注入装置およびそれに関する方法
患者の皮下にアクセスするアクセスポートを開示する。このアクセスポートは、リザーバ内に生じる圧力に応じたセプタムの変形を防止する構造とした少なくとも１個の構成素子を有する。さらに、このアクセスポートは、１）少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量）でまたは２）リザーバ内に生じた少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２ （３５ｐｓｉ）の圧力に適応する構造とする。注入装置は、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流す構造として開示する。複数の層を有する注入チューブを開示する。アクセスポートまたは注入装置を通過する液体を操作しまた流す方法を開示する。自動注入器のためのアクセスポートを特定する方法を開示する。少なくとも１個のゲル状領域を有するセプタムを開示する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件出願は、２００５年１１月１５日付けで出願された米国特許出願第６０／７３７，４６６号の優先権を主張するものであり、参考として本明細書に付記する。さらに本件出願は、２００５年４月２７日付けで出願された米国特許出願第６０／６７５，３０９号の優先権を主張するものであり、参考としてを本明細書に付記する。
【０００２】
広範囲にわたる種々の医療処置には、患者への液体の注入が必要である。例えば、血管撮像技術には、患者へ注入する造影剤の使用が必要である。特に、コンピュータトモグラフィ（ＣＴ）は、造影剤を利用する撮像技術であり、非侵襲的な評価および血管系の評価（例えばＣＴ血管造影検査またはＣＴＡ）のために使用する。マルチスライスＣＴ（ＭＤＣＴ）は、ＣＴＡのために利用する一つの特定形式のＣＴである。ＣＴによる血管系の適切な撮像のために、静脈内造影剤注入規定を、対象とする解剖学的領域に対して調整し選択する。
【０００３】
特に、従来は、いわゆる「自動注入」システムを、造影剤を高圧で末梢から静脈（ＩＶ）ラインに注入するために使用する。たとえば、この種の自動注入器または注入システムは、メドラット（Medrad）社（ドイツにあるシェーリング社の子会社）から市販され、また登録商標「ＳＴＥＬＬＡＮＴ」注入システムとして市販されている。ＣＴの手順は、たいてい造影剤の所望の流量により定められるため、この種の自動注入器システムは、一般に、所望の流速（フローレートまたは流量率）を選択することにより調節可能である。従って、この種の自動注入器システムは、選択された流速（流量率）を保持するよう（自動注入器システムの性能の最大圧力内で）圧力を高めることができる。したがって、明らかなように、ＩＶライン内の塞栓物または所望の注入率の圧力に耐えられない構造のＩＶラインを使用することにより、自動注入器にＩＶラインの適切な圧力限界を上回る圧力を発生させるおそれがある。静注の後、造影剤のボーラスは、心臓の右側から、肺を通り、心臓の左側へ、そして、残りの循環系を通り、患者の血管系内を流れる。造影剤のボーラスを患者に注入した後、いくらかの造影剤は心臓の右側に留まる。このように、造影強調の全体的な効果は、多数の因子に依存する。例えば、患者の特性（例えば、身体サイズ、心拍出量および循環量を含む循環、腎機能）と、造影の特性（例えば量、注入率、ヨウ素濃度、その他）と、そしてＣＴ技術（例えば投与のアクセスおよびルート、スキャン遅延、スキャン速度および注入パターン）が、造影強調の全体的な程度にそれぞれ影響する。
【背景技術】
【０００４】
背景技術として、従来は、比較的長いスキャンタイムには、比較的長い造影剤の送出時間が伴った。しかし、スキャンタイムは短くなり続けているため、比較的速く送出できる造影剤が必要とされる。更に説明すると、冠状動脈ＣＴＡでは、選択されたスキャンタイム（例えば１５秒のスキャンタイム）の期間中、そして選択された解剖学的領域（例えば、左心室と流出路を含む２０ｃｍの軸方向のスキャン距離）内に、かなり十分な量の造影剤を十分な高率で投与し適切な濃度で行き渡らせ保持しなければならない。また、造影の密度値は、多次元ポストプロセシングに使用されるセグメンテーション法を十分に容易にすることが好ましい。冠状動脈ＣＴＡに使用する代表的な造影剤は、約３００ｍｇ／ｍｌから約３５０ｍｇ／ｍｌ濃度のヨウ素である。また、造影剤が放射性物質である場合、イメージングプロセスに必要な造影剤の総量を減らすことは有益になりうる。
【０００５】
造影剤注入に必要な圧力は、流速（流量率）と、造影剤の粘性と、チューブの径および長さのような注入チューブの構成と、血管内塞栓または血流の制限（例えば血管のよじれ、屈曲、すり合わせ、圧迫）のいずれかの多くの因子に依存する。上述のように、ＣＴまたはＭＲＩ検査に必要な流速（流量率）を保持するために、自動注入器は高圧を生成する。注入圧が血管アクセス装置の許容を上回った場合、破壊が起こるおそれがある。他の問題は、スキャンと造影剤との間のタイミングエラーのために生じる。より新しい血管撮像装置の高速スキャン能力を最大にするために、造影剤の注入を始めた後、所定の時間分スキャンプロセスの開始を遅延させることができる。スキャン開始が早すぎる場合、造影剤が心臓に達するのと同時であり、イメージを処理した後、動脈は本来より小さく見えるおそれがある。一方、スキャン開始が遅すぎる場合、画像アーチファクトは心臓の静脈の希薄な造影になるおそれがある。造影剤は心臓の動脈を通り心臓の静脈中へ急速に循環するため、最適なスキャンの好機の時間帯は非常に短い。
【０００６】
診断上のまたは医学上の手順では、患者の血管系に液体を注入するために皮下の血管アクセスポートを有利に使用する。アクセスポータルまたはポートにより、外科的な手法を使用せずに、身体の内部の領域に薬物を繰り返し送出できる簡便な方法を提供する。ポートは、体内に埋め込み可能であり、薬物、注射液、血液製剤、造影剤または他の液体の注入を可能にする。更に、ポートは、患者から血液を吸引するために用いることもできる。このようなアクセスポートは、一般的に、一つ以上の液体キャビティまたはリザーバを内包するカニューレが貫通できないハウジングを有し、このような各液体キャビティに対してハウジングを通して連通するアクセス開孔を画定する。カニューレが貫入できるセプタムは、各々のアクセス開孔に隣接して配置し封止する。アウトレットステムは、アクセスポートに付随し埋め込まれたカテーテルを通して、患者体内における所定の位置に薬剤を投与するための１個以上の液体キャビティに連通する。アクセスポートおよびカテーテルを患者の皮下に埋め込んだ後、薬剤、血液などの液体を、患者の皮膚を貫通しセプタムを穿刺して液体キャビティ中に連通する例えばカニューレ（例えば、針）により、１個の液体キャビティを通して投与することができる構成とする。この薬剤は、カテーテルの末端を通って患者身体の静脈系への入口点へ向かう。さらに、皮下のアクセスポートを通して血液を吸引することができる。したがって、アクセスポートの使用により、針を用いることなく患者の血管系にアクセスすることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、従来のアクセスポートおよび付属する注入システムは、自動注入を実行するために適切でない。
【０００８】
特に、従来の血管アクセスポートとの組み合わせによる自動注入システムの使用は、理想より低い結果しか得ることができない。したがって、注入システムのための血管アクセスポートおよび自動注入を実行する構造とした注入関連装置が有利であることは、良く理解されるべきである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の態様は、アクセスポートを通して液体を流す方法に関する。特に、血管アクセスポートを提供し、このアクセスポートを通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる。
【００１０】
本発明の他の態様は、注入装置を通して液体を流す方法に関する。例えば、注入装置を提供し、この注入装置を通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる。
【００１１】
本発明の他の態様は、患者へ皮下のアクセスを提供するためのアクセスポートに関する。特に、アクセスポートは、セプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよびセプタムはリザーバを画定する。さらに、セプタムにはほぞ領域を設け、このアクセスポートのハウジングには、セプタムのほぞ領域の少なくとも一部を収容するため、ほぞ領域と相補形状の構造としたほぞ穴領域を形成する。随意に、ハウジングは、セプタムの側面周縁の少なくとも一部に近接するリング状部を設けることができる。
【００１２】
本発明の他の態様は、患者へ皮下のアクセスを提供するアクセスポートに関する。実施例では、アクセスポートはセプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを設け、このハウジングおよびセプタムはリザーバを画定する。さらに、ハウジングおよびセプタムは、少なくとも約１ｍｌ／秒のリザーバを通る流速に適応する。他の実施形態では、アクセスポートは、上述した通りハウジングおよびセプタムを有し、このハウジングおよびセプタムは少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）のリザーバ内に生じる圧力に適応する構造とする。
【００１３】
本発明の他の態様は、患者の皮下へアクセスする場合に使用する注入装置に関する。例えば、ある実施形態では、注入装置は、管腔を画定するチューブと、チューブ部分の管腔に連通するカニューレとを有する。また、カニューレは、アクセスポートのセプタムを通して挿入する構造とし、チューブ部分およびカニューレは少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる構造とする。随意に、カニューレは、アクセスポートのセプタムを穿刺する構造とすることができ、またチューブ部分およびカニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構造とすることができる。例えば、チューブ部分およびカニューレは、約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）の圧力に適応できる構造とする。
【００１４】
本発明の他の態様は、患者の血管システムにアクセスするために使用する注入チューブに関する。ある実施形態では、注入チューブは複数の層を有し、チューブは少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する構造とする。他の実施形態では、注入チューブは複数の層を有し、複数の層の少なくとも１層は、複数の層の少なくとも他の１層を越えて突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺するカニューレを形成する構造とする。他の実施形態では、患者の皮下へアクセスするために使用する注入装置は、管腔を画定するチューブ部分と、チューブ部分の管腔に連通するカニューレとを有し、カニューレはアクセスポートのセプタムを通して挿入させる構造とする。加えて、チューブ部分およびカニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構造とする。
【００１５】
本発明の他の態様は、自動注入に適するアクセスポートであることを識別する方法に関する。とくに、セプタムを有するアクセスポートを設ける。さらに、アクセスポートは、自動注入に適すると識別できるものとする。
【００１６】
本発明の他の態様は、患者に皮下のアクセスを提供するアクセスポートに関する。特に、アクセスポートは、セプタムを拘束する構造としたハウジングであって、前記セプタムは、ハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通する構造にした該ハウジングと、リザーバ内に生じた圧力によるセプタムの変形に抵抗する構造とした少なくとも１個の構造素子とを有する。
【００１７】
本発明の他の態様では、アクセスポートを動作させる方法は、リザーバ内に生じた圧力によりセプタムを拘束する構造としたハウジングを準備するステップであって、セプタムはハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレ（針、ヒューバー針、カニューレに関連するトロカール、またはこれらの組み合わせのいずれか）を挿通するための構造とした該ハウジング準備ステップと、ハウジングのリザーバ内の圧力を上昇させるステップとを有する。さらに、このような方法は、リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限するステップを有する。
【００１８】
さらに、本発明の態様は、ゲルまたは粘性の液体を有するセプタムに関する。例えば、ある実施形態では、患者の皮下へのアクセスを提供するためのアクセスポートを形成するようハウジング組み付けるセプタムは、上面および下面を有する本体と、通常この上面と下面との間に配置する少なくとも１個のゲル領域とを有する構成とする。他の実施形態は、患者の皮下へアクセスを提供するためのアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムを有し、このセプタムが、本体と、本体の少なくとも一部上に形成する層と、層と本体との間に少なくとも部分的に配置するゲル領域とを有する構成とする。
【００１９】
上述した注入装置および関する方法は、自動注入プロセスを実行するかまたは容易にするために有利に使用する。例えば、この方法および装置は、約１ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の範囲の流速で液体（例えば、造影剤）を注入するために使用する。
【００２０】
上述した実施形態のいずれの構造も、本発明に関する互いの組み合わせを使用する。加えて、本発明の他の構造および利点は、当業者により、以下の説明と、添付図面、および請求の範囲の理解により明らかになるであろう。
【００２１】
本発明の利点は、本発明による種々の実施形態（必ずしも寸法通りに描いていない）を示す、以下の詳細な説明と図面の理解から明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の一態様は、血管アクセスポートに関する。特に、ある実施例では、本発明は、少なくとも約１ｍｌ／秒の液体流速（流量率）を調節するための血管アクセスポートを作ることを意図する。さらに、本発明は、セプタムおよびアクセスポートのハウジングで画定されるリザーバ内に生じる少なくとも約１２．６ｋｇ／ｃｍ２ （１８０ｐｓｉ）の圧力に耐える血管アクセスポートを作ることを意図する。実施例では、アクセスポートは約５．６ｋｇ／ｃｍ２〜約１２．６ｋｇ／ｃｍ２（約８０ｐｓｉ〜約１８０ｐｓｉ）までの圧力の範囲内で動作するように構成する。このようなアクセスポートは、患者に液体を注入する（例えば、ＣＴまたはＭＲモニタリングのために患者に造影剤を注入する）場合の使用に有利である。
【００２３】
一般に、アクセスポートは、これらに限定されるものではないが、ヒューバー針と、外周に配置されたカニューレを有するトロカールまたはいずれかの他の適切なアクセス機構を含む、中空の細長素子（例えばカニューレまたは針）により繰り返し刺入または穿刺することのできるセプタムを拘束するハウジングを有する。本明細書で使用する”カニューレ”または”針”の用語は、当業界で既知であるか、または本明細書に記載するように、いかなる細長素子（例えば、カニューレ、針、外周に配置されたカニューレを有するトロカールなど）を含み、これらに限定されるものではない。このようなセプタムは、上述のアクセス機構を用いてセプタムを穿刺することより形成される通路を、適切な圧迫力の下で封止する材料（例えばシリコーン）を有する。したがって、セプタムは、アクセス機構を用いてセプタムを穿刺することにより形成される通路の閉止を容易にするように、少なくとも部分的に圧迫することができる。本発明は、アクセスポートのリザーバからの流速（流量率）が、ハウジングまたはセプタムを傷つけることなく、またはリザーバの構造的一体性を損なう（例えばセプタムがハウジングから分離する）ことなく、少なくとも約１ｍｌ／秒にすることができるようにするためのハウジングおよびセプタムを構成することを意図する。
【００２４】
一実施例では、アクセスポートは、合体してハウジングを画定するキャップおよびベースを有し、このハウジングにセプタムを位置決めしてリザーバを形成する。例えば、図１および２の各々は、ベース５６と、キャップ５４と、セプタム８０と、アウトレットステム７０を有するアクセスポート５０の分解斜視図および縦断面図である。図１および２に示すように、キャップ５４およびベース５６を、キャップ５４とベース５６との間にセプタム８０を拘束するよう構成する。一般に、キャップ５４およびベース５６は連係して、セプタム８０を拘束するハウジング６０を形成し、少なくとも部分的にリザーバ６６を画定する。さらに説明すると、キャップ５４は、セプタム８０の一部分が貫通できる開孔５５を有し、ベース５６は、少なくともセプタム８０の部分を受け入れるよう構成された窪み５７を有する。したがって、セプタム８０の一部分をベース５６の窪み５７内に配置し、キャップ５４の開孔５５をセプタム８０に配置することにより、連係してアクセスポート５０内に、アウトレットステム７０の管腔（ルーメン）に連通するリザーバ６６を画定する構成とする。他の実施例では、複数のリザーバを、ハウジングおよび少なくとも１個のセプタムにより連係して画定することもできるが、これらに限定されるものではない。例えば、複数のリザーバ（または１個のリザーバ）を有する、当業界で既知のいずれのアクセスポートも、本発明のいずれかの態様に含まれるが、これらに限定されるものではない。図１に示す通り、アウトレットステム７０の部分を、ベース５６内に形成される開孔５８内に位置決めし連結する。
【００２５】
アクセスポート５０はアウトレットステム７０を有することを図１は示すが、他の実施例のアクセスポート５０はアウトレットステム７０を設けないようにすることもできる。したがって、図２はアウトレットステム７０のないアクセスポート５０を示す。すなわち、本発明は、アクセスポート５０は随意にアウトレットステム７０を有することができるかまたは他の構成にできることを意図する。例えば、ある実施例では、アウトレットステム７０は必要に応じてベース５６の部分として形成することもできる。他の実施例では、カテーテルをアウトステム７０なしでアクセスポート５０に（例えば開孔５８に）動作可能に接続することができる。しかし、さらに他の実施例では、アクセスポート５０は単に少なくとも１個の、リザーバ６６と連通し、ハウジング６０に貫通して、必要に応じて液体を流すことができる構造の出口路（例えば開孔５８）を有するものとすることができる。図２に示す通り、セプタム８０の一部分はキャップ５４とベース５６との間に位置決めされ、リザーバ６６を危険にさらす程度まで損傷または変形させる（例えば破裂する）ことなく、リザーバ６６内に生じる選択された圧力の大きさに耐えるよう構成する。
【００２６】
例えば、図１および２に示す通り、キャップ５４は随意で、セプタム８０の端縁に隣接して形成する周方向リング状部３０を有する。このリング状部３０は、アクセスポート５０のリザーバ６６内に生じる圧力によるキャップ５４の変形を防止するよう構成する。図３に示す通り、キャップ５４の頂面図では、リング状部３０はほぼ円形をなす。さらに、リング状部３０はセプタム８０の周縁の形状に適合する形状とするかまたはセプタム８０の周縁とは異なる形状にすることもできる。さらに、リング状部３０のサイズを、キャップ５４の開孔５５に隣接するキャップ５４の領域に選択した剛性を与えるように、選択する。このような構成による、リザーバ６６内に生じる圧力によるキャップ５４の変形を防止することができる。例えば、図２に示す通り、横方向の厚さＴＬと、垂直方向の厚さＴＶまたはこの両方を、セプタム８０の周縁に隣接する（例えば開孔５５に隣接する）キャップ５４の領域に選択した剛性を与えるように選択する。実施例では、アクセスポート５０の全体的な高さＨ（図２）は、約１５．２４ｍｍ（約０．６００インチ）以下とする。
【００２７】
他の実施例では、リング状部３０は、ほぼ長方形、ほぼ三角形、ほぼ長円形、ほぼ多角形、または他の幾何学的形状とすることができるが、これらに限定するものではない。例えば、図４は、ほぼ三角形のリング状部３０の頂面図を示す。さらに、図５は、ほぼ矩形のリング状部３０を示す。
【００２８】
さらに説明すると、アクセスポート５０のハウジング６０は、生体適合性材料、例えばポリスルホン、チタンまたは他のいずれかの適切な生体適合性材料により構成する。キャップ５４およびベース５６を、ほぼ接合ラインに沿って互いに連結させ、固定するかまたは互いに付着させる。特に、実施例では、キャップ５４およびベース５６はチタンを有し、溶接、ろう付け、はんだで接合するか、または別の方法で互いに付着させる。このような構成により、キャップ５４とベース５６との間にセプタム８０を拘束するための適切な機械的強度を提供することができ。随意で、キャップ５４およびベース５６を、少なくとも１個の締め付け素子（例えば少なくとも１個のボルト、少なくとも１個のねじ、少なくとも１個のリベット、その他）、少なくとも１個の接着剤または同様の結合機構の組み合わせにより、互いに結合することができる。同様に、ある実施例において、アウトレットステム７０およびベース５６は各々チタンを有し、溶接または別の方法により接着もしくは互いに結合する。
【００２９】
さらに詳細に、図６は、患者６７内に埋め込んだアクセスポート５０を示す。ある実施例では、必要に応じて、患者６７内にアクセスポート５０を付着するために縫合糸を使用する。ハウジング６０を患者６７内に埋め込んだ後、セプタム８０の上面は、患者６７の表皮面７６の表面と同一平面上にするまたは整列させ、患者表皮の外側からリザーバ６６内への経皮通路を作るために繰り返し穿刺する。アウトレットステム７０は、リザーバ６６から、アウトレットステム７０を通って、患者６７内部へ突入する液体連通通路を作る。一般に、カテーテル７３を、リザーバ６６の液体の連通のためおよびリザーブ６６から所望の遠隔部位の患者６７の内部に液体を導入するために、アウトレットステム７０に連結する。実施例では、カテーテル７３を、アクセスポート５０から少なくとも部分的に患者の大静脈内に突入させる。このような構成により、患者の心臓の近位に造影剤を注入することができる。例えば造影剤が有害性（例えば放射性または別の傷害性）を有する場合、患者の大静脈へ直接注入することにより、選択された撮像手順の実行に必要な造影剤の総量を減らすことができる。
【００３０】
図６に示す通り、カニューレ９０をセプタム８０に挿通し、液体をリザーバ６６内へ注入する。例えば、液体をリザーバ６６内へ、リザーバ６６内に圧力（例えば正圧）を生じさせる流量で注入する。例えば、図６において”ＰＲ”と付記した正圧は、リザーバ６６内に生じて、リザーバ６６を部分的に画定するセプタム８０の部分に作用し、セプタム８０の部分に作用するこのような圧力ＰＲはセプタム８０に力を生じさせる。同様に、圧力ＰＲが作用するベース５６の表面にも力が生じる。一つの実施例では、キャップ５４はベース５６と連結して、セプタム８０を適切に配置する構造とし、セプタム８０に働く力に対してハウジング６０へセプタム８０を連結させる。したがって、セプタム８０と、キャップ５４およびベース５６は、圧力ＰＲにより生じる付随の力適応できる構造とする。一つの実施例では、アクセスポート５０は、リザーバ６６の少なくとも約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２ （約１８５ｐｓｉ）の圧力ＰＲに（損傷を受けることなく）適応できる構造とする。他の実施例では、アクセスポート５０は、リザーバ６６に約２．５９ｋｇ／ｃｍ２〜４．５５ｋｇ／ｃｍ２（約３７ｐｓｉ〜約６５ｐｓｉ）の圧力範囲に（損傷を受けることなく）適応できる構造とする。
【００３１】
さらに詳細には、自動（高圧）注入の間、液体の流れＦは、カニューレ９０を通って流れるように生じる。液体の流速すなわち、流量率（”Ｆ”で付記した矢印により図６に示す）は、少なくとも約１ｍｌ／秒とする。他の実施例では、液体流速Ｆは、約１ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の間とする。自動注入の間、カニューレ９０内に生じる圧力Ｐi は少なくとも約２．１ｋｇ／ｃｍ２ （約３０ｐｓｉ）である。したがって、カニューレ９０は、上述の圧力と、流速（流量率）またはこれら両方に関連する力に耐える構造とする。さらに詳細に説明すると、カニューレは注入装置（例えば安全ウイング付注入装置／ＳＷＩＳ）の一部をなすかまたはアクセスポートおよび自動注入システムを伴う使用のための構造とした他の注入装置の一部をなす。
【００３２】
特に、図７は、５ｍｌ／秒の率で液体を注入する間、アクセスポートと連通する注入装置（詳細は以下に述べる）を有する注入システム内の様々な場所で測定した圧力のグラフを示す。図７に示す通り、自動注入器のシリンジバレル内の圧力は、通常約１８．５５ｋｇ／ｃｍ２（約２６５ｐｓｉ）である。さらに、注入装置入口の圧力は、通常約１５．７５ｋｇ／ｃｍ２（約２２５ｐｓｉ）であり、アクセスポートのリザーバ内の圧力は、通常約２．８ｋｇ／ｃｍ２（約４０ｐｓｉ）である。したがって、注入装置を通した圧力降下は約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２（約１８５ｐｓｉ）になる。図７に示す通り、アクセスポートから突出するカテーテルの末端部の圧力は、通常０ｐｓｉである。例えば、液体粘性、チューブ内径（すなわち内腔断面のサイズ）、流れ経路の長さおよび流速（流量率）などの多くの要因が、注入システムを通して液体を流す間に注入システム内（例えば注入装置、アクセスポートなど）に生じる圧力（および圧力降下）に影響する。したがって、図１〜図３に示すアクセスポート５０の上記の内容から明らかなように、このようなアクセスポート５０は、選択された流速（流量率）およびアクセスポート５０のリザーバ６６内に生じる関連圧力ＰＲに適応する構造とする。
【００３３】
他の実施例では、セプタム、ハウジングまたはこの双方は、機械的にセプタムの少なくとも一部を固定または拘束する構造とする。例えば、実施例では、セプタムは、ハウジングに設けた相補的な連結形状部により嵌合または連結する構成とした少なくとも１個の連結形状部を有する。例えば、雄および雌形状部（以下のものに限定するものではないが、例えば、リブ、フランジ、相互連結形状部、ほぞ‐ほぞ穴形状部、突起‐溝形状部、Ｔ字状部‐溝孔構造、あり継ぎ構造、スナップ嵌合構造、タブ‐スロット、または当業界で既知の他の連結形状部）は、セプタムに設けた少なくとも１個の連結形状部とハウジングに設けた少なくとも１個結形状部と相補的な構造を有するが、これに限定されるものではない。本明細書に記載する「ほぞ」は、継ぎ手形成のためにほぞ穴に少なくとも部分的に挿入する突出部を意味する。本明細書に記載する「ほぞ穴」は、継ぎ手形成のために少なくとも部分的にほぞを収容する材料内に形成する窪み、穴、溝または溝孔を意味する。
【００３４】
通常、実施例では、セプタムは、ハウジングに含まれる相補的なほぞ穴領域に連結するための少なくとも１個のほぞ領域（すなわち少なくとも１個の連結形状部）を有する。したがって、ハウジングは、セプタムのほぞ領域の少なくとも一部を収容するための窪み（すなわち少なくとも１個の相補的な形状部）を有する。例えば、図８は、ほぞ領域２７０を有するセプタム１８０の実施例の断面図を示す。ほぞ領域２７０は部分的に、半径方向に距離が増加するにしたがって（すなわち、セプタム１８０の中心軸からの半径方向の距離に比例して、言い換えればキャップ１５４のリム１５９からベース１５６の側面１５７の方向に向かって）、高さ（すなわちセプタム１８０の下面１８３から測った高さ）が増加するセプタム１８０のテーパー面１８７を有する。したがって、図８に示す通り、（ほぞ領域２７０の半径方向に最内側の領域で測定した）セプタム１８０の高さＣＧＭＩＮは、（ほぞ領域２７０の半径方向に最外側の領域で測定した）セプタム１８０の高さＣＧＭＡＸより小さい。さらに、ほぞ領域２７０は、セプタム１８０の連続周縁形状部（すなわち環状形状部）をなすか、または１個以上の周方向に互いに分離した個別領域を有するが、これらに限定されるものではない。さらに、図８に示す通り、（キャップ１５４およびベース１５６を有する）ハウジング１６０は通常、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するための相補的なほぞ穴領域（すなわち環状に延在する窪み）を画定する。特に、相補的なほぞ穴領域は、ベース１５６の側面１５７、ベース１５６の下面の端縁２７３およびキャップ１５４のテーパー状面１７２により画定ことができる。このような構成により、選択された最大圧力がアクセスポート１５０のリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０のほぞ穴領域内のセプタム１８０のほぞ領域２７０の一部を固定、拘束または保持することができる。
【００３５】
他の実施例では、アクセスポートは、複数のテーパー状面を有するほぞ領域を有するセプタムを含む。例えば、図９は、テーパー面１８７、テーパー面１８９およびテーパー面１９１を含むほぞ領域２７０を有するセプタム１８０の縦断面図を示す。さらに、図９に示す通り、ハウジング１６０は通常、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するために、テーパー状の窪みによる相補的なほぞ穴領域を画定する。特に、相補的なほぞ穴領域を、ベース１５６の側面１５７、ベース１５６の下面の端縁２７３、キャップ１５４のテーパー面１７２、ベース１５６のテーパー面１９３およびキャップ１５４のテーパー面１９５により、ハウジング内に画定することができる。このような構造により、選択された最大圧力がアクセスポート１５０のリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０のテーパー状の窪み内にセプタム１８０のほぞ領域２７０の少なくともいくつかを固定、拘束または保持することができる。
【００３６】
要約すると、セプタムの一部は通常、ハウジング内に形成する相補的なほぞ穴領域に連結する少なくとも１個のほぞ領域を有する。他の実施例では、ハウジングの少なくとも一部は通常、セプタム内に形成する相補的なほぞ穴領域に連結するためのほぞを有する。上述した通り、ほぞ領域およびこれと相補的なほぞ穴領域は１個以上のテーパー状面を有する。他の実施例では、ほぞ領域およびこれと相補的なほぞ穴領域は、Ｔみぞまたは他の非テーパー形状を有するが、これに限定されるものではない。例えば、図１０は、ほぞ領域２７０を有するセプタム１８０を含むアクセスポート１５０の実施例の縦断面図を示す。さらに、相補的なほぞ穴領域を、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するためにハウジング１６０内に画定する。図１０に示す通り、ほぞ穴領域を、ベース１５６の環状拡張部または突部２０３により画定する。このような構造により、予想される最大圧力がリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０内のセプタム１８０のほぞ領域２７０における少なくとも一部を固定、拘束または保持し、また適切にリザーバ１６６を封止することができる。さらに、図８〜図１０に示すいかなるほぞ領域およびほぞ穴領域の実施例も、これらに限定されるものではないが、拡張部、隆起部、突部、窪み、溝、溝孔等で説明することができると理解されたい。
【００３７】
本発明が意図する他の態様は、セプタムの端縁の少なくとも一部をハウジングに連結または付着する手法に関する。このような形態により、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で液体を注入するアクセスポートを使用する間、アクセスポートの一体性を保つことができる。例えば、実施例では、セプタム周縁の側面の少なくとも一部を、ハウジングの少なくとも一部へ付着する。図１１は、ハウジング６０に隣接するセプタム８０の周縁の少なくとも一部を、セプタム８０に隣接するキャップ５４およびベース５６の片方または両方に付着したアクセスポート５０の縦断面図を示す。特に、図１１に示す通り、（キャップ５４およびベース５６に隣接する）セプタム８０の周縁は、上側側面領域９７と、上側環状領域９３と、下側環状領域９１および下側側面領域９５を有する。したがって、実施例では、接着剤（すなわち、膠、エポキシ、セメント、テープまたは当業界で既知の他の接着剤）は、上側側面領域９７と、上側環状領域９３と、下側環状領域９１および下側側面領域９５の少なくとも一部を、キャップ５４またはベース５６にそれぞれ接着する。このような形態により、セプタム８０をハウジング６０へ固定することができ、自動注入のために適切な比較的強固なアクセスポート５０を提供することができる。当然のことながら、さらに、セプタムの周縁領域の少なくとも一部を付着することは、（セプタムまたはハウジングのどちらかの）ほぞ領域の少なくとも一部を（ハウジングまたはセプタムのどちらかの）ほぞ穴領域へ付着することを含むが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上述した通り、セプタムの変形は、アクセスポートを介した自動（高圧）注入の実施に関して、設計時の検討事項である。さらに、本発明の一態様では、選択された規模を超える変形に対して構造的に補強するかまたは別の方法で制限するセプタムに関する。特に、本発明は、アクセスポートのチャンバまたはリザーバ内に生じた圧力によるアクセスポート内のセプタムの変形を、すくなくとも１個の構造素子により防止するかまたは制限する構造とすることを意図する。セプタムの変形を制限する少なくとも１個の構造素子を有するアクセスポートのいくつかの実施例が、２００５年１１月１５日付けで出願された米国特許出願第６０／７３７，４６６号に開示されており、この参考を本出願に付記する。米国特許出願第６０／７３７，４６６号に記載のいずれアクセスポートも、自動注入器用に構成することができる。
