配線回路基板の製造方法
【課題】ベース絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない配線回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材の導体層３０上にレジスト膜２２を形成する。次に、レジスト膜２２を露光および現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。エッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。エッチングレジストパターン２２ａを除去することにより導体パターンを形成する。続いて、導体パターンの上面を含む全面に接着剤層前駆体を塗布する。接着剤層前駆体を露光および現像することにより、導体パターン上に接着剤パターンを形成する。その後、接着剤パターンを介して導体パターン上にベース絶縁層２を接合する。最後に、導体パターンからキャリア層８を剥離することにより、ＦＰＣ基板が製造される。
【解決手段】キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材の導体層３０上にレジスト膜２２を形成する。次に、レジスト膜２２を露光および現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。エッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。エッチングレジストパターン２２ａを除去することにより導体パターンを形成する。続いて、導体パターンの上面を含む全面に接着剤層前駆体を塗布する。接着剤層前駆体を露光および現像することにより、導体パターン上に接着剤パターンを形成する。その後、接着剤パターンを介して導体パターン上にベース絶縁層２を接合する。最後に、導体パターンからキャリア層８を剥離することにより、ＦＰＣ基板が製造される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線回路基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
燃料電池等の電池またはハードディスクドライブ等の電子機器においては、回路素子間の電気信号の伝送路として配線回路基板が用いられる。配線回路基板の製造時には、ベース絶縁層上の導電層に所定のパターンを有するレジスト層を形成する。この状態で、エッチング液を用いて導電層の露出した領域をエッチングすることにより所定の導体パターンを形成する。その後、レジスト層を除去する。さらに、導体パターンを覆うようにカバー絶縁層を形成する。このようにして、導体層のエッチングにより所望の導体パターンを有する配線回路基板を製造することができる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２５８４８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
配線回路基板のベース絶縁層に用いられる材料は、配線回路基板の用途に応じて最適に選択されることが望ましい。しかしながら、従来の配線回路基板の製造方法においては、導体層のエッチングの際にエッチング液によりベース絶縁層が溶解しないように、ベース絶縁層に使用可能な材料はポリイミド等の耐薬品性の高い材料に限定される。
【０００５】
本発明の目的は、ベース絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない配線回路基板の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る配線回路基板の製造方法は、支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンを形成するステップと、導体パターン上に絶縁層を接合するステップと、導体パターンから支持層を剥離するステップとを含むものである。
【０００７】
この配線回路基板の製造方法においては、支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンが形成される。次に、導体パターン上に絶縁層が接合される。その後、導体パターンから支持層が剥離される。
【０００８】
このように、導体パターンの形成時には絶縁層が存在せず、導体パターンの形成後に導体パターン上に絶縁層が接合される。そのため、導体パターンの形成に伴って絶縁層が溶解または変形することがない。それにより、絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない。その結果、用途に応じた種々の材料を用いて絶縁層を形成することができる。
【０００９】
（２）導体層を形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターン上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップとを含んでもよい。
【００１０】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンが形成される。また、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層が接合される。これにより、導体パターンが絶縁層から剥離することが防止される。
【００１１】
また、接着剤パターンは導体パターンと同一の形状を有するので、導体パターンから露出する絶縁層の領域には接着剤パターンが形成されない。これにより、配線回路基板のフレキシブル性の低下を防止することができる。
【００１２】
（３）導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターンを覆うように支持層上に接着剤層を形成するステップと、接着剤層を加工することにより接着剤パターンを形成するステップとをさらに含んでもよい。この場合、確実に導体パターン上に接着剤パターンを形成することができる。
【００１３】
（４）接着剤層は感光性を有し、接着剤層を加工するステップは、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００１４】
この場合、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターンを形成することができる。
【００１５】
（５）接着剤層に露光処理および現像処理を行うステップは、導体パターンをマスクとして用いて光を支持層を通して接着剤層に照射するステップを含んでもよい。
【００１６】
この場合、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００１７】
（６）導体パターンを形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、接着剤パターンをマスクとして用いて導体層の露出した領域を除去することにより導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップを含んでもよい。
【００１８】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンが形成される。また、接着剤パターンをマスクとして用いて導体層の露出した領域が除去される。これにより、別途マスクパターンを用意することなく導体パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００１９】
（７）接着剤層は感光性を有し、導体層上に接着剤パターンを形成するステップは、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００２０】
この場合、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターンを形成することができる。
【００２１】
（８）導体パターンを形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターン上に接着剤層および絶縁層の積層構造を形成するステップを含み、方法は、支持層を剥離した後、導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去することにより所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００２２】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンが形成される。また、導体パターン上に接着剤層および絶縁層の積層構造を形成することにより、導体パターン上に絶縁層が接合される。さらに、支持層を剥離した後、導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去することにより接着剤パターンが形成される。
【００２３】
これにより、導体パターンをマスクとして用いることができるので、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００２４】
（９）導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去するステップは、プラズマを用いて接着剤層の領域を除去するステップを含んでもよい。
【００２５】
この場合、接着剤層が感光性であるか非感光性であるかにかかわらず、接着剤層に所定のパターンを容易に形成することができる。
【００２６】
（１０）導体パターンを形成するステップは、ウェットエッチングにより導体パターンをエッチングするステップを含んでもよい。
【００２７】
この場合、絶縁層にエッチング液が付着することを防止しつつ導体層に所定のパターンを容易に形成することができる。
【００２８】
（１１）絶縁層は多孔質材料を含んでもよい。この場合、絶縁層が通気性を有する。それにより、配線回路基板を燃料電池の電極として用いることが可能となる。
【００２９】
（１２）導体パターンを形成するステップは、支持層、導体層および接着剤層の積層構造を形成するステップと、積層構造から導体層および接着剤層の不要な部分を分離することにより支持層の一面上に所定のパターンを有する導体パターンを形成するとともに導体パターン上に所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップとを含んでもよい。
【００３０】
この場合、支持層、導体層および接着剤層の積層構造から導体層および接着剤層の不要な部分が分離される。それにより、支持層の一面上に導体パターンおよび接着剤パターンを同時に形成することができる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、ベース絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない配線回路基板を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ）は第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法により製造されるＦＰＣ基板の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＦＰＣ基板のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図３】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図４】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図５】ＦＰＣ基板を用いた燃料電池の外観斜視図である。
