液晶表示装置と液晶表示装置用光照射装置
【課題】ブラックマトリックスや信号線が存在しても、紫外線照射が遮断されず、封印剤の全量が硬化し、２枚の基板を完全に密着できる液晶表示板の提供。
【解決手段】本発明の液晶表示装置には互いに対向する２枚の基板及び２枚の基板の間に注入されている液晶物質層及び２枚の基板の表示領域外（Ｄ）のペンアウト領域周囲（Ｏ）に形成されて２枚の基板の間に注入されている液晶物質層を封印し、紫外線硬化材からなる封印材９０を含む。この時、封印材９０はペンアウト領域（Ｏ）でパッド６８と重なっておらず、封印材９０と重なっている互いに隣接するゲート線及びデータ線６２の間隔はゲート線及びデータ線６２の幅に対して１〜１０倍の間隔で形成されており、ゲート線及びデータ線６２の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている。
【解決手段】本発明の液晶表示装置には互いに対向する２枚の基板及び２枚の基板の間に注入されている液晶物質層及び２枚の基板の表示領域外（Ｄ）のペンアウト領域周囲（Ｏ）に形成されて２枚の基板の間に注入されている液晶物質層を封印し、紫外線硬化材からなる封印材９０を含む。この時、封印材９０はペンアウト領域（Ｏ）でパッド６８と重なっておらず、封印材９０と重なっている互いに隣接するゲート線及びデータ線６２の間隔はゲート線及びデータ線６２の幅に対して１〜１０倍の間隔で形成されており、ゲート線及びデータ線６２の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置及び液晶表示装置用封印材を硬化させるための光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶表示装置は電極が形成されている２枚の基板及びその間に注入されている液晶物質層を含み、２枚の基板は周縁に形成された液晶物質を封じ込める封印材で結合されており、２枚の基板の間に配置されている間隔材により所定の間隔が維持されている。
このような液晶表示装置では異方性誘電率を有する液晶物質に電極を利用して電界を印加し、この電界の強さを調節して基板を透過する光の量を調節することによって画像を表示する。
【０００３】
このような液晶表示装置を製造するためには、まず２枚の基板に信号伝達用配線、配線と電気的に連結されている電界生成電極及び様々な色を表現するためのカラーフィルターを形成する。次に、２枚の基板の表面に液晶分子を配向するための配向膜を塗布し配向処理を実施した後、そのうち一つの基板に間隔材を配置し、液晶注入口を残して封印材を周囲に印刷する。次に、２枚の基板を位置合わせし封印材を利用して２枚の基板を所定距離隔てて接着した後、液晶注入口を通じて２枚の基板の間に液晶物質を注入し液晶注入口を封止して液晶セルを完成する。
【０００４】
この時、封印材としては熱硬化性材料または紫外線硬化性材料を用いることができ、紫外線硬化性材料を使用する場合には紫外線を照射しながら２枚の基板を付着する工程を進める。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この場合、画像が表示される表示領域周囲から漏洩する光を遮断するためのブラックマトリックスや走査信号または画像信号を伝達するための信号線が形成されている基板の側から紫外線を照射すれば、このような配線などによって照射される紫外線が遮断される。よって、これら配線と重なっている封印材の全量が硬化しないため、硬化度が１００％に達しないことがあり、これによって２枚の基板が完全に接着できず、両基板間の接合不良が発生する。また、硬化していない封印材は液晶物質層の液晶物質と混合されて液晶物質を汚染させ液晶表示装置の表示特性を低下させる問題点を誘発させる。
【０００６】
本発明の技術的課題は、液晶表示装置用基板の接合不良を防止すると共に液晶物質の汚染を防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、このような課題を解決するために液晶表示装置用基板を接合するのに使用する光硬化性封印材の硬化度を高める。このために、光を遮る配線の幅と間隔を調節したり光が多様な角度で封印材に照射できるようにする。
本発明の一つの特徴による液晶表示板は絶縁基板、基板上に形成されている多数の信号線、そして信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受ける多数の信号パッドを含み、信号パッド付近の信号線の間の間隔は信号線の幅の１乃至１０倍である。
【０００８】
この時、信号線の幅は１０〜１００μmであるのが好ましく、信号パッド付近では信号線が折れ曲がっていることもある。
本発明の一つの実施例による液晶表示装置は表示領域、パッド領域及び前記両領域の中間に位置するペンアウト領域を含む。表示領域には走査信号を伝達するゲート線及びゲート線に交差して画素領域を定義し画像信号を伝達するデータ線が形成されていて画像が表示される。パッド領域にはゲート線及びデータ線に連結されており、外部から走査信号及び画像信号をゲート線及びデータ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパッドが形成されている。そしてペンアウト領域には表示領域とパッド領域の間に位置して対向する２枚の基板の間に注入されている液晶物質を封じ込め、ゲート線及びデータ線と交差して表示領域外の周囲に形成されていてゲートパッド及びデータパッドと重なっていない封印材がある。
【０００９】
この時、ペンアウト領域で互いに隣接するゲート線またはデータ線はゲート線またはデータ線の幅に対して１乃至１０倍の間隔で形成されており、ゲート線またはデータ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されているのが好ましい。
また、封印材は紫外線硬化性であるのが良く、ペンアウト領域でゲート線またはデータ線は折れていることがあり、少なくとも封印材の一部はゲート線及びデータ線の折れた部分と重なっていることがある。
【００１０】
上記の他に、液晶表示装置は、発光部材、対向する２枚の基板及び２枚の基板の周囲に形成されている紫外線硬化性封印材を含む液晶セルを支持する支持台、そして液晶セルの上部、下部または側面に対応して配置されており、発光部材からの光の方向を変える光経路変更部材を含んでいてもよい。
この時、発光部材が発する光は紫外線であることがあり、光経路変更部材は光を反射または散乱させ、このために屈曲面を有することもある。
【００１１】
また、光経路変更部材は支持台の上部に配置されることがあり、その上に光透過部材が配置されることもある。この場合光経路変更部材は支持台と一体になっていることがある。
光経路変更部材はまた支持台と液晶セルの間及び液晶セルと発光部材の間に配置されていたり、液晶セルの側面に多段に配置されることがあり、後者の場合反射面を有するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
