粘着シート
【課題】生産性の高い方法で剥離剤層表面に凹凸形状を施して得られたセパレータを粘着剤層面に貼着した粘着シートであって、該セパレータを剥離することによる静電気の発生を抑制する剥離帯電防止性を継続的に発揮することができる粘着シートを提供する。
【解決手段】イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴２を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シート。
【解決手段】イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴２を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離剤層表面に凹凸形状（凹凸構造）を有するセパレータを粘着剤層面に貼着した粘着シートであって、該セパレータを剥離することによる静電気の発生を抑制することができる粘着シートに関する。本発明の粘着シートは、静電気が発生しやすいプラスチック製製品、静電気を嫌う電子機器、静電気により埃等が付着することを嫌う場面等において好適に使用される。
【背景技術】
【０００２】
粘着シートは、常温で短時間、わずかな圧力を加えるだけで接着することができるため、各種物品の接合において様々な用途で用いられている。例えば、光学用途において液晶ディスプレイのパネルは液晶セルに粘着剤を介して偏光板や波長板等の光学部材を貼り合せることにより形成されている。さらにまた、粘着シートは適度に接着する反面、硬い平滑面から再剥離することもでき、表面保護フィルムとしても利用されている。より具体的な使用態様としては、機能性フィルム、導電性フィルム、表面保護フィルム、支持体の両面に粘着剤を塗布した両面粘着シート、支持体を持たない基材レスの両面粘着シート等粘着加工した粘着加工品形態等が挙げられる。
【０００３】
そして、これらの多くの場合、粘着剤層を保護する目的でセパレータ等が用いられている。セパレータは、紙、プラスチックフィルム、プラスチックラミネート紙等の基材の少なくとも片面に、シリコーン等の剥離剤を塗布し、乾燥及び／又は硬化させて剥離剤層を設けたものであり、粘着シート、粘着テープ、ラベル等の粘着剤層表面を保護するために該粘着剤層表面に貼着して用いられ、光学部材等の被着体に貼り合わせる際に剥離して除去される。
【０００４】
一般に、セパレータや光学部材はプラスチック材料で構成されているため電気絶縁性が高く、摩擦や剥離により静電気を発生しやすい。そして、セパレータを偏光板等の光学部材や粘着シート、表面保護フィルムから剥離することにより静電気（剥離帯電）が発生し、静電気が残ったままの状態で液晶に電圧を印加すると、液晶分子の配向が損失したりパネルの欠損が生じてしまうといった問題、ならびに、かかる静電気により粘着面にゴミや埃が付着し、光学部材を汚染してしまうといった問題が生じたりする。そこで、このような不具合を防止するために各種帯電防止処理が施されている。しかしながら、従来の帯電防止処理では、帯電防止効果が経時的に低下するなどの問題があった。
【０００５】
一方、剥離剤層表面に微細凹凸形状を有するセパレータとしては、粘着シート（例えば、粘着シート、ラベル等のシート状やテープ状の形態としたもの）を貼り付ける際に被着体との間に気泡が生じるのを防止したり、貼り直しや貼付位置の修正を容易にしたりするために、粘着シートの粘着剤層表面に微細構造化面（微細構造が施された面）を形成することが提案されており、これらの微細構造を形成するための鋳型としてセパレータの微細凹凸形状が使用されることが知られている(特許文献１〜３参照)。また、剥離力を調節するために微細凹凸構造を有するセパレータが使用される場合もある(特許文献４参照)。
【０００６】
セパレータの剥離剤層表面に微細凹凸形状を付与する方法としては、いくつかの方法が知られているが、従来の方法では以下のような問題があった。すなわち、表面に凹凸形状を付与した基材に剥離剤を塗布する方法では、剥離剤を均一な厚さで塗布するのが困難であり剥離剤層の厚さにムラが生じやすいため、安定した剥離力を得ることが困難であった。また、基材に剥離剤層を設けたセパレータに後工程で凹凸形状を付与する方法では、剥離剤層を設ける工程と凹凸形状を形成する工程が別々に必要になることや、凹凸形状を形成する工程は加熱したロールによる形状転写が一般的であり、速度が遅く生産性の点で問題があった。さらに、シリコーンを二度塗工して凹凸形状を付与する方法もまた、塗工工程が２回必要となり、生産性が悪かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１４５６６０号公報
【特許文献２】特表２００４−５０６７７７号公報
【特許文献３】特開２００６−０７０２７３号公報
【特許文献４】特開２００５−１７１０３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、生産性に優れ、安定した剥離力を有するセパレータを粘着剤層面に貼着した粘着シートであって、該セパレータを剥離することによる静電気の発生を抑制する剥離帯電防止性を継続的に発揮することができる粘着シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成した後、該セパレータ基材の水滴形成面上に剥離剤の有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させることでセパレータの剥離剤層表面に効率よく凹凸形状を形成することができ、安定した剥離力を発揮することができるセパレータを得ることができることを見いだした。さらに、イオン液体及び特定のガラス転移温度を有するポリマーを含む粘着剤層を有する粘着シートは帯電防止性及び粘着力に優れ、該粘着シートの粘着剤層に上記セパレータを貼着すると、被着体に粘着シートを貼り合わせる際にセパレータを剥離しても、静電気が発生することを防止できること、及びイオン液体は不揮発性であるため経時的に帯電防止性が消失することがないことを見いだし、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シートを提供する。
【００１１】
前記粘着シートにおいて、水滴を形成させる方法としては、加湿により基材表面を結露させる方法、又は水を噴霧する方法の何れかであることが好ましい。
【００１２】
剥離剤としては、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が好ましい。
【００１３】
イオン液体としては、含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、又は含リンオニウム塩から選択される１以上であることが好ましく、なかでも、下記式（Ａ）〜（Ｄ）で表されるカチオンから選択される１以上を含むことが好ましい。
【化１】
［式（Ａ）中、Ｒaは、炭素数４から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒb及びＲcは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、窒素原子が２重結合を含む場合、Ｒcはない。
式（Ｂ）中、Ｒdは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒe、Ｒf及びＲgは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｃ）中、Ｒhは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒi、Ｒj及びＲkは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｄ）中、Ｚは、窒素、硫黄、リン原子を表し、Ｒl、Ｒm、Ｒn、及びＲoは、同一又は異なって、炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、Ｚが硫黄原子の場合、Ｒoはない]
【００１４】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーとしては、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーが好ましい。
【００１５】
本発明の粘着シートは、表面保護フィルムとして使用することができる。
【００１６】
本発明は、また、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータを、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わせることを特徴とする粘着シートの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の粘着シートは、剥離剤層表面に凹凸形状を有するセパレータを使用する。該セパレータは剥離剤を乾燥及び／又は硬化させる工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与する方法で製造されるため効率よく生産することができ、また、その製造方法により均一な剥離剤層を形成することができ、安定した剥離性を発揮することができる。また、粘着剤層に、ベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有するため、優れた粘着力で被着体を保持することができ、また、不揮発性のイオン液体を含有するため、セパレータの剥離により発生した電荷の偏りを中和することができ、優れた帯電防止性を継続して発揮することができる。従って、前記のセパレータを粘着剤層に貼り合わせた本発明にかかる粘着シートは、生産性に優れ、被着体に貼り合わせる際にセパレータを剥離しても、静電気の発生を防止することができる。本発明にかかる粘着シートは、埃を嫌う光学用途、例えば液晶ディスプレイのパネルにおいて液晶セルを偏光板や波長板等の光学部材と貼り合せる用途や表面保護フィルム等に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる工程終了後の状態の一例を示す概略断面図である。
【図２】水滴形成面に剥離剤溶液を塗布して剥離剤塗布層を形成する工程終了後の状態の一例を示す概略断面図である。
【図３】有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させ、表面に凹凸形状を有する剥離剤処理層を形成する工程の乾燥前期の状態の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明のパレータの一例を示す概略断面図である。
【図５】セパレータ（１）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図６】セパレータ（１）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図７】セパレータ（２）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図８】セパレータ（２）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図９】セパレータ（３）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図１０】セパレータ（３）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明にかかる粘着シートは、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成したセパレータを有する。上記粘着シートは、片面のみが粘着面となっている片面粘着シートであってもよく、両面が粘着面となっている両面粘着シートであってもよい。また、粘着剤層のみからなる基材レスタイプの粘着シートであってもよく、基材の少なくとも片面側に粘着剤層を有する基材付きタイプの粘着シートであってもよい。
【００２０】
［粘着剤組成物］
本発明の粘着剤組成物は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する。
【００２１】
（イオン液体）
イオン液体とは、２５℃で液状を呈する溶融塩（イオン性化合物）をいう。イオン液体を用いることにより優れた帯電防止性が得られる理由の詳細は明らかでないが、次のように推測される。すなわち、イオン液体は液状であるため、一般に使用される界面活性剤と比べ分子運動が容易であり、電荷の偏りが発生した際に分子の再配列が起き易い。従って、イオン液体を用いた場合には分子再配列による電荷中和機構が働くため、優れた帯電防止効果が得られると考えられる。また、イオン液体は室温で液状を呈するため、固体の塩と比べ粘着剤への添加及び分散又は溶解が容易に行える。さらに、イオン液体は蒸気圧がない（不揮発性）のため、経時で消失することもなく、帯電防止性が継続して得られる特徴を有する。
【００２２】
本発明のイオン液体としては、なかでも含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、含リンオニウム塩が好ましく、特に優れた帯電防止能が得られる理由から上記一般式（Ａ）〜（Ｄ）で表される有機カチオン成分とアニオン成分からなる塩が好ましく用いられる。
【００２３】
式（Ａ）で表されるカチオンとしては、例えば、ピリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピロリン骨格を有すカチオン、ピロール骨格を有すカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１−エチルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン；１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジメチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−エチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピぺリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピぺリジニウムカチオン等のピペリジニウムカチオン；１，１−ジメチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−エチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピロリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピロリジニウムカチオン等のピロリジニウムカチオン；２−メチル−１−ピロリンカチオン、１−エチル−２−フェニルインドールカチオン、１，２−ジメチルインドールカチオン、１−エチルカルバゾールカチオン等が挙げられる。
【００２４】
式（Ｂ）で表されるカチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、テトラヒドロピリミジニウムカチオン、ジヒドロピリミジニウムカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１，３−ジエチルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−デシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−テトラデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン等のイミダゾリウムカチオン；１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン等のテトラヒドロピリミジニウムカチオン；１，３−ジメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，３−ジメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン等のジヒドロピリミジニウムカチオン等が挙げられる。
【００２５】
式（Ｃ）で表されるカチオンとしては、例えば、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１−メチルピラゾリウムカチオン、３−メチルピラゾリウムカチオン、１−エチル−２−メチルピラゾリニウムカチオン等が挙げられる。
【００２６】
式（Ｄ）で表されるカチオンとしては、例えば、テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンや、上記アルキル基の一部がアルケニル基やアルコキシル基、さらにはエポキシ基に置換されたもの等が挙げられる。具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ノニルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムカチオン、トリメチルヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、トリエチルプロピルアンモニウムカチオン、トリエチルペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、トリオクチルメチルアンモニウムカチオン、Ｎ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン、テトラヘキシルアンモニウムカチオン、トリブチルエチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、N，N−ジエチル−N―メチル−N−（２−メトキシエチル）アンモニウムカチオン、グリシジルトリメチルアンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン等のテトラアルキルアンモニウムカチオン；トリメチルスルホニウムカチオン、トリエチルスルホニウムカチオン、トリブチルスルホニウムカチオン、トリヘキシルスルホニウムカチオン、ジエチルメチルスルホニウムカチオン、ジブチルエチルスルホニウムカチオン、ジメチルデシルスルホニウムカチオン等のトリアルキルスルホニウムカチオン；テトラメチルホスホニウムカチオン、テトラエチルホスホニウムカチオン、テトラブチルホスホニウムカチオン、テトラヘキシルホスホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオン等のテトラアルキルホスホニウムカチオン等が挙げられる。
【００２７】
本発明においては、上記カチオン成分のなかでも、式（Ａ）で表されるカチオン（特に、１−エチルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン）、式（Ｄ）で表されるカチオン（特に、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、トリブチルエチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、ジエチルメチルスルホニウムカチオン、ジブチルエチルスルホニウムカチオン、ジメチルデシルスルホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオン等の非対称のテトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンやＮ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン、グリシジルトリメチルアンモニウムカチオン等）などが特に優れた帯電防止能が得られる点で好ましく用いられる。
【００２８】
一方、アニオン成分としては、上記カチオン成分と共にイオン液体を形成することができるものであればよく、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＡｌＣｌ4-、Ａｌ2Ｃｌ7-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＣｌＯ4-、ＮＯ3-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＮｂＦ6-、ＴａＦ6-、Ｆ（ＨＦ）n-、（ＣＮ）2Ｎ-、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3-、（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ-、Ｃ3Ｆ7ＣＯＯ-、（ＣＦ3ＳＯ2）（ＣＦ3ＣＯ）Ｎ-等が挙げられる。なかでも、フッ素原子を含むアニオン成分は、低融点のイオン性化合物が得られることから好ましく用いられる。
【００２９】
本発明におけるイオン液体は、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせから適宜選択して用いられ、例えば、１−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチルピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−ヘキシルピリジニウムテトラフルオロボレート、１，１−ジメチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピペリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、２−メチル−１−ピロリンテトラフルオロボレート、１−エチル−２−フェニルインドールテトラフルオロボレート、１，２−ジメチルインドールテトラフルオロボレート、１−エチルカルバゾールテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムアセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロブチレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムジシアナミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メチド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロブチレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムクロライド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチルピラゾリウムテトラフルオロボレート、３−メチルピラゾリウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ノニルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリメチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−
Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリオクチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブチルピリジニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、テトラヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、ジアリルジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジアリルジメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、グリシジルトリメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチルアンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルビス（ペンタフルオロエタンタンスルホニル）イミド等が挙げられる。
【００３０】
イオン液体の合成方法としては、目的とするイオン液体を得ることができれば特に限定されないが、一般的には、文献「イオン液体 −開発の最前線と未来−」[（株）シーエムシー出版発行]に記載されているような、ハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、及び中和法等が用いられる。下記にハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、及び中和法について含窒素オニウム塩を例にその合成方法について示すが、含硫黄オニウム塩、含リンオニウム塩等その他のイオン液体についても同様の手法により得ることができる。
【００３１】
ハロゲン化物法は、下記式（１）〜（３）に示すような反応によって行われる。
まず、３級アミン（Ｒ3Ｎ）とハロゲン化アルキル（ＲＸ：Ｘはハロゲン原子を示し、例えば、塩素、臭素、ヨウ素が用いられる）と反応させてハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）を得る（式（１））。
得られたハロゲン化物を、目的とするイオン液体のアニオン構造（Ａ-）を有する酸（ＨＡ）あるいは塩（ＭＡ：Ｍはアンモニウム、リチウム、ナトリウム、カリウム等、目的とするアニオンと塩を形成するカチオン）と反応させて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる（式（２）、（３））。
Ｒ3Ｎ＋ＲＸ→Ｒ4ＮＸ （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （１）
Ｒ4ＮＸ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＨＸ （２）
Ｒ4ＮＸ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＸ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （３）
【００３２】
水酸化物法は、下記式（４）〜（８）に示すような反応によって行われる。
まず、ハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）をイオン交換膜法電解（式（４））、ＯＨ型イオン交換樹脂法（式（５））又は酸化銀（Ａｇ2Ｏ）との反応（反応式（６））で水酸化物（Ｒ4ＮＯＨ）を得る。
得られた水酸化物を上記ハロゲン化法と同様に反応式（７）、（８）の反応の用いて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる。
Ｒ4ＮＸ＋Ｈ2Ｏ→Ｒ4ＮＯＨ＋１／２Ｈ2＋１／２Ｘ2 （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （４）
Ｒ4ＮＸ＋Ｐ−ＯＨ→Ｒ4ＮＯＨ＋Ｐ−Ｘ （Ｐ−ＯＨ：ＯＨ型イオン交換樹脂） （５）
Ｒ4ＮＸ＋１／２Ａｇ2Ｏ＋１／２Ｈ2Ｏ→Ｒ4ＮＯＨ＋ＡｇＸ （６）
Ｒ4ＮＯＨ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋Ｈ2Ｏ （７）
Ｒ4ＮＯＨ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＯＨ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （８）
【００３３】
酸エステル法は、下記式（９）〜（１１）に示すような反応によって行われる。
まず、３級アミン（Ｒ3Ｎ）を酸エステル（ＲＯＹ）と反応させて酸エステル物（Ｒ4ＮＯＹ）を得る（式（９））。酸エステルとしては、硫酸、亜硫酸、リン酸、亜リン酸、炭酸等の無機酸のエステルやメタンスルホン酸、メチルホスホン酸、蟻酸等の有機酸のエステル等が用いられる。
得られた酸エステル物（Ｒ4ＮＯＹ）を上記ハロゲン化法と同様に反応式（１０）、（１１）の反応の用いて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる。また、酸エステルとしてメチルトリフルオロメタンスルホネート、メチルトリフルオロアセテート等を用いることにより、直接イオン液体を得ることもできる。
Ｒ3Ｎ＋ＲＯＹ→Ｒ4ＮＯＹ （９）
【化２】
Ｒ4ＮＯＹ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＨＯＹ （ＯＹ：Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲの場合には、Ｒ4ＮＯ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＣＯ2＋ＲＯＨ） （１０）
Ｒ4ＮＯＹ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＯＹ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （１１）
【００３４】
錯形成法は、下記式（１２）〜（１５）に示すような反応によって行われる。
まず、４級アンモニウムのハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）、４級アンモニウムの水酸化物（Ｒ4ＮＯＨ）、４級アンモニウムの炭酸エステル化物（Ｒ4ＮＯＣＯ2ＣＨ3）等をフッ化水素（ＨＦ）やフッ化アンモニウム（ＮＨ4Ｆ）と反応させてフッ化４級アンモニウム塩を得る（式（１２）〜（１４））。
得られたフッ化４級アンモニウム塩をＢＦ3，ＡｌＦ3，ＰＦ5，ＡＳＦ5，ＳｂＦ5，ＮｂＦ5，ＴａＦ5等のフッ化物と錯形成反応により、イオン液体を得ることができる（式（１５））。
Ｒ4ＮＸ＋ＨＦ→Ｒ4ＮＦ＋ＨＸ （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （１２）
Ｒ4ＮＹ＋ＨＦ→Ｒ4ＮＦ＋ＨＹ （Ｙ：ＯＨ，ＯＣＯ2ＣＨ3） （１３）
Ｒ4ＮＹ＋ＮＨ4Ｆ→Ｒ4ＮＦ＋ＮＨ3＋ＨＹ （Ｙ：ＯＨ，ＯＣＯ2ＣＨ3） （１４）
Ｒ4ＮＦ＋ＭＦn-1→Ｒ4ＮＭＦn （ＭＦn-1：ＢＦ3，ＡｌＦ3，ＰＦ5，ＡＳＦ5，ＳｂＦ5，ＮｂＦ5，ＴａＦ5等） （１５）
【００３５】
中和法は、下記式（１６）に示すような反応によって行われる。
３級アミンとＨＢＦ4，ＨＰＦ6，ＣＨ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＳＯ3Ｈ，（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＨ，（ＣＦ3ＳＯ2）3ＣＨ，（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2ＮＨ等の有機酸とを反応させることにより得ることができる。
Ｒ3Ｎ＋ＨＺ→Ｒ3ＨＮ＋Ｚ− [ＨＺ：ＨＢＦ4，ＨＰＦ6，ＣＨ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＳＯ3Ｈ，（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＨ，（ＣＦ3ＳＯ2）3ＣＨ，（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2ＮＨ等の有機酸] （１６）
【００３６】
なお、上記式（１）〜（１６）中のＲは、水素原子又は炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
【００３７】
イオン液体の配合量としては、使用するポリマーとイオン液体の相溶性により適宜調整することができ、例えば、ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜４０重量部が好ましく、０．０５〜２０重量部がより好ましく、０．１〜１０重量部がさらに好ましく、０．２〜４重量部が最も好ましい。イオン液体の配合量が０．０１重量部未満であると十分な帯電防止特性が得られにくくなる傾向があり、一方、イオン液体の配合量が４０重量部を超えると被着体への汚染が増加する傾向がある。
【００３８】
（ベースポリマー）
本発明では、ベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーが用いられるが、なかでもガラス転移温度（Ｔｇ）が−１００℃〜−５℃が好ましく、特に−８０℃〜−１０℃が好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃を超えると、イオン液体を含有する場合でも、十分な粘着力を得ることが困難となる。