【００３９】
実施例では、本発明は、セプタムを非周縁領域でハウジングに構造的に連結することを意図する。言い換えれば、本発明の一態様では、アクセスポートのハウジングにセプタムの非周縁部位を連結することに関する。例えば、図１２は、リザーバ６６を形成するセプタム１２０を拘束するキャップ５４およびベース５６を有する、本発明によるアクセスポート１１０の実施例を示す。随意に、キャップ５４は、上述の通りセプタム周縁に近接するリング状部を有する。加えて、アウトレットステム７０により、液体をリザーバ６６に連通させて注入または液体抽出プロセスを実行することができる。図１２に示す通り、構造素子１１２がセプタム１２０とハウジング６０との間に延在する。特に、構造素子１１２は通常、セプタム１２０の下面１２１からベース５６の上面１６５まで延在する。したがって（正／負の）圧力がリザーバ６６内に生じた場合、構造素子１１２により、セプタム１２０の下面１２１のベース５６の上面１６５に向かうまたは遠ざかる偏向または変形を防止する。通常、構造素子は、１個以上の選択された方向（すなわちベース５６の上面１６５に向かうかまたは遠ざかるか）に関するセプタムの変形を防止する。
【００４０】
通常、構造素子（例えば、構造素子１１２）は、少なくとも１個のワイヤ、少なくとも１個のピンもしくは柱状素子、または少なくとも１個のフィラメントにより構成することができるが、これらに限定されるものではない。このような構造素子は、チタン、スチール（例えば、ステンレススチール）、ポリマー（例えば、デルリン［登録商標］、ナイロン、ポリエステル、ケブラー［登録商標］、（発泡および非発泡の）ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリウレタン等）、または当業界で既知の他の材料により構成することができる。他の実施例では、構造素子は、繊維補強マトリクスのような複合材料により構成する。実施例では、構造素子は、シリコーンマトリクス内に分散配置または整列させたファイバー（ガラス、カーボン等の繊維）により構成する。
【００４１】
さらに、構造素子１１２を、接着剤、溶接、スナップ嵌合、セプタム１２０の構造素子１１２の一部の周りにおける成形、逆にセプタム１２０内への構造素子１１２の一部の埋め込み、または他の適切な方法により、セプタム１２０に連結する。同様に、構造素子１１２を、接着剤、溶接または構造素子１１２の一部をベース５６内に埋め込むことにより、ベース５６に連結する。随意で、構造素子１１２の弾性係数はセプタム１２０の弾性係数を超える値となるようにすることができることも理解されたい。このような形態により、構造素子１１２は（例えば「自動（高圧）注入」プロセス中に）リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。
【００４２】
図１３は、構造素子１１２の他の実施例を有する本発明によるアクセスポート１１０の縦断面図を示す。特に、図１３に示す通り、構造素子１１２は、セプタム１２０内に少なくとも部分的に位置決めした矢尻状端部１１６を有する。このような形態により、構造素子１１２をセプタム１２０へ連結させ、リザーバ１６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。さらに、図１３に示す通り、構造素子１１２の矢尻状端部１１６は、随意に先のとがったものにすることができる。さらに、矢尻状端部１１６の尖端は、セプタム１２０の上面１２３に指向する。このような構造により、セプタム１２０に挿通し、矢尻状端部１１６に接触したカニューレをそらし、カニューレが構造素子１１２から離れる方向に転向させることができる。随意に、他の実施例では、構造素子１１２をベース５６を貫通させて、ベース５６の下面１１３に接着させる。
【００４３】
アクセスポートの他の実施例では、構造素子はセプタムを貫通する。例えば、図１４は、セプタム１２０の下面１２１からセプタム１２０の上面１２３に貫通する構造素子１１２を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図１４に示す通り、構造素子１１２はベース５６の上面１６５までも延在し、機械的にセプタム１２０をハウジング６０に連結する。随意に、構造素子１１２は、セプタム１２０内に配置しセプタム１２０をハウジング６０に連結する構造とした少なくとも１個の矢尻状部を有することができる。さらに、構造素子１１２を、必要に応じてセプタム１２０の上面１２３および下面１２１の少なくとも１個に接着することができる。当然のことながら、セプタム１２０の上面１２３を機械的にハウジング６０へ連結することは、リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止するのに役立つ。
【００４４】
さらに本発明は、構造素子を、セプタムの上面の選択された領域上に延在する支持素子と組み合わせて使用することも想定している。このような支持素子は、セプタムの上面に隣接して配置し、（例えばセプタムが変形した場合に）選択された面領域にセプタムの上面を接触させる構造とする。例えば、図１５は、ハウジング６０からセプタム１２０の上面１２３まで延在する構造素子１１２を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。さらに、構造素子１１２は、セプタム１２０の上面１２３に隣接して配置する支持素子１１４に連結する。このような形態によれば、支持素子１１４とセプタム１２０の上面１２３との間に選択された量の接触領域を提供することができる。支持素子１１４とセプタム１２０との間のこの種の選択された接触領域は、リザーバ６６内に圧力が生じた場合にこの圧力を選択された領域またはセプタム１２０の領域に分散することにより、セプタム１２０内の有害な高圧力を減らすことができる。加えて、支持素子１１４は（例えば視覚または触覚により）観測可能であるため、セプタム１２０を貫通させてカニューレを挿入する場合に回避することが可能である。さらに、支持素子１１４を自動注入可能であるポート１１０を認識するのに使用することもできる。
【００４５】
アクセスポートの他の実施例では、構造素子は、セプタムの変形を防止するためにアクセスポートのハウジングに接着されるセプタムの一部を有する。例えば、図１６は、ハウジング６０へ連結した突出脚部１２４（すなわち構造素子）を設けたセプタム１２０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。とくに、図１６では、突出脚部１２４は、通常、セプタム１２０の下面１２１からベース５６の上面１６５まで延在する。突出脚部１２４は、ベース５６の上面１６５に接し、接着する。このような形態により、リザーバ１６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。実施例では、突出脚部１２４は、セプタム１２０の下面１２１に関してほぼ中心にある（すなわち、下面１２１のほぼ重心に位置する）。突出脚部１２４をセプタム１２０の下面１２１に関して中心に配置することは、他のどの突出脚部の配置よりも大幅に、セプタム１２０の下位面１２１の変形を防止する。さらに、図１６が突出脚部１２４を示す場合に、本発明は、少なくとも１個の突出脚部（すなわち１個以上の突出脚部）がセプタム１２０から突出しまたは連結することを意図しているが、これらに限定されるものではない。他の実施例では、少なくとも１個の突出脚部を、締まり嵌めまたはいわゆる「スナップ嵌合」により、アクセスポートのハウジングに連結する。特に、図１７に示す通り、突出脚部１２４は、ベース５６に形成した窪み１５５内に嵌合する構造とした球根状または球状の端部１２５を有する。窪み１５５は、ベース５６の上位面１６５に形成した球状端部１２５の最大直径より小さい開口部を有し、球状端部１２５をこの開口部に嵌合し、窪み１５５の一部へ「スナップ動作」で嵌合することができる。随意で、突出脚部１２４は、（例えば、接着剤による付着、溶接、ピン留めまたは他の適切な方法によるベース５６内に形成した窪み１５５への付着により）付着させることができる。このような形態により、セプタム１２０をアクセスポート１１０のベース６０へ連結することができ、リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止するかまたは制限することができる。
【００４６】
本発明の他の態様は、セプタムの上面の少なくとも一部をその変形内に拘束するかまたは制限することを意図する。実施例では、少なくとも１個の構造素子を、構造素子に向かう方向のセプタムの変形を制限するために、セプタムの上面上にまたは隣接して配置する。言い換えれば、少なくとも１個の構造素子が、セプタムの上面の少なくとも一部上にまたは隣接して側方に延在する。例えば、図１８は、セプタム１３０の上面１３３に隣接して配置する構造素子１３２およびセプタム１３０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。随意で、構造素子１３２を、セプタム１３０の上面１３３に結合または付着することができる。構造素子１３２は、リザーバ６６から通常離れる方向におけるセプタム１３０の変形を防止する構造とする。実施例では、構造素子１３２は、セプタム１３０の上面１３３をほぼオーバーレイするかまたはカバーする。随意で、構造素子１３２を、少なくとも部分的にセプタム１３０内に組み込むことができる。実施例では、構造素子１３２はカニューレ（例えば針）により穿刺可能とする。他の実施例では、構造素子１３２は、セプタム１３０の上面１３３の選択した部分（すなわち少なくとも一部）をカバーし、カニューレをセプタム１３０の上面１３３に挿入することができる開口部または開孔を構造素子１３２に形成することができる。随意で、構造素子１３２の弾性係数をセプタム１３０の弾性係数より大きくし、セプタム１３０の変形を構造素子１３２により選択された大きさに抑制することができる。さらに、図１８に、構造素子１３２のほぼ均一な厚さ（「ｔ」と付記）を示すが、本発明は構造素子１３２の厚さ「ｔ」は変動するものも意図し、これらに限定されるものではない。例えば、構造素子１３２の厚さ「ｔ」は、セプタム１３０の上面１３３の重心の近傍で最大となるようにする。さらに、図１８に示す通り、構造素子１３２は、キャップ５４とセプタム１３０との間に配置することができる。構造素子１３２を、必要に応じて、キャップ５４およびセプタム１３０の片方または双方に付着することができる。例えば、構造素子１３２をキャップ５４およびセプタム１３０の片方または双方に、接着剤による付着、溶接、機械的固定または別な方法で適切に連結することができる。さらに、構造素子１３２は、金属（例えば、チタン、スチール等）と、ポリマー（例えば、デルリン［登録商標］、ポリウレタン、ナイロン等）または他の適切な材料により構成することができる。他の実施例では、以下に記載する通り、構造素子１３２は比較的密に織成した織物により構成し、（身体の内腔に接触する可能性のある配置の場合に）組織の内増殖を防止する。他の実施例では、構造素子１３２はほぼやわらかいかまたは圧縮可能なポリエステルにより構成し、（身体の内腔に接触する可能性のある配置の場合に）アクセスポート１１０のセプタム１３０に挿通するカニューレにより生ずる穿刺部における組織癒合を促進する。
【００４７】
他の実施例では、本発明は、少なくとも１個の構造素子をセプタム内に少なくとも部分的に組み込み、セプタムの少なくとも一部に側方に延在させることを意図する。例えば、図１９は、セプタム１２０に、側方に（すなわち、セプタム１２０により閉じるハウジング６０内の開口部全体に）延在する構造素子１４０およびセプタム１２０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図１９に示す通り、構造素子１４０をハウジング６０（例えば、キャップ５４またはベース５６）へ添着する。特に、図１９に示す通り、構造素子１４０を、連結領域１４７および１４３でキャップ１５４に付着する。加えて、選択されたレベルの圧力が構造素子１４０内に生じるため、必要に応じて、所望のレベルのセプタム１２０の変形耐性（すなわち可撓性）を提供する必要がある。このような形態により、構造素子１４０の延在方向に通常直交する方向に、所望の度合いのセプタム１２０の変形耐性を提供することができる。
【００４８】
他の実施例では、セプタムの変形を制限するために、構造素子を上面に近接して配置する。例えば、図２０は、ハウジング６０内に配置したセプタム１３０とセプタム１３の上面１３３に近接して配置した構造素子１５０とを有するアクセスポート１１０の縦断面図である。図２０に示す通り、構造素子１５０は、セプタム１３０の上面１３３の少なくとも一部の側方に延在する。したがって、構造素子１５０により、セプタム１３０は構造素子１５０と接触する前に、選択された距離（例えば、「Ｇ」と付記した部分）だけ変形可能である。さらに、構造素子１５０はキャップ５４に付着し、セプタム１３０と構造素子１５０との間の接触に応じて選択された大きさの可撓性を示すように選択的に張力をかける。実施例では、構造素子１５０の可撓性またはバネ定数は、リザーバ６６内に生じた圧力に応じて、セプタム１３０の大きな可撓性またはバネ定数を超える値を示す。
【００４９】
他の実施例では、構造素子を、セプタムの変形を制限するためにセプタムの下面に近接または当接して配置する。例えば、図２１は、ハウジング６０内に配置したセプタム１２０とセプタム１２０の下面１２１に近接して配置した構造素子１７０とを有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図２１に示す通り、構造素子１７０は、セプタム１２０の下面１２１の少なくとも一部で側方に延在する。さらに、構造素子１７０は下面１２１に付着させるかまたは別の方法でセプタム１２０の下面１２１に連結する。従って、構造素子１７０はセプタム１２０の変形を防止する。さらに、構造素子１７０は、セプタム１２０の変形を適切に防止するために、ベース５６へ付着する（さもなければハウジング６０へ連結する）。随意で、構造素子１７０は、構造素子１７０にかかる力に応じて、選択された可撓性を示すように選択的に張力をかけることができる。随意で、構造素子１７０の可撓性またはバネ定数は、セプタム１２０の大きな可撓性またはバネ定数より大きくすることができる。
【００５０】
図１８〜図２１につき説明すると、構造素子１３２、１４０、１５０または１７０は、いくつかの実施例で、例えばワイヤ、リボン、スレッド、ファイバー、柱状素子などのような細長素子により構成することができると理解されたい。したがって、このような少なくとも１個の細長素子を、セプタムの上面に隣接または近接して選択したパターンに配置する。さらに、実施例では、セプタムの下面に近接または当接するか、セプタムの上面に近接または当接するよう配置した構造素子は、メッシュ（例えば、金属またはプラスチックメッシュ、織物、ファイバーメッシュなど）により構成することができる。例えば、実施例では、構造素子は、互いに封止するファイバーまたはスレッド（例えば、シリコーンで被膜したファイバーまたはスレッド）による織物で構成することができる。この種の構造により、カニューレが織物を貫通し、織物がカニューレに対して封止することができ、しかしカニューレを取り外した場合にもファイバーまたはスレッドは互いに封止させることができる。加えて、本発明に基づいて、図１８〜図２１に示す構造素子１３２、１４０、１５０または１７０を、様々な構成に配置可能であることを理解されたい。
【００５１】
例えば、図２２は、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の実施例の頂面図を示し、これらの構造素子１３２、１４０と、１５０または１７０は、通常三角形の形状またはパターンをなすよう構成する。他の実施例として、図２３に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、２個の部分的に交差する通常矩形の形状またはパターンに構成する。さらに他の実施例として、図２４に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、第１の複数のほぼ平行なラインおよび第２の複数のほぼ平行なラインを有するパターンに構成し、この第１の複数のほぼ平行なラインは第２の複数のほぼ平行なラインに対してほぼ直交する構成とする。他の実施例として、図２５に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、この構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、互いに交差する２本のほぼ直線（すなわち線状）の部材を有するパターンに構成する。図２５に示す通り、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、互いにほぼ直交する構成となる。図２２〜図２５に示す通り、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０を、選択された連結領域でキャップ５４に固着する。このような形態は、セプタムの変形を制限する度合いを変化可能とし、一方でカニューレ（例えば、針）による穿孔のために、セプタム表面への十分なアクセスを可能にする。
【００５２】
他の実施例では、本発明は、構造素子を少なくとも部分的にセプタム内に組み込んでおり、セプタム内に二次元的なまたは平面的の形状、構成または形態（例えば、円、楕円、三角形、矩形など）をとることを意図する。例えば、図２６は、セプタム１２０内に延在する構造素子１４１およびセプタム１２０の部分頂面図を示す。さらに詳細に、図２７には、セプタム１２０内に埋設した構造素子１４１を有するセプタム１２０を断面に切ったものの斜視図である。図２６および２７に示す通り、この実施例では、構造素子１４１は、ほぼ円形である。さらに一般的には、必要に応じて、１個以上の構造素子１４１を少なくとも部分的にセプタム（例えば、上述したセプタム１２０または１３０）内に埋設する構成とする。例えば、複数の構造素子１４１をセプタム１２０内に埋設し、図２８の部分頂面図に示す通り、互いにほぼ同心状に配置する構成とする。構造素子１４１は、（図２６〜図２８に示す通り）通常細長く、さらに一般的にはセプタム１２０の変形を防止する構造とする形状およびサイズを示すが、これらに限定されるものではない。したがって、１個以上の構造素子１４１が、たとえば、截頭円錐形、半球状、または別の形状としたワッシャまたはディスクで実施することができることを良く理解されたい。他の実施例では、少なくとも一個の構造素子１４１は、通常、円環状に形成する。さらに、少なくとも１個の構造素子１４１は、セプタム１２０の変形に対して所望のレベルの耐性（例えば、可撓性）を付与するために、少なくとも１個の選択された特性（例えば、選択されたサイズ、形状、弾性、強度など）を示す。このような形態により、アクセスポートのリザーバ内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形に対して選択されたレベルの耐性を与えることができる。
【００５３】
本発明の他の実施例では、セプタムは、アクセスポートのリザーバ内に生じた圧力による変形を防止する曲率を有する。例えば、図２９は、ほぼ凹状の上面１２３とほぼ凸状の下面１２１とを有するセプタム１２０を示す。さらに説明すると、ほぼ凹状の上面１２３およびほぼ凸状の下面１２１を、外力のかかっていない状態（すなわち圧力のかかっていない平衡状態）におけるセプタム１２０で示す。このような形態により、ハウジング６０の上面を超えて変形しないようにセプタム１２０の上面１２３は（すなわち、セプタム１２０の変形を介して）強制的に平らになるため、アクセスポート１１０のリザーバ６６内に生じた圧力による変形に対してセプタム１２０の耐性を与えることができる。他の実施例では、セプタムを（例えば、ほぞおよびほぞ穴型連結またはセプタムとハウジングとの間における他の周縁の連結形状部により）圧縮し、セプタムをハウジング内に組み込む際のセプタムの曲率を減らすかまたは排除する。しかし、このような形態により、セプタムの大きな可撓性またはバネ定数を増加させる。随意で、（上述した）構造素子を、セプタム内またはセプタム表面に有することができ、外力のかかっていない状態で凹状または凸状を示すように製造することもできる。このような形態は、ハウジングに連結してセプタムの変形に対する耐性を高める場合に、セプタム内の有利な圧縮応力フィールドを容易にする。
【００５４】
他の構造では、セプタムは、構造フレームまたは骨組、およびカニューレにより作られる穿刺を封止する構造としたより柔軟な材料を設けることができる。詳細には、フレームは、少なくとも約８０のショアＡ硬度の材料により構成する。随意に、フレームには、フレームを剛性化するまたは強化する複数のウィスカ、ファイバーまたは粒子を設けることができる。実施例では、ナイロンファイバー、バリウム硫酸塩などを、フレーム内に分散する。さらに、この種のフレームは、少なくとも部分的に、約５０またはそれ以下のショアＡ硬度（例えば、約４０〜約５０のショアＡ硬度）を示すより柔軟な材料により包囲する。図３０は、リング１８１および１８５と同様に、ほぼ共通の原点または領域から延在する複数のスポーク１７９を有するフレーム１７８の頂面図を示す。図３０に示す通り、リング１８１および１８５の１個または双方との組み合わせによりスポーク１７９は、開孔１８８を形成する。本発明によれば、カニューレの貫通により生ずる穿刺部を封止する構造とした比較的柔軟な材料により、少なくとも部分的にフレーム１７８を包囲する。例えば、図３１は、フレーム１７８およびフレーム１７８を部分的に形成する他の材料１９０を有するセプタム１７７の縦断面図を示す。したがって、材料１９０は、ほぼスポーク１７９を包囲し、開孔１８８内に延在させる。さらに、図３１に示す通り、リング１８１は、セプタム上面１９１およびセプタム下面１９３と同様に、（上述した）ハウジングに連結するためのほぞ領域２７０を形成する。図３１を参照すると、使用中、カニューレは、材料１９０の連続的な上層および材料１９０の連続的な下層に貫通することができる。このような形態により、セプタム１７７に適切な封止能力を提供することができる。多くの変更が本明細書の記載からなされることは、よく理解されたい。例えば、図３２および３３は、フレーム１７８と少なくとも部分的にフレーム１７８を包囲する他の材料１９０とを有するセプタム１７７の様々な実施例の縦断面図を示す。したがって、フレームおよびフレームを少なくとも部分的に包囲する材料は、弓状またはほぼ平面状を示し、選択された厚さを形成し選択された材料（例えばシリコーンなど）を有することができる。
【００５５】
本発明によるセプタムの他の態様では、セプタムは放射線不透過性の材料を有し、Ｘ線をセプタムに投射した場合に選択されたパターンを形成する構造とすることができる。例えば、図３４および３５は、セプタム内の放射線不透過性の材料により形成するパターン１９９の線図的説明図を示す。このような形態は、特定の自動注入プロセスに適応できるアクセスポートであることを認識できるため、またはアクセスポートのセプタムの位置を認識するために有利である。
【００５６】
本発明はさらに、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で液体を注するアクセスポートと組み合わせて使用するいずれの注入装置またはデバイスも、本発明に従って構成できることを意図する。例えば、血管アクセスポートにアクセスする注入装置は、アクセスポートのセプタムを穿刺するための針またはカニューレと、注入装置へ連結する末端部、およびカニューレと末端部との間に延在するチューブ（例えば、少なくとも１個のチューブ部分）を有する。通常、注入装置を構成するいずれのコンポーネントも、選択された流速（流量率）および選択された流速（流量率）により生じた関連圧力に耐える構造とする。
【００５７】
図３６は、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３１４、およびコネクタ３１２を有する注入装置３１０の実施例を示す。チューブ３１４は、コネクタ３１２およびベース３４２へ、通常各々継手３１３および３３９で、固着するかまたは別の方法で連結する。また、図３６に示す通り、クランプ装置３１６は、チューブ３１４を通る液体の流れを許可または遮断する適切な構造とする。さらに、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３１４、およびエンドコネクタ３１２の各々は、注入装置３１０を通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）を調節する構造とする。さらに詳細には、チューブ部分３１４は、損傷をうけることなく少なくとも約１４ｋｇ／ｃｍ２（約２００ｐｓｉ）の圧力に耐える十分な強度を示す。随意に、チューブ部分３１４は、損傷を受けることなく少なくとも約２１ｋｇ／ｃｍ２（約３００ｐｓｉ）の圧力に耐える構成とすることもできる。さらに、注入装置がバーストする部分の圧力（すなわち注入装置３１０のバースト圧力）は、少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）であり、随意に、このバースト圧力を少なくとも約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）とすることもできる。実施例では、チューブ部分３１４は、ほぼ光学上透明かまたは少なくとも部分的に透明とする。ある実施例では、通常、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ（登録商標）のようなポリマーにより構成する。さらに詳細には、チューブ部分は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ５５Ｄのようなポリマー、またはＴＥＣＯＴＨＡＮＥ９５Ａのようなポリマーにより構成する。例えば、チューブ部分３１４が約１．２２ｍｍ±０．０７６ｍｍ（約０．０４８インチ±０．００３インチ）（すなわち、１９ＧＡ）の内径（すなわち、内腔）を有する場合、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ５５Ｄのようなポリマーにより構成する。他の実施例では、チューブ部分３１４が約１．０４ｍｍ±０．０７６ｍｍ〜約０．８６ｍｍ±０．０７６ｍｍ（約０．０４１インチ±０．００３インチ〜０，０３４インチ±０．００３インチ）（すなわち、各々２０ＧＡまたは２２ＧＡ）の内径（すなわち、内腔）により構成し、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ９５Ａのようなポリマーを有する。随意で、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ型材料のようないずれのポリマーも、少なくともほぼ、例えばジ（２−エチルヘキシル）フタレート（”ＤＥＨＰ”）のような、可塑剤を含まない構成とすることができる。ある実施例では、コネクタ３１２をポリ塩化ビニル（”ＰＶＣ”）により構成し、随意に、少なくともほぼ可塑剤を含まない構成とする。上記で開示した材料は単なる実施例であり、より一般的には、チューブ部分３１４、コネクタ３１２、ベース部材３４０およびカニューレ３５０は、堅牢で効果的な注入装置３１０を提供するために適切ないずれかの材料（例えば、熱可塑材、ポリウレタン、金属など）により構成する。
【００５８】
注入装置３１０の使用中、機械的注入器を、固定構造３１１を介してコネクタ３１２へ動作可能に連結することができる。例えば、固定構造は、ルアー型の連結か他の液体連通構造を有する。したがって、液体は、注射装置を介して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で注入器を通って流れる。上述した通り、注入装置３１０を通した圧力降下は少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）であり、随意に、注入装置３１０を通した圧力降下を少なくとも約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２（約１８５ｐｓｉ）とすることができる。
【００５９】
他の実施例では、注入装置は２個のコネクタを有する。ある構造では、１個のコネクタは自動注入を実行する構造であり、別のコネクタはシリンジアクセスを可能にする構造とする。例えば、図３７は、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３２４、中間コネクタ３２２、チューブ部分３１４およびエンドコネクタ３１２を有する注入装置３０９を示す。チューブ３１４は、コネクタ３１２および３２２に、通常、継手３１３および３２３で各々固着するかまたは別の方法で連結する。同様に、チューブ３２４は、コネクタ３２２およびベース部材３４０に、通常、継手３２５および３２９で各々固着するかまたは連結する。注入装置３０９は、注入装置３１０に関する上述通りの流速（流量率）および圧力のための構造とする。したがって、チューブ部分３１４および３２４は、材料（例えば、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥであり注入装置３１０に関する上述のサイズのようなポリマー）により構成するが、これに限定されるものではない。同様に、コネクタ３１２および３２２は、注入装置３１０に関する上述のいずれかの材料（例えば、ＰＶＣ）により構成するが、これに限定されるものではない。図３７に示す通り、クランプ装置３１６は、チューブ３１４を通した液体の流れを許可するかまたは遮断する適切な構造とする。同様に、クランプ装置３２６は、チューブ３２４を通った液体の流れを許可するかまたは遮断する適切な構造とする。さらに、コネクタ３１２は、注入器にコネクタ３１２を脱着可能に固着または連結するため、固定構造３１１（例えば、ルアー型連結部、別のスレッド型連結部、または当業界で既知の他のいずれかの固定構造）を有する。また、コネクタ３２２は、注入器にコネクタ３２２を脱着可能に固着または連結するため、固定構造３２１（例えば、ルアー型連結部、別のスレッド型連結部、または当業界で既知の他のいずれかの固定構造）を有する。
【００６０】
ある実施例では、通常、コネクタ３２２にキャップを装着したまま、コネクタ３１２を自動注入することができるようにすることを意図する。他の実施例では、バルブ機構は、コネクタ３２２からの漏れを防止する一方で、コネクタ３１２を通った液体の流れを介してチューブ部分３１４および３２４を通る流れを選択的に許可する。さらに、注入装置３０９を自動注入のために使用しない場合、セプタムを有するキャップを、コネクタ３２２、コネクタ３１２、またはこの双方に連結する。このような形態により、シリンジをセプタムに穿刺することができ、薬剤注入または血液サンプルの採取が可能になる。このような形態により、自動注入器用とシリンジアクセス用と各々分離したコネクタを有する簡便な注入装置を提供することができる。
【００６１】
本発明が意図する他の形態では、自動注入器との連結に使用するチューブは、（例えば、自動注入の）使用中、選択された圧力に耐える構造であり、随意に、捻転にも耐える構造にすることができる。通常、本発明は、チューブが複数の層を有することを意図する。ある実施例では、チューブは比較的高い強度の層を有しており、少なくとも１個の比較的可撓性のある層を有する。したがって、チューブの層は、ＰＴＦＥと、ポリプロピレンと、ポリエーテルエーテルケトン（「ＰＥＥＫ」）と、ポリイミドシリコーン、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、 ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリウレタン（例えば、ＩＳＯＰＬＡＳＴ［登録商標］、ＴＥＣＯＦＬＥＸ［登録商標］、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ［登録商標］、ＣＡＲＢＯＴＨＡＮＥ［登録商標］、ＴＥＣＯＰＬＡＳＴ［登録商標］またはＴＥＣＯＰＨＩＬＩＣ［登録商標］等の熱可塑性ポリウレタン）、またはこれらの組み合わせにより構成する。ある実施例では、層は１個以上の隣接する層と結合することができる。他の実施例では、各々の層は１個以上の隣接する層に関して移動可能かまたは摺動可能にすることができる。
【００６２】
例えば、図３８および３９は内側層４２０と外側層４２２とを有するチューブ４０１の縦断面図および横断面図を示す。通常、内側層４２０および外側層４２２のうち少なくとも一方は、比較的高い強度のものとし、内側層４２０および外側４２２のうち他方を比較的可撓性のあるものとする、またはその逆にすることもできる。ある実施例では、内側層４２０は、比較的高い強度を示し、例えばＰＥＥＫ、ＵＬＴＥＭ［登録商標］、ポリミド等により構成する。さらに、外側層４２２は、比較的可撓性とし、例えばＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＰＲＢＡＸ［登録商標］、ＥＴＦＥ、シリコーン等により構成する。逆に、外側層４２２は、比較的高い強度を有するものとし、例えばＰＥＥＫ、ＵＬＴＥＭ、ポリミドなどを有し、一方で内側層４２０は、比較的可撓性とし、例えばＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＰＲＢＡＸ、ＥＴＦＥ、シリコーンにより構成する。さらに、随意に、チューブは、ある弾性係数を示す第１層と第１層より小さい弾性係数を示す少なくとも別の層とにより構成することができる。例えば、比較的高い強度の材料は、少なくとも約２，８０００ｋｇ／ｃｍ２（約４００，０００ｐｓｉ）の弾性係数を示す。さらに、比較的可撓性のある材料は、２７，３００ｋｇ／ｃｍ２（３９０，０００ｐｓｉ）未満の弾性係数を示すものとする。他の実施例では、層４２０および層４２２のうち少なくとも一方は、複合材料（例えば、粒子またはファイバー補強材を有する複合材料）により構成する。例えば、ある実施例では、チューブは、グラスまたはカーボンの補強ファイバーまたは粒子を有するポリウレタンまたはＰＴＦＥにより構成する。ある実施例では、層４２０と４２２の各々は、１個以上の隣接する層に関して移動可能であるかまたは摺動可能とする。このような形態は、チューブを損傷することなく、選択された内圧に耐えることができ、捻転にも耐性をもつ。
