発光装置
【課題】絶縁膜がシール領域と隣接する部分で剥がれることを防ぐ。
【解決手段】第１の基板１０４上には発光素子が設けられた画素部１００、ソースドライバ１０１、ゲートドライバ１０２、シール領域１０３が設けられている。発光装置はシール材１０８、第１の基板１０４と第２の基板１１０により封止されている。絶縁膜１０７は発光素子の隔壁として機能する膜である。シール領域１０３の隣接する絶縁膜１０７の端部は配線となる導電膜１０６の側面と上面がつくる段差に重ならない。
【解決手段】第１の基板１０４上には発光素子が設けられた画素部１００、ソースドライバ１０１、ゲートドライバ１０２、シール領域１０３が設けられている。発光装置はシール材１０８、第１の基板１０４と第２の基板１１０により封止されている。絶縁膜１０７は発光素子の隔壁として機能する膜である。シール領域１０３の隣接する絶縁膜１０７の端部は配線となる導電膜１０６の側面と上面がつくる段差に重ならない。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光素子を有する発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光材料のＥＬ現象を利用した発光素子（以下、エレクトロルミネッセンス素子、以下「ＥＬ素子」という。）を画素に用いた表示装置（エレクトロルミネッセンス表示装置、以下「ＥＬ表示装置」という。）の開発が進んでいる。
【０００３】
ＥＬ素子に用いられる発光性材料には無機発光材料と有機発光材料とがある。有機発光材料は駆動電圧が低いという長所がある。しかし、ＥＬ素子に有機材料を用いた有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子と比べ水分や酸素の影響を受けやすい。そこで、有機ＥＬ表示装置においては、外部から水や酸素などが進入しないように、２つの基板でＥＬ素子を封止している構造が知られている。
【０００４】
図１０に従来のＥＬ表示装置を示す。図１０はシール材が設けられる箇所の断面を示す。１１、１２は基板である。図１０は、図面では省略されているがＥＬ素子が設けられた基板である。基板１２はＥＬ素子を封止するための封止用の基板である。基板１１にはシール材１３を設けるためのシール領域１４を有する。封止用の基板１２はシール材１３により基板１１に固定される。基板１１と基板１２の間の空間は樹脂などの充填材１５により充填されている。
【０００５】
１６はソースドライバ、ゲートドライバ、ＦＰＣ端子等から引き回される電源線や信号線などの引き回し配線である。１７、１８は絶縁膜である。絶縁膜１８は画素部において、ＥＬ素子の発光材料層を画素ごとに分離するためのものであり、土手、バンク、隔壁と呼ばれるものである。ここでは絶縁膜１８を「隔壁」という。隔壁１８のシール領域に対応する部分に開口部が形成される。この開口部はシール材１３を設けるためのものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように隔壁１８に開口部を設けると図１０（Ａ）に示すように、配線１６の側面が隔壁１８の端部と重なる部分（点線で囲んだ部分）、図１０（Ｂ）に示すように配線１６の側面と一致したりする部分（点線で囲んだ部分）が多くできる。これらの部分では隔壁１８の端部が剥がれやすいということがわかった。基板１１から剥がれた隔壁１８の端部はごみとなり、画素部に侵入するおそれがある。このような絶縁膜が発光素子に付着すると表示不良となる。
【０００７】
隔壁１８が剥がれる原因として、隔壁１８には有機樹脂が用いられるため、配線１６に用いられる導電膜との密着性が悪いことにある。特に配線の表面がチタン（Ｔｉ）は特に密着性が悪い。
【０００８】
有機樹脂で隔壁１８を形成する場合は、シール領域１４に開口部を設けた後、水分を抜くための焼成工程があるが、この焼成工程で隔壁１８が収縮するため、配線１６の段差部分に隔壁の端部がかかっていると、その部分で絶縁膜１８が切断されたりして剥がれやすくなる。それは、隔壁１８はシール領域１４に開口部を設けることで端部が薄くなっているからである。
【０００９】
本発明は、シール領域に隣接する端部で隔壁が剥がれないようにすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の発光装置は発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有する。
【００１１】
本発明において、発光素子はＥＬ素子が用いられる。ＥＬ素子としては、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子、または無機発光材料と有機発光材料とを混合した発光材料を用いたＥＬ素子のいずれも用いることができる。
【００１２】
本発明の発光装置としては、ＥＬ表示装置、照明装置などがあげられる。ＥＬ表示装置はアクティブ型でもパッシブ型でもよい。また照明装置としては、液晶パネルのバックライトがあげられる。
【００１３】
上記課題を鑑み本発明は、シール領域と隣接する隔壁の端部が駆動回路の配線や引き回し配線などの導電膜と下地が作る段差にかからないようにすることを特徴の１つとする。すなわち、前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜を有し、前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部は、前記導電膜の側面と上面がつくる段差と重ならないことを特徴とする。
【００１４】
隔壁として機能する第２の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であり、例えばアクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドである。また、第２の絶縁膜を有機溶媒中に溶かされた絶縁膜材料を塗布した後の熱処理で形成される膜、所謂、塗布珪素酸化膜（Ｓｐｉｎ ｏｎ Ｇｌａｓｓ、以下「ＳＯＧ」ともいう。）を用いることができる。例えば、シロキサンポリマーなどの焼成によりシロキサン結合を形成する材料でなる膜などが挙げられる。
【００１５】
また本発明は、配線と隔壁となる絶縁膜の間に、隔壁となる絶縁膜と密着性の良い絶縁膜を形成し、配線と絶縁膜が直接接触しないようにすることで、隔壁の剥がれ対策を行う。すなわち、前記第１の基板には、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上の第３の絶縁膜が形成されている。前記第３の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、前記第２の絶縁膜は無機材料でなる膜であり、前記第２の絶縁膜が前記導電膜と接しないように設けられていることを特徴とする。
【００１６】
前記無機材料でなる第２の絶縁膜として、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜が用いられる。
【００１７】
また隔壁として機能する第３の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であり、例えばアクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドである。また、第２の絶縁膜を、シロキサンポリマーなどの焼成によりシロキサン結合を形成する材料でなる膜のようなＳＯＧも用いられる。