【００３９】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーとしては、炭素数１〜１４のアルキル基を有すアクリレート及び／又はメタクリレート（以下、（メタ）アクリレートと称す場合がある）の１種又は２種以上を主成分とするアクリル系ポリマー、天然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳブロック共重合体）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳブロック共重合体）、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳブロック共重合体）、スチレン−ブタジエンゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ブチルゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム等の一般的に粘着剤のポリマーとして使用されるポリマーが挙げられる。
【００４０】
これらのなかでもイオン液体との相溶性のバランス及び優れた粘着特性が得られることから、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートの１種又は２種以上を主成分とするアクリル系ポリマーが好ましく、特に、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートの１種又は２種以上を５０〜１００重量％含有する単量体を主成分とする、重量平均分子量が１０万以上のアクリル系ポリマーが好ましい。
【００４１】
炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
本発明の粘着シートを表面保護フィルムに用いる場合には、アクリル系ポリマーとしてヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等の炭素数６〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートからなるアクリル系ポリマーが好適に用いられる。これらの炭素数６〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートからなるアクリル系ポリマーを用いることにより、被着体への粘着力を低く制御することが容易となり、再剥離性に優れたものとなる。
【００４３】
その他の成分としては、粘着性能のバランスが取りやすい理由から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下（通常−１００℃以上）になる範囲で、適宜スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物等の凝集力・耐熱性向上成分や、カルボキシル基含有モノマー、酸無水物基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等の接着力向上や架橋化基点として働く官能基を有す成分を用いることができる。その他の成分は１種又は２種以上併用して用いることができる。
【００４４】
但し、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸官能基を有す（メタ）アクリレートを用いる場合は、アクリル系ポリマーの酸価が３９以下（特に、酸価が３０未満）になるように調整する方が好ましい。アクリル系ポリマーの酸価が３９を超えると、帯電防止特性が悪くなる傾向にある。
【００４５】
酸価は、酸官能基を有す（メタ）アクリレートの配合量により調整することができ、例えばカルボキシル基を有すアクリル系ポリマーとして２−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸を共重合したアクリル系ポリマーが挙げられるが、この場合、２−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸の合計量１００重量部に対して、アクリル酸は５・０重量部以下に調整することで上記酸価の値を満足することができる。また、表面保護フィルムに用いる場合には、アクリル系ポリマーの酸価が１以下になるように調整する方が好ましい。アクリル系ポリマーの酸価を１以下にすることで被着体からの易剥離性に優れた表面保護フィルムを得ることができる。
【００４６】
スルホン酸基含有モノマーとしては、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
【００４７】
リン酸基含有モノマーとしては２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートが挙げられる。シアノ基含有モノマーとしてはアクリロニトリルが挙げられる。ビニルエステル類としては酢酸ビニルが挙げられる。芳香族ビニル化合物としてはスチレンが挙げられる。カルボキシル基含有モノマーとしては（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。酸無水物基含有モノマーとしては無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。
【００４８】
ヒドロキシル基含有モノマーとしては２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルアクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。
【００４９】
アミド基含有モノマーとしては（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、ジエチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。
【００５０】
アミノ基含有モノマーとしてはＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートが挙げられる。エポキシ基含有モノマーとしてはグリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００５１】
ビニルエーテル類としてはビニルエチルエーテルが挙げられる。
【００５２】
本発明のアクリル系ポリマーとしては、さらに優れた低汚染性を発現させるためにアルキレングリコール含有アクリレートやアルキレンオキシド基含有反応性界面活性剤等のエーテル基含有モノマー成分を共重合成分として用いることができる。エーテル基含有モノマー成分を共重合することによりかかる特性を発現する理由の詳細は明らかではないが、エーテル基にイオン液体が配位することでイオン液体がブリードしにくくなり、優れた帯電防止性と低汚染性を両立して実現していると推測される。
【００５３】
アルキレングリコール含有アクリレートとしては、オキシアルキレン単位として炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４のアルキレン基を有するアクリレートが好ましい。アルキレン基の具体例としては、例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げられる。（メタ）アクリートへのオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体が配位する観点から１〜５０程度、なかでも２〜３０がより好ましい。オキシアルキレン鎖の末端は、水酸基のままであってもよく、アルキル基、フェニル基等で置換されていてもよい。
【００５４】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、メトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；エトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のエトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；ブトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のブトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；フェノキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のフェノキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；メトキシ―ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート型等が挙げられる。
【００５５】
上記アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートは単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、（メタ）アクリル系ポリマーの単量体成分中、５０重量％未満であることが好ましく、０．０５〜３０重量％がより好ましい。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートを上記範囲含有すると、低汚染性に優れると共に優れた帯電防止効果を発揮することができる。
【００５６】
アルキレンオキシド基含有反応性界面活性剤とは、反応性不飽和結合を有しているアルキレンオキシド基含有化合物をいう。具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基又はアリル基を有するアニオン型反応性界面活性剤、ノニオン型反応性界面活性剤、カチオン型反応性界面活性剤が挙げられる。なかでも、エチレンオキシド基を有すアクリロイル基、メタクリロイル基又はアリル基を有するアニオン型反応性界面活性剤、ノニオン型反応性界面活性剤、カチオン型反応性界面活性剤等が好適に用いられる。
【００５７】
アニオン型反応性界面活性剤としては、下記式（Ａ１）〜（Ａ１３）で表せられるもの等が挙げられる。
【化３】
[式（Ａ１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム基、炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化４】
[式（Ａ２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム、炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化５】
[式（Ａ３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ7は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3及びＲ5は同一又は異なって、水素又はアルキル基を表し、Ｒ4及びＲ6は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ベンジル基又はスチレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の数を表す]
【化６】
[式（Ａ４）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム基を表し、ｎは２〜５０の数を表す。]
【化７】
[式（Ａ５）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化８】
[式（Ａ６）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化９】
[式（Ａ７）中、Ｒ1は炭化水素基、アミノ基、カルボン酸残基を表し、Ｒ2は炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎは０〜５０の数を表す]
【化１０】
[式（Ａ８）中、Ｒ1は炭素数１から３０の炭化水素基、Ｒ2は水素原子又は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｒ3は水素原子又はプロペニル基を表し、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアミン残基を表し、ｎは１〜５０の数を表す]
【化１１】
[式（Ａ９）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の数を表す]
【化１２】
[式（Ａ１０）中、Ｒ1及びＲ5は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の整数を表す]
【化１３】
[式（Ａ１１）中、Ｒ1は炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアミン基を表し、ｎは１〜５０の整数を表す]
【化１４】
[式（Ａ１２）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表す]
【化１５】
[式（Ａ１３）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す。Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表す]
【００５８】
ノニオン型反応性界面活性剤としては、式（Ｎ１）〜（Ｎ６）で表せられるもの等が挙げられる。
【化１６】
[式（Ｎ１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１７】
[式（Ｎ２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１８】
[式（Ｎ３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ4は炭素数１〜３０の炭化水素基又はアシル基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１９】
[式（Ｎ４）中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｒ3は水素原子又はプロペニル基を表し、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、ｎは１〜５０の数を表す]
【化２０】
[式（Ｎ５）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す]
【化２１】
[式（Ｎ６）中、Ｒ1及びＲ3は同一又は異なって炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって水素原子、炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、ｎ及びｍは、０〜５０であって、（ｎ＋ｍ）が３〜５０となる数を表す]
【００５９】
カチオン型反応性界面活性剤としては、式（Ｃ１）と（Ｃ２）で表せられるもの等が挙げられる。
【化２２】
[式（Ｃ１）中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキル基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｘは塩素又は臭素を表す]
【化２３】
[式（Ｃ２）中、Ｒは炭素数１から３０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい]
【００６０】
上記反応性界面活性剤は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。反応性界面活性剤の使用量としては、（メタ）アクリル系ポリマーの単量体成分中２０重量％以下であることが好ましく、０．０５〜１０重量％がより好ましく、０．１〜５重量％が特に好ましい。反応性界面活性剤を上記範囲含有するイオン液体は、優れたブリード抑制効果、及び、被着体の汚染低減効果を発揮することができる。
【００６１】
上記アクリル系ポリマーは、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等アクリル系ポリマーの合成手法として一般的に用いられる重合方法によって得られる。
【００６２】
本発明においては、ベースポリマー（特に、アクリル系ポリマー）を適宜架橋することにより、更に耐熱性に優れた粘着シートを得ることができる。架橋方法の具体的手段としては、イソシアネ−ト化合物、エポキシ化合物、メラミン系樹脂、アジリジン誘導体等の一般的な架橋剤を添加して、ベースポリマー中の架橋化基点であるカルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アミド基等と反応させる方法がある。
【００６３】
イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート；イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６４】
ポリイソシアネ−ト化合物としては、例えばブチレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト等の低級脂肪族ポリイソシアネ−ト類；シクロペンチレンジイソシアネ−ト、シクロヘキシレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト等の脂環族イソシアネ−ト類；２，４−トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト等の芳香族ジイソシアネ−ト類；トリメチロ−ルプロパン／トリレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＬ」、日本ポリウレタン工業（株）製），トリメチロ−ルプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＨＬ」、日本ポリウレタン工業（株）製）、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）製）等のイソシアネ−ト付加物等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６５】
エポキシ化合物としてはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ」、三菱瓦斯化学（株）製）、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ」、三菱瓦斯化学（株）製）等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６６】
メラミン系樹脂としてはヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。アジリジン誘導体としては、例えば、商品名「ＨＤＵ」（相互薬工社製）、商品名「ＴＡＺＭ」（相互薬工社製）、商品名「ＴＡＺＯ」（相互薬工社製）等の市販品が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６７】
これらの架橋剤のなかでも、適度な凝集力を得る観点から、イソシアネ−ト化合物やエポキシ化合物が好適に使用される。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６８】
架橋剤の使用量は、架橋すべきアクリル系ポリマーとのバランスにより、さらには、粘着シートの用途によって適宜調整される。アクリル系粘着剤の凝集力により充分な耐熱性を得るには、上記アクリル系ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜１５重量部含有されていることが好ましく、０．５〜１０重量部含有されていることがより好ましく、０．５〜５重量部含有されていることがさらに好ましく、１〜３重量部含有されていることが最も好ましい。含有量が０．０１重量部を下回ると、架橋剤による架橋形成が不十分となり、粘着剤組成物の凝集力が小さくなって、十分な耐熱性が得られない場合があり、また、糊残りの原因となる傾向がある。一方、含有量が１５重量部を上回ると、ポリマーの凝集力が大きくなりすぎ、流動性が低下し、被着体への濡れが不十分となって、はがれの原因となる傾向がある。
【００６９】
また、実質的な架橋剤として活性エネルギー線反応性不飽和結合を２個以上有す多官能モノマーを添加し、活性エネルギー線等で架橋させることもできる。
【００７０】
活性エネルギー線反応性不飽和結合を２個以上有す多官能モノマーとしては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルベンジル基等の活性エネルギー線の照射により架橋構造を形成しうる１種又は２種以上の活性エネルギー線反応性基を２個以上有す多官能モノマー成分が用いられる。なお、一般的には活性エネルギー線反応性不飽和結合が１０個以下のものが好適に用いられる。多官能モノマーは２種以上を併用することも可能である。多官能モノマーの具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等挙げられる。
【００７１】
多官能モノマーの使用量は、架橋すべきアクリル系ポリマーとのバランスにより、さらには、粘着シートの用途によって適宜調整される。アクリル系粘着剤の凝集力により充分な耐熱性を得るには、アクリル系ポリマー１００重量部に対して０．１〜３０重量部配合するのが好ましい。また柔軟性、接着性の点からアクリル系ポリマー１００重量部に対して、１０重量部以下（例えば、０．１〜１０重量部）、好ましくは５重量部以下（例えば、０．１〜５重量部）、さらに３重量部以下（例えば、０．１〜３重量部）配合するのがより好ましい。
【００７２】
活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、レーザー線、α線、β線、γ線、ｘ線、電子線等が挙げられるが、制御性及び取り扱い性の良さ、及びコストの点から紫外線（好ましくは、波長２００〜４００ｎｍの紫外線）が用いられる。紫外線は、高圧水銀灯、マイクロ波励起型ランプ、ケミカルランプ等の適宜光源を用いて照射することができる。また、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合にはアクリル系粘着剤に光重合開始剤を添加することが好ましい。
【００７３】
光重合開始剤としては、活性エネルギー線反応性成分の種類に応じ、その重合反応の引金となり得る適当な波長の紫外線を照射することによりラジカルもしくはカチオンを生成する物質であればよい。
【００７４】
光ラジカル重合開始剤として例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル−ｐ−ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベンゾイン等のベンゾイン類；ベンジルジメチルケタール、トリクロルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−イソプロピル−２−メチルプロピオフェノン等のプロピオフェノン類；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２−クロルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−（エトキシ）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；ベンジル、ジベンゾスベロン、α−アシルオキシムエステル等が挙げられる。
【００７５】
光カチオン重合開始剤として例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類；ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホナート等が挙げられる。
【００７６】
光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤の使用量としては、例えば、アクリル系ポリマー１００重量部に対し、通常０．１〜１０重量部程度、好ましくは０．２〜７重量部程度である。
【００７７】
さらにアミン類等の光重合開始剤の開始助剤を併用することも可能である。前記開始助剤としては、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。開始助剤の使用量としては、例えば、アクリル系ポリマー１００重量部に対し、０．０５〜１０重量部程度、好ましくは０．１〜７重量部程度である。
【００７８】
さらに本発明の粘着剤組成物には、従来公知の各種の粘着付与剤や表面潤滑剤、レべリング剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリンング剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、顔料等の粉末状、粒子状、箔状等の添加剤を用途に応じて適宜添加することができる。
【００７９】
さらにまた、本発明の粘着剤組成物には、適宜エーテル基含有化合物を添加することができる。エーテル基含有化合物を粘着剤組成物に添加することにより、理由は定かではないが、さらに帯電防止性を向上させることができる。また、エーテル基含有化合物を添加することでフッ素等の非極性の材料に対して濡れ性が向上し、イオン液体の被着体への転写を効率よく行うことができる。
【００８０】
エーテル基含有化合物としては、エーテル基を有す化合物であれば特に限定されず、周知慣用のエーテル基含有化合物が用いられる。エーテル基含有化合物としては、例えば、ポリエーテルポリオール化合物やアルキレンオキシド基含有化合物等が挙げられる。なかでも、ポリエーテルポリオール化合物、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマー、及びエーテル型界面活性剤がベースポリマーとの相溶性のバランスがとり易い点で、好適に使用される。
【００８１】
ポリエーテルポリオール化合物としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール（ジオール型）、ポリプロピレングリコール（トリオール型）、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、及び上記誘導体やポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールのブロック共重合体、ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールのブロック共重合体、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールのブロック共重合体、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールのランダム共重合体やブロック共重合体等が挙げられる。グリコール鎖の末端は、水酸基のままや、アルキル基、フェニル基等で置換されていてもよい。
【００８２】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマーとしては、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートを必須成分とするアクリル系ポリマーが用いられる。（メタ）アクリートのオキシアルキレン単位としては、炭素数１〜６のアルキレン基を有するものが挙げられ、例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げられる。（メタ）アクリートへのオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体が配位する観点から１〜５０程度、なかでも２〜３０程度がより好ましい。オキシアルキレン鎖の末端は、水酸基のままでもよく、アルキル基やフェニル基等で置換されていてもよい。
【００８３】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；エトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のエトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；ブトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のブトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；フェノキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のフェノキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；メトキシ―ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート型等が挙げられる。
【００８４】
また、上記成分以外にメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートを共重合成分として用いてもよい。
【００８５】
さらには、リン酸基含有（メタ）アクリレート、シアノ基含有（メタ）アクリレート、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物、酸無水物基含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、アミド基含有（メタ）アクリレート、アミノ基含有（メタ）アクリレート、エポキシ基含有（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類を共重合成分として用いてもよい。
【００８６】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマー中に含まれるアルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率としては１０〜７０重量％が好ましい。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率が１０重量％を下回ると、イオン液体との相溶性が悪くなり、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。一方、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率が７０重量％を上回ると、ベースポリマーであるアクリル系ポリマーとの相溶性が低下して、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートは単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８７】
エーテル型界面活性剤としては、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシアルキレン誘導体、ポリオキシアルキレンアルキルアミン類、ポリオキシアルキレンアルキルアミン脂肪酸エステル類等の非イオン性界面活性剤；ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類等のアニオン性界面活性剤；アルキレンオキシド基を有するカチオン性界面活性剤；両イオン性界面活性剤が挙げられる。また、エーテル型界面活性剤は、分子中に（メタ）アクリロイル基、アリル基等の反応性置換基を有していてもよい。
【００８８】
これらのなかでも、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン脂肪酸エステル類等のエチレンオキシド基を有する非イオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類等のエチレンオキシド基を有するアニオン性界面活性剤；エチレンオキシド基を有するカチオン性界面活性剤や両イオン性界面活性剤が好ましく用いられる。また、分子中に（メタ）アクリロイル基、アリル基等の反応性置換基を有していてもよい。
【００８９】
