荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
【目的】斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果の位置依存性誤差について補正可能な描画装置を提供する。
【構成】描画装置１００は、斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶装置１４２と、複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部１２と、図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部１４と、荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。
【構成】描画装置１００は、斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶装置１４２と、複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部１２と、図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部１４と、荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法に係り、例えば、描画装置内でパターンをリサイズする手法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図１３は、可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）描画装置は、以下のように動作する。第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式（ＶＳＢ方式）という。
【０００４】
描画装置では、例えば、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）光を斜入射させ、反射光学系を用いてパターンを転写するＥＵＶ露光装置で用いるＥＵＶマスクを製作するにあたって、そのパターンをＥＵＶマスク基板に描画する（例えば、特許文献１参照）。かかる露光装置では、マスクへの入射光が斜入射となるので、パターンの向きによって、影（シャドーウィング）が生じ、寸法の非等方誤差が生じる。このようなシャドーウィング効果は、非等方誤差であるため、描画装置内部で電子ビームの照射量変調を用いて補正することが困難である。そのため、設計データの段階でパターンの方向に応じてパターン寸法を補正しておくことが行われる。また、シャドーウィング効果は、概ね入射角度に依存するため、一般に、マスク面内において、一律に同一の補正式で補正される。
【０００５】
しかしながら、シャドーウィング効果には、微小ではあるが露光装置のスリット内の位置依存性の誤差が生じる。昨今のパターンの微細化に伴い、かかるスリット内の位置依存性、ひいてはマスク面内の位置依存性の誤差も無視できないものとなってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１９８７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、昨今のパターンの微細化に伴い、例えば、上述したＥＵＶ露光装置等の斜入射反射光学系を用いた露光装置でパターンを転写する際、シャドーウィング効果が生じてしまう。そして、シャドーウィング効果は、露光装置のスリット内の位置依存性の誤差が生じる。かかる位置依存性誤差は、露光装置が変われば、その誤差も変化してしまう。そのため、設計データを作成する段階で補正することは困難である。
【０００８】
そこで、本発明は、上述した問題点を克服し、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果のうち、特に、位置依存性誤差について補正可能な描画装置および方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶部と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部と、
図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１０】
また、パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義され、
リサイズ処理部は、不動辺については移動せずに、可動辺についてリサイズするために移動するように構成すると好適である。
【００１１】
また、リサイズ処理部は、マスク基板に照明光を斜入射する際のマスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動するように構成すると好適である。
【００１２】
また、記憶部は、複数の露光装置に対応する複数の補正テーブルを記憶し、
露光装置を識別する情報を入力し、入力された露光装置に応じて前記複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する選択部をさらに備えるように構成すると好適である。
【００１３】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画方法は、
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶装置に記憶する工程と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する工程と、
図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズする工程と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一態様によれば、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果における位置依存性誤差について補正できる。その結果、高精度なパターンを描画できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図２】実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の一例を示す図である。
【図３】実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の比較例を示す図である。
【図４】実施の形態１における位置に依存したシャドーウィング効果を説明するための概念図である。
【図５】実施の形態１におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブルの一例を示す概念図である。
【図６】実施の形態１における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。
【図７】実施の形態１における入射方向に対して９０度の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図８】実施の形態１における入射方向に対して０度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図９】実施の形態１における入射方向に対して１３５度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１０】実施の形態１における入射方向に対して４５度の整数倍を除いた任意角の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１１】実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１２】実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の他の一例を示す概念図である。
【図１３】可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、可変成形型の描画装置について説明する。
【００１７】
実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。図１において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。特に、可変成形型の描画装置の一例である。描画部１５０は、電子鏡筒１０２と描画室１０３を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８及び副偏向器２０９が配置されている。描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置される。ＸＹステージ１０５上には、描画時には描画対象となるマスク基板１０１が配置される。マスク基板１０１には、斜入射反射光学系を用いた露光装置で使用される露光用マスクが含まれる。例えば、ＥＵＶマスクが含まれる。また、マスク基板１０１には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。
【００１８】
制御部１６０は、制御計算機１１０、メモリ１１２、制御回路１２０、及び磁気ディスク装置等の記憶装置１４０，１４２，１４４を有している。制御計算機１１０、メモリ１１２、制御回路１２０、及び記憶装置１４０，１４２，１４４は、図示しないバスを介して互いに接続されている。
【００１９】
制御計算機１１０内には、選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０が配置される。選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０といった機能は、電気回路等のハードウェアで構成されてもよいし、これらの機能を実行するプログラム等のソフトウェアで構成されてもよい。或いは、ハードウェアとソフトウェアの組み合わせにより構成されてもよい。選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０に入出力される情報および演算中の情報はメモリ１１２にその都度格納される。また、リサイズ処理部１４内には、設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６が配置される。設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６といった機能は、電気回路等のハードウェアで構成されてもよいし、これらの機能を実行するプログラム等のソフトウェアで構成されてもよい。或いは、ハードウェアとソフトウェアの組み合わせにより構成されてもよい。設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６に入出力される情報および演算中の情報はメモリ１１２にその都度格納される。
【００２０】
ここで、図１では、実施の形態１を説明する上で必要な構成を記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成を備えていても構わない。例えば、位置偏向用には、主偏向器２０８と副偏向器２０９の主副２段の多段偏向器を用いているが、１段の偏向器或いは３段以上の多段偏向器によって位置偏向を行なう場合であってもよい。
【００２１】
記憶装置１４０（記憶部）には、複数の図形パターンから構成されるパターンデータ（描画データ）が外部より入力され、格納されている。パターンデータには、各図形の形状、配置座標、およびサイズ等のデータが定義される。また、パターンデータには、図形毎に、後述するリサイズ処理を行うにあたって、移動させても構わない可動辺と移動させない不動辺とを識別する識別子がさらに定義されている。
【００２２】
図２は、実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の一例を示す図である。図２では、ｘ方向に並ぶ１：１のラインアンドスペースパターンの一例を示している。また、図２では、斜入射反射光学系の露光装置でかかるパターンが形成されたマスクに照明光を斜め上方から照射した際、マスク上においてｘ方向が照明光の入射方向である場合を示している。かかる場合、スペース部分に照射される照明光は、手前の厚さｄのパターンによって一部が遮られ、スペース部分に影ができる。そのため、スペース部分の設計寸法Ｌに対して実際に露光される寸法Ｌ１には誤差が生じる（シャドーウィング効果の主要効果）。かかるスペース部分の設計寸法Ｌと実際に露光される寸法Ｌ１との差分（誤差）は、露光装置の縮小率をｓとすると、Δ＝Ｌ−Ｌ１＝２ｄ・ｔａｎθ・ｓで定義される。このように、シャドーウィング効果の主要効果Ｓｅは、−２ｄ・ｔａｎθ・ｓの寸法変動を引き起こすことがわかる。
