薄膜形成方法および有機ＥＬ素子の製造方法
【課題】溶媒を用いるウエットプロセスにおいて、十分な緻密性を有する樹脂製の薄膜の形成方法と、この薄膜形成方法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法とを提供する。
【解決手段】架橋ユニットを含有する機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、第１機能性溶液を基体上に配する工程と、第１機能性溶液を熱処理して第１機能性溶液中の溶媒を除去すると共に、架橋ユニットを架橋させて機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜５ａを形成する工程と、機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、第２機能性溶液を第１機能性薄膜５ａ上に配する工程と、第２機能性溶液を熱処理して溶媒を除去すると共に、架橋ユニットを架橋させて第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、第２機能性溶液と第１機能性薄膜５ａとからなる第２機能性薄膜５ｂを形成する工程と、を備えた薄膜形成方法。
【解決手段】架橋ユニットを含有する機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、第１機能性溶液を基体上に配する工程と、第１機能性溶液を熱処理して第１機能性溶液中の溶媒を除去すると共に、架橋ユニットを架橋させて機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜５ａを形成する工程と、機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、第２機能性溶液を第１機能性薄膜５ａ上に配する工程と、第２機能性溶液を熱処理して溶媒を除去すると共に、架橋ユニットを架橋させて第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、第２機能性溶液と第１機能性薄膜５ａとからなる第２機能性薄膜５ｂを形成する工程と、を備えた薄膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造などに好適な薄膜形成方法と、この薄膜形成方法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイなどの表示装置に用いられている有機エレクトロルミネセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という。）は、一般に、発光性を有する発光層と正孔注入輸送性を有する正孔注入層とを含んだ有機層と、この有機層を挟持する陰極及び陽極とが基板上に設けられた構成になっている。このような有機ＥＬ素子において、有機層である発光層と正孔注入層とは積層された構造となっている。
【０００３】
ところで、有機ＥＬ素子を製造する際の薄膜形成方法としては、大きく分けてウエットプロセスとドライプロセスとがある。特に、有機層である前記の発光層や正孔注入層を形成する手法としては、発光層や正孔注入層を構成する材料を溶媒に溶解（又は分散）して液状組成物を作製し、この液状組成物を基板上に塗布し、その後、熱処理によって溶媒を蒸発させるウエットプロセスがよく知られている。このようなウエットプロセスとして代表的なものは、スピンコート法やインクジェット法が挙げられる。このようなウエットプロセスによる薄膜形成法によれば、大面積の基板上にも容易に有機層を形成することが可能であるため、近年大型化しているディスプレイ用の有機ＥＬ装置などの製造において、特に期待されている。
【０００４】
ところが、ウエットプロセスでは、蒸着法等のドライプロセスに比べ、溶媒を使用することから十分な緻密性を有する薄膜が得られないといった課題がある。すなわち、前記したように液状組成物を塗布した後、溶媒を蒸発させると、この溶媒が膜中から抜けた経路等が、樹脂分子間の隙間などに僅かながら気孔となって残ってしまうことなどにより、得られる膜に十分な緻密性が得られなくなってしまうのである。また、例えば形成した薄膜上に別の薄膜を形成した際、別の薄膜形成に用いた溶媒によって下地の薄膜が再溶解を起こし、これによって緻密性がさらに低下してしまうといったおそれもある。
【０００５】
このような背景のもとに従来では、膜の緻密性を改善させる目的で、有機化合物と無機化合物とを同時に基板上へ蒸着させる方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−１０２３６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記の蒸着による方法はドライプロセスであって、溶媒を用いるウエットプロセスにそのまま適用することはできない。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、溶媒を用いるウエットプロセスにおいて、十分な緻密性を有する樹脂製の薄膜の形成方法と、この薄膜形成方法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため本発明の薄膜形成方法は、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、該第１機能性溶液を基体上に配する工程と、
前記第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて前記機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成する工程と、
前記機能性樹脂を溶媒に溶解して前記第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、該第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する工程と、
前記第２機能性溶液を熱処理して該第２機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて該第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴としている。
【０００８】