【００６３】
他の実施例では、補強素子は、チューブを構成する複数の層の少なくとも１個の層内に組み込まれる。例えば、図４０は、内側層４３０および外側層４３２を有するチューブ４０３の縦断面図を示す。随意に、少なくとも１個の補強素子４３４を、いずれかの層またはチューブを構成する複数の層内に組み込むことができる。図４０に示す実施例では、補強素子４３４はコイルにより構成する。当業者には、例えば、少なくとも１個の補強素子はメッシュ（例えば、ワイヤメッシュ、ファブリック、ファイバーメッシュなど）により構成することができ、また多くの変更を施しうることは、当然理解であろう。他の実施例では、少なくとも１個の補強部材は、チューブを構成する少なくとも１個の層内で長手方向に（例えば、チューブの伸展方向と整合して）延在する１個以上の細長部材により構成することができる。他の実施例では、少なくとも１個の補強部材は、１個以上のリングにより構成する。このような形態により、半径方向剛性、強度、またはこれらの双方をチューブ部分に付与することができる。
【００６４】
図４０につき説明すると、ある実施例では、内側層４３０は、比較的高い強度を示し、例えば、ＰＥＥＫまたはポリミドにより構成する。さらに、外側層４３２は、比較的可撓性とし、例えば、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＥＴＦＥ、シリコーンまたはポリウレタンにより構成する。さらに、層４３０および４３２は、約０．１２７ｍｍ〜０．約００２５４ｍｍ（約０．００５インチ〜約０．０００１インチ）の範囲の厚さ（例えば、半径方向の厚さ）を有するものとする。上述した通り、層４３０および４３２は、互いに結合し、または互いに移動可能（摺動可能、捻転可能など）とする。随意に、コーティング４３３を、層４３２の外面の少なくとも一部に施すことができる。この種のコーティング４３３は、ある実施例では、ＴＥＦＬＯＮ［登録商標］のようなポリマーとし、約０．０２５４ｍｍ〜約０．０５１ｍｍ（約０．００１インチ〜約０．００２インチ）との間の厚さとする。
【００６５】
他の実施例では、図４１は、内側層４４０および外側層４４２を有するチューブ４０５の縦断面図を示し、少なくとも１個の補強素子４４４を内側層４４０内に組み込む。図４１に示す実施例では、補強素子４４４は、コイルにより構成することができる。他の実施例では、補強素子は、補強素子４３４に関する上述したいずれかの構造を有するが、これらに限定されるものではない。さらに、ある実施例では、内側層４４０は、比較的可撓性とし、例えば、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＥＴＦＥ、またはポリウレタンにより構成する。さらに、外側層４４２は、比較的高い強度を示し、例えば、ＰＥＥＫまたはポリミドにより構成する。さらに、層４３０および４３２は、約０．１２７ｍｍ〜約０．２５４ｍｍ（約０．００５インチ〜約０．０１０インチ）の範囲の厚さ（例えば、半径方向の厚さ）を有するものとする。 随意に、コーティング４４３を、層４４２の外面の少なくとも一部に施すことができる。この種のコーティング４４３は、実施例では、ＴＥＦＬＯＮのようなポリマーを有し、約０．０２５４ｍｍ〜約０．０５１ｍｍ（約０．００１インチと約０．００２インチ）の範囲の厚さとする。
【００６６】
さらなる実施例では、チューブは、４個の層を有するものとすることができる。例えば、図４２および図４３は、チューブ４００の他の実施例の横断面図および縦断面図を示す。特に、図４２および４３に示す通り、チューブ４００は、層４０２、４０４、４０６、および４０８により構成する。図４２に示す通り、層４０２は、管腔４１０を画定する。実施例では、管腔４１０は、ほぼ円形の断面を有し、約０．６１ｍｍ（約０．０２４インチ）の直径を示す。他の実施例では、層４０２、４０４、４０６、および４０８の各々は、１個以上の隣接する層に対して移動可能または摺動可能とする。さらに、層４０２は、比較的高い張力強度を示す材料により構成する。このような形態により、管腔４１０内の比較的高い圧力に耐えることができる。例えば、層４０２は、ＰＥＥＫと、ポリミドなどにより構成する。一般的に、この種の比較的高い強度の材料は、少なくとも約２，８０００ｋｇ／ｃｍ２（約４００，０００ｐｓｉ）の弾性定数を示す。さらに、層４０４、４０６、および４０８は、比較的柔軟な材料により構成する。この層４０４、４０６、および４０８は各々、層４０２より小さな張力強度を示す。例えば、層４０４、４０６、および４０８は、フルオロポリマー、ＰＥＢＡＸ、ポリエチレンテレフタレート（”ＰＥＴ”）と、シリコーンなどにより構成する。一般的に、この種の比較的柔軟な材料は、約２７，３００ｋｇ／ｃｍ２（３９０，０００ｐｓｉ未満）の弾性係数を示す。しかし、いずれの層も、ＰＴＦＥ、ポリプロピレン、シリコーン、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴＦＥと、ポリウレタン（例えば、ＩＳＯＰＬＡＳＴ、ＴＥＣＯＦＬＥＸ、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ、ＣＡＲＢＯＴＨＡＮＥ、ＴＥＣＯＰＬＡＳＴ、またはＴＥＣＯＰＨＩＬＩＣ等の熱可塑性ポリウレタン）、またはこれらの組み合わせにより構成することができるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
本発明の他の態様では、チューブ部分を構成する少なくとも１個の層は、セプタムを通してアクセスポートのリザーバへアクセスする細長の中空構造から末端方向に突出する構成とする。言い換えれば、少なくとも１個の層は、チューブ部分から突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺する構造とする。例えば、図４４および４５は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５、およびアクセスポート５０の縦断面図を示す。（上述した）チューブ４００、４０１、４０３、４０５は、細長の中空領域４５０を有する。さらに、細長中空領域４５０は、比較的高い剛性を有し、図４５に示す通り、アクセスポート５０のセプタム８０を穿刺するのに適している。したがって、（複数の層を有する）チューブ４００、４０１、４０３、４０５の末端から突出する細長の中空領域４５０は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５の管腔とアクセスポート５０のリザーバ６６との間を連通する針またはカニューレを形成する。特に、細長の中空領域４５０は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５を形成する比較的高い強度の層（例えば、ＰＥＥＫ）の内の比較的高い強度を示す１個以上の層を有する。実施例では、チューブ４００、４０１、４０３、４０５の最内側層が、細長の中空領域４５０を形成する。このような形態は有利であり、例えば、注入装置を製造する複雑性を軽減することができる。
【００６８】
血管アクセス装置または注入装置の多くの種々の実施例は、本発明の１個以上の態様を組み込んだ構成とすることができる。血管アクセス装置または注入装置の複数の実施例としては、本願人により２００５年４月２７日付けで出願された米国特許出願第６０／６７５，３０９号の優先権を主張するものであり、参考として本出願に付記する。米国特許第６０／６７５，３０９号に記載される、単独または組み合わせの、いずれの注入システム、装置、または方法も、自動注入を実行する（これに限定されるものではないが、例えば、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する）構造とするかまたは実行するのに適する。
【００６９】
例えば、本発明は、可撓性チューブとアクセスポートのリザーバとの間の連通を設ける構造とした注入システムは、自動注入のための構造とすることを意図する。この種の注入システムは、細長の尖端付き素子を有し、この尖端付き素子はアクセスポートのセプタムを貫通させる可撓性チューブの配置を容易にし、また可撓性チューブを適切に配置した後に注入システムから取り外すことができる。
【００７０】
特に、図４６は、注入アセンブリ５１０、安全クリップ５３０、ハブ５４０、可撓性チューブ５９０と、延長チューブ５７０、クランプ装置５６０、およびチューブコネクタ５８０を有する、注入装置５１０の実施例の分解図を示す。さらに詳細には、図４７は、注入システム５１０の断面図を示す。図４７に示す通り、注入アセンブリ５２０は、ベース５２８とこれに固定される細長の尖端付き素子５２２（例えば、針、トロカール、またはカニューレ）とを有する。図４７に示す通り、細長の尖端付き素子５２２は、尖端５２５を有する。ある実施例では、細長の尖端付き素子を挿入するポートのセプタムを傷つけるのを回避するために、「非コアリング（芯抜きしない）」尖端（すなわち、尖端５２５は、「開口」”していないまたは中空でない）を有する細長の尖端付き素子を使用する。細長の尖端付き素子５２５は、ステンレス合金（例えば、ＡＩＳＩ３０４ステンレス合金）のような、従来の針、トロカール、またはカニューレの材料により構成し、他の実施例では、比較的硬いプラスチックにより構成する。実施例では、ベース５２８は、図４７に明示するように、ベース５２８内に細長の尖端付き素子の一部を拘束するよう射出成形するかまたは別の方法で形成する。さらに、ベース５２８は、必要に応じて随意に、他の機構（例えば、安全クリップ５３０）を収容する構造とする窪み５２４を設けることができる。ベース５２８はまた、随意に、ハブ５４０に形成する連結形状部５４４（例えば、窪み）に連結する構造とした連結形状部５２６（例えば、突部）を設けることができる。図４７に示す通り、ハブ５４０は通常、ハブ本体５５０、マニホルド素子５６１、セプタム５４８、およびキャップ５４６を有する。実施例では、ハブ本体５５０は、ＴＥＣＯＦＬＥＸ（例えば、ＴＥＣＯＦＬＥＸ８５Ａ−Ｂ２０）を有する。さらに、ハブ本体５５０は、（図４６の）ウイング状構造５４１および５４３を定め、（例えば、ウイング状構造５４１および５４３を患者へテーピングすることにより、または別の方法でウイング状構造５４１および５４３を患者へ付着することにより）ハブを患者の皮膚へ付着する構造とする。ウイング状構造５４１および５４３は、例えば、細長の尖端付き素子５２２および可撓性カテーテル５９０を埋め込んだポートに挿入する場合または埋め込んだポートから細長の尖端付き素子５２２を取り外す場合に、ハブを操作するために使用することができる。ハブ本体５５０は、必要に応じて随意に、窪み５４２を有することができる。図４７に示す通り、窪み５４２には、以下でさらに詳細に記載する通り、細長素子５２２を、安全クリップに通して配置する場合に、安全クリップ５３０を固定する固定リップ５５９を設ける。
【００７１】
ハブ５４０は、注入アセンブリ５２０の細長の尖端付き素子５２２をハブ５４０およびハブ内に配置したセプタム５４８に貫通させる構造とする。言い換えると、マニホルド要素５６１は、複数の通路および、この複数の通路へ液体を連通させる少なくとも１個のセプタム５４８を画定する。さらに説明すると、マニホルド素子５６１は、ハウジングセプタム５４８がマニホルド素子５６１により画定されるプレナムのポートまたは開口部を封止する構造とする。随意に、キャップ素子５４６を位置決めし、このキャップ要素５４６とマニホルド素子５６１との間にセプタム５４８を拘束する。キャップ５４６は、細長の尖頭要素にセプタム５４８を貫通させる開口部５４７を有する。したがって、細長の尖端付き素子５２２（例えば、適切なサイズのトロカール、非コアリング（芯抜きしない）構造の針、または非コアリング構造のカニューレ）は、セプタム５４８の封止能力を危険にさらすことなく、セプタム５４８へ挿入および取り外しすることができる。さらに、キャップ５４６の存在により、いわゆる「自動（高圧）注入」を、マニホルド素子５６１を介して実行することができ、マニホルド素子５６１、チューブ５７０、および可撓性カテーテル５９０内の圧力は少なくとも約１４ｋｇ／ｃｍ２（約２００ｐｓｉ）またはそれ以上に達するものとすることができる。セプタム５４８は、本発明により開示するいずれかのセプタムの実施例による構造をなす（例えば、自動注入を実行するために少なくとも１個の構造素子を有する）が、これらに限定されるものではない。
【００７２】
図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０をマニホルド素子５６１に固着し、延長チューブ５７０もまたマニホルド素子５６１に固着する。ある実施例では、延長チューブ５７０および可撓性カテーテル５９０を、マニホルド素子５６１に化学的に結合する。他の実施例では、接着剤により延長チューブ５７０をマニホルド素子５６１の一部である表面５５２に固着する。同様に、接着剤によりカテーテル５９０をマニホルド素子５６１の別部分である内側面５６２に固着する。さらに、ハブ本体５５０を、マニホルド素子５６１（および、随意にセプタム５４８、キャップ５４６、またはこれら双方）および図４７に示す延長チューブの少なくとも一部上に形成する（例えば、射出成形、硬化処理、または別の方法で上側成形する）。他の実施例では、ハブ本体５５０を、必要に応じて可撓性カテーテル５９０の少なくとも一部上に形成することができる。
【００７３】
通常、上述した通り、本発明に開示するいかなるチューブも、注入システム５１０の一部を有する。さらに、当業界で既知のチューブクランプおよび連結装置を、延長チューブ５７０、クランプ装置５６０、およびチューブコネクタ５８０のために使用することができる。
【００７４】
可撓性カテーテル５９０は、自動注入のために適切であるいずれかの材料で構成することができる。例えば、実施例では、可撓性カテーテル５９０は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ（例えば、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥＴＴ１０５Ｄ）のようなポリマーにより構成する。図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０は、内部に細長の管腔を有する。さらに、可撓性カテーテル５９０は、開口部５９３に近接する遷移領域５９５を有し、この遷移領域５９５は、可撓性カテーテル５９０の断面寸法（管腔５９４の横断面）が開口部５９３からの距離の関数として増大する構成とする。随意に、遷移領域５９５は、２個の異なるテーパーを有することができるが、本発明は、一般には少なくとも１個のテーパーと、少なくとも１個の弓状面、またはこれらの組み合わせにより遷移領域５９５を画定することを意図する。通常、少なくとも１個（例えば、１個以上）の開孔を、可撓性カテーテル５９０のチューブ本体に貫通する管腔に連通する開口部５９３の近接に設ける。図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０には、管腔５９４に連通する２個の開孔５９２を設ける。
【００７５】
図４７に示す通り、細長の尖端付き素子５２２は、安全クリップ５３０、キャップ５４６の開孔５４７を経て、可撓性カテーテル５９０内に貫入する。細長の尖端付き素子５２２は、可撓性カテーテルに液体連通する構造とする。特に、細長の尖端付き素子５２２は、細長の尖端付き素子５２２の外側と可撓性カテーテル５９０の内側（すなわち、管腔）との間に間隙ができるようなサイズとする。実施例では、細長の尖端付き素子５２２は、（細長の尖端付き素子５２２の微小な断面形状に関する）少なくとも１個の長手方向に延在する窪みを有する。例えば、細長の尖端付き素子５２２は、尖端５２５を有し、細長の尖端付き素子５２２に沿って（すなわち、長手方向に沿って）長手方向に延在する窪みを有する。他の実施例では、細長の尖端付き素子５２２は通常円形断面であり、長手方向に延在する窪みは、細長の尖端付き素子の窪を形成する部分でほぼ三角形断面の形状となるよう形成する。
【００７６】
他の実施例では、注入システムは、細長の尖端付き素子が、延長チューブ、可撓性カテーテル、またはこれら双方を、貫通する構造とする。さらに説明すると、セプタムの適切な配置および構造は、延長チューブ、柔軟なカテーテル、またはこれら双方に、細長の尖端付き素子を穿刺または貫通させることができる。図４８および４９は、窪み５４２、スリーブ６２０、およびセプタム５４８を有するハブ５４０の他の実施例を示す。さらに、延長チューブ５７０および可撓性カテーテル５９０の各々の少なくとも一部は、部分的にハブ本体５５０内に突入する。さらに、可撓性カテーテル５９０は、延長チューブ５７０内に部分的に突入する。言い換えると、可撓性カテーテル５９０は少なくとも部分的に延長チューブ５７０とオーバーラップし、逆もまた同様である。他の実施例では、単独のチューブ素子を、ハブ５４０に貫通させ、必要に応じて、可撓性カテーテル５９０および延長チューブ５７０の双方の機能をさせる。さらに、随意に、セプタム５４８は、少なくとも部分的に、延長チューブ５７０の一部を包囲することができる。このような形態により、セプタム５４８からの細長の尖端付き素子５２２の取り外しにおける、セプタム５４８の封止を容易にすることができる。スリーブ６２０は、スリーブ６２９が包囲するセプタム６２０の領域からの細長の尖端付き素子の取り外しにおけるセプタムの封止を容易にするように、セプタム５４８を圧縮する。セプタム５４８は、自動注入を実行するための（例えば、少なくとも１個の構造素子などを有する）本明細書に記載するいずれかのセプタムの実施例による構造とするが、これに限定されるものではない。
【００７７】
さらに、図５０は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５に通常配置する安全クリップ５３０の斜視図を示す。安全クリップ５３０は、それぞれ湾曲端部領域を有する脚部５３３および５３５と、細長の尖端付き素子５２２が貫通するサイズの孔５３４と、を有する。さらに詳細には、最初に細長の尖端付き素子５２２を、孔５３４に貫通させ、脚部５３３と５３５との間に配置し、細長の尖端付き素子が脚間を通過できるような形態にする。さらに、細長の尖頭要素５２２をこの形態にし、また安全クリップ５３０を窪み５４２内に配置するとき、安全クリップ５３０は、窪み５４２（図４９参照）の固定リップ５４３（図４９参照）内に嵌合するサイズとなる。しかし、脚部５３３および５３５は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を孔５３４に向けて移動し脚部５３３および５３５の湾曲端領域を越えて突出しない場合に、脚部５３３および５３５が互いに寄り合い細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を効率的に拘束するように、バイアスする。安全クリップ５３０は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を拘束するためのいずれかの自己作動装置を有する。このような安全クリップ５３０により、細長の尖端付き素子５２２が、他人、特に細長の尖頭要素５２２を挿入および取り外しをする医療修習者に不慮に刺さる機会を減らすことができる。
【００７８】
さらに本発明は、アクセスポート（および、存在する場合にはアクセスポートに固着したカテーテル）または注入装置を誤って加圧した結果は問題を含むおそれがあるため、すべてのコンポーネントが選択された注入プロセスに関連して予想される最大流速（流量率）および圧力に耐えることができるようにするために、注入システムのコンポーネントに少なくとも１個の識別属性を付与することは有利であることを認識するものである。言い換えると、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応するよう構成したアクセスポートは、少なくとも１個の識別属性を有するものとする。このような少なくとも１個の識別属性は、（例えば、視覚、触覚、超音波、レントゲン写真などにより）観察または別の方法で検出することができるようにする。いずれかの注入装置（アクセスポート、注入装置など）に関連し、本明細書で使用される用語「識別」は、関心のある対象物の選択された情報を知覚できる特徴に関連付ける能力を意味する。
【００７９】
本発明は、２００５年３月４日付けで出願された米国特許出願第６０／６５８，５１８号に記載される、単独または組み合わせのいずれかの識別特徴または属性により、自動注入用の構造をなすアクセスポートであることを識別することができることを意図する。また、少なくとも１個の識別属性を有するアクセスポートの実施例は、２００５年１２月２８日付けで出願された米国特許出願第１１／３２０，２２３号に開示されており、参考として本明細書に付記する。本発明は、２００５年１２月２８日付けで出願された米国特許出願第１１／３２０，２２３号に記載される、単独または組み合わせのいずれかの識別特徴または属性により、自動注入のための構造をなすアクセスポートであることを識別することができることを意図する。さらに、液体を安全に注入できる最大流速（流量率）により、アクセスポートを識別することができる。例えば、少なくとも１個の識別属性は、アクセスポートが少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する構造としたものであることを示すが、これに限定されるものではない。
【００８０】
本発明が包含するアクセスポートに関して、アクセスポートのハウジングの少なくとも１個の属性は、アクセスポートを少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で自動注入のための構造として識別するための少なくとも１個の識別属性を付与する。ある実施例では、アクセスポートの少なくとも１個の物理的な属性（例えば、寸法、形状など）により、アクセスポートが自動注入に適することを識別するか、またはアクセスポートが安全に適応できる最大流速（流量率）または圧力を識別できるようにする。
【００８１】
したがって、本発明のある態様では、自動注入に適した（これらに限定されるものではないが、例えば、皮下に埋め込むかまたは別の方法で配置する）アクセスポートを識別する方法に関する。特に、セプタムを有するアクセスポートを提供することができる。さらに、少なくとも１個のアクセスポートの属性を認識することができる。さらにまた、皮下に埋め込むアクセスポートは、アクセスポートの少なくとも１個の属性の認識により、自動注入に適することを識別することができる。
【００８２】
ある実施例では、識別のための少なくとも１個の属性は、アクセスポートハウジングの少なくとも１個の特徴部により構成する。さらに詳細には、図５１は、組み立てたアクセスポートの斜視図を示す。図５１に示す通り、アクセスポート５０の側方周縁２９５（例えば、１個以上の側壁、および随意に、縫合プラグ２９１の露出面）は、ほぼ三角形をなす。したがって、キャップ５４およびベース５６は、合体してほぼ三角形のアクセスポート５０のハウジング６０を形成する。また、本発明は、側方周縁２９５は先細にするかまたは、キャップ５４の上面６１とベース５６の下面５１との間に円弧状に延在する構成とする。図５１に示す通り、アクセスポート５０の（ベースが平面である場合、ベース５６の、下面５１にほぼ平行な選択された平面における）横断面は、ベース５６の下面５１へ近接するにつれ大きくなり、キャップ５４の上面へ近接するにつれ比較的小さくなる。図５２は、図５１に示すアクセスポートの上図を示し、側方周縁により画定されるほぼ三角形の形状を示す。さらに、図５３は、アクセスポート５０の横断面を簡略化して示す。図５３に示す通り、アクセスポート５０の側方周縁２９５は、関連する頂点領域３０１の間に延在する３個の側面領域３０３を画定する。加えて、ある実施例では、図５３に示す通り、側方周縁２９５は、ほぼ正三角形の形状を画定する。当然、側面領域３０３は、関連する頂点領域３０１の間に正確に延在する。従って、側面領域３０３は、ほぼ三角形状の「側辺」を形成する。さらに、頂点領域３０１は丸みがあるが、この頂点領域３０１は隣接する側面領域３０３との間に交点を形成することは良く理解されるべきである。したがって、本明細書で使用されるフレーズ「ほぼ三角形」は、隣接する側面が頂点領域でまたは頂点領域内で交差するいずれのほぼ３側辺形状も含むが、これらに限定されるものではないこともよく理解されたい。例えば、「ほぼ三角形」は、３側辺を有するポリゴン、円形的三角形、正三角形などを包含するが、これらに限定されるものではない。
【００８３】
さらに、他の実施例では、少なくとも１個の識別属性は、放射線マーカーにより構成する。特に、アクセスポートは、アクセスポートが特定の流速（流量率）、圧力、またはこれら双方に適応する構造であることを示す観測可能なパターン、シンボル、マーカー、または他の印とすることができる。他の実施例では、少なくとも１個の識別属性は、視覚的に知覚可能な構造のような、知覚可能な形態を有する。例えば、視覚的に知覚可能または別の方法で認知可能である少なくとも１色の色、少なくとも１個のシンボル、少なくとも１個の印刷字（例えば、文字、数字など）、パターン、またはいずれかの他の印を使用する。他の実施例では、超音波検出可能な構造をアクセスポートに組み込む。さらなる実施例では、アクセスポートはＲＦＩＤタグを有する。
【００８４】
他の機器および装置（例えば、注入装置、チューブ、注入器など）は、適する最大流速（流量率）または最大圧力に関連して識別可能である。例えば、特定の注入装置は、１個以上の上述した識別属性または特徴を有する。このような形態により、種々のコンポーネント（例えば、チューブ、針、アクセスポート、機械的注入器など）を互いに適合させることができる。例えば、自動注入器と、注入装置、およびアクセスポートにより共有されるほぼ同様または適合する識別属性は、選択された自動注入プロセスを実行するために互いに使用する適正を示す。
【００８５】
アクセスポートの識別に関する他の態様としては、アクセスポートが埋め込まれた患者の識別に関連する。より詳細には、患者は、埋め込まれたポートに関する知覚可能な（例えば、視覚的、磁気ストリップ、バーコードを介する、手動で、または他の適切な機構による）情報を担持する識別カードを付与される。したがって、この種の識別カードを医療従事者に提示することにより、識別カードの情報が認識され、アクセスポートを識別できる。アクセスポートの識別において、例えば、最大流速（流量率）、最大圧力、特定の手順に対する適正などのアクセスポートの特性を確認する。他の実施例では、リストバンドまたはブレスレットを、アクセスポートが埋め込まれた患者に付与する。他の実施例では、例えば、磁気ストリップ、バーコード、コンピュータの読み取り可能な媒体またはデバイス（例えば、コンパクトディスク、「フラッシュ」メモリ、ディスクドライブなど）、または他の適切な情報担持デバイスのような情報担持デバイスを有するキーチェーンを付与する。他の実施例では、ポートの情報を含むステッカを患者のカルテに貼る。他の実施例では、注入装置へのラベル付けにより、自動注入に適合性のある装置かを識別できる。
【００８６】
本発明のさらに他の態様としては、ゲルまたは粘性液体を有するセプタムに関する。本願明細書に使用される用語「ゲル」は、少なくとも１個の液体成分内に懸濁する少なくとも１個の固体成分を有するコロイドを意味し、固体粒子（例えば、ポリマー粒子）は、共有原子価、イオン、分散（物理的）力により互いに引き寄せられるまたは別の方法で互いに結合する（例えば、絡み合うまたは架橋する）。したがって、実施例では、ゲルは、固体の分散相が、粘性のあるまたは半剛性のゾルを生ずるために液体連続相との組み合わせでネットワークを形成するコロイドである。ゲルは、これらに限定されるものではないが、弾性、粘弾性、または可塑性である応力‐歪挙動を示す。本明細書において使用される用語「粘性液」は、約２０，０００センチポアズ以上の粘性を示す液体を意味する。
【００８７】
アクセスポートを形成するハウジング内に配置するセプタムに形成される１個以上の通路により、アクセスポートのリザーバを加圧する場合、１個以上の通路を通して液体が漏出することがあり得る。本発明は、ゲル領域を通常セプタム上面とセプタム下面との間に配置することにより、少なくとも一部のゲル領域を貫通させて上面から下面へセプタムを貫通してカニューレを貫通し易くすることを意図する。
【００８８】
例えば、ある実施例では、セプタムは、少なくともほぼ本体材料により包囲されるゲルを有するものとする。例えば、図５４は、本体６１２および本体６１２内に配置するゲル領域６２０を有するセプタム６１０の縦断面図を示す。ゲル領域６２０は、上面６１４に挿入し下面６１６を貫通するカニューレが、ゲル領域６２０の一部を通過する構造とする。ある実施例では、ゲル領域６２０は、シリコーンゲルにより構成する。他の実施例では、ゲル領域は、液体が硬化してゲルを形成する未硬化液体（すなわち、比較的低い粘性を有する液体）により構成する。ある実施例では、ゲル領域６２０は、粘性液または粘弾性材料により構成する。
【００８９】
ある実施例では、ゲル領域６２０は、エラストマー、例えば、ミシガン州ミッドランドにあるダウ・コーニング（DOW CORNING）社から市販されている「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７−９６００」ソフトフィリングエラストマーＰａｒｔｓＡ＆Ｂにより構成する。他の実施例では、ゲル領域６２０は、カリフォルニア州カルピンテリアにあるＮｕＳｉＩテクノロジー社から市販されているシリーコンゲル「ＭＥＤ−６３４０」により構成する。さらに他の実施例では、ゲル領域６２０は、約２０〜３０のショアＡ硬度を示すエラストマー、例えば、どちらもミシガン州ミッドランドにあるダウ・コーニング社から市販されている「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧＣ６−５１５」液体シリコーンゴムＰａｒｔｓＡ＆Ｂまたは「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧＣ６−５３０」液体シリコーンゴムＰａｒｔｓＡ＆Ｂにより構成する。さらに、随意で、セプタム６１０の本体６１２は、約５０から約６０のＳｈｏｒｅＡ硬度のシリコーン材料を有することができる。他の実施例では、本体６１２および／またはセプタム６１０の上面６１４は、約６０〜約８０のショアＡ硬度のシリコーン材料により構成する。随意に、本体６１２および／またはセプタム６１０の上面６１４はフルオロポリマー（例えば、ＰＴＦＥなど）またはポリウレタンにより構成することができる。
【００９０】
ゲル領域６２０の少なくとも一部に貫通するカニューレを取り外す際に、ゲル領域６２０に形成された通路または孔は、リバウンド、修復、封止、または癒合することができることは、当業者であれば、当然理解できるであろう。さらに、ゲル領域６２０により、本体６１２および上面６１４を形成された通路を封止することができる。例えば、ゲル領域６２０により、リザーバ内の圧力がアクセスポートの外部の大気圧を超えた場合に（例えば、これらに限定されるものではないが、自動注入プロセス、上述したように液体をアクセスポートから流すあらゆるプロセス、または液体を当業界で既知のアクセスポートから流すあらゆるプロセスの間）、セプタム６１０を通してアクセスポートのリザーバからの液体の漏出を抑制または防止することができる。さらに、セプタム６１０を貫通するカニューレが、選択された境界またはエンベロープの外側のゲル領域を構成するいずれかの材料の転移または除去に耐える構造とするように、ゲル領域６２０を配合し、および／または本体６１２を構成する。ある実施例では、本体６１２は、本体６１２を貫通するカニューレから、ゲル領域６２０を構成する材料を除去できる構造とする。
【００９１】
本明細書に記載したセプタム実施例のいずれかは、少なくとも１個のゲル領域を有する。例えば、図５５は、本体６１２およびゲル領域６２０を有するセプタム６１１の縦断面図を示す。上述した通り、ゲル領域６２０は、上面６１４から挿入して下面６１６に貫通するカニューレが、ゲル領域６２０の一部を通過する構造とする。このような形態により、多くの通路がカニューレによりセプタムに形成された場合でも、漏出を防止する堅牢なセプタムを提供することができる。さらに、ゲルを有するセプタムを設けることにより、セプタムの封止能力または質を向上させることができる。したがって、ゲル材料を有するセプタムは、従来のセプタムと比較して（すなわち、上面から下面の）薄い厚さを示すことができる。例えば、図５６は、厚さＴが従来のセプタムの従来の厚さより薄い、本体６１２およびゲル領域６２０を有するセプタム６１３を示す。ある実施例では、セプタム６１３の厚さＴは、約１２．７ｍｍ（約０．５００インチ）以下である。
【００９２】
