説明

配線回路基板およびその製造方法ならびに燃料電池

【課題】導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減された配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池を提供する。
【解決手段】集電部3cは、主面E1,E2および側面E3を有する。集電部3cは、主面E2がベース絶縁層2に接触するようにベース絶縁層2上に形成される。集電部3cの主面E1および側面E3が粗化処理される。これにより、集電部3cの主面E1および側面E3に微小な凹凸が形成される。微小な凹凸を有する集電部3cの主面E1および側面E3に被覆層6cが形成される。集電部3cの主面E1および側面E3の表面粗度Raは、300nm以上800nm以下である。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池に関する。
【背景技術】
【0002】
携帯電話等のモバイル機器には、小型でかつ高容量の電池が求められる。そこで、リチウム二次電池等の従来の電池に比べて、高エネルギー密度を得ることが可能な燃料電池の開発が進められている。燃料電池としては、例えば直接メタノール型燃料電池(Direct Methanol Fuel Cells)がある。
【0003】
直接メタノール型燃料電池では、メタノールが触媒によって分解され、水素イオンが生成される。その水素イオンと空気中の酸素とを反応させることにより電力を発生させる。この場合、化学エネルギーを極めて効率よく電気エネルギーに変換することができ、非常に高いエネルギー密度を得ることができる。
【0004】
特許文献1には、アノード、カソードおよび電解質膜からなる電極膜接合体が絶縁フィルム上のアノード集電体およびカソード集電体間に配置された燃料電池が記載されている。アノードとアノード集電体とは電気的に接触し、カソードとカソード集電体とは電気的に接触している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2009−123441号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
特許文献1に記載されている燃料電池においては、アノード集電体に形成された孔を通って燃料がアノードに供給される。しかしながら、アノード集電体およびカソード集電体に長時間燃料が接触すると、アノード集電体およびカソード集電体が腐食する。そのため、アノード集電体およびカソード集電体の抵抗が増加する。その結果、アノード集電体およびカソード集電体の集電効率が低下する。
【0007】
本発明の目的は、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減された配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
(1)第1の発明に係る配線回路基板は、絶縁層と、所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層と、導体層の第1の主面および側面に形成される導電性の被覆層とを備え、導体層は、第2の主面が絶縁層に接触するように絶縁層上に形成され、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下であるものである。
【0009】
この配線回路基板においては、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、配線回路基板の導体層および被覆層を燃料電池の電極として用いる場合でも、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。
【0010】
これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。
【0011】
(2)被覆層は、導電材料および樹脂組成物を含んでもよい。この場合、被覆層は、導電性を保持しつつフレキシブル性を有する。これにより、配線回路基板を屈曲させて使用する場合でも、被覆層が破損することが十分に防止される。
【0012】
(3)絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含んでもよい。この場合、絶縁層が通気性を有する。それにより、配線回路基板を燃料電池の電極として用いることが可能となる。
【0013】
(4)第2の発明に係る燃料電池は、電池要素と、電池要素の電極として配置される第1の発明に係る配線回路基板と、電池要素および配線回路基板を収容する筺体とを備えるものである。
【0014】
この燃料電池においては、電池要素および上記の配線回路基板が筺体内に収容される。電池要素の電力は、配線回路基板を通して筺体の外部に供給される。
【0015】
上記の配線回路基板においては、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。
【0016】
これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。したがって、電池要素の電力を効率的に外部に供給することができる。
【0017】
(5)第3の発明に係る配線回路基板の製造方法は、所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層を、第2の主面が絶縁層に接触するように絶縁層上に形成する工程と、導体層の第1の主面および側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように処理する工程と、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層を形成する工程とを含むものである。
