説明

硬質皮膜

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の密着性、靭性や耐高温酸化性を犠牲にすること無く、特に硬質皮膜の耐溶着性と潤滑性を改善することである。
【解決手段】本発明の硬質皮膜は4a、5a、6a族、Al、B、Siから選択される1種以上の金属元素と、Oを含みC、Nから選択される1種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はO含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、少なくとも該層間の境界領域では結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みT(nm)が0.1≦T≦100、であることを特徴とする硬質皮膜である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本願発明は、優れた耐溶着性と潤滑性を有する硬質皮膜に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献1は、化合物層と組成変調層とが周期的に積層され、層間で結晶格子が連続している耐摩耗性硬質皮膜に関する技術を開示している。
【0003】
【特許文献1】特開平8−127863号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本願発明の目的は、硬質皮膜の密着性、靭性や耐高温酸化性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の耐溶着性と潤滑性を改善することである。例えば切削加工などにおける乾式化、高速化、高送り化に対応可能な硬質皮膜を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本願発明の硬質皮膜は4a、5a、6a族、Al、B、Siから選択される1種以上の金属元素と、Oを含みC、Nから選択される1種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はO含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、少なくとも該層間の境界領域では結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みT(nm)が0.1≦T≦100、であることを特徴とする硬質皮膜である。本構成である硬質皮膜にOを含有することによって、極めて優れた耐溶着性と潤滑性を有する。この際に、硬質皮膜の密着性、靭性や耐高温酸化性を犠牲にすること無く、特性の改善した硬質皮膜を提供することできる。また、本願発明の硬質皮膜は金属元素とOとの結合(以下、金属−O結合と記す。)を有することが好ましい。更に、硬質皮膜の表面は機械加工により平滑化されていることが好ましい。
【発明の効果】
【0006】
本願発明の硬質皮膜は、優れた耐溶着性と潤滑性を有する。更に硬質皮膜の密着性、靭性や耐高温酸化性を犠牲にすることが無く、特性の改善した硬質皮膜を提供することできる。本願発明の硬質皮膜を、例えば切削工具等に適用した場合、乾式高能率切削加工をはじめ、金型加工時の強断続切削環境下においても優れた安定性と、長い工具寿命が得られ、切削加工における生産性の向上に極めて有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
(1)皮膜の組成