アルキレンオキシド基を有する界面活性剤のオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体との相互作用の観点から、例えば、１〜５０程度が好ましく、なかでも２〜４０程度がより好ましい。オキシアルキレン単位の付加モル数が１未満の場合、イオン液体及びベースポリマーとの相溶性のバランスがとりにくく、被着体へのブリードが増加する傾向がある。一方、オキシアルキレン単位の付加モル数が５０を超える場合、イオン液体がエチレンオキシド基によって拘束され、帯電防止特性が低下する傾向がある。
【００９０】
エーテル型界面活性剤の具体例としては、（株）ＡＤＥＫＡ製の商品名「アデカリアソープＮＥ−１０」、「アデカリアソープＳＥ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＥ−２０Ｎ」、「アデカリアソープＥＲ−１０」、「アデカリアソープＳＲ−１０」、「アデカリアソープＳＲ−２０」や、花王（株）製の商品名「エマルゲン１２０」、第一工業製薬（株）製の商品名「ノイゲンＥＡ１３０Ｔ」等が挙げられる。
【００９１】
エーテル基含有化合物の分子量としては、数平均分子量が１００００以下のもの、好ましくは、２００〜５０００のものが好適に用いられる。数平均分子量が１００００を上回ると、被着体への汚染性が悪化する傾向がある。なお、数平均分子量はＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定して得られたものをいう。エーテル基含有化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合してもよい。
【００９２】
エーテル基含有化合物の配合量としては、例えば、ベースポリマー１００重量部に対して０．０１〜１０重量部程度、好ましくは０．０５重量部〜５重量部程度である。エーテル基含有化合物の配合量が０．０１重量部を下回ると、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。一方、エーテル基含有化合物の配合量が１０重量部を上回ると、被着体への汚染が増加する傾向がある。
【００９３】
また、本発明の粘着剤組成物には、ケト−エノール互変異性を生じる化合物を添加することができる。本化合物を添加することにより粘着剤組成物のゲル化を抑制することができ、粘着剤組成物のポットライフを延ばす効果が得られる。
【００９４】
ケト−エノール互変異性を生じる化合物としては、例えば、アセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２−メチルヘキサン−３，５−ジオン、６−メチルヘプタン−２，４−ジオン、２，６−ジメチルヘプタン−３，５−ジオン；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ｔｅｒｔ−ブチル等のアセト酢酸エステル；プロピオニル酢酸メチル、プロピオニル酢酸エチル、プロピオニル酢酸イソプロピル、プロピオニル酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル等のプロピオニル酢酸エステル；イソブチリル酢酸メチル、イソブチリル酢酸エチル、イソブチリル酢酸イソプロピル、イソブチリル酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル等のイソブチリル酢酸エステル；及びマロン酸エステル等が挙げられる。なかでも、アセチルアセトンやアセト酢酸エステルが好ましく用いられる。
【００９５】
（基材）
基材付き粘着シートにおいて使用する基材としては、例えば、紙、不織布等の多孔質材料からなる基材やポリエステルフィルム等のプラスチック基材、ゴムシート等のゴム基材、発泡シート等の発泡基材等が挙げられる。
【００９６】
特に、粘着シートを表面保護フィルムとして使用する場合には、基材としてプラスチック基材が好適に用いられる。プラスチック基材としては、シート状やフィルム状に形成できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−ブテン、ポリ−４−メチル−１−ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のポレオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ナイロン６、ナイロン６６、部分芳香族ポリアミド等のポリアミドフィルム；ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
【００９７】
粘着シートを部材の貼り合わせに使用する場合には、基材の厚みは、通常１〜２０００μｍ、好ましくは５〜１０００μｍ、より好ましくは５〜５００μｍ、さらに好ましくは５〜３００μｍ、最も好ましくは１０〜１００μｍである。粘着シートを表面保護フィルムとして使用する場合には、基材の厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ程度である。
【００９８】
プラスチック基材には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系若しくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理、塗布型、練り込み型、蒸着型等の静電防止処理を施すこともできる。また、表面保護フィルムに使用するプラスチック基材には、帯電防止処理が施されることが好ましい。
【００９９】
プラスチック基材に施される帯電防止処理としては特に限定されないが、例えば、基材の少なくとも片面に帯電防止層を設ける方法やプラスチック基材に練り込み型帯電防止剤を練り込む方法が用いられる。
【０１００】
帯電防止層を設ける方法としては、帯電防止剤と樹脂成分から成る帯電防止性樹脂や導電性ポリマー、導電性物質を含有する導電性樹脂を有機溶剤もしくは水等の溶媒で希釈し、この塗液をプラスチック基材に塗布、乾燥することで形成する方法や導電性物質を蒸着あるいはメッキする方法が挙げられる。
【０１０１】
帯電防止性樹脂に含有される帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１、第２、第３アミノ基等のカチオン性官能基を有すカチオン型帯電防止剤、スルホン酸塩や硫酸エステル塩、ホスホン酸塩、リン酸エステル塩等のアニオン性官能基を有するアニオン型帯電防止剤、アルキルベタイン及びその誘導体、イミダゾリン及びその誘導体、アラニン及びその誘導体等の両性型帯電防止剤、アミノアルコール及びその誘導体、グリセリン及びその誘導体、ポリエチレングリコール及びその誘導体等のノニオン型帯電防止剤、更には、上記カチオン型、アニオン型、両性イオン型のイオン導電性基を有する単量体を重合もしくは共重合して得られたイオン導電性重合体が挙げられる。
【０１０２】
カチオン型の帯電防止剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アシロイルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメトサルフェート、アルキルベンジルメチルアンモニウム塩、アシル塩化コリン、ポリジメチルアミノエチルメタクリレート等の４級アンモニウム基を有する（メタ）アクリレート共重合体、ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム基を有するスチレン共重合体、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム基を有するジアリルアミン共重合体等が挙げられる。
【０１０３】
アニオン型の帯電防止剤としては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルエトキシ硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩、スルホン酸基含有スチレン共重合体が挙げられる。
【０１０４】
両性イオン型の帯電防止剤としては、アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタイン、カルボベタイングラフト共重合が挙げられる。
【０１０５】
ノニオン型の帯電防止剤としては、脂肪酸アルキロールアミド、ジ−（２−ヒドロキシエチル）アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、脂肪酸グリセリンエステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンジアミン、ポリエーテルとポリエステルとポリアミドから成る共重合体、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１０６】
導電性ポリマーとしては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等が挙げられる。
【０１０７】
導電性物質としては、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化亜鉛、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、及びそれらの合金又は混合物が挙げられる。
【０１０８】
帯電防止性樹脂及び導電性樹脂に用いられる樹脂成分としては、ポリエステル、アクリル、ポリビニル、ウレタン、メラミン、エポキシ等の汎用樹脂が用いられる。なお、高分子型帯電防止剤を使用する場合には樹脂成分を含有させなくてもよい。また、帯電防止樹脂成分に、架橋剤としてメチロール化あるいはアルキロール化したメラミン系、尿素系、グリオキザール系、アクリルアミド系等の化合物、エポキシ化合物、イソシアネート系化合物を含有させることも可能である。
【０１０９】
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ｎ−ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。これらは単独で、もしくは複数を組み合わせて使用することができる。塗布方法については公知の塗布方法が用いられ、具体的には、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート、含浸及びカーテンコート法が挙げられる。
【０１１０】
前記帯電防止性樹脂、導電性ポリマー及び導電性樹脂により形成した帯電防止層の厚みとしては通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．０３〜１μｍ程度である。
【０１１１】
導電性物質の蒸着あるいはメッキの方法としては、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、化学蒸着、スプレー熱分解、化学メッキ、電気メッキ法等が挙げられる。導電性物質層の厚みとしては、通常２０〜１００００Åであり、好ましくは５０〜５０００Åである。
【０１１２】
練り込み型帯電防止剤としては、上記帯電防止剤が適宜用いられる。練り込み型帯電防止剤の配合量としては、プラスチック基材の総重量に対して２０重量％以下、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で用いられる。練り込み方法としては、前記帯電防止剤がプラスチック基材として用いられる樹脂に均一に混合できる方法であれば特に限定されず、一般的には加熱ロール、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、二軸混練機等が用いられる。
【０１１３】
プラスチック基材の片面には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系若しくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理をすることもできる。
【０１１４】
（粘着剤層）
粘着剤層は、例えば、上記イオン液体及び粘着剤組成物を含むコーティング剤を、適当なセパレータ（剥離紙など）上に塗布、乾燥することにより、所望の厚み、面積を有するフィルム状の粘着剤層を簡便に得ることができる。基材付き粘着シートの場合はセパレータの代わりに基材上に塗布、乾燥して粘着剤層を形成してもよい。粘着剤組成物を含むコーティング剤の塗布方法としては粘着シートの製造に用いられる公知の方法が用いられ、具体的にはロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート法等が挙げられる。粘着剤層は単層、複層の何れであってもよい。
【０１１５】
上記粘着剤層の厚みは特に限定されず、例えば３〜１００μｍ程度、好ましくは５〜５０μｍ程度である。
【０１１６】
［セパレータ］
本発明におけるセパレータは、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したものである。
【０１１７】
剥離剤層表面に凹凸形状（凹凸構造）が形成されるのは、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させた後、剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、この水滴を維持しながら有機溶剤を蒸発除去し、さらに凹凸形状を維持した状態で、水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化するためである。
【０１１８】
このような製造方法により得られるセパレータは、セパレータ基材の片面に剥離剤層が設けられ、該剥離剤層表面に凹凸形状が施されていてもよく、セパレータ基剤の両面に剥離剤層が設けられ、両面に設けられた剥離剤層の双方の表面に凹凸形状が施されていてもよく、さらには、セパレータ基剤の両面に設けられた剥離剤層の内、一方の剥離剤層表面にのみ凹凸形状が施されていてもよい。
【０１１９】
（剥離剤）
本発明で用いられる剥離剤としては、塗布されるセパレータ基材上に被膜（例えば、硬化被膜や乾燥塗膜等）を形成することができ、その上、該被膜が用途に応じた適度な剥離性を発揮することができ、且つ、粘着剤層への悪影響を及ぼすことのないものであれば特に制限されることがなく、例えば、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキル系剥離剤、ポリオレフィン系剥離剤等を用いることができる。また、粘着ハンドブック第３版（粘着シート工業会編）の１０３頁〜１３０頁に記載されているものを用いることもできる。なお、剥離剤は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【０１２０】
また、剥離剤としては、粘着シートの粘着剤層面に対して優れた剥離特性（軽剥離性）を発揮させる観点から、剥離力が０〜２５Ｎ／５０ｍｍ程度、好ましくは０．１〜１０Ｎ／５０ｍｍ程度、さらに好ましくは０．１〜５Ｎ／５０ｍｍ程度、最も好ましくは０．１〜１Ｎ／５０ｍｍ程度となる被膜を形成できるものが好ましい。
【０１２１】
本発明の剥離剤としては、溶剤型であるために有機溶剤に溶解しやすく、剥離剤溶液を調製しやすい点、及び、剥離特性に優れる点で、シリコーン系剥離剤が好適に使用される。
【０１２２】
シリコーン系剥離剤のなかでも、特に軽剥離性を発揮することができる点で、熱による付加反応型の架橋（硬化反応）により硬化して剥離性被膜を形成し、有用な剥離特性を発現することが可能な熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤（熱硬化性付加型ポリシロキサン系剥離剤）が好ましい。熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤は、分子中に官能基としてのアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサン（アルケニル基含有シリコーン）、及び分子中に官能基としてのヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンを必須の構成成分とする。
【０１２３】
上記分子中に官能基としてアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、なかでも、分子中にアルケニル基を２個以上有しているポリオルガノシロキサンが好ましい。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基（エテニル基）、アリル基(２−プロペニル基)、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられ、なかでも、ビニル基、ヘキセニル基が好ましい。なお、上記アルケニル基は、通常、主鎖又は骨格を形成しているポリオルガノシロキサンのケイ素原子（例えば、末端のケイ素原子や、主鎖内部のケイ素原子等）に結合している。
【０１２４】
また、上記主鎖又は骨格を形成しているポリオルガノシロキサンとしては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリメチルエチルシロキサン等のポリアルキルアルキルシロキサンやポリアルキルアリールシロキサンの他、ケイ素原子含有モノマー成分が複数種用いられている共重合体［例えば、ポリ（ジメチルシロキサン−ジエチルシロキサン）等］等が挙げられる。なかでも、安定した剥離性が得られる点で、ポリジメチルシロキサンが好適である。分子中に官能基としてアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、ビニル基を官能基として有するポリジメチルシロキサン、ヘキセニル基を官能基として有するポリジメチルシロキサン及びこれらの混合物が好ましく例示される。
【０１２５】
上記分子中に官能基としてヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンは、分子中にケイ素原子に結合している水素原子（特に、Ｓｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子）を有しているポリオルガノシロキサンであり、特に分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子を２個以上有しているポリオルガノシロキサンが好ましい。上記Ｓｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子としては、主鎖中のケイ素原子、側鎖中のケイ素原子のいずれであってもよく、すなわち、主鎖の構成単位として含まれていてもよく、側鎖の構成単位として含まれていてもよい。なお、Ｓｉ−Ｈ結合のケイ素原子の数は、２個以上であれば特に制限されない。上記分子中に官能基としてヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、ポリメチルハイドロジェンシロキサンやポリ（ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン）等が好適である。
【０１２６】
また、本発明では、剥離剤は、有機溶剤が蒸発した段階で、水滴により形成された凹凸形状を一時的に保持する必要があるので、常温で固体［粘弾性体（ゴム状物質）を含む］であることが好ましい。硬化性の剥離剤であれば硬化前に液体であってもよいが、水滴により形成された凹凸形状を一時的に保持できる程度に高粘度（１０［Ｐａ・ｓ］以上、２３℃）であることが好ましい。短時間の加熱で硬化できるような剥離剤であれば、比較的低粘度（１０［Ｐａ・ｓ］未満、２３℃）であっても水滴により形成された凹凸形状を保持できるが、０．１［Ｐａ・ｓ］未満（２３℃）の粘度では凹凸形状の保持はほとんど困難となる。
【０１２７】
なお、粘度は、ＪＩＳ Ｚ ８８０３に準拠して、以下の条件で測定する。
回転粘度計 ： ＢＭ型
ローターＮｏ． ： Ｎｏ．４
回転数 ： ３０ｒｐｍ
測定温度 ： ２５．０±０．５℃
【０１２８】
本発明の剥離剤には、室温における保存安定性を付与するために反応抑制剤が添加されていてもよい。例えば、剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が用いられる場合、反応抑制剤として、例えば、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３−メチル−１−ペンテン−３−オール、３−メチル−３−ペンテン−１−イン、３，５−ジメチル−３−ヘキセン−１−イン等が挙げられる。
【０１２９】
また、剥離剤には、上記反応抑制剤の他にも必要に応じて、剥離コントロール剤等が添加されていてもよい。例えば、剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が用いられる場合、具体的には、ＭＱレジン等の剥離コントロール剤、アルケニル基又はヒドロシリル基を有しないポリオルガノシロキサン（トリメチルシロキシ基末端封鎖ポリジメチルシロキサン等）等が添加されていてもよい。
【０１３０】
熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤に対する上記反応抑制剤及び剥離コントロール剤等その他の成分の含有量は、特に限定されないが、例えば１〜３０重量％程度が好ましい。
【０１３１】
本発明では、さらに、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤の触媒として一般的に用いられる白金系触媒（なかでも、塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、塩化白金酸のオレフィン錯体から選ばれた少なくとも１つの白金系触媒）を添加することが好ましい。熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤に白金系触媒を添加することにより、剥離剤の硬化速度を促進することができる。
【０１３２】
さらにまた、剥離剤には、必要に応じて各種添加成分（添加剤）が用いられてもよい。添加成分としては、特に限定されないが、例えば、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、着色剤（染料や顔料等）等が例示される。
【０１３３】
（有機溶剤）
上記剥離剤を溶解する有機溶剤としては、剥離剤を均一に溶解できるものであれば特に制限されることがなく、例えば、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。有機溶剤は、単独で使用してもよく、２種以上を混合した混合溶剤として使用してもよい。
【０１３４】
本発明においては、水よりも蒸発しにくい有機溶剤を使用すると、有機溶剤が蒸発するより先に水滴のほうが蒸発してしまい、水滴による凹部の成形性が悪化することから、酢酸ｎ−ブチルを１．０とする相対蒸発速度において、水の相対蒸発速度（０．３８）よりも大きな相対蒸発速度を有するもの、なかでも相対蒸発速度が１．０以上のものが好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等が挙げられる。
【０１３５】
なお、相対蒸発速度は、ＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される蒸発速度であって、具体的には、２５℃、乾燥空気下における酢酸ｎ−ブチルの蒸発時間と各テスト溶剤の蒸発時間との比で表される。各種有機系溶剤の相対蒸発速度は、「最新コーティング技術」（１９８３年（株）総合技術センター発行）１７〜１９ページ記載の表５等に記載されている。
【０１３６】
（剥離剤溶液）
本発明の剥離剤溶液は剥離剤が有機溶剤に溶解された溶液であり、上記剥離剤を有機溶剤に溶解することにより調製される。剥離剤溶液の粘度は、高すぎると剥離剤溶液を塗布した時に水滴の形状が乱される場合があることから、３［Ｐａ・ｓ］以下、なかでも１［Ｐａ・ｓ］以下、特に０．５［Ｐａ・ｓ］以下であることが好ましい。一方、剥離剤溶液の粘度が低すぎると、剥離剤溶液塗膜がセパレータ基材上で流れやすくなり、セパレータ基材への塗工が困難となるため、５［ｍＰａ・ｓ］以上、なかでも１０［ｍＰａ・ｓ］以上、特に２０［ｍＰａ・ｓ］以上であることが好ましい。
【０１３７】
剥離剤溶液における剥離剤の濃度は、高すぎると水滴により凹部が形成される前に有機溶剤が蒸発してしまう場合があることから、０．１〜３０［重量％］、なかでも、１〜２０［重量％］の範囲が好ましい。なお、剥離剤溶液における剥離剤の濃度は、通常剥離剤溶液における剥離剤の濃度が上昇すると粘度も上昇するので、粘度が上記の範囲内となるように制御することが重要である。
【０１３８】
（セパレータ基材）
本発明のセパレータを構成する基材（セパレータ基材）としては、特に限定されず、従来セパレータにおいて基材として慣用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。このような基材としては、例えば、グラシン紙、コート紙、キャストコート紙等の紙基材、これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙、プラスチックフィルム（熱可塑性樹脂フィルム）等のプラスチック基材等を挙げることができる。
【０１３９】
セパレータ基材として紙基材を使用する場合は、剥離剤溶液（塗工液）のしみ込み防止のためポリエチレン等のプラスチックをラミネートしたり、下塗り剤を塗布して目止め処理をすることが好ましい。また、セパレータ表面の凹凸形状は、紙基材の凹凸により影響を受け易い。そこで、本発明におけるセパレータ基材としては、プラスチックフィルム（プラスチック基材）が好ましい。
【０１４０】
上記プラスチックフィルムの素材（熱可塑性樹脂）としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリメチルペンテン（ＰＭＰ）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のα−オレフィンをモノマー成分とするオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；酢酸ビニル系樹脂；ポリカーボネート（ＰＣ）；ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）；ポリアミド（ナイロン）、全芳香族ポリアミド（アラミド）等のアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等が挙げられる。これらの素材は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。なかでも、ＰＥＴやＰＥＮ等のポリエステルフィルム、ＰＰやＰＭＰ等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ酢酸ビニルフィルム等が好ましく、特に、強度、耐熱性、コスト等の点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）が好ましい。
【０１４１】
セパレータ基材の厚さは、特に限定されることがなく用途や使用目的等に応じて適宜選択できるが、例えば、５〜２５０μｍ程度、好ましくは１０〜１００μｍ程度である。セパレータ基材は単層の形態を有していてもよく、積層された形態を有していてもよい。
【０１４２】
（セパレータの製造方法）
凹凸形状が付与された剥離剤層がセパレータ基材の少なくとも一方の面に設けられた本発明のセパレータは、下記（i）〜（iii）の工程を経て製造することができる。すなわち、
(i)セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる工程（セパレータ基材上に水滴形成面を得る工程）
(ii)前記水滴形成面に剥離剤溶液（塗工液）を塗布して剥離剤層を形成する工程（前記水滴形成面に剥離剤溶液を塗布して、剥離剤溶液塗布面を形成する工程）
(iii)有機溶剤および水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させ、表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成する工程
【０１４３】
(i)の工程は、セパレータ基材上に、剥離剤層表面上の凹凸形状を形成する鋳型となる微細な水滴を形成する工程である。水滴が凹凸形状を形成するのは、水が剥離剤を有機溶剤に溶解させた溶液である剥離剤溶液と馴染まないためと推測される。(i)の工程で、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる方法としては、例えば加湿により結露させる方法や水を噴霧する方法等が挙げられる。
【０１４４】
加湿により結露させる方法としては、特に限定されないが、例えば、周りを囲った加湿可能な雰囲気内に、スチームアイロン等にて発生させたスチームを導入し加湿する方法や加湿器から発生した水蒸気を雰囲気内に導入する方法等が挙げられる。連続的に生産する場合には、加湿した空気を送風する方法等が使用できる。このような方法は、少量のセパレータを製造する場合に有効に用いることができる。
【０１４５】
水を噴霧する方法としては、特に制限されないが、例えば、噴霧器等で発生させた霧を直接セパレータ基材表面上に噴霧する方法等が挙げられる。水を噴霧する方法を用いれば、より簡便に、より大きな凹凸形状を形成することができる。また、この方法では水滴の大きさのばらつきが大きいため、水滴により形成される凹部の大きさもばらつきが大きくなる傾向があるが、上記加湿により塗布面を結露させる方法に比べ、短時間でセパレータ基材表面上に水滴を形成できるため、生産速度を上げたいときには有効な方法である。
【０１４６】
図１は、上記(i)の工程終了後の状態の一例を示す概略断面図であり、１はセパレータ基材、２は水滴を示す。
【０１４７】
(ii)の工程は、結露したセパレータ基材表面に剥離剤溶液を塗布し、水滴がセパレータ基材と接したまま剥離剤溶液が周りを取り囲んでいる状態（剥離剤層表面に水滴が露出していない状態）や、水滴がセパレータ基材と接したまま水滴の頭部やその付近が剥離剤層から飛び出している状態等を形成する工程である。
【０１４８】
(ii)の工程で用いられる剥離剤溶液の塗布方法（塗工方法）としては、任意の塗布方法が利用できる。小面積のセパレータを作る場合には、ベーカー式アプリケータやドクターブレード、バーコーターなどを使用して手塗りすることができる。また、塗工機で連続して塗工する場合は、塗布量に応じて塗工機を適宜選択して利用することが可能であり、例えばリバースコーター、ダイレクトグラビアコーター、ダイレクトバーコーター、リバースバーコーター、ダイコーターなどの塗工機を利用することができる。
【０１４９】
(ii)の工程において、剥離剤溶液を塗布することにより得られる剥離剤層の厚さ（剥離剤溶液の塗布厚さ）としては、水滴を形成させずに乾燥及び／又は硬化した場合の厚さにおいて、例えば、１〜１００μｍ程度（好ましくは２〜５０μｍ程度）である。剥離剤層の厚さを薄く(例えば、５μｍ以下)すると、比較的小さな凹凸形状が形成される。そして、剥離剤層の厚さを厚くするに従い、形成される凹凸形状も大きくなる傾向がある。なお、剥離剤層の厚さは、上記範囲には限定されず、目的に応じて調整することで、望ましいサイズの凹凸形状を有する剥離剤層を得ることが可能である。
【０１５０】
(ii)の工程では、セパレータ基材上に水滴を形成後、直ちに該セパレータ基材の水滴形成面上に剥離剤溶液を塗布することが重要である。連続的に生産する場合には、(i)の工程（水滴形成工程）と(ii)の工程（剥離剤溶液塗布工程）がインラインで順次行われることが好ましい。水滴が蒸発してしまう前に剥離剤溶液を塗布しないと、水滴に起因する凹凸形状を形成することが困難となるためである。
【０１５１】
図２は、上記(ii)の工程終了後の状態の一例を示す概略断面図であり、１はセパレータ基材、２は水滴、３は剥離剤層を示す。なお、図２では水滴全体が剥離剤層により覆われているが、本発明では、(ii)の工程終了後、水滴の頭部や該頭部付近は剥離剤層から露出していてもよい。
【０１５２】
(iii)の工程では、乾燥（例えば、高温加熱）による有機溶剤及び水滴の除去と剥離剤の乾燥(及び、必要に応じて硬化)が行われ、（ii）の工程で得られた剥離剤層（硬化前の剥離剤層）は、表面に凹凸形状を有する剥離剤層（硬化被膜）となる。(iii)の工程で剥離剤層表面に凹凸形状が形成されるのは、剥離剤層で覆われている水滴を除去することにより、層中に空洞のようなものが発生し、剥離剤が該空洞に陥没することや、頭部や該頭部付近が層外に飛びだしている状態で剥離剤層により覆われている水滴を除去することにより、凹部としての貫通孔が形成されること等によると考えられる。
【０１５３】
