着色ポリマー物品の改善された長期寸法安定性
本発明は、光によって誘発される反り作用を減少するための、着色ポリオレフィンポリマーにおける立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）の使用に関する。好ましくはこのような立体障害のあるピペリジン誘導体／（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、通常、改善された耐光性、および改善された機械的特性のために使用される、ＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤、および酸スカベンジャーと、種々組み合わせて使用される。特に、本発明は、少なくとも１種の有機顔料、および少なくとも１種の立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）をポリオレフィンポリマー中で混ぜ合わせるステップを含む、ポリオレフィンポリマーにおける光によって誘発される反り作用を減少させる方法に関する。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
プラスチック物品の好ましくない収縮または反りに関して、顔料の影響が知られており、射出成形によって調製された製品に対して、それは特に認められてきた。例えば、ポリプロピレンまたは高密度ポリエチレンの射出成形ボトルクレートは、反りを引き起こす顔料を使用することによって非常に影響を受けることがある。核形成活性で知られているある顔料は、例えば光ファイバールースケーブルにおける押出ＰＢＴチューブを差別化するために使用されていた。また後反りは、使用される顔料のタイプに依存するように思われた。この反り現象は、例えば、標準顔料濃度０．１％を使用して、加工パラメータおよび成形速度によって影響される。他の影響を及ぼす因子は、金型の大きさ、および形状である。相対的反りは、実際には、同じ条件下で調整された同じポリマーの、着色された試料と未着色（「処理していない」）試料とを比較して、ポリマー試料の寸法を測定することによって求められる。
【０００２】
反りは、多様な着色ポリマーに対して認められており、この作用を減少させる観点において、いわゆる低収縮性添加剤（ＬＰＡ）（参照、Ｈｕａｎｇ、Ｙａｎ−Ｊｙｉ；Ｃｈｅｎ、Ｔｚｏｎｇ−Ｓｈｙａｎｇ；Ｈｕａｎｇ，Ｊｙｈ−Ｇａｕ；Ｌｅｅ、ＦｕｈＨｕａｈ；Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔａｉｗａｎ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｔａｉｐｅｉ １０６、Ｔａｉｗａｎ．Ａｂｓｔｒ．Ｐａｐ．−Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（２０００）、２２０ｔｈ ＰＭＳＥ−３２１．ＣＯＤＥＮ：ＡＣＳＲＡＬ ＩＳＳＮ：００６５−７７２７）（複数のものは、その骨格に過酸化物基を有し、硬化の間に膨張効果をもたらすことができる）である、反応性ＰＭＭＡおよび反応性メチルメタクリレート−酢酸ビニルブロックコポリマータイプ、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー（ＶＣ−ＶＡＣ）、および塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸三元共重合体）（ＶＣ−ＶＡＣ−ＭＡ）を使用することによるなどの多数の技術的ステップが、報告され、開示されている。ＬＰＡ類を使用することによって、通常、良好な体積収縮抑制、および成形部品に対する許容しうる着色適性が実現した。他の情報源は、注文製作の収縮減少添加剤（ＳＲＡ）の使用を伝えており、これは、マトリックスを硬化させるなどの、その他の技術的成果に関係がある。
【０００３】
改善され、単純化された収縮制御を実現するためには、最先端を行く技術に対して進歩を与える新規な概念が望まれる。
【０００４】
ポリマーマトリックスの着色用に標準的に使用されている複数の顔料は、人工光および／または太陽光の誘発によって、すなわち物品の寿命の間に、最終物品の寸法特性に影響を及ぼすかなりの反り作用を発生させることが認められた。これらの作用は、射出成形などの加工の間に、反りをもたらすことで知られている顔料に対して生じるだけでなく、同様の加工に対して反りがないと評価されている顔料に対しても生じる。
【０００５】
驚くべきことには、ポリマーマトリックスの安定化に対して、しばしば使用される通常のポリマー安定剤を含む、顔料または複数の顔料の組合せが、上述した光によって誘発される反り作用を著しく減少させることが見出された。ポリマー安定剤は、立体障害のあるピペリジン誘導体／アミン（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）のクラスの特定のメンバーであって、着色ポリマーにおいて単独、またはＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャーとの種々の組合せにおいて使用される。
【０００６】
本発明による方法の主な利点は、耐光性および機械的特性を改善するために効果的である安定剤により、光によって誘発される反りを、同時に制御できることである。したがって、反り制御のためのその他の添加剤を添加する必要がない。
【０００７】
好ましい組合せは、ポリマーの重量に基づいて１種または複数の顔料０．００１重量％から２．０重量％および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓ０．００１重量％から２．０重量％を含む。
【０００８】
既に上述したとおり、本方法は、化学的分解を抑制する意味において、ポリマーの安定化を同時にもたらし、ならびに光によって誘発される望ましくない反りを回避する作用をもたらす。特に、反り作用を制御するための専用の、飽和ポリエステルベース（ＳＰＥ）または反応性ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（酢酸ビニル）−ブロック−ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＶＡｃ−ｂ−ＰＭＭＡ）、赤りんまたはりん酸類などのその他の成分いわゆる「低収縮性添加剤」（ＬＰＡ）を組み込む必要はない。
【０００９】
着色ポリマーにおける反る作用が、熱ではなく光の影響下だけで誘発されうるということが、以前には記載されていなかった。また、立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）が、着色ポリマーシステムの変形（「反り」）を効率的に回避できるということも以前には記載されていなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
したがって、本発明の目的は、着色ポリオレフィンにおける、光によって誘発される反り作用を減少させるための方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
ポリオレフィンポリマーにおいて、少なくとも１種の有機顔料および少なくとも１種の以下に定義する立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）を合わせるステップを含む方法が、ポリオレフィンポリマーにおいて光によって誘発される反り作用を減少させることが見出された。
【００１２】
好ましくはこのような立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、通常、耐光性の改善および機械的特性の改善の目的でＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャー（全て以下に定義とおり）と組み合わせて使用される。
【００１３】
本発明による方法において使用される立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、耐光性の改善および機械的特性の改善の目的で既に使用されている安定剤のよく知られたグループである。このような立体障害のあるピペリジン誘導体は、好ましくは次式（Ｉａ）−（Ｉｃ）のものである。
【００１４】
【化３】
［式中、それぞれ独立に、
Ａは、−Ｏ−または−ＮＲ‘−であり、
Ｒ‘は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、または次の基の１つであり、
【００１５】
【化４】
Ｒ‘‘は、ＨまたはＣ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ’’’は、Ｈ、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ１は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、またはＣ７〜Ｃ１８−アルキルアリールであり、
Ｒ３は、Ｈ、結合数ｎを有する、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルまたは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ５は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ１８−シクロアルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ５は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
ｎは整数＞０である。］
【００１６】
好ましくはヒンダードピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、以下の通りである：２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアゾジスピロ［５，１，１１，２］ヘンエイコサン−２１−オン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０ Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０およびエピクロルヒドリンの反応生成物（一緒になって、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、ポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル］イミノ］−１，６−ヘキサジイル−［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリニジル］イミノ］］（Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４ Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）ならびに２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノール（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５ Ｃｌａｖｉａｎｔから入手可能）のＣ１６−１８脂肪酸エステル、１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ポリマー、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、Ｎ−ブチル−１−ブタナミンおよびＮ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミドの反応の生成物（一緒になって、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０ ＣｉｂａＳＣから入手可能）、およびＮ，Ｎ’−エタン−１，２−ジイルビス（１，３−プロパンジアミン）、シクロヘキサン、過酸化４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの反応生成物（一緒になってＦｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６ Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）。
【００１７】
立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、溶液または溶融物において、ならびに固体または液体混合物またはマスターバッチ／濃縮物の形態において本発明による方法で添加することができる。好ましくは立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、固体またはマスターバッチ／濃縮物として添加される。
【００１８】
好ましくはポリマーの重量に基づいて、１種または複数の有機顔料０．００１重量％〜２．０重量％および立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）０．００１重量％〜２．０重量％が、本発明の方法において組み合わされる。
【００１９】
好ましい実施形態において、さらに添加剤（ＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャー；全て以下に定義される）が、独立に、それぞれ０．０２〜０．２重量％、好ましくはそれぞれ０．０５〜０．１重量％の量で存在する。
【００２０】
上に示したとおり、立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、反り作用が認められる着色ポリオレフィンポリマーにおいて使用される。このようなポリマーは、以下の通りである：モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー（例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン）、ならびにシクロオレフィン（例えばシクロペンテンまたはノルボルネン）のポリマー；さらにポリエチレン（場合によって、架橋することができる）；例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＨＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００２１】
１．ポリオレフィン、すなわち前出の項において例示したとおりのモノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンおよびポリプロピレンを、種々の方法および特に以下の方法によって調製することができる。
【００２２】
ａ）遊離基重合（通常、高圧下および高温で）