本発明は、ゲルを有するセプタムを形成するために使用する種々の異なる製造方法を提供することを意図する。例えば、通常、セプタムの本体は、少なくとも１個のゲル領域をほぼ包囲するように形成する、または、ゲルで満たした窪みまたはチャンバをセプタム本体により形成する。ある実施例では、ゲル領域を、セプタム本体を形成するための成形型内で懸垂する。とくに、図５７は、ゲル領域６２０を第１成形型６５２と第２成形型６５４との間に配置する（例えば、懸垂させる）、第１成形型６５２および第２成形型６５４の断面図を示す。図５７に示す通り、ゲル領域６２０は、第２成形型６５４の分離面６５５に当接する、フレーム素子６３０により位置決めする。図５７に示すように、フレーム素子６３０は、ピン６０６により位置決めする。他の実施例では、フレーム素子６３０を、適当に位置決めするが、これらに限定されるものではない。特別な実施例では、第１成形型６５２の分離面６５３は、第２成形型６５４の分離面６５５の近接して位置決めされ（すなわち、分離面６５３および６５５はフレーム素子６３０によって分離される）、キャビティ６５８および６５６により画定されるチャンバを形成する。さらに、硬化可能材料（例えば、硬化可能なシリコーン、熱可塑材、樹脂などのような硬化可能材料）を、チャンバ内に注入し、硬化させる。したがって、硬化可能材料は、ゲル領域６２０を包囲するかまたはカプセル化し、キャビティ６５６および６５８に相補的な形状を示す。
【００９３】
通常、フレーム素子６３０は、ゲル領域６２０に結合または固着する。ある実施例では、フレーム素子６３０は、ゲル領域６２０の周縁の少なくとも一部に結合または係合することができる。他の実施例では、フレーム素子６３０は、ほぼ平面状にし、ゲル領域６２０をフレーム素子６３０上に載置するかまたはフレーム素子上で形成する。さらに他の実施例では、フレーム素子６３０を、ゲル領域６２０に少なくとも部分的に貫通させる。随意に、フレーム素子６３０を、第２成形型６５４のキャビティ６５６をカバーするまたは横切らせることもできる。ある実施例では、フレーム素子６３０は、メッシュ（例えば、金属、ポリマーメッシュ、ファブリック、ファイバーメッシュなど）により構成する。他の実施例では、フレーム素子６３０は、シリコーンのシートまたは層により構成し、随意に孔を形成することができる。フレーム素子６３０をメッシュにより構成するか有孔素子である場合、キャビティ６５８，６５６相互間で（硬化可能材料の）液体連通が生じ、カプセル化中にゲル領域６２０および／またはフレーム素子６３０の移動を防止することができ、望ましい。ゲル領域６２０をカプセル化した後、フレーム素子６３０の選択された部分を、必要に応じて、トリミングするまたは切断することができる。
【００９４】
少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムを形成する他の方法では、セプタム本体を、ゲルを充填する少なくとも１個のチャンバを有するよう形成する。例えば、図５８は、チャンバ６２１を画定するセプタム本体６１２を示す。随意に、開口部６２３を本体６１２によって画定することができる。したがって、ゲルは、開口部６２３を介してチャンバ６２１内へ注入し、随意に、開口部を閉じることができる。例えば、未硬化ゲルをチャンバ６２１内へ注入する。さらに、未硬化ゲルは、加熱または他の適切な方法により硬化することができる。このような形態により、図５５につき上述したようにゲル領域を形成することができる。ある実施例では、チャンバ６２１は、本体６１２内にチャンバ６２１を作るために、空気注入による成型プロセス、ブロー成型プロセス、または当業界で既知の他の方法により形成することができる。他の実施例では、本体６１２は、取り外し可能なプラグまたはフィラー（例えば、シリコーンプラグ、スチール、またはアルミニウムインサート）の周りに形成することができる。このようなプラグまたはフィラーは、こびりつかないコーティング（例えば、ＴＥＦＬＯＮ［登録商標］、シリコーン、または当業界で既知のあらゆるこびりつかないコーティング）を用いて被覆することができる。したがって、チャンバ６２１は、プラグまたはフィラーを除去して形成することができる。他の実施例では、セプタムの部分を形成し、ゲル（またはゲルの流動性前駆体）を充填し、セプタムを形成するように互いに結合させる。他の実施例では、本体６１２を最初に形成し、本体６１２内にチャンバ６２１を包囲する。さらに、本体６１２を切断し、チャンバ６２１にゲルを充填することができるように開口部を形成する。この本体６１２の開口部は、ゲル領域を拘束または形成するために、閉鎖または封止する。さらに他の実施例では、中実の本体を形成し、この本体をスライスすることによりチャンバを形成する。このような形態では、チャンバを充填することにより、中実の本体を、所要に応じてドーム状のまたは隆起した領域となるよう変形することができる。多くの種々の方法を使用して、本体６１２内にチャンバ６２１を形成し、その後にチャンバをゲルで充填することができることは理解できるであろう。
【００９５】
他の実施例では、セプタムは、本体と、ゲル領域の少なくとも一部および本体の少なくとも一部に結合するかまたは形成する材料層との間に配置するゲル領域を有するものとする。例えば、図５９は、本体６３２、ゲル領域６２０、および層６２６を有するセプタム６１５の縦断面図を示す。図５９に示すように、ゲル領域６２０を、本体６３２に形成する窪み６３３内に配置し、層６２６をゲル領域６２０の一部および本体６３２の一部上に延在させる構成とする。当業者には、ゲル領域６２０を本体６３２の窪み６３３内に配置または形成し、その後層６２６をゲル領域６２０および本体６３２上に形成または配置することは、理解できるであろう。さらに、層６２６を、ゲル領域６２０を拘束するために、本体６３２に結合するか（例えば、接着結合、硬化結合、溶接結合、または当業界で既知の他の方法による結合）、または他の方法で固着する。ある実施例では、セプタム６１５は、複数のヘッド（例えば、２個のヘッド）の射出成形装置により形成する。とくに、このような射出成形装置は、本体６３２を形成し、この本体６３２内にゲル領域６２０を形成し、適切な成形形状および材料注入による（例えば、成形中に）ゲル領域６２０および本体６３２上に層６２６を形成することができる。ある実施例では、層６２６は、約６０〜約８０の範囲のショアＡ硬度を示す、シリコーンに基づく材料により形成する。ある実施例では、本体６３２は、約４０〜約５０の範囲のショアＡ硬度を示す、シリコーンに基づく材料により形成する。したがって、（ハウジング内に挿入しアクセスポートを形成する）セプタム６１５を使用する間は、カニューレは、層６２６から、ゲル領域６２０の少なくとも一部、および本体６３２に貫通する。このような形態により、層６２６、ゲル領域６２０の少なくとも一部、および本体６３２とを貫通するカニューレの位置決めを容易にすることができる。
【００９６】
本発明の態様を説明する目的で、特定の典型的な実施例および詳細を示したが、特許請求の範囲に記載した、本発明の範囲を逸脱することなく、本明細書に開示した方法および装置に種々の変更を施しうることは、当業者は当然理解できるであろう。例えば、他のアクセスポートの寸法および形状を使用することもでき、種々の他の実施例および構造を、本発明におけるアクセスポートの少なくとも１個の識別可能な特徴部を形成するために使用することができるものである。特許請求の範囲を含めて本明細書で使用される用語「有する」および「備える」（これらの変形も有する）は、要素「設ける」と同じ意味を有する。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明によるアクセスポートの分解斜視図である。
【図２】図１に示すアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図３】図１および２に示すリング状部を有するキャップの頂面図である。
【図４】リング状部を有するキャップの他の実施例における頂面図である。
【図５】リング状部を有するキャップのさらに他の実施例の頂面図である。
【図６】アクセスポートのセプタムにカニューレを貫通させた状態を示す、埋め込み型アクセスポートの線図的縦断面図である。
【図７】特定の流速に対する、注入システム内の選択された領域での圧力を説明するグラフである。
【図８】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図９】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートの他の実施例における線図的縦断面図である。
【図１０】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートのさらに他の実施例の線図的縦断面図である。
【図１１】セプタムの少なくとも一部の側面周縁をハウジングへ貼着するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１２】セプタムとハウジングとの間に延在する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１３】セプタム内に配置する矢尻状端部を有する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１４】セプタムの上面とハウジングとの間に延在する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１５】図１４に示すセプタムの上面に隣接して配置する支持素子を有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１６】ハウジングに突出する突出脚部を有するセプタムを設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１７】ハウジングに形成した窪みに結合する拡大端部を有する突出脚部を有するセプタムを設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１８】セプタムの上面に隣接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１９】セプタムおよびセプタムに対して側方に貫通する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２０】セプタムおよびセプタムの上面に近接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２１】セプタムおよびセプタムの下面に近接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２２】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子、をほぼ三角形パターンで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２３】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、２個のほぼ矩形パターンで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２４】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、第１の複数のほぼ平行なラインおよび第２の複数のほぼ平行なラインで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２５】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、２個の交差するほぼ並行な直線部材で構成したことを示す部分頂面図である。
【図２６】セプタム内に配置する構造素子を設けたセプタムの部分頂面図である。
【図２７】図２６に示すセプタムの分割斜視図である。
【図２８】複数の構造素子を有するセプタムの部分頂面図である。
【図２９】湾曲を示すセプタムを有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図３０】セプタムフレームの実施例の頂面図である。
【図３１】図３０に示すセプタムフレームおよび少なくとも部分的にフレームを包囲する他の材料を有するセプタムの実施例の線図的縦断面図である。
【図３２】他の材料により少なくとも部分的に包囲されるフレームを有するセプタムの他の実施例における線図的縦断面図である。
【図３３】他の材料により少なくとも部分的に包囲されるフレームを有するセプタムのさらに他の実施例の線図的縦断面図である。
【図３４】セプタムを構成する放射線不透過性材料により形成できるパターンの線図的説明図である。
【図３５】セプタムを構成する放射線不透過性材料により形成できる他のパターンの線図的説明図である。
【図３６】本発明による注入装置の実施例の斜視図である。
【図３７】本発明による注入装置の他の実施例における斜視図である。
【図３８】内側層および外側層を有するチューブの実施例の縦断面図である。
【図３９】内側層および外側層を有するチューブの実施例の横断面図である。
【図４０】内側層と、外側層と、少なくとも１個の補強素子とを有するチューブの縦断面図である。
【図４１】内側層と、外側層と、少なくとも１個の補強素子とを有するチューブの他の実施例の縦断面図である。
【図４２】４個の層を含むチューブの横断面図である。
【図４３】４個の層を含むチューブの縦断面図である。
【図４４】複数の層の少なくとも１個の層が、アクセスポートのセプタムに貫通させて挿入する細い中空領域を形成するように、チューブの末端から突出する、複数の層を有するチューブ部分を示す線図的縦断面図である。
【図４５】複数の層の少なくとも１個の層が、アクセスポートのセプタムに貫通させて挿入する細い中空領域を形成するように、チューブの末端から突出する、複数の層を有するチューブ部分を示す線図的縦断面図である。
【図４６】アクセスポートのセプタムに可撓性のカテーテルを挿通する構成とした注入システムの実施例の斜視図である。
【図４７】図４６に示す注入システムの部分縦断面図である。
【図４８】アクセスポートのセプタムに可撓性のカテーテルを挿通する構成とした注入システムの他の実施例における斜視図である。
【図４９】図４８に示す注入システムの部分縦断面図である。
【図５０】挿入アセンブリをハブから取り外した、図４８に示す注入システムの斜視図である。
【図５１】本発明によるアクセスポートの実施例の斜視図を示す。
【図５２】図５１に示すアクセスポートの頂面図を示す。
【図５３】図５１および５２に示すアクセスポートの横断面を簡略化して示す説明図である。
【図５４】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの実施例の縦断面図である。
【図５５】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの他の実施例における縦断面図である。
【図５６】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムのさらに他の実施例の縦断面図である。
【図５７】ゲル領域を第１成形型と第２成形型との間に配置した状態を示す、第１成形型および第２成形型の縦断面図である。
【図５８】ゲルを拘束する少なくとも１個のチャンバを有するセプタムの実施例の縦断面図である。
【図５９】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの他の実施例の縦断面図である。
【技術分野】
【０００１】
本件出願は、２００５年１１月１５日付けで出願された米国特許出願第６０／７３７，４６６号の優先権を主張するものであり、参考として本明細書に付記する。さらに本件出願は、２００５年４月２７日付けで出願された米国特許出願第６０／６７５，３０９号の優先権を主張するものであり、参考としてを本明細書に付記する。
【０００２】
広範囲にわたる種々の医療処置には、患者への液体の注入が必要である。例えば、血管撮像技術には、患者へ注入する造影剤の使用が必要である。特に、コンピュータトモグラフィ（ＣＴ）は、造影剤を利用する撮像技術であり、非侵襲的な評価および血管系の評価（例えばＣＴ血管造影検査またはＣＴＡ）のために使用する。マルチスライスＣＴ（ＭＤＣＴ）は、ＣＴＡのために利用する一つの特定形式のＣＴである。ＣＴによる血管系の適切な撮像のために、静脈内造影剤注入規定を、対象とする解剖学的領域に対して調整し選択する。
【０００３】
特に、従来は、いわゆる「自動注入」システムを、造影剤を高圧で末梢から静脈（ＩＶ）ラインに注入するために使用する。たとえば、この種の自動注入器または注入システムは、メドラット（Medrad）社（ドイツにあるシェーリング社の子会社）から市販され、また登録商標「ＳＴＥＬＬＡＮＴ」注入システムとして市販されている。ＣＴの手順は、たいてい造影剤の所望の流量により定められるため、この種の自動注入器システムは、一般に、所望の流速（フローレートまたは流量率）を選択することにより調節可能である。従って、この種の自動注入器システムは、選択された流速（流量率）を保持するよう（自動注入器システムの性能の最大圧力内で）圧力を高めることができる。したがって、明らかなように、ＩＶライン内の塞栓物または所望の注入率の圧力に耐えられない構造のＩＶラインを使用することにより、自動注入器にＩＶラインの適切な圧力限界を上回る圧力を発生させるおそれがある。静注の後、造影剤のボーラスは、心臓の右側から、肺を通り、心臓の左側へ、そして、残りの循環系を通り、患者の血管系内を流れる。造影剤のボーラスを患者に注入した後、いくらかの造影剤は心臓の右側に留まる。このように、造影強調の全体的な効果は、多数の因子に依存する。例えば、患者の特性（例えば、身体サイズ、心拍出量および循環量を含む循環、腎機能）と、造影の特性（例えば量、注入率、ヨウ素濃度、その他）と、そしてＣＴ技術（例えば投与のアクセスおよびルート、スキャン遅延、スキャン速度および注入パターン）が、造影強調の全体的な程度にそれぞれ影響する。
【背景技術】
【０００４】
背景技術として、従来は、比較的長いスキャンタイムには、比較的長い造影剤の送出時間が伴った。しかし、スキャンタイムは短くなり続けているため、比較的速く送出できる造影剤が必要とされる。更に説明すると、冠状動脈ＣＴＡでは、選択されたスキャンタイム（例えば１５秒のスキャンタイム）の期間中、そして選択された解剖学的領域（例えば、左心室と流出路を含む２０ｃｍの軸方向のスキャン距離）内に、かなり十分な量の造影剤を十分な高率で投与し適切な濃度で行き渡らせ保持しなければならない。また、造影の密度値は、多次元ポストプロセシングに使用されるセグメンテーション法を十分に容易にすることが好ましい。冠状動脈ＣＴＡに使用する代表的な造影剤は、約３００ｍｇ／ｍｌから約３５０ｍｇ／ｍｌ濃度のヨウ素である。また、造影剤が放射性物質である場合、イメージングプロセスに必要な造影剤の総量を減らすことは有益になりうる。
【０００５】
造影剤注入に必要な圧力は、流速（流量率）と、造影剤の粘性と、チューブの径および長さのような注入チューブの構成と、血管内塞栓または血流の制限（例えば血管のよじれ、屈曲、すり合わせ、圧迫）のいずれかの多くの因子に依存する。上述のように、ＣＴまたはＭＲＩ検査に必要な流速（流量率）を保持するために、自動注入器は高圧を生成する。注入圧が血管アクセス装置の許容を上回った場合、破壊が起こるおそれがある。他の問題は、スキャンと造影剤との間のタイミングエラーのために生じる。より新しい血管撮像装置の高速スキャン能力を最大にするために、造影剤の注入を始めた後、所定の時間分スキャンプロセスの開始を遅延させることができる。スキャン開始が早すぎる場合、造影剤が心臓に達するのと同時であり、イメージを処理した後、動脈は本来より小さく見えるおそれがある。一方、スキャン開始が遅すぎる場合、画像アーチファクトは心臓の静脈の希薄な造影になるおそれがある。造影剤は心臓の動脈を通り心臓の静脈中へ急速に循環するため、最適なスキャンの好機の時間帯は非常に短い。
【０００６】
診断上のまたは医学上の手順では、患者の血管系に液体を注入するために皮下の血管アクセスポートを有利に使用する。アクセスポータルまたはポートにより、外科的な手法を使用せずに、身体の内部の領域に薬物を繰り返し送出できる簡便な方法を提供する。ポートは、体内に埋め込み可能であり、薬物、注射液、血液製剤、造影剤または他の液体の注入を可能にする。更に、ポートは、患者から血液を吸引するために用いることもできる。このようなアクセスポートは、一般的に、一つ以上の液体キャビティまたはリザーバを内包するカニューレが貫通できないハウジングを有し、このような各液体キャビティに対してハウジングを通して連通するアクセス開孔を画定する。カニューレが貫入できるセプタムは、各々のアクセス開孔に隣接して配置し封止する。アウトレットステムは、アクセスポートに付随し埋め込まれたカテーテルを通して、患者体内における所定の位置に薬剤を投与するための１個以上の液体キャビティに連通する。アクセスポートおよびカテーテルを患者の皮下に埋め込んだ後、薬剤、血液などの液体を、患者の皮膚を貫通しセプタムを穿刺して液体キャビティ中に連通する例えばカニューレ（例えば、針）により、１個の液体キャビティを通して投与することができる構成とする。この薬剤は、カテーテルの末端を通って患者身体の静脈系への入口点へ向かう。さらに、皮下のアクセスポートを通して血液を吸引することができる。したがって、アクセスポートの使用により、針を用いることなく患者の血管系にアクセスすることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、従来のアクセスポートおよび付属する注入システムは、自動注入を実行するために適切でない。
【０００８】
特に、従来の血管アクセスポートとの組み合わせによる自動注入システムの使用は、理想より低い結果しか得ることができない。したがって、注入システムのための血管アクセスポートおよび自動注入を実行する構造とした注入関連装置が有利であることは、良く理解されるべきである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の態様は、アクセスポートを通して液体を流す方法に関する。特に、血管アクセスポートを提供し、このアクセスポートを通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる。
【００１０】
本発明の他の態様は、注入装置を通して液体を流す方法に関する。例えば、注入装置を提供し、この注入装置を通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる。
【００１１】
本発明の他の態様は、患者へ皮下のアクセスを提供するためのアクセスポートに関する。特に、アクセスポートは、セプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよびセプタムはリザーバを画定する。さらに、セプタムにはほぞ領域を設け、このアクセスポートのハウジングには、セプタムのほぞ領域の少なくとも一部を収容するため、ほぞ領域と相補形状の構造としたほぞ穴領域を形成する。随意に、ハウジングは、セプタムの側面周縁の少なくとも一部に近接するリング状部を設けることができる。
【００１２】
本発明の他の態様は、患者へ皮下のアクセスを提供するアクセスポートに関する。実施例では、アクセスポートはセプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを設け、このハウジングおよびセプタムはリザーバを画定する。さらに、ハウジングおよびセプタムは、少なくとも約１ｍｌ／秒のリザーバを通る流速に適応する。他の実施形態では、アクセスポートは、上述した通りハウジングおよびセプタムを有し、このハウジングおよびセプタムは少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）のリザーバ内に生じる圧力に適応する構造とする。
【００１３】
本発明の他の態様は、患者の皮下へアクセスする場合に使用する注入装置に関する。例えば、ある実施形態では、注入装置は、管腔を画定するチューブと、チューブ部分の管腔に連通するカニューレとを有する。また、カニューレは、アクセスポートのセプタムを通して挿入する構造とし、チューブ部分およびカニューレは少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流すことができる構造とする。随意に、カニューレは、アクセスポートのセプタムを穿刺する構造とすることができ、またチューブ部分およびカニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構造とすることができる。例えば、チューブ部分およびカニューレは、約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）の圧力に適応できる構造とする。
【００１４】
本発明の他の態様は、患者の血管システムにアクセスするために使用する注入チューブに関する。ある実施形態では、注入チューブは複数の層を有し、チューブは少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する構造とする。他の実施形態では、注入チューブは複数の層を有し、複数の層の少なくとも１層は、複数の層の少なくとも他の１層を越えて突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺するカニューレを形成する構造とする。他の実施形態では、患者の皮下へアクセスするために使用する注入装置は、管腔を画定するチューブ部分と、チューブ部分の管腔に連通するカニューレとを有し、カニューレはアクセスポートのセプタムを通して挿入させる構造とする。加えて、チューブ部分およびカニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構造とする。
【００１５】
本発明の他の態様は、自動注入に適するアクセスポートであることを識別する方法に関する。とくに、セプタムを有するアクセスポートを設ける。さらに、アクセスポートは、自動注入に適すると識別できるものとする。
【００１６】
本発明の他の態様は、患者に皮下のアクセスを提供するアクセスポートに関する。特に、アクセスポートは、セプタムを拘束する構造としたハウジングであって、前記セプタムは、ハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通する構造にした該ハウジングと、リザーバ内に生じた圧力によるセプタムの変形に抵抗する構造とした少なくとも１個の構造素子とを有する。
【００１７】
本発明の他の態様では、アクセスポートを動作させる方法は、リザーバ内に生じた圧力によりセプタムを拘束する構造としたハウジングを準備するステップであって、セプタムはハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレ（針、ヒューバー針、カニューレに関連するトロカール、またはこれらの組み合わせのいずれか）を挿通するための構造とした該ハウジング準備ステップと、ハウジングのリザーバ内の圧力を上昇させるステップとを有する。さらに、このような方法は、リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限するステップを有する。
【００１８】
さらに、本発明の態様は、ゲルまたは粘性の液体を有するセプタムに関する。例えば、ある実施形態では、患者の皮下へのアクセスを提供するためのアクセスポートを形成するようハウジング組み付けるセプタムは、上面および下面を有する本体と、通常この上面と下面との間に配置する少なくとも１個のゲル領域とを有する構成とする。他の実施形態は、患者の皮下へアクセスを提供するためのアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムを有し、このセプタムが、本体と、本体の少なくとも一部上に形成する層と、層と本体との間に少なくとも部分的に配置するゲル領域とを有する構成とする。
【００１９】
上述した注入装置および関する方法は、自動注入プロセスを実行するかまたは容易にするために有利に使用する。例えば、この方法および装置は、約１ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の範囲の流速で液体（例えば、造影剤）を注入するために使用する。
【００２０】
上述した実施形態のいずれの構造も、本発明に関する互いの組み合わせを使用する。加えて、本発明の他の構造および利点は、当業者により、以下の説明と、添付図面、および請求の範囲の理解により明らかになるであろう。
【００２１】
本発明の利点は、本発明による種々の実施形態（必ずしも寸法通りに描いていない）を示す、以下の詳細な説明と図面の理解から明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の一態様は、血管アクセスポートに関する。特に、ある実施例では、本発明は、少なくとも約１ｍｌ／秒の液体流速（流量率）を調節するための血管アクセスポートを作ることを意図する。さらに、本発明は、セプタムおよびアクセスポートのハウジングで画定されるリザーバ内に生じる少なくとも約１２．６ｋｇ／ｃｍ２ （１８０ｐｓｉ）の圧力に耐える血管アクセスポートを作ることを意図する。実施例では、アクセスポートは約５．６ｋｇ／ｃｍ２〜約１２．６ｋｇ／ｃｍ２（約８０ｐｓｉ〜約１８０ｐｓｉ）までの圧力の範囲内で動作するように構成する。このようなアクセスポートは、患者に液体を注入する（例えば、ＣＴまたはＭＲモニタリングのために患者に造影剤を注入する）場合の使用に有利である。
【００２３】
一般に、アクセスポートは、これらに限定されるものではないが、ヒューバー針と、外周に配置されたカニューレを有するトロカールまたはいずれかの他の適切なアクセス機構を含む、中空の細長素子（例えばカニューレまたは針）により繰り返し刺入または穿刺することのできるセプタムを拘束するハウジングを有する。本明細書で使用する”カニューレ”または”針”の用語は、当業界で既知であるか、または本明細書に記載するように、いかなる細長素子（例えば、カニューレ、針、外周に配置されたカニューレを有するトロカールなど）を含み、これらに限定されるものではない。このようなセプタムは、上述のアクセス機構を用いてセプタムを穿刺することより形成される通路を、適切な圧迫力の下で封止する材料（例えばシリコーン）を有する。したがって、セプタムは、アクセス機構を用いてセプタムを穿刺することにより形成される通路の閉止を容易にするように、少なくとも部分的に圧迫することができる。本発明は、アクセスポートのリザーバからの流速（流量率）が、ハウジングまたはセプタムを傷つけることなく、またはリザーバの構造的一体性を損なう（例えばセプタムがハウジングから分離する）ことなく、少なくとも約１ｍｌ／秒にすることができるようにするためのハウジングおよびセプタムを構成することを意図する。
【００２４】
一実施例では、アクセスポートは、合体してハウジングを画定するキャップおよびベースを有し、このハウジングにセプタムを位置決めしてリザーバを形成する。例えば、図１および２の各々は、ベース５６と、キャップ５４と、セプタム８０と、アウトレットステム７０を有するアクセスポート５０の分解斜視図および縦断面図である。図１および２に示すように、キャップ５４およびベース５６を、キャップ５４とベース５６との間にセプタム８０を拘束するよう構成する。一般に、キャップ５４およびベース５６は連係して、セプタム８０を拘束するハウジング６０を形成し、少なくとも部分的にリザーバ６６を画定する。さらに説明すると、キャップ５４は、セプタム８０の一部分が貫通できる開孔５５を有し、ベース５６は、少なくともセプタム８０の部分を受け入れるよう構成された窪み５７を有する。したがって、セプタム８０の一部分をベース５６の窪み５７内に配置し、キャップ５４の開孔５５をセプタム８０に配置することにより、連係してアクセスポート５０内に、アウトレットステム７０の管腔（ルーメン）に連通するリザーバ６６を画定する構成とする。他の実施例では、複数のリザーバを、ハウジングおよび少なくとも１個のセプタムにより連係して画定することもできるが、これらに限定されるものではない。例えば、複数のリザーバ（または１個のリザーバ）を有する、当業界で既知のいずれのアクセスポートも、本発明のいずれかの態様に含まれるが、これらに限定されるものではない。図１に示す通り、アウトレットステム７０の部分を、ベース５６内に形成される開孔５８内に位置決めし連結する。
【００２５】
アクセスポート５０はアウトレットステム７０を有することを図１は示すが、他の実施例のアクセスポート５０はアウトレットステム７０を設けないようにすることもできる。したがって、図２はアウトレットステム７０のないアクセスポート５０を示す。すなわち、本発明は、アクセスポート５０は随意にアウトレットステム７０を有することができるかまたは他の構成にできることを意図する。例えば、ある実施例では、アウトレットステム７０は必要に応じてベース５６の部分として形成することもできる。他の実施例では、カテーテルをアウトステム７０なしでアクセスポート５０に（例えば開孔５８に）動作可能に接続することができる。しかし、さらに他の実施例では、アクセスポート５０は単に少なくとも１個の、リザーバ６６と連通し、ハウジング６０に貫通して、必要に応じて液体を流すことができる構造の出口路（例えば開孔５８）を有するものとすることができる。図２に示す通り、セプタム８０の一部分はキャップ５４とベース５６との間に位置決めされ、リザーバ６６を危険にさらす程度まで損傷または変形させる（例えば破裂する）ことなく、リザーバ６６内に生じる選択された圧力の大きさに耐えるよう構成する。
【００２６】
例えば、図１および２に示す通り、キャップ５４は随意で、セプタム８０の端縁に隣接して形成する周方向リング状部３０を有する。このリング状部３０は、アクセスポート５０のリザーバ６６内に生じる圧力によるキャップ５４の変形を防止するよう構成する。図３に示す通り、キャップ５４の頂面図では、リング状部３０はほぼ円形をなす。さらに、リング状部３０はセプタム８０の周縁の形状に適合する形状とするかまたはセプタム８０の周縁とは異なる形状にすることもできる。さらに、リング状部３０のサイズを、キャップ５４の開孔５５に隣接するキャップ５４の領域に選択した剛性を与えるように、選択する。このような構成による、リザーバ６６内に生じる圧力によるキャップ５４の変形を防止することができる。例えば、図２に示す通り、横方向の厚さＴＬと、垂直方向の厚さＴＶまたはこの両方を、セプタム８０の周縁に隣接する（例えば開孔５５に隣接する）キャップ５４の領域に選択した剛性を与えるように選択する。実施例では、アクセスポート５０の全体的な高さＨ（図２）は、約１５．２４ｍｍ（約０．６００インチ）以下とする。