本願発明の硬質皮膜の組成は、周期律表の4a、5a、6a族、Al、B、Siから選択される1種以上の金属元素と、Oを含みC、Nから選択される1種以上の非金属元素を有する。本願発明の硬質皮膜がOを含有することにより、金属−O結合の状態が形成される。この事は例えば切削工具に適用した場合、切削時の発熱により形成した酸化物が、被削材に含まれるFe元素の硬質皮膜への拡散を抑制する。その結果、工具の切れ刃における溶着が抑制され、耐溶着性が改善される。O含有量は、非金属元素のみの原子%で、0.1〜15%である場合、潤滑性の効果にとって好ましい。O含有量が15%を超えると、硬質皮膜の破断面組織が柱状組織から微細粒状組織に変化する。微細粒状組織になると、硬度が低下し十分な機械的強度が得られない為、すき取り摩耗が発生しやすくなる。0.1%未満では、硬質皮膜の潤滑性の効果が得られない。更に多層構造における各層のO含有量の差は10%以下が望ましい。本願発明の硬質皮膜がO元素を含有することによって、酸化物が潤滑性を著しく改善させるために、硬質皮膜は、金属−O結合を有している状態が好ましい。
一方、本願発明の硬質皮膜がBを含有することにより硬質皮膜の硬度及び潤滑性を高める効果があり好ましい。例えばBを含有する硬質皮膜を切削工具へ被覆すると工具寿命が長くなる。硬度の向上はc−BN相により、また潤滑性の向上はh−BN相による。BとNの比率を最適化することにより、硬度と潤滑性を同時に高めることができる。c−BN相とh−BN相の比率は成膜時に印加するバイアス電圧により制御可能である。
また、本願発明の硬質皮膜の金属組成にAlを含有すると、表層にAl2O3が形成され、硬質皮膜の静的な耐熱性は向上する。しかし、切削加工では被削材中のFeなどが硬質皮膜に拡散する。従って、Al含有量は、金属元素のみの原子%で、50%以下であるのが好ましい。より好ましいAl含有量は、40%から20%である。20%未満の場合、硬質皮膜の耐摩耗性及び耐酸化性が劣ることがある。
硬質皮膜の組成において、金属元素の合計量をm、非金属元素の合計量nとしたとき、原子比(n/m)は1.0超であるのが好ましく、1.02以上であるのがより好ましい。またn/mの上限は1.7であるのが好ましい。
【0008】
(2)皮膜の構造、特性
硬質皮膜の断面を透過電子顕微鏡(以下、TEMと記す。)で観察すると、本願発明の硬質皮膜の断面組織は明暗を示す複数の層を有することが分かる。これらの層は、O含有量が相対的に多い層(以下、A層と記す。)と、O含有量が相対的に少ない層(以下、B層と記す。)とからなり、A層及びB層は交互に界面なく積層している。TEMに付設されたエネルギー分散型X線分光(以下、EDXと記す。)分析による組成分析の結果、A層におけるO含有量の平均値、B層におけるO含有量の平均値との差は15%以下、より好ましくは0.2〜10%の範囲内である。O含有量の差が0.2〜10%の範囲内にあると、硬質皮膜は高い靭性を有する。A層及びB層にO含有量の差を設けることにより、優れた潤滑性を維持しながら靭性を向上させ、残留圧縮応力を抑制した硬質皮膜が得られる。
本願発明の硬質皮膜は柱状組織を有し、柱状結晶粒は明確な界面を有する事無しにO含有量に差がある複数の層を有し、層間の境界領域では結晶格子縞が連続している。柱状組織は膜厚方向に縦長に成長した結晶組織である。硬質皮膜は多結晶であるが、各結晶粒は単結晶に類似した形態である。しかも柱状結晶粒は成長方向にO含有量に差がある複数の層を有する多層構造を有し、層間の境界領域で結晶格子縞が連続している。ここで、結晶格子縞の連続性は全ての層間境界領域にある必要はなく、TEMで観察した時に実質的に結晶格子縞が連続している層間境界領域があれば良い。柱状結晶粒がO含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有することにより、硬質皮膜は全体として靭性を有する。
硬質皮膜の各層の厚さTは0.1〜100nmである。Tが100nmを超えると、層間の境界領域に歪が発生し、結晶粒中の格子縞が不連続となり、硬質皮膜の機械的強度が低下する。例えば硬質皮膜を切削工具に形成した場合、切削初期において切削衝撃により硬質皮膜に層状破壊が発生する。層間の境界領域における歪の発生の回避は、硬質皮膜と基体との密着性の改善に有効である。一方、Tの下限値は、X線回折装置やTEMにより層構造を確認できる最小厚さである0.1nmとした。また0.1nm未満の積層周期で多層硬質皮膜を形成すると、皮膜特性にばらつきが生じる。