ｂ）周期律表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶｌｂまたはＶＩＩＩ族の１つまたは複数の金属を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は、通常、π−またはδ−配位できる酸化物、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールなどの１つまたは複数配位子を有する。これらの金属錯体は、自由形態の形でも、基材上に（例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン、アルミナまたは酸化シリコン上に）固定してもよい。これら触媒は、重合媒体に可溶性または不溶性であってよい。触媒は、重合においてそれ自体活性でありうるし、さらに活性剤、例えば金属アルキル、金属ハライド、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン、周期律表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である金属を使用することができる。活性剤は、例えばさらにエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で改変することができる。これらの触媒システムは、通常、Ｐｈｉｌｉｐｓ、Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ、Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセンまたは単サイト触媒（ＳＳＣ）と名づける。
【００２３】
２． １）に挙げたポリマーの混合物、例えばポリイソブチレンとポリプロピレン、ポリイソブチレンとポリエチレン、ポリエチレンとポリプロピレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ／ＬＤＰＥ）の混合物、および互いに異なるタイプのポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２４】
モノオレフィンおよびジオレフィンの互いの、または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレンコポリマー、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）を有する線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、およびその混合物、プロピレン−ブト−１−エンコポリマー、プロピレン−イソブチレンコポリマー、エチレン−ブト−１−エンコポリマー、エチレン−ヘキセンコポリマー、エチレン−メチルペンテンコポリマー、エチレン−へプテンコポリマー、エチレン−オクテンコポリマー、プロピレン−ブタジエンコポリマー、イソ−ブチレン−イソプレンコポリマー、エチレン−アルキルアクリレートコポリマー、エチレン−アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン−酢酸ビニルコポリマーおよびこれらの一酸化炭素とのコポリマー、またはエチレン−アクリル酸コポリマーおよびその塩（アイオノマー）、ならびにプロピレンを有するエチレンと（ヘキサジエン、ジシクロ−ペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンなどの）ジエンとの三元共重合体；ならびに相互のこれらコポリマーの混合物、および１）に挙げたポリマー（例えばポリプロピレン−エチレン−プロピレンコポリマー，ＬＤＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン−アクリル酸コポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン−アクリル酸コポリマー、および交互またはランダムポリアルキレン−一酸化炭素コポリマー）とこれらコポリマーとの混合物、および他のポリマー（例えばポリアミド）とこれらとの混合物。
【００２５】
これらのポリマーにおいては、さらに、例えば以下のような、添加剤を存在させることができる。
【００２６】
１． 抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール（例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２４ａ−メチル−シクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４．６−トリシクロ−ヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチル−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデク−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチル−ヘプタデシル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデク−１’−イル）フェノールおよびこれらの混合物）。
【００２７】
１．２ アルキルチオメチルフェノール、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシル−チオメチル−４−ノニルフェノール。
【００２８】
１．３ ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジーｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−アニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジベート。
【００２９】
１．４ トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびこれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００３０】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２’−チオ−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス−（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィック。
【００３１】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチル−シクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル−フェノール）、２，２’−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２．２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル−フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチル−エンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−１−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル−メルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス’（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジ−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシル−メルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００３２】
１．７ Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−ベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００３３】
１．８ ヒドロキシベンジル化マロネート、例えばジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００３４】
１．９ 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル）−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゾール、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００３５】
１．１０ トリアジン化合物、例えば２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチル−メルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリ−アジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００３６】
１．１１ ベンジルホスホネート、例えばジメチル２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルオホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−ベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホニック酸のモノエチルエステルのＣａ塩。
【００３７】
１．１２ アクリルアミノフェノール、４−ヒドロキシラウルアミド、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチル Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００３８】
１．１３ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシ−エチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、β−（３，５−ジ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００３９】
１．１４ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオぺンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビ−シクロ［２．２．２］オクタン）と、β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００４０】
１．１５ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ−エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシ−エチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、β−（３，５−ジクロヘキシル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００４１】
１．１６ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チア−ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸とのエステル。
【００４２】
１．１７ β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００４３】
１．１８ 置換ベンゾフラノン化合物、例えば５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンおよび５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（２，３−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンの混合物。
【００４４】
２ ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１ ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾ−トリアゾール、２−（３’−５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ−アゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、および、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ−トリアゾールおよび２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルカルボニルエチル）フェニル−ベンゾトリアゾール）の混合物、２，２’−メチレン−ビス［４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；ポリエチレングリコール３００と２−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］ベンゾトリアゾールのエステル交換生成物、［Ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ（ＣＨ２）３］２（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）。
【００４５】
２．２ ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００４６】
２．３ 置換または非置換安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチルーフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート。
【００４７】
２．４ アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレートまたはイソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメートまたはブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボ−メトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノ−ビニル）−２−メチルインドリン。
【００４８】