【００２７】
他の実施例では、リング状部３０は、ほぼ長方形、ほぼ三角形、ほぼ長円形、ほぼ多角形、または他の幾何学的形状とすることができるが、これらに限定するものではない。例えば、図４は、ほぼ三角形のリング状部３０の頂面図を示す。さらに、図５は、ほぼ矩形のリング状部３０を示す。
【００２８】
さらに説明すると、アクセスポート５０のハウジング６０は、生体適合性材料、例えばポリスルホン、チタンまたは他のいずれかの適切な生体適合性材料により構成する。キャップ５４およびベース５６を、ほぼ接合ラインに沿って互いに連結させ、固定するかまたは互いに付着させる。特に、実施例では、キャップ５４およびベース５６はチタンを有し、溶接、ろう付け、はんだで接合するか、または別の方法で互いに付着させる。このような構成により、キャップ５４とベース５６との間にセプタム８０を拘束するための適切な機械的強度を提供することができ。随意で、キャップ５４およびベース５６を、少なくとも１個の締め付け素子（例えば少なくとも１個のボルト、少なくとも１個のねじ、少なくとも１個のリベット、その他）、少なくとも１個の接着剤または同様の結合機構の組み合わせにより、互いに結合することができる。同様に、ある実施例において、アウトレットステム７０およびベース５６は各々チタンを有し、溶接または別の方法により接着もしくは互いに結合する。
【００２９】
さらに詳細に、図６は、患者６７内に埋め込んだアクセスポート５０を示す。ある実施例では、必要に応じて、患者６７内にアクセスポート５０を付着するために縫合糸を使用する。ハウジング６０を患者６７内に埋め込んだ後、セプタム８０の上面は、患者６７の表皮面７６の表面と同一平面上にするまたは整列させ、患者表皮の外側からリザーバ６６内への経皮通路を作るために繰り返し穿刺する。アウトレットステム７０は、リザーバ６６から、アウトレットステム７０を通って、患者６７内部へ突入する液体連通通路を作る。一般に、カテーテル７３を、リザーバ６６の液体の連通のためおよびリザーブ６６から所望の遠隔部位の患者６７の内部に液体を導入するために、アウトレットステム７０に連結する。実施例では、カテーテル７３を、アクセスポート５０から少なくとも部分的に患者の大静脈内に突入させる。このような構成により、患者の心臓の近位に造影剤を注入することができる。例えば造影剤が有害性（例えば放射性または別の傷害性）を有する場合、患者の大静脈へ直接注入することにより、選択された撮像手順の実行に必要な造影剤の総量を減らすことができる。
【００３０】
図６に示す通り、カニューレ９０をセプタム８０に挿通し、液体をリザーバ６６内へ注入する。例えば、液体をリザーバ６６内へ、リザーバ６６内に圧力（例えば正圧）を生じさせる流量で注入する。例えば、図６において”ＰＲ”と付記した正圧は、リザーバ６６内に生じて、リザーバ６６を部分的に画定するセプタム８０の部分に作用し、セプタム８０の部分に作用するこのような圧力ＰＲはセプタム８０に力を生じさせる。同様に、圧力ＰＲが作用するベース５６の表面にも力が生じる。一つの実施例では、キャップ５４はベース５６と連結して、セプタム８０を適切に配置する構造とし、セプタム８０に働く力に対してハウジング６０へセプタム８０を連結させる。したがって、セプタム８０と、キャップ５４およびベース５６は、圧力ＰＲにより生じる付随の力適応できる構造とする。一つの実施例では、アクセスポート５０は、リザーバ６６の少なくとも約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２ （約１８５ｐｓｉ）の圧力ＰＲに（損傷を受けることなく）適応できる構造とする。他の実施例では、アクセスポート５０は、リザーバ６６に約２．５９ｋｇ／ｃｍ２〜４．５５ｋｇ／ｃｍ２（約３７ｐｓｉ〜約６５ｐｓｉ）の圧力範囲に（損傷を受けることなく）適応できる構造とする。
【００３１】
さらに詳細には、自動（高圧）注入の間、液体の流れＦは、カニューレ９０を通って流れるように生じる。液体の流速すなわち、流量率（”Ｆ”で付記した矢印により図６に示す）は、少なくとも約１ｍｌ／秒とする。他の実施例では、液体流速Ｆは、約１ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の間とする。自動注入の間、カニューレ９０内に生じる圧力Ｐi は少なくとも約２．１ｋｇ／ｃｍ２ （約３０ｐｓｉ）である。したがって、カニューレ９０は、上述の圧力と、流速（流量率）またはこれら両方に関連する力に耐える構造とする。さらに詳細に説明すると、カニューレは注入装置（例えば安全ウイング付注入装置／ＳＷＩＳ）の一部をなすかまたはアクセスポートおよび自動注入システムを伴う使用のための構造とした他の注入装置の一部をなす。
【００３２】
特に、図７は、５ｍｌ／秒の率で液体を注入する間、アクセスポートと連通する注入装置（詳細は以下に述べる）を有する注入システム内の様々な場所で測定した圧力のグラフを示す。図７に示す通り、自動注入器のシリンジバレル内の圧力は、通常約１８．５５ｋｇ／ｃｍ２（約２６５ｐｓｉ）である。さらに、注入装置入口の圧力は、通常約１５．７５ｋｇ／ｃｍ２（約２２５ｐｓｉ）であり、アクセスポートのリザーバ内の圧力は、通常約２．８ｋｇ／ｃｍ２（約４０ｐｓｉ）である。したがって、注入装置を通した圧力降下は約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２（約１８５ｐｓｉ）になる。図７に示す通り、アクセスポートから突出するカテーテルの末端部の圧力は、通常０ｐｓｉである。例えば、液体粘性、チューブ内径（すなわち内腔断面のサイズ）、流れ経路の長さおよび流速（流量率）などの多くの要因が、注入システムを通して液体を流す間に注入システム内（例えば注入装置、アクセスポートなど）に生じる圧力（および圧力降下）に影響する。したがって、図１〜図３に示すアクセスポート５０の上記の内容から明らかなように、このようなアクセスポート５０は、選択された流速（流量率）およびアクセスポート５０のリザーバ６６内に生じる関連圧力ＰＲに適応する構造とする。
【００３３】
他の実施例では、セプタム、ハウジングまたはこの双方は、機械的にセプタムの少なくとも一部を固定または拘束する構造とする。例えば、実施例では、セプタムは、ハウジングに設けた相補的な連結形状部により嵌合または連結する構成とした少なくとも１個の連結形状部を有する。例えば、雄および雌形状部（以下のものに限定するものではないが、例えば、リブ、フランジ、相互連結形状部、ほぞ‐ほぞ穴形状部、突起‐溝形状部、Ｔ字状部‐溝孔構造、あり継ぎ構造、スナップ嵌合構造、タブ‐スロット、または当業界で既知の他の連結形状部）は、セプタムに設けた少なくとも１個の連結形状部とハウジングに設けた少なくとも１個結形状部と相補的な構造を有するが、これに限定されるものではない。本明細書に記載する「ほぞ」は、継ぎ手形成のためにほぞ穴に少なくとも部分的に挿入する突出部を意味する。本明細書に記載する「ほぞ穴」は、継ぎ手形成のために少なくとも部分的にほぞを収容する材料内に形成する窪み、穴、溝または溝孔を意味する。
【００３４】
通常、実施例では、セプタムは、ハウジングに含まれる相補的なほぞ穴領域に連結するための少なくとも１個のほぞ領域（すなわち少なくとも１個の連結形状部）を有する。したがって、ハウジングは、セプタムのほぞ領域の少なくとも一部を収容するための窪み（すなわち少なくとも１個の相補的な形状部）を有する。例えば、図８は、ほぞ領域２７０を有するセプタム１８０の実施例の断面図を示す。ほぞ領域２７０は部分的に、半径方向に距離が増加するにしたがって（すなわち、セプタム１８０の中心軸からの半径方向の距離に比例して、言い換えればキャップ１５４のリム１５９からベース１５６の側面１５７の方向に向かって）、高さ（すなわちセプタム１８０の下面１８３から測った高さ）が増加するセプタム１８０のテーパー面１８７を有する。したがって、図８に示す通り、（ほぞ領域２７０の半径方向に最内側の領域で測定した）セプタム１８０の高さＣＧＭＩＮは、（ほぞ領域２７０の半径方向に最外側の領域で測定した）セプタム１８０の高さＣＧＭＡＸより小さい。さらに、ほぞ領域２７０は、セプタム１８０の連続周縁形状部（すなわち環状形状部）をなすか、または１個以上の周方向に互いに分離した個別領域を有するが、これらに限定されるものではない。さらに、図８に示す通り、（キャップ１５４およびベース１５６を有する）ハウジング１６０は通常、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するための相補的なほぞ穴領域（すなわち環状に延在する窪み）を画定する。特に、相補的なほぞ穴領域は、ベース１５６の側面１５７、ベース１５６の下面の端縁２７３およびキャップ１５４のテーパー状面１７２により画定ことができる。このような構成により、選択された最大圧力がアクセスポート１５０のリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０のほぞ穴領域内のセプタム１８０のほぞ領域２７０の一部を固定、拘束または保持することができる。
【００３５】
他の実施例では、アクセスポートは、複数のテーパー状面を有するほぞ領域を有するセプタムを含む。例えば、図９は、テーパー面１８７、テーパー面１８９およびテーパー面１９１を含むほぞ領域２７０を有するセプタム１８０の縦断面図を示す。さらに、図９に示す通り、ハウジング１６０は通常、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するために、テーパー状の窪みによる相補的なほぞ穴領域を画定する。特に、相補的なほぞ穴領域を、ベース１５６の側面１５７、ベース１５６の下面の端縁２７３、キャップ１５４のテーパー面１７２、ベース１５６のテーパー面１９３およびキャップ１５４のテーパー面１９５により、ハウジング内に画定することができる。このような構造により、選択された最大圧力がアクセスポート１５０のリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０のテーパー状の窪み内にセプタム１８０のほぞ領域２７０の少なくともいくつかを固定、拘束または保持することができる。
【００３６】
要約すると、セプタムの一部は通常、ハウジング内に形成する相補的なほぞ穴領域に連結する少なくとも１個のほぞ領域を有する。他の実施例では、ハウジングの少なくとも一部は通常、セプタム内に形成する相補的なほぞ穴領域に連結するためのほぞを有する。上述した通り、ほぞ領域およびこれと相補的なほぞ穴領域は１個以上のテーパー状面を有する。他の実施例では、ほぞ領域およびこれと相補的なほぞ穴領域は、Ｔみぞまたは他の非テーパー形状を有するが、これに限定されるものではない。例えば、図１０は、ほぞ領域２７０を有するセプタム１８０を含むアクセスポート１５０の実施例の縦断面図を示す。さらに、相補的なほぞ穴領域を、ほぞ領域２７０の少なくとも一部を収容するためにハウジング１６０内に画定する。図１０に示す通り、ほぞ穴領域を、ベース１５６の環状拡張部または突部２０３により画定する。このような構造により、予想される最大圧力がリザーバ１６６内に生じた場合にも、ハウジング１６０内のセプタム１８０のほぞ領域２７０における少なくとも一部を固定、拘束または保持し、また適切にリザーバ１６６を封止することができる。さらに、図８〜図１０に示すいかなるほぞ領域およびほぞ穴領域の実施例も、これらに限定されるものではないが、拡張部、隆起部、突部、窪み、溝、溝孔等で説明することができると理解されたい。
【００３７】
本発明が意図する他の態様は、セプタムの端縁の少なくとも一部をハウジングに連結または付着する手法に関する。このような形態により、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で液体を注入するアクセスポートを使用する間、アクセスポートの一体性を保つことができる。例えば、実施例では、セプタム周縁の側面の少なくとも一部を、ハウジングの少なくとも一部へ付着する。図１１は、ハウジング６０に隣接するセプタム８０の周縁の少なくとも一部を、セプタム８０に隣接するキャップ５４およびベース５６の片方または両方に付着したアクセスポート５０の縦断面図を示す。特に、図１１に示す通り、（キャップ５４およびベース５６に隣接する）セプタム８０の周縁は、上側側面領域９７と、上側環状領域９３と、下側環状領域９１および下側側面領域９５を有する。したがって、実施例では、接着剤（すなわち、膠、エポキシ、セメント、テープまたは当業界で既知の他の接着剤）は、上側側面領域９７と、上側環状領域９３と、下側環状領域９１および下側側面領域９５の少なくとも一部を、キャップ５４またはベース５６にそれぞれ接着する。このような形態により、セプタム８０をハウジング６０へ固定することができ、自動注入のために適切な比較的強固なアクセスポート５０を提供することができる。当然のことながら、さらに、セプタムの周縁領域の少なくとも一部を付着することは、（セプタムまたはハウジングのどちらかの）ほぞ領域の少なくとも一部を（ハウジングまたはセプタムのどちらかの）ほぞ穴領域へ付着することを含むが、これらに限定されるものではない。
【００３８】
上述した通り、セプタムの変形は、アクセスポートを介した自動（高圧）注入の実施に関して、設計時の検討事項である。さらに、本発明の一態様では、選択された規模を超える変形に対して構造的に補強するかまたは別の方法で制限するセプタムに関する。特に、本発明は、アクセスポートのチャンバまたはリザーバ内に生じた圧力によるアクセスポート内のセプタムの変形を、すくなくとも１個の構造素子により防止するかまたは制限する構造とすることを意図する。セプタムの変形を制限する少なくとも１個の構造素子を有するアクセスポートのいくつかの実施例が、２００５年１１月１５日付けで出願された米国特許出願第６０／７３７，４６６号に開示されており、この参考を本出願に付記する。米国特許出願第６０／７３７，４６６号に記載のいずれアクセスポートも、自動注入器用に構成することができる。
【００３９】
実施例では、本発明は、セプタムを非周縁領域でハウジングに構造的に連結することを意図する。言い換えれば、本発明の一態様では、アクセスポートのハウジングにセプタムの非周縁部位を連結することに関する。例えば、図１２は、リザーバ６６を形成するセプタム１２０を拘束するキャップ５４およびベース５６を有する、本発明によるアクセスポート１１０の実施例を示す。随意に、キャップ５４は、上述の通りセプタム周縁に近接するリング状部を有する。加えて、アウトレットステム７０により、液体をリザーバ６６に連通させて注入または液体抽出プロセスを実行することができる。図１２に示す通り、構造素子１１２がセプタム１２０とハウジング６０との間に延在する。特に、構造素子１１２は通常、セプタム１２０の下面１２１からベース５６の上面１６５まで延在する。したがって（正／負の）圧力がリザーバ６６内に生じた場合、構造素子１１２により、セプタム１２０の下面１２１のベース５６の上面１６５に向かうまたは遠ざかる偏向または変形を防止する。通常、構造素子は、１個以上の選択された方向（すなわちベース５６の上面１６５に向かうかまたは遠ざかるか）に関するセプタムの変形を防止する。
【００４０】
通常、構造素子（例えば、構造素子１１２）は、少なくとも１個のワイヤ、少なくとも１個のピンもしくは柱状素子、または少なくとも１個のフィラメントにより構成することができるが、これらに限定されるものではない。このような構造素子は、チタン、スチール（例えば、ステンレススチール）、ポリマー（例えば、デルリン［登録商標］、ナイロン、ポリエステル、ケブラー［登録商標］、（発泡および非発泡の）ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリウレタン等）、または当業界で既知の他の材料により構成することができる。他の実施例では、構造素子は、繊維補強マトリクスのような複合材料により構成する。実施例では、構造素子は、シリコーンマトリクス内に分散配置または整列させたファイバー（ガラス、カーボン等の繊維）により構成する。
【００４１】
さらに、構造素子１１２を、接着剤、溶接、スナップ嵌合、セプタム１２０の構造素子１１２の一部の周りにおける成形、逆にセプタム１２０内への構造素子１１２の一部の埋め込み、または他の適切な方法により、セプタム１２０に連結する。同様に、構造素子１１２を、接着剤、溶接または構造素子１１２の一部をベース５６内に埋め込むことにより、ベース５６に連結する。随意で、構造素子１１２の弾性係数はセプタム１２０の弾性係数を超える値となるようにすることができることも理解されたい。このような形態により、構造素子１１２は（例えば「自動（高圧）注入」プロセス中に）リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。
【００４２】
図１３は、構造素子１１２の他の実施例を有する本発明によるアクセスポート１１０の縦断面図を示す。特に、図１３に示す通り、構造素子１１２は、セプタム１２０内に少なくとも部分的に位置決めした矢尻状端部１１６を有する。このような形態により、構造素子１１２をセプタム１２０へ連結させ、リザーバ１６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。さらに、図１３に示す通り、構造素子１１２の矢尻状端部１１６は、随意に先のとがったものにすることができる。さらに、矢尻状端部１１６の尖端は、セプタム１２０の上面１２３に指向する。このような構造により、セプタム１２０に挿通し、矢尻状端部１１６に接触したカニューレをそらし、カニューレが構造素子１１２から離れる方向に転向させることができる。随意に、他の実施例では、構造素子１１２をベース５６を貫通させて、ベース５６の下面１１３に接着させる。
【００４３】
アクセスポートの他の実施例では、構造素子はセプタムを貫通する。例えば、図１４は、セプタム１２０の下面１２１からセプタム１２０の上面１２３に貫通する構造素子１１２を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図１４に示す通り、構造素子１１２はベース５６の上面１６５までも延在し、機械的にセプタム１２０をハウジング６０に連結する。随意に、構造素子１１２は、セプタム１２０内に配置しセプタム１２０をハウジング６０に連結する構造とした少なくとも１個の矢尻状部を有することができる。さらに、構造素子１１２を、必要に応じてセプタム１２０の上面１２３および下面１２１の少なくとも１個に接着することができる。当然のことながら、セプタム１２０の上面１２３を機械的にハウジング６０へ連結することは、リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止するのに役立つ。
【００４４】
さらに本発明は、構造素子を、セプタムの上面の選択された領域上に延在する支持素子と組み合わせて使用することも想定している。このような支持素子は、セプタムの上面に隣接して配置し、（例えばセプタムが変形した場合に）選択された面領域にセプタムの上面を接触させる構造とする。例えば、図１５は、ハウジング６０からセプタム１２０の上面１２３まで延在する構造素子１１２を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。さらに、構造素子１１２は、セプタム１２０の上面１２３に隣接して配置する支持素子１１４に連結する。このような形態によれば、支持素子１１４とセプタム１２０の上面１２３との間に選択された量の接触領域を提供することができる。支持素子１１４とセプタム１２０との間のこの種の選択された接触領域は、リザーバ６６内に圧力が生じた場合にこの圧力を選択された領域またはセプタム１２０の領域に分散することにより、セプタム１２０内の有害な高圧力を減らすことができる。加えて、支持素子１１４は（例えば視覚または触覚により）観測可能であるため、セプタム１２０を貫通させてカニューレを挿入する場合に回避することが可能である。さらに、支持素子１１４を自動注入可能であるポート１１０を認識するのに使用することもできる。
【００４５】
アクセスポートの他の実施例では、構造素子は、セプタムの変形を防止するためにアクセスポートのハウジングに接着されるセプタムの一部を有する。例えば、図１６は、ハウジング６０へ連結した突出脚部１２４（すなわち構造素子）を設けたセプタム１２０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。とくに、図１６では、突出脚部１２４は、通常、セプタム１２０の下面１２１からベース５６の上面１６５まで延在する。突出脚部１２４は、ベース５６の上面１６５に接し、接着する。このような形態により、リザーバ１６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止することができる。実施例では、突出脚部１２４は、セプタム１２０の下面１２１に関してほぼ中心にある（すなわち、下面１２１のほぼ重心に位置する）。突出脚部１２４をセプタム１２０の下面１２１に関して中心に配置することは、他のどの突出脚部の配置よりも大幅に、セプタム１２０の下位面１２１の変形を防止する。さらに、図１６が突出脚部１２４を示す場合に、本発明は、少なくとも１個の突出脚部（すなわち１個以上の突出脚部）がセプタム１２０から突出しまたは連結することを意図しているが、これらに限定されるものではない。他の実施例では、少なくとも１個の突出脚部を、締まり嵌めまたはいわゆる「スナップ嵌合」により、アクセスポートのハウジングに連結する。特に、図１７に示す通り、突出脚部１２４は、ベース５６に形成した窪み１５５内に嵌合する構造とした球根状または球状の端部１２５を有する。窪み１５５は、ベース５６の上位面１６５に形成した球状端部１２５の最大直径より小さい開口部を有し、球状端部１２５をこの開口部に嵌合し、窪み１５５の一部へ「スナップ動作」で嵌合することができる。随意で、突出脚部１２４は、（例えば、接着剤による付着、溶接、ピン留めまたは他の適切な方法によるベース５６内に形成した窪み１５５への付着により）付着させることができる。このような形態により、セプタム１２０をアクセスポート１１０のベース６０へ連結することができ、リザーバ６６内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形を防止するかまたは制限することができる。
【００４６】
本発明の他の態様は、セプタムの上面の少なくとも一部をその変形内に拘束するかまたは制限することを意図する。実施例では、少なくとも１個の構造素子を、構造素子に向かう方向のセプタムの変形を制限するために、セプタムの上面上にまたは隣接して配置する。言い換えれば、少なくとも１個の構造素子が、セプタムの上面の少なくとも一部上にまたは隣接して側方に延在する。例えば、図１８は、セプタム１３０の上面１３３に隣接して配置する構造素子１３２およびセプタム１３０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。随意で、構造素子１３２を、セプタム１３０の上面１３３に結合または付着することができる。構造素子１３２は、リザーバ６６から通常離れる方向におけるセプタム１３０の変形を防止する構造とする。実施例では、構造素子１３２は、セプタム１３０の上面１３３をほぼオーバーレイするかまたはカバーする。随意で、構造素子１３２を、少なくとも部分的にセプタム１３０内に組み込むことができる。実施例では、構造素子１３２はカニューレ（例えば針）により穿刺可能とする。他の実施例では、構造素子１３２は、セプタム１３０の上面１３３の選択した部分（すなわち少なくとも一部）をカバーし、カニューレをセプタム１３０の上面１３３に挿入することができる開口部または開孔を構造素子１３２に形成することができる。随意で、構造素子１３２の弾性係数をセプタム１３０の弾性係数より大きくし、セプタム１３０の変形を構造素子１３２により選択された大きさに抑制することができる。さらに、図１８に、構造素子１３２のほぼ均一な厚さ（「ｔ」と付記）を示すが、本発明は構造素子１３２の厚さ「ｔ」は変動するものも意図し、これらに限定されるものではない。例えば、構造素子１３２の厚さ「ｔ」は、セプタム１３０の上面１３３の重心の近傍で最大となるようにする。さらに、図１８に示す通り、構造素子１３２は、キャップ５４とセプタム１３０との間に配置することができる。構造素子１３２を、必要に応じて、キャップ５４およびセプタム１３０の片方または双方に付着することができる。例えば、構造素子１３２をキャップ５４およびセプタム１３０の片方または双方に、接着剤による付着、溶接、機械的固定または別な方法で適切に連結することができる。さらに、構造素子１３２は、金属（例えば、チタン、スチール等）と、ポリマー（例えば、デルリン［登録商標］、ポリウレタン、ナイロン等）または他の適切な材料により構成することができる。他の実施例では、以下に記載する通り、構造素子１３２は比較的密に織成した織物により構成し、（身体の内腔に接触する可能性のある配置の場合に）組織の内増殖を防止する。他の実施例では、構造素子１３２はほぼやわらかいかまたは圧縮可能なポリエステルにより構成し、（身体の内腔に接触する可能性のある配置の場合に）アクセスポート１１０のセプタム１３０に挿通するカニューレにより生ずる穿刺部における組織癒合を促進する。
【００４７】
他の実施例では、本発明は、少なくとも１個の構造素子をセプタム内に少なくとも部分的に組み込み、セプタムの少なくとも一部に側方に延在させることを意図する。例えば、図１９は、セプタム１２０に、側方に（すなわち、セプタム１２０により閉じるハウジング６０内の開口部全体に）延在する構造素子１４０およびセプタム１２０を有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図１９に示す通り、構造素子１４０をハウジング６０（例えば、キャップ５４またはベース５６）へ添着する。特に、図１９に示す通り、構造素子１４０を、連結領域１４７および１４３でキャップ１５４に付着する。加えて、選択されたレベルの圧力が構造素子１４０内に生じるため、必要に応じて、所望のレベルのセプタム１２０の変形耐性（すなわち可撓性）を提供する必要がある。このような形態により、構造素子１４０の延在方向に通常直交する方向に、所望の度合いのセプタム１２０の変形耐性を提供することができる。
【００４８】
他の実施例では、セプタムの変形を制限するために、構造素子を上面に近接して配置する。例えば、図２０は、ハウジング６０内に配置したセプタム１３０とセプタム１３の上面１３３に近接して配置した構造素子１５０とを有するアクセスポート１１０の縦断面図である。図２０に示す通り、構造素子１５０は、セプタム１３０の上面１３３の少なくとも一部の側方に延在する。したがって、構造素子１５０により、セプタム１３０は構造素子１５０と接触する前に、選択された距離（例えば、「Ｇ」と付記した部分）だけ変形可能である。さらに、構造素子１５０はキャップ５４に付着し、セプタム１３０と構造素子１５０との間の接触に応じて選択された大きさの可撓性を示すように選択的に張力をかける。実施例では、構造素子１５０の可撓性またはバネ定数は、リザーバ６６内に生じた圧力に応じて、セプタム１３０の大きな可撓性またはバネ定数を超える値を示す。
【００４９】
他の実施例では、構造素子を、セプタムの変形を制限するためにセプタムの下面に近接または当接して配置する。例えば、図２１は、ハウジング６０内に配置したセプタム１２０とセプタム１２０の下面１２１に近接して配置した構造素子１７０とを有するアクセスポート１１０の縦断面図を示す。図２１に示す通り、構造素子１７０は、セプタム１２０の下面１２１の少なくとも一部で側方に延在する。さらに、構造素子１７０は下面１２１に付着させるかまたは別の方法でセプタム１２０の下面１２１に連結する。従って、構造素子１７０はセプタム１２０の変形を防止する。さらに、構造素子１７０は、セプタム１２０の変形を適切に防止するために、ベース５６へ付着する（さもなければハウジング６０へ連結する）。随意で、構造素子１７０は、構造素子１７０にかかる力に応じて、選択された可撓性を示すように選択的に張力をかけることができる。随意で、構造素子１７０の可撓性またはバネ定数は、セプタム１２０の大きな可撓性またはバネ定数より大きくすることができる。
【００５０】
図１８〜図２１につき説明すると、構造素子１３２、１４０、１５０または１７０は、いくつかの実施例で、例えばワイヤ、リボン、スレッド、ファイバー、柱状素子などのような細長素子により構成することができると理解されたい。したがって、このような少なくとも１個の細長素子を、セプタムの上面に隣接または近接して選択したパターンに配置する。さらに、実施例では、セプタムの下面に近接または当接するか、セプタムの上面に近接または当接するよう配置した構造素子は、メッシュ（例えば、金属またはプラスチックメッシュ、織物、ファイバーメッシュなど）により構成することができる。例えば、実施例では、構造素子は、互いに封止するファイバーまたはスレッド（例えば、シリコーンで被膜したファイバーまたはスレッド）による織物で構成することができる。この種の構造により、カニューレが織物を貫通し、織物がカニューレに対して封止することができ、しかしカニューレを取り外した場合にもファイバーまたはスレッドは互いに封止させることができる。加えて、本発明に基づいて、図１８〜図２１に示す構造素子１３２、１４０、１５０または１７０を、様々な構成に配置可能であることを理解されたい。
【００５１】
例えば、図２２は、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の実施例の頂面図を示し、これらの構造素子１３２、１４０と、１５０または１７０は、通常三角形の形状またはパターンをなすよう構成する。他の実施例として、図２３に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、２個の部分的に交差する通常矩形の形状またはパターンに構成する。さらに他の実施例として、図２４に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、第１の複数のほぼ平行なラインおよび第２の複数のほぼ平行なラインを有するパターンに構成し、この第１の複数のほぼ平行なラインは第２の複数のほぼ平行なラインに対してほぼ直交する構成とする。他の実施例として、図２５に、図１８〜図２１に示すアクセスポート１１０の頂面図を示し、この構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、互いに交差する２本のほぼ直線（すなわち線状）の部材を有するパターンに構成する。図２５に示す通り、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０は、互いにほぼ直交する構成となる。図２２〜図２５に示す通り、構造素子１３２、１４０、１５０、１７０を、選択された連結領域でキャップ５４に固着する。このような形態は、セプタムの変形を制限する度合いを変化可能とし、一方でカニューレ（例えば、針）による穿孔のために、セプタム表面への十分なアクセスを可能にする。
【００５２】
他の実施例では、本発明は、構造素子を少なくとも部分的にセプタム内に組み込んでおり、セプタム内に二次元的なまたは平面的の形状、構成または形態（例えば、円、楕円、三角形、矩形など）をとることを意図する。例えば、図２６は、セプタム１２０内に延在する構造素子１４１およびセプタム１２０の部分頂面図を示す。さらに詳細に、図２７には、セプタム１２０内に埋設した構造素子１４１を有するセプタム１２０を断面に切ったものの斜視図である。図２６および２７に示す通り、この実施例では、構造素子１４１は、ほぼ円形である。さらに一般的には、必要に応じて、１個以上の構造素子１４１を少なくとも部分的にセプタム（例えば、上述したセプタム１２０または１３０）内に埋設する構成とする。例えば、複数の構造素子１４１をセプタム１２０内に埋設し、図２８の部分頂面図に示す通り、互いにほぼ同心状に配置する構成とする。構造素子１４１は、（図２６〜図２８に示す通り）通常細長く、さらに一般的にはセプタム１２０の変形を防止する構造とする形状およびサイズを示すが、これらに限定されるものではない。したがって、１個以上の構造素子１４１が、たとえば、截頭円錐形、半球状、または別の形状としたワッシャまたはディスクで実施することができることを良く理解されたい。他の実施例では、少なくとも一個の構造素子１４１は、通常、円環状に形成する。さらに、少なくとも１個の構造素子１４１は、セプタム１２０の変形に対して所望のレベルの耐性（例えば、可撓性）を付与するために、少なくとも１個の選択された特性（例えば、選択されたサイズ、形状、弾性、強度など）を示す。このような形態により、アクセスポートのリザーバ内に生じた圧力によるセプタム１２０の変形に対して選択されたレベルの耐性を与えることができる。
【００５３】
本発明の他の実施例では、セプタムは、アクセスポートのリザーバ内に生じた圧力による変形を防止する曲率を有する。例えば、図２９は、ほぼ凹状の上面１２３とほぼ凸状の下面１２１とを有するセプタム１２０を示す。さらに説明すると、ほぼ凹状の上面１２３およびほぼ凸状の下面１２１を、外力のかかっていない状態（すなわち圧力のかかっていない平衡状態）におけるセプタム１２０で示す。このような形態により、ハウジング６０の上面を超えて変形しないようにセプタム１２０の上面１２３は（すなわち、セプタム１２０の変形を介して）強制的に平らになるため、アクセスポート１１０のリザーバ６６内に生じた圧力による変形に対してセプタム１２０の耐性を与えることができる。他の実施例では、セプタムを（例えば、ほぞおよびほぞ穴型連結またはセプタムとハウジングとの間における他の周縁の連結形状部により）圧縮し、セプタムをハウジング内に組み込む際のセプタムの曲率を減らすかまたは排除する。しかし、このような形態により、セプタムの大きな可撓性またはバネ定数を増加させる。随意で、（上述した）構造素子を、セプタム内またはセプタム表面に有することができ、外力のかかっていない状態で凹状または凸状を示すように製造することもできる。このような形態は、ハウジングに連結してセプタムの変形に対する耐性を高める場合に、セプタム内の有利な圧縮応力フィールドを容易にする。