(iii)の工程では、水(水滴)を蒸発させる必要があるため、１００℃以上の温度で乾燥することが好ましい。剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤を使用する場合は、シリコーンの硬化性の観点からも、１００℃以上の温度で加熱するのが好ましい。ただし、セパレータ基材の耐熱性が低い場合は、加熱温度を上げすぎないようにすることが必要である。例えば、セパレータ基材としてポリエチレンテレフタレート基材を使用する場合、１４０℃以下（なかでも、１３０℃以下）が好ましい。加熱温度が１４０℃を超えると、熱収縮によるシワの発生が大きくなる傾向がある。なお、加熱時間は、剥離剤の種類、水滴の量、加熱温度などの条件に応じて適宜調整することができる。
【０１５４】
図３は、上記(iii)の工程の乾燥前期の状態の一例を示す概略断面図であり、蒸発しやすい有機溶剤が先に蒸発し、水滴はまだ残っている状態を示す。図３において、１はセパレータ基材、２は水滴、３１は有機溶剤が蒸発した剥離剤層を示す。
【０１５５】
(iii)の工程では、(ii)の工程終了後においては剥離剤層に覆われていた水滴が、乾燥が進むにつれ、蒸発しやすい有機溶剤が先に蒸発することにより、その頭部や該頭部付近が露出するようになってもよい。また、(iii)の工程では、加熱乾燥時に水滴が浮き上がり、剥離剤層を構成する剥離剤溶液が水滴とセパレータ基材との間に入り込んでもよい。
【０１５６】
本発明では、セパレータの剥離剤層表面の凹凸形状の凹部の径は、上記（i）の工程において形成する水滴の大きさにより制御することができるので、広い範囲の径の凹凸形成が可能である。
【０１５７】
例えば、(i)の工程で加湿によりセパレータ基材表面を結露させる方法により水滴を形成する場合、比較的小さい凹部が形成可能であり、小さいものでは約０．１μｍ、大きいものでは約１００μｍ程度の大きさまで可能である。また、(i)の工程で水を噴霧する方法により水滴を形成する場合、比較的大きい凹部が形成可能であり、小さいものでは約１０μｍ、大きいものでは約３ｍｍ程度の大きさが可能である。
【０１５８】
本発明のセパレータは、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させる工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与することができるので、生産性に優れている。また、本発明のセパレータは、剥離剤層表面に凹凸形状を有するので、凹凸形状を付与していないセパレータに比べ剥離性に優れている。その上、上記方法で製造するため、凹凸形状を有する、均一な剥離剤層を形成することができ、安定した剥離性が得られる。なお、剥離剤層表面の凹部は、剥離剤層を貫通する孔であってもよい。図４は、本発明で得られたセパレータの一例を示す概略断面図である。図４において、１はセパレータ基材、４は水滴が蒸発した剥離剤層、５はセパレータを示す。
【０１５９】
［粘着シートの製造方法］
本発明のセパレータ付き粘着シートの製造方法は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成したセパレータを貼り合わせることを特徴とする。
【０１６０】
上記の様にセパレータを簡便な方法で効率よく製造し、得られたセパレータを粘着シートの粘着剤層表面に貼り合わせて製造するため、本発明のセパレータ付き粘着シートは生産性に優れている。
【０１６１】
このような方法で製造された本発明の粘着シートは、粘着剤層に不揮発性のイオン液体を含有するために、剥離により生じた電荷の偏りを中和することができ、その効果は経時的に衰えることがない。そのため、セパレータを偏光板等の光学部材から剥離する際や、セパレータを粘着シートや表面保護フィルムから剥離する際にも静電気が発生するのを防止することができ、埃を嫌う光学用途、例えば液晶ディスプレイのパネルにおいて液晶セルを偏光板や波長板等の光学部材と貼り合せる用途や表面保護フィルム等に好適に使用することができる。
【０１６２】
さらにまた、本発明の粘着シートにおける、セパレータで保護された粘着剤層面には、セパレータの剥離剤層表面の凹凸形状によって凸構造（突起構造）が形成される。そのため、本発明の粘着シートはエア抜け性に優れており、貼り付け時に被着体との間に気泡が生じても、生じた気泡（エア）をきれいに抜くことができるため、貼り直しをする必要がない。また、被着体と接する面積が粘着剤層表面の凸構造により低減されているため、貼り直しや貼付位置の修正を容易に行うことができる。
【０１６３】
本発明のセパレータ付き粘着シートは、周知慣用の粘着シートの用途に用いることができ、例えば、両面粘着シート、表面保護用粘着シート、電子部品用粘着シート等として好適に使用される。
【実施例】
【０１６４】
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。
【０１６５】
［酸価］
酸価は、自動滴定装置（商品名「ＣＯＭ−５５０」、平沼産業株式会社製）を用いて測定を行い、下記式より求めた。
Ａ＝{（Ｙ−Ｘ）×ｆ×５．６１１}／Ｍ
［Ａ；酸価、Ｙ；サンプル溶液の滴定量（ｍｌ）、Ｘ；混合溶媒５０ｇのみの溶液の滴定量（ｍｌ）、ｆ；滴定溶液のファクター、Ｍ；ポリマーサンプルの重量（ｇ）］
測定条件は下記の通りである。
サンプル溶液：ポリマーサンプル約０．５ｇを混合溶媒［トルエン／２−プロパノール／蒸留水＝５０／４９．５／０．５（重量比）］５０ｇに溶解してサンプル溶液とした。
滴定溶液：０．１Ｎ、２−プロパノール性水酸化カリウム溶液（和光純薬工業（株）社製、石油製品中和価試験用）
電極：ガラス電極；ＧＥ−１０１、比較電極；ＲＥ−２０１
測定モード：石油製品中和価試験１
【０１６６】
［分子量］
分子量は、ＧＰＣ装置（商品名「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」、東ソー株式会社製）を用いて測定を行い、ポリスチレン換算値にて求めた。
測定条件は下記の通りである。
サンプル濃度：０．２ｗｔ％（ＴＨＦ溶液）
サンプル注入量：１０μｌ
溶離液：ＴＨＦ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
カラム：サンプルカラム；ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｈ １本＋ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ ２本
リファレンスカラム；ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ−ＲＣ １本
検出器：示差屈折計
【０１６７】
［ガラス転移温度の測定］
製造例１〜４で得られたアクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）については、下記の手順で動的粘弾性測定により決定した。
厚さ２０μｍのアクリル系ポリマーのシートを積層して約２ｍｍの厚さとし、これをφ７．９ｍｍに打ち抜き、円柱状のペレットを作製してガラス転移温度（Ｔｇ）測定用サンプルとした。
上記測定用サンプルを用い、φ７．９ｍｍパラレルプレートの治具に上記測定用サンプルを固定し、動的粘弾性測定装置（商品名「ＡＲＥＳ」、レオメトリックス社製）により、損失弾性率Ｇ”の温度依存性を測定し、得られたＧ”カーブが極大となる温度をガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）とした。
測定条件は下記の通りである。
測定：せん断モード
温度範囲：−７０℃〜１５０℃
昇温範囲：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
【０１６８】
［ＮＭＲ］
ＮＭＲ測定は、核磁気共鳴装置（商品名「ＥＸ−４００」、日本電子株式会社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
観測周波数：４００ＭＨｚ（1Ｈ）、１００ＭＨｚ（13Ｃ）
測定溶媒：ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ6
測定温度：２３℃
【０１６９】
［ＸＲＦ］
ＸＲＦ測定は、蛍光Ｘ線分析装置(商品名「ＺＳＸ−１００ｅ」、理学電機株式会社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
測定方法：ろ紙法
Ｘ線源：Ｒｈ
【０１７０】
［ＦＴ−ＩＲ］
ＦＴ−ＩＲ測定は、フーリエ変換赤外分光光度計（商品名「Ｍａｇｎａ−５６０」、Ｎｉｃｏｌｅｔ社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
測定方法：ＡＴＲ法
検出器：ＤＴＧＳ
分解能：４．０ｃｍ-1
積算回数：６４回
【０１７１】
［アクリル系ポリマーの調製］
製造例１：アクリル系ポリマー（Ａ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート２００重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ａ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５０万、酸価：０であった。
【０１７２】
製造例２：アクリル系ポリマー（Ｂ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート２００重量部、アクリル酸８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｂ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｂ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５４万、酸価：３０であった。
【０１７３】
製造例３：アクリル系ポリマー（Ｃ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート１８０重量部、エトキシ−ジエチレングリコールアクリレート２０重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、トルエン４７重量部、酢酸エチル２６５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｃ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｃ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５１万、酸価：０であった。
【０１７４】
製造例４：アクリル系ポリマー（Ｄ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート１９５重量部、ノニオン型反応性界面活性剤（商品名「アデカリアソープＥＲ−１０」、（株）ＡＤＥＫＡ製）５重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｄ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｄ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：６８万、酸価：０であった。
【０１７５】
［イオン液体の調製］
製造例５：イオン液体（１）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコに１−ブチル−３−メチルピリジニウムクロライド[和光純薬工業（株）社製]１０重量部の２０重量％水溶液を添加した後、攪拌羽根を回しながらリチウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド[キシダ化学（株）社製]１９重量部の２０重量％水溶液を徐々に添加した。添加後、常温下（２５℃）で２時間攪拌を続けたのち、１２時間静置し、上澄み液を除去し、２５℃雰囲気下で液状の生成物を得た。得られた液状生成物を２００重量部の蒸留水にて３回洗浄し、１１０℃の温度で２時間乾燥させてイオン液体（１）を２０重量部得た。得られたイオン液体（１）のＮＭＲ（1Ｈ、13Ｃ）測定、ＦＴ−ＩＲ測定、ＸＲｆ測定を行い、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドであることを確認した。
【０１７６】
製造例６：イオン液体（２）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコにジアリルジメチルアンモニウムクロライド６０ｗｔ％水溶液（東京化成工業社製）１０重量部を添加した後、攪拌羽根を回しながらリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（キシダ化学社製）１３重量部の５０重量％水溶液を徐々に添加した。添加後、２５℃で２時間攪拌を続けた後、１２時間静置し、上澄み液を除去し、２５℃雰囲気下で液状の生成物を得た。得られた液状生成物を２００重量部の蒸留水にて３回洗浄し、１１０℃の環境下で２時間乾燥させて２５℃で液状のイオン液体（２）を１３重量部得た。得られたイオン液体（２）のＮＭＲ（1Ｈ、13Ｃ）測定、ＦＴ−ＩＲ測定、ＸＲｆ測定をおこない、ジアリルジメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドであることを確認した。
【０１７７】
製造例７：帯電防止剤溶液（ａ）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコにイオン液体（１）５重量部、ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールブロック共重合体（数平均分子量：２，０００、エチレングリコール比率：５０ｗｔ％）５重量部、酢酸エチル９０重量部を仕込み、フラスコ内の液温を２５℃付近に保って約３０分間混合撹拌を行い、帯電防止剤溶液（ａ）（１０重量％）を調製した。
【０１７８】
［セパレータの作製］
製造例８：セパレータ（１）
剥離剤溶液は以下の配合で調製した。
(i)熱硬化性付加型シリコーン（商品名「ＫＳ−８４７Ｔ」、信越化学工業社製）３０重量％トルエン溶液
(ii)白金触媒（商品名「ＰＬ−５０Ｔ」、信越化学工業社製）トルエン溶液
(iii)有機溶剤：ｎ−ヘキサン
配合比 (i)／(ii)／（iii）＝１００／１／２００（重量比）
なお、剥離剤溶液の粘度は７７［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０１７９】
アングル材で組んだ箱の周りをポリエチレンテレフタレートシートで囲むことにより作製した加湿箱（縦：３０ｃｍ×横：４５ｃｍ×高さ：３０ｃｍ）に、基材（厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム）を入れ、スチーム発生器で１分間、加湿箱内を加湿することにより、基材上に水滴を形成した。雰囲気温度は２３℃で行った。
【０１８０】
上記剥離剤溶液をべーカー式アプリケータを用いて、基材の水滴を形成した面に、水滴を形成しないで塗布・乾燥させた時の剥離剤層の厚さが１０μｍになるような厚さで塗布した。
【０１８１】
塗布後、熱風オーブンを用いて１２０℃で１分間加熱することにより高温乾燥して、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（１）を得た。
【０１８２】
製造例９：セパレータ（２）
２３℃の雰囲気下、基材上に霧吹きを用いて水滴を形成したこと以外は、セパレータ（１）と同様にして、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（２）を得た。
【０１８３】
製造例１０：セパレータ（３）
基材上に水滴を形成する工程を行わなかったこと以外は、セパレータ（１）と同様にして、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（３）を得た。
【０１８４】
実施例１
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（１）を０．１重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．８重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（１）を調製した。
（粘着シートの作製）
得られたアクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層に上記セパレータ（１）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート１を作製した。
【０１８５】
実施例２
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層に上記セパレータ（２）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート２を作製した。
【０１８６】
実施例３
（粘着剤組成物の調製）
アクリルポリマーＢの溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（２）を２．０重量部、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ」、三菱瓦斯化学（株）製）０．７重量部、トリメチロ−ルプロパン／トリレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＬ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．３重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（２）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（２）を用いたこと以外は実施例１と同様にして粘着シート３を作製した。
【０１８７】
実施例４
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ｃ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（１）を０．２重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．４重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（３）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート４を作製した。
【０１８８】
実施例５
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ｃ）溶液（４０重量％）に代えて、上記アクリル系ポリマー（Ｄ）溶液（４０重量％）を用いた以外は、実施例４と同様の方法によりアクリル系粘着剤溶液（４）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（４）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート５を作製した。
【０１８９】
実施例６
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部に帯電防止剤溶液（ａ）（１０重量％）を２重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．８重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（５）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（５）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート６を作製した。
【０１９０】
比較例１
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、前記粘着剤層に上記セパレータ（３）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート７を作製した。
【０１９１】
比較例２
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例１と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（６）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（６）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート８を作製した。
【０１９２】
比較例３
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例３と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（７）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（７）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート９を作製した。
【０１９３】
比較例４
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例４と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（８）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（８）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート１０を作製した。
【０１９４】
比較例５
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例５と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（９）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（９）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート１１を作製した。
【０１９５】
上記実施例、比較例等で得られた粘着シート１〜１１について、以下の要領で、剥離帯電圧、粘着力、剥離力及びセパレータの剥離剤層表面の形状を評価した。
【０１９６】
［剥離帯電圧］
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅７０ｍｍ×長さ１００ｍｍのサイズにカットし、サンプル固定台に設置した。粘着シートにおけるセパレータの一方の端部を自動巻取り機に固定し、剥離角度１５０°、剥離速度１０ｍ／ｍｉｎとなるように長さ方向に剥離し、粘着剤層表面の電位を所定の位置（粘着剤層表面から１００ｍｍの高さ）に固定してある電位測定機（商品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機（株）社製）を使用して測定した。なお、測定は、２３℃、５０％ＲＨの環境下で行った。
【０１９７】
［粘着力測定］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名「フジタック」、富士写真フィルム（株）製）を幅７０ｍｍ×長さ１００ｍｍにカットし、６０℃の水酸化ナトリウム水溶液（１０重量％）に１分間浸漬した後、蒸留水にて洗浄して被着体を作製した。得られた被着体を２３℃、５０％ＲＨの環境下で１日放置した後、粘着力評価用被着体とした。
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅２５ｍｍ×長さ８０ｍｍのサイズにカットし、０．２５ＭＰａの圧力で上記粘着力評価用被着体にラミネートして、評価サンプルを作製した。
ラミネート後３０分間放置した後、万能引張試験機（商品名「高速剥離試験機」、テスター産業社製）を使用して、粘着シートを引張り速度３０ｍ／分、剥離角度１８０°で剥離したときの粘着力を測定した。なお、測定は２３℃×５０％ＲＨの環境下で行った。
【０１９８】
［剥離力の測定法］
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅５０ｍｍ×長さ１５０ｍｍにカットし評価サンプルを作製した。
１００℃環境下で、評価用サンプルを、サンプル面積（幅：５０ｍｍ×長さ：１５０ｍｍ）に対して１ｋｇの荷重をかけて押圧し、１時間放置した。
放置後、２３℃で１時間冷却してから、万能引張試験機（商品名「ＴＧ−１ｋＮ」、ミネベア社製）を用い、セパレータを引張り速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°で剥離したときの剥離力を測定した。測定は２３℃×５０％ＲＨの環境で行った。
【０１９９】
［セパレータの剥離剤層表面の形状］
共焦点レーザー顕微鏡（商品名「走査型レーザー顕微鏡 ＬＥＸＴ−ＯＬＳ３０００」、オリンパス株式会社製）を用いて、セパレータの剥離剤層表面の形状を観察した。その結果を図５〜図１０に示した。測定条件は下記表１に示した。
【表１】
【０２００】
上記評価結果を表２にまとめて示す。
【表２】
【０２０１】
上記表２より、本発明に係る粘着シートの場合（実施例１〜６）、全実施例においてセパレータの剥離性に優れ、セパレータ剥離時の剥離帯電圧が抑制されることが明らかとなった。これに対して剥離剤表面に凹凸形状が付与されていないセパレータを用いた粘着シートの場合（比較例１）は、セパレータの剥離性が実施例で得られた粘着シートと比べて劣ることがわかった。また、粘着剤組成物にイオン液体を使用しない粘着シート（比較例２〜５）では、剥離帯電圧が高く、静電気の発生を防止できなかった。
【符号の説明】
【０２０２】
１ セパレータ基材
２ 水滴
３ 剥離剤層
３１ 有機溶剤が蒸発した剥離剤層
４ 水滴が蒸発した剥離剤層
５ セパレータ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離剤層表面に凹凸形状（凹凸構造）を有するセパレータを粘着剤層面に貼着した粘着シートであって、該セパレータを剥離することによる静電気の発生を抑制することができる粘着シートに関する。本発明の粘着シートは、静電気が発生しやすいプラスチック製製品、静電気を嫌う電子機器、静電気により埃等が付着することを嫌う場面等において好適に使用される。
【背景技術】
【０００２】
粘着シートは、常温で短時間、わずかな圧力を加えるだけで接着することができるため、各種物品の接合において様々な用途で用いられている。例えば、光学用途において液晶ディスプレイのパネルは液晶セルに粘着剤を介して偏光板や波長板等の光学部材を貼り合せることにより形成されている。さらにまた、粘着シートは適度に接着する反面、硬い平滑面から再剥離することもでき、表面保護フィルムとしても利用されている。より具体的な使用態様としては、機能性フィルム、導電性フィルム、表面保護フィルム、支持体の両面に粘着剤を塗布した両面粘着シート、支持体を持たない基材レスの両面粘着シート等粘着加工した粘着加工品形態等が挙げられる。
【０００３】
そして、これらの多くの場合、粘着剤層を保護する目的でセパレータ等が用いられている。セパレータは、紙、プラスチックフィルム、プラスチックラミネート紙等の基材の少なくとも片面に、シリコーン等の剥離剤を塗布し、乾燥及び／又は硬化させて剥離剤層を設けたものであり、粘着シート、粘着テープ、ラベル等の粘着剤層表面を保護するために該粘着剤層表面に貼着して用いられ、光学部材等の被着体に貼り合わせる際に剥離して除去される。
【０００４】
一般に、セパレータや光学部材はプラスチック材料で構成されているため電気絶縁性が高く、摩擦や剥離により静電気を発生しやすい。そして、セパレータを偏光板等の光学部材や粘着シート、表面保護フィルムから剥離することにより静電気（剥離帯電）が発生し、静電気が残ったままの状態で液晶に電圧を印加すると、液晶分子の配向が損失したりパネルの欠損が生じてしまうといった問題、ならびに、かかる静電気により粘着面にゴミや埃が付着し、光学部材を汚染してしまうといった問題が生じたりする。そこで、このような不具合を防止するために各種帯電防止処理が施されている。しかしながら、従来の帯電防止処理では、帯電防止効果が経時的に低下するなどの問題があった。
【０００５】
一方、剥離剤層表面に微細凹凸形状を有するセパレータとしては、粘着シート（例えば、粘着シート、ラベル等のシート状やテープ状の形態としたもの）を貼り付ける際に被着体との間に気泡が生じるのを防止したり、貼り直しや貼付位置の修正を容易にしたりするために、粘着シートの粘着剤層表面に微細構造化面（微細構造が施された面）を形成することが提案されており、これらの微細構造を形成するための鋳型としてセパレータの微細凹凸形状が使用されることが知られている(特許文献１〜３参照)。また、剥離力を調節するために微細凹凸構造を有するセパレータが使用される場合もある(特許文献４参照)。
【０００６】
セパレータの剥離剤層表面に微細凹凸形状を付与する方法としては、いくつかの方法が知られているが、従来の方法では以下のような問題があった。すなわち、表面に凹凸形状を付与した基材に剥離剤を塗布する方法では、剥離剤を均一な厚さで塗布するのが困難であり剥離剤層の厚さにムラが生じやすいため、安定した剥離力を得ることが困難であった。また、基材に剥離剤層を設けたセパレータに後工程で凹凸形状を付与する方法では、剥離剤層を設ける工程と凹凸形状を形成する工程が別々に必要になることや、凹凸形状を形成する工程は加熱したロールによる形状転写が一般的であり、速度が遅く生産性の点で問題があった。さらに、シリコーンを二度塗工して凹凸形状を付与する方法もまた、塗工工程が２回必要となり、生産性が悪かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１４５６６０号公報
【特許文献２】特表２００４−５０６７７７号公報
【特許文献３】特開２００６−０７０２７３号公報
【特許文献４】特開２００５−１７１０３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、生産性に優れ、安定した剥離力を有するセパレータを粘着剤層面に貼着した粘着シートであって、該セパレータを剥離することによる静電気の発生を抑制する剥離帯電防止性を継続的に発揮することができる粘着シートを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成した後、該セパレータ基材の水滴形成面上に剥離剤の有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させることでセパレータの剥離剤層表面に効率よく凹凸形状を形成することができ、安定した剥離力を発揮することができるセパレータを得ることができることを見いだした。さらに、イオン液体及び特定のガラス転移温度を有するポリマーを含む粘着剤層を有する粘着シートは帯電防止性及び粘着力に優れ、該粘着シートの粘着剤層に上記セパレータを貼着すると、被着体に粘着シートを貼り合わせる際にセパレータを剥離しても、静電気が発生することを防止できること、及びイオン液体は不揮発性であるため経時的に帯電防止性が消失することがないことを見いだし、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シートを提供する。
【００１１】
前記粘着シートにおいて、水滴を形成させる方法としては、加湿により基材表面を結露させる方法、又は水を噴霧する方法の何れかであることが好ましい。
【００１２】
剥離剤としては、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が好ましい。
【００１３】
イオン液体としては、含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、又は含リンオニウム塩から選択される１以上であることが好ましく、なかでも、下記式（Ａ）〜（Ｄ）で表されるカチオンから選択される１以上を含むことが好ましい。
【化１】
［式（Ａ）中、Ｒaは、炭素数４から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒb及びＲcは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、窒素原子が２重結合を含む場合、Ｒcはない。