２．５ ニッケル化合物、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンなどのさらなる配位子を有するかまたは有しない、１：１または１：２錯体などの２，２’−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、メチルまたはエチルエステルなどのモノアルキルエステルのニッケル塩、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル−ホスホン酸のニッケル塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのケトキシムのニッケル錯体、さらなる配位子を有するかまたは有しない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００４９】
２．６ オキザルアミド、例えば４，４’−ジオクチルオキシオキザニリド、２，２’−ジエトキシオキザニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキザニリド、２−エキトシ−２’−エチルオキザニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）−オキザルアミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エチルオキザニリドおよびこの２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリドとの混合物およびこのｏ−およびｐ−メトキシニ置換オキザニリドとの混合物およびこのｏ−およびｐ−エトキシニ置換オキザニリドとの混合物。
【００５０】
２．７ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチル−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−フェニル）−４，６−ビス（２；４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００５１】
３． 金属奪還剤、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニルオキサルアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）−オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニル−ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００５２】
４． ホスファイトおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビスイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−フェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト。
【００５３】
５．β−チオジプロピオン酸のエステルを例とする過酸化物スカベンジャー、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジサルファイド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００５４】
６．（ヨウ素化合物および／またはリン酸化合物と組み合わせた銅塩、および二価マンガン塩を例とする）ポリアミド安定剤。
【００５５】
７．メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラシン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、アルカリ金属塩および高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩（例えばＣａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇベヘネート、Ｍｇステアレート、Ｎａリシノレート、Ｋパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート）を例とする塩基性共安定剤。ラクテート、例えばＣａラクテートのアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩。
【００５６】
８．安息香酸、４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸などの核形成剤；ジフェニル酢酸およびその塩、ホスフェート、ホスホネートおよびホスフィネートおよびそのエステルおよび塩、または（ジベンジリデンソルビトールの誘導体などの）透明化剤。
【００５７】
９．カルシウムカーボネート、シリケート、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、バリウムサルフェート、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイトを例とする充填剤および補強剤。
【００５８】
１０．可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防災剤、帯電防止剤、発泡剤を例とする他の添加剤。
【００５９】
本発明によれば、任意のその他の添加剤を、ＨＡ（Ｌ）Ｓ化合物の添加の前に、一緒にまたは後に、ポリオレフィンに添加することができる。その他の添加剤は、溶液または溶融体において、ならびに固体または液体混合物またはマスターバッチ／濃縮物の形態において添加することができる。
【００６０】
好ましいＵＶ吸収剤は、２−ヒドロキシベンゾフェノン（特に、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジ−メトキシ誘導体）、２−（２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール（特に、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの）混合物、２，２’−メチレンビス［４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］）；ポリエチレングリコール３００と２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ（ＣＨ２）３］２（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５‘−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）。
【００６１】
好ましい加工安定剤は、オルガノホスファイトまたはオルガノホスホナイト安定剤であり、最も好ましくはトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）ＰＡＲ２４としてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）またはテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ（登録商標）Ｐ−ＥＰＯとしてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）である。
【００６２】
好ましいフェノールタイプ抗酸化剤は、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒドロシンナメート（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）Ｏ１０としてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）である。
【００６３】
好ましい酸スカベンジャーは、ステアリン酸金属、最も好ましくはステアリン酸亜鉛、またはステアリン酸カルシウムである。
【００６４】
回避されるべき反り作用は、ポリマーの着色に使用される全ての顔料で認めることができる。しかし、このような作用は、アゾ顔料、キナクリドン、フタロシアニン、インダンスロン、フラバンスロン、ピランスロン、アンスラキノン、ペリレン、ペリノン、ジオキサジン、チオインジゴ顔料、イソインドリン、イソインドリノン、有機金属錯体ならびに無機顔料をベースとする工業的有機顔料の場合、最も厄介である。
【００６５】
これらの有機顔料の包括的記載は、例えば「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、著者Ｗ．ＨｅｒｂｓｔおよびＫ．Ｈｕｎｇｅｒ、改訂第２版、出版社ＶＣＨ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、Ｇｅｒｍａｎｙ（１９９７）と題する書籍において提供されている。
【００６６】
立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと組み合わせて使用される、好ましい有機顔料は、実施例において特定されているものである。
【００６７】
本発明を、次に、実施例によって示す。
【実施例】
【００６８】
試料調製、暴露および結果の評価の一般的記述
ＰＥ−ＨＤを、オルガノホスファイトまたは代わりにオルガノホスホナイト安定剤（トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスファイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）ＰＡＲ ２４）、または代わりにテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ）など（双方ともＣｌａｒｉａｎｔから入手可能））０．１０％、ステアリン酸金属（ステアリン酸亜鉛またはステアリン酸カルシウムなど）０．０５％、およびフェノール抗酸化剤（テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒドロシンナメート（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）Ｏ１０）など、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）０．０５％、を含む標準基準プロセス安定化により安定化する。
【００６９】
最終試験板（ｐｌａｑｕｅｓ）における顔料濃度は、０．１％である。以下の３種の異なる顔料を試験した：
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：３、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０、およびＰｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５。
【００７０】
最終試験板におけるＨＡ（Ｌ）Ｓ濃度は、０．２％である。Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０（Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、Ｆｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、およびＨｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５（Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）など、複数の商業的ＨＡ（Ｌ）Ｓ誘導体を試験した。
【００７１】
Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能、は２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ［５．１．１１．２］ヘンアイコサン−２１−オン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）と、エピクロルヒドリンとの反応生成物である。
【００７２】
Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能、は２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノールのＣ１６〜１８脂肪酸エステルである。
【００７３】
Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、はポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ］−１，３，５−トラジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ］−１，６−ヘキサンジイル−［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ］］である。
【００７４】
Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、は１，６，−Ｈｅｘａｎｄｉａｍｉｎ、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ポリマー、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、Ｎ−ブチル−１−ブタナミンと、Ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジナミンとの反応生成物である。
【００７５】
Ｆｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、はＮ，Ｎ’−エタン−１，２−ジイルビス（１，３−プロパンジアミン）、シクロヘキサン、過酸化４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと、２，４，６−トリクロロ−１，３，５トリアジンとの反応生成物である。
【００７６】
ＰＥ−ＨＤ試験板（厚さ１ｍｍ）を熱プレスまたは射出成形によって調製した。
【００７７】
試験板の暴露は、次のどちらかで実施した。ウエザロメーター（ＩＳＯ １１３４１−Ｃによる）：連続光、乾燥状態、放射エネルギー０．４７Ｗ／ｍｍ２、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度５０％、放射フィルター３４０ｎｍ。
【００７８】
ＵＶ−Ａ（ブラックパネル温度６３℃で、ＤＩＮ ５２０８−９１−Ａによる）：連続光、乾燥状態、相対湿度５０％、放射フィルター３４０ｎｍ。
【００７９】
試験板の反りを評価するために、以下の方法を使用した。
【００８０】