この薄膜形成方法によれば、架橋ユニットを架橋させて機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成するので、この第１機能性薄膜上に第２機能性溶液を配しても、第１機能性薄膜を再溶解させることはない。また、この第１機能性薄膜には、第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去したことにより、この溶媒が膜中から抜けた際の経路等による気孔が残っている。しかし、この第１機能性薄膜上に第２機能性溶液を配し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成するので、得られる第２機能性薄膜は十分な緻密性を有するものとなる。
すなわち、第２機能性溶液の濃度を第１機能性溶液より低い濃度にしているので、第２機能性溶液中の溶質である機能性樹脂の濃度が低く、したがってこの機能性樹脂が第１機能性薄膜中に残っている気孔内に容易に入り込むようになる。よって、第１機能性薄膜中の気孔に機能性樹脂が充填され、その状態で第２機能性薄膜が形成されるので、得られた第２機能性薄膜は前記したように十分な緻密性を有するものとなるのである。
また、第２機能性溶液中の機能性樹脂も、架橋ユニットが架橋されて不溶化されるので、得られた第２機能性薄膜は、その上に別の薄膜が形成されても、その際に用いられる溶媒によって再溶解を起こすことがない。
なお、このように第２機能性薄膜を形成した後、同様の工程を繰り返して第３機能性薄膜、さらに第４機能性薄膜と順次形成していくことにより、得られる薄膜の緻密性をさらに高めることができる。
【０００９】
また、前記薄膜形成方法においては、前記第１機能性溶液を基体上に配する第１の塗布処理をスピンコート法で行うとともに、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する第２の塗布処理をスピンコート法で行うのが好ましい。
このようにすれば、第１機能性薄膜を比較的均一な厚さで十分に薄く形成することができ、さらにその上に第２機能性溶液を十分に薄くしかも均一に塗布することができるので、前記したように第１機能性薄膜中に残っている気孔内に第２機能性溶液の機能性樹脂がより入り込み易くなり、したがって第２機能性薄膜がより高い緻密性を有するようになる。
【００１０】
なお、この薄膜形成方法においては、スピンコート法による前記第２の塗布処理でのスピンコータの回転数を、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高くするのが好ましい。
このようにすれば、第１機能性溶液を塗布した際の熱処理前の膜の厚さより、第２機能性溶液を塗布した際の熱処理前の膜の厚さを薄く形成することができ、したがって、該第１機能性薄膜の表面上に形成される第２機能性溶液からなる膜分を、十分に少なくすることができる。よって、第１機能性薄膜の表面上に形成されてしまう、第２機能性溶液のみからなる該第２機能性薄膜の緻密性が不十分な膜の厚さを、十分に薄くすることができる。
【００１１】
また、前記薄膜形成方法において、前記第２の塗布処理では、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持し、その後、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高い回転数でスピンコータを回転させるのが好ましい。
このようにすれば、第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持することにより、第１機能性薄膜中への第２機能性溶液の浸透を促すことができ、したがって得られる薄膜の緻密性を十分に高めることができる。
【００１２】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、一対の電極間に少なくとも発光層を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法において、前記発光層の形成を、前記の薄膜形成方法を用いて行うことを特徴としている。
この有機ＥＬ素子の製造方法によれば、十分な緻密性を有する発光層を形成することができる。したがって、安定した導電性が確保されることにより、良好でかつ均一な発光特性を得ることができる。また、発光層を挟持する電極間でのショートも確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の方法を用いて得られた有機ＥＬ素子の一例を示す図であり、図１中符号１は有機ＥＬ素子である。この有機ＥＬ素子１は、基板２上に陽極３を形成し、この陽極３上に正孔注入層４、発光層５をこの順に積層し、さらに発光層５上に陰極６を形成してなるものである。
【００１４】
このような構成の有機ＥＬ素子１を製造するには、まず基板２を用意する。基板２としては、発光層５で発光した光を該基板２の外側（観測者側）に出射するボトムエミッション型の場合には、透光性のガラス板等が用いられる。逆に、陰極６側から光を出射するトップエミッション型の場合には、透光性を有する必要はなく、樹脂やシリコン、金属など各種のものが使用可能となる。なお、本実施形態では有機ＥＬ素子１はボトムエミッション型のものとし、したがって基板２としては透光性のガラス板を用い、その上に駆動回路部（図示せず）を形成したものとする。
【００１５】
次に、図２（ａ）に示すように前記基板２上に蒸着法等によってＩＴＯを成膜し、さらに所定形状にパターニングすることにより、陽極３を形成する。このようにしてパターニングされた陽極３は、有機ＥＬ素子１が多数形成されてなる有機ＥＬ装置（図示せず）において、画素電極として機能するようになる。
【００１６】
次いで、この陽極３を形成した基板２を洗浄し、さらに、酸素プラズマ処理を行い、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させ、基板２の表面を親液性に改質する。具体的には、基板２を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。これにより、陽極３の仕事関数を上げることができる。
【００１７】
次いで、基板２の陽極３を形成した側の全面に、図２（ｂ）に示すように正孔注入層４を形成する。具体的には、正孔注入層４の形成材料として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液を用い、これをスピンコート法によって所定の膜厚、例えば３０ｎｍ〜７０ｎｍに成膜する。その後、溶媒を除去する目的で、大気中にて２００℃で１０分間加熱処理し、乾燥することにより、正孔注入層４を形成する。なお、この正孔注入層４までを形成した基板２が、本発明における基体となる。
【００１８】
次いで、前記基体上、すなわち前記正孔注入層４上に、図２（ｃ）に示すように発光層５を形成する。この発光層５の形成に際しては、特に本発明の薄膜形成方法を用いて行う。