【００１８】
本発明は、隔壁の材料に配線と密着性の良い無機膜を用いることで、隔壁の膜剥がれ対策を行うことを特徴の１つとする。前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜を有し、前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられていることを特徴とする。
【００１９】
隔壁として機能する前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、またはそれらの膜を複数積層した膜である。
【００２０】
隔壁として機能する絶縁膜の下方に設けられる導電膜は緯線や電極として機能する膜である。この導電膜には、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステン、またはそれら金属の化合物から選ばれた材料でなる膜、またこれらの膜を複数積層した膜が用いられる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によって、絶縁膜のシール材と隣接している端部が剥がれないようにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００２３】
（実施の形態１）
図１（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＸ−Ｘ’での断面図を示す。図１（Ａ）に示すように、表示装置は、発光素子を有する画素部１００と、駆動回路部としてソースドライバ１０１およびゲートドライバ１０２と、画素部１００を囲むようにその周囲にシール領域１０３を有する。シール領域１０３は封止をするためのシール材が設けられる領域である。ソースドライバ１０１およびゲートドライバ１０２は基板１０４上に設けないものも本実施形態に含む。
【００２４】
第１の基板１０４上に絶縁膜１０５が設けられている。絶縁膜１０５には、例えば無機材料の酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜などの単層膜、またはこれらの膜の積層膜が用いられる。例えば、組成比の異なる３層の酸化窒化珪素膜が用いられる。
【００２５】
絶縁膜１０５上に導電膜１０６は、配線や電極として機能する導電膜１０６が設けられている。導電膜１０６は、金属、金属化合物の単層膜や積層膜である。例えば材料としてチタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）層からなる膜を用いる。
【００２６】
導電膜１０６上に有機材料の絶縁膜１０７が形成されている。絶縁膜１０７は隔壁として機能する膜である。絶縁膜１０７としては、ポリイミド、アクリルなどの有機樹脂が挙げられる。有機材料の絶縁膜１０７は、前記第１の透明な膜１０５との密着性が良いが、導電膜１０６との密着性は悪い。
【００２７】
有機材料の絶縁膜１０７には、画素部１００を囲むシール領域１０３の部分が選択的に除去されている。シール領域１０３は、表示装置の大きさや種類、プロセスのルールに従いその都度最適な大きさに形成し、シール材１０８を形成するのに必要な大きさだけシール領域１０３として確保する。
【００２８】
第２の基板１１０は封止用の基板であり、シール領域１０３に設けられたシール材１０８により第１の基板１０４に固定されている。第１の基板１０４と第２の基板１１０の密閉空間は有機樹脂などの充墳材１０９で充墳されている。
【００２９】
シール領域１０３では有機材料の絶縁膜１０７が除去されている。絶縁膜１０７のシール領域に隣接する端部が、図１０（Ａ）や図１０（Ｂ）に示すように絶縁膜１０７の端部が導電膜１０６の側面にかかったり一致させたりしないようにする。図１（Ｂ）に示すように、絶縁膜１０７の端部は、導電膜１０６と導電膜１０６との間の絶縁膜１０５上に形成される。言い換えると、絶縁膜１０７の端部は導電膜の側面にかかることなく、絶縁膜１０５の上面のみに接している。
【００３０】
本実施形態では、導電膜１０６の側面に有機材料の絶縁膜１０７の端部がかからないよう配置して、有機材料でなる絶縁膜１０７の端部からの剥がれを防止するようにした。
【００３１】
図２を用いて、導電膜１０６と絶縁膜１０７の位置関係を説明する。図２（Ａ）は、図１（Ａ）のａで示す領域を拡大した図である。図２（Ｂ）は、絶縁膜１０７の端部を説明するための図である。本実施形態は、絶縁膜１０７の端部すべてが導電膜１０６上にないことが最も好ましい形態であるが、少なくとも絶縁膜１０７の端部が導電膜１０６の側面と上面で作る段差にかからないにすることにある。絶縁膜１０７の端部は膜厚が非常に薄いので、端部が導電膜１０６との段差にかからないようにすることで、端部が剥がれることを防ぐものである。
【００３２】
図２（Ｂ）を用いて絶縁膜１０７の端部について説明する。本実施形態では、絶縁膜１０７の端部とは、シール領域１０３の境界（シール材１０８と接している先端）からの幅Ｗが０．５μｍの領域２００をいう。あるいは、絶縁膜１０７の端部とは、シール領域１０３の境界から膜厚ｄが４２ｎｍ以下の領域２００をいう。また、絶縁膜の端部をシール領域１０３の境界から膜厚ｄが５０ｎｍ以下の領域とするほうが、端部からの剥がれを防止する点ではより好ましい。本実施形態では、絶縁膜１０７の端部２００とは、上記のように、絶縁膜１０７の先端からの幅Ｗ又は膜厚ｄのいずれかで決定される領域である。他の実施形態についても絶縁膜１０７の端部は同様の領域をいう。
【００３３】
本実施形態では、絶縁膜１０７の端部２００が導電膜１０７の段差にかからないよう設ける。別の言い方をすると、絶縁膜１０７の端部全体が導電膜１０７の上面に位置するか、導電膜１０７の下地部分の絶縁膜１０５上面に位置するように設ける。図２（Ａ）に示すように、例えば、絶縁膜１０７の端部２００ａでは下地は絶縁膜１０５の上面であり、絶縁膜１０７の端部２００ｂでは導電膜１０６の上面である。端部２００ａ、端部２００ｂは代表的に示したものであるが、本実施形態では、シール領域１０３と隣接する部分において絶縁膜１０７の端部２００は、端部２００ａ、２００ｂと同様に、導電膜１０６の上面のみまたは絶縁膜１０５の上面のみに配置される。
【００３４】
（実施の形態２）
本実施の形態では、絶縁膜の端部での剥がれを、配線と隔壁を直接接触させないようにすることで対策する方法について記載する。図３（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図３（Ｂ）は図１（Ａ）のＹ−Ｙ’での断面図を示している。本実施形態では、シール領域１０３の表面を無機材料でなる絶縁膜３００で覆うものである。
【００３５】
本実施形態では、導電膜１０６を覆って、基板１０４全体に無機材料でなる絶縁膜３００が設けられる。無機材料でなる絶縁膜３００として、例えば材料として酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化珪素膜などが用いられる。図４（Ａ）に示すように、導電膜１０６の端部が絶縁膜１０７と重なっていたり、図４（Ｂ）に示すように絶縁膜１０７の端部と一致したりしていても、導電膜１０６と有機材料の絶縁膜１０７の間には、有機材料と密着性の良い無機材料でなる絶縁膜３００を有するため、有機材料の絶縁膜１０７が剥がれることを防止できる。よって本実施形態では、導電膜１０６のレイアウトやシール領域１０３のレイアウトの自由度が広がる。