全ての初期ＰＥ−ＨＤ試験板（形状大きさ：５０ｍｍ長×５０ｍｍ幅×１ｍｍ厚）は、完全に平らである。人工的暴露によるエージングの後、試験板は、もはや平らではなく変形していることが認められた。１ｍｍ射出成形試験板は、特に正（垂直）方向に反る。試料は、変形によって３次元形状になる。平面において最終的輪郭を投射している試料を測定することによって、例えば、図１に示すように長さは５０ｍｍのままだが、幅は、今は４８．５ｍｍであるということが起こる。
【００８１】
この種の反りの良好な目安は、正方向に生じる高さを測定することによって評価することができる。
【００８２】
３つのパラメータを評価した。
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける長さ移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける幅移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、ｍｍにおける高さ（誤差＝０．５ｍｍ）
３つのパラメータを評価した。
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける長さ移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける幅移動（誤差＝０．２％）
− 未暴試験露板と比較した、ｍｍにおける高さ（誤差＝０．５ｍｍ）
【００８３】
（実施例１）
３つの異なる商業的顔料をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｅｌｔｅｘ、製造業者 Ｓｏｌｖａｙ）において試験した。
【００８４】
全てのプレスされた板（厚さ１ｍｍ）をＵＶ−Ａ暴露によって１５００時間暴露した。暴露前には、いずれの配合に対しても反りは、認められない。
【００８５】
暴露の終わりに、高さ、幅、および長さを測定する。対応するデータを表１に示す。
【００８６】
【表１】
【００８７】
全ての３つの着色板は、ＵＶ−Ａ光暴露１５００時間後、同程度に反りを生じ、未着色マトリックスだけが平らのままである。
【００８８】
（実施例２）
実施例１において使用したのと同じ顔料を使用し、他のＰＥ−ＨＤマトリックスにおいて試験した（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ、製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）。
【００８９】
熱プレスによってこれら試験板（厚さ１ｍｍ）を調製した後、ＵＶ−Ａによって１５００時間暴露した。暴露前には、いずれの配合に対しても、反りは、認められなかった。終わりに、高さ、幅、および長さを測定する（参照、表２）。
【００９０】
【表２】
【００９１】
全ての３つの着色ＰＥ−ＨＤ板に対して、反りが認められる。
【００９２】
（実施例３）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：３をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｒｉｇｉｄｅｘ、製造業者 ＢＰ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【００９３】
全ての１ｍｍ射出成形試験板（厚さそれぞれ１ｍｍ）ウエザロメーターにおいて２０００時間暴露した。結果を表３に示す。
【００９４】
【表３】
【００９５】
人工光暴露２０００時間後、反り作用は、複数のＨＡ（Ｌ）Ｓにより防止される。ＨＡ（Ｌ）Ｓなしの着色マトリックスだけ、人工光暴露２０００時間後、反りが生じた。
【００９６】
（実施例４）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ 製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）において、何もなしで、および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【００９７】
熱プレスされた試験板（厚さ１ｍｍ）をウエザロメーターにおいて１２００時間暴露する。結果を表４に示す。
【００９８】
【表４】
【００９９】
人工光暴露１２００時間後、反り作用は、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０を使用して明らかに防止される。
【０１００】
（実施例５）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ、製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）において、何もなしで、および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１０１】
熱プレスされた試験板（厚さ１ｍｍ）を調製した後、ＵＶ−Ａ暴露によって１４５０時間暴露する。結果を表５に示す。
【０１０２】
【表５】
【０１０３】
この実施例において示されるとおり、ＵＶ−Ａ光暴露１４５０時間後、反り作用は、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０を使用して防止される。
【０１０４】
（実施例６−９）
以下の実施例において、寸法値は、さらに正確な測定法によって計算されたものである。測定の精度は、例えば０．７６％幅移動で＋／−０．０３％。
【０１０５】
（実施例６）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１５５をＨＤＰＥマトリックス（ＨＯＳＴＡＬＥＮ ＢＡＳＥＬＬから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１０６】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をＵＶ−Ａ暴露によって１２５０時間暴露した。
【０１０７】
【表６】
【０１０８】
再び、反り作用は、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、ＨＡＬＳを使用して防止される。ＨＡＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、反りがみられる。
【０１０９】
（実施例７）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＨＯＳＴＡＬＥＮ ＢＡＳＥＬＬから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１０】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をウエザロメーター暴露において２５００時間暴露した。
【０１１１】
【表７】
【０１１２】
再び、反り作用は、ＷＯＭ暴露において２５００時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＷＯＭ暴露２５００時間後、反りがみられる。
【０１１３】
（実施例８）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＲＩＧＩＤＥＸ ＢＰ Ｃｅｍｉｃａｌｓから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１４】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をＵＶＡ暴露において１２５０時間暴露した。
【０１１５】
【表８】
【０１１６】
再び、反り作用は、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡ
ＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、反りがみられる。
【０１１７】
（実施例９）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＲＩＧＩＤＥＸ ＢＰ Ｃｅｍｉｃａｌｓから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１８】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をウエザロメーター暴露において２５００時間暴露した。
【０１１９】
【表９】
【０１２０】
再び、反り作用は、ＷＯＭ暴露２５００時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡ
ＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＷＯＭ暴露２５００時間後、反りがみられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】反りを評価するための方法を示す。
【背景技術】
【０００１】
プラスチック物品の好ましくない収縮または反りに関して、顔料の影響が知られており、射出成形によって調製された製品に対して、それは特に認められてきた。例えば、ポリプロピレンまたは高密度ポリエチレンの射出成形ボトルクレートは、反りを引き起こす顔料を使用することによって非常に影響を受けることがある。核形成活性で知られているある顔料は、例えば光ファイバールースケーブルにおける押出ＰＢＴチューブを差別化するために使用されていた。また後反りは、使用される顔料のタイプに依存するように思われた。この反り現象は、例えば、標準顔料濃度０．１％を使用して、加工パラメータおよび成形速度によって影響される。他の影響を及ぼす因子は、金型の大きさ、および形状である。相対的反りは、実際には、同じ条件下で調整された同じポリマーの、着色された試料と未着色（「処理していない」）試料とを比較して、ポリマー試料の寸法を測定することによって求められる。
【０００２】
反りは、多様な着色ポリマーに対して認められており、この作用を減少させる観点において、いわゆる低収縮性添加剤（ＬＰＡ）（参照、Ｈｕａｎｇ、Ｙａｎ−Ｊｙｉ；Ｃｈｅｎ、Ｔｚｏｎｇ−Ｓｈｙａｎｇ；Ｈｕａｎｇ，Ｊｙｈ−Ｇａｕ；Ｌｅｅ、ＦｕｈＨｕａｈ；Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ、Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔａｉｗａｎ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｔａｉｐｅｉ １０６、Ｔａｉｗａｎ．Ａｂｓｔｒ．Ｐａｐ．−Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（２０００）、２２０ｔｈ ＰＭＳＥ−３２１．ＣＯＤＥＮ：ＡＣＳＲＡＬ ＩＳＳＮ：００６５−７７２７）（複数のものは、その骨格に過酸化物基を有し、硬化の間に膨張効果をもたらすことができる）である、反応性ＰＭＭＡおよび反応性メチルメタクリレート−酢酸ビニルブロックコポリマータイプ、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー（ＶＣ−ＶＡＣ）、および塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸三元共重合体）（ＶＣ−ＶＡＣ−ＭＡ）を使用することによるなどの多数の技術的ステップが、報告され、開示されている。ＬＰＡ類を使用することによって、通常、良好な体積収縮抑制、および成形部品に対する許容しうる着色適性が実現した。他の情報源は、注文製作の収縮減少添加剤（ＳＲＡ）の使用を伝えており、これは、マトリックスを硬化させるなどの、その他の技術的成果に関係がある。
【０００３】
改善され、単純化された収縮制御を実現するためには、最先端を行く技術に対して進歩を与える新規な概念が望まれる。
【０００４】
ポリマーマトリックスの着色用に標準的に使用されている複数の顔料は、人工光および／または太陽光の誘発によって、すなわち物品の寿命の間に、最終物品の寸法特性に影響を及ぼすかなりの反り作用を発生させることが認められた。これらの作用は、射出成形などの加工の間に、反りをもたらすことで知られている顔料に対して生じるだけでなく、同様の加工に対して反りがないと評価されている顔料に対しても生じる。
【０００５】
驚くべきことには、ポリマーマトリックスの安定化に対して、しばしば使用される通常のポリマー安定剤を含む、顔料または複数の顔料の組合せが、上述した光によって誘発される反り作用を著しく減少させることが見出された。ポリマー安定剤は、立体障害のあるピペリジン誘導体／アミン（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）のクラスの特定のメンバーであって、着色ポリマーにおいて単独、またはＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャーとの種々の組合せにおいて使用される。
【０００６】
本発明による方法の主な利点は、耐光性および機械的特性を改善するために効果的である安定剤により、光によって誘発される反りを、同時に制御できることである。したがって、反り制御のためのその他の添加剤を添加する必要がない。
【０００７】
好ましい組合せは、ポリマーの重量に基づいて１種または複数の顔料０．００１重量％から２．０重量％および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓ０．００１重量％から２．０重量％を含む。
【０００８】
既に上述したとおり、本方法は、化学的分解を抑制する意味において、ポリマーの安定化を同時にもたらし、ならびに光によって誘発される望ましくない反りを回避する作用をもたらす。特に、反り作用を制御するための専用の、飽和ポリエステルベース（ＳＰＥ）または反応性ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリ（酢酸ビニル）−ブロック−ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＶＡｃ−ｂ−ＰＭＭＡ）、赤りんまたはりん酸類などのその他の成分いわゆる「低収縮性添加剤」（ＬＰＡ）を組み込む必要はない。
【０００９】
着色ポリマーにおける反る作用が、熱ではなく光の影響下だけで誘発されうるということが、以前には記載されていなかった。また、立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）が、着色ポリマーシステムの変形（「反り」）を効率的に回避できるということも以前には記載されていなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
したがって、本発明の目的は、着色ポリオレフィンにおける、光によって誘発される反り作用を減少させるための方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