【００２３】
図３は、実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の比較例を示す図である。図３では、ｙ方向に並ぶ１：１のラインアンドスペースパターンの一例を示している。また、図３では、斜入射反射光学系の露光装置でかかるパターンが形成されたマスクに照明光を斜め上方から照射した際、マスク上においてｘ方向が照明光の入射方向である場合を示している。かかる場合、スペース部分に照射される照明光は、厚さｄのパターンによって遮られない。そのため、影が生じず、スペース部分の設計寸法Ｌに対して実際に露光される寸法Ｌ２にはシャドーウィング効果の主要効果としての誤差は生じない。
【００２４】
このように、シャドーウィング効果の主要効果は、マスク上に形成されたパターンの厚さｄと照明光の入射角θに依存する。しかしながら、シャドーウィング効果には、かかる主要効果の他に、露光装置固有の位置依存の誤差Ｐ（ｘ）が生じる。
【００２５】
図４は、実施の形態１における位置に依存したシャドーウィング効果を説明するための概念図である。斜入射反射光学系を用いた露光装置５００（スキャナー）では、斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板１０１に照明光を斜入射してマスク基板１０１からの反射光を用いてマスク基板１０１に形成されたパターンを被露光基板に転写する。かかる露光装置５００（スキャナー）では、光源５０２からの照明光は、上述したようにマスクとなる基板１０１に対して斜め上方から照射される。例えば、基板１０１上においてｘ方向が照明光の入射方向（例えばｘ方向）となるように斜め上方から照射される。そして、一般には入射方向と直交する方向（例えばｙ方向）にスキャン移動させることでウェハ等の半導体基板にパターンを転写していく。その際、転写されたパターンには、設計寸法に対して、露光装置５００の入射方向と同方向に延びる照明スリット内の位置に依存した誤差Ｐ（ｘ）が生じる。かかるスリットの中心位置で誤差Ｐ（ｘ）＝０とすると、入射方向の手前側（−側）の位置で例えば負（−）の誤差が、入射方向の奥側（＋側）の位置で例えば正（＋）の誤差が生じる。このように、入射方向に対して位置に比例した量の誤差が生じる。
【００２６】
以上のように、斜入射反射光学系を用いた露光装置５００（スキャナー）で生じるシャドーウィング効果は、上述した主要効果Ｓｅ＋位置依存誤差Ｐ（ｘ）となる。シャドーウィング効果の主要効果Ｓｅについては、装置に依存しないため、設計段階で補正すればよい。或いは、かかる主要効果Ｓｅの補正値を描画装置１００が入力し、位置依存誤差Ｐ（ｘ）と合わせて補正しても構わない。実施の形態１では、上述した主要効果Ｓｅと位置依存誤差Ｐ（ｘ）のうち、特に、装置固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する場合について説明する。主要効果Ｓｅも合わせて補正する場合には、以下、位置依存誤差Ｐ（ｘ）について、位置依存誤差Ｐ（ｘ）に主要効果Ｓｅの値も加算した値と読み替えればよい。
【００２７】
まず、実施の形態１では、描画処理を開始する前に、予め、かかる位置依存誤差Ｐ（ｘ）の補正テーブルを作成する。各補正値は、予め、シミュレーション或いは実験等により求めておけばよい。
【００２８】
図５は、実施の形態１におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブルの一例を示す概念図である。図５において、シャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブル５０では、位置ｘと、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する補正値Ｐ’（ｘ）と、の相関関係（相関データ）が定義される。或いは、かかる位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する補正値Ｐ’（ｘ）を示す、位置ｘに依存した関数Ｐ’（ｘ）が補正テーブル（或いは相関関数）として定義されてもよい。かかる補正テーブル５０は、斜入射反射光学系を用いた複数の露光装置５００（スキャナー）について、露光装置５００毎に作成され、かかる複数の補正テーブルは、それぞれ対応する露光装置５００が識別可能なように記憶装置１４２（記憶部）に格納（記憶）される。ここでｘは、基板１０１上における照明光の入射方向の方向における位置を示す。
【００２９】
図６は、実施の形態１における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。図６において、実施の形態１における描画方法は、スキャナー選択工程（Ｓ１０２）と、パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）と、補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）と、リサイズ処理工程（Ｓ１０８）と、判定工程（Ｓ１２０）と、ショットデータ生成工程（Ｓ１２２）と、描画工程（Ｓ１２４）という一連の工程を実施する。また、リサイズ処理工程（Ｓ１０８）の内部工程として、辺設定工程（Ｓ１１０）と、判定工程（Ｓ１１２）と、判定工程（Ｓ１１４）と、辺移動工程（Ｓ１１６）と、判定工程（Ｓ１１８）という一連の工程を実施する。
【００３０】
スキャナー選択工程（Ｓ１０２）として、選択部１０は、露光装置５００を識別する情報を入力し、入力された露光装置５００に応じて記憶装置１４２に格納された複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する。露光装置５００を識別する情報は、描画装置１００で今回描画対象となる基板１００をマスクとして用いる露光装置５００を識別するための情報である。
【００３１】
パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）として、入力部１１は、記憶装置１４０からパターンデータを入力する。ここでは、図形毎にデータを入力してもよいし、まとめて複数の図形のデータを入力してもよい。
【００３２】
補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）として、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２は、複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、選択された補正テーブルから対応する補正値を取得する。Ｐ’（ｘ）取得部１２は、取得部の一例である。具体的には、入力されたパターンデータが示す図形の配置座標から当該図形の位置ｘを取得し、選択された補正テーブル５０を参照して、かかる位置ｘに対応する補正値Ｐ’（ｘ）を取得する。
【００３３】
リサイズ処理工程（Ｓ１０８）として、リサイズ処理部１４は、図形毎に、取得された補正値Ｐ’（ｘ）を用いて、当該図形をリサイズする。リサイズ処理の内容について以下に示す。
【００３４】
辺設定工程（Ｓ１１０）として、設定部３０は、リサイズ対象となる図形を構成する複数の辺のうちの１つを選択し、リサイズ対象として設定する。
【００３５】
判定工程（Ｓ１１２）として、判定部３２は、設定された当該辺が露光装置５００における照明光の入射方向に対して、０度の角度の辺かどうかを判定する。言い換えれば、入射方向（ｘ方向）に延びる辺かどうかを判定する。０度の角度の辺の場合には、判定工程（Ｓ１１８）へ進む。０度の角度の辺ではない場合には、判定工程（Ｓ１１４）へ進む。
【００３６】
判定工程（Ｓ１１４）として、判定部３４は、設定された当該辺がリサイズするために移動を許可する可動辺かどうかを判定する。上述したように、パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義される。そこで、判定部３４は、かかる情報を参照して、設定された当該辺がリサイズするために移動を許可する可動辺かどうかを判定すればよい。当該辺が可動辺である場合に辺移動工程（Ｓ１１６）へ進む。当該辺が可動辺ではない場合に判定工程（Ｓ１１８）へ進む。
【００３７】
辺移動工程（Ｓ１１６）として、移動処理部３６は、不動辺については移動せずに、可動辺について、補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）により取得された補正値Ｐ’（ｘ）に基づき、リサイズするために移動する。
【００３８】
判定工程（Ｓ１１８）として、判定部３８は、当該図形についてすべての辺が終了したかどうかを判定する。すべての辺が終了した場合は、判定工程（Ｓ１２０）へ進む。すべての辺が終了していない場合は、辺設定工程（Ｓ１１０）へ戻る。そして、辺設定工程（Ｓ１１０）において次の辺を設定する。そして、すべての辺が終了するまで辺設定工程（Ｓ１１０）から判定工程（Ｓ１１８）までを繰り返す。具体的には以下のように辺を移動させる。
【００３９】
図７は、実施の形態１における入射方向に対して９０度の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図７（ｂ）では、図７（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の図形６０についてリサイズする場合を示している。図７（ｂ）に示すように、図形６０は、入射方向（ｘ方向）に対して９０度の方向（ｙ方向）に長く延びる長方形パターンの一例である。図形６０は、４つの辺６２，６４，６６，６８で構成される。辺６２，６６は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺６２，６６は、不動辺と定義される。辺６４，６８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺６４，６８は、可動辺と定義される。かかる場合、移動処理部３６は、不動辺６２，６６については辺の移動をしない。そして、移動処理部３６は、可動辺６４，６８についてリサイズするために辺の移動を行う。辺の移動は、１つの辺に対して、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図７（ｂ）の例では、可動辺６４については−ｘ側に、可動辺６８については＋ｘ側にそれぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。これにより、ｘ方向の寸法を構成する２つの辺６４，６８について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。なお、図７（ｂ）に示す図形６０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。
【００４０】
一方、図７（ｃ）では、図７（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して奥側の位置５４に描画される予定の図形６０についてリサイズする場合を示している。図７（ｃ）に示す図形６０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して奥側の位置５４に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば正（＋）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の負（−）の値となる。よって、移動処理部３６は、不動辺６２，６６については辺の移動をしない。そして、移動処理部３６は、可動辺６４，６８についてリサイズするために辺の移動を行う。図７（ｃ）の例では、可動辺６４については＋ｘ側に、可動辺６８については−ｘ側にそれぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。これにより、ｘ方向の寸法を構成する２つの辺６４，６８について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。
【００４１】