具体的には、まず、発光層５の形成材料として、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を用意する。例えば、本実施形態では、下記のポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体が用いられる。
【化１】
【００１９】
この機能性樹脂は、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）の末端基をフェニルエポキシドで末端処理したものであり、このエポキシ基が架橋性を有する架橋ユニットとなる。なお、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂としては、前記のポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体以外にも種々のものが使用可能であり、また、架橋ユニットについても、フェニルエポキシド以外のエポキシ基、二重結合基、環状エーテル基等を用いることができる。さらに、架橋ユニットの導入位置についても、前記したポリマーの末端以外に、ポリマーの主鎖や側鎖などポリマーの骨格内に導入してもよい。
【００２０】
次に、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）をトルエンに溶解し、第１の濃度、ここでは１．５重量％の濃度の第１機能性溶液を形成する。そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、適宜な回転数（例えば２０００ｒｐｍ）で基板２を回転させつつ、前記の第１機能性溶液を基板２上の正孔注入層４の上にスピンコート法で第１の塗布処理を行うことにより、所定の膜厚、例えば７０〜１５０ｎｍに成膜する。
【００２１】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記架橋ユニットを架橋させることで前記機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）をさらに高分子化して不溶化する。これにより、模式化した図３（ａ）に示すように、第１機能性薄膜５ａを形成する。このようにして乾燥を行うと、前述したように溶媒が膜中から抜けた経路等が、樹脂分子間の隙間などに僅かながら気孔となって残ってしまい、得られた第１機能性薄膜５ａはその緻密性が不十分になってしまう。
【００２２】
そこで、このようにして第１機能性薄膜５ａを形成した後、この第１機能性薄膜５ａ上にさらに前記機能性樹脂を含有する機能性溶液を塗布する。ただし、この機能性溶液としては、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の濃度が前記第１機能性溶液より低い濃度（第２の濃度）のものを用いる。ここでは、第２の濃度として、０．３重量％となるように前記機能性樹脂を溶媒（トルエン）で溶解し、第２機能性溶液を作製する。
【００２３】
そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、その状態（スピンコータを回転させない状態）で前記の第２機能性溶液をこの基板２の前記第１機能性薄膜５ａ上に配し、前記第１機能性薄膜５ａ上に前記の第２機能性溶液を塗布し、スピンコータを所定時間（例えば５秒間）無回転に保持した後、スピンコータを回転させることにより、第２の塗布処理を行うことで所定の膜厚に成膜する。
【００２４】
ここで、第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜５ａ上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持することにより、第１機能性薄膜５ａ中への第２機能性溶液の浸透を促すことができる。つまり、前記したように第１機能性薄膜５ａに形成された気孔内に、第２機能性溶液を浸透させることができる。なお、第１機能性薄膜５ａは、前記したように不溶化されているので、この第１機能性薄膜５ａ上に第２機能性溶液を塗布しても、この溶液中の溶媒によって再溶解させられることはない。
【００２５】
また、この第２機能性溶液をスピンコートする際には、そのスピンコータの回転数を、前記第１機能性溶液のスピンコート時よりも高い回転数（例えば５０００ｒｐｍ）で行う。このようにすれば、この第２機能性溶液を塗布して得られた熱処理前の膜の厚さが、前記第１機能性溶液を塗布して得られた熱処理前の膜の厚さより薄くなる。したがって、該第１機能性薄膜５ａの表面上に載って形成されてしまう第２機能性溶液からなる膜分を、例えば１０ｎｍ以下と十分に少なく（薄く）することができる。
【００２６】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記第２機能性溶液中の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の架橋ユニットを架橋させることにより、該機能性樹脂をさらに高分子化して不溶化する。これにより、模式化した図３（ｂ）に示すように、第１機能性薄膜５ａと第２機能性溶液とからなる第２機能性薄膜５ｂを形成する。このようにして得られた第２機能性薄膜５ｂは、前記したように第１機能性薄膜５ａ中の気孔内に第２機能性溶液が浸透し、その状態で加熱処理されて乾燥されかつ不溶化されたことにより、前記第１機能性薄膜５ａに比べてその緻密性が格段に高まったものとなる。
【００２７】
ただし、第２機能性溶液のみからなる膜が前記第１機能性薄膜５ａ上にわずかながら形成されてしまうことなどにより、第２機能性薄膜５ｂの緻密性が未だ十分とはならないおそれがある。そこで、本実施形態では、さらに前記の工程を繰り返し、得られる機能性薄膜からなる発光層５の十分な緻密性を確保するようにしている。
【００２８】
すなわち、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の濃度が前記第２機能性溶液より低い濃度（第３の濃度）、ここでは０．１重量％の第３機能性溶液を作製する。そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、その状態（スピンコータを回転させない状態）で前記の第３機能性溶液をこの基板２の前記第２機能性薄膜５ｂ上に配し、前記第２機能性薄膜５ｂ上に前記の第３機能性溶液を塗布し、スピンコータを所定時間（例えば５秒間）無回転に保持した後、スピンコータを回転させることにより、第３の塗布処理を行うことで所定の膜厚に成膜する。
【００２９】