【0018】
この配線回路基板の製造方法によれば、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、配線回路基板の導体層および被覆層を燃料電池の電極として用いる場合でも、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。
【0019】
これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。
【0020】
(6)処理する工程は、導体層の第1の主面および側面をエッチングにより処理する工程を含んでもよい。この場合、導体層の第1の主面および側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように容易に処理することができる。
【発明の効果】
【0021】
本発明によれば、配線回路基板の導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】本発明の一実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板の平面図および断面図である。
【図2】図1(b)のA部の拡大断面図である。
【図3】FPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図4】FPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図5】FPC基板を用いた燃料電池の外観斜視図である。
【図6】燃料電池内における作用を説明するための図である。
【図7】実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図8】実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の接触抵抗の測定方法を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
以下、図面を参照しながら本発明の一実施の形態に係る配線回路基板について説明する。なお、本実施の形態では、配線回路基板の例として、屈曲性を有するフレキシブル配線回路基板について説明する。
【0024】
(1)フレキシブル配線回路基板の構成
図1(a)は本発明の一実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板の平面図であり、図1(b)は図1(a)のフレキシブル配線回路基板のA−A線断面図である。以下の説明においては、フレキシブル配線回路をFPC基板と略記する。
【0025】
図1(a)および図1(b)に示すように、FPC基板1は、例えばポリイミドからなるベース絶縁層2を備える。ベース絶縁層2は第1絶縁部2a、第2絶縁部2b、第3絶縁部2cおよび第4絶縁部2dからなる。第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bは、それぞれ矩形形状を有し、互いに隣接するように一体的に形成される。以下、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線に平行な辺を側辺と称し、第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bの側辺に垂直な一対の辺を端辺と称する。
【0026】
第3絶縁部2cは、第1絶縁部2aの1つの角部における側辺の一部から延出する。第4絶縁部2dは、第1絶縁部2aの上記角部の対角に位置する第2絶縁部2bの角部における側辺の一部から延出する。
【0027】
第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線上にベース絶縁層2をほぼ二等分するように折曲部B1が設けられる。後述のように、ベース絶縁層2は、折曲部B1に沿って折曲可能である。折曲部B1は、例えば線状の浅い溝であってもよく、または、線状の印等でもよい。あるいは、折曲部B1でベース絶縁層2を折曲可能であれば、折曲部B1に特に何もなくてもよい。ベース絶縁層2を折曲部B1に沿って折曲する場合、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとが対向する。この場合、第3絶縁部2cと第4絶縁部2dとは対向しない。
【0028】
第1絶縁部2aには、複数(本例では端辺方向に沿って4個かつ側辺方向に沿って5個の合計20個)の開口H1が形成される。また、第2絶縁部2bには、複数(本例では端辺方向に沿って4個かつ側辺方向に沿って5個の合計20個)の開口H2が形成される。
【0029】
ベース絶縁層2の一面には、矩形の集電部3a,3b,3c,3d,3e,3f,3g,3h,3i,3j、接続導体部3k,3l,3m,3nおよび引き出し導体部3o,3pが形成される。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは例えば銅からなる。
【0030】
集電部3a〜3jの各々は長方形状を有する。集電部3a〜3eは、第1絶縁部2aの端辺に沿って平行に延びかつ第1絶縁部2aの側辺方向に沿って設けられる。ここで、集電部3a〜3eの各々は、第1絶縁部2aの端辺に平行に並ぶ4個の開口H1を含む第1絶縁部2aの領域に形成される。
【0031】
同様に、集電部3f〜3jは、第2絶縁部2bの端辺に沿って平行に延びかつ第2絶縁部2bの側辺方向に沿って設けられる。ここで、集電部3f〜3jの各々は、第2絶縁部2bの端辺に平行に並ぶ4個の開口H2を含む第2絶縁部2bの領域に形成される。