【図６】燃料電池内における作用を説明するための図である。
【図７】第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図８】第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９】第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１０】第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１１】第５の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１２】比較例１におけるＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
［１］第１の実施の形態
以下、図面を参照しながら第１の実施の形態に係る配線回路基板の製造方法について説明する。本実施の形態では、配線回路基板の例として、屈曲性を有するフレキシブル配線回路基板（以下、ＦＰＣ基板と略記する。）について説明する。後述するように、このＦＰＣ基板は、例えば燃料電池に用いることができる。
【００３４】
（１）ＦＰＣ基板の構成
図１（ａ）は第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法により製造されるＦＰＣ基板の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＦＰＣ基板のＡ−Ａ線断面図である。
【００３５】
図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、ＦＰＣ基板１は、例えば多孔質性のｅＰＴＦＥ（延伸ポリテトラフルオロエチレン）からなるベース絶縁層２を備える。そのため、ベース絶縁層２は通気性を有する。ベース絶縁層２は、第１絶縁部２ａ、第２絶縁部２ｂ、第３絶縁部２ｃおよび第４絶縁部２ｄからなる。第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂは、それぞれ矩形形状を有し、互いに隣接するように一体的に形成される。以下、第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとの境界線に平行な辺を側辺と称し、第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂの側辺に垂直な一対の辺を端辺と称する。
【００３６】
第３絶縁部２ｃは、第１絶縁部２ａの１つの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。第４絶縁部２ｄは、第１絶縁部２ａの上記角部の対角に位置する第２絶縁部２ｂの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。
【００３７】
第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとの境界線上にベース絶縁層２をほぼ二等分するように屈曲部Ｂ１が設けられる。後述のように、ベース絶縁層２は、屈曲部Ｂ１に沿って折曲可能である。屈曲部Ｂ１は、例えば線状の浅い溝であってもよく、または、線状の印等でもよい。あるいは、屈曲部Ｂ１でベース絶縁層２を折曲可能であれば、屈曲部Ｂ１に特に何もなくてもよい。ベース絶縁層２を屈曲部Ｂ１に沿って折曲する場合、第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとが対向する。この場合、第３絶縁部２ｃと第４絶縁部２ｄとは対向しない。
【００３８】
ベース絶縁層２の一面に、図１（ｂ）の接着剤パターン７を介して、矩形の集電部３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ，３ｇ，３ｈ，３ｉ，３ｊ、接続導体部３ｋ，３ｌ，３ｍ，３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐが形成される。集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐは例えば銅からなる。
【００３９】
接着剤パターン７としては、例えばエポキシ樹脂系の接着剤、フェノール樹脂系の接着剤、ポリエステル樹脂系の接着剤、アクリル樹脂系の接着剤またはポリイミド系の接着剤等の任意の接着剤が用いられる。本実施の形態において、接着剤パターン７には光酸発生剤が添加される。これにより、接着剤パターン７は感光性を有する。
【００４０】
集電部３ａ〜３ｊの各々は長方形状を有する。集電部３ａ〜３ｅは、第１絶縁部２ａの端辺に沿って平行に延びかつ第１絶縁部２ａの側辺方向に沿って設けられる。同様に、集電部３ｆ〜３ｊは、第２絶縁部２ｂの端辺に沿って平行に延びかつ第２絶縁部２ｂの側辺方向に沿って設けられる。この場合、集電部３ａ〜３ｅと集電部３ｆ〜３ｊとは、屈曲部Ｂ１を中心として対称な位置に配置される。
【００４１】
接続導体部３ｋ〜３ｎは、屈曲部Ｂ１をまたぐように第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂにわたって形成される。接続導体部３ｋは集電部３ｂと集電部３ｆとを電気的に接続し、接続導体部３ｌは集電部３ｃと集電部３ｇとを電気的に接続し、接続導体部３ｍは集電部３ｄと集電部３ｈとを電気的に接続し、接続導体部３ｎは集電部３ｅと集電部３ｉとを電気的に接続する。
【００４２】
集電部３ａ〜３ｅの各々には、端辺方向に沿って複数（本例では４個）の開口Ｈ１１が形成される。また、集電部３ｆ〜３ｊの各々には、端辺方向に沿って複数（本例では４個）の開口Ｈ１２が形成される。
【００４３】
引き出し導体部３ｏは、集電部３ａの外側の短辺から第３絶縁部２ｃ上に直線状に延びるように形成される。引き出し導体部３ｐは、集電部３ｊの外側の短辺から第４絶縁部２ｄ上に直線状に延びるように形成される。
【００４４】
集電部３ａおよび引き出し導体部３ｏの一部を覆うように、第１絶縁部２ａ上に被覆層６ａが形成される。これにより、引き出し導体部３ｏの先端部は被覆層６ａに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部３ｏの部分を、引き出し電極５ａと称する。また、集電部３ｂ〜３ｅをそれぞれ覆うように、第１絶縁部２ａ上に被覆層６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅが形成される。集電部３ａ〜３ｅの開口Ｈ１１内において、被覆層６ａ〜６ｅは第１絶縁部２ａの上面に接する。
【００４５】
集電部３ｊおよび引き出し導体部３ｐの一部を覆うように、第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｊが形成される。これにより、引き出し導体部３ｐの先端部は被覆層６ｊに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部３ｐの部分を、引き出し電極５ｂと称する。また、集電部３ｆ〜３ｉをそれぞれ覆うように、第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｆ，６ｇ，６ｈ，６ｉが形成される。集電部３ｆ〜３ｊの開口Ｈ１２内において、被覆層６ｆ〜６ｊは第２絶縁部２ｂの上面に接する。
【００４６】
接続導体部３ｋ〜３ｎをそれぞれ覆うように、第１絶縁部２ａ上および第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｋ，６ｌ，６ｍ，６ｎが形成される。被覆層６ａ〜６ｎは、導電材料を含有した樹脂組成物からなる。
【００４７】
樹脂組成物として、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂もしくはポリエステル樹脂、またはこれらの樹脂を２種類以上混合した樹脂を用いることができる。
【００４８】
樹脂組成物は、温度４０℃でかつ相対湿度９０％の環境において１５０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の透湿度を有することが好ましい。また、樹脂組成物は、６０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを有することが好ましい。
【００４９】
一方、導電材料として、例えば金（Ａｕ）、銀もしくはナノ銀粒子等の金属材料、カーボンブラック、黒鉛もしくはカーボンナノチューブ等の炭素材料、またはポリチオフェンもしくはポリアニリン等の導電性高分子材料を用いることができ、またはこれらの材料を２種類以上混合した材料を用いることができる。
【００５０】
（２）ＦＰＣ基板の製造方法
次に、図１に示したＦＰＣ基板１の製造方法を説明する。図２、図３および図４は、ＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図であり、各断面図は図１のＡ−Ａ線における断面図に相当する。
【００５１】
まず、図２（ａ）に示すように、キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材を用意する。キャリア層８としては、粘着剤層を有するＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂または粘着剤層を有するステンレス等の金属薄膜を用いることができる。また、導体層３０は例えば銅からなる。キャリア層８と導体層３０とは、ラミネータにより貼り付けられていてもよいし、プレス機により圧着されていてもよい。キャリア層８と導体層３０との圧着は、加温された状態または真空の状態で行われてもよい。
【００５２】
次に、図２（ｂ）に示すように、導体層３０上に例えば、感光性ドライフィルムレジスト等によりレジスト膜２２を形成する。図２（ｃ）に示すように、レジスト膜２２を所定のパターンで露光した後、現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。
【００５３】
次に、図２（ｄ）に示すように、塩化第二鉄を用いてエッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。次に、図３（ｅ）に示すように、エッチングレジストパターン２２ａを剥離液により除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成される。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成される。
【００５４】