本願発明の硬質皮膜は金属−O結合を有するのが好ましい。特に表面における金属−O結合の存在により、硬質皮膜は優れた耐溶着性を発揮する。例えば被覆切削工具に適用した場合、切削初期における激しい溶着を抑制することができる。金属−O結合は、X線光電子分光法(以下、XPSと記す。)により確認できる。例えば、Si−O結合は、100〜105eVの範囲にピークが存在する。他に、Al−O結合は70〜77eVの範囲に、Ti−O結合は455〜465eVの範囲に、Nb−O結合は202〜212eVの範囲に夫々ピークが存在する。XPSによる評価は、AlKαのX線源及び直径100μmの分析領域とし、電子中和銃を使用して行った。
【0009】
(3)皮膜の製造方法
本願発明の多層硬質皮膜を製造するにはプラズマ密度の異なる物理蒸着法を用いることが有効である。具体的には、界面の無い結晶粒を連続的に成長させるために、プラズマ化した反応ガス中でプラズマ密度の高いアーク放電式イオンプレーティング(以下、AIPと記す。)法とプラズマ密度の低いマグネトロンスパッタリング(以下、MSと記す。)法を同時に行う。これにより、硬質皮膜内の結晶粒自体が大きな機械的強度を有する。これに対して、AIP法とMS法を逐次的又は間欠的に行うと、硬質皮膜の層間にはっきりした界面が生じ、そこで硬質皮膜の強度が低くなる。
AIP法は発生するプラズマ密度が非常に高いため、プラズマ中に発生したイオンが基体に入射する際のエネルギーが大きく、良質な硬質皮膜が形成されるものの、残留圧縮応力の抑制が困難である。また多層構造からなる硬質皮膜の各層間に特定元素の含有量差を付与するのが困難である。従って、AIP法とMS法とを組み合わせることにより、高硬度の硬質皮膜に優れた耐溶着性、潤滑性を付与することができるため好ましい形態である。
具体的には、AIPターゲット及びMSターゲットと、AIP法及びMS法の両方に適する反応ガスとを有する真空装置を用いるのが好ましい。真空処理室内に、少なくともAIP法とMS法が可能な蒸発源が1対以上設置され、同時に放電することができる仕様になっている。但し、AIP法の蒸発源とMS法の蒸発源が必ずしも対になる必要はなく、同一な真空処理室内に両方式の蒸発源が1つ以上設置されており、同時放電が可能であればよい。硬質皮膜に含有させるO元素は、反応ガスから供給される。供給形態はN2との混合ガスによる場合や、O単独添加の場合があるが、Nとの混合ガスを使用した方が好ましい。この理由は、Oを単独で真空装置に導入した場合、他の導入ガスとのバランスを調整することが難しいためである。更に量産性を考慮すると、N:Oは8:2程度で作成することが望ましい。各ターゲットの組成自体は限定的でない。しかし、MS法のターゲット材は、Siを含有する系を用いることが望ましい。これより、Siを含有する反応がスを使用するプラズマ支援型化学蒸着法の環境上、安全性の問題もなく硬質皮膜にSiを含有させることができる。
本願発明の多層構造を得るためには、使用するターゲット種にも拠るが、アーク電流を100から150Aの範囲、MS法での放電出力を4.5kW以下に設定することが好ましい。潤滑性を考慮した場合、被加工物と接触する硬質皮膜はASTMに記されている酸化物の被覆が耐熱、耐溶着の観点から望ましいが、物理蒸着のように電気的な被覆になると絶縁や酸化雰囲気での処理による基体そのものの酸化などが大きな課題となり、大量生産に対しては現実的でない。本願発明は、窒化物などが主体の硬質皮膜に、絶縁などの問題が起きない範囲でO元素を添加し、構成金属元素とOの化学結合状態をAIP法とMS方式とを同時に放電させることで作り出し、潤滑性を著しく向上させる、従来にない手法によるものである。