【0032】
この場合、集電部3a〜3eと集電部3f〜3jとは、折曲部B1を中心として対称な位置に配置される。
【0033】
接続導体部3k〜3nは、折曲部B1をまたぐように第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bにわたって形成される。接続導体部3kは集電部3bと集電部3fとを電気的に接続し、接続導体部3lは集電部3cと集電部3gとを電気的に接続し、接続導体部3mは集電部3dと集電部3hとを電気的に接続し、接続導体部3nは集電部3eと集電部3iとを電気的に接続する。
【0034】
第1絶縁部2aの開口H1上における集電部3a〜3eの部分には、開口H1よりも径大の開口H11が形成される。また、第2絶縁部2bの開口H2上における集電部3f〜3jの部分には、開口H2よりも径大の開口H12が形成される。
【0035】
引き出し導体部3oは、集電部3aの外側の短辺から第3絶縁部2c上に直線状に延びるように形成される。引き出し導体部3pは、集電部3jの外側の短辺から第4絶縁部2d上に直線状に延びるように形成される。
【0036】
集電部3aおよび引き出し導体部3oの一部を覆うように、第1絶縁部2a上に被覆層6aが形成される。これにより、引き出し導体部3oの先端部は被覆層6aに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部3oの部分を、引き出し電極5aと称する。また、集電部3b〜3eをそれぞれ覆うように、第1絶縁部2a上に被覆層6b,6c,6d,6eが形成される。集電部3a〜3eの開口H11内において、被覆層6a〜6eは第1絶縁部2aの上面に接する。
【0037】
集電部3jおよび引き出し導体部3pの一部を覆うように、第2絶縁部2b上に被覆層6jが形成される。これにより、引き出し導体部3pの先端部は被覆層6jに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部3pの部分を、引き出し電極5bと称する。また、集電部3f〜3iをそれぞれ覆うように、第2絶縁部2b上に被覆層6f,6g,6h,6iが形成される。集電部3f〜3jの開口H12内において、被覆層6f〜6jは第2絶縁部2bの上面に接する。
【0038】
接続導体部3k〜3nをそれぞれ覆うように、第1絶縁部2a上および第2絶縁部2b上に被覆層6k,6l,6m,6nが形成される。
【0039】
図2は、図1(b)のA部の拡大断面図である。図2に示すように、集電部3cは、主面E1,E2および側面E3を有する。集電部3cは、主面E2がベース絶縁層2に接触するようにベース絶縁層2上に形成される。集電部3cの主面E1および側面E3が粗化処理される。これにより、集電部3cの主面E1および側面E3に微小な凹凸が形成される。微小な凹凸を有する主面E1および側面E3に被覆層6cが形成される。
【0040】
同様に、図1の集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは、主面E1,E2および側面E3を有する。集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは、主面E2がベース絶縁層2に接触するようにベース絶縁層2上に形成される。集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理される。これにより、集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3に微小な凹凸が形成される。微小な凹凸を有する主面E1および側面E3に被覆層6a,6b,6d〜6nが形成される。
【0041】
ベース絶縁層2と接触する集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E2は粗化処理されていない。そのため、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raは、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E2の表面度粗よりも大きい。
【0042】
被覆層6a〜6nは、導電材料を含有した樹脂組成物からなる。そのため、被覆層6a〜6nは、導電性を保持しつつフレキシブル性を有する。これにより、FPC基板1を屈曲させて使用する場合でも、被覆層6a〜6nが破損することが十分に防止される。
【0043】
樹脂組成物として、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂もしくはポリエステル樹脂、またはこれらの樹脂を2種類以上混合した樹脂を用いることができる。熱硬化性のポリマーを樹脂組成物として用いることが好ましい。フェノール樹脂、エポキシ樹脂またはポリエステル樹脂を樹脂組成物として用いることがより好ましい。
【0044】
一方、導電材料として、例えば金(Au)、銀もしくはナノ銀粒子等の金属材料、カーボンブラック、黒鉛もしくはカーボンナノチューブ等の炭素材料、またはポリチオフェンもしくはポリアニリン等の導電性高分子材料を用いることができ、またはこれらの材料を2種類以上混合した材料を用いることができる。
【0045】
(2)FPC基板の製造方法
次に、図1に示したFPC基板1の製造方法を説明する。図3および図4は、FPC基板1の製造方法を説明するための工程断面図である。なお、図3および図4は、図1のFPC基板1のA−A線から見た工程断面図である。
【0046】
まず、図3(a)に示すように、例えばポリイミドからなる絶縁膜20と例えば銅からなる導体膜30とからなる2層CCL(Copper Clad Laminate:銅張積層板)を用意する。絶縁膜20の厚みは例えば25μmであり、導体膜30の厚みは例えば18μmである。