ポリオレフィンポリマーにおいて、少なくとも１種の有機顔料および少なくとも１種の以下に定義する立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）を合わせるステップを含む方法が、ポリオレフィンポリマーにおいて光によって誘発される反り作用を減少させることが見出された。
【００１２】
好ましくはこのような立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、通常、耐光性の改善および機械的特性の改善の目的でＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャー（全て以下に定義とおり）と組み合わせて使用される。
【００１３】
本発明による方法において使用される立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、耐光性の改善および機械的特性の改善の目的で既に使用されている安定剤のよく知られたグループである。このような立体障害のあるピペリジン誘導体は、好ましくは次式（Ｉａ）−（Ｉｃ）のものである。
【００１４】
【化３】
［式中、それぞれ独立に、
Ａは、−Ｏ−または−ＮＲ‘−であり、
Ｒ‘は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、または次の基の１つであり、
【００１５】
【化４】
Ｒ‘‘は、ＨまたはＣ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ’’’は、Ｈ、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ１は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、またはＣ７〜Ｃ１８−アルキルアリールであり、
Ｒ３は、Ｈ、結合数ｎを有する、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルまたは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ５は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ１８−シクロアルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ５は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
ｎは整数＞０である。］
【００１６】
好ましくはヒンダードピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、以下の通りである：２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアゾジスピロ［５，１，１１，２］ヘンエイコサン−２１−オン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０ Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０およびエピクロルヒドリンの反応生成物（一緒になって、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、ポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル］イミノ］−１，６−ヘキサジイル−［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリニジル］イミノ］］（Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４ Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）ならびに２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノール（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５ Ｃｌａｖｉａｎｔから入手可能）のＣ１６−１８脂肪酸エステル、１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ポリマー、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、Ｎ−ブチル−１−ブタナミンおよびＮ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミドの反応の生成物（一緒になって、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０ ＣｉｂａＳＣから入手可能）、およびＮ，Ｎ’−エタン−１，２−ジイルビス（１，３−プロパンジアミン）、シクロヘキサン、過酸化４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの反応生成物（一緒になってＦｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６ Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）。
【００１７】
立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、溶液または溶融物において、ならびに固体または液体混合物またはマスターバッチ／濃縮物の形態において本発明による方法で添加することができる。好ましくは立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、固体またはマスターバッチ／濃縮物として添加される。
【００１８】
好ましくはポリマーの重量に基づいて、１種または複数の有機顔料０．００１重量％〜２．０重量％および立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）０．００１重量％〜２．０重量％が、本発明の方法において組み合わされる。
【００１９】
好ましい実施形態において、さらに添加剤（ＵＶ吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャー；全て以下に定義される）が、独立に、それぞれ０．０２〜０．２重量％、好ましくはそれぞれ０．０５〜０．１重量％の量で存在する。
【００２０】
上に示したとおり、立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）は、反り作用が認められる着色ポリオレフィンポリマーにおいて使用される。このようなポリマーは、以下の通りである：モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー（例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン）、ならびにシクロオレフィン（例えばシクロペンテンまたはノルボルネン）のポリマー；さらにポリエチレン（場合によって、架橋することができる）；例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＨＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００２１】
１．ポリオレフィン、すなわち前出の項において例示したとおりのモノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンおよびポリプロピレンを、種々の方法および特に以下の方法によって調製することができる。
【００２２】
ａ）遊離基重合（通常、高圧下および高温で）
ｂ）周期律表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶｌｂまたはＶＩＩＩ族の１つまたは複数の金属を通常含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は、通常、π−またはδ−配位できる酸化物、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールなどの１つまたは複数配位子を有する。これらの金属錯体は、自由形態の形でも、基材上に（例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン、アルミナまたは酸化シリコン上に）固定してもよい。これら触媒は、重合媒体に可溶性または不溶性であってよい。触媒は、重合においてそれ自体活性でありうるし、さらに活性剤、例えば金属アルキル、金属ハライド、金属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサン、周期律表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａ族の元素である金属を使用することができる。活性剤は、例えばさらにエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基で改変することができる。これらの触媒システムは、通常、Ｐｈｉｌｉｐｓ、Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ、Ｚｉｅｇｌｅｒ（−Ｎａｔｔａ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセンまたは単サイト触媒（ＳＳＣ）と名づける。
【００２３】
２． １）に挙げたポリマーの混合物、例えばポリイソブチレンとポリプロピレン、ポリイソブチレンとポリエチレン、ポリエチレンとポリプロピレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ／ＬＤＰＥ）の混合物、および互いに異なるタイプのポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００２４】
モノオレフィンおよびジオレフィンの互いの、または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン−プロピレンコポリマー、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）を有する線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、およびその混合物、プロピレン−ブト−１−エンコポリマー、プロピレン−イソブチレンコポリマー、エチレン−ブト−１−エンコポリマー、エチレン−ヘキセンコポリマー、エチレン−メチルペンテンコポリマー、エチレン−へプテンコポリマー、エチレン−オクテンコポリマー、プロピレン−ブタジエンコポリマー、イソ−ブチレン−イソプレンコポリマー、エチレン−アルキルアクリレートコポリマー、エチレン−アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン−酢酸ビニルコポリマーおよびこれらの一酸化炭素とのコポリマー、またはエチレン−アクリル酸コポリマーおよびその塩（アイオノマー）、ならびにプロピレンを有するエチレンと（ヘキサジエン、ジシクロ−ペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンなどの）ジエンとの三元共重合体；ならびに相互のこれらコポリマーの混合物、および１）に挙げたポリマー（例えばポリプロピレン−エチレン−プロピレンコポリマー，ＬＤＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン−アクリル酸コポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン−アクリル酸コポリマー、および交互またはランダムポリアルキレン−一酸化炭素コポリマー）とこれらコポリマーとの混合物、および他のポリマー（例えばポリアミド）とこれらとの混合物。
【００２５】
これらのポリマーにおいては、さらに、例えば以下のような、添加剤を存在させることができる。
【００２６】
１． 抗酸化剤
１．１ アルキル化モノフェノール（例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２４ａ−メチル−シクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４．６−トリシクロ−ヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４−メチル−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデク−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチル−ヘプタデシル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデク−１’−イル）フェノールおよびこれらの混合物）。
【００２７】
１．２ アルキルチオメチルフェノール、例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシル−チオメチル−４−ノニルフェノール。
【００２８】
１．３ ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば２，６−ジーｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−アニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジベート。
【００２９】
１．４ トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールおよびこれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００３０】
１．５ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２’−チオ−ビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス−（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィック。
【００３１】