なお、この第３機能性溶液をスピンコートする際にも、そのスピンコータの回転数を、前記第２機能性溶液のスピンコート時よりも高い回転数（例えば７０００ｒｐｍ）で行う。このようにすれば、この第３機能性溶液を塗布して形成される、該第３機能性溶液のみからなる膜の厚さが、前記の第２機能性溶液を塗布した際に形成された、該第２機能性溶液のみからなる膜の厚さより薄くなる。すなわち、前記第２機能性薄膜５ｂの表面上に載って形成されてしまう第３機能性溶液からなる膜分を、１０ｎｍ以下と十分に少なく（薄く）することができる。
【００３０】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記第３機能性溶液中の機能性樹脂の架橋ユニットを架橋させることにより、該機能性樹脂をさらに高分子化して不溶化する。これにより、第２機能性薄膜５ｂと第３機能性溶液とからなる第３機能性薄膜、すなわち本発明の発光層５を形成する。このようにして得られた発光層５（第３機能性薄膜）は、第２機能性薄膜５ｂ中の気孔内に第３機能性溶液が浸透し、その状態で加熱処理されて乾燥されかつ不溶化されたことにより、前記第２機能性薄膜５ｂに比べてさらにその緻密性が高まったものとなる。
【００３１】
次いで、前記発光層５上に真空蒸着法によって例えばカルシウムを厚さ５ｎｍ程度、アルミニウムを厚さ３００ｎｍ程度に積層し、図２（ｄ）に示すように陰極６を形成する。なお、この陰極６の形成に際しては、有機ＥＬ素子１を効率よく発光させるため、例えば電子注入層としてフッ化リチウムを発光層５側に形成してもよい。また、この陰極６の形成では、前記正孔注入層４や発光層５の形成とは異なり、蒸着法やスパッタ法等で行うことにより、基板２のほぼ全面に陰極６を形成する。
その後、前記陰極６上に接着層（図示せず）を形成し、さらにこの接着層によって封止基板（図示せず）を接着し、封止を行う。これにより、本実施形態の有機ＥＬ素子１を得る。
【００３２】
このような有機ＥＬ素子１の製造方法にあっては、発光層５を形成するに際して、正孔注入層４上に第１機能性薄膜５ａを形成した後、該第１機能性薄膜５ａ上に第２機能性溶液を配して該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜５ａとからなる第２機能性薄膜５ｂを形成し、さらに、該第２機能性薄膜５ｂ上に第３機能性溶液を配して該第３機能性溶液と前記第２機能性薄膜５ｂとからなる第３機能性薄膜を形成し、これを発光層５としているので、得られた第３機能性薄膜からなる発光層５が十分な緻密性を有するものとなる。
【００３３】
すなわち、第２機能性溶液の濃度を第１機能性溶液より低い濃度にし、また第３機能性溶液の濃度を第２機能性溶液より低い濃度にしているので、後から塗布した機能性溶液中の溶質である機能性樹脂の濃度が低くなり、したがってこの機能性樹脂が機能性薄膜５ａ（５ｂ）中に残っている気孔内に容易に入り込むようになる。よって、機能性薄膜５ａ（５ｂ）中の気孔に機能性樹脂が充填され、その状態で発光層５（第３機能性薄膜）が形成されるので、得られた発光層５は前記したように十分な緻密性を有するものとなるのである。
【００３４】
そして、このように十分な緻密性を有する発光層５を形成することができるので、この発光層５について安定した導電性を確保することができ、したがって得られる有機素子１は良好でかつ均一な発光特性を有するものとなる。また、発光層５を挟持する電極３、６間でのショートも確実に防止することができる。さらに、発光層５の緻密性を高めることでその導電性を高めることができるので、本実施形態の有機ＥＬ素子１への印加電圧を低くすることもできる。
【００３５】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更することができる。例えば、前記実施形態では機能性溶液の塗布を３回行い、得られる発光層５の緻密性を高めたが、本発明はこれに限定されることなく、機能性溶液の塗布を２回行うだけでも十分に緻密性を高めることができる。また、必要に応じて４回以上行うことで、さらに緻密性を高めることもできる。
【００３６】
また、前記実施形態では本発明の薄膜形成方法を、有機ＥＬ素子における発光層５の形成に適用したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば絶縁膜となる薄膜など各種の機能性薄膜を有機材料で形成する場合に、その緻密性を高める目的で適用することができる。
また、機能性溶液を配する方法についても、スピンコート法に限らず、他に例えばインクジェット法を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ素子の概略構成を示す側断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は図１に示した有機ＥＬ素子の製造方法説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は発光層の形成方法を模式化して説明する工程図である。
【符号の説明】
【００３８】
１…有機ＥＬ素子、２…基板、３…陽極、４…正孔注入層、５…発光層、５ａ…第１機能性薄膜、５ｂ…第２機能性薄膜、６…陰極
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子の製造などに好適な薄膜形成方法と、この薄膜形成方法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイなどの表示装置に用いられている有機エレクトロルミネセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という。）は、一般に、発光性を有する発光層と正孔注入輸送性を有する正孔注入層とを含んだ有機層と、この有機層を挟持する陰極及び陽極とが基板上に設けられた構成になっている。このような有機ＥＬ素子において、有機層である発光層と正孔注入層とは積層された構造となっている。
【０００３】
ところで、有機ＥＬ素子を製造する際の薄膜形成方法としては、大きく分けてウエットプロセスとドライプロセスとがある。特に、有機層である前記の発光層や正孔注入層を形成する手法としては、発光層や正孔注入層を構成する材料を溶媒に溶解（又は分散）して液状組成物を作製し、この液状組成物を基板上に塗布し、その後、熱処理によって溶媒を蒸発させるウエットプロセスがよく知られている。このようなウエットプロセスとして代表的なものは、スピンコート法やインクジェット法が挙げられる。このようなウエットプロセスによる薄膜形成法によれば、大面積の基板上にも容易に有機層を形成することが可能であるため、近年大型化しているディスプレイ用の有機ＥＬ装置などの製造において、特に期待されている。