【0047】
次に、図3(b)に示すように、導体膜30上に所定のパターンを有するエッチングレジスト22が形成される。エッチングレジスト22は、例えば、ドライフィルムレジスト等により導体膜30上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を所定のパターンで露光し、その後、現像することにより形成される。
【0048】
次に、図3(c)に示すように、塩化第二鉄等のエッチング液を用いたエッチングにより、エッチングレジスト22の下の領域を除く導体膜30の領域が除去される。次に、図3(d)に示すように、エッチングレジスト22が剥離液により除去される。これにより、主面E2が絶縁膜20に接触するように絶縁膜20上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p(図1参照)が形成される。なお、図3(d)には、集電部3c,3h、接続導体部3lおよび引き出し導体部3oのみが表されている。
【0049】
スパッタ、蒸着またはめっき等の一般的な方法により絶縁膜20上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pが形成されてもよい。
【0050】
ここで、硫酸−過酸化水素系のエッチング液を用いたエッチングにより、被覆層6a〜6jと接触する集電部3a〜3jおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3ならびに被覆層6k〜6nと接触する接続導体部3k〜3nの主面E1および側面E3が粗化処理される。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raは、300nm以上800nm以下である。
【0051】
続いて、図4(a)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3を覆うように絶縁膜20上に導電材料を含有する樹脂組成物の塗布またはラミネートにより被覆膜60が形成される。被覆膜60の厚みは例えば20μmである。
【0052】
次に、図4(b)に示すように、被覆膜60を所定のパターンで露光し、その後、現像することにより、被覆層6a〜6n(図1(a)参照)が形成される。ここで、引き出し電極5a,5b(図1(a)参照)が被覆層6a,6jから露出する。
【0053】
最後に、図4(c)に示すように、絶縁膜20が所定の形状に切断されることにより、ベース絶縁層2、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pおよび被覆層6a〜6nを備えるFPC基板1が完成する。
【0054】
本実施の形態において、ベース絶縁層2の材料としては、ポリイミドが用いられるが、これに限定されない。ベース絶縁層2の材料としては、ポリイミドに代えて、例えばポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマーまたはポリオレフィン等が用いられてもよい。
【0055】
なお、ベース絶縁層2の厚みは、1μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上50μm以下であることがより好ましく、5μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。ベース絶縁層2の厚みが1μm以上であると、ベース絶縁層2の取り扱い性が向上する。また、ベース絶縁層2の厚みが100μm以下であると、FPC基板1のフレキシブル性が向上するとともに、FPC基板1の小型化が容易になる。
【0056】
本実施の形態においては、エッチングにより集電部3a〜3j、被覆層6k〜6nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理されたが、これに限定されない。表面粗度Raを制御可能な他の方法により、集電部3a〜3j、被覆層6k〜6nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理されてもよい。
【0057】
図3および図4では、サブトラクティブ法によるFPC基板1の製造方法を示したが、これに限定されず、セミアディティブ法等の他の製造方法を用いてもよい。さらに、図3および図4では、露光法を用いて被覆層6a〜6nを形成する例を示したが、これに限定されず、印刷技術を用いて所定のパターンの被覆膜を形成し、その後、熱硬化処理を行うことに被覆層6a〜6nを形成してもよい。
【0058】
(3)FPC基板を用いた燃料電池
図5は、FPC基板1を用いた燃料電池100の外観斜視図である。図6は、燃料電池100内における作用を説明するための図であり、図5の燃料電池100のB−B線から見た断面図である。
【0059】
図5および図6に示すように、燃料電池100は直方体状のケーシング40を有する。図5では、ケーシング40を破線により示している。ケーシング40は、上面部41、下面部42、一方の側面部43および他方の側面部44を有する。
【0060】
FPC基板1は、被覆層6a〜6nが形成された一面を内側にして図1の折曲部B1に沿って折曲された状態でケーシング40の上面部41および下面部42により狭持される。
【0061】
FPC基板1の引き出し電極5a,5bは、ケーシング40の一方の側面部43から外側に引き出される。引き出し電極5a,5bには、種々の外部回路の端子が電気的に接続される。
【0062】
