で形成できる。したがって、保護膜５２は透明な性質を持つ。具体的にスピンコーティング、ディップコーティングまたはバーコーティングなどで膜を塗布した後、熱処理またはＵＶを利用した硬化工程を経て保護膜５２を形成できる。保護膜５２は、１０ｎｍないし３０μｍの厚さを持つように形成できる。耐衝撃性を確保するために保護膜５２は、１０ｎｍ以上の厚さを持つように形成する。しかし、厚すぎれば、有機発光表示装置の全体的な厚さが増大するので、保護膜５２の厚さを３０μｍ以下になるように形成する。
【００３６】
保護膜５２は、耐衝撃性の強い熱硬化性樹脂で形成されて、外部の衝撃により薄い半透過膜５１が損傷することを防止する。
【００３７】
また、密封部材５０上に半透過膜５１と保護膜５２とが重畳した構造で形成され、半透過膜５１の屈折率が保護膜５２の屈折率より大きい構造であるため、外光の界面反射を防止できる。したがって、半透過膜５１と保護膜５２との組み合わせで従来の円偏光板機能を行える。特に、半透過膜５１の透光率値が４０ないし８０％であり、保護膜５２は透明な物質であるため、これらを組み合わせて従来の円偏光板の透光率と類似して合せることが容易である。
【００３８】
密封部材５０と有機発光素子３０との間に透過型黒色層２１が形成される。図１を参照すれば、密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう面に透過型黒色層２１が形成される。透過型黒色層２１は、黒鉛またはＤＬＣを含むことができる。透過型黒色層２１は、スパッタリングまたはＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を利用し形成し、劣化を防止するために２５０℃以下で形成する。
【００３９】
透過型黒色層２１は、コントラストを改善する役割を行う。その役割を行うために透過型黒色層２１は、適切な透光率値を持つ必要がある。透光率が低いほどコントラストの改善には有利であるが、有機発光素子３０で発生した光の取出率が低くなるので、適切な値を持つ必要がある。特に前述した半透過膜５１及び保護膜５２の透光率も考慮せねばならない。透過型黒色層２１は、３５ないし８０％の透光率を持つように形成する。透過型黒色層２１の透光率が３５ないし８０％であるため、透過型黒色層２１と半透過膜５１及び保護膜５２を同時に使用しても透光率値を４０ないし６０％に調節できる。したがって、半透過膜５１、保護膜５２及び透過型黒色層２１を使用しても、従来の円偏光板の透光率値である４０％内外の値を維持するか、またはそれより透光率値が向上した範囲で外光の反射防止及びコントラスト向上効果を持つことができる。黒鉛またはＤＬＣで形成される透過型黒色層２１が所望の透光率を持つように水素を含めることができる。水素含有量を５ないし３５％を含めて所望の透光率を持つ透過型黒色層２１を形成できる。
【００４０】
また、透過型黒色層２１の厚さを調節して所望の透光率値を得ることができる。透光率値を高めるためには透過型黒色層２１を厚く形成し、透光率値を低めるためには透過型黒色層２１を薄く形成する。透過型黒色層２１の厚さを５ないし７０ｎｍで形成して所望の透光率値を持つ透過型黒色層２１を形成できる。
【００４１】
前述した半透過膜５１及び保護膜５２と有機発光表示装置の使用条件を考慮して、適切な厚さで透過型黒色層２１を形成できる。
【００４２】
透過型黒色層２１により有機発光表示装置のコントラストがさらに向上する。
【００４３】
透過型黒色層２１上にブラックマトリックス層２２が形成できる。ブラックマトリックス層２２は、有機発光素子３０の非発光領域に配置されるようにパターニングされる。有機発光素子３０の発光領域は、有機発光層３２が配置された領域であり、非発光領域はそれ以外の領域である。ブラックマトリックス層２２は、外光を吸収できるように黒度の高い黒鉛、クロムなどを利用して形成できるが、外光を吸収する物質ならば多様な材料を利用して形成できる。
【００４４】
本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置は、密封部材５０上に半透過膜５１と、半透過膜５１より屈折率が低くて耐衝撃性の強い保護膜５２とが形成される。このような構造を通じて外光の反射を減少させうる。特に、基板１０の界面での外光の反射を減少する。また、有機発光表示装置の外面を外部の衝撃から保護することができる。
【００４５】
また、有機発光素子３０と密封部材５０との間に透過型黒色層２１を形成し、透光率を調節してコントラストを向上させることができる。非発光領域にブラックマトリックス層２２を形成してコントラスト向上効果を増大できる。
【００４６】
図２ないし図４は、図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。以下では、本発明の一実施形態と相異なる点を中心に説明する。同じ参照符号は同じ部材を表す。
【００４７】
図２を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層４１及びブラックマトリックス層４２を備える。透過型黒色層４１は、密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう一面に形成される。ブラックマトリックス層４２は、第２電極３３上に形成される。その他の詳細な構造と効果は前述したことと同一であるので省略する。
【００４８】
図３を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層６１及びブラックマトリックス層６２を備える。密封部材５０の両面のうち、有機発光素子３０に向かう一面にブラックマトリックス層６２及び透過型黒色層６１が順に形成される。すなわち、ブラックマトリックス層６２が密封部材５０と透過型黒色層６１との間に配置される。
【００４９】
図４を参照すれば、有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、透過型黒色層７１及びブラックマトリックス層７２を備える。有機発光素子３０の第２電極３３上に透過型黒色層７１が形成される。透過型黒色層７１上にパターニングされたブラックマトリックス層７２が形成される。
【００５０】
図５は、本発明の他の実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。以下では、前述した実施形態と異なる点を中心に説明する。前述した実施形態と同じ参照符号は同じ部材を表す。
【００５１】
有機発光表示装置は、基板１０、有機発光素子３０、密封部材５０、半透過膜５１、保護膜５２、画素定義膜４６、透過型黒色層２１及びブラックマトリックス層２２を備える。
【００５２】
パッシベーション膜１８の上部には、有機発光素子のアノード電極となる第１電極３１が形成され、これを覆うように絶縁物として画素定義膜４６が形成される。画素定義膜４６に所定の開口を形成した後、開口で限定された領域内に有機発光素子の有機発光層３２を形成する。そして、全体画素をいずれも覆うように有機発光素子のカソード電極となる第２電極３３が形成される。もちろん、第１電極と第２電極との極性は互いに逆に変わっても構わない。この時、画素定義膜４６は絶縁層であり、黒度の高い色相を持つように形成できる。画素定義膜４６が黒度の高い色相を持つように形成される場合、外光の反射を最小化してコントラスト向上効果が増大する。
【００５３】
また、本実施形態でも図２ないし図４のような変形例が適用されるということは言うまでもない。
【００５４】
図面に図示された実施形態を参考して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明は、ディスプレイ装置に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の一実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。
【図２】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図３】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図４】図１に図示された有機発光表示装置の他の変形例を図示した概略的な断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に関する有機発光表示装置を図示した概略的な断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０ 基板