１．６ アルキリデンビスフェノール、例えば２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチル−シクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシル−フェノール）、２，２’−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２．２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル−フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチル−エンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−１−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル−メルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス’（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジ−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシル−メルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００３２】
１．７ Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−ベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００３３】
１．８ ヒドロキシベンジル化マロネート、例えばジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００３４】
１．９ 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル）−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゾール、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。
【００３５】
１．１０ トリアジン化合物、例えば２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−アニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチル−メルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリ−アジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００３６】
１．１１ ベンジルホスホネート、例えばジメチル２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルオホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−ベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホニック酸のモノエチルエステルのＣａ塩。
【００３７】
１．１２ アクリルアミノフェノール、４−ヒドロキシラウルアミド、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチル Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００３８】
１．１３ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシ−エチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、β−（３，５−ジ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００３９】
１．１４ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオぺンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビ−シクロ［２．２．２］オクタン）と、β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００４０】
１．１５ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ−エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシ−エチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チア−ペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、β−（３，５−ジクロヘキシル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオン酸とのエステル。
【００４１】
１．１６ 一価または多価アルコール（例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チア−ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチル−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ−［２．２．２］オクタン）と、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸とのエステル。
【００４２】
１．１７ β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）へキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。
【００４３】
１．１８ 置換ベンゾフラノン化合物、例えば５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンおよび５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（２，３−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンの混合物。
【００４４】
２ ＵＶ吸収剤および光安定剤
２．１ ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾ−トリアゾール、２−（３’−５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ−アゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル−２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、および、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ−トリアゾールおよび２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルカルボニルエチル）フェニル−ベンゾトリアゾール）の混合物、２，２’−メチレン−ビス［４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；ポリエチレングリコール３００と２−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニル−エチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］ベンゾトリアゾールのエステル交換生成物、［Ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ（ＣＨ２）３］２（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）。
【００４５】
２．２ ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００４６】
２．３ 置換または非置換安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチルーフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート。
【００４７】
２．４ アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレートまたはイソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメートまたはブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボ−メトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノ−ビニル）−２−メチルインドリン。
【００４８】
２．５ ニッケル化合物、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンなどのさらなる配位子を有するかまたは有しない、１：１または１：２錯体などの２，２’−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、メチルまたはエチルエステルなどのモノアルキルエステルのニッケル塩、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル−ホスホン酸のニッケル塩、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのケトキシムのニッケル錯体、さらなる配位子を有するかまたは有しない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００４９】
２．６ オキザルアミド、例えば４，４’−ジオクチルオキシオキザニリド、２，２’−ジエトキシオキザニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキザニリド、２−エキトシ−２’−エチルオキザニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）−オキザルアミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エチルオキザニリドおよびこの２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキザニリドとの混合物およびこのｏ−およびｐ−メトキシニ置換オキザニリドとの混合物およびこのｏ−およびｐ−エトキシニ置換オキザニリドとの混合物。
【００５０】
２．７ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチル−フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−フェニル）−４，６−ビス（２；４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００５１】
３． 金属奪還剤、例えばＮ，Ｎ’−ジフェニルオキサルアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）−オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニル−ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００５２】
４． ホスファイトおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビスイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチル−フェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト。
【００５３】
５．β−チオジプロピオン酸のエステルを例とする過酸化物スカベンジャー、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジサルファイド、ペンタエリスリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００５４】
６．（ヨウ素化合物および／またはリン酸化合物と組み合わせた銅塩、および二価マンガン塩を例とする）ポリアミド安定剤。
【００５５】
７．メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラシン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、アルカリ金属塩および高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩（例えばＣａステアレート、Ｚｎステアレート、Ｍｇベヘネート、Ｍｇステアレート、Ｎａリシノレート、Ｋパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロカテコレート）を例とする塩基性共安定剤。ラクテート、例えばＣａラクテートのアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩。
【００５６】
８．安息香酸、４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸などの核形成剤；ジフェニル酢酸およびその塩、ホスフェート、ホスホネートおよびホスフィネートおよびそのエステルおよび塩、または（ジベンジリデンソルビトールの誘導体などの）透明化剤。
【００５７】
９．カルシウムカーボネート、シリケート、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、バリウムサルフェート、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイトを例とする充填剤および補強剤。
【００５８】
１０．可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防災剤、帯電防止剤、発泡剤を例とする他の添加剤。
【００５９】
本発明によれば、任意のその他の添加剤を、ＨＡ（Ｌ）Ｓ化合物の添加の前に、一緒にまたは後に、ポリオレフィンに添加することができる。その他の添加剤は、溶液または溶融体において、ならびに固体または液体混合物またはマスターバッチ／濃縮物の形態において添加することができる。
【００６０】