スパッタリング、蒸着またはめっき等の他の方法によりキャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを形成してもよい。
【００５５】
続いて、図３（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に接着剤層前駆体７ｐを塗布する。次に、図３（ｇ）に示すように、所定のマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光した後、現像することにより、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上に、所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成する。
【００５６】
ここで、接着剤層前駆体７ｐがネガ型の感光性を有する場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光する。接着剤層前駆体７ｐがポジ型の感光性を有する場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光する。
【００５７】
また、接着剤層前駆体７ｐがポジ型の感光性を有する場合、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）側から露光を行ってもよい。この場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐをマスクパターンとして用いることができるので、別途マスクパターンを用いなくてよい。これにより、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。なお、ＰＥＴからなるキャリア層８は露光光を透過するため、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）側からの露光の妨げとならない。
【００５８】
集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上を除く部分に塗布された接着剤層前駆体７ｐの部分を、薬液、レーザ光またはプラズマ処理により除去してもよい。この場合、接着剤層前駆体７ｐの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。同様に、スクリーン印刷またはペーストディスペンサにより、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上のみに接着剤層前駆体７ｐを塗布してもよい。この場合も、接着剤層前駆体７ｐの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。
【００５９】
次に、図３（ｈ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図４（ｉ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【００６０】
次に、図４（ｊ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図４（ｊ）および図４（ｋ）の断面図は、図４（ｉ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００６１】
最後に、図４（ｋ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００６２】
なお、キャリア層８の厚みは１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、２５μｍ以上１５０μｍ以下であることがさらに好ましい。キャリア層８の厚みが１μｍ以上であるとキャリア層８の取り扱い性が向上し、キャリア層８の厚みが５００μｍ以下であるとキャリア層８のフレキシブル性が向上する。
【００６３】
導体層３０の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。導体層３０の厚みが１μｍ以上であると抵抗等の電気特性が向上し、導体層３０の厚みが１００μｍ以下であると導体層３０の取り扱い性が向上する。
【００６４】
接着剤パターン７の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。接着剤パターン７の厚みが１μｍ以上であると接着剤の接着力が向上し、接着剤パターン７の厚みが１００μｍ以下であると接着剤パターン７の取り扱い性が向上する。
【００６５】
ベース絶縁層２の厚みは１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下であることがさらに好ましい。ベース絶縁層２の厚みが１０μｍ以上であるとベース絶縁層２の取り扱い性が向上し、ベース絶縁層２の厚みが５００μｍ以下であるとベース絶縁層２のコストが低下する。
【００６６】
図２〜図４では、サブトラクティブ法によるＦＰＣ基板１の製造方法を示したが、これに限定されず、セミアディティブ法等の他の製造方法を用いてもよい。
【００６７】
（３）ＦＰＣ基板を用いた燃料電池
図５は、ＦＰＣ基板１を用いた燃料電池１００の外観斜視図である。図６は、燃料電池１００内における作用を説明するための図であり、図５の燃料電池１００のＢ−Ｂ線から見た断面図である。
【００６８】
図５および図６に示すように、燃料電池１００は直方体状のケーシング４０を有する。図５では、ケーシング４０を破線により示している。ケーシング４０は、上面部４１、下面部４２、一方の側面部４３および他方の側面部４４を有する。図６には、残りの一対の側面部は図示されない。
【００６９】
ＦＰＣ基板１は、被覆層６ａ〜６ｎが形成された一面を内側にして図１の屈曲部Ｂ１に沿って折曲された状態でケーシング４０の上面部４１および下面部４２により狭持される。
【００７０】
ＦＰＣ基板１の引き出し電極５ａ，５ｂは、ケーシング４０の一方の側面部４３から外側に引き出される。引き出し電極５ａ，５ｂには、種々の外部回路の端子が電気的に接続される。
【００７１】
ケーシング４０内において、複数（本実施の形態では５個）の電極膜３５が、折曲されたＦＰＣ基板１の被覆層６ａと被覆層６ｆとの間、被覆層６ｂと被覆層６ｇとの間、被覆層６ｃと被覆層６ｈとの間、被覆層６ｄと被覆層６ｉとの間、および被覆層６ｅと被覆層６ｊとの間にそれぞれ配置される（図１（ａ）参照）。これにより、複数の電極膜３５が直列接続される。
【００７２】
各電極膜３５は空気極３５ａ、燃料極３５ｂおよび電解質膜３５ｃからなる。空気極３５ａは電解質膜３５ｃの一面に形成され、燃料極３５ｂは電解質膜３５ｃの他面に形成される。複数の電極膜３５の空気極３５ａはＦＰＣ基板１の被覆層６ｆ〜６ｊにそれぞれ対向し、複数の電極膜３５の燃料極３５ｂはＦＰＣ基板１の被覆層６ａ〜６ｅにそれぞれ対向する。
【００７３】
ケーシング４０内の上面部４１上には、集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１２に対応するように複数の開口Ｈ４１が形成される。電極膜３５の空気極３５ａには、ケーシング４０の複数の開口Ｈ４１、通気性を有するＦＰＣ基板１のベース絶縁層２、および集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１２を通して空気が供給される。
【００７４】
ケーシング４０の下面部４２には、ベース絶縁層２の第１絶縁部２ａ（図１（ａ）参照）に接するように燃料収容室５０が設けられる。燃料収容室５０には、燃料供給管５１の一端が接続される。燃料供給管５１の他端は、ケーシング４０の他方の側面部４４を通って外部の図示しない燃料供給部に接続される。燃料供給部から燃料供給管５１を通して燃料収容室５０内に燃料が供給される。各電極膜３５の燃料極３５ｂには、通気性を有するＦＰＣ基板１のベース絶縁層２および集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１１を通して燃料が供給される。なお、本実施の形態では、燃料としてメタノールを用いる。
【００７５】
上記の構成においては、複数の燃料極３５ｂにおいて、メタノールが水素イオンと二酸化炭素とに分解され、電子が生成される。生成された電子は、ＦＰＣ基板１の集電部３ａ（図１参照）から引き出し電極５ａに導かれる。メタノールから分解された水素イオンは、電解質膜３５ｃを透過して空気極３５ａに達する。複数の空気極３５ａにおいて、引き出し電極５ｂから集電部３ｊに導かれた電子を消費しつつ水素イオンと酸素とが反応し、水が生成される。このようにして、引き出し電極５ａ，５ｂに接続された外部回路に電力が供給される。
【００７６】
（４）効果
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成時にはベース絶縁層２が存在せず、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成後に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２が接合される。そのため、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成に伴ってベース絶縁層２がエッチング液等の薬液により溶解または変形することがない。それにより、ベース絶縁層２に用いられる材料の種類が限定されない。その結果、用途に応じた種々の材料を用いてベース絶縁層２を形成することができる。
【００７７】
また、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２が接合されるので、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐがベース絶縁層２から剥離することが確実に防止される。
【００７８】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１おいては、ベース絶縁層２が通気性を有する多孔質材料からなるので、ベース絶縁層２を燃料電池１００の気液分離膜として用いることができるとともに、ＦＰＣ基板１を燃料電池１００の電極として用いることが可能となる。
【００７９】
また、接着剤パターン７は集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一の形状を有するので、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐから露出するベース絶縁層２の領域には接着剤パターン７が形成されない。これにより、ＦＰＣ基板１のフレキシブル性の低下を防止することができる。さらに、空気および気化したメタノールがベース絶縁層２を透過して空気極３５ａおよび燃料極３５ｂに供給される際に、空気および気化したメタノールの透過が接着剤層により妨げられない。