【００３６】
（実施の形態３）
本実施の形態では、絶縁膜の端部での剥がれを、隔壁となる絶縁膜の材料を変えることにより対策する方法について記載する。
【００３７】
図５（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＺ−Ｚ’での断面図を示している。
【００３８】
本実施形態では、有機材料でなる絶縁膜１０７の代わりに、無機材料でなる絶縁膜５００を設ける。図５（Ｂ）に示すように絶縁膜５００の端部を導電膜１０６と１０６の間に設けている。絶縁膜５００は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜の単層膜またはこれらの積層膜を用いることができる。
【００３９】
絶縁膜５００を無機材料とすることで、無機材料の絶縁膜１０５および導電膜１０６との密着性が改善される。よって、導電膜１０６のレイアウトの自由度が高まり、導電膜１０６の端部が絶縁膜５００の端部と重ねる、絶縁膜５００の端部と一致してもよい。無機物の絶縁膜５００は導電膜１０６と密着性が良いため無機物の絶縁膜５００が剥がれるのを防止することが可能である。また、導電膜１０６のレイアウトやシール領域１０３のレイアウトの自由度が広がる。
【実施例１】
【００４０】
本実施例は、本発明をＥＬ表示装置に適用した例である。図６を用いて本実施例を説明する。図６（Ａ）は、第１の基板上に形成されたＴＦＴ及び発光素子を、第２の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図に相当する。
【００４１】
第１の基板４００１上には画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４が設けられており、画素部を囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２上には、シール材４００５を介して、第２の基板４００６が設けられている。画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、充填材４００７と共に封止されている。
【００４２】
第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、ガラス、金属（代表的にはステンレス）、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、マイラーフィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをＰＶＦフィルムやマイラーフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。発光素子４０１１からの光の取り出し方向に位置する基板は透光性を有していなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。
【００４３】
充填材４００７としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。本実施例では充填材として窒素を用いる。
【００４４】
第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４とは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を複数有しており、図６（Ｂ）では、ソースドライバ４００３に含まれるＴＦＴ４００８と、画素部４００２に含まれるＴＦＴ４００９とを例示している。
【００４５】
４０１１は発光素子に相当し、ＴＦＴ４００９のドレインと接続されている配線４０１７の一部が、発光素子４０１１の第１の電極として機能する。透明導電膜４０１２が、発光素子４０１１の第２の電極として機能する。第１の電極と第２の電極の間に発光材料を含む発光層４０１３を有する。なお、発光素子４０１１の構成は、本実施例に示した構成に限定されない。上記実施例のように、発光素子４０１１から取り出す光の方向や、ＴＦＴ４００９の極性などに合わせて、発光素子４０１１の構成は適宜変えることができる。発光素子４０１１から取り出す光の方向は、第１の基板４００１側と、第２の基板４００６側と、第１の基板４００１側及び第２の基板４００６側とがある。
【００４６】
ソースドライバ４００３、ゲートドライバ４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電圧は、図６（Ｂ）に示す断面図では図示されていないが、引き回された電源線４０１４及び４０１５を介して、ＦＰＣ端子４０１６から供給されている。
【００４７】
本実施例では、ＦＰＣ端子４０１６が、発光素子４０１１の第１の電極と同じ導電膜から形成されている。また、電源線４０１４は、配線４０１７と同じ導電膜から形成されている。また電源線４０１５はＴＦＴ４００９およびＴＦＴ４００８のゲートと同じ導電膜から形成されている。
【００４８】
ＦＰＣ端子４０１６は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。
【００４９】
絶縁膜４０２２はポリイミド、アクリル、ポリイミドアミドなどの有機樹脂材料であり、絶縁膜４０２１は酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜などの無機材料でなる膜の単層膜や積層膜が用いられる。
【００５０】
絶縁膜４０２２は、発光素子４０１１の発光層４０１３を画素ごとに分離するための絶縁膜であり、第１の基板４００１全体に形成されている。絶縁膜４０２２には、発光素子４０１１が形成される領域、およびシール領域４０２０がエッチングにより選択的に除去されて、開口部が形成されている。後者の開口部は図６（Ｂ）に示すように、シール領域４０２０において電源線４０１４に代表出される導電膜の端部は、絶縁膜４０２２の端部がかかったり、一致したりしないように形成される。その結果、絶縁膜４０２０の端部は、密着性の良い無機材料でなる絶縁膜４０２１と接触しているので、有機材料の絶縁膜４０２２の端部からの剥がれを防止することができる。
【実施例２】
【００５１】
本実施例では、実施例１の画素部の回路について説明する。なお、本発明の画素回路は、本実施例で示した回路に限定されるものではない。
【００５２】
図７は、画素の等価回路図の一例を示したものである。信号線６１１４、電源線６１１５、走査線６１１６、発光素子６１１３、トランジスタ６１１０、６１１１、容量素子６１１２を有する。信号線６１１４にはソースドライバによってビデオ信号が入力される。トランジスタ６１１０は、走査線６１１６に入力される選択信号に従って、トランジスタ６１１１のゲートへの、該ビデオ信号の電位の供給を制御することができる。トランジスタ６１１１は、該ビデオ信号の電位に従って、発光素子６１１３への電流の供給を制御することができる。容量素子６１１２は、トランジスタ６１１１のゲート・ソース間の電圧を保持することができる。なお、図７では、容量素子６１１２を図示したが、トランジスタ６１１１のゲート容量や他の寄生容量で賄うことが可能な場合には、設けなくてもよい。
【００５３】