好ましいＵＶ吸収剤は、２−ヒドロキシベンゾフェノン（特に、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジ−メトキシ誘導体）、２−（２’−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール（特に、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、（２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシ−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの）混合物、２，２’−メチレンビス［４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］）；ポリエチレングリコール３００と２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ（ＣＨ２）３］２（式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５‘−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェニル）。
【００６１】
好ましい加工安定剤は、オルガノホスファイトまたはオルガノホスホナイト安定剤であり、最も好ましくはトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）ＰＡＲ２４としてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）またはテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ（登録商標）Ｐ−ＥＰＯとしてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）である。
【００６２】
好ましいフェノールタイプ抗酸化剤は、テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒドロシンナメート（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）Ｏ１０としてＣｌａｒｉａｎｔから入手可能）である。
【００６３】
好ましい酸スカベンジャーは、ステアリン酸金属、最も好ましくはステアリン酸亜鉛、またはステアリン酸カルシウムである。
【００６４】
回避されるべき反り作用は、ポリマーの着色に使用される全ての顔料で認めることができる。しかし、このような作用は、アゾ顔料、キナクリドン、フタロシアニン、インダンスロン、フラバンスロン、ピランスロン、アンスラキノン、ペリレン、ペリノン、ジオキサジン、チオインジゴ顔料、イソインドリン、イソインドリノン、有機金属錯体ならびに無機顔料をベースとする工業的有機顔料の場合、最も厄介である。
【００６５】
これらの有機顔料の包括的記載は、例えば「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、著者Ｗ．ＨｅｒｂｓｔおよびＫ．Ｈｕｎｇｅｒ、改訂第２版、出版社ＶＣＨ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、Ｇｅｒｍａｎｙ（１９９７）と題する書籍において提供されている。
【００６６】
立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと組み合わせて使用される、好ましい有機顔料は、実施例において特定されているものである。
【００６７】
本発明を、次に、実施例によって示す。
【実施例】
【００６８】
試料調製、暴露および結果の評価の一般的記述
ＰＥ−ＨＤを、オルガノホスファイトまたは代わりにオルガノホスホナイト安定剤（トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスファイト（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）ＰＡＲ ２４）、または代わりにテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイト（Ｓａｎｄｏｓｔａｂ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ）など（双方ともＣｌａｒｉａｎｔから入手可能））０．１０％、ステアリン酸金属（ステアリン酸亜鉛またはステアリン酸カルシウムなど）０．０５％、およびフェノール抗酸化剤（テトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒドロシンナメート（Ｈｏｓｔａｎｏｘ（登録商標）Ｏ１０）など、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）０．０５％、を含む標準基準プロセス安定化により安定化する。
【００６９】
最終試験板（ｐｌａｑｕｅｓ）における顔料濃度は、０．１％である。以下の３種の異なる顔料を試験した：
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：３、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０、およびＰｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５。
【００７０】
最終試験板におけるＨＡ（Ｌ）Ｓ濃度は、０．２％である。Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０（Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、Ｆｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６（Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能）、およびＨｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５（Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）など、複数の商業的ＨＡ（Ｌ）Ｓ誘導体を試験した。
【００７１】
Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能、は２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ［５．１．１１．２］ヘンアイコサン−２１−オン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ２０、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能）と、エピクロルヒドリンとの反応生成物である。
【００７２】
Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）８４５、Ｃｌａｒｉａｎｔから入手可能、は２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノールのＣ１６〜１８脂肪酸エステルである。
【００７３】
Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）９４４、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、はポリ［［６−［（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ］−１，３，５−トラジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ］−１，６−ヘキサンジイル−［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）イミノ］］である。
【００７４】
Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ（登録商標）２０２０、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、は１，６，−Ｈｅｘａｎｄｉａｍｉｎ、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−ポリマー、２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、Ｎ−ブチル−１−ブタナミンと、Ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジナミンとの反応生成物である。
【００７５】
Ｆｌａｍｅｓｔａｂ（登録商標）ＮＯＲ（商標）１１６、Ｃｉｂａ ＳＣから入手可能、はＮ，Ｎ’−エタン−１，２−ジイルビス（１，３−プロパンジアミン）、シクロヘキサン、過酸化４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと、２，４，６−トリクロロ−１，３，５トリアジンとの反応生成物である。
【００７６】
ＰＥ−ＨＤ試験板（厚さ１ｍｍ）を熱プレスまたは射出成形によって調製した。
【００７７】
試験板の暴露は、次のどちらかで実施した。ウエザロメーター（ＩＳＯ １１３４１−Ｃによる）：連続光、乾燥状態、放射エネルギー０．４７Ｗ／ｍｍ２、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度５０％、放射フィルター３４０ｎｍ。
【００７８】
ＵＶ−Ａ（ブラックパネル温度６３℃で、ＤＩＮ ５２０８−９１−Ａによる）：連続光、乾燥状態、相対湿度５０％、放射フィルター３４０ｎｍ。
【００７９】
試験板の反りを評価するために、以下の方法を使用した。
【００８０】
全ての初期ＰＥ−ＨＤ試験板（形状大きさ：５０ｍｍ長×５０ｍｍ幅×１ｍｍ厚）は、完全に平らである。人工的暴露によるエージングの後、試験板は、もはや平らではなく変形していることが認められた。１ｍｍ射出成形試験板は、特に正（垂直）方向に反る。試料は、変形によって３次元形状になる。平面において最終的輪郭を投射している試料を測定することによって、例えば、図１に示すように長さは５０ｍｍのままだが、幅は、今は４８．５ｍｍであるということが起こる。
【００８１】
この種の反りの良好な目安は、正方向に生じる高さを測定することによって評価することができる。
【００８２】
３つのパラメータを評価した。
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける長さ移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける幅移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、ｍｍにおける高さ（誤差＝０．５ｍｍ）
３つのパラメータを評価した。
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける長さ移動（誤差＝０．２％）
− 未暴露試験板と比較した、パーセントにおける幅移動（誤差＝０．２％）
− 未暴試験露板と比較した、ｍｍにおける高さ（誤差＝０．５ｍｍ）
【００８３】
（実施例１）
３つの異なる商業的顔料をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｅｌｔｅｘ、製造業者 Ｓｏｌｖａｙ）において試験した。
【００８４】
全てのプレスされた板（厚さ１ｍｍ）をＵＶ−Ａ暴露によって１５００時間暴露した。暴露前には、いずれの配合に対しても反りは、認められない。
【００８５】
暴露の終わりに、高さ、幅、および長さを測定する。対応するデータを表１に示す。
【００８６】
【表１】
【００８７】
全ての３つの着色板は、ＵＶ−Ａ光暴露１５００時間後、同程度に反りを生じ、未着色マトリックスだけが平らのままである。
【００８８】
（実施例２）
実施例１において使用したのと同じ顔料を使用し、他のＰＥ−ＨＤマトリックスにおいて試験した（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ、製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）。
【００８９】
熱プレスによってこれら試験板（厚さ１ｍｍ）を調製した後、ＵＶ−Ａによって１５００時間暴露した。暴露前には、いずれの配合に対しても、反りは、認められなかった。終わりに、高さ、幅、および長さを測定する（参照、表２）。
【００９０】
【表２】
【００９１】
全ての３つの着色ＰＥ−ＨＤ板に対して、反りが認められる。
【００９２】
（実施例３）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ４８：３をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｒｉｇｉｄｅｘ、製造業者 ＢＰ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【００９３】
全ての１ｍｍ射出成形試験板（厚さそれぞれ１ｍｍ）ウエザロメーターにおいて２０００時間暴露した。結果を表３に示す。
【００９４】
【表３】
【００９５】
人工光暴露２０００時間後、反り作用は、複数のＨＡ（Ｌ）Ｓにより防止される。ＨＡ（Ｌ）Ｓなしの着色マトリックスだけ、人工光暴露２０００時間後、反りが生じた。
【００９６】
（実施例４）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ 製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）において、何もなしで、および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【００９７】
熱プレスされた試験板（厚さ１ｍｍ）をウエザロメーターにおいて１２００時間暴露する。結果を表４に示す。
【００９８】
【表４】
【００９９】
人工光暴露１２００時間後、反り作用は、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０を使用して明らかに防止される。
【０１００】
（実施例５）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １８０をＰＥ−ＨＤマトリックス（タイプ Ｈｏｓｔａｌｅｎ、製造業者 Ｂａｓｅｌｌ）において、何もなしで、および立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１０１】
熱プレスされた試験板（厚さ１ｍｍ）を調製した後、ＵＶ−Ａ暴露によって１４５０時間暴露する。結果を表５に示す。
【０１０２】
【表５】
【０１０３】
この実施例において示されるとおり、ＵＶ−Ａ光暴露１４５０時間後、反り作用は、Ｈｏｓｔａｖｉｎ（登録商標）Ｎ３０を使用して防止される。
【０１０４】
（実施例６−９）
以下の実施例において、寸法値は、さらに正確な測定法によって計算されたものである。測定の精度は、例えば０．７６％幅移動で＋／−０．０３％。
【０１０５】
（実施例６）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１５５をＨＤＰＥマトリックス（ＨＯＳＴＡＬＥＮ ＢＡＳＥＬＬから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１０６】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をＵＶ−Ａ暴露によって１２５０時間暴露した。
