説明

混合式タッチパネル及びその製造方法

【課題】混合式タッチパネル及びその製造方法の提供。
【解決手段】第1導電モジュール、第2導電モジュール及び絶縁層を包含する。該第1導電モジュールは第1導電層を具え、それは少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリア、及び少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリアを包含する。該第2導電モジュールは第2導電層を具え、それは該第1抵抗式タッチエリアに対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリアを包含する。該絶縁層を該第1抵抗式タッチエリアと該第2抵抗式タッチエリアの間に設置される。このほか、本発明は一種の混合式タッチパネルの製造方法を提供し、それは第1導電層の上に第1抵抗式タッチエリアとコンデンサ式タッチエリアを同時に形成して、抵抗式タッチコントロールとコンデンサ式タッチコントロール方式を一つのタッチパネル上に整合させ、タッチコントロール操作の多元性を増した。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はタッチパネルに係り、特に、抵抗式とコンデンサ式タッチパネルを一体に整合させた混合式タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
タッチパネルは1970年代に米国で軍事用途に開発され、1980年代にはその技術は民間に移転され、各種用途へと発展している。伝統的な電子計算装置(例えばコンピュータ)の入力方式は、キーボード或いはマウス等周辺設備を入力インタフェースとしているが、これらの周辺入力装置の体積は過大で携帯しづらく、電子製品の薄型化の大きな障害となりやすい。薄型化電子装置の要求のため、タッチパネルは携帯式電子製品にあって次第に消費者の注目を集め、その頭角を現している。このほか、タッチパネルは個人用携帯式情報製品に応用されるほか、応用領域は情報家電、公共情報・通信設備、オフィスオートメーション設備、情報収集設備、及び工業設備等の領域にまで広がり、このためタッチパネルの研究開発は、近年、次第に電子産業の発展の中心となってきている。
【0003】
タッチパネルの原理は、一般に、抵抗式及びコンデンサ式の二種類に分けられる。現在ほとんどのタッチパネルは抵抗式とされ、ポリエチレンテレフタレート(PET)の2つの透明薄膜間に、酸化インジウム錫(ITO)で製造された透明導電回路板が挿入され、相互間はスペーサで離間され、液晶ディスプレイ(LCD)或いはその他の作図装置の上方に固定されて、手指で押圧して接触点が形成される時、接触の位置を記録し得る。
【0004】
コンデンサ式タッチパネルは一般に、透明ガラス表面に、1層の酸化インジウム錫薄膜及び保護膜をメッキする。その後、タッチパネルに人が接触しなければ、各種の電極は同電位であり、タッチパネル上に電流通過はない。タッチパネルに接触がある時、人体内の静電気が地面に流入して微弱電流通過が形成される。電極を測定して電流値の変化により接触の位置を算出できる。
一般に、抵抗式の反応時間は緩慢で比較的多くの入力の力が反応を生じるのに必要であり、これにより、手書き入力或いはペン入力の入力インタフェースとされ得て、入力の内容を判断することができる。一方、コンデンサ式のものは、反応時間が速く、さらに反応が敏感であるため、あまり大きな入力の作用力は要らず、軽微な接触で反応する。ゆえに、一般に、コンデンサ式タッチパネルは特殊な入力のインタフェースとされ、例えば、ジェスチャー(gesture)入力のインタフェースとされる。抵抗式とコンデンサ式タッチパネルはそれぞれの長所を有するが、市場全体として、これらの二種類のタッチパネルを一つに整合させて入力制御の多元性を増した製品は未だ出現していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
抵抗式及びコンデンサ式タッチパネルを整合させた混合式タッチパネル及びその製造方法が入力制御の多元性を増した製品に対する市場の要求を満足させるために必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明は一種の混合式タッチパネルを提供し、それは、少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリアと少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリアを具えた第1導電層を具備する第1導電モジュールと、該第1抵抗式タッチエリアに対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリアを具えた第2導電層を具備する第2導電モジュールと、該第1抵抗式タッチエリアと該第2抵抗式タッチエリアの間に設置された絶縁層と、を包含する。
【0007】