本願発明は、硬質皮膜を構成する金属元素全てと金属−O結合が得られないと効果が得られない。特に、近年の耐熱特性を向上させる手段として添加されるW、Nb、Ta、Crなどは高耐熱特性を有するため、物理蒸着装置内に容易にOを導入しただけでは金属―Oの結合は得られないのである。Oを添加した場合、例えば(TiAlSi)Nは、酸化物生成エネルギーの差から、Si−Oを得ることは容易であるが、Al−OやTi−Oを得るためには、Si含有量を極力少なくしなければならない。また、(TiAlNb)Nの場合は、Al−Oは容易に得られるもののNb−Oを得ることが難しい。本願発明は、成膜温度を600℃に保持し、AIP法とMS法を同時に放電させることで、硬質皮膜を形成する全ての金属元素と金属−O結合が得られるようになった。
金属−O結合は、MS放電時によって形成される層主体に取り込まれる。本願発明の被覆方式を適用したとき、つまり、放電時にプラズマ密度差が発生させられるような被覆方式を適用した場合に達成できる。本手法により形成される硬質皮膜は全体に均一な酸化物を含有させることで、硬質膜の潤滑特性を著しく向上させた。更に酸化物の存在による硬度低下を犠牲にすること無く、密着性、靭性、耐高温酸化性も維持し、更に改善の方向に向けることが可能となった。O元素の添加は、AIP法単独、MS法単独でも可能であり、ある程度の潤滑特性を得ることは可能である。しかし、衝撃のある使用環境下においては、硬質皮膜の靭性を向上させる効果はない。また、AIP法単独、MS法単独の適用でO元素を添加した場合、硬質皮膜が軟質化しやすく、耐摩耗特性を低下させることを確認した。本願発明のO元素を添加した硬質皮膜は、AIP法とMS法を同時に放電させて得られる硬質皮膜でのみ有効性が確認され、優れた特性を発揮する。本願発明のAIP法とMS法を同時に使用した場合、MS蒸発源から発生するプラズマを小さくすること、即ち放電出力を4.5kW以下に設定するとによって、添加したO元素は硬質皮膜を構成する全ての金属元素と金属−O結合の状態をつくる。4.5kWを超えた放電出力に設定すると、プラズマ密度が大きくなり、導入されるガス元素であるN、Oとの反応が促進される。そのため、硬質皮膜にOを多く取り込んでしまい、その結果、硬質皮膜が軟質化する現象や、断面組織が微細化し、せん断方向への機械的強度が低下してしまう。本願発明の手法を実施するためには、物理蒸着が可能な真空処理室をもつ装置が必要であるが、設備・環境・コスト面を考慮すると、処理室内に、少なくともAIP法とMS法が稼動可能な蒸発源を好ましくは1対以上設置され、同時に放電することで達成できる。
AIPターゲットは単一の合金ターゲットでも、組成の異なる複数の金属又は合金のターゲットでも良い。反応ガスがプラズマ化した状態で、基体を両ターゲットに交互に接近させながらAIP法及びMS法を同時に行うと、価数の異なるイオンが同時に基体に到達する。基体がプラズマ密度の高いAIP法の蒸発源に接近すると、硬質層が形成され、次いでプラズマ密度の低いMS法の蒸発源に接近すると軟質層が形成される。該硬質層は、比較的硬質な結晶質相を多く含み、一方該軟質層は、比較的硬質な結晶質相よりも比較的軟質な結晶質相を多く含んでいる。これにより皮膜全体に歪が発生し内部応力によって皮膜は高硬度化する。このとき、硬質層と軟質層との間では明瞭な界面はない。また界面領域での組成は傾斜を有して漸次変化する。このように、組成が漸次変化する領域を介して軟質層が硬質層にサンドイッチされるので、クッション効果により硬質皮膜全体は高硬度を保ちながら、靭性及び耐衝撃性を高いレベルに維持する。
また、AIP法とMS法とを同時に放電させることで、多層構造を有する硬質皮膜における結晶粒の組織は、分断されることなく連続的に結晶粒を成長させ、同一結晶粒に多層構造を存在させることが可能である。その結果、硬質皮膜の靭性など、機械的強度を向上させること可能である。この理由は、異なる組成の皮膜を積層させたときでも明確な積層界面を持たないため、積層界面からの剥離や破壊が発生し難くなるからである。更に、AIP法とMS法とを同時に放電させることで、AIP法ではプラズマ発生が困難であった高融点材料や高潤滑材料を硬質皮膜膜に添加することが可能である。AIP法及びMS法を同時に行うとき、高密度プラズマが発生するAIP蒸着源と低密度プラズマが発生するMS蒸着源とからなる各蒸着源と、被覆基体との配置は、被覆基体が各プラズマ内を交互に通過して皮膜が積層される様に配置することが好ましい。例えば、AIP蒸着源にTiSi材、MS蒸着源にSi材を用い、窒素雰囲気中で同時に放電させて両者による被覆を交互に行い、(TiSi)Nを成膜させると靭性が向上する。