【０００４】
ところが、ウエットプロセスでは、蒸着法等のドライプロセスに比べ、溶媒を使用することから十分な緻密性を有する薄膜が得られないといった課題がある。すなわち、前記したように液状組成物を塗布した後、溶媒を蒸発させると、この溶媒が膜中から抜けた経路等が、樹脂分子間の隙間などに僅かながら気孔となって残ってしまうことなどにより、得られる膜に十分な緻密性が得られなくなってしまうのである。また、例えば形成した薄膜上に別の薄膜を形成した際、別の薄膜形成に用いた溶媒によって下地の薄膜が再溶解を起こし、これによって緻密性がさらに低下してしまうといったおそれもある。
【０００５】
このような背景のもとに従来では、膜の緻密性を改善させる目的で、有機化合物と無機化合物とを同時に基板上へ蒸着させる方法が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−１０２３６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記の蒸着による方法はドライプロセスであって、溶媒を用いるウエットプロセスにそのまま適用することはできない。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、溶媒を用いるウエットプロセスにおいて、十分な緻密性を有する樹脂製の薄膜の形成方法と、この薄膜形成方法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため本発明の薄膜形成方法は、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、該第１機能性溶液を基体上に配する工程と、
前記第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて前記機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成する工程と、
前記機能性樹脂を溶媒に溶解して前記第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、該第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する工程と、
前記第２機能性溶液を熱処理して該第２機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて該第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴としている。
【０００８】
この薄膜形成方法によれば、架橋ユニットを架橋させて機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成するので、この第１機能性薄膜上に第２機能性溶液を配しても、第１機能性薄膜を再溶解させることはない。また、この第１機能性薄膜には、第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去したことにより、この溶媒が膜中から抜けた際の経路等による気孔が残っている。しかし、この第１機能性薄膜上に第２機能性溶液を配し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成するので、得られる第２機能性薄膜は十分な緻密性を有するものとなる。
すなわち、第２機能性溶液の濃度を第１機能性溶液より低い濃度にしているので、第２機能性溶液中の溶質である機能性樹脂の濃度が低く、したがってこの機能性樹脂が第１機能性薄膜中に残っている気孔内に容易に入り込むようになる。よって、第１機能性薄膜中の気孔に機能性樹脂が充填され、その状態で第２機能性薄膜が形成されるので、得られた第２機能性薄膜は前記したように十分な緻密性を有するものとなるのである。
また、第２機能性溶液中の機能性樹脂も、架橋ユニットが架橋されて不溶化されるので、得られた第２機能性薄膜は、その上に別の薄膜が形成されても、その際に用いられる溶媒によって再溶解を起こすことがない。
なお、このように第２機能性薄膜を形成した後、同様の工程を繰り返して第３機能性薄膜、さらに第４機能性薄膜と順次形成していくことにより、得られる薄膜の緻密性をさらに高めることができる。
【０００９】
また、前記薄膜形成方法においては、前記第１機能性溶液を基体上に配する第１の塗布処理をスピンコート法で行うとともに、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する第２の塗布処理をスピンコート法で行うのが好ましい。
このようにすれば、第１機能性薄膜を比較的均一な厚さで十分に薄く形成することができ、さらにその上に第２機能性溶液を十分に薄くしかも均一に塗布することができるので、前記したように第１機能性薄膜中に残っている気孔内に第２機能性溶液の機能性樹脂がより入り込み易くなり、したがって第２機能性薄膜がより高い緻密性を有するようになる。
【００１０】
なお、この薄膜形成方法においては、スピンコート法による前記第２の塗布処理でのスピンコータの回転数を、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高くするのが好ましい。
このようにすれば、第１機能性溶液を塗布した際の熱処理前の膜の厚さより、第２機能性溶液を塗布した際の熱処理前の膜の厚さを薄く形成することができ、したがって、該第１機能性薄膜の表面上に形成される第２機能性溶液からなる膜分を、十分に少なくすることができる。よって、第１機能性薄膜の表面上に形成されてしまう、第２機能性溶液のみからなる該第２機能性薄膜の緻密性が不十分な膜の厚さを、十分に薄くすることができる。
【００１１】
また、前記薄膜形成方法において、前記第２の塗布処理では、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持し、その後、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高い回転数でスピンコータを回転させるのが好ましい。
このようにすれば、第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持することにより、第１機能性薄膜中への第２機能性溶液の浸透を促すことができ、したがって得られる薄膜の緻密性を十分に高めることができる。
【００１２】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、一対の電極間に少なくとも発光層を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法において、前記発光層の形成を、前記の薄膜形成方法を用いて行うことを特徴としている。