【００５４】
他の構造では、セプタムは、構造フレームまたは骨組、およびカニューレにより作られる穿刺を封止する構造としたより柔軟な材料を設けることができる。詳細には、フレームは、少なくとも約８０のショアＡ硬度の材料により構成する。随意に、フレームには、フレームを剛性化するまたは強化する複数のウィスカ、ファイバーまたは粒子を設けることができる。実施例では、ナイロンファイバー、バリウム硫酸塩などを、フレーム内に分散する。さらに、この種のフレームは、少なくとも部分的に、約５０またはそれ以下のショアＡ硬度（例えば、約４０〜約５０のショアＡ硬度）を示すより柔軟な材料により包囲する。図３０は、リング１８１および１８５と同様に、ほぼ共通の原点または領域から延在する複数のスポーク１７９を有するフレーム１７８の頂面図を示す。図３０に示す通り、リング１８１および１８５の１個または双方との組み合わせによりスポーク１７９は、開孔１８８を形成する。本発明によれば、カニューレの貫通により生ずる穿刺部を封止する構造とした比較的柔軟な材料により、少なくとも部分的にフレーム１７８を包囲する。例えば、図３１は、フレーム１７８およびフレーム１７８を部分的に形成する他の材料１９０を有するセプタム１７７の縦断面図を示す。したがって、材料１９０は、ほぼスポーク１７９を包囲し、開孔１８８内に延在させる。さらに、図３１に示す通り、リング１８１は、セプタム上面１９１およびセプタム下面１９３と同様に、（上述した）ハウジングに連結するためのほぞ領域２７０を形成する。図３１を参照すると、使用中、カニューレは、材料１９０の連続的な上層および材料１９０の連続的な下層に貫通することができる。このような形態により、セプタム１７７に適切な封止能力を提供することができる。多くの変更が本明細書の記載からなされることは、よく理解されたい。例えば、図３２および３３は、フレーム１７８と少なくとも部分的にフレーム１７８を包囲する他の材料１９０とを有するセプタム１７７の様々な実施例の縦断面図を示す。したがって、フレームおよびフレームを少なくとも部分的に包囲する材料は、弓状またはほぼ平面状を示し、選択された厚さを形成し選択された材料（例えばシリコーンなど）を有することができる。
【００５５】
本発明によるセプタムの他の態様では、セプタムは放射線不透過性の材料を有し、Ｘ線をセプタムに投射した場合に選択されたパターンを形成する構造とすることができる。例えば、図３４および３５は、セプタム内の放射線不透過性の材料により形成するパターン１９９の線図的説明図を示す。このような形態は、特定の自動注入プロセスに適応できるアクセスポートであることを認識できるため、またはアクセスポートのセプタムの位置を認識するために有利である。
【００５６】
本発明はさらに、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で液体を注するアクセスポートと組み合わせて使用するいずれの注入装置またはデバイスも、本発明に従って構成できることを意図する。例えば、血管アクセスポートにアクセスする注入装置は、アクセスポートのセプタムを穿刺するための針またはカニューレと、注入装置へ連結する末端部、およびカニューレと末端部との間に延在するチューブ（例えば、少なくとも１個のチューブ部分）を有する。通常、注入装置を構成するいずれのコンポーネントも、選択された流速（流量率）および選択された流速（流量率）により生じた関連圧力に耐える構造とする。
【００５７】
図３６は、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３１４、およびコネクタ３１２を有する注入装置３１０の実施例を示す。チューブ３１４は、コネクタ３１２およびベース３４２へ、通常各々継手３１３および３３９で、固着するかまたは別の方法で連結する。また、図３６に示す通り、クランプ装置３１６は、チューブ３１４を通る液体の流れを許可または遮断する適切な構造とする。さらに、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３１４、およびエンドコネクタ３１２の各々は、注入装置３１０を通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）を調節する構造とする。さらに詳細には、チューブ部分３１４は、損傷をうけることなく少なくとも約１４ｋｇ／ｃｍ２（約２００ｐｓｉ）の圧力に耐える十分な強度を示す。随意に、チューブ部分３１４は、損傷を受けることなく少なくとも約２１ｋｇ／ｃｍ２（約３００ｐｓｉ）の圧力に耐える構成とすることもできる。さらに、注入装置がバーストする部分の圧力（すなわち注入装置３１０のバースト圧力）は、少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）であり、随意に、このバースト圧力を少なくとも約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）とすることもできる。実施例では、チューブ部分３１４は、ほぼ光学上透明かまたは少なくとも部分的に透明とする。ある実施例では、通常、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ（登録商標）のようなポリマーにより構成する。さらに詳細には、チューブ部分は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ５５Ｄのようなポリマー、またはＴＥＣＯＴＨＡＮＥ９５Ａのようなポリマーにより構成する。例えば、チューブ部分３１４が約１．２２ｍｍ±０．０７６ｍｍ（約０．０４８インチ±０．００３インチ）（すなわち、１９ＧＡ）の内径（すなわち、内腔）を有する場合、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ５５Ｄのようなポリマーにより構成する。他の実施例では、チューブ部分３１４が約１．０４ｍｍ±０．０７６ｍｍ〜約０．８６ｍｍ±０．０７６ｍｍ（約０．０４１インチ±０．００３インチ〜０，０３４インチ±０．００３インチ）（すなわち、各々２０ＧＡまたは２２ＧＡ）の内径（すなわち、内腔）により構成し、チューブ部分３１４は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ９５Ａのようなポリマーを有する。随意で、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ型材料のようないずれのポリマーも、少なくともほぼ、例えばジ（２−エチルヘキシル）フタレート（”ＤＥＨＰ”）のような、可塑剤を含まない構成とすることができる。ある実施例では、コネクタ３１２をポリ塩化ビニル（”ＰＶＣ”）により構成し、随意に、少なくともほぼ可塑剤を含まない構成とする。上記で開示した材料は単なる実施例であり、より一般的には、チューブ部分３１４、コネクタ３１２、ベース部材３４０およびカニューレ３５０は、堅牢で効果的な注入装置３１０を提供するために適切ないずれかの材料（例えば、熱可塑材、ポリウレタン、金属など）により構成する。
【００５８】
注入装置３１０の使用中、機械的注入器を、固定構造３１１を介してコネクタ３１２へ動作可能に連結することができる。例えば、固定構造は、ルアー型の連結か他の液体連通構造を有する。したがって、液体は、注射装置を介して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で注入器を通って流れる。上述した通り、注入装置３１０を通した圧力降下は少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）であり、随意に、注入装置３１０を通した圧力降下を少なくとも約１２．９５ｋｇ／ｃｍ２（約１８５ｐｓｉ）とすることができる。
【００５９】
他の実施例では、注入装置は２個のコネクタを有する。ある構造では、１個のコネクタは自動注入を実行する構造であり、別のコネクタはシリンジアクセスを可能にする構造とする。例えば、図３７は、ベース部材３４０、カニューレ３５０、チューブ部分３２４、中間コネクタ３２２、チューブ部分３１４およびエンドコネクタ３１２を有する注入装置３０９を示す。チューブ３１４は、コネクタ３１２および３２２に、通常、継手３１３および３２３で各々固着するかまたは別の方法で連結する。同様に、チューブ３２４は、コネクタ３２２およびベース部材３４０に、通常、継手３２５および３２９で各々固着するかまたは連結する。注入装置３０９は、注入装置３１０に関する上述通りの流速（流量率）および圧力のための構造とする。したがって、チューブ部分３１４および３２４は、材料（例えば、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥであり注入装置３１０に関する上述のサイズのようなポリマー）により構成するが、これに限定されるものではない。同様に、コネクタ３１２および３２２は、注入装置３１０に関する上述のいずれかの材料（例えば、ＰＶＣ）により構成するが、これに限定されるものではない。図３７に示す通り、クランプ装置３１６は、チューブ３１４を通した液体の流れを許可するかまたは遮断する適切な構造とする。同様に、クランプ装置３２６は、チューブ３２４を通った液体の流れを許可するかまたは遮断する適切な構造とする。さらに、コネクタ３１２は、注入器にコネクタ３１２を脱着可能に固着または連結するため、固定構造３１１（例えば、ルアー型連結部、別のスレッド型連結部、または当業界で既知の他のいずれかの固定構造）を有する。また、コネクタ３２２は、注入器にコネクタ３２２を脱着可能に固着または連結するため、固定構造３２１（例えば、ルアー型連結部、別のスレッド型連結部、または当業界で既知の他のいずれかの固定構造）を有する。
【００６０】
ある実施例では、通常、コネクタ３２２にキャップを装着したまま、コネクタ３１２を自動注入することができるようにすることを意図する。他の実施例では、バルブ機構は、コネクタ３２２からの漏れを防止する一方で、コネクタ３１２を通った液体の流れを介してチューブ部分３１４および３２４を通る流れを選択的に許可する。さらに、注入装置３０９を自動注入のために使用しない場合、セプタムを有するキャップを、コネクタ３２２、コネクタ３１２、またはこの双方に連結する。このような形態により、シリンジをセプタムに穿刺することができ、薬剤注入または血液サンプルの採取が可能になる。このような形態により、自動注入器用とシリンジアクセス用と各々分離したコネクタを有する簡便な注入装置を提供することができる。
【００６１】
本発明が意図する他の形態では、自動注入器との連結に使用するチューブは、（例えば、自動注入の）使用中、選択された圧力に耐える構造であり、随意に、捻転にも耐える構造にすることができる。通常、本発明は、チューブが複数の層を有することを意図する。ある実施例では、チューブは比較的高い強度の層を有しており、少なくとも１個の比較的可撓性のある層を有する。したがって、チューブの層は、ＰＴＦＥと、ポリプロピレンと、ポリエーテルエーテルケトン（「ＰＥＥＫ」）と、ポリイミドシリコーン、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）、 ペルフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、エチレンテトラフルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、ポリウレタン（例えば、ＩＳＯＰＬＡＳＴ［登録商標］、ＴＥＣＯＦＬＥＸ［登録商標］、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ［登録商標］、ＣＡＲＢＯＴＨＡＮＥ［登録商標］、ＴＥＣＯＰＬＡＳＴ［登録商標］またはＴＥＣＯＰＨＩＬＩＣ［登録商標］等の熱可塑性ポリウレタン）、またはこれらの組み合わせにより構成する。ある実施例では、層は１個以上の隣接する層と結合することができる。他の実施例では、各々の層は１個以上の隣接する層に関して移動可能かまたは摺動可能にすることができる。
【００６２】
例えば、図３８および３９は内側層４２０と外側層４２２とを有するチューブ４０１の縦断面図および横断面図を示す。通常、内側層４２０および外側層４２２のうち少なくとも一方は、比較的高い強度のものとし、内側層４２０および外側４２２のうち他方を比較的可撓性のあるものとする、またはその逆にすることもできる。ある実施例では、内側層４２０は、比較的高い強度を示し、例えばＰＥＥＫ、ＵＬＴＥＭ［登録商標］、ポリミド等により構成する。さらに、外側層４２２は、比較的可撓性とし、例えばＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＰＲＢＡＸ［登録商標］、ＥＴＦＥ、シリコーン等により構成する。逆に、外側層４２２は、比較的高い強度を有するものとし、例えばＰＥＥＫ、ＵＬＴＥＭ、ポリミドなどを有し、一方で内側層４２０は、比較的可撓性とし、例えばＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＰＲＢＡＸ、ＥＴＦＥ、シリコーンにより構成する。さらに、随意に、チューブは、ある弾性係数を示す第１層と第１層より小さい弾性係数を示す少なくとも別の層とにより構成することができる。例えば、比較的高い強度の材料は、少なくとも約２，８０００ｋｇ／ｃｍ２（約４００，０００ｐｓｉ）の弾性係数を示す。さらに、比較的可撓性のある材料は、２７，３００ｋｇ／ｃｍ２（３９０，０００ｐｓｉ）未満の弾性係数を示すものとする。他の実施例では、層４２０および層４２２のうち少なくとも一方は、複合材料（例えば、粒子またはファイバー補強材を有する複合材料）により構成する。例えば、ある実施例では、チューブは、グラスまたはカーボンの補強ファイバーまたは粒子を有するポリウレタンまたはＰＴＦＥにより構成する。ある実施例では、層４２０と４２２の各々は、１個以上の隣接する層に関して移動可能であるかまたは摺動可能とする。このような形態は、チューブを損傷することなく、選択された内圧に耐えることができ、捻転にも耐性をもつ。
【００６３】
他の実施例では、補強素子は、チューブを構成する複数の層の少なくとも１個の層内に組み込まれる。例えば、図４０は、内側層４３０および外側層４３２を有するチューブ４０３の縦断面図を示す。随意に、少なくとも１個の補強素子４３４を、いずれかの層またはチューブを構成する複数の層内に組み込むことができる。図４０に示す実施例では、補強素子４３４はコイルにより構成する。当業者には、例えば、少なくとも１個の補強素子はメッシュ（例えば、ワイヤメッシュ、ファブリック、ファイバーメッシュなど）により構成することができ、また多くの変更を施しうることは、当然理解であろう。他の実施例では、少なくとも１個の補強部材は、チューブを構成する少なくとも１個の層内で長手方向に（例えば、チューブの伸展方向と整合して）延在する１個以上の細長部材により構成することができる。他の実施例では、少なくとも１個の補強部材は、１個以上のリングにより構成する。このような形態により、半径方向剛性、強度、またはこれらの双方をチューブ部分に付与することができる。
【００６４】
図４０につき説明すると、ある実施例では、内側層４３０は、比較的高い強度を示し、例えば、ＰＥＥＫまたはポリミドにより構成する。さらに、外側層４３２は、比較的可撓性とし、例えば、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＥＴＦＥ、シリコーンまたはポリウレタンにより構成する。さらに、層４３０および４３２は、約０．１２７ｍｍ〜０．約００２５４ｍｍ（約０．００５インチ〜約０．０００１インチ）の範囲の厚さ（例えば、半径方向の厚さ）を有するものとする。上述した通り、層４３０および４３２は、互いに結合し、または互いに移動可能（摺動可能、捻転可能など）とする。随意に、コーティング４３３を、層４３２の外面の少なくとも一部に施すことができる。この種のコーティング４３３は、ある実施例では、ＴＥＦＬＯＮ［登録商標］のようなポリマーとし、約０．０２５４ｍｍ〜約０．０５１ｍｍ（約０．００１インチ〜約０．００２インチ）との間の厚さとする。
【００６５】
他の実施例では、図４１は、内側層４４０および外側層４４２を有するチューブ４０５の縦断面図を示し、少なくとも１個の補強素子４４４を内側層４４０内に組み込む。図４１に示す実施例では、補強素子４４４は、コイルにより構成することができる。他の実施例では、補強素子は、補強素子４３４に関する上述したいずれかの構造を有するが、これらに限定されるものではない。さらに、ある実施例では、内側層４４０は、比較的可撓性とし、例えば、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ＥＴＦＥ、またはポリウレタンにより構成する。さらに、外側層４４２は、比較的高い強度を示し、例えば、ＰＥＥＫまたはポリミドにより構成する。さらに、層４３０および４３２は、約０．１２７ｍｍ〜約０．２５４ｍｍ（約０．００５インチ〜約０．０１０インチ）の範囲の厚さ（例えば、半径方向の厚さ）を有するものとする。 随意に、コーティング４４３を、層４４２の外面の少なくとも一部に施すことができる。この種のコーティング４４３は、実施例では、ＴＥＦＬＯＮのようなポリマーを有し、約０．０２５４ｍｍ〜約０．０５１ｍｍ（約０．００１インチと約０．００２インチ）の範囲の厚さとする。
【００６６】
さらなる実施例では、チューブは、４個の層を有するものとすることができる。例えば、図４２および図４３は、チューブ４００の他の実施例の横断面図および縦断面図を示す。特に、図４２および４３に示す通り、チューブ４００は、層４０２、４０４、４０６、および４０８により構成する。図４２に示す通り、層４０２は、管腔４１０を画定する。実施例では、管腔４１０は、ほぼ円形の断面を有し、約０．６１ｍｍ（約０．０２４インチ）の直径を示す。他の実施例では、層４０２、４０４、４０６、および４０８の各々は、１個以上の隣接する層に対して移動可能または摺動可能とする。さらに、層４０２は、比較的高い張力強度を示す材料により構成する。このような形態により、管腔４１０内の比較的高い圧力に耐えることができる。例えば、層４０２は、ＰＥＥＫと、ポリミドなどにより構成する。一般的に、この種の比較的高い強度の材料は、少なくとも約２，８０００ｋｇ／ｃｍ２（約４００，０００ｐｓｉ）の弾性定数を示す。さらに、層４０４、４０６、および４０８は、比較的柔軟な材料により構成する。この層４０４、４０６、および４０８は各々、層４０２より小さな張力強度を示す。例えば、層４０４、４０６、および４０８は、フルオロポリマー、ＰＥＢＡＸ、ポリエチレンテレフタレート（”ＰＥＴ”）と、シリコーンなどにより構成する。一般的に、この種の比較的柔軟な材料は、約２７，３００ｋｇ／ｃｍ２（３９０，０００ｐｓｉ未満）の弾性係数を示す。しかし、いずれの層も、ＰＴＦＥ、ポリプロピレン、シリコーン、ＦＥＰ、ＰＦＡ、ＥＴＦＥと、ポリウレタン（例えば、ＩＳＯＰＬＡＳＴ、ＴＥＣＯＦＬＥＸ、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ、ＣＡＲＢＯＴＨＡＮＥ、ＴＥＣＯＰＬＡＳＴ、またはＴＥＣＯＰＨＩＬＩＣ等の熱可塑性ポリウレタン）、またはこれらの組み合わせにより構成することができるが、これらに限定されるものではない。
【００６７】
本発明の他の態様では、チューブ部分を構成する少なくとも１個の層は、セプタムを通してアクセスポートのリザーバへアクセスする細長の中空構造から末端方向に突出する構成とする。言い換えれば、少なくとも１個の層は、チューブ部分から突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺する構造とする。例えば、図４４および４５は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５、およびアクセスポート５０の縦断面図を示す。（上述した）チューブ４００、４０１、４０３、４０５は、細長の中空領域４５０を有する。さらに、細長中空領域４５０は、比較的高い剛性を有し、図４５に示す通り、アクセスポート５０のセプタム８０を穿刺するのに適している。したがって、（複数の層を有する）チューブ４００、４０１、４０３、４０５の末端から突出する細長の中空領域４５０は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５の管腔とアクセスポート５０のリザーバ６６との間を連通する針またはカニューレを形成する。特に、細長の中空領域４５０は、チューブ４００、４０１、４０３、４０５を形成する比較的高い強度の層（例えば、ＰＥＥＫ）の内の比較的高い強度を示す１個以上の層を有する。実施例では、チューブ４００、４０１、４０３、４０５の最内側層が、細長の中空領域４５０を形成する。このような形態は有利であり、例えば、注入装置を製造する複雑性を軽減することができる。
【００６８】
血管アクセス装置または注入装置の多くの種々の実施例は、本発明の１個以上の態様を組み込んだ構成とすることができる。血管アクセス装置または注入装置の複数の実施例としては、本願人により２００５年４月２７日付けで出願された米国特許出願第６０／６７５，３０９号の優先権を主張するものであり、参考として本出願に付記する。米国特許第６０／６７５，３０９号に記載される、単独または組み合わせの、いずれの注入システム、装置、または方法も、自動注入を実行する（これに限定されるものではないが、例えば、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する）構造とするかまたは実行するのに適する。
【００６９】
例えば、本発明は、可撓性チューブとアクセスポートのリザーバとの間の連通を設ける構造とした注入システムは、自動注入のための構造とすることを意図する。この種の注入システムは、細長の尖端付き素子を有し、この尖端付き素子はアクセスポートのセプタムを貫通させる可撓性チューブの配置を容易にし、また可撓性チューブを適切に配置した後に注入システムから取り外すことができる。
【００７０】
特に、図４６は、注入アセンブリ５１０、安全クリップ５３０、ハブ５４０、可撓性チューブ５９０と、延長チューブ５７０、クランプ装置５６０、およびチューブコネクタ５８０を有する、注入装置５１０の実施例の分解図を示す。さらに詳細には、図４７は、注入システム５１０の断面図を示す。図４７に示す通り、注入アセンブリ５２０は、ベース５２８とこれに固定される細長の尖端付き素子５２２（例えば、針、トロカール、またはカニューレ）とを有する。図４７に示す通り、細長の尖端付き素子５２２は、尖端５２５を有する。ある実施例では、細長の尖端付き素子を挿入するポートのセプタムを傷つけるのを回避するために、「非コアリング（芯抜きしない）」尖端（すなわち、尖端５２５は、「開口」”していないまたは中空でない）を有する細長の尖端付き素子を使用する。細長の尖端付き素子５２５は、ステンレス合金（例えば、ＡＩＳＩ３０４ステンレス合金）のような、従来の針、トロカール、またはカニューレの材料により構成し、他の実施例では、比較的硬いプラスチックにより構成する。実施例では、ベース５２８は、図４７に明示するように、ベース５２８内に細長の尖端付き素子の一部を拘束するよう射出成形するかまたは別の方法で形成する。さらに、ベース５２８は、必要に応じて随意に、他の機構（例えば、安全クリップ５３０）を収容する構造とする窪み５２４を設けることができる。ベース５２８はまた、随意に、ハブ５４０に形成する連結形状部５４４（例えば、窪み）に連結する構造とした連結形状部５２６（例えば、突部）を設けることができる。図４７に示す通り、ハブ５４０は通常、ハブ本体５５０、マニホルド素子５６１、セプタム５４８、およびキャップ５４６を有する。実施例では、ハブ本体５５０は、ＴＥＣＯＦＬＥＸ（例えば、ＴＥＣＯＦＬＥＸ８５Ａ−Ｂ２０）を有する。さらに、ハブ本体５５０は、（図４６の）ウイング状構造５４１および５４３を定め、（例えば、ウイング状構造５４１および５４３を患者へテーピングすることにより、または別の方法でウイング状構造５４１および５４３を患者へ付着することにより）ハブを患者の皮膚へ付着する構造とする。ウイング状構造５４１および５４３は、例えば、細長の尖端付き素子５２２および可撓性カテーテル５９０を埋め込んだポートに挿入する場合または埋め込んだポートから細長の尖端付き素子５２２を取り外す場合に、ハブを操作するために使用することができる。ハブ本体５５０は、必要に応じて随意に、窪み５４２を有することができる。図４７に示す通り、窪み５４２には、以下でさらに詳細に記載する通り、細長素子５２２を、安全クリップに通して配置する場合に、安全クリップ５３０を固定する固定リップ５５９を設ける。
【００７１】
ハブ５４０は、注入アセンブリ５２０の細長の尖端付き素子５２２をハブ５４０およびハブ内に配置したセプタム５４８に貫通させる構造とする。言い換えると、マニホルド要素５６１は、複数の通路および、この複数の通路へ液体を連通させる少なくとも１個のセプタム５４８を画定する。さらに説明すると、マニホルド素子５６１は、ハウジングセプタム５４８がマニホルド素子５６１により画定されるプレナムのポートまたは開口部を封止する構造とする。随意に、キャップ素子５４６を位置決めし、このキャップ要素５４６とマニホルド素子５６１との間にセプタム５４８を拘束する。キャップ５４６は、細長の尖頭要素にセプタム５４８を貫通させる開口部５４７を有する。したがって、細長の尖端付き素子５２２（例えば、適切なサイズのトロカール、非コアリング（芯抜きしない）構造の針、または非コアリング構造のカニューレ）は、セプタム５４８の封止能力を危険にさらすことなく、セプタム５４８へ挿入および取り外しすることができる。さらに、キャップ５４６の存在により、いわゆる「自動（高圧）注入」を、マニホルド素子５６１を介して実行することができ、マニホルド素子５６１、チューブ５７０、および可撓性カテーテル５９０内の圧力は少なくとも約１４ｋｇ／ｃｍ２（約２００ｐｓｉ）またはそれ以上に達するものとすることができる。セプタム５４８は、本発明により開示するいずれかのセプタムの実施例による構造をなす（例えば、自動注入を実行するために少なくとも１個の構造素子を有する）が、これらに限定されるものではない。
【００７２】
図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０をマニホルド素子５６１に固着し、延長チューブ５７０もまたマニホルド素子５６１に固着する。ある実施例では、延長チューブ５７０および可撓性カテーテル５９０を、マニホルド素子５６１に化学的に結合する。他の実施例では、接着剤により延長チューブ５７０をマニホルド素子５６１の一部である表面５５２に固着する。同様に、接着剤によりカテーテル５９０をマニホルド素子５６１の別部分である内側面５６２に固着する。さらに、ハブ本体５５０を、マニホルド素子５６１（および、随意にセプタム５４８、キャップ５４６、またはこれら双方）および図４７に示す延長チューブの少なくとも一部上に形成する（例えば、射出成形、硬化処理、または別の方法で上側成形する）。他の実施例では、ハブ本体５５０を、必要に応じて可撓性カテーテル５９０の少なくとも一部上に形成することができる。
【００７３】
通常、上述した通り、本発明に開示するいかなるチューブも、注入システム５１０の一部を有する。さらに、当業界で既知のチューブクランプおよび連結装置を、延長チューブ５７０、クランプ装置５６０、およびチューブコネクタ５８０のために使用することができる。
【００７４】
可撓性カテーテル５９０は、自動注入のために適切であるいずれかの材料で構成することができる。例えば、実施例では、可撓性カテーテル５９０は、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥ（例えば、ＴＥＣＯＴＨＡＮＥＴＴ１０５Ｄ）のようなポリマーにより構成する。図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０は、内部に細長の管腔を有する。さらに、可撓性カテーテル５９０は、開口部５９３に近接する遷移領域５９５を有し、この遷移領域５９５は、可撓性カテーテル５９０の断面寸法（管腔５９４の横断面）が開口部５９３からの距離の関数として増大する構成とする。随意に、遷移領域５９５は、２個の異なるテーパーを有することができるが、本発明は、一般には少なくとも１個のテーパーと、少なくとも１個の弓状面、またはこれらの組み合わせにより遷移領域５９５を画定することを意図する。通常、少なくとも１個（例えば、１個以上）の開孔を、可撓性カテーテル５９０のチューブ本体に貫通する管腔に連通する開口部５９３の近接に設ける。図４７に示す通り、可撓性カテーテル５９０には、管腔５９４に連通する２個の開孔５９２を設ける。
【００７５】
図４７に示す通り、細長の尖端付き素子５２２は、安全クリップ５３０、キャップ５４６の開孔５４７を経て、可撓性カテーテル５９０内に貫入する。細長の尖端付き素子５２２は、可撓性カテーテルに液体連通する構造とする。特に、細長の尖端付き素子５２２は、細長の尖端付き素子５２２の外側と可撓性カテーテル５９０の内側（すなわち、管腔）との間に間隙ができるようなサイズとする。実施例では、細長の尖端付き素子５２２は、（細長の尖端付き素子５２２の微小な断面形状に関する）少なくとも１個の長手方向に延在する窪みを有する。例えば、細長の尖端付き素子５２２は、尖端５２５を有し、細長の尖端付き素子５２２に沿って（すなわち、長手方向に沿って）長手方向に延在する窪みを有する。他の実施例では、細長の尖端付き素子５２２は通常円形断面であり、長手方向に延在する窪みは、細長の尖端付き素子の窪を形成する部分でほぼ三角形断面の形状となるよう形成する。
【００７６】
他の実施例では、注入システムは、細長の尖端付き素子が、延長チューブ、可撓性カテーテル、またはこれら双方を、貫通する構造とする。さらに説明すると、セプタムの適切な配置および構造は、延長チューブ、柔軟なカテーテル、またはこれら双方に、細長の尖端付き素子を穿刺または貫通させることができる。図４８および４９は、窪み５４２、スリーブ６２０、およびセプタム５４８を有するハブ５４０の他の実施例を示す。さらに、延長チューブ５７０および可撓性カテーテル５９０の各々の少なくとも一部は、部分的にハブ本体５５０内に突入する。さらに、可撓性カテーテル５９０は、延長チューブ５７０内に部分的に突入する。言い換えると、可撓性カテーテル５９０は少なくとも部分的に延長チューブ５７０とオーバーラップし、逆もまた同様である。他の実施例では、単独のチューブ素子を、ハブ５４０に貫通させ、必要に応じて、可撓性カテーテル５９０および延長チューブ５７０の双方の機能をさせる。さらに、随意に、セプタム５４８は、少なくとも部分的に、延長チューブ５７０の一部を包囲することができる。このような形態により、セプタム５４８からの細長の尖端付き素子５２２の取り外しにおける、セプタム５４８の封止を容易にすることができる。スリーブ６２０は、スリーブ６２９が包囲するセプタム６２０の領域からの細長の尖端付き素子の取り外しにおけるセプタムの封止を容易にするように、セプタム５４８を圧縮する。セプタム５４８は、自動注入を実行するための（例えば、少なくとも１個の構造素子などを有する）本明細書に記載するいずれかのセプタムの実施例による構造とするが、これに限定されるものではない。
【００７７】
さらに、図５０は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５に通常配置する安全クリップ５３０の斜視図を示す。安全クリップ５３０は、それぞれ湾曲端部領域を有する脚部５３３および５３５と、細長の尖端付き素子５２２が貫通するサイズの孔５３４と、を有する。さらに詳細には、最初に細長の尖端付き素子５２２を、孔５３４に貫通させ、脚部５３３と５３５との間に配置し、細長の尖端付き素子が脚間を通過できるような形態にする。さらに、細長の尖頭要素５２２をこの形態にし、また安全クリップ５３０を窪み５４２内に配置するとき、安全クリップ５３０は、窪み５４２（図４９参照）の固定リップ５４３（図４９参照）内に嵌合するサイズとなる。しかし、脚部５３３および５３５は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を孔５３４に向けて移動し脚部５３３および５３５の湾曲端領域を越えて突出しない場合に、脚部５３３および５３５が互いに寄り合い細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を効率的に拘束するように、バイアスする。安全クリップ５３０は、細長の尖端付き素子５２２の尖端５２５を拘束するためのいずれかの自己作動装置を有する。このような安全クリップ５３０により、細長の尖端付き素子５２２が、他人、特に細長の尖頭要素５２２を挿入および取り外しをする医療修習者に不慮に刺さる機会を減らすことができる。
【００７８】
さらに本発明は、アクセスポート（および、存在する場合にはアクセスポートに固着したカテーテル）または注入装置を誤って加圧した結果は問題を含むおそれがあるため、すべてのコンポーネントが選択された注入プロセスに関連して予想される最大流速（流量率）および圧力に耐えることができるようにするために、注入システムのコンポーネントに少なくとも１個の識別属性を付与することは有利であることを認識するものである。言い換えると、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応するよう構成したアクセスポートは、少なくとも１個の識別属性を有するものとする。このような少なくとも１個の識別属性は、（例えば、視覚、触覚、超音波、レントゲン写真などにより）観察または別の方法で検出することができるようにする。いずれかの注入装置（アクセスポート、注入装置など）に関連し、本明細書で使用される用語「識別」は、関心のある対象物の選択された情報を知覚できる特徴に関連付ける能力を意味する。