図８（Ａ）は、図７に示した画素に、トランジスタ６１１８と走査線６１１９を新たに設けた画素の等価回路図である。トランジスタ６１１８により、トランジスタ６１１１のゲートとソースを同電位とし、強制的に発光素子６１１３に電流が流れない状態を作ることができるため、全ての画素にビデオ信号が入力される期間よりも、サブフレーム期間の長さを短くすることができる。従って、駆動周波数を抑えつつ、高い総階調数の表示を行うときに、好適である。
【００５４】
図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示した画素に、新たにトランジスタ６１２５と、配線６１２６を設けた画素の等価回路図である。トランジスタ６１２５は、そのゲートの電位が、配線６１２６によって固定されている。そして、トランジスタ６１１１とトランジスタ６１２５は、電源線６１１５と発光素子６１１３との間に直列に接続されている。よって図８（Ｂ）では、トランジスタ６１２５により発光素子６１１３に供給される電流の値が制御され、トランジスタ６１１１により発光素子６１１３への該電流の供給の有無が制御できる。
【実施例３】
【００５５】
本発明を適用したＥＬ表示装置は、バッテリー駆動する電子機器の表示部や、大画面の表示装置や、電子機器の表示部に好適に用いることができる。例えば、テレビジョン装置（テレビ、テレビジョン受信機）、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話装置（携帯電話機）、ＰＤＡ等の携帯情報端末、携帯型ゲーム機、モニター、コンピュータ、カーオーディオ等の音響再生装置、家庭用ゲーム機等の記録媒体を備えた画像再生装置等が挙げられる。その具体例について、図９を参照して説明する。
【００５６】
図９（Ａ）に示す携帯情報端末機器は、本体９２０１、表示部９２０２等を含んでいる。表示部９２０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯情報端末機器を提供することができる。
【００５７】
図９（Ｂ）に示すデジタルビデオカメラは、表示部９７０１、表示部９７０２等を含んでいる。表示部９７０１は本発明の表示装置を適用することができる。その結果隔壁の膜剥がれを防止したデジタルビデオカメラを提供することができる。
【００５８】
図９（Ｃ）に示す携帯電話機は、本体９１０１、表示部９１０２等を含んでいる。表示部９１０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯電話機を提供することができる。
【００５９】
図９（Ｄ）に示す携帯型のテレビジョン装置は、本体９３０１、表示部９３０２等を含んでいる。表示部９３０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯型のテレビジョン装置を提供することができる。またテレビジョン装置としては、携帯電話機などの携帯端末に搭載する小型のものから、持ち運びをすることができる中型のもの、また、大型のもの（例えば４０インチ以上）まで、幅広いものに、本発明の表示装置を適用することができる。
【００６０】
図９（Ｅ）に示す携帯型のコンピュータは、本体９４０１、表示部９４０２等を含んでいる。表示部９４０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯型のコンピュータを提供することができる。
【００６１】
図９（Ｆ）に示すテレビジョン装置は、本体９５０１、表示部９５０２等を含んでいる。表示部９５０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止したテレビジョン装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】実施形態１の説明図である。
【図２】実施形態１の説明図である。
【図３】実施形態２の説明図である。
【図４】実施形態２の説明図である。
【図５】実施形態３の説明図である。
【図６】実施例１の発光装置（ＥＬ表示装置）の断面を示す図である。
【図７】実施例２の画素回路を示す図である
【図８】実施例２の画素回路を示す図である
【図９】実施例３の電子機器への適用例を示す図である。
【図１０】従来例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６３】
１００ 画素部
１０１ ソースドライバ
１０２ ゲートドライバ
１０３ シール領域
１０４ 第１の基板
１０５ 第１の絶縁膜
１０６ 導電膜
１０７ 第２の絶縁膜
１０８ シール材
１０９ 充填材
１１０ 第２の基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は発光素子を有する発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光材料のＥＬ現象を利用した発光素子（以下、エレクトロルミネッセンス素子、以下「ＥＬ素子」という。）を画素に用いた表示装置（エレクトロルミネッセンス表示装置、以下「ＥＬ表示装置」という。）の開発が進んでいる。
【０００３】
ＥＬ素子に用いられる発光性材料には無機発光材料と有機発光材料とがある。有機発光材料は駆動電圧が低いという長所がある。しかし、ＥＬ素子に有機材料を用いた有機ＥＬ素子は、無機ＥＬ素子と比べ水分や酸素の影響を受けやすい。そこで、有機ＥＬ表示装置においては、外部から水や酸素などが進入しないように、２つの基板でＥＬ素子を封止している構造が知られている。
【０００４】
図１０に従来のＥＬ表示装置を示す。図１０はシール材が設けられる箇所の断面を示す。１１、１２は基板である。図１０は、図面では省略されているがＥＬ素子が設けられた基板である。基板１２はＥＬ素子を封止するための封止用の基板である。基板１１にはシール材１３を設けるためのシール領域１４を有する。封止用の基板１２はシール材１３により基板１１に固定される。基板１１と基板１２の間の空間は樹脂などの充填材１５により充填されている。
【０００５】
１６はソースドライバ、ゲートドライバ、ＦＰＣ端子等から引き回される電源線や信号線などの引き回し配線である。１７、１８は絶縁膜である。絶縁膜１８は画素部において、ＥＬ素子の発光材料層を画素ごとに分離するためのものであり、土手、バンク、隔壁と呼ばれるものである。ここでは絶縁膜１８を「隔壁」という。隔壁１８のシール領域に対応する部分に開口部が形成される。この開口部はシール材１３を設けるためのものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように隔壁１８に開口部を設けると図１０（Ａ）に示すように、配線１６の側面が隔壁１８の端部と重なる部分（点線で囲んだ部分）、図１０（Ｂ）に示すように配線１６の側面と一致したりする部分（点線で囲んだ部分）が多くできる。これらの部分では隔壁１８の端部が剥がれやすいということがわかった。基板１１から剥がれた隔壁１８の端部はごみとなり、画素部に侵入するおそれがある。このような絶縁膜が発光素子に付着すると表示不良となる。
【０００７】
隔壁１８が剥がれる原因として、隔壁１８には有機樹脂が用いられるため、配線１６に用いられる導電膜との密着性が悪いことにある。特に配線の表面がチタン（Ｔｉ）は特に密着性が悪い。
【０００８】
有機樹脂で隔壁１８を形成する場合は、シール領域１４に開口部を設けた後、水分を抜くための焼成工程があるが、この焼成工程で隔壁１８が収縮するため、配線１６の段差部分に隔壁の端部がかかっていると、その部分で絶縁膜１８が切断されたりして剥がれやすくなる。それは、隔壁１８はシール領域１４に開口部を設けることで端部が薄くなっているからである。