この有機ＥＬ素子の製造方法によれば、十分な緻密性を有する発光層を形成することができる。したがって、安定した導電性が確保されることにより、良好でかつ均一な発光特性を得ることができる。また、発光層を挟持する電極間でのショートも確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の方法を用いて得られた有機ＥＬ素子の一例を示す図であり、図１中符号１は有機ＥＬ素子である。この有機ＥＬ素子１は、基板２上に陽極３を形成し、この陽極３上に正孔注入層４、発光層５をこの順に積層し、さらに発光層５上に陰極６を形成してなるものである。
【００１４】
このような構成の有機ＥＬ素子１を製造するには、まず基板２を用意する。基板２としては、発光層５で発光した光を該基板２の外側（観測者側）に出射するボトムエミッション型の場合には、透光性のガラス板等が用いられる。逆に、陰極６側から光を出射するトップエミッション型の場合には、透光性を有する必要はなく、樹脂やシリコン、金属など各種のものが使用可能となる。なお、本実施形態では有機ＥＬ素子１はボトムエミッション型のものとし、したがって基板２としては透光性のガラス板を用い、その上に駆動回路部（図示せず）を形成したものとする。
【００１５】
次に、図２（ａ）に示すように前記基板２上に蒸着法等によってＩＴＯを成膜し、さらに所定形状にパターニングすることにより、陽極３を形成する。このようにしてパターニングされた陽極３は、有機ＥＬ素子１が多数形成されてなる有機ＥＬ装置（図示せず）において、画素電極として機能するようになる。
【００１６】
次いで、この陽極３を形成した基板２を洗浄し、さらに、酸素プラズマ処理を行い、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させ、基板２の表面を親液性に改質する。具体的には、基板２を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ２プラズマ処理）を行う。これにより、陽極３の仕事関数を上げることができる。
【００１７】
次いで、基板２の陽極３を形成した側の全面に、図２（ｂ）に示すように正孔注入層４を形成する。具体的には、正孔注入層４の形成材料として、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液を用い、これをスピンコート法によって所定の膜厚、例えば３０ｎｍ〜７０ｎｍに成膜する。その後、溶媒を除去する目的で、大気中にて２００℃で１０分間加熱処理し、乾燥することにより、正孔注入層４を形成する。なお、この正孔注入層４までを形成した基板２が、本発明における基体となる。
【００１８】
次いで、前記基体上、すなわち前記正孔注入層４上に、図２（ｃ）に示すように発光層５を形成する。この発光層５の形成に際しては、特に本発明の薄膜形成方法を用いて行う。
具体的には、まず、発光層５の形成材料として、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を用意する。例えば、本実施形態では、下記のポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体が用いられる。
【化１】
【００１９】
この機能性樹脂は、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）の末端基をフェニルエポキシドで末端処理したものであり、このエポキシ基が架橋性を有する架橋ユニットとなる。なお、架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂としては、前記のポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体以外にも種々のものが使用可能であり、また、架橋ユニットについても、フェニルエポキシド以外のエポキシ基、二重結合基、環状エーテル基等を用いることができる。さらに、架橋ユニットの導入位置についても、前記したポリマーの末端以外に、ポリマーの主鎖や側鎖などポリマーの骨格内に導入してもよい。
【００２０】
次に、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）をトルエンに溶解し、第１の濃度、ここでは１．５重量％の濃度の第１機能性溶液を形成する。そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、適宜な回転数（例えば２０００ｒｐｍ）で基板２を回転させつつ、前記の第１機能性溶液を基板２上の正孔注入層４の上にスピンコート法で第１の塗布処理を行うことにより、所定の膜厚、例えば７０〜１５０ｎｍに成膜する。
【００２１】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記架橋ユニットを架橋させることで前記機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）をさらに高分子化して不溶化する。これにより、模式化した図３（ａ）に示すように、第１機能性薄膜５ａを形成する。このようにして乾燥を行うと、前述したように溶媒が膜中から抜けた経路等が、樹脂分子間の隙間などに僅かながら気孔となって残ってしまい、得られた第１機能性薄膜５ａはその緻密性が不十分になってしまう。
【００２２】
そこで、このようにして第１機能性薄膜５ａを形成した後、この第１機能性薄膜５ａ上にさらに前記機能性樹脂を含有する機能性溶液を塗布する。ただし、この機能性溶液としては、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の濃度が前記第１機能性溶液より低い濃度（第２の濃度）のものを用いる。ここでは、第２の濃度として、０．３重量％となるように前記機能性樹脂を溶媒（トルエン）で溶解し、第２機能性溶液を作製する。
【００２３】
そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、その状態（スピンコータを回転させない状態）で前記の第２機能性溶液をこの基板２の前記第１機能性薄膜５ａ上に配し、前記第１機能性薄膜５ａ上に前記の第２機能性溶液を塗布し、スピンコータを所定時間（例えば５秒間）無回転に保持した後、スピンコータを回転させることにより、第２の塗布処理を行うことで所定の膜厚に成膜する。
【００２４】