図８は、実施の形態１における入射方向に対して０度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図８（ｂ）では、図８（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の３つの図形６９，７０，７１についてリサイズする場合を示している。図８（ｂ）に示すように、図形６９は、入射方向（ｘ方向）に対して０度の方向に長く延びる長方形パターンの一例である。図形６９は、４つの辺５８，５９，７５，７８で構成される。辺５８，５９は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺５８，５９は、可動辺と定義される。辺７５，７８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７５，７８は、不動辺と定義される。
【００４２】
図形７０は、４つの辺７２，７４，７６，７８で構成される。辺７８は、図形６９と共有する。辺７２，７６は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺７２，７６は、可動辺と定義される。辺７４，７８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７４は、可動辺と定義される。辺７８は、不動辺と定義される。
【００４３】
図形７１は、４つの辺７３，７５，７７，７９で構成される。辺７５は、図形６９と共有する。辺７３，７７は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺７３，７７は、可動辺と定義される。辺７５，７９は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７９は、可動辺と定義される。辺７５は、不動辺と定義される。
【００４４】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形６９について、可動辺５８，５９は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７５，７８は、不動辺なので辺の移動はしない。よって、図形６９についてはリサイズしない。
【００４５】
また、移動処理部３６は、図形７０について、可動辺７２，７６は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７８は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺７４については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形７０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図８（ｂ）の例では、可動辺７４については−ｘ側に、補正値Ｐ’（ｘ）の１／２だけ移動させる。
【００４６】
また、移動処理部３６は、図形７１について、可動辺７３，７７は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７５は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺７９については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形７１は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図８（ｂ）の例では、可動辺７９については＋ｘ側に、補正値Ｐ’（ｘ）の１／２だけ移動させる。
【００４７】
以上のリサイズ処理により、図形７０についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺７４，７８のうち辺７４について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。また、図形７１についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺７５，７９のうち辺７９について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。これにより、入射方向に対して０度の方向に繋がる３つの図形６９，７０，７１について、図形間に隙間なく、かつ重複領域なくリサイズ処理ができる。
【００４８】
図９は、実施の形態１における入射方向に対して１３５度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図９（ｂ）では、図９（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の、平行四辺形（図形８０）と平行四辺形（図形８０）に繋がる直角２等辺３角形（図形８７）についてリサイズする場合を示している。図９（ｂ）に示すように、図形８０は、入射方向（ｘ方向）に対して９０度の方向（ｙ方向）に長く延びる平行四辺形パターンの一例である。図形８０は、底辺８３，８６と斜辺８４，８５の４つの辺８３，８６，８４，８５で構成される。辺８３，８６は、入射方向の方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺８６は、可動辺と定義される。また、辺８３は、不動辺と定義される。辺８４，８５は、入射方向の方向に対して、１３５度の角度の辺である。また、辺８４，８５は、可動辺と定義される。
【００４９】
図形８７は、直交する２辺８１，８３と斜辺８２の３つの辺８１，８２，８３で構成される。辺８３は、図形８０と共有する。辺８３は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺８３は、不動辺と定義される。辺８１は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺８１は、可動辺と定義される。辺８２は、入射方向に対して、１３５度の角度の辺である。また、辺８２は、可動辺と定義される。
【００５０】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形８０について、可動辺８６は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺８３は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺８４，８５については、入射方向（ｘ方向）に対して、１３５度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図９（ｂ）に示す図形８０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図９（ｂ）の例では、可動辺８４については−ｘ側に、可動辺８５については＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００５１】
また、移動処理部３６は、図形８７について、辺８３は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺８１，８２については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺と１３５度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形８７は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図９（ｂ）の例では、可動辺８１については−ｘ側に、可動辺８２については＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００５２】
以上のリサイズ処理により、図形８０についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺８４，８５について補正値Ｐ’（ｘ）ずつリサイズすることができる。また、図形８７についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺８１，８２について補正値Ｐ’（ｘ）ずつリサイズすることができる。これにより、入射方向に対して１３５度の方向に繋がる２つの図形８０，８７について、図形間に隙間なく、かつ重複領域なくリサイズ処理ができる。
【００５３】
図１０は、実施の形態１における入射方向に対して４５度の整数倍を除いた任意角の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。４５度の整数倍を除いた任意角パターンは、描画装置１００に入力される前の段階で複数の４５度の整数倍の角度を持つパターンに分割される。図１０の例では、図１０（ｂ）に示すように、ｘ方法に少しずつずれて配置された複数の長方形（図形９１，９３，９５，９６）に分割された例を示している。そして、上段の長方形（図形９１）は、続く長方形（図形９３）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ａを共有する。長方形（図形９３）は、さらに、続く長方形（図形９５）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ｂを共有する。長方形（図形９５）は、さらに、続く長方形（図形９６）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ｃを共有する。複数の長方形（図形９１，９３，９５，９６）は、図１０（ａ）に示すように基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される場合を示している。
【００５４】
図１０（ｂ）に示すように、図形９１，９３，９５，９６は、共に、入射方向（ｘ方向）に対して０度の方向に長く延びる長方形パターンの一例である。
【００５５】
図形９１は、４つの辺９２ａ，９４ａ，９７，９８ａで構成される。辺９７，９８ａは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ａは、不動辺と定義される。辺９７は、可動辺と定義される。辺９２ａ，９４ａは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ａ，９４ａは、可動辺と定義される。
【００５６】
図形９３は、４つの辺９２ｂ，９４ｂ，９８ａ，９８ｂで構成される。辺９８ａ，９８ｂは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ａ，９８ｂは、不動辺と定義される。辺９２ｂ，９４ｂは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｂ，９４ｂは、可動辺と定義される。
【００５７】
図形９５は、４つの辺９２ｃ，９４ｃ，９８ｂ，９８ｃで構成される。辺９８ｂ，９８ｃは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ｂ，９８ｃは、不動辺と定義される。辺９２ｃ，９４ｃは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｃ，９４ｃは、可動辺と定義される。
【００５８】
図形９６は、４つの辺９２ｄ，９４ｄ，９８ｃ，９８ｄで構成される。辺９８ｃ，９８ｄは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ｃは、不動辺と定義される。辺９８ｄは、可動辺と定義される。辺９２ｄ，９４ｄは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｄ，９４ｄは、可動辺と定義される。
【００５９】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形９１について、可動辺９７は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺９８ａは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ａ，９４ａについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９１は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ａについては−ｘ側に、可動辺９４ａについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６０】