１１ バッファ層
１２ 半導体層
１３ ゲート絶縁膜
１４ ゲート電極
１５ 層間絶縁膜
１６ ソース電極
１７ ドレイン電極
１８ パッシベーション膜
３０ 有機発光素子
３１ 第１電極
３２ 有機発光層
３３ 第２電極
３６ 画素定義膜
５０ 密封部材
５１ 半透過膜
５２ 保護膜
２１、４１、６１、７１ 透過型黒色層
２２、４２、６２、７２ ブラックマトリックス層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、
前記有機発光素子上に形成される密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【請求項２】
基板と、
前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、
前記有機発光素子上に形成される密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、
前記第１電極上に配置されて、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、
前記有機発光素子を密封する密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記開口部に露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、
前記絶縁層は黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置。
【請求項４】
基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、
前記第１電極上に配置され、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、
前記有機発光素子を密封する密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて、前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されて、コントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記開口部で露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、
前記絶縁層は、黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置。
【請求項５】
前記透過型黒色層は、黒鉛またはダイアモンドライクカーボンを含む請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記保護層は、熱硬化性樹脂で形成される請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
前記保護層は、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂を含む請求項６に記載の有機発光表示装置。
【請求項８】
前記半透過膜は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つ請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項９】
前記半透過膜は、屈折率が１．５ないし５値を持つ請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１０】
前記半透過膜は、金属コロイドで形成される請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１１】
前記半透過膜は、銀、金またはチタンを含む請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１】
基板と、
前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、
前記有機発光素子上に形成される密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【請求項２】
基板と、
前記基板に配置されて画像を具現する有機発光素子と、
前記有機発光素子上に形成される密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持つ有機発光表示装置。
【請求項３】
基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、
前記第１電極上に配置されて、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、
前記有機発光素子を密封する密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されてコントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記開口部に露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、
前記絶縁層は黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置。
【請求項４】
基板と、
前記基板上に形成され、第１電極、第２電極及び前記第１電極と前記第２電極との間に有機発光層を備える有機発光素子と、
前記第１電極上に配置され、前記第１電極が露出されるように開口部が形成された絶縁膜と、
前記有機発光素子を密封する密封部材と、
前記密封部材の両面のうち、外部に向かう一面の上部に形成されて、外光の一部は透過させ、一部は反射する半透過膜と、
前記半透過膜上に前記半透過膜を覆うように形成されて、前記半透過膜を保護する保護膜と、
前記有機発光素子の非発光領域に対応するように形成されるブラックマトリックス層と、
前記有機発光素子と前記密封部材との間に形成されて、コントラストを改善する透過型黒色層と、を備え、
前記開口部で露出された第１電極上に前記有機発光層及び前記第２電極が順に形成され、
前記半透過膜は、前記保護膜の屈折率より大きい屈折率値を持ち、
前記絶縁層は、黒度の高い色相を持つ有機発光表示装置。
【請求項５】
前記透過型黒色層は、黒鉛またはダイアモンドライクカーボンを含む請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記保護層は、熱硬化性樹脂で形成される請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
前記保護層は、ウレタンアクリレートまたはエポキシ樹脂を含む請求項６に記載の有機発光表示装置。
【請求項８】
前記半透過膜は、４０ないし８０パーセントの透光率値を持つ請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項９】
前記半透過膜は、屈折率が１．５ないし５値を持つ請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１０】
前記半透過膜は、金属コロイドで形成される請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【請求項１１】
前記半透過膜は、銀、金またはチタンを含む請求項１ないし４のうちいずれか１項に記載の有機発光表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００８−１４７１６１（Ｐ２００８−１４７１６１Ａ）
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１７１０８４（Ｐ２００７−１７１０８４）
【出願日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（５９０００２８１７）三星エスディアイ株式会社 (2,784)
【Ｆターム（参考）】
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