プラズマ密度の異なるAIP法とMS法とを同時に放電させる時に、必要な反応ガス圧力の設定は最適化を行うことが望ましい。AIP法は、比較的高い反応ガス圧力が用いられており、1Pa程度から8Pa程度の範囲が安定して被覆できる。一方、MS法はプラズマ密度が低いため、成膜速度を高めるために0.5Paにも満たない反応ガス圧力で実施される。そこで、AIP法とMS法とが同時にプラズマを形成させることが可能であり、かつ形成された硬質皮膜の物性である高硬度、靭性を維持、向上させることが可能な反応ガス圧力の条件を検討した。その結果、反応ガス圧力P1(Pa)を0.5≦P1≦8.0とした場合、特性を満足する硬質皮膜が得られた。0.5Pa未満では、AIP法における放電が困難であった。またAIP法ではマクロパーティクルの発生を抑制することが重要である。その抑制対策としてターゲット周辺に磁場領域を作用させるが、それでも0.5Pa未満の条件下ではマクロパーティクルが多く発生する。このマクロパーティクルは硬質膜内部の欠陥を多くするため好ましくない。一方、8.0Paを超えるとMS法における放電が困難となり、均一なプラズマを発生させることが難しい。その結果、硬質皮膜の靭性が劣るため好ましくない。
成膜条件についてAIP法の電流値は100から150Aの範囲に設定することが好ましい。MS法の放電出力は6.5kW以下に設定することが好ましい。柱状組織を有する多層硬質皮膜の各層の厚さTを100nm以下に制御するとともに、各結晶粒中で格子縞を連続させるために好適である。これにより、強固な密着性を確保し、高硬度で高靭性を有する硬質皮膜を形成させることが可能である。
【0010】
切削工具に本願発明の硬質皮膜を形成すると、優れた耐溶着性と潤滑性を有するために、被削材の溶着を回避する効果が得られる。更に該硬質皮膜は強固な密着性及び耐摩耗性も有し、切れ刃部が高温となる乾式切削加工での被削材元素の溶着及び拡散を抑制することができる。該硬質皮膜を被覆した切削工具は、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する。高送りの切削は、例えば1刃当たりの送り量が0.3mm/刃を超える切削を意味する。本願発明の硬質皮膜の表面を機械加工により平滑化することにより、耐摩擦性が安定化し、工具の切削寿命のばらつきが低減する効果を有する。
基体表面にTiの窒化物、炭窒化物又は硼窒化物、TiAl合金、Cr、W等からなる中間層を設けると、基体と硬質皮膜との密着力が増大し、硬質皮膜の耐剥離性及び耐欠損性が向上する。本願発明の硬質皮膜を被覆した切削工具は、乾式切削加工に好適であるが、湿式切削加工にも使用できる。いずれの場合も、中間層の存在により繰り返し疲労による硬質皮膜の破壊を防止することができる。
本願発明の硬質皮膜を形成する切削工具の材質は限定的ではない。超硬合金、高速度鋼、ダイス鋼等、いずれでも良い。本願発明の硬質皮膜は切削工具の他、金型、軸受け、ロール、ピストンリング、摺動部材等、高硬度が要求される耐摩耗部材や内燃機関部品等の耐熱部材にも形成することができる。本願発明を以下の実施例により更に詳細に説明するが、本願発明はそれらに限定されるものではない。
【実施例】
【0011】
本願発明の硬質皮膜の被覆には、小型真空装置内にAIP方式の蒸発源とMS方式の蒸発源とを併設した装置を用いて、基体となる超硬合金製インサートに被覆を行った。各蒸発源は各種合金製ターゲットを用い、反応ガスはNガス、CHガス、Ar/O混合ガスから目的の皮膜が得られるものを選択し、両成膜法が真空装置内で同時にプラズマを発生させることが可能な反応圧力を選定した。他の被覆条件は、基体温度450℃、バイアス電圧は、−40Vから−150Vの範囲の電圧を印加した。被覆工程においては、同時放電を行う前にAIP法による成膜を行い、密着性を確保した後にAIP法とMS法との同時放電を行うことが望ましい。得られた硬質皮膜被覆インサートを用い、以下に示す切削条件にて切削試験を行った。切削試験で用いた被削材は、表面に予めドリルにて等間隔に穴をあけたものを使用した。この被削材表面を高能率加工条件にて切削を行う事により断続加工を想定し、インサートが衝撃を受けて欠損に至るまでの切削可能長を評価した。