また、移動処理部３６は、図形９３について、辺９８ａ，９８ｂは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｂ，９４ｂについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９３は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｂについては−ｘ側に、可動辺９４ｂについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６１】
また、移動処理部３６は、図形９５について、辺９８ｂ，９８ｃは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｃ，９４ｃについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９５は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｃについては−ｘ側に、可動辺９４ｃについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６２】
また、移動処理部３６は、図形９６について、可動辺９８ｄは入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺９８ｃは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｄ，９４ｄについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９６は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｄについては−ｘ側に、可動辺９４ｄについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６３】
以上のように、リサイズ処理部１４は、マスク基板に照明光を斜入射する際のマスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動する。そして、辺を移動する際には、取得した補正値の１／２を移動する。
【００６４】
判定工程（Ｓ１２０）として、判定部１６は、すべての図形について終了したかどうかを判定する。すべての図形について終了した場合にはショットデータ生成工程（Ｓ１２２）に進む。すべての図形について終了していない場合にはパターンデータ入力工程（Ｓ１０４）に戻る。そして、すべての図形について終了するまで、パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）から判定工程（Ｓ１２０）までを繰り返す。
【００６５】
以上により、シャドーウィング効果の装置固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正することができる。描画装置１００でかかる露光装置５００固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正することで、パターンデータ（描画データ）の使い回しが可能となる。
【００６６】
ショットデータ生成工程（Ｓ１２２）として、描画データ処理部１８は、リサイズされた各図形のデータについて、複数段のデータ変換処理を行い、描画装置１００用のショットデータを生成する。描画装置１００で図形パターンを描画するためには、１回のビームのショットで照射できるサイズにパターンデータ（描画データ）に定義された各図形パターンを分割する必要がある。そこで、描画データ処理部１８は、実際に描画するために、リサイズ処理された各図形パターンを１回のビームのショットで照射できるサイズに分割してショット図形を生成する。そして、ショット図形毎にショットデータを生成する。ショットデータには、例えば、図形種、図形サイズ、及び照射位置といった図形データが定義される。生成されたショットデータは、記憶装置１４４に記憶される。
【００６７】
描画工程（Ｓ１２４）として、描画制御部２０に制御された制御回路１２０は、記憶装置１４４からショットデータを入力し、描画部１５０を制御し、描画部１５０は、電子ビーム２００を用いて、パターン形成前のマスク基板１０１にリサイズされた図形を描画する。具体的には、以下のように動作する。
【００６８】
電子銃２０１（放出部）から放出された電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。偏向器２０５によって、かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像は偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させる（可変成形させる）ことができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、主偏向器２０８及び副偏向器２０９によって偏向され、連続的に移動するＸＹステージ１０５に配置された試料１０１の所望する位置に照射される。図１では、位置偏向に、主副２段の多段偏向を用いた場合を示している。かかる場合には、主偏向器２０８でストライプ領域をさらに仮想分割したサブフィールド（ＳＦ）の基準位置にステージ移動に追従しながら該当ショットの電子ビーム２００を偏向し、副偏向器２０９でＳＦ内の各照射位置にかかる該当ショットのビームを偏向すればよい。
【００６９】
以上のように実施の形態１によれば、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果における位置依存性誤差について補正できる。その結果、高精度なパターンを描画できる。
【００７０】
実施の形態２．
実施の形態１では、パターンデータに、図形毎に、後述するリサイズ処理を行うにあたって、移動させても構わない可動辺と移動させない不動辺とを識別する識別子が定義される場合を示した。実施の形態２では、各可動辺についてさらにリサイズ方向の情報についても付加する場合について説明する。以下、特に説明しない点は実施の形態１と同様である。
【００７１】
図１１は、実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図１１では、ｙ方向に長い両端の長方形に挟まれるように、ｘ方向に長い２つの長方形が上下の位置に配置されているパターンを示している。かかる場合に、ｘ方向に長い２つの長方形の左辺は、左側のｙ方向に長い長方形の右辺の一部と共用している。同様に、ｘ方向に長い２つの長方形の右辺は、右側のｙ方向に長い長方形の左辺の一部と共用している。かかる各図形について、ｘ方向について取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ可動辺を移動させると、ｙ方向に長い長方形の左右の辺は、点線で示すように、共に、太くなる側（正（＋）側）に辺を移動させればよい。しかし、ｘ方向に長い２つの長方形の左辺にあたる可動辺３０１，３０２は、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。同様に、ｘ方向に長い２つの長方形の右辺にあたる可動辺３０３，３０４についても、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。そこで、実施の形態２では、パターンデータに、可動辺と不動辺とを識別する識別子の他に、さらに、各可動辺についてリサイズ方向の情報についても付加する。リサイズ方向は、サイズを太らせる場合には、正（＋）、細らせる場合には負（−）の情報を定義すればよい。移動処理部３６は、辺の移動の際、かかるリサイズ方向に従って可動辺を補正値Ｐ’（ｘ）の１／２を移動させる。
【００７２】
図１２は、実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の他の一例を示す概念図である。図１２では、平行四辺形のｙ方向に延びる底辺を高さ方向の辺として共有する直角三角形が配置されているパターンを示している。かかる場合に、直角三角形のかかる高さ方向の辺は、点線で示すように、ｘ方向について取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ可動辺を移動させる必要がある。しかし、平行四辺形にとって、かかる底辺となる可動辺３０５は、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。よって、移動処理部３６は、辺の移動の際、かかるリサイズ方向に従って可動辺を補正値Ｐ’（ｘ）の１／２を移動させる。かかる構成により、平行四辺形の可動辺３０５は、細らせる側（負（−）側）に移動させることができる。
【００７３】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。斜入射反射光学系を用いた露光装置は、ＥＵＶ露光装置に限るものではなく、その他の斜入射反射光学系を用いた露光装置でもよい。
【００７４】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００７５】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置及び方法は、本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００７６】
１０ 選択部
１１ 入力部
１２ Ｐ’（ｘ）取得部
１４ リサイズ処理部
１６ 判定部
１８ 描画データ処理部
２０ 描画制御部
３０ 設定部
３２，３４，３８ 判定部
３６ 移動処理部
５０ 補正テーブル
５２ 描画領域
５３，５４ 位置
５８，５９ 辺
６０，６９，７０，７１，８０，８７，９１，９３，９５，９６ 図形
６２，６４，６６，６８ 辺
７２，７３，７４，７５，７６，７７，７８，７９ 辺
８１，８２，８３，８４，８５，８６ 辺
９２，９４，９７，９８ 辺
１００ 描画装置
１０１ 基板
１０２ 電子鏡筒
１０３ 描画室
１０５ ＸＹステージ
１１０ 制御計算機
１１２ メモリ
１２０ 制御回路
１４０，１４２，１４４ 記憶装置
１５０ 描画部
１６０ 制御部
２００ 電子ビーム
２０１ 電子銃
２０２ 照明レンズ
２０３，４１０ 第１のアパーチャ
２０４ 投影レンズ
２０５ 偏向器
２０６，４２０ 第２のアパーチャ
２０７ 対物レンズ
２０８ 主偏向器
２０９ 副偏向器
３０１，３０２，３０３，３０４，３０５ 辺
３３０ 電子線
３４０ 試料
４１１ 開口
４２１ 可変成形開口
４３０ 荷電粒子ソース
５００ 露光装置
５０２ 光源
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法に係り、例えば、描画装置内でパターンをリサイズする手法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
図１３は、可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）描画装置は、以下のように動作する。第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式（ＶＳＢ方式）という。
【０００４】
描画装置では、例えば、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）光を斜入射させ、反射光学系を用いてパターンを転写するＥＵＶ露光装置で用いるＥＵＶマスクを製作するにあたって、そのパターンをＥＵＶマスク基板に描画する（例えば、特許文献１参照）。かかる露光装置では、マスクへの入射光が斜入射となるので、パターンの向きによって、影（シャドーウィング）が生じ、寸法の非等方誤差が生じる。このようなシャドーウィング効果は、非等方誤差であるため、描画装置内部で電子ビームの照射量変調を用いて補正することが困難である。そのため、設計データの段階でパターンの方向に応じてパターン寸法を補正しておくことが行われる。また、シャドーウィング効果は、概ね入射角度に依存するため、一般に、マスク面内において、一律に同一の補正式で補正される。
【０００５】
しかしながら、シャドーウィング効果には、微小ではあるが露光装置のスリット内の位置依存性の誤差が生じる。昨今のパターンの微細化に伴い、かかるスリット内の位置依存性、ひいてはマスク面内の位置依存性の誤差も無視できないものとなってきている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１９８７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、昨今のパターンの微細化に伴い、例えば、上述したＥＵＶ露光装置等の斜入射反射光学系を用いた露光装置でパターンを転写する際、シャドーウィング効果が生じてしまう。そして、シャドーウィング効果は、露光装置のスリット内の位置依存性の誤差が生じる。かかる位置依存性誤差は、露光装置が変われば、その誤差も変化してしまう。そのため、設計データを作成する段階で補正することは困難である。