以上で説明したように、本発明によると、ペンアウト領域でパッドと連結されている信号線の間隔と幅を適正水準に合せて、信号線と重なるために紫外線が直接照射されない封印材部分の硬化度を高めたり、反射板または散乱板を紫外線発光ランプと液晶表示板の間または液晶表示板の下部及び側面に配置して紫外線を様々な高さまたは角度に液晶表示板に入射して封印材の全ての部分に紫外線が到達するようにすることによって、２枚の基板の接合不良を防止し封印材による液晶物質の汚染を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付した図面を参考として本発明の実施例による液晶表示装置について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。
［実施例１（液晶表示装置の構造）］
まず、図１及び図２を参照して本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を概略的に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を示した概略的な配置図であり、図２は図１でII−II´線に沿って切断した断面図である。
図１及び図２に示したように、本発明による液晶表示装置は互いに対向する２枚の基板組立体、つまり、下板１００及び上板２００の間に注入されている液晶物質層３００、そして二つの板１００、２００の間に位置して液晶物質層３００を封じ込める封印材９０を含む。
【００１５】
下板１００は上板２００より寸法が大きく、画像を表示する表示領域（Ｄ）とその外側の周辺領域に分けることができる。
封印材９０は周辺領域に位置し、下板１００の縁に沿って閉四角形模様に形成されている。ここで封印材９０が閉曲線模様であるのは上板２００と下板１００を組立てる前に液晶物質を入れる工程によるからである。具体的には、下板１００に封印材９０を形成した後、封印材９０で囲まれた領域に液晶物質を滴下して、上板２００を置く方法で組立作業を進める場合にこのような模様になる。このような方法で液晶物質を入れる場合には液晶物質の量を正確に調節することが難しい。このため四角形に突出部を作った後、液晶物質を十分に入れて、余分の液晶物質を突出部側に集まるようにする方法を用いることもできる。封印材９０は光硬化材、特に紫外線を照射すれば硬化する紫外線硬化材からなり、封印材９０の表面には封印材９０と液晶物質の反応を防止するための反応防止膜を形成することができる。
【００１６】
液晶物質層３００には二つの板１００、２００を平行に支持するための球形の基板間隔材（図示せず）が混合されることができ、封印材９０も基板間隔材を含むことができる。一方、基板間隔材は窒化シリコンまたは有機絶縁物質などからなる突起で形成されることもできる。
図１及び図２のように、本発明の第１実施例による液晶表示装置の下板１００は、絶縁基板１０１とその上のゲート配線２０及びデータ配線６０を含む。ゲート配線２０とデータ配線６０は低抵抗の導電物質からなっており、ゲート絶縁膜３０で隔てられて互いに絶縁されている。ゲート配線２０は、図面からは具体的に認められないが、横方向にのびていて走査信号を伝達する表示領域（Ｄ）内の複数のゲート線、周辺領域に位置しゲート線と連結されていて外部から走査信号を受けてゲート線に伝達する複数のゲートパッド及びゲート線に連結されている薄膜トランジスタの複数のゲート電極を含む。
【００１７】
また、データ配線６０は表示領域（Ｄ）で縦方向にのびてゲート線と交差する複数のデータ線（図３の６２）、周辺領域に位置しデータ線と連結されていて外部から画像信号の伝達を受けてデータ線に伝達する複数のデータパッド（図３の６８）、データ線に連結されている薄膜トランジスタの複数のソース電極、そしてソース電極から分離されており、薄膜トランジスタのチャンネル部に対してソース電極の対向側に位置する薄膜トランジスタの複数のドレーン電極を含む。
【００１８】
このデータ配線は保護膜７０で覆われており、隣接する二つのゲート線と隣接する二つのデータ線で囲まれた領域で定義され、行列形態で配列されている画素領域の保護膜７０の上部には薄膜トランジスタのドレーン電極と連結されており、ＩＴＯ（indium tin oxide）またはＩＺＯ（indium zinc oxide）などのような透明な導電物質または高い反射率を有する不透明な導電物質からなる画素電極（図示せず）が形成されている。
【００１９】
ここで、絶縁基板１０１上には、またゲート線から分離されていて共通電極電圧などの電圧の印加を受ける維持電極配線が形成されていることがあり、このような維持電極配線は画素電極と重なって画素の電荷保存能力を向上させる維持蓄電器を構成する。
下板１００と対向する上板２００は絶縁基板２０１とその上のブラックマトリックス２０２、共通電極２０３、複数のカラーフィルター（図示せず）などを含む。ブラックマトリックス２０２は行列形式に配列された切除部（開口部）を有し、この切除部は下板１００の画素領域に対応する。ブラックマトリックス２０２はまた表示領域（Ｄ）の周囲にも形成されて表示領域（Ｄ）の周囲から漏洩する光を遮断する。ブラックマトリックス２０２の切除部、つまり、画素領域対応部分には赤色、緑色、青色のカラーフィルター（図示せず）が形成されている。この時、赤、緑、青のカラーフィルターは列方向には三交替に配列されるが、行方向には同じ色のカラーフィルターが同じ行に位置するように配列されたり、あるいは、列方向と同様に三交替に配列できる。カラーフィルターなどは平坦化特性に優れた保護膜で覆われることができる。
【００２０】
一方、下板１００と上板２００の最上部には、図２のように液晶物質層３００の液晶分子を特定の方向に配向するためのもので、ラビング処理された配向膜１１０、２１０が形成されている。図１に示したように、下板１００は上板２００より大きくて配線２０、６０が上板２００の外側に露出される。
図３は図１で表示領域（Ｄ）の外側のデータパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。図３のように、周辺領域は再びパッド領域（Ｐ）とペンアウト領域（Ｏ）に分けることができるが、パッド領域（Ｐ）にはゲートパッドとデータパッド６８が位置し、ペンアウト領域（Ｏ）は封印材形成領域で、表示領域（Ｄ）とパッド領域（Ｐ）の間に位置する。ペンアウト領域（Ｏ）ではデータ線６２がデータパッド６８と連結できるように折れており、封印材９０はこのペンアウト領域（Ｏ）に形成されている。もちろんこのペンアウト領域（Ｏ）でもデータ線６２が折れずに直線に伸びることができ、この時にはデータパッド６８の間の間隔が広くなる。
【００２１】
このような位置にある封印材９０を硬化するために、下板１００の下側から紫外線を照射すれば、封印材９０に含まれている開始剤が封印材９０に含まれている単量体または軽度の重合体を重合反応させるが、この反応は紫外線が直接照射された部分からそうでない部分に連鎖的に進められるので、紫外線が直接照射された照射領域だけでなく照射領域の境界から信号線つまり、データ線６２下部（非照射部）の内側に一定の距離まで硬化が行われる。したがって配線が占める面積と配線間の間隔を適切に調節すれば封印材９０の全ての部分を硬化させることができる。本実施例によれば、ペンアウト領域（Ｏ）にある隣接データ線間隔はデータ線６２の幅（Ｂ）に対して１乃至１０倍とし、データ線６２の幅（Ｂ）は１０〜１００μｍ範囲とする。ゲートパッド部分もこれと殆ど似たような構造を有するのでペンアウト領域（Ｏ）でのゲート線の幅及びその間隔についても同一な条件を適用する。
実験例１