本発明はまた一種の混合式タッチパネルの製造方法を提供し、それは、第1導電層を具えた基材を提供するステップ、該第1導電層の不必要な導電材料を除去し、少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリア及び少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリアを形成して第1導電モジュールを得るステップ、第2導電層を具えた基材を提供するステップ、該第2導電層の不必要な導電材料を除去し、該第1抵抗式タッチエリアに対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリアを形成するステップ、該第2抵抗式タッチエリア上に絶縁層を形成して第2導電モジュールを形成するステップ、該第1導電モジュールと該第2導電モジュールを貼り合わせるステップ、を包含する。
【発明の効果】
【0008】
ゆえに本発明は一種の混合式タッチパネルを提供し、それは同一のタッチパネル本体に、抵抗式とコンデンサ式タッチパネルのタッチ感応メカニズムが整合され、使用者による操作の多元性を増す。
【0009】
本発明は一種の混合式タッチパネルの製造方法を提供し、それは、同一の導電層上にあって、不必要な導電材料を除去し、抵抗式とコンデンサ式の感応導電パターンを共に画定し、これにより抵抗式とコンデンサ式のタッチコントロールメカニズムを具えた混合式タッチパネルを形成する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
図1と図2は本発明の混合式タッチパネルの実施例の平面図及び断面図である。本実施例において、該混合式タッチパネル2は、抵抗式タッチパネル21及び単層のコンデンサ式タッチパネル22を一つに整合させている。該抵抗式タッチパネル21内にはタッチエリア210が設けられて使用者による操作に供され、該タッチエリア210の一側には電気信号フレクシブルボード211が延設され、それは該タッチエリア210内の電極構造と電気的に接続されて信号伝送のインタフェースとされる。該コンデンサ式タッチパネル22内には複数の感応領域220が設けられ、該コンデンサ式タッチパネル22の一側にも電気信号フレクシブルボード221が設けられ、該コンデンサ式タッチパネル22の電気信号伝送インタフェースとされる。本実施例中の抵抗式タッチパネル21は4線式とされるが、実際には5線式或いは8線式のタッチパネルとされ得て、この技術に詳しいものであれば容易に交換できることである。
【0011】
図2に示されるように、該混合式タッチパネル2は第1導電モジュール23、第2導電モジュール26及び絶縁層25を包含する。該第1導電モジュール23は第1導電層231を具え、その上に第1抵抗式タッチエリア232及びコンデンサ式タッチエリア233が画定されている。該コンデンサ式タッチエリア233の導電構造が図1中の感応エリアを構成する。該第1抵抗式タッチエリア232とコンデンサ式タッチエリア233の間には絶縁領域234があり、本実施例では、該第1導電層231の材料は、導電高分子材料或いは透明導電酸化物から選択される。そのうち、該導電高分子材料は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とされ、該透明導電酸化物は、酸化インジウム錫(ITO)、酸化アンチモン錫(ATO)、或いは酸化亜鉛とされるが、これに限定されるものではない。本実施例中、該第1導電層231は酸化インジウム錫を材料とする。該第1導電層は基材230上に形成され、該基材230は高分子材料、例えば、ポリエチエレンテレフタレート薄膜とされうるが、これに限定されるものではない。このほか、該基材230の上には透明保護層24、例えばポリエチレンテレフタレート薄膜を設置可能で、これにより第1導電モジュール23を保護する。
【0012】
該第2導電モジュール26は、第2導電層260を具え、その上に第2抵抗式タッチエリア262を具え、該第2抵抗式タッチエリア262は第1抵抗式タッチエリア232と相互に対応する。該第2導電層260の材料は該第1導電層231の材料と同じとされるため、ここでは詳しく説明しない。該絶縁層25は、該第2抵抗式タッチエリア262及び該第1抵抗式タッチエリア232の間に設置され、該第1抵抗式タッチエリア232及び該第2抵抗式タッチエリア262及び該絶縁層25で図1中のタッチエリア210を構成する。該絶縁層25内にはさらにスペーサドット250が設けられて、該第1抵抗式タッチエリア232と該第2抵抗式タッチエリア262の間距を保持する。
【0013】
該第2導電モジュール26は該第2導電層260に接続された基材261を具えている。該基材261は更に載置基板2612、光学樹脂層2611及び高分子材料層2610を具えている。該載置基板2612はポリカーボネートを材料として選択できるが、これに限定されるものではない。該光学樹脂層2611は、該載置基板2612の上に形成される。該高分子材料層2610は、該光学樹脂層2611の上に形成され且つ該第2導電層260と接続される。本実施例では、該高分子材料層2610はポリエチエレンテレフタレート薄膜とされる。また別の実施例では、該基材が高分子材料、例えばポリエチエレンテレフタレート薄膜とされる。