【０００８】
そこで、本発明は、上述した問題点を克服し、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果のうち、特に、位置依存性誤差について補正可能な描画装置および方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置は、
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶部と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部と、
図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。
【００１０】
また、パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義され、
リサイズ処理部は、不動辺については移動せずに、可動辺についてリサイズするために移動するように構成すると好適である。
【００１１】
また、リサイズ処理部は、マスク基板に照明光を斜入射する際のマスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動するように構成すると好適である。
【００１２】
また、記憶部は、複数の露光装置に対応する複数の補正テーブルを記憶し、
露光装置を識別する情報を入力し、入力された露光装置に応じて前記複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する選択部をさらに備えるように構成すると好適である。
【００１３】
本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画方法は、
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射してマスク基板からの反射光を用いてマスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶装置に記憶する工程と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、補正テーブルから対応する補正値を取得する工程と、
図形毎に、補正値を用いて、当該図形をリサイズする工程と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する工程と、
を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の一態様によれば、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果における位置依存性誤差について補正できる。その結果、高精度なパターンを描画できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
【図２】実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の一例を示す図である。
【図３】実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の比較例を示す図である。
【図４】実施の形態１における位置に依存したシャドーウィング効果を説明するための概念図である。
【図５】実施の形態１におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブルの一例を示す概念図である。
【図６】実施の形態１における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。
【図７】実施の形態１における入射方向に対して９０度の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図８】実施の形態１における入射方向に対して０度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図９】実施の形態１における入射方向に対して１３５度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１０】実施の形態１における入射方向に対して４５度の整数倍を除いた任意角の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１１】実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。
【図１２】実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の他の一例を示す概念図である。
【図１３】可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、可変成形型の描画装置について説明する。
【００１７】
実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。図１において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。特に、可変成形型の描画装置の一例である。描画部１５０は、電子鏡筒１０２と描画室１０３を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８及び副偏向器２０９が配置されている。描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置される。ＸＹステージ１０５上には、描画時には描画対象となるマスク基板１０１が配置される。マスク基板１０１には、斜入射反射光学系を用いた露光装置で使用される露光用マスクが含まれる。例えば、ＥＵＶマスクが含まれる。また、マスク基板１０１には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。
【００１８】
制御部１６０は、制御計算機１１０、メモリ１１２、制御回路１２０、及び磁気ディスク装置等の記憶装置１４０，１４２，１４４を有している。制御計算機１１０、メモリ１１２、制御回路１２０、及び記憶装置１４０，１４２，１４４は、図示しないバスを介して互いに接続されている。
【００１９】
制御計算機１１０内には、選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０が配置される。選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０といった機能は、電気回路等のハードウェアで構成されてもよいし、これらの機能を実行するプログラム等のソフトウェアで構成されてもよい。或いは、ハードウェアとソフトウェアの組み合わせにより構成されてもよい。選択部１０、入力部１１、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２、リサイズ処理部１４、判定部１６、描画データ処理部１８、及び描画制御部２０に入出力される情報および演算中の情報はメモリ１１２にその都度格納される。また、リサイズ処理部１４内には、設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６が配置される。設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６といった機能は、電気回路等のハードウェアで構成されてもよいし、これらの機能を実行するプログラム等のソフトウェアで構成されてもよい。或いは、ハードウェアとソフトウェアの組み合わせにより構成されてもよい。設定部３０、判定部３２，３４，３８、及び移動処理部３６に入出力される情報および演算中の情報はメモリ１１２にその都度格納される。
【００２０】
ここで、図１では、実施の形態１を説明する上で必要な構成を記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成を備えていても構わない。例えば、位置偏向用には、主偏向器２０８と副偏向器２０９の主副２段の多段偏向器を用いているが、１段の偏向器或いは３段以上の多段偏向器によって位置偏向を行なう場合であってもよい。
【００２１】
記憶装置１４０（記憶部）には、複数の図形パターンから構成されるパターンデータ（描画データ）が外部より入力され、格納されている。パターンデータには、各図形の形状、配置座標、およびサイズ等のデータが定義される。また、パターンデータには、図形毎に、後述するリサイズ処理を行うにあたって、移動させても構わない可動辺と移動させない不動辺とを識別する識別子がさらに定義されている。
【００２２】
図２は、実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の一例を示す図である。図２では、ｘ方向に並ぶ１：１のラインアンドスペースパターンの一例を示している。また、図２では、斜入射反射光学系の露光装置でかかるパターンが形成されたマスクに照明光を斜め上方から照射した際、マスク上においてｘ方向が照明光の入射方向である場合を示している。かかる場合、スペース部分に照射される照明光は、手前の厚さｄのパターンによって一部が遮られ、スペース部分に影ができる。そのため、スペース部分の設計寸法Ｌに対して実際に露光される寸法Ｌ１には誤差が生じる（シャドーウィング効果の主要効果）。かかるスペース部分の設計寸法Ｌと実際に露光される寸法Ｌ１との差分（誤差）は、露光装置の縮小率をｓとすると、Δ＝Ｌ−Ｌ１＝２ｄ・ｔａｎθ・ｓで定義される。このように、シャドーウィング効果の主要効果Ｓｅは、−２ｄ・ｔａｎθ・ｓの寸法変動を引き起こすことがわかる。
【００２３】
図３は、実施の形態１における入射角に依存したシャドーウィング効果の比較例を示す図である。図３では、ｙ方向に並ぶ１：１のラインアンドスペースパターンの一例を示している。また、図３では、斜入射反射光学系の露光装置でかかるパターンが形成されたマスクに照明光を斜め上方から照射した際、マスク上においてｘ方向が照明光の入射方向である場合を示している。かかる場合、スペース部分に照射される照明光は、厚さｄのパターンによって遮られない。そのため、影が生じず、スペース部分の設計寸法Ｌに対して実際に露光される寸法Ｌ２にはシャドーウィング効果の主要効果としての誤差は生じない。
【００２４】
このように、シャドーウィング効果の主要効果は、マスク上に形成されたパターンの厚さｄと照明光の入射角θに依存する。しかしながら、シャドーウィング効果には、かかる主要効果の他に、露光装置固有の位置依存の誤差Ｐ（ｘ）が生じる。
【００２５】
図４は、実施の形態１における位置に依存したシャドーウィング効果を説明するための概念図である。斜入射反射光学系を用いた露光装置５００（スキャナー）では、斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板１０１に照明光を斜入射してマスク基板１０１からの反射光を用いてマスク基板１０１に形成されたパターンを被露光基板に転写する。かかる露光装置５００（スキャナー）では、光源５０２からの照明光は、上述したようにマスクとなる基板１０１に対して斜め上方から照射される。例えば、基板１０１上においてｘ方向が照明光の入射方向（例えばｘ方向）となるように斜め上方から照射される。そして、一般には入射方向と直交する方向（例えばｙ方向）にスキャン移動させることでウェハ等の半導体基板にパターンを転写していく。その際、転写されたパターンには、設計寸法に対して、露光装置５００の入射方向と同方向に延びる照明スリット内の位置に依存した誤差Ｐ（ｘ）が生じる。かかるスリットの中心位置で誤差Ｐ（ｘ）＝０とすると、入射方向の手前側（−側）の位置で例えば負（−）の誤差が、入射方向の奥側（＋側）の位置で例えば正（＋）の誤差が生じる。このように、入射方向に対して位置に比例した量の誤差が生じる。
【００２６】
以上のように、斜入射反射光学系を用いた露光装置５００（スキャナー）で生じるシャドーウィング効果は、上述した主要効果Ｓｅ＋位置依存誤差Ｐ（ｘ）となる。シャドーウィング効果の主要効果Ｓｅについては、装置に依存しないため、設計段階で補正すればよい。或いは、かかる主要効果Ｓｅの補正値を描画装置１００が入力し、位置依存誤差Ｐ（ｘ）と合わせて補正しても構わない。実施の形態１では、上述した主要効果Ｓｅと位置依存誤差Ｐ（ｘ）のうち、特に、装置固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する場合について説明する。主要効果Ｓｅも合わせて補正する場合には、以下、位置依存誤差Ｐ（ｘ）について、位置依存誤差Ｐ（ｘ）に主要効果Ｓｅの値も加算した値と読み替えればよい。