紫外線を照射しない場合（事例Ｘ）と、信号線つまり、データ線６２の幅が２９．１６μｍであり隣接信号線間隔が２０．２９μｍであって、信号線間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）より小さい場合（事例Ｙ）と、データ線６２の幅（Ｂ）が１８μｍでありデータ線６２間の間隔（Ａ）が１２２２．４７μｍであって、データ線６２間の間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）に比べて約８．３倍程度大きい場合（事例Ｚ）の三例に対してペンアウト領域の信号線上部に形成された封印材の硬化程度を分析した。ここで、封印材の硬化度はラマンスペクトルを使用して測定した。
【００２２】
図４はラマンスペクトルであって、横軸はラマンシフト（Raman Shift、cm-1であり、縦軸はラマン強度（Raman intensity）である。図４の１６０８ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加しないベンゼン環構造を示し、１６３１ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加する炭素二重結合を示す。図４で事例Ｚの場合が１６３１ピーク値が最も小さいので硬化がよくできるということが分かる。具体的にラマンスペクトルから硬化度を求める方法は次の通りである。
【００２３】
まず、Ｘの場合のように紫外線を照射しなくて全く硬化されていない場合を硬化度０％とし、反対に完全に硬化されたことを硬化度１００％とする。この二つの場合に対して各々ラマンスペクトル曲線を捜し出す。この二つの場合、全て１６０８ｃｍ-1ピークと１６３１ｃｍ-1ピークを有しているが、まず１６０８ｃｍ-1ピークの両側の谷を直線で連結しスペクトル曲線とその直線で囲まれた部分の面積を求める。次に、１６３１ｃｍ-1ピークに対しても同じ方法で面積を求めた後、１６３１面積/１６０８面積の比率を計算する。硬化度０％である場合の面積比をｒ1、１００％である場合の面積比をｒ2とすれば、面積比がｒである場合の硬化度Ｈは、
Ｈ＝１００・（r1-r）／（r1-r2）
に与えられる。この式を見れば面積比が大きいほど硬化度が小さくなることが分かる。又、面積比は１６３１面積/１６０８面積で与えられ、１６０８面積は図４の三つの場合全てが似ているので、結局１６３１面積によって硬化度が左右されることが分かる。図４ではＺの場合がＹの場合より面積が小さいので硬化度がさらに大きいことと見ることができる。
【００２４】
本実験例において、ｒ1=０．５、ｒ2=０．１であり、これによりＨ=１００・[（０．５−ｒ）/０．４]となった。図４のグラフでは、Ｘの場合は、前述したようにｒ=０．５で硬化度０％、Ｙの場合はｒが０．１４程度で硬化度９０％、Ｚの場合はｒが殆ど０．１であって１００％に近い硬化度と推定された。
［実施例２〜４（紫外線照射器の構造）］
一方、封印材の硬化を完全にするために、前の第１実施例でのように液晶表示装置自体の構造を変えることができるが、紫外線を照射する方法及び装置を改善して紫外線が均等に照射できるようにすることも可能である。、例えば、液晶表示装置の上側で紫外線を照射する場合、その下側及び/または横側に反射板または散乱板を設置する。下記にこのような方法及び装置について詳細に説明する。
【００２５】
図５は本発明の第２実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。ここで、紫外線が反射または散乱されることを具体的に表示するために液晶表示装置は一部だけを示した。
図５のように、本発明の第２実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は、紫外線を生成する紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置する支持台５２０及び支持台５２０の上部に形成されている反射板５３０を含む。紫外線照射される液晶表示装置は反射板５３０上に置かれ、反射板５３０は支持台５２０と一体に形成されることもできる。なお、発光ランプ５１０と反射板５３０の間に集光部材たとえばかまぼこ形レンズを設置してもよい。
【００２６】
この時、反射板５３０は反射率に優れた誘電多層膜または金属物質たとえば反射面にフッ化マグネシウムを蒸着したアルミニウムなどからなり、紫外線が様々な方向に反射されたり乱反射が起こるように粗研磨（grinding）などの方法で処理して表面に屈曲を作ることが好ましい。
このような本発明による液晶表示装置用紫外線照射装置では発光ランプ５１０で照射された紫外線が上板２００及び下板１００を通過した後、反射板５３０によって様々な方向に反射されるので信号線（図１の２０、６０）またはブラックマトリックス２１０下部に位置した封印材９０にも到達できて封印材９０の硬化度を極大化することができる。
【００２７】
図６及び７は本発明の第３及び第４実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
図６のように、本発明の第３実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は、第２実施例の紫外線照射装置の反射板５３０に加えて、紫外線発光ランプ５１０と反射板５３０の間に位置して紫外線発光ランプ５１０からの紫外線を散乱させ液晶セル１００、２００に送る反射板５４０をさらに含む。
【００２８】
このような本発明の第３実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して紫外線を照射する場合、液晶セル１００、２００に入射される光が第２実施例のように液晶セル１００、２００に対して均一で垂直に入射されることでなく、多様な方向に傾いて入射され、反射板５３０に到達する光も多様な方向に均等に入射されるので、第２実施例の場合よりさらに多くの部位にさらに多量の紫外線が到達することができる。
【００２９】
また、図７のように、本発明の第４実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は第３実施例の反射板５３０上に一定の厚さのスペーサ６００が配置されている構造を有する。この時、スペーサ６００は透明または半透明であり散乱性を有することも可能である。
このスペーサ６００は液晶セル１００、２００と反射板５３０の間の距離を遠くして反射板５３０から反射される紫外線がさらに広くて稠密に照射できるようにする。
【００３０】
以下、本発明の実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して封印材を硬化した実験例について具体的に説明する。
実験例２
図８は本発明の実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して封印材の硬化度を測定するための試料の概略図であり、図９は位置による封印材の硬化度を示すグラフである。
【００３１】
本実験例では図８に示したように０．７ｍｍ厚さのガラス基板二枚のうち一つにクロム（Ｃｒ）をメッキして陰影部８を形成し、紫外線硬化性封印材７を陰影部８と重なるように基板上部に塗った後、反射板のない従来の紫外線照射装置及び第２実施例の紫外線照射装置を使用して紫外線を照射し２枚の基板を接着した。図８で六つの地点（１−６）で封印材の硬化度を測定したが、図面から見るように、地点１は陰影部で遮らない部分に位置し、地点（２−６）は陰影部の境界線から５０、１８０、３３０、５３０及び１，３００μｍ離れた部分に各々位置する。