【００８０】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うようにベース絶縁層２上に被覆層６ａ〜６ｎが形成され、かつベース絶縁層２と集電部３ａ〜３ｊとの間、ベース絶縁層２と接続導体部３ｋ〜３ｎとの間およびベース絶縁層２と引き出し導体部３ｏ，３ｐとの間に接着剤パターン７が形成される。これにより、メタノール等の酸が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接触することが防止される。その結果、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの腐食が防止される。
【００８１】
また、本実施の形態においては、接着剤層前駆体７ｐが感光性を有するので、露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターン７を形成することができる。
【００８２】
さらに、本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法によれば、透明材料からなるベース絶縁層２を用いることもできる。この場合には、ＦＰＣ基板１を太陽電池の電極として用いることが可能となる。
【００８３】
［２］第２の実施の形態
第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。図７および図８は、第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。
【００８４】
まず、図７（ａ）に示すように、キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材を用意する。次に、図７（ｂ）に示すように、導体層３０上に接着剤層前駆体７ｐを塗布する。続いて、図７（ｃ）に示すように、図１（ａ）の集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一の形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光した後、現像することにより、導体層３０上に所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成する。
【００８５】
次に、図７（ｄ）に示すように、塩化第二鉄を用いて接着剤パターン７から露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成される。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成される。
【００８６】
次に、図８（ｅ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図８（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【００８７】
次に、図８（ｇ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図８（ｇ）および図８（ｈ）の断面図は、図８（ｆ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００８８】
最後に、図８（ｈ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００８９】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、キャリア層８と導体層３０との積層構造を有する基材の導体層３０上に接着剤パターン７が形成される。また、接着剤パターン７をマスクとして用いて導体層３０の露出した領域が除去される。これにより、別途マスクパターンを用意することなく集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを形成することができる。その結果、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００９０】
また、接着剤パターン７が感光性を有するので、露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターン７を形成することができる。
【００９１】
［３］第３の実施の形態
第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。本実施の形態において、接着剤パターン７は感光性を有しない。図９は、第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法は、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法の図２（ａ）の工程から図３（ｆ）の工程と同様の工程を有する。
【００９２】
図３（ｆ）の工程の次に、図９（ａ）に示すように、接着剤層前駆体７ｐを乾燥させることにより接着剤層７ｑを形成し、接着剤層７ｑを介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。続いて、図９（ｂ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。その後、図９（ｃ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐから露出する接着剤層７ｑの領域をプラズマ処理により除去する。このようにして、接着剤パターン７を形成する。
【００９３】
次に、図９（ｄ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図９（ｄ）および図９（ｅ）の断面図は、図９（ｃ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００９４】
最後に、図９（ｅ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００９５】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐをマスクとして用いることができるので、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターン７を形成することができる。その結果、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００９６】
また、接着剤パターン７がプラズマ処理により形成されるので、接着剤層前駆体７ｐが感光性であるか非感光性であるかにかかわらず、接着剤パターン７を容易に形成することができる。
【００９７】
［４］第４の実施の形態
第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。本実施の形態において、接着剤パターン７は感光性を有しない。図１０は、第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。
【００９８】
まず、図１０（ａ）に示すように、粘着剤層を有するキャリア層８、導体層３０、および接着剤層前駆体２２を用意する。接着剤層前駆体２２はセパレータ２３上に形成されている。
【００９９】
次に、図１０（ｂ）に示すように、キャリア層８上に導体層３０を貼り合わせるとともに導体層３０上に接着剤層前駆体２２を貼り合わせる。キャリア層８、導体層３０および接着剤層前駆体２２は、ラミネータにより貼り合わせてもよく、またはプレス機によって圧着することにより貼り合わせてもよい。その後、接着剤層前駆体２２からセパレータ２３を剥離する。接着剤層前駆体２２は、上記第１〜第３の実施の形態と同様に、塗布により導体層３０上に形成されてもよい。
【０１００】
次に、図１０（ｃ）に示すように、金型を用いて接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８の複数箇所を打ち抜くことにより、複数の貫通孔ＨＡを形成する。これにより、導体層３０に開口Ｈ１１，Ｈ１２が形成される。また、金型を用いて集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）の形状に沿った切り込みＴＨを接着剤層前駆体２２および導体層３０に形成する。この場合、共通の金型を用いて貫通孔ＨＡの形成と切り込みＴＨの形成とを同時に行ってもよく、または異なる金型を用いて貫通孔ＨＡの形成と切り込みＴＨの形成とを順に行ってもよい。切り込みＴＨは、キャリア層８の粘着剤層に達するように形成されることが好ましい。
【０１０１】
次に、図１０（ｄ）に示すように、切り込みＴＨによって分離された不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）および接着剤パターン７が形成される。なお、図１０（ｃ）の工程において、切り込みＴＨがキャリア層８の粘着剤層に達するように形成されることにより、不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去しやすくなる。
【０１０２】
次に、図１１（ｅ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図１１（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【０１０３】
次に、図１１（ｇ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図１１（ｇ）および図１１（ｈ）の断面図は、図１１（ｆ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【０１０４】
最後に、図１１（ｈ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【０１０５】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法においては、金型による貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨの形成により、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成される。この場合、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、ＦＰＣ基板１の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【０１０６】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成された後に、ベース絶縁層２が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接合されるので、金型による貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨの形成時に、ベース絶縁層２が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。
【０１０７】