【００７９】
本発明は、２００５年３月４日付けで出願された米国特許出願第６０／６５８，５１８号に記載される、単独または組み合わせのいずれかの識別特徴または属性により、自動注入用の構造をなすアクセスポートであることを識別することができることを意図する。また、少なくとも１個の識別属性を有するアクセスポートの実施例は、２００５年１２月２８日付けで出願された米国特許出願第１１／３２０，２２３号に開示されており、参考として本明細書に付記する。本発明は、２００５年１２月２８日付けで出願された米国特許出願第１１／３２０，２２３号に記載される、単独または組み合わせのいずれかの識別特徴または属性により、自動注入のための構造をなすアクセスポートであることを識別することができることを意図する。さらに、液体を安全に注入できる最大流速（流量率）により、アクセスポートを識別することができる。例えば、少なくとも１個の識別属性は、アクセスポートが少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）に適応する構造としたものであることを示すが、これに限定されるものではない。
【００８０】
本発明が包含するアクセスポートに関して、アクセスポートのハウジングの少なくとも１個の属性は、アクセスポートを少なくとも約１ｍｌ／秒の流速（流量率）で自動注入のための構造として識別するための少なくとも１個の識別属性を付与する。ある実施例では、アクセスポートの少なくとも１個の物理的な属性（例えば、寸法、形状など）により、アクセスポートが自動注入に適することを識別するか、またはアクセスポートが安全に適応できる最大流速（流量率）または圧力を識別できるようにする。
【００８１】
したがって、本発明のある態様では、自動注入に適した（これらに限定されるものではないが、例えば、皮下に埋め込むかまたは別の方法で配置する）アクセスポートを識別する方法に関する。特に、セプタムを有するアクセスポートを提供することができる。さらに、少なくとも１個のアクセスポートの属性を認識することができる。さらにまた、皮下に埋め込むアクセスポートは、アクセスポートの少なくとも１個の属性の認識により、自動注入に適することを識別することができる。
【００８２】
ある実施例では、識別のための少なくとも１個の属性は、アクセスポートハウジングの少なくとも１個の特徴部により構成する。さらに詳細には、図５１は、組み立てたアクセスポートの斜視図を示す。図５１に示す通り、アクセスポート５０の側方周縁２９５（例えば、１個以上の側壁、および随意に、縫合プラグ２９１の露出面）は、ほぼ三角形をなす。したがって、キャップ５４およびベース５６は、合体してほぼ三角形のアクセスポート５０のハウジング６０を形成する。また、本発明は、側方周縁２９５は先細にするかまたは、キャップ５４の上面６１とベース５６の下面５１との間に円弧状に延在する構成とする。図５１に示す通り、アクセスポート５０の（ベースが平面である場合、ベース５６の、下面５１にほぼ平行な選択された平面における）横断面は、ベース５６の下面５１へ近接するにつれ大きくなり、キャップ５４の上面へ近接するにつれ比較的小さくなる。図５２は、図５１に示すアクセスポートの上図を示し、側方周縁により画定されるほぼ三角形の形状を示す。さらに、図５３は、アクセスポート５０の横断面を簡略化して示す。図５３に示す通り、アクセスポート５０の側方周縁２９５は、関連する頂点領域３０１の間に延在する３個の側面領域３０３を画定する。加えて、ある実施例では、図５３に示す通り、側方周縁２９５は、ほぼ正三角形の形状を画定する。当然、側面領域３０３は、関連する頂点領域３０１の間に正確に延在する。従って、側面領域３０３は、ほぼ三角形状の「側辺」を形成する。さらに、頂点領域３０１は丸みがあるが、この頂点領域３０１は隣接する側面領域３０３との間に交点を形成することは良く理解されるべきである。したがって、本明細書で使用されるフレーズ「ほぼ三角形」は、隣接する側面が頂点領域でまたは頂点領域内で交差するいずれのほぼ３側辺形状も含むが、これらに限定されるものではないこともよく理解されたい。例えば、「ほぼ三角形」は、３側辺を有するポリゴン、円形的三角形、正三角形などを包含するが、これらに限定されるものではない。
【００８３】
さらに、他の実施例では、少なくとも１個の識別属性は、放射線マーカーにより構成する。特に、アクセスポートは、アクセスポートが特定の流速（流量率）、圧力、またはこれら双方に適応する構造であることを示す観測可能なパターン、シンボル、マーカー、または他の印とすることができる。他の実施例では、少なくとも１個の識別属性は、視覚的に知覚可能な構造のような、知覚可能な形態を有する。例えば、視覚的に知覚可能または別の方法で認知可能である少なくとも１色の色、少なくとも１個のシンボル、少なくとも１個の印刷字（例えば、文字、数字など）、パターン、またはいずれかの他の印を使用する。他の実施例では、超音波検出可能な構造をアクセスポートに組み込む。さらなる実施例では、アクセスポートはＲＦＩＤタグを有する。
【００８４】
他の機器および装置（例えば、注入装置、チューブ、注入器など）は、適する最大流速（流量率）または最大圧力に関連して識別可能である。例えば、特定の注入装置は、１個以上の上述した識別属性または特徴を有する。このような形態により、種々のコンポーネント（例えば、チューブ、針、アクセスポート、機械的注入器など）を互いに適合させることができる。例えば、自動注入器と、注入装置、およびアクセスポートにより共有されるほぼ同様または適合する識別属性は、選択された自動注入プロセスを実行するために互いに使用する適正を示す。
【００８５】
アクセスポートの識別に関する他の態様としては、アクセスポートが埋め込まれた患者の識別に関連する。より詳細には、患者は、埋め込まれたポートに関する知覚可能な（例えば、視覚的、磁気ストリップ、バーコードを介する、手動で、または他の適切な機構による）情報を担持する識別カードを付与される。したがって、この種の識別カードを医療従事者に提示することにより、識別カードの情報が認識され、アクセスポートを識別できる。アクセスポートの識別において、例えば、最大流速（流量率）、最大圧力、特定の手順に対する適正などのアクセスポートの特性を確認する。他の実施例では、リストバンドまたはブレスレットを、アクセスポートが埋め込まれた患者に付与する。他の実施例では、例えば、磁気ストリップ、バーコード、コンピュータの読み取り可能な媒体またはデバイス（例えば、コンパクトディスク、「フラッシュ」メモリ、ディスクドライブなど）、または他の適切な情報担持デバイスのような情報担持デバイスを有するキーチェーンを付与する。他の実施例では、ポートの情報を含むステッカを患者のカルテに貼る。他の実施例では、注入装置へのラベル付けにより、自動注入に適合性のある装置かを識別できる。
【００８６】
本発明のさらに他の態様としては、ゲルまたは粘性液体を有するセプタムに関する。本願明細書に使用される用語「ゲル」は、少なくとも１個の液体成分内に懸濁する少なくとも１個の固体成分を有するコロイドを意味し、固体粒子（例えば、ポリマー粒子）は、共有原子価、イオン、分散（物理的）力により互いに引き寄せられるまたは別の方法で互いに結合する（例えば、絡み合うまたは架橋する）。したがって、実施例では、ゲルは、固体の分散相が、粘性のあるまたは半剛性のゾルを生ずるために液体連続相との組み合わせでネットワークを形成するコロイドである。ゲルは、これらに限定されるものではないが、弾性、粘弾性、または可塑性である応力‐歪挙動を示す。本明細書において使用される用語「粘性液」は、約２０，０００センチポアズ以上の粘性を示す液体を意味する。
【００８７】
アクセスポートを形成するハウジング内に配置するセプタムに形成される１個以上の通路により、アクセスポートのリザーバを加圧する場合、１個以上の通路を通して液体が漏出することがあり得る。本発明は、ゲル領域を通常セプタム上面とセプタム下面との間に配置することにより、少なくとも一部のゲル領域を貫通させて上面から下面へセプタムを貫通してカニューレを貫通し易くすることを意図する。
【００８８】
例えば、ある実施例では、セプタムは、少なくともほぼ本体材料により包囲されるゲルを有するものとする。例えば、図５４は、本体６１２および本体６１２内に配置するゲル領域６２０を有するセプタム６１０の縦断面図を示す。ゲル領域６２０は、上面６１４に挿入し下面６１６を貫通するカニューレが、ゲル領域６２０の一部を通過する構造とする。ある実施例では、ゲル領域６２０は、シリコーンゲルにより構成する。他の実施例では、ゲル領域は、液体が硬化してゲルを形成する未硬化液体（すなわち、比較的低い粘性を有する液体）により構成する。ある実施例では、ゲル領域６２０は、粘性液または粘弾性材料により構成する。
【００８９】
ある実施例では、ゲル領域６２０は、エラストマー、例えば、ミシガン州ミッドランドにあるダウ・コーニング（DOW CORNING）社から市販されている「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ（登録商標）７−９６００」ソフトフィリングエラストマーＰａｒｔｓＡ＆Ｂにより構成する。他の実施例では、ゲル領域６２０は、カリフォルニア州カルピンテリアにあるＮｕＳｉＩテクノロジー社から市販されているシリーコンゲル「ＭＥＤ−６３４０」により構成する。さらに他の実施例では、ゲル領域６２０は、約２０〜３０のショアＡ硬度を示すエラストマー、例えば、どちらもミシガン州ミッドランドにあるダウ・コーニング社から市販されている「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧＣ６−５１５」液体シリコーンゴムＰａｒｔｓＡ＆Ｂまたは「ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧＣ６−５３０」液体シリコーンゴムＰａｒｔｓＡ＆Ｂにより構成する。さらに、随意で、セプタム６１０の本体６１２は、約５０から約６０のＳｈｏｒｅＡ硬度のシリコーン材料を有することができる。他の実施例では、本体６１２および／またはセプタム６１０の上面６１４は、約６０〜約８０のショアＡ硬度のシリコーン材料により構成する。随意に、本体６１２および／またはセプタム６１０の上面６１４はフルオロポリマー（例えば、ＰＴＦＥなど）またはポリウレタンにより構成することができる。
【００９０】
ゲル領域６２０の少なくとも一部に貫通するカニューレを取り外す際に、ゲル領域６２０に形成された通路または孔は、リバウンド、修復、封止、または癒合することができることは、当業者であれば、当然理解できるであろう。さらに、ゲル領域６２０により、本体６１２および上面６１４を形成された通路を封止することができる。例えば、ゲル領域６２０により、リザーバ内の圧力がアクセスポートの外部の大気圧を超えた場合に（例えば、これらに限定されるものではないが、自動注入プロセス、上述したように液体をアクセスポートから流すあらゆるプロセス、または液体を当業界で既知のアクセスポートから流すあらゆるプロセスの間）、セプタム６１０を通してアクセスポートのリザーバからの液体の漏出を抑制または防止することができる。さらに、セプタム６１０を貫通するカニューレが、選択された境界またはエンベロープの外側のゲル領域を構成するいずれかの材料の転移または除去に耐える構造とするように、ゲル領域６２０を配合し、および／または本体６１２を構成する。ある実施例では、本体６１２は、本体６１２を貫通するカニューレから、ゲル領域６２０を構成する材料を除去できる構造とする。
【００９１】
本明細書に記載したセプタム実施例のいずれかは、少なくとも１個のゲル領域を有する。例えば、図５５は、本体６１２およびゲル領域６２０を有するセプタム６１１の縦断面図を示す。上述した通り、ゲル領域６２０は、上面６１４から挿入して下面６１６に貫通するカニューレが、ゲル領域６２０の一部を通過する構造とする。このような形態により、多くの通路がカニューレによりセプタムに形成された場合でも、漏出を防止する堅牢なセプタムを提供することができる。さらに、ゲルを有するセプタムを設けることにより、セプタムの封止能力または質を向上させることができる。したがって、ゲル材料を有するセプタムは、従来のセプタムと比較して（すなわち、上面から下面の）薄い厚さを示すことができる。例えば、図５６は、厚さＴが従来のセプタムの従来の厚さより薄い、本体６１２およびゲル領域６２０を有するセプタム６１３を示す。ある実施例では、セプタム６１３の厚さＴは、約１２．７ｍｍ（約０．５００インチ）以下である。
【００９２】
本発明は、ゲルを有するセプタムを形成するために使用する種々の異なる製造方法を提供することを意図する。例えば、通常、セプタムの本体は、少なくとも１個のゲル領域をほぼ包囲するように形成する、または、ゲルで満たした窪みまたはチャンバをセプタム本体により形成する。ある実施例では、ゲル領域を、セプタム本体を形成するための成形型内で懸垂する。とくに、図５７は、ゲル領域６２０を第１成形型６５２と第２成形型６５４との間に配置する（例えば、懸垂させる）、第１成形型６５２および第２成形型６５４の断面図を示す。図５７に示す通り、ゲル領域６２０は、第２成形型６５４の分離面６５５に当接する、フレーム素子６３０により位置決めする。図５７に示すように、フレーム素子６３０は、ピン６０６により位置決めする。他の実施例では、フレーム素子６３０を、適当に位置決めするが、これらに限定されるものではない。特別な実施例では、第１成形型６５２の分離面６５３は、第２成形型６５４の分離面６５５の近接して位置決めされ（すなわち、分離面６５３および６５５はフレーム素子６３０によって分離される）、キャビティ６５８および６５６により画定されるチャンバを形成する。さらに、硬化可能材料（例えば、硬化可能なシリコーン、熱可塑材、樹脂などのような硬化可能材料）を、チャンバ内に注入し、硬化させる。したがって、硬化可能材料は、ゲル領域６２０を包囲するかまたはカプセル化し、キャビティ６５６および６５８に相補的な形状を示す。
【００９３】
通常、フレーム素子６３０は、ゲル領域６２０に結合または固着する。ある実施例では、フレーム素子６３０は、ゲル領域６２０の周縁の少なくとも一部に結合または係合することができる。他の実施例では、フレーム素子６３０は、ほぼ平面状にし、ゲル領域６２０をフレーム素子６３０上に載置するかまたはフレーム素子上で形成する。さらに他の実施例では、フレーム素子６３０を、ゲル領域６２０に少なくとも部分的に貫通させる。随意に、フレーム素子６３０を、第２成形型６５４のキャビティ６５６をカバーするまたは横切らせることもできる。ある実施例では、フレーム素子６３０は、メッシュ（例えば、金属、ポリマーメッシュ、ファブリック、ファイバーメッシュなど）により構成する。他の実施例では、フレーム素子６３０は、シリコーンのシートまたは層により構成し、随意に孔を形成することができる。フレーム素子６３０をメッシュにより構成するか有孔素子である場合、キャビティ６５８，６５６相互間で（硬化可能材料の）液体連通が生じ、カプセル化中にゲル領域６２０および／またはフレーム素子６３０の移動を防止することができ、望ましい。ゲル領域６２０をカプセル化した後、フレーム素子６３０の選択された部分を、必要に応じて、トリミングするまたは切断することができる。
【００９４】
少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムを形成する他の方法では、セプタム本体を、ゲルを充填する少なくとも１個のチャンバを有するよう形成する。例えば、図５８は、チャンバ６２１を画定するセプタム本体６１２を示す。随意に、開口部６２３を本体６１２によって画定することができる。したがって、ゲルは、開口部６２３を介してチャンバ６２１内へ注入し、随意に、開口部を閉じることができる。例えば、未硬化ゲルをチャンバ６２１内へ注入する。さらに、未硬化ゲルは、加熱または他の適切な方法により硬化することができる。このような形態により、図５５につき上述したようにゲル領域を形成することができる。ある実施例では、チャンバ６２１は、本体６１２内にチャンバ６２１を作るために、空気注入による成型プロセス、ブロー成型プロセス、または当業界で既知の他の方法により形成することができる。他の実施例では、本体６１２は、取り外し可能なプラグまたはフィラー（例えば、シリコーンプラグ、スチール、またはアルミニウムインサート）の周りに形成することができる。このようなプラグまたはフィラーは、こびりつかないコーティング（例えば、ＴＥＦＬＯＮ［登録商標］、シリコーン、または当業界で既知のあらゆるこびりつかないコーティング）を用いて被覆することができる。したがって、チャンバ６２１は、プラグまたはフィラーを除去して形成することができる。他の実施例では、セプタムの部分を形成し、ゲル（またはゲルの流動性前駆体）を充填し、セプタムを形成するように互いに結合させる。他の実施例では、本体６１２を最初に形成し、本体６１２内にチャンバ６２１を包囲する。さらに、本体６１２を切断し、チャンバ６２１にゲルを充填することができるように開口部を形成する。この本体６１２の開口部は、ゲル領域を拘束または形成するために、閉鎖または封止する。さらに他の実施例では、中実の本体を形成し、この本体をスライスすることによりチャンバを形成する。このような形態では、チャンバを充填することにより、中実の本体を、所要に応じてドーム状のまたは隆起した領域となるよう変形することができる。多くの種々の方法を使用して、本体６１２内にチャンバ６２１を形成し、その後にチャンバをゲルで充填することができることは理解できるであろう。
【００９５】
他の実施例では、セプタムは、本体と、ゲル領域の少なくとも一部および本体の少なくとも一部に結合するかまたは形成する材料層との間に配置するゲル領域を有するものとする。例えば、図５９は、本体６３２、ゲル領域６２０、および層６２６を有するセプタム６１５の縦断面図を示す。図５９に示すように、ゲル領域６２０を、本体６３２に形成する窪み６３３内に配置し、層６２６をゲル領域６２０の一部および本体６３２の一部上に延在させる構成とする。当業者には、ゲル領域６２０を本体６３２の窪み６３３内に配置または形成し、その後層６２６をゲル領域６２０および本体６３２上に形成または配置することは、理解できるであろう。さらに、層６２６を、ゲル領域６２０を拘束するために、本体６３２に結合するか（例えば、接着結合、硬化結合、溶接結合、または当業界で既知の他の方法による結合）、または他の方法で固着する。ある実施例では、セプタム６１５は、複数のヘッド（例えば、２個のヘッド）の射出成形装置により形成する。とくに、このような射出成形装置は、本体６３２を形成し、この本体６３２内にゲル領域６２０を形成し、適切な成形形状および材料注入による（例えば、成形中に）ゲル領域６２０および本体６３２上に層６２６を形成することができる。ある実施例では、層６２６は、約６０〜約８０の範囲のショアＡ硬度を示す、シリコーンに基づく材料により形成する。ある実施例では、本体６３２は、約４０〜約５０の範囲のショアＡ硬度を示す、シリコーンに基づく材料により形成する。したがって、（ハウジング内に挿入しアクセスポートを形成する）セプタム６１５を使用する間は、カニューレは、層６２６から、ゲル領域６２０の少なくとも一部、および本体６３２に貫通する。このような形態により、層６２６、ゲル領域６２０の少なくとも一部、および本体６３２とを貫通するカニューレの位置決めを容易にすることができる。
【００９６】
本発明の態様を説明する目的で、特定の典型的な実施例および詳細を示したが、特許請求の範囲に記載した、本発明の範囲を逸脱することなく、本明細書に開示した方法および装置に種々の変更を施しうることは、当業者は当然理解できるであろう。例えば、他のアクセスポートの寸法および形状を使用することもでき、種々の他の実施例および構造を、本発明におけるアクセスポートの少なくとも１個の識別可能な特徴部を形成するために使用することができるものである。特許請求の範囲を含めて本明細書で使用される用語「有する」および「備える」（これらの変形も有する）は、要素「設ける」と同じ意味を有する。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明によるアクセスポートの分解斜視図である。
【図２】図１に示すアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図３】図１および２に示すリング状部を有するキャップの頂面図である。
【図４】リング状部を有するキャップの他の実施例における頂面図である。
【図５】リング状部を有するキャップのさらに他の実施例の頂面図である。
【図６】アクセスポートのセプタムにカニューレを貫通させた状態を示す、埋め込み型アクセスポートの線図的縦断面図である。
【図７】特定の流速に対する、注入システム内の選択された領域での圧力を説明するグラフである。
【図８】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図９】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートの他の実施例における線図的縦断面図である。
【図１０】ほぞ領域を有するセプタムと、ほぞ穴領域を有するハウジングとを有するアクセスポートのさらに他の実施例の線図的縦断面図である。
【図１１】セプタムの少なくとも一部の側面周縁をハウジングへ貼着するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１２】セプタムとハウジングとの間に延在する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１３】セプタム内に配置する矢尻状端部を有する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１４】セプタムの上面とハウジングとの間に延在する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１５】図１４に示すセプタムの上面に隣接して配置する支持素子を有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１６】ハウジングに突出する突出脚部を有するセプタムを設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１７】ハウジングに形成した窪みに結合する拡大端部を有する突出脚部を有するセプタムを設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１８】セプタムの上面に隣接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図１９】セプタムおよびセプタムに対して側方に貫通する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２０】セプタムおよびセプタムの上面に近接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２１】セプタムおよびセプタムの下面に近接して配置する構造素子を設けたアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図２２】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子、をほぼ三角形パターンで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２３】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、２個のほぼ矩形パターンで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２４】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、第１の複数のほぼ平行なラインおよび第２の複数のほぼ平行なラインで構成したことを示す部分頂面図である。
【図２５】図１８〜２１に示すアクセスポートの構造素子を、２個の交差するほぼ並行な直線部材で構成したことを示す部分頂面図である。
【図２６】セプタム内に配置する構造素子を設けたセプタムの部分頂面図である。
【図２７】図２６に示すセプタムの分割斜視図である。
【図２８】複数の構造素子を有するセプタムの部分頂面図である。
【図２９】湾曲を示すセプタムを有するアクセスポートの線図的縦断面図である。
【図３０】セプタムフレームの実施例の頂面図である。
【図３１】図３０に示すセプタムフレームおよび少なくとも部分的にフレームを包囲する他の材料を有するセプタムの実施例の線図的縦断面図である。
【図３２】他の材料により少なくとも部分的に包囲されるフレームを有するセプタムの他の実施例における線図的縦断面図である。
【図３３】他の材料により少なくとも部分的に包囲されるフレームを有するセプタムのさらに他の実施例の線図的縦断面図である。
【図３４】セプタムを構成する放射線不透過性材料により形成できるパターンの線図的説明図である。
【図３５】セプタムを構成する放射線不透過性材料により形成できる他のパターンの線図的説明図である。
【図３６】本発明による注入装置の実施例の斜視図である。
【図３７】本発明による注入装置の他の実施例における斜視図である。
【図３８】内側層および外側層を有するチューブの実施例の縦断面図である。
【図３９】内側層および外側層を有するチューブの実施例の横断面図である。
【図４０】内側層と、外側層と、少なくとも１個の補強素子とを有するチューブの縦断面図である。
【図４１】内側層と、外側層と、少なくとも１個の補強素子とを有するチューブの他の実施例の縦断面図である。
【図４２】４個の層を含むチューブの横断面図である。
【図４３】４個の層を含むチューブの縦断面図である。
【図４４】複数の層の少なくとも１個の層が、アクセスポートのセプタムに貫通させて挿入する細い中空領域を形成するように、チューブの末端から突出する、複数の層を有するチューブ部分を示す線図的縦断面図である。
【図４５】複数の層の少なくとも１個の層が、アクセスポートのセプタムに貫通させて挿入する細い中空領域を形成するように、チューブの末端から突出する、複数の層を有するチューブ部分を示す線図的縦断面図である。
【図４６】アクセスポートのセプタムに可撓性のカテーテルを挿通する構成とした注入システムの実施例の斜視図である。
【図４７】図４６に示す注入システムの部分縦断面図である。
【図４８】アクセスポートのセプタムに可撓性のカテーテルを挿通する構成とした注入システムの他の実施例における斜視図である。
【図４９】図４８に示す注入システムの部分縦断面図である。
【図５０】挿入アセンブリをハブから取り外した、図４８に示す注入システムの斜視図である。
【図５１】本発明によるアクセスポートの実施例の斜視図を示す。
【図５２】図５１に示すアクセスポートの頂面図を示す。
【図５３】図５１および５２に示すアクセスポートの横断面を簡略化して示す説明図である。
【図５４】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの実施例の縦断面図である。
【図５５】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの他の実施例における縦断面図である。
【図５６】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムのさらに他の実施例の縦断面図である。
【図５７】ゲル領域を第１成形型と第２成形型との間に配置した状態を示す、第１成形型および第２成形型の縦断面図である。
【図５８】ゲルを拘束する少なくとも１個のチャンバを有するセプタムの実施例の縦断面図である。
【図５９】少なくとも１個のゲル領域を有するセプタムの他の実施例の縦断面図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセスポートを通して液体を流す方法において、
血管アクセスポートを準備するステップと、
少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記アクセスポートを通して液体を流すステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、前記アクセスポートのリザーバ内に少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、前記アクセスポートのリザーバ内に約２．５９ｋｇ／ｃｍ２〜４．５５ｋｇ／ｃｍ２（約３７ｐｓｉ〜６５ｐｓｉ）の範囲の圧力を生じさせる請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、約２ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の範囲の流速で前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、少なくとも約５ｍｌ／秒の流速で前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
さらに前記リザーバ内に生じた圧力によるセプタムの変形を制限するステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記セプタムの変形を制限するステップは、変形に対して少なくとも１個の構造素子を用いて前記セプタムを補強するステップを有する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、機械的注入器を使用し、前記アクセスポートに連通する注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップにより、少なくとも前記注入装置の部分内に少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
注入装置を通して液体を流す方法において、
血管アクセスポートへ動作可能な状態で連結した注入装置を準備するステップと、
少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記注入装置を通して液体を流すステップとを有する方法。
【請求項１１】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップにより、少なくとも前記注入器の部分内に少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップは、約２ｍｌ／秒〜５ｍｌ／秒との範囲の流速で注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップは、少なくとも約５ｍｌ／秒の流速で注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
患者への皮下アクセスを提供するためのアクセスポートにおいて、
セプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムがリザーバを画定し、前記セプタムには、ほぞ領域を設け、このアクセスポートの前記ハウジングには、前記セプタムの前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造であり、前記ほぞ領域と相補形状のほぞ穴領域を形成したことを特徴とするアクセスポート。
【請求項１５】
前記リザーバ内に生じる圧力による前記セプタムの変形を制限する構成とした、さらに少なくとも１個の構造素子を有する請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１６】
前記アクセスポートは、前記アクセスポートを通して最大流速を識別する構成とした、少なくとも１個の特徴部を設けた請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１７】
前記アクセスポートは、少なくとも１ｍｌ／秒の流速に適応する構成とした請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１８】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートであって、
前記アクセスポートは、
セプタムを捕捉するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムによりリザーバを画定し、また
前記ハウジングおよび前記セプタムは、前記リザーバを通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速に適応する構造としたことを特徴とするアクセスポート。
【請求項１９】
さらに、前記リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形を防止する構成とした少なくとも１個の構造素子を有する請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２０】
前記セプタムは、ほぞ領域を有し、前記アクセスポートの前記ハウジングは、前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造とした相補的なほぞ穴領域を画定した請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２１】
前記ポートは患者へほぼ完全に埋め込むものとし、前記ポートは、自動注入可能なポートとして、患者の皮膚を通して触覚識別する構成とした請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２２】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートにおいて、
前記アクセスポートは、