(切削条件)
工具:正面フライス
インサート形状:SDE53タイプ特殊形状
切削方法:センターカット方式
被削材形状:巾100mm×長さ250mm
被削材:SCM440、硬さHB280、表面にはΦ10ドリル穴多数有り
切り込み量:2.0mm
切削速度:180m/min
1刃送り量:1.5mm/刃
切削油:なし、乾式切削
評価方法は、インサート刃先に強い衝撃を加えることができる断続環境下での評価を行い、インサート刃先部に欠損が発生するか、又は硬質皮膜の摩耗等により工具が切削不能となるまで加工を行い、その時の切削可能距離を工具寿命とした。表1、表2に本願発明例、比較例及び従来例に関する硬質皮膜の詳細及び切削試験の結果を示す。
【0012】
【表1】

【0013】
【表2】

【0014】
表2には本発明例1から14、比較例15から28、ならびに従来例29から33の評価結果を示す。本発明例1から14に示した様に、硬質皮膜表面付近の硬質皮膜を構成する金属−O結合の有無により、切削性能が大きく異なった。また、2種以上の物理蒸発源を用いてO元素を硬質皮膜中に添加させたときのO含有量の多少により、切削性能差が明瞭に現われる結果となった。特に、本発明例9に示した様に、O元素が添加され、更にNbSiによってSi元素も添加された硬質皮膜は、今回の評価の中で最も良い結果を示した。本発明例9の被覆は600℃で処理を行った。本発明例9について詳細に硬質皮膜を調査した結果、図1から図4に示すようにXPS分析において100〜105eVの範囲にSi−O結合、70〜77eVの範囲にAl−O結合、455eV〜465eVの範囲にTi−O結合、202〜212eVの範囲でNb−O結合が確認された。これら硬質皮膜を構成する金属−O結合の存在により、切削加工初期の激しい溶着が抑制された。本発明例9の硬質皮膜表面付近には、潤滑特性の優れる緻密な酸化物の存在し、溶着が激しく発生する金属の加工において、著しい効果を発揮したのである。また添加されたO量は4.8原子%であり、本発明の適正O添加量の範囲であった。
更に、硬質皮膜の破断面組織を、走査電子顕微鏡(以下、SEMと記す。)により倍率15000倍で観察した。その結果を図5に示す。図5より、硬質皮膜の破断面組織は柱状組織形態であった。このような組成及び構造を有する硬質皮膜被覆インサートは、高送り加工などの衝撃の激しい切削加工において、せん断方向に対する機械的強度も得られた。更に詳細な調査を行った。図6は、破断面組織をTEMにより倍率2万倍で観察した結果である。硬質皮膜の柱状組織を有する各結晶粒は多層構造を有していた。図7は、図6の結晶粒をTEMにより倍率20万倍で拡大観察を行った結果である。結晶粒は明暗が異なる黒色層と灰色層とが交互に複数の積層した多層構造を有していた。各結晶粒は基体表面に対して垂直方向となる様に、ほぼ同一方向に成長したものであることが今回の観察により確認された。図7に示す縞模様から、各層の厚さは約3〜4nmであることが分かる。なお図6と図7では倍率が異なるので、両者における縞模様の数は一致しない。図8は、図7の視野内の部分を更に拡大観察し、倍率200万倍で多層部における各層の格子縞の連続性を確認した結果である。図8の観察領域は図7で見られた黒色層及び灰色層の位置を確認しながら拡大したものであり、図8中の黒色層及び灰色層はそれぞれ図7中のものに対応する。図8に描いた2本の線は夫々黒色層及び灰色層に対応する領域を別ける。図9は図8の写真に相当する模式図である。ただし、格子縞の間隔は説明の明瞭化のために拡大してある。