【０００９】
本発明は、シール領域に隣接する端部で隔壁が剥がれないようにすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の発光装置は発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有する。
【００１１】
本発明において、発光素子はＥＬ素子が用いられる。ＥＬ素子としては、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子、または無機発光材料と有機発光材料とを混合した発光材料を用いたＥＬ素子のいずれも用いることができる。
【００１２】
本発明の発光装置としては、ＥＬ表示装置、照明装置などがあげられる。ＥＬ表示装置はアクティブ型でもパッシブ型でもよい。また照明装置としては、液晶パネルのバックライトがあげられる。
【００１３】
上記課題を鑑み本発明は、シール領域と隣接する隔壁の端部が駆動回路の配線や引き回し配線などの導電膜と下地が作る段差にかからないようにすることを特徴の１つとする。すなわち、前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜を有し、前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部は、前記導電膜の側面と上面がつくる段差と重ならないことを特徴とする。
【００１４】
隔壁として機能する第２の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であり、例えばアクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドである。また、第２の絶縁膜を有機溶媒中に溶かされた絶縁膜材料を塗布した後の熱処理で形成される膜、所謂、塗布珪素酸化膜（Ｓｐｉｎ ｏｎ Ｇｌａｓｓ、以下「ＳＯＧ」ともいう。）を用いることができる。例えば、シロキサンポリマーなどの焼成によりシロキサン結合を形成する材料でなる膜などが挙げられる。
【００１５】
また本発明は、配線と隔壁となる絶縁膜の間に、隔壁となる絶縁膜と密着性の良い絶縁膜を形成し、配線と絶縁膜が直接接触しないようにすることで、隔壁の剥がれ対策を行う。すなわち、前記第１の基板には、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上の第３の絶縁膜が形成されている。前記第３の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、前記第２の絶縁膜は無機材料でなる膜であり、前記第２の絶縁膜が前記導電膜と接しないように設けられていることを特徴とする。
【００１６】
前記無機材料でなる第２の絶縁膜として、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜が用いられる。
【００１７】
また隔壁として機能する第３の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であり、例えばアクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドである。また、第２の絶縁膜を、シロキサンポリマーなどの焼成によりシロキサン結合を形成する材料でなる膜のようなＳＯＧも用いられる。
【００１８】
本発明は、隔壁の材料に配線と密着性の良い無機膜を用いることで、隔壁の膜剥がれ対策を行うことを特徴の１つとする。前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜を有し、前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられていることを特徴とする。
【００１９】
隔壁として機能する前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、またはそれらの膜を複数積層した膜である。
【００２０】
隔壁として機能する絶縁膜の下方に設けられる導電膜は緯線や電極として機能する膜である。この導電膜には、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステン、またはそれら金属の化合物から選ばれた材料でなる膜、またこれらの膜を複数積層した膜が用いられる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によって、絶縁膜のシール材と隣接している端部が剥がれないようにすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００２３】
（実施の形態１）
図１（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＸ−Ｘ’での断面図を示す。図１（Ａ）に示すように、表示装置は、発光素子を有する画素部１００と、駆動回路部としてソースドライバ１０１およびゲートドライバ１０２と、画素部１００を囲むようにその周囲にシール領域１０３を有する。シール領域１０３は封止をするためのシール材が設けられる領域である。ソースドライバ１０１およびゲートドライバ１０２は基板１０４上に設けないものも本実施形態に含む。
【００２４】
第１の基板１０４上に絶縁膜１０５が設けられている。絶縁膜１０５には、例えば無機材料の酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜などの単層膜、またはこれらの膜の積層膜が用いられる。例えば、組成比の異なる３層の酸化窒化珪素膜が用いられる。
【００２５】
絶縁膜１０５上に導電膜１０６は、配線や電極として機能する導電膜１０６が設けられている。導電膜１０６は、金属、金属化合物の単層膜や積層膜である。例えば材料としてチタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）層からなる膜を用いる。
【００２６】
導電膜１０６上に有機材料の絶縁膜１０７が形成されている。絶縁膜１０７は隔壁として機能する膜である。絶縁膜１０７としては、ポリイミド、アクリルなどの有機樹脂が挙げられる。有機材料の絶縁膜１０７は、前記第１の透明な膜１０５との密着性が良いが、導電膜１０６との密着性は悪い。
【００２７】
有機材料の絶縁膜１０７には、画素部１００を囲むシール領域１０３の部分が選択的に除去されている。シール領域１０３は、表示装置の大きさや種類、プロセスのルールに従いその都度最適な大きさに形成し、シール材１０８を形成するのに必要な大きさだけシール領域１０３として確保する。
【００２８】
第２の基板１１０は封止用の基板であり、シール領域１０３に設けられたシール材１０８により第１の基板１０４に固定されている。第１の基板１０４と第２の基板１１０の密閉空間は有機樹脂などの充墳材１０９で充墳されている。
【００２９】
シール領域１０３では有機材料の絶縁膜１０７が除去されている。絶縁膜１０７のシール領域に隣接する端部が、図１０（Ａ）や図１０（Ｂ）に示すように絶縁膜１０７の端部が導電膜１０６の側面にかかったり一致させたりしないようにする。図１（Ｂ）に示すように、絶縁膜１０７の端部は、導電膜１０６と導電膜１０６との間の絶縁膜１０５上に形成される。言い換えると、絶縁膜１０７の端部は導電膜の側面にかかることなく、絶縁膜１０５の上面のみに接している。