なお、図１０（ｃ）の工程で接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いて貫通孔ＨＡを形成する代わりに、図１０（ｃ）の工程で接着剤層前駆体２２および導体層３０の対応箇所に円環状の切り込みを形成し、図１０（ｄ）の工程でその円環状の切り込みの内側における接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去してもよい。ただし、この場合には、複数の対応箇所において、接着剤層前駆体２２および導体層３０の除去処理が必要になる。製造工程の簡略化のためには、接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いて貫通孔ＨＡを形成することが好ましい。
【０１０８】
一方、図１０（ｃ）の工程で集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２および導体層３０に切り込みＴＨを形成し、図１０（ｄ）の工程で不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去する代わりに、図１０（ｃ）の工程で集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いてもよい。ただし、この場合には、接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８が複数に分離する。取り扱いを容易にするためには、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２および導体層３０に切り込みＴＨを形成し、次工程で不要部分を除去することが好ましい。
【０１０９】
［５］第５の実施の形態
第５の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。
【０１１０】
本実施の形態においては、図１０（ｃ）の工程において、金型を用いて貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨを形成する代わりに、レーザにより貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨを形成する。その後、図１０（ｄ）に示すように、切り込みＴＨによって分離された不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去することにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）および接着剤パターン７が形成される。
【０１１１】
本実施の形態に係る製造方法においても、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、ＦＰＣ基板１の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【０１１２】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成された後に、ベース絶縁層２が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接合されるので、レーザによる貫通孔ＨＡの形成および切り込みＴＨの形成時に、ベース絶縁層２が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。
【０１１３】
［６］他の実施の形態
上記実施の形態において、ベース絶縁層２の材料として多孔質性のｅＰＴＦＥが用いられたが、これに限定されない。例えば、ベース絶縁層２の材料として、ｅＰＴＦＥに代えて、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリメチルメタクリレートポリマー樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂もしくはポリウレタン樹脂またはこれらの樹脂を多孔質化したフィルムを用いてもよい。
【０１１４】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの材料として銅が用いられたが、これに限定されない。例えば、銅に代えて金（Ａｕ）、銀、もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。
【０１１５】
上記実施の形態において、ＦＰＣ基板１は５対の集電部（集電部３ａ，３ｆ、集電部３ｂ，３ｇ、集電部３ｃ，３ｈ、集電部３ｄ，３ｉおよび集電部３ｅ，３ｊ）を有するが、これに限定されない。ＦＰＣ基板１の集電部の数は４対以下であってもよいし、６対以上であってもよい。これにより、任意の数の電極膜３５を直列接続することができる。また、ＦＰＣ基板１が１対の集電部を有してもよい。この場合、接続導体部３ｋ〜３ｎは設けられない。
【０１１６】
［７］請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１１７】
上記実施の形態においては、キャリア層８が支持層の例であり、導体層３０が導体層の例であり、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐが導体パターンの例であり、ベース絶縁層２が絶縁層の例であり、ＦＰＣ基板１が配線回路基板の例であり、接着剤層前駆体７ｐが接着剤層の例であり、接着剤パターン７が接着剤パターンの例である。
【０１１８】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【０１１９】
［８］実施例
（１）実施例および比較例
実施例１〜４および比較例１では、上記実施の形態に基づいてＦＰＣ基板１を製造した。以下、実施例１〜４および比較例１におけるＦＰＣ基板１の製造方法を説明する。
【０１２０】
実施例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。エポキシ当量１９０のビフェニル型エポキシ樹脂４０重量部、エポキシ当量４５００のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂６０重量部および光酸発生剤である４，４−ビス［ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ］フェニルスルフィドビス（ヘキサフルオロアンチモネート）９重量部をジオキサンに溶解することにより、固形分濃度が５０重量％である接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはネガ型の感光性を有する。
【０１２１】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例１のＦＰＣ基板１を製造した。実施例１のＦＰＣ基板１においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを温度９０℃、圧力０．４ＭＰａおよび速度１ｍ／ｍｉｎの条件で塗布した。
【０１２２】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度９０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、重量比が１対１である水とエタノールとの混合溶媒にＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）を１．２％添加した現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１２３】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度１５０℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１２４】
実施例２における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。酸二無水物成分であるエチレングリコールビストリメリット酸二無水物６７重量％、ジアミン成分である１，１２−ジアミノデカン３２重量％および１，３−ビス−（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１重量％をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中に溶解させ、室温で５時間反応させることによりポリイミド前駆体溶液を調製した。ここで、酸二無水物成分およびジアミン成分の合計の濃度は３０重量％である。このポリイミド前駆体溶液に、感光剤として１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンを添加した。ここで、添加した感光剤の濃度は、溶液の固形分に対して１５重量％である。その後、感光剤を均一に溶液に溶解させることにより感光性ポリイミドからなる接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはネガ型の感光性を有する。
【０１２５】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例２のＦＰＣ基板１を製造した。実施例２のＦＰＣ基板においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行った。
【０１２６】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度１３５℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、Ｎ−メチル−２−ピロリドンからなる現像液を用い、６分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１２７】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度２００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度２００℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１２８】
実施例３における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は、実施例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法と同様である。
【０１２９】
第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例３のＦＰＣ基板１を製造した。実施例３のＦＰＣ基板１においては、図７（ｂ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを温度９０℃、圧力０．４ＭＰａおよび速度１ｍ／ｍｉｎの条件で塗布した。
【０１３０】
続いて、図７（ｃ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度９０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、重量比が１対１である水とエタノールとの混合溶媒にＴＭＡＨを１．２％添加した現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１３１】