ケーシング40内において、複数(本実施の形態では5個)の電極膜35が、折曲されたFPC基板1の被覆層6aと被覆層6fとの間、被覆層6bと被覆層6gとの間、被覆層6cと被覆層6hとの間、被覆層6dと被覆層6iとの間、および被覆層6eと被覆層6jとの間にそれぞれ配置される(図1(a)参照)。これにより、複数の電極膜35が直列接続される。
【0063】
各電極膜35は空気極35a、燃料極35bおよび電解質膜35cからなる。空気極35aは電解質膜35cの一面に形成され、燃料極35bは電解質膜35cの他面に形成される。複数の電極膜35の空気極35aはFPC基板1の被覆層6f〜6jにそれぞれ対向し、複数の電極膜35の燃料極35bはFPC基板1の被覆層6a〜6eにそれぞれ対向する。
【0064】
ケーシング40内の上面部41上には、集電部3f〜3jの複数の開口H12およびベース絶縁層2の複数の開口H2に対応するように複数の開口H41が形成される。電極膜35の空気極35aには、ケーシング40の複数の開口H41、ベース絶縁層2の複数の開口H2、および集電部3f〜3jの複数の開口H12を通して空気が供給される。
【0065】
ケーシング40の下面部42には、ベース絶縁層2の第1絶縁部2a(図1(a)参照)に接するように燃料収容室50が設けられる。燃料収容室50には、燃料供給管51の一端が接続される。燃料供給管51の他端は、ケーシング40の他方の側面部44を通って外部の図示しない燃料供給部に接続される。燃料供給部から燃料供給管51を通して燃料収容室50内に燃料が供給される。各電極膜35の燃料極35bには、ベース絶縁層2の複数の開口H1および集電部3f〜3jの複数の開口H11を通して燃料が供給される。なお、本実施の形態では、燃料としてメタノールを用いる。
【0066】
上記の構成においては、複数の燃料極35bにおいて、メタノールが水素イオンと二酸化炭素とに分解され、電子が生成される。生成された電子は、FPC基板1の集電部3a(図1参照)から引き出し電極5aに導かれる。メタノールから分解された水素イオンは、電解質膜35cを透過して空気極35aに達する。複数の空気極35aにおいて、引き出し電極5bから集電部3jに導かれた電子を消費しつつ水素イオンと酸素とが反応し、水が生成される。このようにして、引き出し電極5a,5bに接続された外部回路に電力が供給される。
【0067】
(4)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においては、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3に導電性の被覆層6a〜6nが形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。
【0068】
また、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触抵抗を低減することができる。
【0069】
さらに、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3から被覆層6a〜6nが浮き上がることが防止される。そのため、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの界面に蟻酸等の燃料電池100の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触抵抗の増加を低減することができる。
【0070】
これらの結果、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの腐食が防止されるとともに集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの抵抗が低減される。したがって、燃料電池100の電極膜35の電力を効率的に外部に供給することができる。
【0071】
(5)他の実施の形態
(5−1)上記実施の形態において、FPC基板1のベース絶縁層2の材料としてポリイミドが用いられたが、これに限定されない。例えば、ポリイミドに代えて、ポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリオレフィン、エポキシまたはポリテトラフルオロエチレン等の他の絶縁材料が用いられてもよい。
【0072】
(5−2)上記実施の形態において、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの材料として銅が用いられたが、これに限定されない。例えば、銅に代えて、金(Au)、銀、もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。
【0073】
(5−3)上記実施の形態において、FPC基板1は5対の集電部(集電部3a,3f、集電部3b,3g、集電部3c,3h、集電部3d,3iおよび集電部3e,3j)を有するが、これに限定されない。FPC基板1の集電部の数は2対以上であれば、4対以下であってもよいし、6対以上であってもよい。これにより、任意の数の電極膜35を直列接続することができる。
【0074】
また、FPC基板1が1対の集電部を有してもよい。この場合、接続導体部3k〜3nは設けられない。
【0075】
(5−4)上記実施の形態において、配線回路基板は屈曲性を有するFPC基板であるが、これに限定されない。例えば、配線回路基板に屈曲性を要しない場合、配線回路基板はリジッド配線回路基板であってもよい。
【0076】
(5−5)上記実施の形態において、ベース絶縁層2は連続孔を有さないが、これに限定されない。例えば、ベース絶縁層2は多孔質性の連続孔を有してもよい。この場合、ベース絶縁層2は通気性を有する。そのため、ベース絶縁層2に開口H1,H2を形成しなくても、FPC基板1を燃料電池100の電極として用いることが可能となる。