ここで、第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜５ａ上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持することにより、第１機能性薄膜５ａ中への第２機能性溶液の浸透を促すことができる。つまり、前記したように第１機能性薄膜５ａに形成された気孔内に、第２機能性溶液を浸透させることができる。なお、第１機能性薄膜５ａは、前記したように不溶化されているので、この第１機能性薄膜５ａ上に第２機能性溶液を塗布しても、この溶液中の溶媒によって再溶解させられることはない。
【００２５】
また、この第２機能性溶液をスピンコートする際には、そのスピンコータの回転数を、前記第１機能性溶液のスピンコート時よりも高い回転数（例えば５０００ｒｐｍ）で行う。このようにすれば、この第２機能性溶液を塗布して得られた熱処理前の膜の厚さが、前記第１機能性溶液を塗布して得られた熱処理前の膜の厚さより薄くなる。したがって、該第１機能性薄膜５ａの表面上に載って形成されてしまう第２機能性溶液からなる膜分を、例えば１０ｎｍ以下と十分に少なく（薄く）することができる。
【００２６】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記第２機能性溶液中の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の架橋ユニットを架橋させることにより、該機能性樹脂をさらに高分子化して不溶化する。これにより、模式化した図３（ｂ）に示すように、第１機能性薄膜５ａと第２機能性溶液とからなる第２機能性薄膜５ｂを形成する。このようにして得られた第２機能性薄膜５ｂは、前記したように第１機能性薄膜５ａ中の気孔内に第２機能性溶液が浸透し、その状態で加熱処理されて乾燥されかつ不溶化されたことにより、前記第１機能性薄膜５ａに比べてその緻密性が格段に高まったものとなる。
【００２７】
ただし、第２機能性溶液のみからなる膜が前記第１機能性薄膜５ａ上にわずかながら形成されてしまうことなどにより、第２機能性薄膜５ｂの緻密性が未だ十分とはならないおそれがある。そこで、本実施形態では、さらに前記の工程を繰り返し、得られる機能性薄膜からなる発光層５の十分な緻密性を確保するようにしている。
【００２８】
すなわち、前記の機能性樹脂（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）誘導体）の濃度が前記第２機能性溶液より低い濃度（第３の濃度）、ここでは０．１重量％の第３機能性溶液を作製する。そして、前記基板２をスピンコータ（図示せず）に載せ、その状態（スピンコータを回転させない状態）で前記の第３機能性溶液をこの基板２の前記第２機能性薄膜５ｂ上に配し、前記第２機能性薄膜５ｂ上に前記の第３機能性溶液を塗布し、スピンコータを所定時間（例えば５秒間）無回転に保持した後、スピンコータを回転させることにより、第３の塗布処理を行うことで所定の膜厚に成膜する。
【００２９】
なお、この第３機能性溶液をスピンコートする際にも、そのスピンコータの回転数を、前記第２機能性溶液のスピンコート時よりも高い回転数（例えば７０００ｒｐｍ）で行う。このようにすれば、この第３機能性溶液を塗布して形成される、該第３機能性溶液のみからなる膜の厚さが、前記の第２機能性溶液を塗布した際に形成された、該第２機能性溶液のみからなる膜の厚さより薄くなる。すなわち、前記第２機能性薄膜５ｂの表面上に載って形成されてしまう第３機能性溶液からなる膜分を、１０ｎｍ以下と十分に少なく（薄く）することができる。
【００３０】
その後、窒素雰囲気下にて１５０℃で１５分加熱処理し、溶媒（トルエン）を除去して乾燥するとともに、前記第３機能性溶液中の機能性樹脂の架橋ユニットを架橋させることにより、該機能性樹脂をさらに高分子化して不溶化する。これにより、第２機能性薄膜５ｂと第３機能性溶液とからなる第３機能性薄膜、すなわち本発明の発光層５を形成する。このようにして得られた発光層５（第３機能性薄膜）は、第２機能性薄膜５ｂ中の気孔内に第３機能性溶液が浸透し、その状態で加熱処理されて乾燥されかつ不溶化されたことにより、前記第２機能性薄膜５ｂに比べてさらにその緻密性が高まったものとなる。
【００３１】
次いで、前記発光層５上に真空蒸着法によって例えばカルシウムを厚さ５ｎｍ程度、アルミニウムを厚さ３００ｎｍ程度に積層し、図２（ｄ）に示すように陰極６を形成する。なお、この陰極６の形成に際しては、有機ＥＬ素子１を効率よく発光させるため、例えば電子注入層としてフッ化リチウムを発光層５側に形成してもよい。また、この陰極６の形成では、前記正孔注入層４や発光層５の形成とは異なり、蒸着法やスパッタ法等で行うことにより、基板２のほぼ全面に陰極６を形成する。
その後、前記陰極６上に接着層（図示せず）を形成し、さらにこの接着層によって封止基板（図示せず）を接着し、封止を行う。これにより、本実施形態の有機ＥＬ素子１を得る。
【００３２】
このような有機ＥＬ素子１の製造方法にあっては、発光層５を形成するに際して、正孔注入層４上に第１機能性薄膜５ａを形成した後、該第１機能性薄膜５ａ上に第２機能性溶液を配して該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜５ａとからなる第２機能性薄膜５ｂを形成し、さらに、該第２機能性薄膜５ｂ上に第３機能性溶液を配して該第３機能性溶液と前記第２機能性薄膜５ｂとからなる第３機能性薄膜を形成し、これを発光層５としているので、得られた第３機能性薄膜からなる発光層５が十分な緻密性を有するものとなる。
【００３３】
すなわち、第２機能性溶液の濃度を第１機能性溶液より低い濃度にし、また第３機能性溶液の濃度を第２機能性溶液より低い濃度にしているので、後から塗布した機能性溶液中の溶質である機能性樹脂の濃度が低くなり、したがってこの機能性樹脂が機能性薄膜５ａ（５ｂ）中に残っている気孔内に容易に入り込むようになる。よって、機能性薄膜５ａ（５ｂ）中の気孔に機能性樹脂が充填され、その状態で発光層５（第３機能性薄膜）が形成されるので、得られた発光層５は前記したように十分な緻密性を有するものとなるのである。
【００３４】
そして、このように十分な緻密性を有する発光層５を形成することができるので、この発光層５について安定した導電性を確保することができ、したがって得られる有機素子１は良好でかつ均一な発光特性を有するものとなる。また、発光層５を挟持する電極３、６間でのショートも確実に防止することができる。さらに、発光層５の緻密性を高めることでその導電性を高めることができるので、本実施形態の有機ＥＬ素子１への印加電圧を低くすることもできる。