図８（ｅ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度１５０℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図８（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１３２】
実施例４における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。酸二無水物成分である３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびジアミン成分である４，４’−ジアミノジフェニルスルホンを略等モル量Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中に溶解させ、室温で２４時間反応させることによりポリイミド前駆体溶液を調製した。ここで、酸二無水物成分およびジアミン成分の合計の濃度は３０重量％である。このポリイミド前駆体溶液に、下記式（１）で表わされるビニルエーテル化合物を添加および混合した。ここで、添加したビニルエーテル化合物の量は、溶液の固形分１００重量部に対して４０重量部である。次に、このポリイミド前駆体溶液に、光分解性プロトン発生剤であるジフェニルイオドニウム−８−アニリノナフタレン−１−スルホネートを添加および混合した。ここで、添加した光分解性プロトン発生剤の量は、溶液の固形分１００重量部に対して１０重量部である。その後、ビニルエーテル化合物および光分解性プロトン発生剤を均一に溶液に溶解させることにより感光性ポリイミドからなる接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはポジ型の感光性を有する。
【０１３３】
【化１】
【０１３４】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例４のＦＰＣ基板１を製造した。実施例４のＦＰＣ基板１においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行った。
【０１３５】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）から３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度１１０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、１．５重量％のＴＭＡＨ水溶液からなる現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１３６】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度２００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度２００℃で１２０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１３７】
比較例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。ＭＥＫ（Methyl Ethyl Ketone：メチルエチルケトン）に溶解させたエポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製ｊＥＲ−１００７）８０重量部およびエポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製ＹＬ−７４１０）２０重量部、硬化剤である酸無水物（新日本理化株式会社製ＭＨ−７００）８重量部ならびに触媒であるイミダゾール（四国化成工業株式会社製２Ｅ４ＭＺ）２重量部を混合し、接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐは感光性を有しない。
【０１３８】
図１２は、比較例１におけるＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。図１２に示すＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて比較例１のＦＰＣ基板１を製造した。比較例１のＦＰＣ基板１においては、図１２（ａ）に示すように、ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行うことにより接着剤パターン７を形成した。
【０１３９】
次に、図１２（ｂ）に示すように、ベース絶縁層２上に接着剤パターン７を介して導体層３０を温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間圧着した。続いて、図１２（ｃ）に示すように、導体層３０上に感光性ドライフィルムレジストによりレジスト膜２２を形成した。その後、図１２（ｄ）に示すように、レジスト膜２２を所定のパターンで露光および現像した後、現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成した。
【０１４０】
次に、図１２（ｅ）に示すように、塩化第二鉄を用いてエッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去した。続いて、図１２（ｆ）に示すように、エッチングレジストパターン２２ａを剥離液により除去した。これにより、ベース絶縁層２上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成された。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成された。
【０１４１】
（２）ＦＰＣ基板の表面の汚れおよび不具合の検査
実施例１〜４および比較例１の各ＦＰＣ基板１を光学顕微鏡により観察し、ＦＰＣ基板１の表面の汚れおよび不具合を検査した。ここで、ＦＰＣ基板１の表面の不具合とは、ベース絶縁層２が変形していること、またはＦＰＣ基板１の製造工程における薬液がベース絶縁層２に残存していることである。
【０１４２】
実施例１〜４のＦＰＣ基板１の表面には汚れおよび不具合が確認されなかった。これに対し、比較例１のＦＰＣ基板１の表面には汚れおよび不具合が確認された。
【０１４３】
実施例１〜４および比較例１の結果から、本実施の形態に係る製造方法により製造されるＦＰＣ基板１においては、表面に汚れおよび不具合の発生が防止されることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明は、種々の配線回路基板の製造に有効に利用できる。
【符号の説明】
【０１４５】
１ ＦＰＣ基板
２ ベース絶縁層
２ａ 第１絶縁部
２ｂ 第２絶縁部
２ｃ 第３絶縁部
２ｄ 第４絶縁部
３ａ〜３ｊ 集電部
３ｋ〜３ｎ 接続導体部
３ｏ，３ｐ 引き出し導体部
５ａ，５ｂ 引き出し電極
６ａ〜６ｎ 被覆層
７ 接着剤パターン
７ｐ 接着剤層前駆体
７ｑ 接着剤層
８ キャリア層
２２ レジスト膜
２２ エッチングレジストパターン
３０ 導体層
３５ 電極膜
３５ａ 空気極
３５ｂ 燃料極
３５ｃ 電解質膜
４０ ケーシング
４１ 上面部
４２ 下面部
４３，４４ 側面部
５０ 燃料収容室
Ｂ１ 屈曲部
Ｈ１１，Ｈ１２，Ｈ４１ 開口
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線回路基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
燃料電池等の電池またはハードディスクドライブ等の電子機器においては、回路素子間の電気信号の伝送路として配線回路基板が用いられる。配線回路基板の製造時には、ベース絶縁層上の導電層に所定のパターンを有するレジスト層を形成する。この状態で、エッチング液を用いて導電層の露出した領域をエッチングすることにより所定の導体パターンを形成する。その後、レジスト層を除去する。さらに、導体パターンを覆うようにカバー絶縁層を形成する。このようにして、導体層のエッチングにより所望の導体パターンを有する配線回路基板を製造することができる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２５８４８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
配線回路基板のベース絶縁層に用いられる材料は、配線回路基板の用途に応じて最適に選択されることが望ましい。しかしながら、従来の配線回路基板の製造方法においては、導体層のエッチングの際にエッチング液によりベース絶縁層が溶解しないように、ベース絶縁層に使用可能な材料はポリイミド等の耐薬品性の高い材料に限定される。
【０００５】
本発明の目的は、ベース絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない配線回路基板の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る配線回路基板の製造方法は、支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンを形成するステップと、導体パターン上に絶縁層を接合するステップと、導体パターンから支持層を剥離するステップとを含むものである。
【０００７】
この配線回路基板の製造方法においては、支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンが形成される。次に、導体パターン上に絶縁層が接合される。その後、導体パターンから支持層が剥離される。
【０００８】
このように、導体パターンの形成時には絶縁層が存在せず、導体パターンの形成後に導体パターン上に絶縁層が接合される。そのため、導体パターンの形成に伴って絶縁層が溶解または変形することがない。それにより、絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない。その結果、用途に応じた種々の材料を用いて絶縁層を形成することができる。
【０００９】
（２）導体層を形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターン上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップとを含んでもよい。
【００１０】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンが形成される。また、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層が接合される。これにより、導体パターンが絶縁層から剥離することが防止される。
【００１１】
また、接着剤パターンは導体パターンと同一の形状を有するので、導体パターンから露出する絶縁層の領域には接着剤パターンが形成されない。これにより、配線回路基板のフレキシブル性の低下を防止することができる。
【００１２】
（３）導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターンを覆うように支持層上に接着剤層を形成するステップと、接着剤層を加工することにより接着剤パターンを形成するステップとをさらに含んでもよい。この場合、確実に導体パターン上に接着剤パターンを形成することができる。