式（Ｂ）中、Ｒdは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒe、Ｒf及びＲgは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｃ）中、Ｒhは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒi、Ｒj及びＲkは、同一又は異なって、水素又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｄ）中、Ｚは、窒素、硫黄、リン原子を表し、Ｒl、Ｒm、Ｒn、及びＲoは、同一又は異なって、炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、Ｚが硫黄原子の場合、Ｒoはない]
【００１４】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーとしては、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーが好ましい。
【００１５】
本発明の粘着シートは、表面保護フィルムとして使用することができる。
【００１６】
本発明は、また、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータを、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わせることを特徴とする粘着シートの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の粘着シートは、剥離剤層表面に凹凸形状を有するセパレータを使用する。該セパレータは剥離剤を乾燥及び／又は硬化させる工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与する方法で製造されるため効率よく生産することができ、また、その製造方法により均一な剥離剤層を形成することができ、安定した剥離性を発揮することができる。また、粘着剤層に、ベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有するため、優れた粘着力で被着体を保持することができ、また、不揮発性のイオン液体を含有するため、セパレータの剥離により発生した電荷の偏りを中和することができ、優れた帯電防止性を継続して発揮することができる。従って、前記のセパレータを粘着剤層に貼り合わせた本発明にかかる粘着シートは、生産性に優れ、被着体に貼り合わせる際にセパレータを剥離しても、静電気の発生を防止することができる。本発明にかかる粘着シートは、埃を嫌う光学用途、例えば液晶ディスプレイのパネルにおいて液晶セルを偏光板や波長板等の光学部材と貼り合せる用途や表面保護フィルム等に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる工程終了後の状態の一例を示す概略断面図である。
【図２】水滴形成面に剥離剤溶液を塗布して剥離剤塗布層を形成する工程終了後の状態の一例を示す概略断面図である。
【図３】有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させ、表面に凹凸形状を有する剥離剤処理層を形成する工程の乾燥前期の状態の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明のパレータの一例を示す概略断面図である。
【図５】セパレータ（１）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図６】セパレータ（１）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図７】セパレータ（２）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図８】セパレータ（２）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図９】セパレータ（３）の剥離剤処理層表面における２Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【図１０】セパレータ（３）の剥離剤処理層表面における３Ｄ画像を示すレーザー顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明にかかる粘着シートは、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成したセパレータを有する。上記粘着シートは、片面のみが粘着面となっている片面粘着シートであってもよく、両面が粘着面となっている両面粘着シートであってもよい。また、粘着剤層のみからなる基材レスタイプの粘着シートであってもよく、基材の少なくとも片面側に粘着剤層を有する基材付きタイプの粘着シートであってもよい。
【００２０】
［粘着剤組成物］
本発明の粘着剤組成物は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する。
【００２１】
（イオン液体）
イオン液体とは、２５℃で液状を呈する溶融塩（イオン性化合物）をいう。イオン液体を用いることにより優れた帯電防止性が得られる理由の詳細は明らかでないが、次のように推測される。すなわち、イオン液体は液状であるため、一般に使用される界面活性剤と比べ分子運動が容易であり、電荷の偏りが発生した際に分子の再配列が起き易い。従って、イオン液体を用いた場合には分子再配列による電荷中和機構が働くため、優れた帯電防止効果が得られると考えられる。また、イオン液体は室温で液状を呈するため、固体の塩と比べ粘着剤への添加及び分散又は溶解が容易に行える。さらに、イオン液体は蒸気圧がない（不揮発性）のため、経時で消失することもなく、帯電防止性が継続して得られる特徴を有する。
【００２２】
本発明のイオン液体としては、なかでも含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、含リンオニウム塩が好ましく、特に優れた帯電防止能が得られる理由から上記一般式（Ａ）〜（Ｄ）で表される有機カチオン成分とアニオン成分からなる塩が好ましく用いられる。
【００２３】
式（Ａ）で表されるカチオンとしては、例えば、ピリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピロリン骨格を有すカチオン、ピロール骨格を有すカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１−エチルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン；１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジメチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−エチルピペリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピぺリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピぺリジニウムカチオン等のピペリジニウムカチオン；１，１−ジメチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−エチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムカチオン、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジプロピルピロリジニウムカチオン、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムカチオン、１，１−ジブチルピロリジニウムカチオン等のピロリジニウムカチオン；２−メチル−１−ピロリンカチオン、１−エチル−２−フェニルインドールカチオン、１，２−ジメチルインドールカチオン、１−エチルカルバゾールカチオン等が挙げられる。
【００２４】
式（Ｂ）で表されるカチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、テトラヒドロピリミジニウムカチオン、ジヒドロピリミジニウムカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１，３−ジエチルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−デシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１−テトラデシル−３−メチルイミダゾリウムカチオン、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムカチオン、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムカチオン等のイミダゾリウムカチオン；１，３−ジメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，５−テトラメチル−１，４，５，６−テトラヒドロピリミジニウムカチオン等のテトラヒドロピリミジニウムカチオン；１，３−ジメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，３−ジメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３−トリメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，４−ジヒドロピリミジニウムカチオン、１，２，３，４−テトラメチル−１，６−ジヒドロピリミジニウムカチオン等のジヒドロピリミジニウムカチオン等が挙げられる。
【００２５】
式（Ｃ）で表されるカチオンとしては、例えば、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオン等が挙げられる。具体例としては、例えば、１−メチルピラゾリウムカチオン、３−メチルピラゾリウムカチオン、１−エチル−２−メチルピラゾリニウムカチオン等が挙げられる。
【００２６】
式（Ｄ）で表されるカチオンとしては、例えば、テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンや、上記アルキル基の一部がアルケニル基やアルコキシル基、さらにはエポキシ基に置換されたもの等が挙げられる。具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ノニルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムカチオン、トリメチルヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、トリエチルプロピルアンモニウムカチオン、トリエチルペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルヘプチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムカチオン、トリオクチルメチルアンモニウムカチオン、Ｎ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムカチオン、テトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン、テトラヘキシルアンモニウムカチオン、トリブチルエチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、N，N−ジエチル−N―メチル−N−（２−メトキシエチル）アンモニウムカチオン、グリシジルトリメチルアンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン等のテトラアルキルアンモニウムカチオン；トリメチルスルホニウムカチオン、トリエチルスルホニウムカチオン、トリブチルスルホニウムカチオン、トリヘキシルスルホニウムカチオン、ジエチルメチルスルホニウムカチオン、ジブチルエチルスルホニウムカチオン、ジメチルデシルスルホニウムカチオン等のトリアルキルスルホニウムカチオン；テトラメチルホスホニウムカチオン、テトラエチルホスホニウムカチオン、テトラブチルホスホニウムカチオン、テトラヘキシルホスホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオン等のテトラアルキルホスホニウムカチオン等が挙げられる。
【００２７】
本発明においては、上記カチオン成分のなかでも、式（Ａ）で表されるカチオン（特に、１−エチルピリジニウムカチオン、１−ブチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−４−メチルピリジニウムカチオン、１−ヘキシル−３−メチルピリジニウムカチオン、１−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン）、式（Ｄ）で表されるカチオン（特に、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、トリブチルエチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、ジエチルメチルスルホニウムカチオン、ジブチルエチルスルホニウムカチオン、ジメチルデシルスルホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオン等の非対称のテトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンやＮ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン、グリシジルトリメチルアンモニウムカチオン等）などが特に優れた帯電防止能が得られる点で好ましく用いられる。
【００２８】
一方、アニオン成分としては、上記カチオン成分と共にイオン液体を形成することができるものであればよく、例えば、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＡｌＣｌ4-、Ａｌ2Ｃｌ7-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＣｌＯ4-、ＮＯ3-、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＣＦ3ＣＯＯ-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＣＦ3ＳＯ3-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-、ＮｂＦ6-、ＴａＦ6-、Ｆ（ＨＦ）n-、（ＣＮ）2Ｎ-、Ｃ4Ｆ9ＳＯ3-、（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2Ｎ-、Ｃ3Ｆ7ＣＯＯ-、（ＣＦ3ＳＯ2）（ＣＦ3ＣＯ）Ｎ-等が挙げられる。なかでも、フッ素原子を含むアニオン成分は、低融点のイオン性化合物が得られることから好ましく用いられる。
【００２９】
本発明におけるイオン液体は、上記カチオン成分とアニオン成分の組み合わせから適宜選択して用いられ、例えば、１−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチルピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−ヘキシルピリジニウムテトラフルオロボレート、１，１−ジメチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピペリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピぺリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピロリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジメチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−エチルピペリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−メチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−プロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ペンチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘキシルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−１−ヘプチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジプロピルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−プロピル−１−ブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１，１−ジブチルピぺリジニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、２−メチル−１−ピロリンテトラフルオロボレート、１−エチル−２−フェニルインドールテトラフルオロボレート、１，２−ジメチルインドールテトラフルオロボレート、１−エチルカルバゾールテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムアセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロブチレート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネート、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムジシアナミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムトリス（トリフルオロメタンスルホニル）メチド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロアセテート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロブチレート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムペルフルオロブタンスルホネート、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムクロライド、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、１，２−ジメチル−３−プロピルイミダゾリウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−メチルピラゾリウムテトラフルオロボレート、３−メチルピラゾリウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−エチル−Ｎ−ノニルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ブチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ペンチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリメチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリエチルヘプチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ−ブチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル−Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−
Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル−Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、トリオクチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチル−Ｎ−プロピル−Ｎ−ペンチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、１−ブチルピリジニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−ブチル−３−メチルピリジニウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、１−エチル−３−メチルイミダゾリウム（トリフルオロメタンスルホニル）トリフルオロアセトアミド、テトラヘキシルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、ジアリルジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジアリルジメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルアンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムテトラフルオロボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル−Ｎ―メチル−Ｎ−（２−メトキシエチル）アンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホネート、グリシジルトリメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、グリシジルトリメチルアンモニウムビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、ジアリルジメチルビス（ペンタフルオロエタンタンスルホニル）イミド等が挙げられる。
【００３０】
イオン液体の合成方法としては、目的とするイオン液体を得ることができれば特に限定されないが、一般的には、文献「イオン液体 −開発の最前線と未来−」[（株）シーエムシー出版発行]に記載されているような、ハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、及び中和法等が用いられる。下記にハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、及び中和法について含窒素オニウム塩を例にその合成方法について示すが、含硫黄オニウム塩、含リンオニウム塩等その他のイオン液体についても同様の手法により得ることができる。
【００３１】
ハロゲン化物法は、下記式（１）〜（３）に示すような反応によって行われる。
まず、３級アミン（Ｒ3Ｎ）とハロゲン化アルキル（ＲＸ：Ｘはハロゲン原子を示し、例えば、塩素、臭素、ヨウ素が用いられる）と反応させてハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）を得る（式（１））。
得られたハロゲン化物を、目的とするイオン液体のアニオン構造（Ａ-）を有する酸（ＨＡ）あるいは塩（ＭＡ：Ｍはアンモニウム、リチウム、ナトリウム、カリウム等、目的とするアニオンと塩を形成するカチオン）と反応させて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる（式（２）、（３））。
Ｒ3Ｎ＋ＲＸ→Ｒ4ＮＸ （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （１）
Ｒ4ＮＸ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＨＸ （２）
Ｒ4ＮＸ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＸ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （３）
【００３２】
水酸化物法は、下記式（４）〜（８）に示すような反応によって行われる。
まず、ハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）をイオン交換膜法電解（式（４））、ＯＨ型イオン交換樹脂法（式（５））又は酸化銀（Ａｇ2Ｏ）との反応（反応式（６））で水酸化物（Ｒ4ＮＯＨ）を得る。
得られた水酸化物を上記ハロゲン化法と同様に反応式（７）、（８）の反応の用いて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる。
Ｒ4ＮＸ＋Ｈ2Ｏ→Ｒ4ＮＯＨ＋１／２Ｈ2＋１／２Ｘ2 （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （４）
Ｒ4ＮＸ＋Ｐ−ＯＨ→Ｒ4ＮＯＨ＋Ｐ−Ｘ （Ｐ−ＯＨ：ＯＨ型イオン交換樹脂） （５）
Ｒ4ＮＸ＋１／２Ａｇ2Ｏ＋１／２Ｈ2Ｏ→Ｒ4ＮＯＨ＋ＡｇＸ （６）
Ｒ4ＮＯＨ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋Ｈ2Ｏ （７）
Ｒ4ＮＯＨ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＯＨ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （８）
【００３３】
酸エステル法は、下記式（９）〜（１１）に示すような反応によって行われる。
まず、３級アミン（Ｒ3Ｎ）を酸エステル（ＲＯＹ）と反応させて酸エステル物（Ｒ4ＮＯＹ）を得る（式（９））。酸エステルとしては、硫酸、亜硫酸、リン酸、亜リン酸、炭酸等の無機酸のエステルやメタンスルホン酸、メチルホスホン酸、蟻酸等の有機酸のエステル等が用いられる。
得られた酸エステル物（Ｒ4ＮＯＹ）を上記ハロゲン化法と同様に反応式（１０）、（１１）の反応の用いて目的とするイオン液体（Ｒ4ＮＡ）が得られる。また、酸エステルとしてメチルトリフルオロメタンスルホネート、メチルトリフルオロアセテート等を用いることにより、直接イオン液体を得ることもできる。
Ｒ3Ｎ＋ＲＯＹ→Ｒ4ＮＯＹ （９）
【化２】
Ｒ4ＮＯＹ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＨＯＹ （ＯＹ：Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲの場合には、Ｒ4ＮＯ（Ｃ＝Ｏ）ＯＲ＋ＨＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＣＯ2＋ＲＯＨ） （１０）
Ｒ4ＮＯＹ＋ＭＡ→Ｒ4ＮＡ＋ＭＯＹ （Ｍ：ＮＨ4，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ等） （１１）
【００３４】
錯形成法は、下記式（１２）〜（１５）に示すような反応によって行われる。
まず、４級アンモニウムのハロゲン化物（Ｒ4ＮＸ）、４級アンモニウムの水酸化物（Ｒ4ＮＯＨ）、４級アンモニウムの炭酸エステル化物（Ｒ4ＮＯＣＯ2ＣＨ3）等をフッ化水素（ＨＦ）やフッ化アンモニウム（ＮＨ4Ｆ）と反応させてフッ化４級アンモニウム塩を得る（式（１２）〜（１４））。
得られたフッ化４級アンモニウム塩をＢＦ3，ＡｌＦ3，ＰＦ5，ＡＳＦ5，ＳｂＦ5，ＮｂＦ5，ＴａＦ5等のフッ化物と錯形成反応により、イオン液体を得ることができる（式（１５））。
Ｒ4ＮＸ＋ＨＦ→Ｒ4ＮＦ＋ＨＸ （Ｘ：Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ） （１２）
Ｒ4ＮＹ＋ＨＦ→Ｒ4ＮＦ＋ＨＹ （Ｙ：ＯＨ，ＯＣＯ2ＣＨ3） （１３）
Ｒ4ＮＹ＋ＮＨ4Ｆ→Ｒ4ＮＦ＋ＮＨ3＋ＨＹ （Ｙ：ＯＨ，ＯＣＯ2ＣＨ3） （１４）
Ｒ4ＮＦ＋ＭＦn-1→Ｒ4ＮＭＦn （ＭＦn-1：ＢＦ3，ＡｌＦ3，ＰＦ5，ＡＳＦ5，ＳｂＦ5，ＮｂＦ5，ＴａＦ5等） （１５）
【００３５】
中和法は、下記式（１６）に示すような反応によって行われる。
３級アミンとＨＢＦ4，ＨＰＦ6，ＣＨ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＳＯ3Ｈ，（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＨ，（ＣＦ3ＳＯ2）3ＣＨ，（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2ＮＨ等の有機酸とを反応させることにより得ることができる。
Ｒ3Ｎ＋ＨＺ→Ｒ3ＨＮ＋Ｚ− [ＨＺ：ＨＢＦ4，ＨＰＦ6，ＣＨ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＣＯＯＨ，ＣＦ3ＳＯ3Ｈ，（ＣＦ3ＳＯ2）2ＮＨ，（ＣＦ3ＳＯ2）3ＣＨ，（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2ＮＨ等の有機酸] （１６）
【００３６】
なお、上記式（１）〜（１６）中のＲは、水素原子又は炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
【００３７】
イオン液体の配合量としては、使用するポリマーとイオン液体の相溶性により適宜調整することができ、例えば、ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜４０重量部が好ましく、０．０５〜２０重量部がより好ましく、０．１〜１０重量部がさらに好ましく、０．２〜４重量部が最も好ましい。イオン液体の配合量が０．０１重量部未満であると十分な帯電防止特性が得られにくくなる傾向があり、一方、イオン液体の配合量が４０重量部を超えると被着体への汚染が増加する傾向がある。
【００３８】
（ベースポリマー）
本発明では、ベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーが用いられるが、なかでもガラス転移温度（Ｔｇ）が−１００℃〜−５℃が好ましく、特に−８０℃〜−１０℃が好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃を超えると、イオン液体を含有する場合でも、十分な粘着力を得ることが困難となる。
【００３９】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーとしては、炭素数１〜１４のアルキル基を有すアクリレート及び／又はメタクリレート（以下、（メタ）アクリレートと称す場合がある）の１種又は２種以上を主成分とするアクリル系ポリマー、天然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳブロック共重合体）、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳブロック共重合体）、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳブロック共重合体）、スチレン−ブタジエンゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ブチルゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム等の一般的に粘着剤のポリマーとして使用されるポリマーが挙げられる。
【００４０】
これらのなかでもイオン液体との相溶性のバランス及び優れた粘着特性が得られることから、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートの１種又は２種以上を主成分とするアクリル系ポリマーが好ましく、特に、炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートの１種又は２種以上を５０〜１００重量％含有する単量体を主成分とする、重量平均分子量が１０万以上のアクリル系ポリマーが好ましい。
【００４１】
炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