【０１０７】
【表６】
【０１０８】
再び、反り作用は、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、ＨＡＬＳを使用して防止される。ＨＡＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、反りがみられる。
【０１０９】
（実施例７）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＨＯＳＴＡＬＥＮ ＢＡＳＥＬＬから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１０】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をウエザロメーター暴露において２５００時間暴露した。
【０１１１】
【表７】
【０１１２】
再び、反り作用は、ＷＯＭ暴露において２５００時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＷＯＭ暴露２５００時間後、反りがみられる。
【０１１３】
（実施例８）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＲＩＧＩＤＥＸ ＢＰ Ｃｅｍｉｃａｌｓから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１４】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をＵＶＡ暴露において１２５０時間暴露した。
【０１１５】
【表８】
【０１１６】
再び、反り作用は、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡ
ＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＵＶＡ暴露１２５０時間後、反りがみられる。
【０１１７】
（実施例９）
Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １５５をＨＤＰＥマトリックス（ＲＩＧＩＤＥＸ ＢＰ Ｃｅｍｉｃａｌｓから）において、何もなしで、および異なるタイプの立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓと一緒に試験した。
【０１１８】
２ｍｍ熱プレスされた試験板をウエザロメーター暴露において２５００時間暴露した。
【０１１９】
【表９】
【０１２０】
再び、反り作用は、ＷＯＭ暴露２５００時間後、ＨＡＬＳにより防止される。ＨＡ
ＬＳなしの着色マトリックスだけ、ＷＯＭ暴露２５００時間後、反りがみられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】反りを評価するための方法を示す。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオレフィンポリマーにおいて、少なくとも１種の有機顔料と、少なくとも１種の次式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）
【化１】
［式中、それぞれ独立に、
Ａは、−Ｏ−または−ＮＲ‘−であり、
Ｒ‘は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、または次の基の１つであり、
【化２】
Ｒ‘‘は、ＨまたはＣ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ’’’は、Ｈ、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、または、共通の炭素原子に結合した２個のＲ１は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、またはＣ７〜Ｃ１８−アルキルアリールであり、
Ｒ３は、Ｈ、結合数ｎを有する、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルまたは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ５は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ１８−シクロアルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ５は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
ｎは整数＞０である。］
からなる群から選択された立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）とを合わせるステップを含む、ポリオレフィンポリマーにおける光によって誘発される反り作用を減少させる方法。
【請求項２】
ポリマーの重量に基づいて、１種または複数の有機顔料０．００１重量％から２．０重量％と、立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓ０．００１重量％から２．０重量％を合わせる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ポリオレフィンポリマーが、ポリプロピレン（ＰＰ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＨＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）、ならびに構造的に関連したコポリマーおよびポリマーブレンドから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物と、紫外線吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャーの群から選択された１つまたは複数の添加剤とを合わせるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
紫外線吸収剤が、好ましくは２−ヒドロキシベンゾフェノンおよび２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
加工安定剤が、好ましくはオルガノホスファイトタイプまたはオルガノホスホナイトタイプ安定剤、最も好ましくはトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスファイトまたはテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイトから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項７】
フェノールタイプ抗酸化剤が、好ましくはテトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒロドシンナメートおよびオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシシンナメートである群から選択される請求項４に記載の方法。
【請求項８】
酸スカベンジャーが、好ましくはステアリン酸金属、最も好ましくはステアリン酸亜鉛またはステアリン酸カルシウムから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項９】
さらなる添加剤のそれぞれが、独立に、０．０２から０．２重量％、好ましくは０．０５から０．１重量％の量で存在する請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１種の有機顔料と、請求項１から９に記載の方法によって得られる少なくとも１種の立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）との組合せを含むポリオレフィンポリマー物品。
【請求項１】
ポリオレフィンポリマーにおいて、少なくとも１種の有機顔料と、少なくとも１種の次式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）
【化１】
［式中、それぞれ独立に、
Ａは、−Ｏ−または−ＮＲ‘−であり、
Ｒ‘は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、または次の基の１つであり、
【化２】
Ｒ‘‘は、ＨまたはＣ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ’’’は、Ｈ、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、または、共通の炭素原子に結合した２個のＲ１は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、またはＣ７〜Ｃ１８−アルキルアリールであり、
Ｒ３は、Ｈ、結合数ｎを有する、脂肪族、脂環式、芳香族またはヘテロ芳香族残基であり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルまたは−Ｃ（Ｏ）−Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであり、
Ｒ５は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ４〜Ｃ１８−シクロアルキルであり、または共通の炭素原子に結合した２個のＲ５は、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル残基を表し、
ｎは整数＞０である。］
からなる群から選択された立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）とを合わせるステップを含む、ポリオレフィンポリマーにおける光によって誘発される反り作用を減少させる方法。
【請求項２】
ポリマーの重量に基づいて、１種または複数の有機顔料０．００１重量％から２．０重量％と、立体障害のあるピペリジン誘導体ＨＡ（Ｌ）Ｓ０．００１重量％から２．０重量％を合わせる請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ポリオレフィンポリマーが、ポリプロピレン（ＰＰ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高モル質量のポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＨＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）、ならびに構造的に関連したコポリマーおよびポリマーブレンドから選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の組成物と、紫外線吸収剤、加工安定剤、フェノールタイプ抗酸化剤および酸スカベンジャーの群から選択された１つまたは複数の添加剤とを合わせるステップをさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
紫外線吸収剤が、好ましくは２−ヒドロキシベンゾフェノンおよび２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項６】
加工安定剤が、好ましくはオルガノホスファイトタイプまたはオルガノホスホナイトタイプ安定剤、最も好ましくはトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）ホスファイトまたはテトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェニル）−ビフェニレン−ジホスホナイトから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項７】
フェノールタイプ抗酸化剤が、好ましくはテトラキスメチレン（３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−ヒロドシンナメートおよびオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−４−ヒドロキシシンナメートである群から選択される請求項４に記載の方法。
【請求項８】
酸スカベンジャーが、好ましくはステアリン酸金属、最も好ましくはステアリン酸亜鉛またはステアリン酸カルシウムから選択される請求項４に記載の方法。
【請求項９】
さらなる添加剤のそれぞれが、独立に、０．０２から０．２重量％、好ましくは０．０５から０．１重量％の量で存在する請求項４に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも１種の有機顔料と、請求項１から９に記載の方法によって得られる少なくとも１種の立体障害のあるピペリジン誘導体（ＨＡ（Ｌ）Ｓ）との組合せを含むポリオレフィンポリマー物品。
【図１】
【公表番号】特表２００６−５２１４４４（Ｐ２００６−５２１４４４Ａ）
【公表日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５０６４３４（Ｐ２００６−５０６４３４）
【出願日】平成１６年３月２２日（２００４．３．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／００１０２１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０８５５３１
【国際公開日】平成１６年１０月７日（２００４．１０．７）
【出願人】（５９６０８１００５）クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド (27)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年９月２１日（２００６．９．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年３月２２日（２００４．３．２２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＩＢ２００４／００１０２１
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０８５５３１
【国際公開日】平成１６年１０月７日（２００４．１０．７）
【出願人】（５９６０８１００５）クラリアント・インターナシヨナル・リミテツド (27)
【Ｆターム（参考）】
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