【００１３】
（４）接着剤層は感光性を有し、接着剤層を加工するステップは、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００１４】
この場合、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターンを形成することができる。
【００１５】
（５）接着剤層に露光処理および現像処理を行うステップは、導体パターンをマスクとして用いて光を支持層を通して接着剤層に照射するステップを含んでもよい。
【００１６】
この場合、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００１７】
（６）導体パターンを形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、接着剤パターンをマスクとして用いて導体層の露出した領域を除去することにより導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップを含んでもよい。
【００１８】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層上に所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンが形成される。また、接着剤パターンをマスクとして用いて導体層の露出した領域が除去される。これにより、別途マスクパターンを用意することなく導体パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００１９】
（７）接着剤層は感光性を有し、導体層上に接着剤パターンを形成するステップは、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００２０】
この場合、接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターンを形成することができる。
【００２１】
（８）導体パターンを形成するステップは、支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、導体パターン上に接着剤層および絶縁層の積層構造を形成するステップを含み、方法は、支持層を剥離した後、導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去することにより所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップを含んでもよい。
【００２２】
この場合、支持層と導体層との積層構造を有する基材の導体層を加工することにより支持層の一面上に導体パターンが形成される。また、導体パターン上に接着剤層および絶縁層の積層構造を形成することにより、導体パターン上に絶縁層が接合される。さらに、支持層を剥離した後、導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去することにより接着剤パターンが形成される。
【００２３】
これにより、導体パターンをマスクとして用いることができるので、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターンを形成することができる。その結果、配線回路基板の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００２４】
（９）導体パターンから露出する接着剤層の領域を除去するステップは、プラズマを用いて接着剤層の領域を除去するステップを含んでもよい。
【００２５】
この場合、接着剤層が感光性であるか非感光性であるかにかかわらず、接着剤層に所定のパターンを容易に形成することができる。
【００２６】
（１０）導体パターンを形成するステップは、ウェットエッチングにより導体パターンをエッチングするステップを含んでもよい。
【００２７】
この場合、絶縁層にエッチング液が付着することを防止しつつ導体層に所定のパターンを容易に形成することができる。
【００２８】
（１１）絶縁層は多孔質材料を含んでもよい。この場合、絶縁層が通気性を有する。それにより、配線回路基板を燃料電池の電極として用いることが可能となる。
【００２９】
（１２）導体パターンを形成するステップは、支持層、導体層および接着剤層の積層構造を形成するステップと、積層構造から導体層および接着剤層の不要な部分を分離することにより支持層の一面上に所定のパターンを有する導体パターンを形成するとともに導体パターン上に所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップとを含み、導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、接着剤パターンを介して導体パターン上に絶縁層を接合するステップとを含んでもよい。
【００３０】
この場合、支持層、導体層および接着剤層の積層構造から導体層および接着剤層の不要な部分が分離される。それにより、支持層の一面上に導体パターンおよび接着剤パターンを同時に形成することができる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、ベース絶縁層に用いられる材料の種類が限定されない配線回路基板を製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】（ａ）は第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法により製造されるＦＰＣ基板の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＦＰＣ基板のＡ−Ａ線断面図である。
【図２】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図３】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図４】ＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図５】ＦＰＣ基板を用いた燃料電池の外観斜視図である。
【図６】燃料電池内における作用を説明するための図である。
【図７】第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図８】第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９】第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１０】第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１１】第５の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図１２】比較例１におけるＦＰＣ基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
［１］第１の実施の形態
以下、図面を参照しながら第１の実施の形態に係る配線回路基板の製造方法について説明する。本実施の形態では、配線回路基板の例として、屈曲性を有するフレキシブル配線回路基板（以下、ＦＰＣ基板と略記する。）について説明する。後述するように、このＦＰＣ基板は、例えば燃料電池に用いることができる。
【００３４】
（１）ＦＰＣ基板の構成
図１（ａ）は第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板の製造方法により製造されるＦＰＣ基板の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＦＰＣ基板のＡ−Ａ線断面図である。
【００３５】
図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、ＦＰＣ基板１は、例えば多孔質性のｅＰＴＦＥ（延伸ポリテトラフルオロエチレン）からなるベース絶縁層２を備える。そのため、ベース絶縁層２は通気性を有する。ベース絶縁層２は、第１絶縁部２ａ、第２絶縁部２ｂ、第３絶縁部２ｃおよび第４絶縁部２ｄからなる。第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂは、それぞれ矩形形状を有し、互いに隣接するように一体的に形成される。以下、第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとの境界線に平行な辺を側辺と称し、第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂの側辺に垂直な一対の辺を端辺と称する。
【００３６】
第３絶縁部２ｃは、第１絶縁部２ａの１つの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。第４絶縁部２ｄは、第１絶縁部２ａの上記角部の対角に位置する第２絶縁部２ｂの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。
【００３７】
第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとの境界線上にベース絶縁層２をほぼ二等分するように屈曲部Ｂ１が設けられる。後述のように、ベース絶縁層２は、屈曲部Ｂ１に沿って折曲可能である。屈曲部Ｂ１は、例えば線状の浅い溝であってもよく、または、線状の印等でもよい。あるいは、屈曲部Ｂ１でベース絶縁層２を折曲可能であれば、屈曲部Ｂ１に特に何もなくてもよい。ベース絶縁層２を屈曲部Ｂ１に沿って折曲する場合、第１絶縁部２ａと第２絶縁部２ｂとが対向する。この場合、第３絶縁部２ｃと第４絶縁部２ｄとは対向しない。
【００３８】
ベース絶縁層２の一面に、図１（ｂ）の接着剤パターン７を介して、矩形の集電部３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ，３ｇ，３ｈ，３ｉ，３ｊ、接続導体部３ｋ，３ｌ，３ｍ，３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐが形成される。集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐは例えば銅からなる。
【００３９】
接着剤パターン７としては、例えばエポキシ樹脂系の接着剤、フェノール樹脂系の接着剤、ポリエステル樹脂系の接着剤、アクリル樹脂系の接着剤またはポリイミド系の接着剤等の任意の接着剤が用いられる。本実施の形態において、接着剤パターン７には光酸発生剤が添加される。これにより、接着剤パターン７は感光性を有する。
【００４０】
集電部３ａ〜３ｊの各々は長方形状を有する。集電部３ａ〜３ｅは、第１絶縁部２ａの端辺に沿って平行に延びかつ第１絶縁部２ａの側辺方向に沿って設けられる。同様に、集電部３ｆ〜３ｊは、第２絶縁部２ｂの端辺に沿って平行に延びかつ第２絶縁部２ｂの側辺方向に沿って設けられる。この場合、集電部３ａ〜３ｅと集電部３ｆ〜３ｊとは、屈曲部Ｂ１を中心として対称な位置に配置される。