本発明の粘着シートを表面保護フィルムに用いる場合には、アクリル系ポリマーとしてヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等の炭素数６〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートからなるアクリル系ポリマーが好適に用いられる。これらの炭素数６〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートからなるアクリル系ポリマーを用いることにより、被着体への粘着力を低く制御することが容易となり、再剥離性に優れたものとなる。
【００４３】
その他の成分としては、粘着性能のバランスが取りやすい理由から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下（通常−１００℃以上）になる範囲で、適宜スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物等の凝集力・耐熱性向上成分や、カルボキシル基含有モノマー、酸無水物基含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等の接着力向上や架橋化基点として働く官能基を有す成分を用いることができる。その他の成分は１種又は２種以上併用して用いることができる。
【００４４】
但し、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸官能基を有す（メタ）アクリレートを用いる場合は、アクリル系ポリマーの酸価が３９以下（特に、酸価が３０未満）になるように調整する方が好ましい。アクリル系ポリマーの酸価が３９を超えると、帯電防止特性が悪くなる傾向にある。
【００４５】
酸価は、酸官能基を有す（メタ）アクリレートの配合量により調整することができ、例えばカルボキシル基を有すアクリル系ポリマーとして２−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸を共重合したアクリル系ポリマーが挙げられるが、この場合、２−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸の合計量１００重量部に対して、アクリル酸は５・０重量部以下に調整することで上記酸価の値を満足することができる。また、表面保護フィルムに用いる場合には、アクリル系ポリマーの酸価が１以下になるように調整する方が好ましい。アクリル系ポリマーの酸価を１以下にすることで被着体からの易剥離性に優れた表面保護フィルムを得ることができる。
【００４６】
スルホン酸基含有モノマーとしては、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等が挙げられる。
【００４７】
リン酸基含有モノマーとしては２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートが挙げられる。シアノ基含有モノマーとしてはアクリロニトリルが挙げられる。ビニルエステル類としては酢酸ビニルが挙げられる。芳香族ビニル化合物としてはスチレンが挙げられる。カルボキシル基含有モノマーとしては（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。酸無水物基含有モノマーとしては無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。
【００４８】
ヒドロキシル基含有モノマーとしては２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルアクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。
【００４９】
アミド基含有モノマーとしては（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、ジエチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミドが挙げられる。
【００５０】
アミノ基含有モノマーとしてはＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートが挙げられる。エポキシ基含有モノマーとしてはグリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００５１】
ビニルエーテル類としてはビニルエチルエーテルが挙げられる。
【００５２】
本発明のアクリル系ポリマーとしては、さらに優れた低汚染性を発現させるためにアルキレングリコール含有アクリレートやアルキレンオキシド基含有反応性界面活性剤等のエーテル基含有モノマー成分を共重合成分として用いることができる。エーテル基含有モノマー成分を共重合することによりかかる特性を発現する理由の詳細は明らかではないが、エーテル基にイオン液体が配位することでイオン液体がブリードしにくくなり、優れた帯電防止性と低汚染性を両立して実現していると推測される。
【００５３】
アルキレングリコール含有アクリレートとしては、オキシアルキレン単位として炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４のアルキレン基を有するアクリレートが好ましい。アルキレン基の具体例としては、例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げられる。（メタ）アクリートへのオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体が配位する観点から１〜５０程度、なかでも２〜３０がより好ましい。オキシアルキレン鎖の末端は、水酸基のままであってもよく、アルキル基、フェニル基等で置換されていてもよい。
【００５４】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、メトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；エトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のエトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；ブトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のブトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；フェノキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のフェノキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；メトキシ―ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート型等が挙げられる。
【００５５】
上記アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートは単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、（メタ）アクリル系ポリマーの単量体成分中、５０重量％未満であることが好ましく、０．０５〜３０重量％がより好ましい。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートを上記範囲含有すると、低汚染性に優れると共に優れた帯電防止効果を発揮することができる。
【００５６】
アルキレンオキシド基含有反応性界面活性剤とは、反応性不飽和結合を有しているアルキレンオキシド基含有化合物をいう。具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基又はアリル基を有するアニオン型反応性界面活性剤、ノニオン型反応性界面活性剤、カチオン型反応性界面活性剤が挙げられる。なかでも、エチレンオキシド基を有すアクリロイル基、メタクリロイル基又はアリル基を有するアニオン型反応性界面活性剤、ノニオン型反応性界面活性剤、カチオン型反応性界面活性剤等が好適に用いられる。
【００５７】
アニオン型反応性界面活性剤としては、下記式（Ａ１）〜（Ａ１３）で表せられるもの等が挙げられる。
【化３】
[式（Ａ１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム基、炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化４】
[式（Ａ２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、アルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム、炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化５】
[式（Ａ３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ7は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3及びＲ5は同一又は異なって、水素又はアルキル基を表し、Ｒ4及びＲ6は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、ベンジル基又はスチレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の数を表す]
【化６】
[式（Ａ４）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウム基を表し、ｎは２〜５０の数を表す。]
【化７】
[式（Ａ５）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又はアンモニウム基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化８】
[式（Ａ６）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又は炭素数１から４のヒドロキシアルキルアンモニウム基を表し、ｎは０〜５０、ｍは０〜２０の数を表す]
【化９】
[式（Ａ７）中、Ｒ1は炭化水素基、アミノ基、カルボン酸残基を表し、Ｒ2は炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎは０〜５０の数を表す]
【化１０】
[式（Ａ８）中、Ｒ1は炭素数１から３０の炭化水素基、Ｒ2は水素原子又は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｒ3は水素原子又はプロペニル基を表し、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｍはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアミン残基を表し、ｎは１〜５０の数を表す]
【化１１】
[式（Ａ９）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の数を表す]
【化１２】
[式（Ａ１０）中、Ｒ1及びＲ5は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表し、ｎ及びｍは１〜５０の整数を表す]
【化１３】
[式（Ａ１１）中、Ｒ1は炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアミン基を表し、ｎは１〜５０の整数を表す]
【化１４】
[式（Ａ１２）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す。Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表す]
【化１５】
[式（Ａ１３）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す。Ｍ1及びＭ2は同一又は異なって、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム基又はアルカノールアンモニウム基を表す]
【００５８】
ノニオン型反応性界面活性剤としては、式（Ｎ１）〜（Ｎ６）で表せられるもの等が挙げられる。
【化１６】
[式（Ｎ１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１７】
[式（Ｎ２）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2は炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、Ｒ3及びＲ4は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１８】
[式（Ｎ３）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ4は炭素数１〜３０の炭化水素基又はアシル基を表し、ｎ及びｍは０〜５０の数を表す]
【化１９】
[式（Ｎ４）中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって、炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｒ3は水素原子又はプロペニル基を表し、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、ｎは１〜５０の数を表す]
【化２０】
[式（Ｎ５）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一又は異なって、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は炭素数０から３０のアルキレン基（炭素数０の場合はＲ4がないことを示す）、Ｒ5及びＲ6は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキレン基を表す。ｍは０〜５０の数を表し、ｎは０〜１００の数を表し、（ｍ＋ｎ）は１〜１５０の数を表す]
【化２１】
[式（Ｎ６）中、Ｒ1及びＲ3は同一又は異なって炭素数１から６のアルキレン基を表し、Ｒ2及びＲ4は同一又は異なって水素原子、炭素数１から３０の炭化水素基又はアシル基を表し、ｎ及びｍは、０〜５０であって、（ｎ＋ｍ）が３〜５０となる数を表す]
【００５９】
カチオン型反応性界面活性剤としては、式（Ｃ１）と（Ｃ２）で表せられるもの等が挙げられる。
【化２２】
[式（Ｃ１）中、Ｒ1及びＲ2は同一又は異なって炭素数１から３０のアルキル基を表し、Ｒ3は炭素数１から３０の炭化水素基を表し、Ｘは塩素又は臭素を表す]
【化２３】
[式（Ｃ２）中、Ｒは炭素数１から３０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい]
【００６０】
上記反応性界面活性剤は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。反応性界面活性剤の使用量としては、（メタ）アクリル系ポリマーの単量体成分中２０重量％以下であることが好ましく、０．０５〜１０重量％がより好ましく、０．１〜５重量％が特に好ましい。反応性界面活性剤を上記範囲含有するイオン液体は、優れたブリード抑制効果、及び、被着体の汚染低減効果を発揮することができる。
【００６１】
上記アクリル系ポリマーは、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等アクリル系ポリマーの合成手法として一般的に用いられる重合方法によって得られる。
【００６２】
本発明においては、ベースポリマー（特に、アクリル系ポリマー）を適宜架橋することにより、更に耐熱性に優れた粘着シートを得ることができる。架橋方法の具体的手段としては、イソシアネ−ト化合物、エポキシ化合物、メラミン系樹脂、アジリジン誘導体等の一般的な架橋剤を添加して、ベースポリマー中の架橋化基点であるカルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アミド基等と反応させる方法がある。
【００６３】
イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート；イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６４】
ポリイソシアネ−ト化合物としては、例えばブチレンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト等の低級脂肪族ポリイソシアネ−ト類；シクロペンチレンジイソシアネ−ト、シクロヘキシレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト等の脂環族イソシアネ−ト類；２，４−トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト等の芳香族ジイソシアネ−ト類；トリメチロ−ルプロパン／トリレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＬ」、日本ポリウレタン工業（株）製），トリメチロ−ルプロパン／ヘキサメチレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＨＬ」、日本ポリウレタン工業（株）製）、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）製）等のイソシアネ−ト付加物等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６５】
エポキシ化合物としてはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ」、三菱瓦斯化学（株）製）、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ」、三菱瓦斯化学（株）製）等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６６】
メラミン系樹脂としてはヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。アジリジン誘導体としては、例えば、商品名「ＨＤＵ」（相互薬工社製）、商品名「ＴＡＺＭ」（相互薬工社製）、商品名「ＴＡＺＯ」（相互薬工社製）等の市販品が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６７】
これらの架橋剤のなかでも、適度な凝集力を得る観点から、イソシアネ−ト化合物やエポキシ化合物が好適に使用される。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。
【００６８】
架橋剤の使用量は、架橋すべきアクリル系ポリマーとのバランスにより、さらには、粘着シートの用途によって適宜調整される。アクリル系粘着剤の凝集力により充分な耐熱性を得るには、上記アクリル系ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜１５重量部含有されていることが好ましく、０．５〜１０重量部含有されていることがより好ましく、０．５〜５重量部含有されていることがさらに好ましく、１〜３重量部含有されていることが最も好ましい。含有量が０．０１重量部を下回ると、架橋剤による架橋形成が不十分となり、粘着剤組成物の凝集力が小さくなって、十分な耐熱性が得られない場合があり、また、糊残りの原因となる傾向がある。一方、含有量が１５重量部を上回ると、ポリマーの凝集力が大きくなりすぎ、流動性が低下し、被着体への濡れが不十分となって、はがれの原因となる傾向がある。
【００６９】
また、実質的な架橋剤として活性エネルギー線反応性不飽和結合を２個以上有す多官能モノマーを添加し、活性エネルギー線等で架橋させることもできる。
【００７０】
活性エネルギー線反応性不飽和結合を２個以上有す多官能モノマーとしては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルベンジル基等の活性エネルギー線の照射により架橋構造を形成しうる１種又は２種以上の活性エネルギー線反応性基を２個以上有す多官能モノマー成分が用いられる。なお、一般的には活性エネルギー線反応性不飽和結合が１０個以下のものが好適に用いられる。多官能モノマーは２種以上を併用することも可能である。多官能モノマーの具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等挙げられる。
【００７１】
多官能モノマーの使用量は、架橋すべきアクリル系ポリマーとのバランスにより、さらには、粘着シートの用途によって適宜調整される。アクリル系粘着剤の凝集力により充分な耐熱性を得るには、アクリル系ポリマー１００重量部に対して０．１〜３０重量部配合するのが好ましい。また柔軟性、接着性の点からアクリル系ポリマー１００重量部に対して、１０重量部以下（例えば、０．１〜１０重量部）、好ましくは５重量部以下（例えば、０．１〜５重量部）、さらに３重量部以下（例えば、０．１〜３重量部）配合するのがより好ましい。
【００７２】
活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、レーザー線、α線、β線、γ線、ｘ線、電子線等が挙げられるが、制御性及び取り扱い性の良さ、及びコストの点から紫外線（好ましくは、波長２００〜４００ｎｍの紫外線）が用いられる。紫外線は、高圧水銀灯、マイクロ波励起型ランプ、ケミカルランプ等の適宜光源を用いて照射することができる。また、活性エネルギー線として紫外線を用いる場合にはアクリル系粘着剤に光重合開始剤を添加することが好ましい。
【００７３】
光重合開始剤としては、活性エネルギー線反応性成分の種類に応じ、その重合反応の引金となり得る適当な波長の紫外線を照射することによりラジカルもしくはカチオンを生成する物質であればよい。
【００７４】
光ラジカル重合開始剤として例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル−ｐ−ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベンゾイン等のベンゾイン類；ベンジルジメチルケタール、トリクロルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−イソプロピル−２−メチルプロピオフェノン等のプロピオフェノン類；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２−クロルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−（エトキシ）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類；ベンジル、ジベンゾスベロン、α−アシルオキシムエステル等が挙げられる。
【００７５】
光カチオン重合開始剤として例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩；鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類；ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、スルホン酸誘導体、リン酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホナート等が挙げられる。
【００７６】
光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。光重合開始剤の使用量としては、例えば、アクリル系ポリマー１００重量部に対し、通常０．１〜１０重量部程度、好ましくは０．２〜７重量部程度である。
【００７７】
さらにアミン類等の光重合開始剤の開始助剤を併用することも可能である。前記開始助剤としては、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。開始助剤の使用量としては、例えば、アクリル系ポリマー１００重量部に対し、０．０５〜１０重量部程度、好ましくは０．１〜７重量部程度である。
【００７８】
さらに本発明の粘着剤組成物には、従来公知の各種の粘着付与剤や表面潤滑剤、レべリング剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリンング剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、顔料等の粉末状、粒子状、箔状等の添加剤を用途に応じて適宜添加することができる。
【００７９】
さらにまた、本発明の粘着剤組成物には、適宜エーテル基含有化合物を添加することができる。エーテル基含有化合物を粘着剤組成物に添加することにより、理由は定かではないが、さらに帯電防止性を向上させることができる。また、エーテル基含有化合物を添加することでフッ素等の非極性の材料に対して濡れ性が向上し、イオン液体の被着体への転写を効率よく行うことができる。
【００８０】
エーテル基含有化合物としては、エーテル基を有す化合物であれば特に限定されず、周知慣用のエーテル基含有化合物が用いられる。エーテル基含有化合物としては、例えば、ポリエーテルポリオール化合物やアルキレンオキシド基含有化合物等が挙げられる。なかでも、ポリエーテルポリオール化合物、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマー、及びエーテル型界面活性剤がベースポリマーとの相溶性のバランスがとり易い点で、好適に使用される。
【００８１】
ポリエーテルポリオール化合物としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール（ジオール型）、ポリプロピレングリコール（トリオール型）、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、及び上記誘導体やポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールのブロック共重合体、ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールのブロック共重合体、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールのブロック共重合体、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールのランダム共重合体やブロック共重合体等が挙げられる。グリコール鎖の末端は、水酸基のままや、アルキル基、フェニル基等で置換されていてもよい。
【００８２】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマーとしては、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートを必須成分とするアクリル系ポリマーが用いられる。（メタ）アクリートのオキシアルキレン単位としては、炭素数１〜６のアルキレン基を有するものが挙げられ、例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げられる。（メタ）アクリートへのオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体が配位する観点から１〜５０程度、なかでも２〜３０程度がより好ましい。オキシアルキレン鎖の末端は、水酸基のままでもよく、アルキル基やフェニル基等で置換されていてもよい。
【００８３】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；エトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のエトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；ブトキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のブトキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；フェノキシ―ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ―トリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のフェノキシ―ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート型；メトキシ―ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のメトキシ―ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート型等が挙げられる。
【００８４】
また、上記成分以外にメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜１４のアルキル基を有す（メタ）アクリレートを共重合成分として用いてもよい。
【００８５】
さらには、リン酸基含有（メタ）アクリレート、シアノ基含有（メタ）アクリレート、ビニルエステル類、芳香族ビニル化合物、酸無水物基含有（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート、アミド基含有（メタ）アクリレート、アミノ基含有（メタ）アクリレート、エポキシ基含有（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテル類を共重合成分として用いてもよい。
【００８６】
アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートポリマー中に含まれるアルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率としては１０〜７０重量％が好ましい。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率が１０重量％を下回ると、イオン液体との相溶性が悪くなり、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。一方、アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートの比率が７０重量％を上回ると、ベースポリマーであるアクリル系ポリマーとの相溶性が低下して、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。アルキレングリコール基含有（メタ）アクリレートは単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００８７】
エーテル型界面活性剤としては、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル類、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシアルキレン誘導体、ポリオキシアルキレンアルキルアミン類、ポリオキシアルキレンアルキルアミン脂肪酸エステル類等の非イオン性界面活性剤；ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類等のアニオン性界面活性剤；アルキレンオキシド基を有するカチオン性界面活性剤；両イオン性界面活性剤が挙げられる。また、エーテル型界面活性剤は、分子中に（メタ）アクリロイル基、アリル基等の反応性置換基を有していてもよい。
【００８８】
これらのなかでも、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン誘導体、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン脂肪酸エステル類等のエチレンオキシド基を有する非イオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類等のエチレンオキシド基を有するアニオン性界面活性剤；エチレンオキシド基を有するカチオン性界面活性剤や両イオン性界面活性剤が好ましく用いられる。また、分子中に（メタ）アクリロイル基、アリル基等の反応性置換基を有していてもよい。
【００８９】