【００２７】
まず、実施の形態１では、描画処理を開始する前に、予め、かかる位置依存誤差Ｐ（ｘ）の補正テーブルを作成する。各補正値は、予め、シミュレーション或いは実験等により求めておけばよい。
【００２８】
図５は、実施の形態１におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブルの一例を示す概念図である。図５において、シャドーウィング効果の位置依存誤差を示す補正テーブル５０では、位置ｘと、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する補正値Ｐ’（ｘ）と、の相関関係（相関データ）が定義される。或いは、かかる位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正する補正値Ｐ’（ｘ）を示す、位置ｘに依存した関数Ｐ’（ｘ）が補正テーブル（或いは相関関数）として定義されてもよい。かかる補正テーブル５０は、斜入射反射光学系を用いた複数の露光装置５００（スキャナー）について、露光装置５００毎に作成され、かかる複数の補正テーブルは、それぞれ対応する露光装置５００が識別可能なように記憶装置１４２（記憶部）に格納（記憶）される。ここでｘは、基板１０１上における照明光の入射方向の方向における位置を示す。
【００２９】
図６は、実施の形態１における描画方法の要部工程を示すフローチャート図である。図６において、実施の形態１における描画方法は、スキャナー選択工程（Ｓ１０２）と、パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）と、補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）と、リサイズ処理工程（Ｓ１０８）と、判定工程（Ｓ１２０）と、ショットデータ生成工程（Ｓ１２２）と、描画工程（Ｓ１２４）という一連の工程を実施する。また、リサイズ処理工程（Ｓ１０８）の内部工程として、辺設定工程（Ｓ１１０）と、判定工程（Ｓ１１２）と、判定工程（Ｓ１１４）と、辺移動工程（Ｓ１１６）と、判定工程（Ｓ１１８）という一連の工程を実施する。
【００３０】
スキャナー選択工程（Ｓ１０２）として、選択部１０は、露光装置５００を識別する情報を入力し、入力された露光装置５００に応じて記憶装置１４２に格納された複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する。露光装置５００を識別する情報は、描画装置１００で今回描画対象となる基板１００をマスクとして用いる露光装置５００を識別するための情報である。
【００３１】
パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）として、入力部１１は、記憶装置１４０からパターンデータを入力する。ここでは、図形毎にデータを入力してもよいし、まとめて複数の図形のデータを入力してもよい。
【００３２】
補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）として、補正値Ｐ’（ｘ）取得部１２は、複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、選択された補正テーブルから対応する補正値を取得する。Ｐ’（ｘ）取得部１２は、取得部の一例である。具体的には、入力されたパターンデータが示す図形の配置座標から当該図形の位置ｘを取得し、選択された補正テーブル５０を参照して、かかる位置ｘに対応する補正値Ｐ’（ｘ）を取得する。
【００３３】
リサイズ処理工程（Ｓ１０８）として、リサイズ処理部１４は、図形毎に、取得された補正値Ｐ’（ｘ）を用いて、当該図形をリサイズする。リサイズ処理の内容について以下に示す。
【００３４】
辺設定工程（Ｓ１１０）として、設定部３０は、リサイズ対象となる図形を構成する複数の辺のうちの１つを選択し、リサイズ対象として設定する。
【００３５】
判定工程（Ｓ１１２）として、判定部３２は、設定された当該辺が露光装置５００における照明光の入射方向に対して、０度の角度の辺かどうかを判定する。言い換えれば、入射方向（ｘ方向）に延びる辺かどうかを判定する。０度の角度の辺の場合には、判定工程（Ｓ１１８）へ進む。０度の角度の辺ではない場合には、判定工程（Ｓ１１４）へ進む。
【００３６】
判定工程（Ｓ１１４）として、判定部３４は、設定された当該辺がリサイズするために移動を許可する可動辺かどうかを判定する。上述したように、パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義される。そこで、判定部３４は、かかる情報を参照して、設定された当該辺がリサイズするために移動を許可する可動辺かどうかを判定すればよい。当該辺が可動辺である場合に辺移動工程（Ｓ１１６）へ進む。当該辺が可動辺ではない場合に判定工程（Ｓ１１８）へ進む。
【００３７】
辺移動工程（Ｓ１１６）として、移動処理部３６は、不動辺については移動せずに、可動辺について、補正値Ｐ’（ｘ）取得工程（Ｓ１０６）により取得された補正値Ｐ’（ｘ）に基づき、リサイズするために移動する。
【００３８】
判定工程（Ｓ１１８）として、判定部３８は、当該図形についてすべての辺が終了したかどうかを判定する。すべての辺が終了した場合は、判定工程（Ｓ１２０）へ進む。すべての辺が終了していない場合は、辺設定工程（Ｓ１１０）へ戻る。そして、辺設定工程（Ｓ１１０）において次の辺を設定する。そして、すべての辺が終了するまで辺設定工程（Ｓ１１０）から判定工程（Ｓ１１８）までを繰り返す。具体的には以下のように辺を移動させる。
【００３９】
図７は、実施の形態１における入射方向に対して９０度の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図７（ｂ）では、図７（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の図形６０についてリサイズする場合を示している。図７（ｂ）に示すように、図形６０は、入射方向（ｘ方向）に対して９０度の方向（ｙ方向）に長く延びる長方形パターンの一例である。図形６０は、４つの辺６２，６４，６６，６８で構成される。辺６２，６６は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺６２，６６は、不動辺と定義される。辺６４，６８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺６４，６８は、可動辺と定義される。かかる場合、移動処理部３６は、不動辺６２，６６については辺の移動をしない。そして、移動処理部３６は、可動辺６４，６８についてリサイズするために辺の移動を行う。辺の移動は、１つの辺に対して、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図７（ｂ）の例では、可動辺６４については−ｘ側に、可動辺６８については＋ｘ側にそれぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。これにより、ｘ方向の寸法を構成する２つの辺６４，６８について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。なお、図７（ｂ）に示す図形６０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。
【００４０】
一方、図７（ｃ）では、図７（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して奥側の位置５４に描画される予定の図形６０についてリサイズする場合を示している。図７（ｃ）に示す図形６０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して奥側の位置５４に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば正（＋）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の負（−）の値となる。よって、移動処理部３６は、不動辺６２，６６については辺の移動をしない。そして、移動処理部３６は、可動辺６４，６８についてリサイズするために辺の移動を行う。図７（ｃ）の例では、可動辺６４については＋ｘ側に、可動辺６８については−ｘ側にそれぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。これにより、ｘ方向の寸法を構成する２つの辺６４，６８について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。
【００４１】
図８は、実施の形態１における入射方向に対して０度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図８（ｂ）では、図８（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の３つの図形６９，７０，７１についてリサイズする場合を示している。図８（ｂ）に示すように、図形６９は、入射方向（ｘ方向）に対して０度の方向に長く延びる長方形パターンの一例である。図形６９は、４つの辺５８，５９，７５，７８で構成される。辺５８，５９は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺５８，５９は、可動辺と定義される。辺７５，７８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７５，７８は、不動辺と定義される。
【００４２】
図形７０は、４つの辺７２，７４，７６，７８で構成される。辺７８は、図形６９と共有する。辺７２，７６は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺７２，７６は、可動辺と定義される。辺７４，７８は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７４は、可動辺と定義される。辺７８は、不動辺と定義される。
【００４３】
図形７１は、４つの辺７３，７５，７７，７９で構成される。辺７５は、図形６９と共有する。辺７３，７７は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺７３，７７は、可動辺と定義される。辺７５，７９は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺７９は、可動辺と定義される。辺７５は、不動辺と定義される。
【００４４】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形６９について、可動辺５８，５９は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７５，７８は、不動辺なので辺の移動はしない。よって、図形６９についてはリサイズしない。
【００４５】
また、移動処理部３６は、図形７０について、可動辺７２，７６は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７８は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺７４については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形７０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図８（ｂ）の例では、可動辺７４については−ｘ側に、補正値Ｐ’（ｘ）の１／２だけ移動させる。
【００４６】
また、移動処理部３６は、図形７１について、可動辺７３，７７は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。また、辺７５は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺７９については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形７１は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図８（ｂ）の例では、可動辺７９については＋ｘ側に、補正値Ｐ’（ｘ）の１／２だけ移動させる。