【００３２】
図９で硬化度は実験例１と同じ方法で求めたものであって、Ｑは反射板を使用した場合に封印材の硬化度を示し、Ｒは反射板を使用しない場合の封印材の硬化度を示す。
図９のように、反射板を使用しない従来の場合（Ｒ）には地点１及び陰影部の境界線から５０μｍ離れた地点２までは封印材の硬化度が９０％以上と認められたが、陰影部の他の地点では封印材の硬化度が５０％乃至０％であった。これと比較して、本発明の実施例のように反射板を利用した場合（Ｑ）には全ての地点で封印材硬化度が９０％以上となった。このように、反射板を利用する場合には陰影部の中にまで紫外線が十分に照射されて封印材が硬化されることが分かる。
［実施例５〜８（紫外線照射器の構造）］
本発明の第２乃至第４実施例では基板の下部及び/または上部に反射板及び/または散乱板を配置して封印材の硬化度を増加させたが、基板の側面に反射板及び散乱板を配置して紫外線の硬化度を増加させることができる。下記にこれを具体的に説明する。
【００３３】
図１０乃至図１３は本発明の第５乃至第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
図１０のように、本発明の第５実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は紫外線を発生させる紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置する支持台５２０及び支持台５２０上部側面に配置されている反射板５５０を含む。ここで液晶セル１００、２００は支持台５２０上に位置する。
【００３４】
側面に位置した反射板５５０は傾いた反射面を有していて発光ランプ５１０からの紫外線を傾くように反射させブラックマトリックス２１０と重なってその下部に位置した紫外線硬化性の封印材９０に到達するようにする。
例えば反射板５５０の数、位置及び模様などを多様にして封印材９０の硬化をさらに極大化することができる。図１１に示した本発明の第６実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置のように上下方向に多段で反射板５５０を配置することもでき、図１２に示した本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置のように反射板５５０の表面を凸（または凹）の曲面に作ることができ、図１３に示した本発明の第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置でのように反射板５５０の表面をエンボシングまたは粗研磨処理して表面に屈曲５５２を作って紫外線を乱反射させることもできる。
【００３５】
前述した第２乃至第８実施例の反射板５３０、５４０、５５０は別々に用いられることもでき、これらの組み合わせで用いられることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を示した概略的な配置図である。
【図２】図１のII−II´線に沿って切断した液晶表示装置の断面図である。
【図３】図１で表示領域（Ｄ）外側のデータパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。
【図４】配線の下部に位置した封印材のラマンスペクトルである。
【図５】各々本発明の第２実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図６】各々本発明の第３実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図７】各々本発明の第４実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図８】封印材の硬化度を測定するための試料の概略図である。
【図９】図８の試料で、位置による紫外線の硬化度を示したグラフである。
【図１０】各々本発明の第５実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１１】各々本発明の第６実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１２】各々本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１３】各々本発明の第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【符号の説明】
【００３７】
１ 地点
２ 境界線から５０μｍ離れた地点
７ 紫外線硬化性封印材
８ 陰影部
２０ ゲート配線
３０ ゲート絶縁膜
６０ データ配線
６２ 信号線
６８ データパッド
７０ 保護膜
９０ 封印材
１００ 下板
１０１ 絶縁基板
１１０ 配向膜
２００ 上板
２０１ 絶縁基板
２０２ ブラックマトリックス
２０３ 共通電極
２１０ 配向膜
３００ 液晶物質層
５１０ 発光ランプ
５２０ 支持台
５３０ 反射板
５４０ 散乱板
５５０ 反射板
６００ スペーサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置及び液晶表示装置用封印材を硬化させるための光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に液晶表示装置は電極が形成されている２枚の基板及びその間に注入されている液晶物質層を含み、２枚の基板は周縁に形成された液晶物質を封じ込める封印材で結合されており、２枚の基板の間に配置されている間隔材により所定の間隔が維持されている。
このような液晶表示装置では異方性誘電率を有する液晶物質に電極を利用して電界を印加し、この電界の強さを調節して基板を透過する光の量を調節することによって画像を表示する。
【０００３】
このような液晶表示装置を製造するためには、まず２枚の基板に信号伝達用配線、配線と電気的に連結されている電界生成電極及び様々な色を表現するためのカラーフィルターを形成する。次に、２枚の基板の表面に液晶分子を配向するための配向膜を塗布し配向処理を実施した後、そのうち一つの基板に間隔材を配置し、液晶注入口を残して封印材を周囲に印刷する。次に、２枚の基板を位置合わせし封印材を利用して２枚の基板を所定距離隔てて接着した後、液晶注入口を通じて２枚の基板の間に液晶物質を注入し液晶注入口を封止して液晶セルを完成する。
【０００４】
この時、封印材としては熱硬化性材料または紫外線硬化性材料を用いることができ、紫外線硬化性材料を使用する場合には紫外線を照射しながら２枚の基板を付着する工程を進める。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この場合、画像が表示される表示領域周囲から漏洩する光を遮断するためのブラックマトリックスや走査信号または画像信号を伝達するための信号線が形成されている基板の側から紫外線を照射すれば、このような配線などによって照射される紫外線が遮断される。よって、これら配線と重なっている封印材の全量が硬化しないため、硬化度が１００％に達しないことがあり、これによって２枚の基板が完全に接着できず、両基板間の接合不良が発生する。また、硬化していない封印材は液晶物質層の液晶物質と混合されて液晶物質を汚染させ液晶表示装置の表示特性を低下させる問題点を誘発させる。