【００３５】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更することができる。例えば、前記実施形態では機能性溶液の塗布を３回行い、得られる発光層５の緻密性を高めたが、本発明はこれに限定されることなく、機能性溶液の塗布を２回行うだけでも十分に緻密性を高めることができる。また、必要に応じて４回以上行うことで、さらに緻密性を高めることもできる。
【００３６】
また、前記実施形態では本発明の薄膜形成方法を、有機ＥＬ素子における発光層５の形成に適用したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば絶縁膜となる薄膜など各種の機能性薄膜を有機材料で形成する場合に、その緻密性を高める目的で適用することができる。
また、機能性溶液を配する方法についても、スピンコート法に限らず、他に例えばインクジェット法を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ素子の概略構成を示す側断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は図１に示した有機ＥＬ素子の製造方法説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は発光層の形成方法を模式化して説明する工程図である。
【符号の説明】
【００３８】
１…有機ＥＬ素子、２…基板、３…陽極、４…正孔注入層、５…発光層、５ａ…第１機能性薄膜、５ｂ…第２機能性薄膜、６…陰極
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、該第１機能性溶液を基体上に配する工程と、
前記第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて前記機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成する工程と、
前記機能性樹脂を溶媒に溶解して前記第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、該第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する工程と、
前記第２機能性溶液を熱処理して該第２機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて該第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項２】
前記第１機能性溶液を基体上に配する第１の塗布処理をスピンコート法で行うとともに、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する第２の塗布処理をスピンコート法で行うことを特徴とする請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項３】
スピンコート法による前記第２の塗布処理でのスピンコータの回転数を、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高くすることを特徴とする請求項２記載の薄膜形成方法。
【請求項４】
前記第２の塗布処理では、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持し、その後、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高い回転数でスピンコータを回転させることを特徴とする請求項２記載の薄膜形成方法。
【請求項５】
一対の電極間に少なくとも発光層を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記発光層の形成を、請求項１〜４のいずれか一項に記載の薄膜形成方法を用いて行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１】
架橋ユニットを含有してなる機能性樹脂を溶媒に溶解して第１の濃度の第１機能性溶液を形成し、該第１機能性溶液を基体上に配する工程と、
前記第１機能性溶液を熱処理して該第１機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて前記機能性樹脂を不溶化し、第１機能性薄膜を形成する工程と、
前記機能性樹脂を溶媒に溶解して前記第１の濃度より低い第２の濃度の第２機能性溶液を形成し、該第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する工程と、
前記第２機能性溶液を熱処理して該第２機能性溶液中の溶媒を除去するとともに、前記架橋ユニットを架橋させて該第２機能性溶液中の機能性樹脂を不溶化し、該第２機能性溶液と前記第１機能性薄膜とからなる第２機能性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする薄膜形成方法。
【請求項２】
前記第１機能性溶液を基体上に配する第１の塗布処理をスピンコート法で行うとともに、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配する第２の塗布処理をスピンコート法で行うことを特徴とする請求項１記載の薄膜形成方法。
【請求項３】
スピンコート法による前記第２の塗布処理でのスピンコータの回転数を、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高くすることを特徴とする請求項２記載の薄膜形成方法。
【請求項４】
前記第２の塗布処理では、前記第２機能性溶液を前記第１機能性薄膜上に配した後、スピンコータを所定時間無回転に保持し、その後、前記第１の塗布処理でのスピンコータの回転数より高い回転数でスピンコータを回転させることを特徴とする請求項２記載の薄膜形成方法。
【請求項５】
一対の電極間に少なくとも発光層を有する機能層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記発光層の形成を、請求項１〜４のいずれか一項に記載の薄膜形成方法を用いて行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００８−９１０６６（Ｐ２００８−９１０６６Ａ）
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２６７８０８（Ｐ２００６−２６７８０８）
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１７日（２００８．４．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]