【００４７】
以上のリサイズ処理により、図形７０についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺７４，７８のうち辺７４について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。また、図形７１についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺７５，７９のうち辺７９について補正値Ｐ’（ｘ）だけリサイズすることができる。これにより、入射方向に対して０度の方向に繋がる３つの図形６９，７０，７１について、図形間に隙間なく、かつ重複領域なくリサイズ処理ができる。
【００４８】
図９は、実施の形態１における入射方向に対して１３５度の方向につながる複数のパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図９（ｂ）では、図９（ａ）に示す基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される予定の、平行四辺形（図形８０）と平行四辺形（図形８０）に繋がる直角２等辺３角形（図形８７）についてリサイズする場合を示している。図９（ｂ）に示すように、図形８０は、入射方向（ｘ方向）に対して９０度の方向（ｙ方向）に長く延びる平行四辺形パターンの一例である。図形８０は、底辺８３，８６と斜辺８４，８５の４つの辺８３，８６，８４，８５で構成される。辺８３，８６は、入射方向の方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺８６は、可動辺と定義される。また、辺８３は、不動辺と定義される。辺８４，８５は、入射方向の方向に対して、１３５度の角度の辺である。また、辺８４，８５は、可動辺と定義される。
【００４９】
図形８７は、直交する２辺８１，８３と斜辺８２の３つの辺８１，８２，８３で構成される。辺８３は、図形８０と共有する。辺８３は、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺８３は、不動辺と定義される。辺８１は、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。また、辺８１は、可動辺と定義される。辺８２は、入射方向に対して、１３５度の角度の辺である。また、辺８２は、可動辺と定義される。
【００５０】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形８０について、可動辺８６は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺８３は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺８４，８５については、入射方向（ｘ方向）に対して、１３５度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図９（ｂ）に示す図形８０は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図９（ｂ）の例では、可動辺８４については−ｘ側に、可動辺８５については＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００５１】
また、移動処理部３６は、図形８７について、辺８３は、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺８１，８２については、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺と１３５度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図８（ｂ）に示す図形８７は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図９（ｂ）の例では、可動辺８１については−ｘ側に、可動辺８２については＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００５２】
以上のリサイズ処理により、図形８０についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺８４，８５について補正値Ｐ’（ｘ）ずつリサイズすることができる。また、図形８７についてｘ方向の寸法を構成する２つの辺８１，８２について補正値Ｐ’（ｘ）ずつリサイズすることができる。これにより、入射方向に対して１３５度の方向に繋がる２つの図形８０，８７について、図形間に隙間なく、かつ重複領域なくリサイズ処理ができる。
【００５３】
図１０は、実施の形態１における入射方向に対して４５度の整数倍を除いた任意角の方向に延びるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。４５度の整数倍を除いた任意角パターンは、描画装置１００に入力される前の段階で複数の４５度の整数倍の角度を持つパターンに分割される。図１０の例では、図１０（ｂ）に示すように、ｘ方法に少しずつずれて配置された複数の長方形（図形９１，９３，９５，９６）に分割された例を示している。そして、上段の長方形（図形９１）は、続く長方形（図形９３）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ａを共有する。長方形（図形９３）は、さらに、続く長方形（図形９５）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ｂを共有する。長方形（図形９５）は、さらに、続く長方形（図形９６）と入射方向に対して、０度の角度の不動辺９８ｃを共有する。複数の長方形（図形９１，９３，９５，９６）は、図１０（ａ）に示すように基板１０１の描画領域５２上において露光装置５００の照明光の入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画される場合を示している。
【００５４】
図１０（ｂ）に示すように、図形９１，９３，９５，９６は、共に、入射方向（ｘ方向）に対して０度の方向に長く延びる長方形パターンの一例である。
【００５５】
図形９１は、４つの辺９２ａ，９４ａ，９７，９８ａで構成される。辺９７，９８ａは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ａは、不動辺と定義される。辺９７は、可動辺と定義される。辺９２ａ，９４ａは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ａ，９４ａは、可動辺と定義される。
【００５６】
図形９３は、４つの辺９２ｂ，９４ｂ，９８ａ，９８ｂで構成される。辺９８ａ，９８ｂは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ａ，９８ｂは、不動辺と定義される。辺９２ｂ，９４ｂは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｂ，９４ｂは、可動辺と定義される。
【００５７】
図形９５は、４つの辺９２ｃ，９４ｃ，９８ｂ，９８ｃで構成される。辺９８ｂ，９８ｃは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ｂ，９８ｃは、不動辺と定義される。辺９２ｃ，９４ｃは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｃ，９４ｃは、可動辺と定義される。
【００５８】
図形９６は、４つの辺９２ｄ，９４ｄ，９８ｃ，９８ｄで構成される。辺９８ｃ，９８ｄは、入射方向に対して、０度の角度の辺である。また、辺９８ｃは、不動辺と定義される。辺９８ｄは、可動辺と定義される。辺９２ｄ，９４ｄは、入射方向に対して、９０度の角度の辺である。辺９２ｄ，９４ｄは、可動辺と定義される。
【００５９】
かかる場合に、移動処理部３６は、図形９１について、可動辺９７は入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺９８ａは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ａ，９４ａについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９１は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ａについては−ｘ側に、可動辺９４ａについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６０】
また、移動処理部３６は、図形９３について、辺９８ａ，９８ｂは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｂ，９４ｂについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９３は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｂについては−ｘ側に、可動辺９４ｂについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６１】
また、移動処理部３６は、図形９５について、辺９８ｂ，９８ｃは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｃ，９４ｃについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９５は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｃについては−ｘ側に、可動辺９４ｃについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６２】
また、移動処理部３６は、図形９６について、可動辺９８ｄは入射方向（ｘ方向）に対して、０度の角度の辺なので、辺の移動はしない。辺９８ｃは、不動辺なので辺の移動はしない。しかし、可動辺９２ｄ，９４ｄについては、入射方向（ｘ方向）に対して、９０度の角度の辺なので、取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ移動させる。図１０（ｂ）に示す図形９６は、入射方向（例えばｘ方向）に対して手前側の位置５３に描画されるので、位置依存誤差Ｐ（ｘ）は例えば負（−）の値になる。そのため、補正値Ｐ’（ｘ）は、位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正するように極性が逆の正（＋）の値となる。よって、図１０（ｂ）の例では、可動辺９２ｄについては−ｘ側に、可動辺９４ｄについては＋ｘ側に、それぞれ補正値Ｐ’（ｘ）の１／２ずつ移動させる。
【００６３】
以上のように、リサイズ処理部１４は、マスク基板に照明光を斜入射する際のマスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動する。そして、辺を移動する際には、取得した補正値の１／２を移動する。
【００６４】
判定工程（Ｓ１２０）として、判定部１６は、すべての図形について終了したかどうかを判定する。すべての図形について終了した場合にはショットデータ生成工程（Ｓ１２２）に進む。すべての図形について終了していない場合にはパターンデータ入力工程（Ｓ１０４）に戻る。そして、すべての図形について終了するまで、パターンデータ入力工程（Ｓ１０４）から判定工程（Ｓ１２０）までを繰り返す。
【００６５】
以上により、シャドーウィング効果の装置固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正することができる。描画装置１００でかかる露光装置５００固有の位置依存誤差Ｐ（ｘ）を補正することで、パターンデータ（描画データ）の使い回しが可能となる。
【００６６】
ショットデータ生成工程（Ｓ１２２）として、描画データ処理部１８は、リサイズされた各図形のデータについて、複数段のデータ変換処理を行い、描画装置１００用のショットデータを生成する。描画装置１００で図形パターンを描画するためには、１回のビームのショットで照射できるサイズにパターンデータ（描画データ）に定義された各図形パターンを分割する必要がある。そこで、描画データ処理部１８は、実際に描画するために、リサイズ処理された各図形パターンを１回のビームのショットで照射できるサイズに分割してショット図形を生成する。そして、ショット図形毎にショットデータを生成する。ショットデータには、例えば、図形種、図形サイズ、及び照射位置といった図形データが定義される。生成されたショットデータは、記憶装置１４４に記憶される。