【０００６】
本発明の技術的課題は、液晶表示装置用基板の接合不良を防止すると共に液晶物質の汚染を防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、このような課題を解決するために液晶表示装置用基板を接合するのに使用する光硬化性封印材の硬化度を高める。このために、光を遮る配線の幅と間隔を調節したり光が多様な角度で封印材に照射できるようにする。
本発明の一つの特徴による液晶表示板は絶縁基板、基板上に形成されている多数の信号線、そして信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受ける多数の信号パッドを含み、信号パッド付近の信号線の間の間隔は信号線の幅の１乃至１０倍である。
【０００８】
この時、信号線の幅は１０〜１００μmであるのが好ましく、信号パッド付近では信号線が折れ曲がっていることもある。
本発明の一つの実施例による液晶表示装置は表示領域、パッド領域及び前記両領域の中間に位置するペンアウト領域を含む。表示領域には走査信号を伝達するゲート線及びゲート線に交差して画素領域を定義し画像信号を伝達するデータ線が形成されていて画像が表示される。パッド領域にはゲート線及びデータ線に連結されており、外部から走査信号及び画像信号をゲート線及びデータ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパッドが形成されている。そしてペンアウト領域には表示領域とパッド領域の間に位置して対向する２枚の基板の間に注入されている液晶物質を封じ込め、ゲート線及びデータ線と交差して表示領域外の周囲に形成されていてゲートパッド及びデータパッドと重なっていない封印材がある。
【０００９】
この時、ペンアウト領域で互いに隣接するゲート線またはデータ線はゲート線またはデータ線の幅に対して１乃至１０倍の間隔で形成されており、ゲート線またはデータ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されているのが好ましい。
また、封印材は紫外線硬化性であるのが良く、ペンアウト領域でゲート線またはデータ線は折れていることがあり、少なくとも封印材の一部はゲート線及びデータ線の折れた部分と重なっていることがある。
【００１０】
上記の他に、液晶表示装置は、発光部材、対向する２枚の基板及び２枚の基板の周囲に形成されている紫外線硬化性封印材を含む液晶セルを支持する支持台、そして液晶セルの上部、下部または側面に対応して配置されており、発光部材からの光の方向を変える光経路変更部材を含んでいてもよい。
この時、発光部材が発する光は紫外線であることがあり、光経路変更部材は光を反射または散乱させ、このために屈曲面を有することもある。
【００１１】
また、光経路変更部材は支持台の上部に配置されることがあり、その上に光透過部材が配置されることもある。この場合光経路変更部材は支持台と一体になっていることがある。
光経路変更部材はまた支持台と液晶セルの間及び液晶セルと発光部材の間に配置されていたり、液晶セルの側面に多段に配置されることがあり、後者の場合反射面を有するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
以上で説明したように、本発明によると、ペンアウト領域でパッドと連結されている信号線の間隔と幅を適正水準に合せて、信号線と重なるために紫外線が直接照射されない封印材部分の硬化度を高めたり、反射板または散乱板を紫外線発光ランプと液晶表示板の間または液晶表示板の下部及び側面に配置して紫外線を様々な高さまたは角度に液晶表示板に入射して封印材の全ての部分に紫外線が到達するようにすることによって、２枚の基板の接合不良を防止し封印材による液晶物質の汚染を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、添付した図面を参考として本発明の実施例による液晶表示装置について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。
［実施例１（液晶表示装置の構造）］
まず、図１及び図２を参照して本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を概略的に説明する。
【００１４】
図１は、本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を示した概略的な配置図であり、図２は図１でII−II´線に沿って切断した断面図である。
図１及び図２に示したように、本発明による液晶表示装置は互いに対向する２枚の基板組立体、つまり、下板１００及び上板２００の間に注入されている液晶物質層３００、そして二つの板１００、２００の間に位置して液晶物質層３００を封じ込める封印材９０を含む。
【００１５】
下板１００は上板２００より寸法が大きく、画像を表示する表示領域（Ｄ）とその外側の周辺領域に分けることができる。
封印材９０は周辺領域に位置し、下板１００の縁に沿って閉四角形模様に形成されている。ここで封印材９０が閉曲線模様であるのは上板２００と下板１００を組立てる前に液晶物質を入れる工程によるからである。具体的には、下板１００に封印材９０を形成した後、封印材９０で囲まれた領域に液晶物質を滴下して、上板２００を置く方法で組立作業を進める場合にこのような模様になる。このような方法で液晶物質を入れる場合には液晶物質の量を正確に調節することが難しい。このため四角形に突出部を作った後、液晶物質を十分に入れて、余分の液晶物質を突出部側に集まるようにする方法を用いることもできる。封印材９０は光硬化材、特に紫外線を照射すれば硬化する紫外線硬化材からなり、封印材９０の表面には封印材９０と液晶物質の反応を防止するための反応防止膜を形成することができる。
【００１６】
液晶物質層３００には二つの板１００、２００を平行に支持するための球形の基板間隔材（図示せず）が混合されることができ、封印材９０も基板間隔材を含むことができる。一方、基板間隔材は窒化シリコンまたは有機絶縁物質などからなる突起で形成されることもできる。
図１及び図２のように、本発明の第１実施例による液晶表示装置の下板１００は、絶縁基板１０１とその上のゲート配線２０及びデータ配線６０を含む。ゲート配線２０とデータ配線６０は低抵抗の導電物質からなっており、ゲート絶縁膜３０で隔てられて互いに絶縁されている。ゲート配線２０は、図面からは具体的に認められないが、横方向にのびていて走査信号を伝達する表示領域（Ｄ）内の複数のゲート線、周辺領域に位置しゲート線と連結されていて外部から走査信号を受けてゲート線に伝達する複数のゲートパッド及びゲート線に連結されている薄膜トランジスタの複数のゲート電極を含む。
【００１７】
また、データ配線６０は表示領域（Ｄ）で縦方向にのびてゲート線と交差する複数のデータ線（図３の６２）、周辺領域に位置しデータ線と連結されていて外部から画像信号の伝達を受けてデータ線に伝達する複数のデータパッド（図３の６８）、データ線に連結されている薄膜トランジスタの複数のソース電極、そしてソース電極から分離されており、薄膜トランジスタのチャンネル部に対してソース電極の対向側に位置する薄膜トランジスタの複数のドレーン電極を含む。