【0014】
図2の実施例では、該第1抵抗式タッチエリア232は、該第2導電モジュールの基材との間に絶縁構造27を具え、それはタッチパネルの設計により異なる構造を有する。図3は、本発明の混合式タッチパネルの第2実施例表示図である。この実施例では、第2導電モジュールの第2導電層もまた延伸されて該第1抵抗式タッチエリアと相互に対応するものとされる。図4に示されるように、このとき、絶縁構造27は導電金属層270と272、例えば銀を具備し得て、該導電金属層270と272の間に絶縁層271がある。また、図5は本発明の混合式タッチパネルの第3実施例表示図であり、本実施例では、基本的な構造は図2と同じであるが、その違いは、第1抵抗式タッチエリア232と第2導電モジュール26の間の空間が絶縁材料28、例えば光学樹脂或いはUV樹脂で充満されていることである。
【0015】
図6及び図7は本発明の抵抗式タッチエリア内の感応ブロック構造表示図である。本実施例では、該第1導電層231上に複数の感応エリア220が形成され、各感応エリア220に複数の溝2200が設けられ、該感応エリア220の第1導電層材料は三つの電極2201、2202及び2203に分割され、任意の二つの隣り合った電極が平面コンデンサ構造を構成する。本実施例中、この複数の溝は三角波形の分布を形成し、該感応エリアは三つの電極2201、2202及び2203に分割される。さらに、各一つの電極2201、2202及び2203と電圧源が接続され、図7に示されるコンデンサ構造が形成される。図8から図9は溝の構造表示図であり、図6の方式のほか、該感応エリア220内の溝2200が形成する関数曲線は図8に示される三角波曲線或いは図9中の正弦波曲線とされる。このほか、方形波曲線とされ得る(図10)。
【0016】
図11は本発明の図1の混合式タッチパネルの信号インタフェースの別の実施例表示図である。本実施例中、該抵抗式タッチパネル21とコンデンサ式タッチパネルの電気信号線は伝送インタフェース222に整合される。前述の実施例は一つの抵抗式タッチパネルと一つのコンデンサ式タッチパネルの組合せである。当然、実際には必要により、複数の抵抗式タッチパネルと複数のコンデンサ式タッチパネルの組合せが可能であり、例えば二つの抵抗式とコンデンサ式の組合せ、或いは二つの抵抗式と単一のコンデンサ式の組合せがある。例えば、図12の実施例では、混合式タッチパネル3は二つの抵抗式タッチパネル30と一つのコンデンサ式タッチパネル31が結合され、各タッチパネルはいずれも独立した信号インタフェース300と310を具えている。このほか、図13に示されるように、本実施例では、図12の複数の信号インタフェースが単一の信号インタフェース33に整合されている。
【0017】
図14から図22に示されるのは、本発明の混合式タッチパネルの形成方法のステップ表示図である。本実施例は以下のステップを包含する。まず、図14に示されるように、第1導電層231を具えた基材230を提供する。続いて、図15のステップを実行し、第1導電層231の不必要な導電材料を除去し、少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリア232と少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリア233を形成して、第1導電モジュール23を形成する。該第1抵抗式タッチエリア232と該コンデンサ式タッチエリア233の間には絶縁領域234がある。該第1導電層231の不要な導電材料を除去する方式として、エッチングを利用でき、それは周知の技術であるためここでは詳しく説明しない。当然、図15のステップ中、該第1導電層231上に導電金属、例えば銀を印刷して電気信号の伝導に有利とすることも可能であり、これらはいずれも周知の技術であるため、説明は省略する。
【0018】
該第1抵抗式タッチエリア232の構造は図1の構造と同様であり、該コンデンサ式タッチエリア233の構造は図6、7或いは図8から図10に示されるようである。続いて、図16に示されるように、第2導電層260を具えた基材261を提供する。続いて図17に示されるように、該第2導電層260の不必要な導電材料を除去し、該第1抵抗式タッチエリア232に対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリア262を形成する。その後、図18に示されるように、該第2抵抗式タッチエリア262の上に絶縁層25及び絶縁構造27を形成し、こうして第2導電モジュール26を得る。該絶縁層25内には複数のスペーサドット250がある。最後に、図19に示されるように、該第1導電モジュール23と該第2導電モジュール26を貼り合わせて一体となし、タッチパネル2を形成する。このほか、さらに、該第1導電モジュール23上に保護層24、例えばポリエチエレンテレフタレート薄膜を設置して、該第1導電モジュール23を保護することができる。