図8から、多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続していることが分かる。結晶格子縞の連続性は全ての境界領域で成立する必要はなく、TEM写真中に格子縞の連続性が認められる領域があれば良い。図8の左側に黒色領域があるが、これは図7に示す黒色層と関係ない。図9中の丸で囲まれた領域の電子回折像を図10に示し、図10の模式図を図11に示す。図10及び11から明らかなように、星印で示す黒色層の電子回折像と丸印で示す灰色層の電子回折像とがほぼ一致しているので、黒色層と灰色層の境界領域ではエピタキシャルな関係により格子縞が連続している。このように多層構造を有する柱状結晶粒は単結晶のような形態をしていることが分かる。本発明例9の多層柱状結晶粒における黒色層及び灰色層の組成として、図8中の点P(黒色層)及び点Q(灰色層)の組成をTEMに付設されたEDXにより分析した。表3は黒色層及び灰色層の組成を示す。
【0015】
【表3】

【0016】
分析の結果から、添加したO含有量の差が確認された。O含有量が原子%で15%を超えると、結晶組織が微細化するため、組成差は最大でも15%以内に制御しなければならない。本発明例9は、放電させるNbSiの放電出力を4.5kWに設定したため、含有量の差は5.2%であった。
図12は、本発明例6、9、従来例29、31の摩擦係数の測定結果を示す。測定にはボールオンディスク方式を用いた摩擦摩耗試験機を用い、大気中600℃の高温環境下で行った。測定結果より、硬質皮膜中にOを添加することにより、潤滑特性が大幅に向上することが確認された。Oを含有する本発明例6は、比較例20に対して3倍の切削性能が得られた。本発明のO添加を適用することにより、(TiAl)Nを基本組成とする皮膜も摩擦係数は大きく低減した。
【0017】
本発明例9は、上記の切削条件とは別に金型加工で見られる様な固定穴加工等、断続となる部位の加工も行った。ここでも、硬質皮膜の靭性の向上により、激しい衝撃に対しても欠損することなく、安定した切削が行うことができた。本発明の硬質皮膜をドリル、エンドミル、パンチ、ダイスなど適用し、断続環境下での適用についても効果を発揮した。
【0018】
表2の比較例15から28について述べる。比較例17、23、26、27以外はO含有量が多く、比較例19、20、24、25、28は30%以上であった。特に、比較例20は金属−O結合を有し、多層構造における1層の厚みが適正範囲内であったが、添加されたO含有量が34%と多量に添加されていた。皮膜破断面の組織を確認した結果、図13に示すようなアモルファス状の微細組織になっていた。硬質皮膜硬度は、軟質化傾向にあった。O含有量を適正に制御しなければ過酷な使用状況下に耐えるだけの機械的強度が得られなくなるのである。比較例17は、金属−O結合が確認され、O含有量が9.1%と適正範囲であった。しかし、AIP方式とMS方式を同時に放電させて得られた硬質皮膜が有する多層構造の1層の厚みが134.5nmを超えてしまっていた。そのため、切削試験結果は早期摩耗により短寿命であった。この理由は、成膜時の条件であるMS法によるCrSi2ターゲットの放電出力が4.6kWであったために、MS方式が主体となる層が微細化し、硬質皮膜全体の断面組織を分断するようになり、これが多層構造中の各層の格子に歪を発生させて格子が不連続となったためである。比較例23は、金属−O結合が確認されず、硬質皮膜のO含有量が7原子%と適正範囲であった。成膜時の処理温度は400℃にして行った。使用する反応ガスは窒素中に酸素を10%添加して使用した。その結果、スパッタリングとの同時放電によって得られる多層構造の1層の厚みは30.6nmであった。評価においては、途中から被加工物の凝着が始まり早期寿命に至った。これは、比較的低温での処理を行ったため、硬質皮膜内に取り込まれるO元素が硬質皮膜構成金属元素のNbとの結合に至らなかったためである。そのため、AIP方式とMS方式を同時放電させることによる高硬度化・高靭性化現象の効果で、ある程度の距離は加工できたものの、硬質皮膜の潤滑特性が影響する切削初期に発生する溶着の抑制には不十分であった。これは、比較例16も同様の傾向であった。比較例21、22は、XPSなどの分析装置を使用しても金属−O結合の状態を確認することが不可能であった。多層構造における1層の厚みは確認限界に近い、0.2、0.8nmであった。そのため、切削初期の溶着が激しく発生した。特に比較例22では火花が発生し、評価を中止した。この理由は、成膜で使用したWSi、NbSiの放電出力が0.5kWであったためにOの添加量や化学状態、積層の1層の厚が小さいためである。