【００１８】
このデータ配線は保護膜７０で覆われており、隣接する二つのゲート線と隣接する二つのデータ線で囲まれた領域で定義され、行列形態で配列されている画素領域の保護膜７０の上部には薄膜トランジスタのドレーン電極と連結されており、ＩＴＯ（indium tin oxide）またはＩＺＯ（indium zinc oxide）などのような透明な導電物質または高い反射率を有する不透明な導電物質からなる画素電極（図示せず）が形成されている。
【００１９】
ここで、絶縁基板１０１上には、またゲート線から分離されていて共通電極電圧などの電圧の印加を受ける維持電極配線が形成されていることがあり、このような維持電極配線は画素電極と重なって画素の電荷保存能力を向上させる維持蓄電器を構成する。
下板１００と対向する上板２００は絶縁基板２０１とその上のブラックマトリックス２０２、共通電極２０３、複数のカラーフィルター（図示せず）などを含む。ブラックマトリックス２０２は行列形式に配列された切除部（開口部）を有し、この切除部は下板１００の画素領域に対応する。ブラックマトリックス２０２はまた表示領域（Ｄ）の周囲にも形成されて表示領域（Ｄ）の周囲から漏洩する光を遮断する。ブラックマトリックス２０２の切除部、つまり、画素領域対応部分には赤色、緑色、青色のカラーフィルター（図示せず）が形成されている。この時、赤、緑、青のカラーフィルターは列方向には三交替に配列されるが、行方向には同じ色のカラーフィルターが同じ行に位置するように配列されたり、あるいは、列方向と同様に三交替に配列できる。カラーフィルターなどは平坦化特性に優れた保護膜で覆われることができる。
【００２０】
一方、下板１００と上板２００の最上部には、図２のように液晶物質層３００の液晶分子を特定の方向に配向するためのもので、ラビング処理された配向膜１１０、２１０が形成されている。図１に示したように、下板１００は上板２００より大きくて配線２０、６０が上板２００の外側に露出される。
図３は図１で表示領域（Ｄ）の外側のデータパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。図３のように、周辺領域は再びパッド領域（Ｐ）とペンアウト領域（Ｏ）に分けることができるが、パッド領域（Ｐ）にはゲートパッドとデータパッド６８が位置し、ペンアウト領域（Ｏ）は封印材形成領域で、表示領域（Ｄ）とパッド領域（Ｐ）の間に位置する。ペンアウト領域（Ｏ）ではデータ線６２がデータパッド６８と連結できるように折れており、封印材９０はこのペンアウト領域（Ｏ）に形成されている。もちろんこのペンアウト領域（Ｏ）でもデータ線６２が折れずに直線に伸びることができ、この時にはデータパッド６８の間の間隔が広くなる。
【００２１】
このような位置にある封印材９０を硬化するために、下板１００の下側から紫外線を照射すれば、封印材９０に含まれている開始剤が封印材９０に含まれている単量体または軽度の重合体を重合反応させるが、この反応は紫外線が直接照射された部分からそうでない部分に連鎖的に進められるので、紫外線が直接照射された照射領域だけでなく照射領域の境界から信号線つまり、データ線６２下部（非照射部）の内側に一定の距離まで硬化が行われる。したがって配線が占める面積と配線間の間隔を適切に調節すれば封印材９０の全ての部分を硬化させることができる。本実施例によれば、ペンアウト領域（Ｏ）にある隣接データ線間隔はデータ線６２の幅（Ｂ）に対して１乃至１０倍とし、データ線６２の幅（Ｂ）は１０〜１００μｍ範囲とする。ゲートパッド部分もこれと殆ど似たような構造を有するのでペンアウト領域（Ｏ）でのゲート線の幅及びその間隔についても同一な条件を適用する。
実験例１
紫外線を照射しない場合（事例Ｘ）と、信号線つまり、データ線６２の幅が２９．１６μｍであり隣接信号線間隔が２０．２９μｍであって、信号線間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）より小さい場合（事例Ｙ）と、データ線６２の幅（Ｂ）が１８μｍでありデータ線６２間の間隔（Ａ）が１２２２．４７μｍであって、データ線６２間の間隔（Ａ）がデータ線６２の幅（Ｂ）に比べて約８．３倍程度大きい場合（事例Ｚ）の三例に対してペンアウト領域の信号線上部に形成された封印材の硬化程度を分析した。ここで、封印材の硬化度はラマンスペクトルを使用して測定した。
【００２２】
図４はラマンスペクトルであって、横軸はラマンシフト（Raman Shift、cm-1であり、縦軸はラマン強度（Raman intensity）である。図４の１６０８ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加しないベンゼン環構造を示し、１６３１ｃｍ-1ピークは硬化反応に参加する炭素二重結合を示す。図４で事例Ｚの場合が１６３１ピーク値が最も小さいので硬化がよくできるということが分かる。具体的にラマンスペクトルから硬化度を求める方法は次の通りである。
【００２３】
まず、Ｘの場合のように紫外線を照射しなくて全く硬化されていない場合を硬化度０％とし、反対に完全に硬化されたことを硬化度１００％とする。この二つの場合に対して各々ラマンスペクトル曲線を捜し出す。この二つの場合、全て１６０８ｃｍ-1ピークと１６３１ｃｍ-1ピークを有しているが、まず１６０８ｃｍ-1ピークの両側の谷を直線で連結しスペクトル曲線とその直線で囲まれた部分の面積を求める。次に、１６３１ｃｍ-1ピークに対しても同じ方法で面積を求めた後、１６３１面積/１６０８面積の比率を計算する。硬化度０％である場合の面積比をｒ1、１００％である場合の面積比をｒ2とすれば、面積比がｒである場合の硬化度Ｈは、
Ｈ＝１００・（r1-r）／（r1-r2）
に与えられる。この式を見れば面積比が大きいほど硬化度が小さくなることが分かる。又、面積比は１６３１面積/１６０８面積で与えられ、１６０８面積は図４の三つの場合全てが似ているので、結局１６３１面積によって硬化度が左右されることが分かる。図４ではＺの場合がＹの場合より面積が小さいので硬化度がさらに大きいことと見ることができる。
【００２４】
本実験例において、ｒ1=０．５、ｒ2=０．１であり、これによりＨ=１００・[（０．５−ｒ）/０．４]となった。図４のグラフでは、Ｘの場合は、前述したようにｒ=０．５で硬化度０％、Ｙの場合はｒが０．１４程度で硬化度９０％、Ｚの場合はｒが殆ど０．１であって１００％に近い硬化度と推定された。
［実施例２〜４（紫外線照射器の構造）］
一方、封印材の硬化を完全にするために、前の第１実施例でのように液晶表示装置自体の構造を変えることができるが、紫外線を照射する方法及び装置を改善して紫外線が均等に照射できるようにすることも可能である。、例えば、液晶表示装置の上側で紫外線を照射する場合、その下側及び/または横側に反射板または散乱板を設置する。下記にこのような方法及び装置について詳細に説明する。
【００２５】
図５は本発明の第２実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。ここで、紫外線が反射または散乱されることを具体的に表示するために液晶表示装置は一部だけを示した。