【0019】
続いて、図5の構造の方法を説明する。本実施例のフローは、UV樹脂を充満する実施例で説明し、基本的には図14から図18のステップと同じであり、その後、図20のステップを実行し、すなわち、型板92で図18の第2導電モジュール26上を被覆し、型板92の開口920を第2導電モジュール26の収容空間29に対応させ、こうして図21の構造を形成する。最後に、該第1導電モジュール23と図21の第2導電モジュール26を貼り合わせて図22の構造を形成する。前述の図15のステップにより、導電層上に抵抗式とコンデンサ式のタッチコントロール構造を共に形成することができ、これによりタッチパネルにコンデンサ式と抵抗式のタッチコントロールのメカニズムを共に具備させることができる。このほか、光学樹脂を接着する方式で該収容空間29を充満させることができる。
【0020】
以上述べたのは本発明の実施例にすぎず、本発明の範囲を限定するものではなく、本願の特許請求の範囲の記載に基づきなし得る均等の変化或いは修飾は、本発明の意義を失わず、本発明の精神と範囲より逸脱しないため、本発明の更なる実施状況とみなされる。例えば、本発明の重点は抵抗式とコンデンサ式のタッチコントロール構造を同一のタッチパネルに整合させたものであり、このため抵抗式とコンデンサ式のタッチコントロール構造は本発明の実施例のものに限定されない。
【0021】
総合すると、本発明の提供する混合式タッチパネル及びその製造方法は、抵抗式とコンデンサ式のタッチコントロール操作の要求を整合し、産業上の競争力を高め周辺産業の発展に寄与し、特許法に定める特許の要件に符合する。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本発明の混合式タッチパネルの実施例の平面図である。
【図2】本発明の混合式タッチパネルの実施例の断面図である。
【図3】本発明の混合式タッチパネルの第2実施例表示図である。
【図4】本発明中の絶縁構造表示図である。
【図5】本発明の混合式タッチパネルの第3実施例表示図である。
【図6】本発明中の抵抗式タッチエリア内の感応ブロック構造表示図である。
【図7】本発明中の抵抗式タッチエリア内の感応ブロック構造表示図である。
【図8】本発明中の溝の構造表示図である。
【図9】本発明中の溝の構造表示図である。
【図10】本発明中の溝の構造表示図である。
【図11】本発明の図1の混合式タッチパネルの信号インタフェースの別の実施例表示図である。
【図12】本発明の混合式タッチパネルの組合せ態様の実施例表示図である。
【図13】本発明の混合式タッチパネルの組合せ態様の別の実施例表示図である。
【図14】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図15】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図16】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図17】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図18】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図19】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図20】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図21】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【図22】本発明の混合式タッチパネルの製造方法のステップ表示図である。
【符号の説明】
【0023】
2 混合式タッチパネル 21 抵抗式タッチパネル
210 タッチエリア 211 電気信号フレクシブルボード
22 コンデンサ式タッチパネル 220 感応エリア
2200 溝 2201、2202、2203 電極
221 電気信号伝送インタフェース
23 第1導電モジュール 230 基材
231 第1導電層 232 第1抵抗式タッチエリア
233 コンデンサ式タッチエリア 234 絶縁領域
24 保護層 25 絶縁層 250 スペーサドット
26 第2導電モジュール 260 第2導電層 261 基材
2610 高分子材料層 2611 光学樹脂層 2612 載置基板
262 第2抵抗式タッチエリア 27 絶縁構造 270 導電金属層
271 絶縁層 272 導電金属層 28 絶縁材料
29 収容空間 3 混合式タッチパネル
30 抵抗式タッチパネル 31 コンデンサ式タッチパネル
300、310 信号インタフェース 33 信号インタフェース
90 カッタ 91 光学樹脂 92 型板 920 開口