前記セプタムを拘束する開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムによりリザーバを画定し、また
前記ハウジングおよび前記セプタムは、少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）の前記リザーバ内に生じた圧力に適応する構造としたアクセスポート。
【請求項２３】
さらに、リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形を防止する構造とした少なくとも１個の構造素子を有する請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２４】
前記セプタムにはほぞ領域を設け、前記アクセスポートの前記ハウジングには、前記セプタムの前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造であり、前記ほぞ領域と相補形状のほぞ穴領域を形成した請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２５】
前記アクセスポートは、前記アクセスポートを通過する最大流速を識別する構造とした少なくとも１個の特徴部を設けた請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２６】
患者へ経皮的にアクセスするために使用する注入装置において、
前記注入装置は、
管腔を画定するチューブ部分と、
前記チューブ部分の前記管腔と連通するカニューレと
を有し、このカニューレはアクセスポートのセプタムを通して挿入する構造とし、
前記チューブ部分および前記カニューレは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流す構造としたことを特徴とする注入装置。
【請求項２７】
前記チューブ部分は複数の層を有し、前記複数の層の少なくとも２層は異なる材料により形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項２８】
前記複数の層の少なくとも１層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合する請求項２６に記載の注入装置。
【請求項２９】
前記複数の層の少なくとも１層は、熱可塑性ポリウレタンにより形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３０】
前記複数の層の各々は、それぞれ異なる材料で形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３１】
さらに、前記複数の層の少なくとも１個の層は、少なくとも１個の補強素子を有する構成とした請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３２】
患者の血管系システムにアクセスするために使用する注入チューブにおいて、前記注入チューブは、
複数の層を有し、
前記チューブは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速に適応する構造とした
ことを特徴とする注入チューブ。
【請求項３３】
前記複数の層の少なくとも１個の層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合するものとした請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３４】
前記複数の層のうち少なくとも２個の層は、異なる材料で形成した請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３５】
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合する請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３６】
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、熱可塑性ポリウレタン、ＰＥＥＫ、ポリミド、Ｕｌｔｅｍ、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、Ｐｅｂａｘ、ＰＴＥ、またはシリコーンのうち少なくとも１個により形成した請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３７】
さらに、前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、少なくとも１個の補強素子を有するものとした請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３８】
自動注入に適するアクセスポートを識別する方法において、
セプタムを有するアクセスポートを設けるステップと、
前記自動注入に適する前記アクセスポートを識別するステップとを有する
ことを特徴とする方法。
【請求項３９】
さらに、前記アクセスポートの少なくとも１個の特徴部を認識するステップを有し、
前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を認識するステップは、前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を触覚認識するステップ、または前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を視覚認識するステップを有する請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記アクセスポートを自動注入に適するものと識別するステップは、キーチェーン、ブレスレット、リストバンド、患者のカルテに設けられるステッカー、患者のＩＤカード、および前記アクセスポートのパッケージング上に設けられるラベルのうち少なくとも１個により提供される情報を視覚認識するステップを有する請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
患者の血管システムにアクセスするために使用する注入チューブにおいて、
複数の層を有し、
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、前記複数の層の少なくとも他の１個の層を超えて突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺するカニューレを形成する構造とする注入チューブ。
【請求項４２】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートにおいて、
セプタムを拘束するための構造としたハウジングであって、前記セプタムは、前記ハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通する構造にした該ハウジングと
前記リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形に抵抗する構造とした少なくとも１個の構造素子と
を備えたことを特徴とするアクセスポート。
【請求項４３】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの下面から前記ハウジングまで延在する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４４】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムに設けた１個以上の突出脚部により構成した請求項４３に記載のアクセスポート。
【請求項４５】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの上面から前記ハウジングまで延在する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４６】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタム内に少なくとも部分的に位置決めした少なくとも１個の矢尻状部を有する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４７】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの少なくとも一部に横方向に貫通する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４８】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの上面の少なくとも一部に当接するかまたは近接する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４９】
前記少なくとも１個の構造素子は、ほぼ三角形パターン、ほぼ長方形パターン、および複数のほぼ平行なラインパターンのうち少なくとも１個を有するパターンで形成した請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５０】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタム内に少なくとも部分的に埋め込み、閉じた平面形状の構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５１】
前記アクセスポートは、チタンおよびプラスチックの少なくとも１個により構成した請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５２】
アクセスポートを動作させる方法において、
前記セプタムを拘束する構造とした前記ハウジングを準備するステップであって、前記セプタムはハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通するための構造とした該ハウジング準備ステップと、
前記ハウジングの前記リザーバ内で圧力を上昇させるステップと、
前記リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限するステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項５３】
前記セプタムの変形を制限するステップは、前記セプタムを前記ハウジングに非周縁で連結するステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
前記セプタムの変形を制限するステップは、前記リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限する構造とした少なくとも１個の構造素子を設けるするステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５５】
構造素子を設けるするステップは、少なくとも１個の側方に突出する構造素子を設けるステップを有するものとした請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
前記ハウジングの前記リザーバ内の前記圧力を上昇させるステップは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記リザーバを通して液体を流すステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５７】
患者へ経皮的にアクセスするために使用する注入装置において、
管腔を画定するチューブ部分と、
前記チューブ部分の前記管腔と連通するカニューレと
を備え、このカニューレはアクセスポートのセプタムに挿通する構造とし、また
前記チューブ部分および前記カニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構成とする注入装置。
【請求項５８】
前記チューブ部分は複数の層を有し、前記複数の層における少なくとも２個の層は互いに異なる材料をで形成した請求項５７に記載の注入装置。
【請求項５９】
さらに、前記複数の層内に少なくとも１個の補強素子を設けた請求項５８に記載の注入装置。
【請求項６０】
前記チューブ部分および前記カニューレは、約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）の圧力に適応する構成とする請求項５７に記載の注入装置。
【請求項６１】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムにおいて、
上面および下面を有する本体と、
通常、前記上面と前記下面との間に配置する少なくとも１個のゲル領域と
を有することを特徴とするセプタム。
【請求項６２】
前記少なくとも１個のゲル領域は、シリコーンゲルまたは粘性液体を有するものとした請求項６１に記載のセプタム。
【請求項６３】
さらに、前記少なくとも１個のゲル領域に貫通するメッシュを有する請求項６１に記載のセプタム。
【請求項６４】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムにおいて、
本体と、
前記本体の少なくとも一部上に形成される層と、
前記層と前記本体との間に少なくとも部分的に配置した少なくとも１個のゲル領域と
を有することを特徴とするセプタム。
【請求項６５】
前記少なくとも１個のゲル領域は、シリコーンゲルまたは粘性液体を有するものとした請求項６４に記載のセプタム。
【請求項１】
アクセスポートを通して液体を流す方法において、
血管アクセスポートを準備するステップと、
少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記アクセスポートを通して液体を流すステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、前記アクセスポートのリザーバ内に少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、前記アクセスポートのリザーバ内に約２．５９ｋｇ／ｃｍ２〜４．５５ｋｇ／ｃｍ２（約３７ｐｓｉ〜６５ｐｓｉ）の範囲の圧力を生じさせる請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、約２ｍｌ／秒〜約５ｍｌ／秒の範囲の流速で前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、少なくとも約５ｍｌ／秒の流速で前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
さらに前記リザーバ内に生じた圧力によるセプタムの変形を制限するステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記セプタムの変形を制限するステップは、変形に対して少なくとも１個の構造素子を用いて前記セプタムを補強するステップを有する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記アクセスポートを通して前記液体を流すステップは、機械的注入器を使用し、前記アクセスポートに連通する注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップにより、少なくとも前記注入装置の部分内に少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
注入装置を通して液体を流す方法において、
血管アクセスポートへ動作可能な状態で連結した注入装置を準備するステップと、
少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記注入装置を通して液体を流すステップとを有する方法。
【請求項１１】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップにより、少なくとも前記注入器の部分内に少なくとも約７ｋｇ／ｃｍ２（約１００ｐｓｉ）の圧力を生じさせる請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップは、約２ｍｌ／秒〜５ｍｌ／秒との範囲の流速で注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記注入装置を通して前記液体を流すステップは、少なくとも約５ｍｌ／秒の流速で注入装置を通して前記液体を流すステップを有する請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
患者への皮下アクセスを提供するためのアクセスポートにおいて、
セプタムを拘束するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムがリザーバを画定し、前記セプタムには、ほぞ領域を設け、このアクセスポートの前記ハウジングには、前記セプタムの前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造であり、前記ほぞ領域と相補形状のほぞ穴領域を形成したことを特徴とするアクセスポート。
【請求項１５】
前記リザーバ内に生じる圧力による前記セプタムの変形を制限する構成とした、さらに少なくとも１個の構造素子を有する請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１６】
前記アクセスポートは、前記アクセスポートを通して最大流速を識別する構成とした、少なくとも１個の特徴部を設けた請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１７】
前記アクセスポートは、少なくとも１ｍｌ／秒の流速に適応する構成とした請求項１４に記載のアクセスポート。
【請求項１８】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートであって、
前記アクセスポートは、
セプタムを捕捉するための開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムによりリザーバを画定し、また
前記ハウジングおよび前記セプタムは、前記リザーバを通して少なくとも約１ｍｌ／秒の流速に適応する構造としたことを特徴とするアクセスポート。
【請求項１９】
さらに、前記リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形を防止する構成とした少なくとも１個の構造素子を有する請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２０】
前記セプタムは、ほぞ領域を有し、前記アクセスポートの前記ハウジングは、前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造とした相補的なほぞ穴領域を画定した請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２１】
前記ポートは患者へほぼ完全に埋め込むものとし、前記ポートは、自動注入可能なポートとして、患者の皮膚を通して触覚識別する構成とした請求項１８に記載のアクセスポート。
【請求項２２】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートにおいて、
前記アクセスポートは、
前記セプタムを拘束する開孔を画定するハウジングを備え、このハウジングおよび前記セプタムによりリザーバを画定し、また
前記ハウジングおよび前記セプタムは、少なくとも約２．４５ｋｇ／ｃｍ２（約３５ｐｓｉ）の前記リザーバ内に生じた圧力に適応する構造としたアクセスポート。
【請求項２３】
さらに、リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形を防止する構造とした少なくとも１個の構造素子を有する請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２４】
前記セプタムにはほぞ領域を設け、前記アクセスポートの前記ハウジングには、前記セプタムの前記ほぞ領域の少なくとも一部を収容する構造であり、前記ほぞ領域と相補形状のほぞ穴領域を形成した請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２５】
前記アクセスポートは、前記アクセスポートを通過する最大流速を識別する構造とした少なくとも１個の特徴部を設けた請求項２２に記載のアクセスポート。
【請求項２６】
患者へ経皮的にアクセスするために使用する注入装置において、
前記注入装置は、
管腔を画定するチューブ部分と、
前記チューブ部分の前記管腔と連通するカニューレと
を有し、このカニューレはアクセスポートのセプタムを通して挿入する構造とし、
前記チューブ部分および前記カニューレは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で液体を流す構造としたことを特徴とする注入装置。
【請求項２７】
前記チューブ部分は複数の層を有し、前記複数の層の少なくとも２層は異なる材料により形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項２８】
前記複数の層の少なくとも１層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合する請求項２６に記載の注入装置。
【請求項２９】
前記複数の層の少なくとも１層は、熱可塑性ポリウレタンにより形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３０】
前記複数の層の各々は、それぞれ異なる材料で形成した請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３１】
さらに、前記複数の層の少なくとも１個の層は、少なくとも１個の補強素子を有する構成とした請求項２６に記載の注入装置。
【請求項３２】
患者の血管系システムにアクセスするために使用する注入チューブにおいて、前記注入チューブは、
複数の層を有し、
前記チューブは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速に適応する構造とした
ことを特徴とする注入チューブ。
【請求項３３】
前記複数の層の少なくとも１個の層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合するものとした請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３４】
前記複数の層のうち少なくとも２個の層は、異なる材料で形成した請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３５】
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、前記複数の層の隣接する１個以上の層に結合する請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３６】
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、熱可塑性ポリウレタン、ＰＥＥＫ、ポリミド、Ｕｌｔｅｍ、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、Ｐｅｂａｘ、ＰＴＥ、またはシリコーンのうち少なくとも１個により形成した請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３７】
さらに、前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、少なくとも１個の補強素子を有するものとした請求項３２に記載の注入チューブ。
【請求項３８】
自動注入に適するアクセスポートを識別する方法において、
セプタムを有するアクセスポートを設けるステップと、
前記自動注入に適する前記アクセスポートを識別するステップとを有する
ことを特徴とする方法。
【請求項３９】
さらに、前記アクセスポートの少なくとも１個の特徴部を認識するステップを有し、
前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を認識するステップは、前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を触覚認識するステップ、または前記アクセスポートの前記少なくとも１個の特徴部を視覚認識するステップを有する請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記アクセスポートを自動注入に適するものと識別するステップは、キーチェーン、ブレスレット、リストバンド、患者のカルテに設けられるステッカー、患者のＩＤカード、および前記アクセスポートのパッケージング上に設けられるラベルのうち少なくとも１個により提供される情報を視覚認識するステップを有する請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
患者の血管システムにアクセスするために使用する注入チューブにおいて、
複数の層を有し、
前記複数の層のうち少なくとも１個の層は、前記複数の層の少なくとも他の１個の層を超えて突出し、アクセスポートのセプタムを穿刺するカニューレを形成する構造とする注入チューブ。
【請求項４２】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートにおいて、
セプタムを拘束するための構造としたハウジングであって、前記セプタムは、前記ハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通する構造にした該ハウジングと
前記リザーバ内に生じた圧力による前記セプタムの変形に抵抗する構造とした少なくとも１個の構造素子と
を備えたことを特徴とするアクセスポート。
【請求項４３】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの下面から前記ハウジングまで延在する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４４】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムに設けた１個以上の突出脚部により構成した請求項４３に記載のアクセスポート。
【請求項４５】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの上面から前記ハウジングまで延在する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４６】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタム内に少なくとも部分的に位置決めした少なくとも１個の矢尻状部を有する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４７】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの少なくとも一部に横方向に貫通する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４８】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタムの上面の少なくとも一部に当接するかまたは近接する構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項４９】
前記少なくとも１個の構造素子は、ほぼ三角形パターン、ほぼ長方形パターン、および複数のほぼ平行なラインパターンのうち少なくとも１個を有するパターンで形成した請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５０】
前記少なくとも１個の構造素子は、前記セプタム内に少なくとも部分的に埋め込み、閉じた平面形状の構成とした請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５１】
前記アクセスポートは、チタンおよびプラスチックの少なくとも１個により構成した請求項４２に記載のアクセスポート。
【請求項５２】
アクセスポートを動作させる方法において、
前記セプタムを拘束する構造とした前記ハウジングを準備するステップであって、前記セプタムはハウジング内に画定したリザーバ内にカニューレを挿通するための構造とした該ハウジング準備ステップと、
前記ハウジングの前記リザーバ内で圧力を上昇させるステップと、
前記リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限するステップと
を有することを特徴とする方法。
【請求項５３】
前記セプタムの変形を制限するステップは、前記セプタムを前記ハウジングに非周縁で連結するステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５４】
前記セプタムの変形を制限するステップは、前記リザーバ内に生じた前記圧力による前記セプタムの変形を制限する構造とした少なくとも１個の構造素子を設けるするステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５５】
構造素子を設けるするステップは、少なくとも１個の側方に突出する構造素子を設けるステップを有するものとした請求項５４に記載の方法。
【請求項５６】
前記ハウジングの前記リザーバ内の前記圧力を上昇させるステップは、少なくとも約１ｍｌ／秒の流速で前記リザーバを通して液体を流すステップを有するものとした請求項５２に記載の方法。
【請求項５７】
患者へ経皮的にアクセスするために使用する注入装置において、
管腔を画定するチューブ部分と、
前記チューブ部分の前記管腔と連通するカニューレと
を備え、このカニューレはアクセスポートのセプタムに挿通する構造とし、また
前記チューブ部分および前記カニューレは少なくとも約２８ｋｇ／ｃｍ２（約４００ｐｓｉ）の圧力に適応する構成とする注入装置。
【請求項５８】
前記チューブ部分は複数の層を有し、前記複数の層における少なくとも２個の層は互いに異なる材料をで形成した請求項５７に記載の注入装置。
【請求項５９】
さらに、前記複数の層内に少なくとも１個の補強素子を設けた請求項５８に記載の注入装置。
【請求項６０】
前記チューブ部分および前記カニューレは、約４２ｋｇ／ｃｍ２（約６００ｐｓｉ）の圧力に適応する構成とする請求項５７に記載の注入装置。
【請求項６１】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムにおいて、
上面および下面を有する本体と、
通常、前記上面と前記下面との間に配置する少なくとも１個のゲル領域と
を有することを特徴とするセプタム。
【請求項６２】
前記少なくとも１個のゲル領域は、シリコーンゲルまたは粘性液体を有するものとした請求項６１に記載のセプタム。
【請求項６３】
さらに、前記少なくとも１個のゲル領域に貫通するメッシュを有する請求項６１に記載のセプタム。
【請求項６４】
患者の皮下へのアクセスを提供するアクセスポートを形成するようハウジングに組み付けるセプタムにおいて、
本体と、
前記本体の少なくとも一部上に形成される層と、
前記層と前記本体との間に少なくとも部分的に配置した少なくとも１個のゲル領域と
を有することを特徴とするセプタム。
【請求項６５】
前記少なくとも１個のゲル領域は、シリコーンゲルまたは粘性液体を有するものとした請求項６４に記載のセプタム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【図５８】
【図５９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【図５８】
【図５９】
【公表番号】特表２００８−５３９０２５（Ｐ２００８−５３９０２５Ａ）
【公表日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５０９０５６（Ｐ２００８−５０９０５６）
【出願日】平成１８年４月２５日（２００６．４．２５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０１５６９５
【国際公開番号】ＷＯ２００６／１１６４３８
【国際公開日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【出願人】（５９１０１８６９３）シー・アール・バード・インコーポレーテッド (106)
【氏名又は名称原語表記】Ｃ Ｒ ＢＡＲＤ ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２０年１１月１３日（２００８．１１．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年４月２５日（２００６．４．２５）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０１５６９５
【国際公開番号】ＷＯ２００６／１１６４３８
【国際公開日】平成１８年１１月２日（２００６．１１．２）
【出願人】（５９１０１８６９３）シー・アール・バード・インコーポレーテッド (106)
【氏名又は名称原語表記】Ｃ Ｒ ＢＡＲＤ ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ
【Ｆターム（参考）】
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