【0077】
(5−6)上記実施の形態において、所定のパターンを有する導体膜30の全体の主面E1および側面E3に被覆膜60が形成されるが、これに限定されない。例えば、集電部3a〜3nおよび接続導体部3k〜3nを含む導体膜30の主面E1および側面E3にのみ被覆膜60が形成されてもよい。この場合、集電部3a〜3nおよび接続導体部3k〜3nを含む導体膜30の部分に蟻酸等の燃料電池100の副生成物が付着しても、導体膜30に腐食が発生することが防止される。
【0078】
(6)請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【0079】
上記実施の形態においては、ベース絶縁層2または絶縁膜20が絶縁層の例であり、主面E1が第1の主面の例であり、主面E2が第2の主面の例であり、側面E3が側面の例である。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p、または導体膜30が導体層の例であり、被覆層6a〜6nまたは被覆膜60が被覆層の例である。FPC基板1が配線回路基板の例であり、電極膜35が電池要素の例であり、ケーシング40が筺体の例である。
【0080】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【0081】
(7)実施例
(7−1)実施例および比較例
実施例1〜5および比較例1,2では、以下の方法でFPC基板を製造した。図7は、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【0082】
まず、図7(a)に示すように、ポリイミドからなる絶縁膜20と銅からなる導体膜30とからなる2層CCLを用意する。2層CCLは4cm×8cmの矩形状を有する。絶縁膜20の厚みは25μmであり、導体膜30の厚みは18μmである。次に、図7(b)に示すように、塩化第二鉄のエッチング液を用いたエッチングにより、導体膜30を所定のパターンに形成する。この場合、導体膜30は、主面E2が絶縁膜20に接触するように絶縁膜20上に設けられる。
【0083】
続いて、図7(c)に示すように、硫酸−過酸化水素系のエッチング液を用いたエッチングにより、絶縁膜20と接触していない導体膜30の主面E1および側面E3を粗化処理する。最後に、図7(d)に示すように、導体膜30の主面E1および側面E3を覆うように絶縁膜20上にカーボンインクからなる被覆膜60を塗布した後、温度180℃で30分間乾燥および硬化させる。被覆膜60の厚みは20μmである。このようにして、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板1sが完成する。
【0084】
実施例1〜5のFPC基板1sにおいては、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raを、それぞれ310nm、440nm、520nm、620nmおよび780nmに調整した。比較例1,2のFPC基板1sにおいては、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raを、それぞれ210nmおよび850nmに調整した。
【0085】
(7−2)耐薬品性試験および接触抵抗
実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sを濃度1000ppm、温度50℃の蟻酸水溶液に7日間浸漬させた。その後、FPC基板1sの導体膜30と被覆膜60との接触面(主面E1および側面E3)の状態を断面走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。導体膜30と被覆膜60との接触面の状態として、被覆膜60の追従性および浮きを評価した。
【0086】
被覆膜60の追従性が良好な状態とは、被覆膜60と導体膜30の凹凸の上面、側面および底面との間に隙間が生じることなく被覆膜60が凹凸形状に沿って導体膜30に形成されている状態をいう。被覆膜60の追従性が悪い状態とは、被覆膜60と導体膜30の凹凸の上面、側面または底面との間に隙間が生じている状態をいう。被覆膜60の浮きが生じた状態とは、導体膜30の主面E1および側面E3から被覆膜60が部分的に剥離した状態をいう。
【0087】
また、次のようにして実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sの接触抵抗を測定した。図8は、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板1sの接触抵抗の測定方法を示す模式図である。
【0088】
図8に示すように、実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sをそれぞれ一対ずつ用意した。導体膜30が形成された絶縁膜20の面が互いに向き合うように一対のFPC基板1sを配置するとともに、一対のFPC基板1sの被覆膜60間にカーボンペーパーCPを配置した。各FPC基板1sの被覆膜60には、接続端子Cおよび接続線Lを介して図示しない抵抗測定装置を接続した。一対のFPC基板1sをカーボンペーパーCPの一面および他面に3MPaの圧力で押し当てた。その状態で、一対のFPC基板1sの接続端子C間の抵抗値を接触抵抗として抵抗測定装置により測定した。FPC基板1sの耐薬品性試験および接触抵抗の結果を表1に示す。
【0089】
【表1】

【0090】
表1に示すように、実施例1のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ17mΩおよび21mΩであった。