【００３０】
本実施形態では、導電膜１０６の側面に有機材料の絶縁膜１０７の端部がかからないよう配置して、有機材料でなる絶縁膜１０７の端部からの剥がれを防止するようにした。
【００３１】
図２を用いて、導電膜１０６と絶縁膜１０７の位置関係を説明する。図２（Ａ）は、図１（Ａ）のａで示す領域を拡大した図である。図２（Ｂ）は、絶縁膜１０７の端部を説明するための図である。本実施形態は、絶縁膜１０７の端部すべてが導電膜１０６上にないことが最も好ましい形態であるが、少なくとも絶縁膜１０７の端部が導電膜１０６の側面と上面で作る段差にかからないにすることにある。絶縁膜１０７の端部は膜厚が非常に薄いので、端部が導電膜１０６との段差にかからないようにすることで、端部が剥がれることを防ぐものである。
【００３２】
図２（Ｂ）を用いて絶縁膜１０７の端部について説明する。本実施形態では、絶縁膜１０７の端部とは、シール領域１０３の境界（シール材１０８と接している先端）からの幅Ｗが０．５μｍの領域２００をいう。あるいは、絶縁膜１０７の端部とは、シール領域１０３の境界から膜厚ｄが４２ｎｍ以下の領域２００をいう。また、絶縁膜の端部をシール領域１０３の境界から膜厚ｄが５０ｎｍ以下の領域とするほうが、端部からの剥がれを防止する点ではより好ましい。本実施形態では、絶縁膜１０７の端部２００とは、上記のように、絶縁膜１０７の先端からの幅Ｗ又は膜厚ｄのいずれかで決定される領域である。他の実施形態についても絶縁膜１０７の端部は同様の領域をいう。
【００３３】
本実施形態では、絶縁膜１０７の端部２００が導電膜１０７の段差にかからないよう設ける。別の言い方をすると、絶縁膜１０７の端部全体が導電膜１０７の上面に位置するか、導電膜１０７の下地部分の絶縁膜１０５上面に位置するように設ける。図２（Ａ）に示すように、例えば、絶縁膜１０７の端部２００ａでは下地は絶縁膜１０５の上面であり、絶縁膜１０７の端部２００ｂでは導電膜１０６の上面である。端部２００ａ、端部２００ｂは代表的に示したものであるが、本実施形態では、シール領域１０３と隣接する部分において絶縁膜１０７の端部２００は、端部２００ａ、２００ｂと同様に、導電膜１０６の上面のみまたは絶縁膜１０５の上面のみに配置される。
【００３４】
（実施の形態２）
本実施の形態では、絶縁膜の端部での剥がれを、配線と隔壁を直接接触させないようにすることで対策する方法について記載する。図３（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図３（Ｂ）は図１（Ａ）のＹ−Ｙ’での断面図を示している。本実施形態では、シール領域１０３の表面を無機材料でなる絶縁膜３００で覆うものである。
【００３５】
本実施形態では、導電膜１０６を覆って、基板１０４全体に無機材料でなる絶縁膜３００が設けられる。無機材料でなる絶縁膜３００として、例えば材料として酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化珪素膜などが用いられる。図４（Ａ）に示すように、導電膜１０６の端部が絶縁膜１０７と重なっていたり、図４（Ｂ）に示すように絶縁膜１０７の端部と一致したりしていても、導電膜１０６と有機材料の絶縁膜１０７の間には、有機材料と密着性の良い無機材料でなる絶縁膜３００を有するため、有機材料の絶縁膜１０７が剥がれることを防止できる。よって本実施形態では、導電膜１０６のレイアウトやシール領域１０３のレイアウトの自由度が広がる。
【００３６】
（実施の形態３）
本実施の形態では、絶縁膜の端部での剥がれを、隔壁となる絶縁膜の材料を変えることにより対策する方法について記載する。
【００３７】
図５（Ａ）は表示装置の上面図を示す。図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＺ−Ｚ’での断面図を示している。
【００３８】
本実施形態では、有機材料でなる絶縁膜１０７の代わりに、無機材料でなる絶縁膜５００を設ける。図５（Ｂ）に示すように絶縁膜５００の端部を導電膜１０６と１０６の間に設けている。絶縁膜５００は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜の単層膜またはこれらの積層膜を用いることができる。
【００３９】
絶縁膜５００を無機材料とすることで、無機材料の絶縁膜１０５および導電膜１０６との密着性が改善される。よって、導電膜１０６のレイアウトの自由度が高まり、導電膜１０６の端部が絶縁膜５００の端部と重ねる、絶縁膜５００の端部と一致してもよい。無機物の絶縁膜５００は導電膜１０６と密着性が良いため無機物の絶縁膜５００が剥がれるのを防止することが可能である。また、導電膜１０６のレイアウトやシール領域１０３のレイアウトの自由度が広がる。
【実施例１】
【００４０】
本実施例は、本発明をＥＬ表示装置に適用した例である。図６を用いて本実施例を説明する。図６（Ａ）は、第１の基板上に形成されたＴＦＴ及び発光素子を、第２の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図に相当する。
【００４１】
第１の基板４００１上には画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４が設けられており、画素部を囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２上には、シール材４００５を介して、第２の基板４００６が設けられている。画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、充填材４００７と共に封止されている。
【００４２】
第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、ガラス、金属（代表的にはステンレス）、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−Ｒｅｉｎｆｏｒｃｅｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、マイラーフィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをＰＶＦフィルムやマイラーフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。発光素子４０１１からの光の取り出し方向に位置する基板は透光性を有していなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。
【００４３】
充填材４００７としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。本実施例では充填材として窒素を用いる。
【００４４】
第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、ソースドライバ４００３と、ゲートドライバ４００４とは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を複数有しており、図６（Ｂ）では、ソースドライバ４００３に含まれるＴＦＴ４００８と、画素部４００２に含まれるＴＦＴ４００９とを例示している。
【００４５】