【００６７】
描画工程（Ｓ１２４）として、描画制御部２０に制御された制御回路１２０は、記憶装置１４４からショットデータを入力し、描画部１５０を制御し、描画部１５０は、電子ビーム２００を用いて、パターン形成前のマスク基板１０１にリサイズされた図形を描画する。具体的には、以下のように動作する。
【００６８】
電子銃２０１（放出部）から放出された電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。偏向器２０５によって、かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像は偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させる（可変成形させる）ことができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、主偏向器２０８及び副偏向器２０９によって偏向され、連続的に移動するＸＹステージ１０５に配置された試料１０１の所望する位置に照射される。図１では、位置偏向に、主副２段の多段偏向を用いた場合を示している。かかる場合には、主偏向器２０８でストライプ領域をさらに仮想分割したサブフィールド（ＳＦ）の基準位置にステージ移動に追従しながら該当ショットの電子ビーム２００を偏向し、副偏向器２０９でＳＦ内の各照射位置にかかる該当ショットのビームを偏向すればよい。
【００６９】
以上のように実施の形態１によれば、斜入射反射光学系を用いた露光装置で生じるシャドーウィング効果における位置依存性誤差について補正できる。その結果、高精度なパターンを描画できる。
【００７０】
実施の形態２．
実施の形態１では、パターンデータに、図形毎に、後述するリサイズ処理を行うにあたって、移動させても構わない可動辺と移動させない不動辺とを識別する識別子が定義される場合を示した。実施の形態２では、各可動辺についてさらにリサイズ方向の情報についても付加する場合について説明する。以下、特に説明しない点は実施の形態１と同様である。
【００７１】
図１１は、実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の一例を示す概念図である。図１１では、ｙ方向に長い両端の長方形に挟まれるように、ｘ方向に長い２つの長方形が上下の位置に配置されているパターンを示している。かかる場合に、ｘ方向に長い２つの長方形の左辺は、左側のｙ方向に長い長方形の右辺の一部と共用している。同様に、ｘ方向に長い２つの長方形の右辺は、右側のｙ方向に長い長方形の左辺の一部と共用している。かかる各図形について、ｘ方向について取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ可動辺を移動させると、ｙ方向に長い長方形の左右の辺は、点線で示すように、共に、太くなる側（正（＋）側）に辺を移動させればよい。しかし、ｘ方向に長い２つの長方形の左辺にあたる可動辺３０１，３０２は、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。同様に、ｘ方向に長い２つの長方形の右辺にあたる可動辺３０３，３０４についても、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。そこで、実施の形態２では、パターンデータに、可動辺と不動辺とを識別する識別子の他に、さらに、各可動辺についてリサイズ方向の情報についても付加する。リサイズ方向は、サイズを太らせる場合には、正（＋）、細らせる場合には負（−）の情報を定義すればよい。移動処理部３６は、辺の移動の際、かかるリサイズ方向に従って可動辺を補正値Ｐ’（ｘ）の１／２を移動させる。
【００７２】
図１２は、実施の形態２におけるパターンのリサイズ処理の他の一例を示す概念図である。図１２では、平行四辺形のｙ方向に延びる底辺を高さ方向の辺として共有する直角三角形が配置されているパターンを示している。かかる場合に、直角三角形のかかる高さ方向の辺は、点線で示すように、ｘ方向について取得された補正値Ｐ’（ｘ）の１／２の値だけ可動辺を移動させる必要がある。しかし、平行四辺形にとって、かかる底辺となる可動辺３０５は、逆に細らせる側（負（−）側）に移動させる必要がある。よって、移動処理部３６は、辺の移動の際、かかるリサイズ方向に従って可動辺を補正値Ｐ’（ｘ）の１／２を移動させる。かかる構成により、平行四辺形の可動辺３０５は、細らせる側（負（−）側）に移動させることができる。
【００７３】
以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。斜入射反射光学系を用いた露光装置は、ＥＵＶ露光装置に限るものではなく、その他の斜入射反射光学系を用いた露光装置でもよい。
【００７４】
また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。
【００７５】
その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置及び方法は、本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００７６】
１０ 選択部
１１ 入力部
１２ Ｐ’（ｘ）取得部
１４ リサイズ処理部
１６ 判定部
１８ 描画データ処理部
２０ 描画制御部
３０ 設定部
３２，３４，３８ 判定部
３６ 移動処理部
５０ 補正テーブル
５２ 描画領域
５３，５４ 位置
５８，５９ 辺
６０，６９，７０，７１，８０，８７，９１，９３，９５，９６ 図形
６２，６４，６６，６８ 辺
７２，７３，７４，７５，７６，７７，７８，７９ 辺
８１，８２，８３，８４，８５，８６ 辺
９２，９４，９７，９８ 辺
１００ 描画装置
１０１ 基板
１０２ 電子鏡筒
１０３ 描画室
１０５ ＸＹステージ
１１０ 制御計算機
１１２ メモリ
１２０ 制御回路
１４０，１４２，１４４ 記憶装置
１５０ 描画部
１６０ 制御部
２００ 電子ビーム
２０１ 電子銃
２０２ 照明レンズ
２０３，４１０ 第１のアパーチャ
２０４ 投影レンズ
２０５ 偏向器
２０６，４２０ 第２のアパーチャ
２０７ 対物レンズ
２０８ 主偏向器
２０９ 副偏向器
３０１，３０２，３０３，３０４，３０５ 辺
３３０ 電子線
３４０ 試料
４１１ 開口
４２１ 可変成形開口
４３０ 荷電粒子ソース
５００ 露光装置
５０２ 光源
【特許請求の範囲】
【請求項１】
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射して前記マスク基板からの反射光を用いて前記マスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶部と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、前記補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部と、
図形毎に、前記補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義され、
前記リサイズ処理部は、不動辺については移動せずに、可動辺についてリサイズするために移動することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記リサイズ処理部は、前記マスク基板に照明光を斜入射する際の前記マスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、前記入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動することを特徴とする請求項１又は２記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記記憶部は、複数の露光装置に対応する複数の補正テーブルを記憶し、
露光装置を識別する情報を入力し、入力された露光装置に応じて前記複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する選択部をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射して前記マスク基板からの反射光を用いて前記マスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶装置に記憶する工程と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、前記補正テーブルから対応する補正値を取得する工程と、
図形毎に、前記補正値を用いて、当該図形をリサイズする工程と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
【請求項１】
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射して前記マスク基板からの反射光を用いて前記マスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶する記憶部と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、前記補正テーブルから対応する補正値を取得する取得部と、
図形毎に、前記補正値を用いて、当該図形をリサイズするリサイズ処理部と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記パターンデータには、図形毎に、当該図形を構成する複数の辺についてそれぞれリサイズするために移動を許可する可動辺なのか、移動を許可しない不動辺なのか、を識別する情報が定義され、
前記リサイズ処理部は、不動辺については移動せずに、可動辺についてリサイズするために移動することを特徴とする請求項１記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記リサイズ処理部は、前記マスク基板に照明光を斜入射する際の前記マスク基板上の入射方向と同じ方向に延びる辺については移動せず、前記入射方向とは異なる方向に延びる辺についてリサイズするために移動することを特徴とする請求項１又は２記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記記憶部は、複数の露光装置に対応する複数の補正テーブルを記憶し、
露光装置を識別する情報を入力し、入力された露光装置に応じて前記複数の補正テーブルの中から対応する補正テーブルを選択する選択部をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
斜入射反射光学系を用いてパターンが形成されたマスク基板に照明光を斜入射して前記マスク基板からの反射光を用いて前記マスク基板に形成されたパターンを被露光基板に転写する露光装置におけるシャドーウィング効果の位置依存誤差を補正する補正値が定義された補正テーブルを記憶装置に記憶する工程と、
複数の図形について位置と形状とサイズが定義されたパターンデータを入力し、図形毎に、当該図形の位置に基づいて、前記補正テーブルから対応する補正値を取得する工程と、
図形毎に、前記補正値を用いて、当該図形をリサイズする工程と、
荷電粒子ビームを用いて、パターン形成前のマスク基板にリサイズされた図形を描画する工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１３−１１５３０４（Ｐ２０１３−１１５３０４Ａ）
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２６１５６２（Ｐ２０１１−２６１５６２）
【出願日】平成２３年１１月３０日（２０１１．１１．３０）
【出願人】（５０４１６２９５８）株式会社ニューフレアテクノロジー (669)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年６月１０日（２０１３．６．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月３０日（２０１１．１１．３０）
【出願人】（５０４１６２９５８）株式会社ニューフレアテクノロジー (669)
【Ｆターム（参考）】
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