アルキレンオキシド基を有する界面活性剤のオキシアルキレン単位の付加モル数としては、イオン液体との相互作用の観点から、例えば、１〜５０程度が好ましく、なかでも２〜４０程度がより好ましい。オキシアルキレン単位の付加モル数が１未満の場合、イオン液体及びベースポリマーとの相溶性のバランスがとりにくく、被着体へのブリードが増加する傾向がある。一方、オキシアルキレン単位の付加モル数が５０を超える場合、イオン液体がエチレンオキシド基によって拘束され、帯電防止特性が低下する傾向がある。
【００９０】
エーテル型界面活性剤の具体例としては、（株）ＡＤＥＫＡ製の商品名「アデカリアソープＮＥ−１０」、「アデカリアソープＳＥ−１０Ｎ」、「アデカリアソープＳＥ−２０Ｎ」、「アデカリアソープＥＲ−１０」、「アデカリアソープＳＲ−１０」、「アデカリアソープＳＲ−２０」や、花王（株）製の商品名「エマルゲン１２０」、第一工業製薬（株）製の商品名「ノイゲンＥＡ１３０Ｔ」等が挙げられる。
【００９１】
エーテル基含有化合物の分子量としては、数平均分子量が１００００以下のもの、好ましくは、２００〜５０００のものが好適に用いられる。数平均分子量が１００００を上回ると、被着体への汚染性が悪化する傾向がある。なお、数平均分子量はＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定して得られたものをいう。エーテル基含有化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合してもよい。
【００９２】
エーテル基含有化合物の配合量としては、例えば、ベースポリマー１００重量部に対して０．０１〜１０重量部程度、好ましくは０．０５重量部〜５重量部程度である。エーテル基含有化合物の配合量が０．０１重量部を下回ると、十分な帯電特性が得られにくくなる傾向がある。一方、エーテル基含有化合物の配合量が１０重量部を上回ると、被着体への汚染が増加する傾向がある。
【００９３】
また、本発明の粘着剤組成物には、ケト−エノール互変異性を生じる化合物を添加することができる。本化合物を添加することにより粘着剤組成物のゲル化を抑制することができ、粘着剤組成物のポットライフを延ばす効果が得られる。
【００９４】
ケト−エノール互変異性を生じる化合物としては、例えば、アセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２−メチルヘキサン−３，５−ジオン、６−メチルヘプタン−２，４−ジオン、２，６−ジメチルヘプタン−３，５−ジオン；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ｔｅｒｔ−ブチル等のアセト酢酸エステル；プロピオニル酢酸メチル、プロピオニル酢酸エチル、プロピオニル酢酸イソプロピル、プロピオニル酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル等のプロピオニル酢酸エステル；イソブチリル酢酸メチル、イソブチリル酢酸エチル、イソブチリル酢酸イソプロピル、イソブチリル酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル等のイソブチリル酢酸エステル；及びマロン酸エステル等が挙げられる。なかでも、アセチルアセトンやアセト酢酸エステルが好ましく用いられる。
【００９５】
（基材）
基材付き粘着シートにおいて使用する基材としては、例えば、紙、不織布等の多孔質材料からなる基材やポリエステルフィルム等のプラスチック基材、ゴムシート等のゴム基材、発泡シート等の発泡基材等が挙げられる。
【００９６】
特に、粘着シートを表面保護フィルムとして使用する場合には、基材としてプラスチック基材が好適に用いられる。プラスチック基材としては、シート状やフィルム状に形成できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−ブテン、ポリ−４−メチル−１−ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のポレオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ナイロン６、ナイロン６６、部分芳香族ポリアミド等のポリアミドフィルム；ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
【００９７】
粘着シートを部材の貼り合わせに使用する場合には、基材の厚みは、通常１〜２０００μｍ、好ましくは５〜１０００μｍ、より好ましくは５〜５００μｍ、さらに好ましくは５〜３００μｍ、最も好ましくは１０〜１００μｍである。粘着シートを表面保護フィルムとして使用する場合には、基材の厚みは、通常５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ程度である。
【００９８】
プラスチック基材には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系若しくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理、塗布型、練り込み型、蒸着型等の静電防止処理を施すこともできる。また、表面保護フィルムに使用するプラスチック基材には、帯電防止処理が施されることが好ましい。
【００９９】
プラスチック基材に施される帯電防止処理としては特に限定されないが、例えば、基材の少なくとも片面に帯電防止層を設ける方法やプラスチック基材に練り込み型帯電防止剤を練り込む方法が用いられる。
【０１００】
帯電防止層を設ける方法としては、帯電防止剤と樹脂成分から成る帯電防止性樹脂や導電性ポリマー、導電性物質を含有する導電性樹脂を有機溶剤もしくは水等の溶媒で希釈し、この塗液をプラスチック基材に塗布、乾燥することで形成する方法や導電性物質を蒸着あるいはメッキする方法が挙げられる。
【０１０１】
帯電防止性樹脂に含有される帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１、第２、第３アミノ基等のカチオン性官能基を有すカチオン型帯電防止剤、スルホン酸塩や硫酸エステル塩、ホスホン酸塩、リン酸エステル塩等のアニオン性官能基を有するアニオン型帯電防止剤、アルキルベタイン及びその誘導体、イミダゾリン及びその誘導体、アラニン及びその誘導体等の両性型帯電防止剤、アミノアルコール及びその誘導体、グリセリン及びその誘導体、ポリエチレングリコール及びその誘導体等のノニオン型帯電防止剤、更には、上記カチオン型、アニオン型、両性イオン型のイオン導電性基を有する単量体を重合もしくは共重合して得られたイオン導電性重合体が挙げられる。
【０１０２】
カチオン型の帯電防止剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アシロイルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメトサルフェート、アルキルベンジルメチルアンモニウム塩、アシル塩化コリン、ポリジメチルアミノエチルメタクリレート等の４級アンモニウム基を有する（メタ）アクリレート共重合体、ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム基を有するスチレン共重合体、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム基を有するジアリルアミン共重合体等が挙げられる。
【０１０３】
アニオン型の帯電防止剤としては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルエトキシ硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩、スルホン酸基含有スチレン共重合体が挙げられる。
【０１０４】
両性イオン型の帯電防止剤としては、アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタイン、カルボベタイングラフト共重合が挙げられる。
【０１０５】
ノニオン型の帯電防止剤としては、脂肪酸アルキロールアミド、ジ−（２−ヒドロキシエチル）アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、脂肪酸グリセリンエステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンジアミン、ポリエーテルとポリエステルとポリアミドから成る共重合体、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１０６】
導電性ポリマーとしては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等が挙げられる。
【０１０７】
導電性物質としては、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化亜鉛、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、及びそれらの合金又は混合物が挙げられる。
【０１０８】
帯電防止性樹脂及び導電性樹脂に用いられる樹脂成分としては、ポリエステル、アクリル、ポリビニル、ウレタン、メラミン、エポキシ等の汎用樹脂が用いられる。なお、高分子型帯電防止剤を使用する場合には樹脂成分を含有させなくてもよい。また、帯電防止樹脂成分に、架橋剤としてメチロール化あるいはアルキロール化したメラミン系、尿素系、グリオキザール系、アクリルアミド系等の化合物、エポキシ化合物、イソシアネート系化合物を含有させることも可能である。
【０１０９】
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ｎ−ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。これらは単独で、もしくは複数を組み合わせて使用することができる。塗布方法については公知の塗布方法が用いられ、具体的には、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート、含浸及びカーテンコート法が挙げられる。
【０１１０】
前記帯電防止性樹脂、導電性ポリマー及び導電性樹脂により形成した帯電防止層の厚みとしては通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．０３〜１μｍ程度である。
【０１１１】
導電性物質の蒸着あるいはメッキの方法としては、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、化学蒸着、スプレー熱分解、化学メッキ、電気メッキ法等が挙げられる。導電性物質層の厚みとしては、通常２０〜１００００Åであり、好ましくは５０〜５０００Åである。
【０１１２】
練り込み型帯電防止剤としては、上記帯電防止剤が適宜用いられる。練り込み型帯電防止剤の配合量としては、プラスチック基材の総重量に対して２０重量％以下、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で用いられる。練り込み方法としては、前記帯電防止剤がプラスチック基材として用いられる樹脂に均一に混合できる方法であれば特に限定されず、一般的には加熱ロール、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、二軸混練機等が用いられる。
【０１１３】
プラスチック基材の片面には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系若しくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理をすることもできる。
【０１１４】
（粘着剤層）
粘着剤層は、例えば、上記イオン液体及び粘着剤組成物を含むコーティング剤を、適当なセパレータ（剥離紙など）上に塗布、乾燥することにより、所望の厚み、面積を有するフィルム状の粘着剤層を簡便に得ることができる。基材付き粘着シートの場合はセパレータの代わりに基材上に塗布、乾燥して粘着剤層を形成してもよい。粘着剤組成物を含むコーティング剤の塗布方法としては粘着シートの製造に用いられる公知の方法が用いられ、具体的にはロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート法等が挙げられる。粘着剤層は単層、複層の何れであってもよい。
【０１１５】
上記粘着剤層の厚みは特に限定されず、例えば３〜１００μｍ程度、好ましくは５〜５０μｍ程度である。
【０１１６】
［セパレータ］
本発明におけるセパレータは、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したものである。
【０１１７】
剥離剤層表面に凹凸形状（凹凸構造）が形成されるのは、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させた後、剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、この水滴を維持しながら有機溶剤を蒸発除去し、さらに凹凸形状を維持した状態で、水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化するためである。
【０１１８】
このような製造方法により得られるセパレータは、セパレータ基材の片面に剥離剤層が設けられ、該剥離剤層表面に凹凸形状が施されていてもよく、セパレータ基剤の両面に剥離剤層が設けられ、両面に設けられた剥離剤層の双方の表面に凹凸形状が施されていてもよく、さらには、セパレータ基剤の両面に設けられた剥離剤層の内、一方の剥離剤層表面にのみ凹凸形状が施されていてもよい。
【０１１９】
（剥離剤）
本発明で用いられる剥離剤としては、塗布されるセパレータ基材上に被膜（例えば、硬化被膜や乾燥塗膜等）を形成することができ、その上、該被膜が用途に応じた適度な剥離性を発揮することができ、且つ、粘着剤層への悪影響を及ぼすことのないものであれば特に制限されることがなく、例えば、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキル系剥離剤、ポリオレフィン系剥離剤等を用いることができる。また、粘着ハンドブック第３版（粘着シート工業会編）の１０３頁〜１３０頁に記載されているものを用いることもできる。なお、剥離剤は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【０１２０】
また、剥離剤としては、粘着シートの粘着剤層面に対して優れた剥離特性（軽剥離性）を発揮させる観点から、剥離力が０〜２５Ｎ／５０ｍｍ程度、好ましくは０．１〜１０Ｎ／５０ｍｍ程度、さらに好ましくは０．１〜５Ｎ／５０ｍｍ程度、最も好ましくは０．１〜１Ｎ／５０ｍｍ程度となる被膜を形成できるものが好ましい。
【０１２１】
本発明の剥離剤としては、溶剤型であるために有機溶剤に溶解しやすく、剥離剤溶液を調製しやすい点、及び、剥離特性に優れる点で、シリコーン系剥離剤が好適に使用される。
【０１２２】
シリコーン系剥離剤のなかでも、特に軽剥離性を発揮することができる点で、熱による付加反応型の架橋（硬化反応）により硬化して剥離性被膜を形成し、有用な剥離特性を発現することが可能な熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤（熱硬化性付加型ポリシロキサン系剥離剤）が好ましい。熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤は、分子中に官能基としてのアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサン（アルケニル基含有シリコーン）、及び分子中に官能基としてのヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンを必須の構成成分とする。
【０１２３】
上記分子中に官能基としてアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、なかでも、分子中にアルケニル基を２個以上有しているポリオルガノシロキサンが好ましい。上記アルケニル基としては、例えば、ビニル基（エテニル基）、アリル基(２−プロペニル基)、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられ、なかでも、ビニル基、ヘキセニル基が好ましい。なお、上記アルケニル基は、通常、主鎖又は骨格を形成しているポリオルガノシロキサンのケイ素原子（例えば、末端のケイ素原子や、主鎖内部のケイ素原子等）に結合している。
【０１２４】
また、上記主鎖又は骨格を形成しているポリオルガノシロキサンとしては、例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリメチルエチルシロキサン等のポリアルキルアルキルシロキサンやポリアルキルアリールシロキサンの他、ケイ素原子含有モノマー成分が複数種用いられている共重合体［例えば、ポリ（ジメチルシロキサン−ジエチルシロキサン）等］等が挙げられる。なかでも、安定した剥離性が得られる点で、ポリジメチルシロキサンが好適である。分子中に官能基としてアルケニル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、ビニル基を官能基として有するポリジメチルシロキサン、ヘキセニル基を官能基として有するポリジメチルシロキサン及びこれらの混合物が好ましく例示される。
【０１２５】
上記分子中に官能基としてヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンは、分子中にケイ素原子に結合している水素原子（特に、Ｓｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子）を有しているポリオルガノシロキサンであり、特に分子中にＳｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子を２個以上有しているポリオルガノシロキサンが好ましい。上記Ｓｉ−Ｈ結合を有するケイ素原子としては、主鎖中のケイ素原子、側鎖中のケイ素原子のいずれであってもよく、すなわち、主鎖の構成単位として含まれていてもよく、側鎖の構成単位として含まれていてもよい。なお、Ｓｉ−Ｈ結合のケイ素原子の数は、２個以上であれば特に制限されない。上記分子中に官能基としてヒドロシリル基を含有するポリオルガノシロキサンとしては、具体的には、ポリメチルハイドロジェンシロキサンやポリ（ジメチルシロキサン−メチルハイドロジェンシロキサン）等が好適である。
【０１２６】
また、本発明では、剥離剤は、有機溶剤が蒸発した段階で、水滴により形成された凹凸形状を一時的に保持する必要があるので、常温で固体［粘弾性体（ゴム状物質）を含む］であることが好ましい。硬化性の剥離剤であれば硬化前に液体であってもよいが、水滴により形成された凹凸形状を一時的に保持できる程度に高粘度（１０［Ｐａ・ｓ］以上、２３℃）であることが好ましい。短時間の加熱で硬化できるような剥離剤であれば、比較的低粘度（１０［Ｐａ・ｓ］未満、２３℃）であっても水滴により形成された凹凸形状を保持できるが、０．１［Ｐａ・ｓ］未満（２３℃）の粘度では凹凸形状の保持はほとんど困難となる。
【０１２７】
なお、粘度は、ＪＩＳ Ｚ ８８０３に準拠して、以下の条件で測定する。
回転粘度計 ： ＢＭ型
ローターＮｏ． ： Ｎｏ．４
回転数 ： ３０ｒｐｍ
測定温度 ： ２５．０±０．５℃
【０１２８】
本発明の剥離剤には、室温における保存安定性を付与するために反応抑制剤が添加されていてもよい。例えば、剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が用いられる場合、反応抑制剤として、例えば、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３−メチル−１−ペンテン−３−オール、３−メチル−３−ペンテン−１−イン、３，５−ジメチル−３−ヘキセン−１−イン等が挙げられる。
【０１２９】
また、剥離剤には、上記反応抑制剤の他にも必要に応じて、剥離コントロール剤等が添加されていてもよい。例えば、剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤が用いられる場合、具体的には、ＭＱレジン等の剥離コントロール剤、アルケニル基又はヒドロシリル基を有しないポリオルガノシロキサン（トリメチルシロキシ基末端封鎖ポリジメチルシロキサン等）等が添加されていてもよい。
【０１３０】
熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤に対する上記反応抑制剤及び剥離コントロール剤等その他の成分の含有量は、特に限定されないが、例えば１〜３０重量％程度が好ましい。
【０１３１】
本発明では、さらに、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤の触媒として一般的に用いられる白金系触媒（なかでも、塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、塩化白金酸のオレフィン錯体から選ばれた少なくとも１つの白金系触媒）を添加することが好ましい。熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤に白金系触媒を添加することにより、剥離剤の硬化速度を促進することができる。
【０１３２】
さらにまた、剥離剤には、必要に応じて各種添加成分（添加剤）が用いられてもよい。添加成分としては、特に限定されないが、例えば、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、着色剤（染料や顔料等）等が例示される。
【０１３３】
（有機溶剤）
上記剥離剤を溶解する有機溶剤としては、剥離剤を均一に溶解できるものであれば特に制限されることがなく、例えば、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶剤；メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。有機溶剤は、単独で使用してもよく、２種以上を混合した混合溶剤として使用してもよい。
【０１３４】
本発明においては、水よりも蒸発しにくい有機溶剤を使用すると、有機溶剤が蒸発するより先に水滴のほうが蒸発してしまい、水滴による凹部の成形性が悪化することから、酢酸ｎ−ブチルを１．０とする相対蒸発速度において、水の相対蒸発速度（０．３８）よりも大きな相対蒸発速度を有するもの、なかでも相対蒸発速度が１．０以上のものが好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等が挙げられる。
【０１３５】
なお、相対蒸発速度は、ＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される蒸発速度であって、具体的には、２５℃、乾燥空気下における酢酸ｎ−ブチルの蒸発時間と各テスト溶剤の蒸発時間との比で表される。各種有機系溶剤の相対蒸発速度は、「最新コーティング技術」（１９８３年（株）総合技術センター発行）１７〜１９ページ記載の表５等に記載されている。
【０１３６】
（剥離剤溶液）
本発明の剥離剤溶液は剥離剤が有機溶剤に溶解された溶液であり、上記剥離剤を有機溶剤に溶解することにより調製される。剥離剤溶液の粘度は、高すぎると剥離剤溶液を塗布した時に水滴の形状が乱される場合があることから、３［Ｐａ・ｓ］以下、なかでも１［Ｐａ・ｓ］以下、特に０．５［Ｐａ・ｓ］以下であることが好ましい。一方、剥離剤溶液の粘度が低すぎると、剥離剤溶液塗膜がセパレータ基材上で流れやすくなり、セパレータ基材への塗工が困難となるため、５［ｍＰａ・ｓ］以上、なかでも１０［ｍＰａ・ｓ］以上、特に２０［ｍＰａ・ｓ］以上であることが好ましい。
【０１３７】
剥離剤溶液における剥離剤の濃度は、高すぎると水滴により凹部が形成される前に有機溶剤が蒸発してしまう場合があることから、０．１〜３０［重量％］、なかでも、１〜２０［重量％］の範囲が好ましい。なお、剥離剤溶液における剥離剤の濃度は、通常剥離剤溶液における剥離剤の濃度が上昇すると粘度も上昇するので、粘度が上記の範囲内となるように制御することが重要である。
【０１３８】
（セパレータ基材）
本発明のセパレータを構成する基材（セパレータ基材）としては、特に限定されず、従来セパレータにおいて基材として慣用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。このような基材としては、例えば、グラシン紙、コート紙、キャストコート紙等の紙基材、これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙、プラスチックフィルム（熱可塑性樹脂フィルム）等のプラスチック基材等を挙げることができる。
【０１３９】
セパレータ基材として紙基材を使用する場合は、剥離剤溶液（塗工液）のしみ込み防止のためポリエチレン等のプラスチックをラミネートしたり、下塗り剤を塗布して目止め処理をすることが好ましい。また、セパレータ表面の凹凸形状は、紙基材の凹凸により影響を受け易い。そこで、本発明におけるセパレータ基材としては、プラスチックフィルム（プラスチック基材）が好ましい。
【０１４０】
上記プラスチックフィルムの素材（熱可塑性樹脂）としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリメチルペンテン（ＰＭＰ）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のα−オレフィンをモノマー成分とするオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；酢酸ビニル系樹脂；ポリカーボネート（ＰＣ）；ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）；ポリアミド（ナイロン）、全芳香族ポリアミド（アラミド）等のアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等が挙げられる。これらの素材は単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。なかでも、ＰＥＴやＰＥＮ等のポリエステルフィルム、ＰＰやＰＭＰ等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ酢酸ビニルフィルム等が好ましく、特に、強度、耐熱性、コスト等の点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）が好ましい。
【０１４１】
セパレータ基材の厚さは、特に限定されることがなく用途や使用目的等に応じて適宜選択できるが、例えば、５〜２５０μｍ程度、好ましくは１０〜１００μｍ程度である。セパレータ基材は単層の形態を有していてもよく、積層された形態を有していてもよい。
【０１４２】
（セパレータの製造方法）
凹凸形状が付与された剥離剤層がセパレータ基材の少なくとも一方の面に設けられた本発明のセパレータは、下記（i）〜（iii）の工程を経て製造することができる。すなわち、
(i)セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる工程（セパレータ基材上に水滴形成面を得る工程）
(ii)前記水滴形成面に剥離剤溶液（塗工液）を塗布して剥離剤層を形成する工程（前記水滴形成面に剥離剤溶液を塗布して、剥離剤溶液塗布面を形成する工程）
(iii)有機溶剤および水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させ、表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成する工程
【０１４３】
(i)の工程は、セパレータ基材上に、剥離剤層表面上の凹凸形状を形成する鋳型となる微細な水滴を形成する工程である。水滴が凹凸形状を形成するのは、水が剥離剤を有機溶剤に溶解させた溶液である剥離剤溶液と馴染まないためと推測される。(i)の工程で、セパレータ基材の少なくとも一方の面に水滴を形成させる方法としては、例えば加湿により結露させる方法や水を噴霧する方法等が挙げられる。
【０１４４】
加湿により結露させる方法としては、特に限定されないが、例えば、周りを囲った加湿可能な雰囲気内に、スチームアイロン等にて発生させたスチームを導入し加湿する方法や加湿器から発生した水蒸気を雰囲気内に導入する方法等が挙げられる。連続的に生産する場合には、加湿した空気を送風する方法等が使用できる。このような方法は、少量のセパレータを製造する場合に有効に用いることができる。
【０１４５】
水を噴霧する方法としては、特に制限されないが、例えば、噴霧器等で発生させた霧を直接セパレータ基材表面上に噴霧する方法等が挙げられる。水を噴霧する方法を用いれば、より簡便に、より大きな凹凸形状を形成することができる。また、この方法では水滴の大きさのばらつきが大きいため、水滴により形成される凹部の大きさもばらつきが大きくなる傾向があるが、上記加湿により塗布面を結露させる方法に比べ、短時間でセパレータ基材表面上に水滴を形成できるため、生産速度を上げたいときには有効な方法である。
【０１４６】
図１は、上記(i)の工程終了後の状態の一例を示す概略断面図であり、１はセパレータ基材、２は水滴を示す。
【０１４７】
(ii)の工程は、結露したセパレータ基材表面に剥離剤溶液を塗布し、水滴がセパレータ基材と接したまま剥離剤溶液が周りを取り囲んでいる状態（剥離剤層表面に水滴が露出していない状態）や、水滴がセパレータ基材と接したまま水滴の頭部やその付近が剥離剤層から飛び出している状態等を形成する工程である。
【０１４８】
(ii)の工程で用いられる剥離剤溶液の塗布方法（塗工方法）としては、任意の塗布方法が利用できる。小面積のセパレータを作る場合には、ベーカー式アプリケータやドクターブレード、バーコーターなどを使用して手塗りすることができる。また、塗工機で連続して塗工する場合は、塗布量に応じて塗工機を適宜選択して利用することが可能であり、例えばリバースコーター、ダイレクトグラビアコーター、ダイレクトバーコーター、リバースバーコーター、ダイコーターなどの塗工機を利用することができる。
【０１４９】
(ii)の工程において、剥離剤溶液を塗布することにより得られる剥離剤層の厚さ（剥離剤溶液の塗布厚さ）としては、水滴を形成させずに乾燥及び／又は硬化した場合の厚さにおいて、例えば、１〜１００μｍ程度（好ましくは２〜５０μｍ程度）である。剥離剤層の厚さを薄く(例えば、５μｍ以下)すると、比較的小さな凹凸形状が形成される。そして、剥離剤層の厚さを厚くするに従い、形成される凹凸形状も大きくなる傾向がある。なお、剥離剤層の厚さは、上記範囲には限定されず、目的に応じて調整することで、望ましいサイズの凹凸形状を有する剥離剤層を得ることが可能である。
【０１５０】
(ii)の工程では、セパレータ基材上に水滴を形成後、直ちに該セパレータ基材の水滴形成面上に剥離剤溶液を塗布することが重要である。連続的に生産する場合には、(i)の工程（水滴形成工程）と(ii)の工程（剥離剤溶液塗布工程）がインラインで順次行われることが好ましい。水滴が蒸発してしまう前に剥離剤溶液を塗布しないと、水滴に起因する凹凸形状を形成することが困難となるためである。
【０１５１】
図２は、上記(ii)の工程終了後の状態の一例を示す概略断面図であり、１はセパレータ基材、２は水滴、３は剥離剤層を示す。なお、図２では水滴全体が剥離剤層により覆われているが、本発明では、(ii)の工程終了後、水滴の頭部や該頭部付近は剥離剤層から露出していてもよい。
【０１５２】
(iii)の工程では、乾燥（例えば、高温加熱）による有機溶剤及び水滴の除去と剥離剤の乾燥(及び、必要に応じて硬化)が行われ、（ii）の工程で得られた剥離剤層（硬化前の剥離剤層）は、表面に凹凸形状を有する剥離剤層（硬化被膜）となる。(iii)の工程で剥離剤層表面に凹凸形状が形成されるのは、剥離剤層で覆われている水滴を除去することにより、層中に空洞のようなものが発生し、剥離剤が該空洞に陥没することや、頭部や該頭部付近が層外に飛びだしている状態で剥離剤層により覆われている水滴を除去することにより、凹部としての貫通孔が形成されること等によると考えられる。
【０１５３】
(iii)の工程では、水(水滴)を蒸発させる必要があるため、１００℃以上の温度で乾燥することが好ましい。剥離剤として熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤を使用する場合は、シリコーンの硬化性の観点からも、１００℃以上の温度で加熱するのが好ましい。ただし、セパレータ基材の耐熱性が低い場合は、加熱温度を上げすぎないようにすることが必要である。例えば、セパレータ基材としてポリエチレンテレフタレート基材を使用する場合、１４０℃以下（なかでも、１３０℃以下）が好ましい。加熱温度が１４０℃を超えると、熱収縮によるシワの発生が大きくなる傾向がある。なお、加熱時間は、剥離剤の種類、水滴の量、加熱温度などの条件に応じて適宜調整することができる。