４０１１は発光素子に相当し、ＴＦＴ４００９のドレインと接続されている配線４０１７の一部が、発光素子４０１１の第１の電極として機能する。透明導電膜４０１２が、発光素子４０１１の第２の電極として機能する。第１の電極と第２の電極の間に発光材料を含む発光層４０１３を有する。なお、発光素子４０１１の構成は、本実施例に示した構成に限定されない。上記実施例のように、発光素子４０１１から取り出す光の方向や、ＴＦＴ４００９の極性などに合わせて、発光素子４０１１の構成は適宜変えることができる。発光素子４０１１から取り出す光の方向は、第１の基板４００１側と、第２の基板４００６側と、第１の基板４００１側及び第２の基板４００６側とがある。
【００４６】
ソースドライバ４００３、ゲートドライバ４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電圧は、図６（Ｂ）に示す断面図では図示されていないが、引き回された電源線４０１４及び４０１５を介して、ＦＰＣ端子４０１６から供給されている。
【００４７】
本実施例では、ＦＰＣ端子４０１６が、発光素子４０１１の第１の電極と同じ導電膜から形成されている。また、電源線４０１４は、配線４０１７と同じ導電膜から形成されている。また電源線４０１５はＴＦＴ４００９およびＴＦＴ４００８のゲートと同じ導電膜から形成されている。
【００４８】
ＦＰＣ端子４０１６は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。
【００４９】
絶縁膜４０２２はポリイミド、アクリル、ポリイミドアミドなどの有機樹脂材料であり、絶縁膜４０２１は酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜などの無機材料でなる膜の単層膜や積層膜が用いられる。
【００５０】
絶縁膜４０２２は、発光素子４０１１の発光層４０１３を画素ごとに分離するための絶縁膜であり、第１の基板４００１全体に形成されている。絶縁膜４０２２には、発光素子４０１１が形成される領域、およびシール領域４０２０がエッチングにより選択的に除去されて、開口部が形成されている。後者の開口部は図６（Ｂ）に示すように、シール領域４０２０において電源線４０１４に代表出される導電膜の端部は、絶縁膜４０２２の端部がかかったり、一致したりしないように形成される。その結果、絶縁膜４０２０の端部は、密着性の良い無機材料でなる絶縁膜４０２１と接触しているので、有機材料の絶縁膜４０２２の端部からの剥がれを防止することができる。
【実施例２】
【００５１】
本実施例では、実施例１の画素部の回路について説明する。なお、本発明の画素回路は、本実施例で示した回路に限定されるものではない。
【００５２】
図７は、画素の等価回路図の一例を示したものである。信号線６１１４、電源線６１１５、走査線６１１６、発光素子６１１３、トランジスタ６１１０、６１１１、容量素子６１１２を有する。信号線６１１４にはソースドライバによってビデオ信号が入力される。トランジスタ６１１０は、走査線６１１６に入力される選択信号に従って、トランジスタ６１１１のゲートへの、該ビデオ信号の電位の供給を制御することができる。トランジスタ６１１１は、該ビデオ信号の電位に従って、発光素子６１１３への電流の供給を制御することができる。容量素子６１１２は、トランジスタ６１１１のゲート・ソース間の電圧を保持することができる。なお、図７では、容量素子６１１２を図示したが、トランジスタ６１１１のゲート容量や他の寄生容量で賄うことが可能な場合には、設けなくてもよい。
【００５３】
図８（Ａ）は、図７に示した画素に、トランジスタ６１１８と走査線６１１９を新たに設けた画素の等価回路図である。トランジスタ６１１８により、トランジスタ６１１１のゲートとソースを同電位とし、強制的に発光素子６１１３に電流が流れない状態を作ることができるため、全ての画素にビデオ信号が入力される期間よりも、サブフレーム期間の長さを短くすることができる。従って、駆動周波数を抑えつつ、高い総階調数の表示を行うときに、好適である。
【００５４】
図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示した画素に、新たにトランジスタ６１２５と、配線６１２６を設けた画素の等価回路図である。トランジスタ６１２５は、そのゲートの電位が、配線６１２６によって固定されている。そして、トランジスタ６１１１とトランジスタ６１２５は、電源線６１１５と発光素子６１１３との間に直列に接続されている。よって図８（Ｂ）では、トランジスタ６１２５により発光素子６１１３に供給される電流の値が制御され、トランジスタ６１１１により発光素子６１１３への該電流の供給の有無が制御できる。
【実施例３】
【００５５】
本発明を適用したＥＬ表示装置は、バッテリー駆動する電子機器の表示部や、大画面の表示装置や、電子機器の表示部に好適に用いることができる。例えば、テレビジョン装置（テレビ、テレビジョン受信機）、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話装置（携帯電話機）、ＰＤＡ等の携帯情報端末、携帯型ゲーム機、モニター、コンピュータ、カーオーディオ等の音響再生装置、家庭用ゲーム機等の記録媒体を備えた画像再生装置等が挙げられる。その具体例について、図９を参照して説明する。
【００５６】
図９（Ａ）に示す携帯情報端末機器は、本体９２０１、表示部９２０２等を含んでいる。表示部９２０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯情報端末機器を提供することができる。
【００５７】
図９（Ｂ）に示すデジタルビデオカメラは、表示部９７０１、表示部９７０２等を含んでいる。表示部９７０１は本発明の表示装置を適用することができる。その結果隔壁の膜剥がれを防止したデジタルビデオカメラを提供することができる。
【００５８】
図９（Ｃ）に示す携帯電話機は、本体９１０１、表示部９１０２等を含んでいる。表示部９１０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯電話機を提供することができる。
【００５９】
図９（Ｄ）に示す携帯型のテレビジョン装置は、本体９３０１、表示部９３０２等を含んでいる。表示部９３０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯型のテレビジョン装置を提供することができる。またテレビジョン装置としては、携帯電話機などの携帯端末に搭載する小型のものから、持ち運びをすることができる中型のもの、また、大型のもの（例えば４０インチ以上）まで、幅広いものに、本発明の表示装置を適用することができる。
【００６０】
図９（Ｅ）に示す携帯型のコンピュータは、本体９４０１、表示部９４０２等を含んでいる。表示部９４０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止した携帯型のコンピュータを提供することができる。
【００６１】
図９（Ｆ）に示すテレビジョン装置は、本体９５０１、表示部９５０２等を含んでいる。表示部９５０２は、本発明の表示装置を適用することができる。その結果、隔壁の膜剥がれを防止したテレビジョン装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】実施形態１の説明図である。
【図２】実施形態１の説明図である。
【図３】実施形態２の説明図である。
【図４】実施形態２の説明図である。