【特許請求の範囲】
【請求項1】
混合式タッチパネルにおいて、
第1導電モジュールであって、第1導電層を具え、該第1導電層に少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリアと少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリアを具えた、上記第1導電モジュールと、
第2導電モジュールであって、第2導電層を具え、該第2導電層が該第1抵抗式タッチエリアに対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリアを具えた、上記第2導電モジュールと、
絶縁層であって、該第1抵抗式タッチエリアと該第2抵抗式タッチエリアの間に設置された、上記絶縁層と、
を包含することを特徴とする、混合式タッチパネル。
【請求項2】
請求項1記載の混合式タッチパネルにおいて、該第1導電モジュールと該第2導電モジュールがそれぞれ該第1導電層と該第2導電層に接続された基材を具え、該基材がポリエチエレンテレフタレート薄膜とされたことを特徴とする、混合式タッチパネル。
【請求項3】
請求項1記載の混合式タッチパネルにおいて、該第2導電モジュールが基材を具え、該基材が、
載置基板と、
該載置基板の上に形成された光学樹脂層と、
該光学樹脂層の上に形成されて該第2導電層と接続されたポリエチエレンテレフタレート薄膜層と、
を具えたことを特徴とする、混合式タッチパネル。
【請求項4】
請求項1記載の混合式タッチパネルにおいて、該コンデンサ式タッチエリアが少なくとも一つの感応ブロックを具え、該感応ブロックに複数の溝が設けられ、該感応ブロックが複数の電極に分割され、各二つの隣り合う電極が平面コンデンサ構造を形成し、この複数段の溝が関数曲線を形成可能で、該関数曲線は方形波曲線、三角波曲線及び正弦波曲線のいずれかとされることを特徴とする、混合式タッチパネル。
【請求項5】
請求項1記載の混合式タッチパネルにおいて、該コンデンサ式タッチエリアと該第2導電層の間に絶縁構造があり、該第1導電モジュールの上にさらに保護層が設けられ、該保護層はポリエチエレンテレフタレート薄膜とされることを特徴とする、混合式タッチパネル。
【請求項6】
混合式タッチパネルの製造方法において、
第1導電層を具えた基材を提供するステップ、
該第1導電層の不必要な導電材料を除去することで、少なくとも一つの第1抵抗式タッチエリア及び少なくとも一つのコンデンサ式タッチエリアを形成して第1導電モジュールを得るステップ、
第2導電層を具えた基材を提供するステップ、
該第2導電層の不必要な導電材料を除去することで、該第1抵抗式タッチエリアに対応する少なくとも一つの第2抵抗式タッチエリアを形成するステップ、
該第2抵抗式タッチエリアの上に絶縁層を形成して第2導電モジュールを形成するステップ、
該第1導電モジュールと該第2導電モジュールを貼り合わせるステップ、
を包含する、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項7】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、各基材がポリエチエレンテレフタレート薄膜とされたことを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項8】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該第2導電層を具えた基材が、
載置基板と、
該載置基板の上に形成された光学樹脂層と、
該光学樹脂層の上に形成され且つ該第2導電層と接続されたポリエチエレンテレフタレート薄膜層と、
を具えたことを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項9】
請求項8記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該載置基板がポリエチエレンテレフタレートとされたことを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項10】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該コンデンサ式タッチエリアより導電材料を除去することで少なくとも一つの感応ブロックを形成するステップをさらに具え、各感応ブロックに複数段の溝が設けられることで該感応ブロックが複数の電極に分割され、任意の各二つの隣り合う電極が平面コンデンサ構造を形成し、この複数段の溝が関数曲線を形成し、該関数曲線が方形波曲線、三角波曲線及び正弦波曲線のいずれかとされることを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項11】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該第2導電モジュール上を光学樹脂或いはUV樹脂で充満するステップをさらに具えたことを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項12】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該第2導電モジュールの該コンデンサ式タッチエリアに対応する位置に絶縁構造を形成するステップをさらに具えたことを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。
【請求項13】
請求項6記載の混合式タッチパネルの製造方法において、該第1導電モジュールの上に保護層を形成するステップをさらに具え、該保護層がポリエチエレンテレフタレート薄膜とされることを特徴とする、混合式タッチパネルの製造方法。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate

【図10】
image rotate

【図11】
image rotate

【図12】
image rotate

【図13】
image rotate

【図14】
image rotate

【図15】
image rotate

【図16】
image rotate

【図17】
image rotate

【図18】
image rotate

【図19】
image rotate

【図20】
image rotate

【図21】
image rotate

【図22】
image rotate


【公開番号】特開2009−146373(P2009−146373A)
【公開日】平成21年7月2日(2009.7.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−4112(P2008−4112)
【出願日】平成20年1月11日(2008.1.11)
【出願人】(507294753)介面光電股▲ふん▼有限公司 (29)
【Fターム(参考)】