【０１５４】
図３は、上記(iii)の工程の乾燥前期の状態の一例を示す概略断面図であり、蒸発しやすい有機溶剤が先に蒸発し、水滴はまだ残っている状態を示す。図３において、１はセパレータ基材、２は水滴、３１は有機溶剤が蒸発した剥離剤層を示す。
【０１５５】
(iii)の工程では、(ii)の工程終了後においては剥離剤層に覆われていた水滴が、乾燥が進むにつれ、蒸発しやすい有機溶剤が先に蒸発することにより、その頭部や該頭部付近が露出するようになってもよい。また、(iii)の工程では、加熱乾燥時に水滴が浮き上がり、剥離剤層を構成する剥離剤溶液が水滴とセパレータ基材との間に入り込んでもよい。
【０１５６】
本発明では、セパレータの剥離剤層表面の凹凸形状の凹部の径は、上記（i）の工程において形成する水滴の大きさにより制御することができるので、広い範囲の径の凹凸形成が可能である。
【０１５７】
例えば、(i)の工程で加湿によりセパレータ基材表面を結露させる方法により水滴を形成する場合、比較的小さい凹部が形成可能であり、小さいものでは約０．１μｍ、大きいものでは約１００μｍ程度の大きさまで可能である。また、(i)の工程で水を噴霧する方法により水滴を形成する場合、比較的大きい凹部が形成可能であり、小さいものでは約１０μｍ、大きいものでは約３ｍｍ程度の大きさが可能である。
【０１５８】
本発明のセパレータは、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させる工程中で剥離剤層表面に凹凸形状を付与することができるので、生産性に優れている。また、本発明のセパレータは、剥離剤層表面に凹凸形状を有するので、凹凸形状を付与していないセパレータに比べ剥離性に優れている。その上、上記方法で製造するため、凹凸形状を有する、均一な剥離剤層を形成することができ、安定した剥離性が得られる。なお、剥離剤層表面の凹部は、剥離剤層を貫通する孔であってもよい。図４は、本発明で得られたセパレータの一例を示す概略断面図である。図４において、１はセパレータ基材、４は水滴が蒸発した剥離剤層、５はセパレータを示す。
【０１５９】
［粘着シートの製造方法］
本発明のセパレータ付き粘着シートの製造方法は、イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状を有する剥離剤層を形成したセパレータを貼り合わせることを特徴とする。
【０１６０】
上記の様にセパレータを簡便な方法で効率よく製造し、得られたセパレータを粘着シートの粘着剤層表面に貼り合わせて製造するため、本発明のセパレータ付き粘着シートは生産性に優れている。
【０１６１】
このような方法で製造された本発明の粘着シートは、粘着剤層に不揮発性のイオン液体を含有するために、剥離により生じた電荷の偏りを中和することができ、その効果は経時的に衰えることがない。そのため、セパレータを偏光板等の光学部材から剥離する際や、セパレータを粘着シートや表面保護フィルムから剥離する際にも静電気が発生するのを防止することができ、埃を嫌う光学用途、例えば液晶ディスプレイのパネルにおいて液晶セルを偏光板や波長板等の光学部材と貼り合せる用途や表面保護フィルム等に好適に使用することができる。
【０１６２】
さらにまた、本発明の粘着シートにおける、セパレータで保護された粘着剤層面には、セパレータの剥離剤層表面の凹凸形状によって凸構造（突起構造）が形成される。そのため、本発明の粘着シートはエア抜け性に優れており、貼り付け時に被着体との間に気泡が生じても、生じた気泡（エア）をきれいに抜くことができるため、貼り直しをする必要がない。また、被着体と接する面積が粘着剤層表面の凸構造により低減されているため、貼り直しや貼付位置の修正を容易に行うことができる。
【０１６３】
本発明のセパレータ付き粘着シートは、周知慣用の粘着シートの用途に用いることができ、例えば、両面粘着シート、表面保護用粘着シート、電子部品用粘着シート等として好適に使用される。
【実施例】
【０１６４】
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。
【０１６５】
［酸価］
酸価は、自動滴定装置（商品名「ＣＯＭ−５５０」、平沼産業株式会社製）を用いて測定を行い、下記式より求めた。
Ａ＝{（Ｙ−Ｘ）×ｆ×５．６１１}／Ｍ
［Ａ；酸価、Ｙ；サンプル溶液の滴定量（ｍｌ）、Ｘ；混合溶媒５０ｇのみの溶液の滴定量（ｍｌ）、ｆ；滴定溶液のファクター、Ｍ；ポリマーサンプルの重量（ｇ）］
測定条件は下記の通りである。
サンプル溶液：ポリマーサンプル約０．５ｇを混合溶媒［トルエン／２−プロパノール／蒸留水＝５０／４９．５／０．５（重量比）］５０ｇに溶解してサンプル溶液とした。
滴定溶液：０．１Ｎ、２−プロパノール性水酸化カリウム溶液（和光純薬工業（株）社製、石油製品中和価試験用）
電極：ガラス電極；ＧＥ−１０１、比較電極；ＲＥ−２０１
測定モード：石油製品中和価試験１
【０１６６】
［分子量］
分子量は、ＧＰＣ装置（商品名「ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ」、東ソー株式会社製）を用いて測定を行い、ポリスチレン換算値にて求めた。
測定条件は下記の通りである。
サンプル濃度：０．２ｗｔ％（ＴＨＦ溶液）
サンプル注入量：１０μｌ
溶離液：ＴＨＦ
流速：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
測定温度：４０℃
カラム：サンプルカラム；ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｈ １本＋ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ ２本
リファレンスカラム；ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨ−ＲＣ １本
検出器：示差屈折計
【０１６７】
［ガラス転移温度の測定］
製造例１〜４で得られたアクリル系ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）については、下記の手順で動的粘弾性測定により決定した。
厚さ２０μｍのアクリル系ポリマーのシートを積層して約２ｍｍの厚さとし、これをφ７．９ｍｍに打ち抜き、円柱状のペレットを作製してガラス転移温度（Ｔｇ）測定用サンプルとした。
上記測定用サンプルを用い、φ７．９ｍｍパラレルプレートの治具に上記測定用サンプルを固定し、動的粘弾性測定装置（商品名「ＡＲＥＳ」、レオメトリックス社製）により、損失弾性率Ｇ”の温度依存性を測定し、得られたＧ”カーブが極大となる温度をガラス転移温度（Ｔｇ）（℃）とした。
測定条件は下記の通りである。
測定：せん断モード
温度範囲：−７０℃〜１５０℃
昇温範囲：５℃／ｍｉｎ
周波数：１Ｈｚ
【０１６８】
［ＮＭＲ］
ＮＭＲ測定は、核磁気共鳴装置（商品名「ＥＸ−４００」、日本電子株式会社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
観測周波数：４００ＭＨｚ（1Ｈ）、１００ＭＨｚ（13Ｃ）
測定溶媒：ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ6
測定温度：２３℃
【０１６９】
［ＸＲＦ］
ＸＲＦ測定は、蛍光Ｘ線分析装置(商品名「ＺＳＸ−１００ｅ」、理学電機株式会社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
測定方法：ろ紙法
Ｘ線源：Ｒｈ
【０１７０】
［ＦＴ−ＩＲ］
ＦＴ−ＩＲ測定は、フーリエ変換赤外分光光度計（商品名「Ｍａｇｎａ−５６０」、Ｎｉｃｏｌｅｔ社製）を用いて測定を行った。
測定条件は下記の通りである。
測定方法：ＡＴＲ法
検出器：ＤＴＧＳ
分解能：４．０ｃｍ-1
積算回数：６４回
【０１７１】
［アクリル系ポリマーの調製］
製造例１：アクリル系ポリマー（Ａ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート２００重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ａ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５０万、酸価：０であった。
【０１７２】
製造例２：アクリル系ポリマー（Ｂ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート２００重量部、アクリル酸８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｂ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｂ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５４万、酸価：３０であった。
【０１７３】
製造例３：アクリル系ポリマー（Ｃ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート１８０重量部、エトキシ−ジエチレングリコールアクリレート２０重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、トルエン４７重量部、酢酸エチル２６５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｃ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｃ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：５１万、酸価：０であった。
【０１７４】
製造例４：アクリル系ポリマー（Ｄ）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート１９５重量部、ノニオン型反応性界面活性剤（商品名「アデカリアソープＥＲ−１０」、（株）ＡＤＥＫＡ製）５重量部、２―ヒドロキシエチルアクリレート８重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４重量部、酢酸エチル３１２重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を６５℃付近に保って６時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー（Ｄ）の溶液（４０重量％）を調製した。このアクリル系ポリマー（Ｄ）は、ガラス転移温度（Ｔｇ）：−１０℃以下、重量平均分子量：６８万、酸価：０であった。
【０１７５】
［イオン液体の調製］
製造例５：イオン液体（１）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコに１−ブチル−３−メチルピリジニウムクロライド[和光純薬工業（株）社製]１０重量部の２０重量％水溶液を添加した後、攪拌羽根を回しながらリチウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド[キシダ化学（株）社製]１９重量部の２０重量％水溶液を徐々に添加した。添加後、常温下（２５℃）で２時間攪拌を続けたのち、１２時間静置し、上澄み液を除去し、２５℃雰囲気下で液状の生成物を得た。得られた液状生成物を２００重量部の蒸留水にて３回洗浄し、１１０℃の温度で２時間乾燥させてイオン液体（１）を２０重量部得た。得られたイオン液体（１）のＮＭＲ（1Ｈ、13Ｃ）測定、ＦＴ−ＩＲ測定、ＸＲｆ測定を行い、１−ブチル−３−メチルピリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホン）イミドであることを確認した。
【０１７６】
製造例６：イオン液体（２）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコにジアリルジメチルアンモニウムクロライド６０ｗｔ％水溶液（東京化成工業社製）１０重量部を添加した後、攪拌羽根を回しながらリチウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（キシダ化学社製）１３重量部の５０重量％水溶液を徐々に添加した。添加後、２５℃で２時間攪拌を続けた後、１２時間静置し、上澄み液を除去し、２５℃雰囲気下で液状の生成物を得た。得られた液状生成物を２００重量部の蒸留水にて３回洗浄し、１１０℃の環境下で２時間乾燥させて２５℃で液状のイオン液体（２）を１３重量部得た。得られたイオン液体（２）のＮＭＲ（1Ｈ、13Ｃ）測定、ＦＴ−ＩＲ測定、ＸＲｆ測定をおこない、ジアリルジメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドであることを確認した。
【０１７７】
製造例７：帯電防止剤溶液（ａ）
撹拌羽根、温度計、冷却器を備えた四つ口フラスコにイオン液体（１）５重量部、ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールブロック共重合体（数平均分子量：２，０００、エチレングリコール比率：５０ｗｔ％）５重量部、酢酸エチル９０重量部を仕込み、フラスコ内の液温を２５℃付近に保って約３０分間混合撹拌を行い、帯電防止剤溶液（ａ）（１０重量％）を調製した。
【０１７８】
［セパレータの作製］
製造例８：セパレータ（１）
剥離剤溶液は以下の配合で調製した。
(i)熱硬化性付加型シリコーン（商品名「ＫＳ−８４７Ｔ」、信越化学工業社製）３０重量％トルエン溶液
(ii)白金触媒（商品名「ＰＬ−５０Ｔ」、信越化学工業社製）トルエン溶液
(iii)有機溶剤：ｎ−ヘキサン
配合比 (i)／(ii)／（iii）＝１００／１／２００（重量比）
なお、剥離剤溶液の粘度は７７［ｍＰａ・ｓ］であった。
【０１７９】
アングル材で組んだ箱の周りをポリエチレンテレフタレートシートで囲むことにより作製した加湿箱（縦：３０ｃｍ×横：４５ｃｍ×高さ：３０ｃｍ）に、基材（厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム）を入れ、スチーム発生器で１分間、加湿箱内を加湿することにより、基材上に水滴を形成した。雰囲気温度は２３℃で行った。
【０１８０】
上記剥離剤溶液をべーカー式アプリケータを用いて、基材の水滴を形成した面に、水滴を形成しないで塗布・乾燥させた時の剥離剤層の厚さが１０μｍになるような厚さで塗布した。
【０１８１】
塗布後、熱風オーブンを用いて１２０℃で１分間加熱することにより高温乾燥して、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（１）を得た。
【０１８２】
製造例９：セパレータ（２）
２３℃の雰囲気下、基材上に霧吹きを用いて水滴を形成したこと以外は、セパレータ（１）と同様にして、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（２）を得た。
【０１８３】
製造例１０：セパレータ（３）
基材上に水滴を形成する工程を行わなかったこと以外は、セパレータ（１）と同様にして、基材の一方の面に剥離剤処理層を有するセパレータ（３）を得た。
【０１８４】
実施例１
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（１）を０．１重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．８重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（１）を調製した。
（粘着シートの作製）
得られたアクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層に上記セパレータ（１）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート１を作製した。
【０１８５】
実施例２
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層に上記セパレータ（２）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート２を作製した。
【０１８６】
実施例３
（粘着剤組成物の調製）
アクリルポリマーＢの溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（２）を２．０重量部、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ」、三菱瓦斯化学（株）製）０．７重量部、トリメチロ−ルプロパン／トリレンジイソシアネ−ト３量体付加物（商品名「コロネ−トＬ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．３重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（２）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（２）を用いたこと以外は実施例１と同様にして粘着シート３を作製した。
【０１８７】
実施例４
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ｃ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部にイオン液体（１）を０．２重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．４重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（３）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート４を作製した。
【０１８８】
実施例５
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ｃ）溶液（４０重量％）に代えて、上記アクリル系ポリマー（Ｄ）溶液（４０重量％）を用いた以外は、実施例４と同様の方法によりアクリル系粘着剤溶液（４）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（４）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート５を作製した。
【０１８９】
実施例６
（粘着剤組成物の調製）
アクリル系ポリマー（Ａ）の溶液（４０重量％）を酢酸エチルで２０重量％に希釈し、この溶液１００重量部に帯電防止剤溶液（ａ）（１０重量％）を２重量部、ヘキサメチレンジイソシアネ−トのイソシアヌレート体（商品名「コロネ−トＨＸ」、日本ポリウレタン工業（株）社製）０．８重量部、架橋触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ（１重量％酢酸エチル溶液）０．４重量部を加えて、アクリル系粘着剤溶液（５）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（５）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート６を作製した。
【０１９０】
比較例１
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に塗布し、１１０℃で３分間加熱して、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次いで、前記粘着剤層に上記セパレータ（３）の剥離剤処理面を貼合せて粘着シート７を作製した。
【０１９１】
比較例２
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例１と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（６）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（６）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート８を作製した。
【０１９２】
比較例３
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例３と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（７）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（７）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート９を作製した。
【０１９３】
比較例４
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例４と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（８）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（８）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート１０を作製した。
【０１９４】
比較例５
（粘着剤組成物の調製）
イオン液体を添加しないこと以外は実施例５と同様にしてアクリル系粘着剤溶液（９）を調製した。
（粘着シートの作製）
アクリル系粘着剤溶液（１）に代えて、アクリル系粘着剤溶液（９）を用いた以外は、実施例１と同様にして粘着シート１１を作製した。
【０１９５】
上記実施例、比較例等で得られた粘着シート１〜１１について、以下の要領で、剥離帯電圧、粘着力、剥離力及びセパレータの剥離剤層表面の形状を評価した。
【０１９６】
［剥離帯電圧］
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅７０ｍｍ×長さ１００ｍｍのサイズにカットし、サンプル固定台に設置した。粘着シートにおけるセパレータの一方の端部を自動巻取り機に固定し、剥離角度１５０°、剥離速度１０ｍ／ｍｉｎとなるように長さ方向に剥離し、粘着剤層表面の電位を所定の位置（粘着剤層表面から１００ｍｍの高さ）に固定してある電位測定機（商品名「ＫＳＤ−０１０３」、春日電機（株）社製）を使用して測定した。なお、測定は、２３℃、５０％ＲＨの環境下で行った。
【０１９７】
［粘着力測定］
厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名「フジタック」、富士写真フィルム（株）製）を幅７０ｍｍ×長さ１００ｍｍにカットし、６０℃の水酸化ナトリウム水溶液（１０重量％）に１分間浸漬した後、蒸留水にて洗浄して被着体を作製した。得られた被着体を２３℃、５０％ＲＨの環境下で１日放置した後、粘着力評価用被着体とした。
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅２５ｍｍ×長さ８０ｍｍのサイズにカットし、０．２５ＭＰａの圧力で上記粘着力評価用被着体にラミネートして、評価サンプルを作製した。
ラミネート後３０分間放置した後、万能引張試験機（商品名「高速剥離試験機」、テスター産業社製）を使用して、粘着シートを引張り速度３０ｍ／分、剥離角度１８０°で剥離したときの粘着力を測定した。なお、測定は２３℃×５０％ＲＨの環境下で行った。
【０１９８】
［剥離力の測定法］
実施例及び比較例で得られた粘着シートを幅５０ｍｍ×長さ１５０ｍｍにカットし評価サンプルを作製した。
１００℃環境下で、評価用サンプルを、サンプル面積（幅：５０ｍｍ×長さ：１５０ｍｍ）に対して１ｋｇの荷重をかけて押圧し、１時間放置した。
放置後、２３℃で１時間冷却してから、万能引張試験機（商品名「ＴＧ−１ｋＮ」、ミネベア社製）を用い、セパレータを引張り速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°で剥離したときの剥離力を測定した。測定は２３℃×５０％ＲＨの環境で行った。
【０１９９】
［セパレータの剥離剤層表面の形状］
共焦点レーザー顕微鏡（商品名「走査型レーザー顕微鏡 ＬＥＸＴ−ＯＬＳ３０００」、オリンパス株式会社製）を用いて、セパレータの剥離剤層表面の形状を観察した。その結果を図５〜図１０に示した。測定条件は下記表１に示した。
【表１】
【０２００】
上記評価結果を表２にまとめて示す。
【表２】
【０２０１】
上記表２より、本発明に係る粘着シートの場合（実施例１〜６）、全実施例においてセパレータの剥離性に優れ、セパレータ剥離時の剥離帯電圧が抑制されることが明らかとなった。これに対して剥離剤表面に凹凸形状が付与されていないセパレータを用いた粘着シートの場合（比較例１）は、セパレータの剥離性が実施例で得られた粘着シートと比べて劣ることがわかった。また、粘着剤組成物にイオン液体を使用しない粘着シート（比較例２〜５）では、剥離帯電圧が高く、静電気の発生を防止できなかった。
【符号の説明】
【０２０２】
１ セパレータ基材
２ 水滴
３ 剥離剤層
３１ 有機溶剤が蒸発した剥離剤層
４ 水滴が蒸発した剥離剤層
５ セパレータ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シート。
【請求項２】
水滴を形成させる方法が、加湿により基材表面を結露させる方法、又は水を噴霧する方法の何れかである請求項１に記載の粘着シート。
【請求項３】
剥離剤が、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤である請求項１又は２に記載の粘着シート。
【請求項４】
イオン液体が含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、又は含リンオニウム塩から選択される１以上である請求項１〜３の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項５】
イオン液体が下記式（Ａ）〜（Ｄ）で表されるカチオンから選択される１以上を含む請求項１〜４の何れかの項に記載の粘着シート。
【化１】
［式（Ａ）中、Ｒaは、炭素数４から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒb及びＲcは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、窒素原子が２重結合を含む場合、Ｒcはない。
式（Ｂ）中、Ｒdは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒe、Ｒf及びＲgは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｃ）中、Ｒhは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒi、Ｒj及びＲkは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｄ）中、Ｚは、窒素、硫黄、リン原子を表し、Ｒl、Ｒm、Ｒn、及びＲoは、同一又は異なって、炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、Ｚが硫黄原子の場合、Ｒoはない]
【請求項６】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーが、炭素数１〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーである請求項１〜５の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項７】
表面保護フィルムとして使用する請求項１〜６の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項８】
イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータを、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わせることを特徴とする粘着シートの製造方法。
【請求項１】
イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータが、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わされている粘着シート。
【請求項２】
水滴を形成させる方法が、加湿により基材表面を結露させる方法、又は水を噴霧する方法の何れかである請求項１に記載の粘着シート。
【請求項３】
剥離剤が、熱硬化性付加型シリコーン系剥離剤である請求項１又は２に記載の粘着シート。
【請求項４】
イオン液体が含窒素オニウム塩、含硫黄オニウム塩、又は含リンオニウム塩から選択される１以上である請求項１〜３の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項５】
イオン液体が下記式（Ａ）〜（Ｄ）で表されるカチオンから選択される１以上を含む請求項１〜４の何れかの項に記載の粘着シート。
【化１】
［式（Ａ）中、Ｒaは、炭素数４から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒb及びＲcは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、窒素原子が２重結合を含む場合、Ｒcはない。
式（Ｂ）中、Ｒdは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒe、Ｒf及びＲgは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｃ）中、Ｒhは、炭素数２から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良く、Ｒi、Ｒj及びＲkは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１から１６の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。
式（Ｄ）中、Ｚは、窒素、硫黄、リン原子を表し、Ｒl、Ｒm、Ｒn、及びＲoは、同一又は異なって、炭素数１から２０の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいても良い。但し、Ｚが硫黄原子の場合、Ｒoはない]
【請求項６】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーが、炭素数１〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリレートを主成分とするアクリル系ポリマーである請求項１〜５の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項７】
表面保護フィルムとして使用する請求項１〜６の何れかの項に記載の粘着シート。
【請求項８】
イオン液体及びベースポリマーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下のポリマーを含有する粘着剤組成物からなる粘着剤層の少なくとも片面側に、セパレータ基材の少なくとも片面側に水滴を形成させた後、該セパレータ基材の水滴を形成させた面上に剥離剤を含有する有機溶剤溶液を塗布し、続いて、有機溶剤及び水滴を除去し、剥離剤を乾燥及び／又は硬化させて表面に凹凸形状が施された剥離剤層を形成したセパレータを、前記凹凸形状が施された剥離剤層が前記粘着剤層側となるようにして貼り合わせることを特徴とする粘着シートの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−２０９１９０（Ｐ２０１０−２０９１９０Ａ）
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−５５７５３（Ｐ２００９−５５７５３）
【出願日】平成２１年３月９日（２００９．３．９）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２４日（２０１０．９．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月９日（２００９．３．９）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
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