図５のように、本発明の第２実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は、紫外線を生成する紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置する支持台５２０及び支持台５２０の上部に形成されている反射板５３０を含む。紫外線照射される液晶表示装置は反射板５３０上に置かれ、反射板５３０は支持台５２０と一体に形成されることもできる。なお、発光ランプ５１０と反射板５３０の間に集光部材たとえばかまぼこ形レンズを設置してもよい。
【００２６】
この時、反射板５３０は反射率に優れた誘電多層膜または金属物質たとえば反射面にフッ化マグネシウムを蒸着したアルミニウムなどからなり、紫外線が様々な方向に反射されたり乱反射が起こるように粗研磨（grinding）などの方法で処理して表面に屈曲を作ることが好ましい。
このような本発明による液晶表示装置用紫外線照射装置では発光ランプ５１０で照射された紫外線が上板２００及び下板１００を通過した後、反射板５３０によって様々な方向に反射されるので信号線（図１の２０、６０）またはブラックマトリックス２１０下部に位置した封印材９０にも到達できて封印材９０の硬化度を極大化することができる。
【００２７】
図６及び７は本発明の第３及び第４実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
図６のように、本発明の第３実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は、第２実施例の紫外線照射装置の反射板５３０に加えて、紫外線発光ランプ５１０と反射板５３０の間に位置して紫外線発光ランプ５１０からの紫外線を散乱させ液晶セル１００、２００に送る反射板５４０をさらに含む。
【００２８】
このような本発明の第３実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して紫外線を照射する場合、液晶セル１００、２００に入射される光が第２実施例のように液晶セル１００、２００に対して均一で垂直に入射されることでなく、多様な方向に傾いて入射され、反射板５３０に到達する光も多様な方向に均等に入射されるので、第２実施例の場合よりさらに多くの部位にさらに多量の紫外線が到達することができる。
【００２９】
また、図７のように、本発明の第４実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は第３実施例の反射板５３０上に一定の厚さのスペーサ６００が配置されている構造を有する。この時、スペーサ６００は透明または半透明であり散乱性を有することも可能である。
このスペーサ６００は液晶セル１００、２００と反射板５３０の間の距離を遠くして反射板５３０から反射される紫外線がさらに広くて稠密に照射できるようにする。
【００３０】
以下、本発明の実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して封印材を硬化した実験例について具体的に説明する。
実験例２
図８は本発明の実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置を利用して封印材の硬化度を測定するための試料の概略図であり、図９は位置による封印材の硬化度を示すグラフである。
【００３１】
本実験例では図８に示したように０．７ｍｍ厚さのガラス基板二枚のうち一つにクロム（Ｃｒ）をメッキして陰影部８を形成し、紫外線硬化性封印材７を陰影部８と重なるように基板上部に塗った後、反射板のない従来の紫外線照射装置及び第２実施例の紫外線照射装置を使用して紫外線を照射し２枚の基板を接着した。図８で六つの地点（１−６）で封印材の硬化度を測定したが、図面から見るように、地点１は陰影部で遮らない部分に位置し、地点（２−６）は陰影部の境界線から５０、１８０、３３０、５３０及び１，３００μｍ離れた部分に各々位置する。
【００３２】
図９で硬化度は実験例１と同じ方法で求めたものであって、Ｑは反射板を使用した場合に封印材の硬化度を示し、Ｒは反射板を使用しない場合の封印材の硬化度を示す。
図９のように、反射板を使用しない従来の場合（Ｒ）には地点１及び陰影部の境界線から５０μｍ離れた地点２までは封印材の硬化度が９０％以上と認められたが、陰影部の他の地点では封印材の硬化度が５０％乃至０％であった。これと比較して、本発明の実施例のように反射板を利用した場合（Ｑ）には全ての地点で封印材硬化度が９０％以上となった。このように、反射板を利用する場合には陰影部の中にまで紫外線が十分に照射されて封印材が硬化されることが分かる。
［実施例５〜８（紫外線照射器の構造）］
本発明の第２乃至第４実施例では基板の下部及び/または上部に反射板及び/または散乱板を配置して封印材の硬化度を増加させたが、基板の側面に反射板及び散乱板を配置して紫外線の硬化度を増加させることができる。下記にこれを具体的に説明する。
【００３３】
図１０乃至図１３は本発明の第５乃至第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
図１０のように、本発明の第５実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置は紫外線を発生させる紫外線発光ランプ５１０、発光ランプ５１０の下部に位置する支持台５２０及び支持台５２０上部側面に配置されている反射板５５０を含む。ここで液晶セル１００、２００は支持台５２０上に位置する。
【００３４】
側面に位置した反射板５５０は傾いた反射面を有していて発光ランプ５１０からの紫外線を傾くように反射させブラックマトリックス２１０と重なってその下部に位置した紫外線硬化性の封印材９０に到達するようにする。
例えば反射板５５０の数、位置及び模様などを多様にして封印材９０の硬化をさらに極大化することができる。図１１に示した本発明の第６実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置のように上下方向に多段で反射板５５０を配置することもでき、図１２に示した本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置のように反射板５５０の表面を凸（または凹）の曲面に作ることができ、図１３に示した本発明の第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置でのように反射板５５０の表面をエンボシングまたは粗研磨処理して表面に屈曲５５２を作って紫外線を乱反射させることもできる。
【００３５】
前述した第２乃至第８実施例の反射板５３０、５４０、５５０は別々に用いられることもでき、これらの組み合わせで用いられることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の構造を示した概略的な配置図である。
【図２】図１のII−II´線に沿って切断した液晶表示装置の断面図である。
【図３】図１で表示領域（Ｄ）外側のデータパッド部分の封印材９０の周囲を詳細に示した配置図である。
【図４】配線の下部に位置した封印材のラマンスペクトルである。