【0091】
実施例2のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ16mΩおよび22mΩであった。
【0092】
実施例3のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ17mΩおよび21mΩであった。
【0093】
実施例4のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ15mΩおよび21mΩであった。
【0094】
実施例5のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ15mΩおよび20mΩであった。
【0095】
比較例1のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好ではなかった。また、被覆膜60の浮きが発生した。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ21mΩおよび740mΩであった。
【0096】
比較例2のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好ではなかった。また、被覆膜60の浮きが発生した。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ26mΩおよび98mΩであった。
【0097】
実施例1〜5および比較例1,2の結果から、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である場合、FPC基板1sが蟻酸水溶液に接触しても、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であること、および被覆膜60の浮きが発生しないことが確認された。
【0098】
また、実施例1〜5および比較例1,2の結果から、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である場合、FPC基板1sが蟻酸水溶液に接触しても、接触抵抗がほとんど増加しないことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【0099】
本発明は、種々の配線回路基板およびその製造に有効に利用できる。
【符号の説明】
【0100】
1,1s FPC基板
2 ベース絶縁層
2a 第1絶縁部
2b 第2絶縁部
2c 第3絶縁部
2d 第4絶縁部
3a〜3j 集電部
3k〜3n 接続導体部
3o,3p 引き出し導体部
5a,5b 引き出し電極
6a〜6n 被覆層
20 絶縁膜
22 エッチングレジスト
30 導体膜
35 電極膜
35a 空気極
35b 燃料極
35c 電解質膜
40 ケーシング
41 上面部
42 下面部
43,44 側面部
50 燃料収容室
51 燃料供給管
60 被覆膜
100 燃料電池
B1 折曲部
C 接続端子
CP カーボンペーパー
E1,E2 主面
E3 側面
H1,H2,H11,H12,H41 開口
L 接続線

【特許請求の範囲】
【請求項1】
絶縁層と、
所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面に形成される導電性の被覆層とを備え、
前記導体層は、前記第2の主面が前記絶縁層に接触するように前記絶縁層上に形成され、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面の表面粗度が300nm以上800nm以下であることを特徴とする配線回路基板。
【請求項2】
前記被覆層は、導電材料および樹脂組成物を含むことを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。
【請求項3】
前記絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含むことを特徴とする請求項1または2記載の配線回路基板。
【請求項4】
電池要素と、
前記電池要素の電極として配置される請求項1〜3のいずれかに記載の配線回路基板と、
前記電池要素および前記配線回路基板を収容する筺体とを備えることを特徴とする燃料電池。
【請求項5】
所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層を、前記第2の主面が絶縁層に接触するように前記絶縁層上に形成する工程と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように処理する工程と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面に導電性の被覆層を形成する工程とを含むことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
【請求項6】
前記処理する工程は、前記導体層の前記第1の主面および前記側面をエッチングにより処理する工程を含むことを特徴とする請求項5記載の配線回路基板の製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【公開番号】特開2012−109476(P2012−109476A)
【公開日】平成24年6月7日(2012.6.7)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−258538(P2010−258538)
【出願日】平成22年11月19日(2010.11.19)
【出願人】(000003964)日東電工株式会社 (5,557)
【Fターム(参考)】