【図５】実施形態３の説明図である。
【図６】実施例１の発光装置（ＥＬ表示装置）の断面を示す図である。
【図７】実施例２の画素回路を示す図である
【図８】実施例２の画素回路を示す図である
【図９】実施例３の電子機器への適用例を示す図である。
【図１０】従来例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６３】
１００ 画素部
１０１ ソースドライバ
１０２ ゲートドライバ
１０３ シール領域
１０４ 第１の基板
１０５ 第１の絶縁膜
１０６ 導電膜
１０７ 第２の絶縁膜
１０８ シール材
１０９ 充填材
１１０ 第２の基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜を有し、
前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、
前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部は、前記導電膜の側面と上面がつくる段差と重ならないことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第２の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の有機樹脂は、アクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板には、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上の第３の絶縁膜が形成され、
前記第３の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、
前記第２の絶縁膜は無機材料でなる膜であり、前記第３の絶縁膜が前記導電膜と接しないように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４において、前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項４において、
前記第３の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の有機樹脂は、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜を有し、
前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項において、
前記導電膜は、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステン、またはそれら金属の化合物から選ばれた材料でなる膜、またこれらの膜を複数積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項において、
前記第１の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜を有し、
前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、
前記第２の絶縁膜の前記シール材と隣接している端部は、前記導電膜の側面と上面がつくる段差と重ならないことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
請求項１において、前記第２の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項３】
請求項２に記載の有機樹脂は、アクリル、ポリイミドポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項４】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板には、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の第２の絶縁膜と、前記第２の絶縁膜上の第３の絶縁膜が形成され、
前記第３の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられており、
前記第２の絶縁膜は無機材料でなる膜であり、前記第３の絶縁膜が前記導電膜と接しないように設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項５】
請求項４において、前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項６】
請求項４において、
前記第３の絶縁膜は有機樹脂でなる膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の有機樹脂は、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、またはポリイミドアミドであることを特徴とする発光装置。
【請求項８】
発光素子を有する画素部と、前記画素部を囲む部分に、シール材が形成されたシール領域とを有する第１の基板、および前記第１の基板に前記シール材により固定された第２の基板を有し、
前記第１の基板は、第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上の導電膜と、前記導電膜上の無機材料でなる第２の絶縁膜を有し、
前記第２の絶縁膜は前記シール領域の部分が除去されて、前記シール材が設けられていることを特徴とする発光装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記第２の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項において、
前記導電膜は、アルミニウム、チタン、モリブデン、タングステン、またはそれら金属の化合物から選ばれた材料でなる膜、またこれらの膜を複数積層した膜であることを特徴とする発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項において、
前記第１の絶縁膜は、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜から選ばれた１つの膜、または複数の膜を積層した膜からなることを特徴とする発光装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２００７−１９４０４０（Ｐ２００７−１９４０４０Ａ）
【公開日】平成１９年８月２日（２００７．８．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−１０１９７（Ｐ２００６−１０１９７）
【出願日】平成１８年１月１８日（２００６．１．１８）
【出願人】（０００１５３８７８）株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年８月２日（２００７．８．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１月１８日（２００６．１．１８）
【出願人】（０００１５３８７８）株式会社半導体エネルギー研究所 (5,264)
【Ｆターム（参考）】
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