【図５】各々本発明の第２実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図６】各々本発明の第３実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図７】各々本発明の第４実施例による液晶表示装置の紫外線照射装置を示した概略図である。
【図８】封印材の硬化度を測定するための試料の概略図である。
【図９】図８の試料で、位置による紫外線の硬化度を示したグラフである。
【図１０】各々本発明の第５実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１１】各々本発明の第６実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１２】各々本発明の第７実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【図１３】各々本発明の第８実施例による液晶表示装置用紫外線照射装置の構造を示した概略図である。
【符号の説明】
【００３７】
１ 地点
２ 境界線から５０μｍ離れた地点
７ 紫外線硬化性封印材
８ 陰影部
２０ ゲート配線
３０ ゲート絶縁膜
６０ データ配線
６２ 信号線
６８ データパッド
７０ 保護膜
９０ 封印材
１００ 下板
１０１ 絶縁基板
１１０ 配向膜
２００ 上板
２０１ 絶縁基板
２０２ ブラックマトリックス
２０３ 共通電極
２１０ 配向膜
３００ 液晶物質層
５１０ 発光ランプ
５２０ 支持台
５３０ 反射板
５４０ 散乱板
５５０ 反射板
６００ スペーサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板と、
前記基板上に形成されている多数の信号線と、
前記信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受ける多数の信号パッドを含み、
前記信号パッド付近の前記信号線の線間間隔は前記信号線の幅の１乃至１０倍である液晶表示板。
【請求項２】
前記信号線の幅は１０〜１００μｍである、請求項１に記載の液晶表示板。
【請求項３】
前記信号線は前記信号パッド付近で折れている、請求項２に記載の液晶表示板。
【請求項４】
走査信号を伝達するゲート線及び前記ゲート線に交差して画素領域を定義し画像信号を伝達するデータ線が形成されており、画像が表示される表示領域と、
前記ゲート線及び前記データ線に連結されており、外部から前記走査信号及び前記画像信号を前記ゲート線及び前記データ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパッドが形成されているパッド領域と、
前記表示領域と前記パッド領域の間に位置し、対向する２枚の基板の間に注入されている液晶物質を封じ込め、前記ゲート線及び前記データ線と交差して前記表示領域外の周囲に形成されていて前記ゲートパッド及び前記データパッドと重なっていない封印材を有するペンアウト領域と、
を含む液晶表示装置。
【請求項５】
前記ペンアウト領域で互いに隣接する前記ゲート線または前記データ線は前記ゲート線または前記データ線の幅に対して１乃至１０倍の間隔で形成されている、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記ゲート線または前記データ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記封印材は紫外線硬化性である、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記ペンアウト領域で前記ゲート線または前記データ線は折れており、
少なくとも前記封印材の一部は前記ゲート線及び前記データ線の折れた部分と重なっている、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１】
絶縁基板と、
前記基板上に形成されている多数の信号線と、
前記信号線と一端が連結されていて外部から信号の印加を受ける多数の信号パッドを含み、
前記信号パッド付近の前記信号線の線間間隔は前記信号線の幅の１乃至１０倍である液晶表示板。
【請求項２】
前記信号線の幅は１０〜１００μｍである、請求項１に記載の液晶表示板。
【請求項３】
前記信号線は前記信号パッド付近で折れている、請求項２に記載の液晶表示板。
【請求項４】
走査信号を伝達するゲート線及び前記ゲート線に交差して画素領域を定義し画像信号を伝達するデータ線が形成されており、画像が表示される表示領域と、
前記ゲート線及び前記データ線に連結されており、外部から前記走査信号及び前記画像信号を前記ゲート線及び前記データ線に各々伝達するゲートパッド及びデータパッドが形成されているパッド領域と、
前記表示領域と前記パッド領域の間に位置し、対向する２枚の基板の間に注入されている液晶物質を封じ込め、前記ゲート線及び前記データ線と交差して前記表示領域外の周囲に形成されていて前記ゲートパッド及び前記データパッドと重なっていない封印材を有するペンアウト領域と、
を含む液晶表示装置。
【請求項５】
前記ペンアウト領域で互いに隣接する前記ゲート線または前記データ線は前記ゲート線または前記データ線の幅に対して１乃至１０倍の間隔で形成されている、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記ゲート線または前記データ線の幅は１０〜１００μｍ範囲で形成されている、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記封印材は紫外線硬化性である、請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記ペンアウト領域で前記ゲート線または前記データ線は折れており、
少なくとも前記封印材の一部は前記ゲート線及び前記データ線の折れた部分と重なっている、請求項４に記載の液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２００７−６５６９９（Ｐ２００７−６５６９９Ａ）
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３５０４３（Ｐ２００６−３３５０４３）
【出願日】平成１８年１２月１２日（２００６．１２．１２）
【分割の表示】特願２００１−３８１８８３（Ｐ２００１−３８１８８３）の分割
【原出願日】平成１３年１２月１４日（２００１．１２．１４）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月１５日（２００７．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１２日（２００６．１２．１２）
【分割の表示】特願２００１−３８１８８３（Ｐ２００１−３８１８８３）の分割
【原出願日】平成１３年１２月１４日（２００１．１２．１４）
【出願人】（３９００１９８３９）三星電子株式会社 (8,520)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．
【Ｆターム（参考）】
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