【0019】
従来例32は、容易に剥離が発生し、その後も継続使用すると、Al2O3剥離部から被加工物の凝着が発生し、寿命に到達してしまった。この理由は、硬質皮膜の最外層にAl2O3を被覆しても、Al2O3とその直下の硬質皮膜との密着性が改善されていないためである。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】図1は、本発明例9のXPS分析結果を示す。
【図2】図2は、本発明例9のXPS分析結果を示す。
【図3】図3は、本発明例9のXPS分析結果を示す。
【図4】図4は、本発明例9のXPS分析結果を示す。
【図5】図5は、本発明例9の硬質皮膜の断面組織を示す。
【図6】図6は、本発明例9の硬質皮膜の透過型電子顕微鏡観察結果を示す。
【図7】図7は、図6の拡大した観察結果を示す。
【図8】図8は、図7の拡大した観察結果を示す。
【図9】図9は、図8の模式図を示す。
【図10】図10は、本発明例9の電子回折結果を示す。
【図11】図11は、図10の模式図を示す。
【図12】図12は、摩擦係数の測定結果を示す。
【図13】図13は、比較例20の硬質皮膜の断面組織を示す。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
硬質皮膜は4a、5a、6a族、Al、B、Siから選択される1種以上の金属元素と、Oを含みC、Nから選択される1種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はO含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、少なくとも該層間の境界領域では結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みT(nm)が0.1≦T≦100、であることを特徴とする硬質皮膜。
【請求項2】
請求項1に記載の硬質皮膜において、該硬質皮膜は該金属元素とOとの結合を有することを特徴とした硬質皮膜。
【請求項3】
請求項1、2のいずれかに記載の硬質皮膜において、該硬質皮膜の表面が機械加工により平滑化されていることを特徴とする硬質皮膜。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図9】
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【図11】
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【図12】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図10】
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【図13】
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【公開番号】特開2007−46103(P2007−46103A)
【公開日】平成19年2月22日(2007.2.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−231446(P2005−231446)
【出願日】平成17年8月10日(2005.8.10)
【出願人】(000233066)日立ツール株式会社 (299)
【Fターム(参考)】