【００４１】
接続導体部３ｋ〜３ｎは、屈曲部Ｂ１をまたぐように第１絶縁部２ａおよび第２絶縁部２ｂにわたって形成される。接続導体部３ｋは集電部３ｂと集電部３ｆとを電気的に接続し、接続導体部３ｌは集電部３ｃと集電部３ｇとを電気的に接続し、接続導体部３ｍは集電部３ｄと集電部３ｈとを電気的に接続し、接続導体部３ｎは集電部３ｅと集電部３ｉとを電気的に接続する。
【００４２】
集電部３ａ〜３ｅの各々には、端辺方向に沿って複数（本例では４個）の開口Ｈ１１が形成される。また、集電部３ｆ〜３ｊの各々には、端辺方向に沿って複数（本例では４個）の開口Ｈ１２が形成される。
【００４３】
引き出し導体部３ｏは、集電部３ａの外側の短辺から第３絶縁部２ｃ上に直線状に延びるように形成される。引き出し導体部３ｐは、集電部３ｊの外側の短辺から第４絶縁部２ｄ上に直線状に延びるように形成される。
【００４４】
集電部３ａおよび引き出し導体部３ｏの一部を覆うように、第１絶縁部２ａ上に被覆層６ａが形成される。これにより、引き出し導体部３ｏの先端部は被覆層６ａに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部３ｏの部分を、引き出し電極５ａと称する。また、集電部３ｂ〜３ｅをそれぞれ覆うように、第１絶縁部２ａ上に被覆層６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅが形成される。集電部３ａ〜３ｅの開口Ｈ１１内において、被覆層６ａ〜６ｅは第１絶縁部２ａの上面に接する。
【００４５】
集電部３ｊおよび引き出し導体部３ｐの一部を覆うように、第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｊが形成される。これにより、引き出し導体部３ｐの先端部は被覆層６ｊに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部３ｐの部分を、引き出し電極５ｂと称する。また、集電部３ｆ〜３ｉをそれぞれ覆うように、第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｆ，６ｇ，６ｈ，６ｉが形成される。集電部３ｆ〜３ｊの開口Ｈ１２内において、被覆層６ｆ〜６ｊは第２絶縁部２ｂの上面に接する。
【００４６】
接続導体部３ｋ〜３ｎをそれぞれ覆うように、第１絶縁部２ａ上および第２絶縁部２ｂ上に被覆層６ｋ，６ｌ，６ｍ，６ｎが形成される。被覆層６ａ〜６ｎは、導電材料を含有した樹脂組成物からなる。
【００４７】
樹脂組成物として、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂もしくはポリエステル樹脂、またはこれらの樹脂を２種類以上混合した樹脂を用いることができる。
【００４８】
樹脂組成物は、温度４０℃でかつ相対湿度９０％の環境において１５０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の透湿度を有することが好ましい。また、樹脂組成物は、６０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを有することが好ましい。
【００４９】
一方、導電材料として、例えば金（Ａｕ）、銀もしくはナノ銀粒子等の金属材料、カーボンブラック、黒鉛もしくはカーボンナノチューブ等の炭素材料、またはポリチオフェンもしくはポリアニリン等の導電性高分子材料を用いることができ、またはこれらの材料を２種類以上混合した材料を用いることができる。
【００５０】
（２）ＦＰＣ基板の製造方法
次に、図１に示したＦＰＣ基板１の製造方法を説明する。図２、図３および図４は、ＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図であり、各断面図は図１のＡ−Ａ線における断面図に相当する。
【００５１】
まず、図２（ａ）に示すように、キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材を用意する。キャリア層８としては、粘着剤層を有するＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂または粘着剤層を有するステンレス等の金属薄膜を用いることができる。また、導体層３０は例えば銅からなる。キャリア層８と導体層３０とは、ラミネータにより貼り付けられていてもよいし、プレス機により圧着されていてもよい。キャリア層８と導体層３０との圧着は、加温された状態または真空の状態で行われてもよい。
【００５２】
次に、図２（ｂ）に示すように、導体層３０上に例えば、感光性ドライフィルムレジスト等によりレジスト膜２２を形成する。図２（ｃ）に示すように、レジスト膜２２を所定のパターンで露光した後、現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成する。
【００５３】
次に、図２（ｄ）に示すように、塩化第二鉄を用いてエッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。次に、図３（ｅ）に示すように、エッチングレジストパターン２２ａを剥離液により除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成される。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成される。
【００５４】
スパッタリング、蒸着またはめっき等の他の方法によりキャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを形成してもよい。
【００５５】
続いて、図３（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に接着剤層前駆体７ｐを塗布する。次に、図３（ｇ）に示すように、所定のマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光した後、現像することにより、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上に、所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成する。
【００５６】
ここで、接着剤層前駆体７ｐがネガ型の感光性を有する場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光する。接着剤層前駆体７ｐがポジ型の感光性を有する場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光する。
【００５７】
また、接着剤層前駆体７ｐがポジ型の感光性を有する場合、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）側から露光を行ってもよい。この場合、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐをマスクパターンとして用いることができるので、別途マスクパターンを用いなくてよい。これにより、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。なお、ＰＥＴからなるキャリア層８は露光光を透過するため、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）側からの露光の妨げとならない。
【００５８】
集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上を除く部分に塗布された接着剤層前駆体７ｐの部分を、薬液、レーザ光またはプラズマ処理により除去してもよい。この場合、接着剤層前駆体７ｐの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。同様に、スクリーン印刷またはペーストディスペンサにより、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上のみに接着剤層前駆体７ｐを塗布してもよい。この場合も、接着剤層前駆体７ｐの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。
【００５９】
次に、図３（ｈ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図４（ｉ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【００６０】
次に、図４（ｊ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図４（ｊ）および図４（ｋ）の断面図は、図４（ｉ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００６１】
最後に、図４（ｋ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００６２】
なお、キャリア層８の厚みは１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、２５μｍ以上１５０μｍ以下であることがさらに好ましい。キャリア層８の厚みが１μｍ以上であるとキャリア層８の取り扱い性が向上し、キャリア層８の厚みが５００μｍ以下であるとキャリア層８のフレキシブル性が向上する。
【００６３】
導体層３０の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。導体層３０の厚みが１μｍ以上であると抵抗等の電気特性が向上し、導体層３０の厚みが１００μｍ以下であると導体層３０の取り扱い性が向上する。
【００６４】
接着剤パターン７の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。接着剤パターン７の厚みが１μｍ以上であると接着剤の接着力が向上し、接着剤パターン７の厚みが１００μｍ以下であると接着剤パターン７の取り扱い性が向上する。
【００６５】
ベース絶縁層２の厚みは１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２００μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下であることがさらに好ましい。ベース絶縁層２の厚みが１０μｍ以上であるとベース絶縁層２の取り扱い性が向上し、ベース絶縁層２の厚みが５００μｍ以下であるとベース絶縁層２のコストが低下する。
【００６６】
図２〜図４では、サブトラクティブ法によるＦＰＣ基板１の製造方法を示したが、これに限定されず、セミアディティブ法等の他の製造方法を用いてもよい。
【００６７】
（３）ＦＰＣ基板を用いた燃料電池
図５は、ＦＰＣ基板１を用いた燃料電池１００の外観斜視図である。図６は、燃料電池１００内における作用を説明するための図であり、図５の燃料電池１００のＢ−Ｂ線から見た断面図である。
【００６８】
図５および図６に示すように、燃料電池１００は直方体状のケーシング４０を有する。図５では、ケーシング４０を破線により示している。ケーシング４０は、上面部４１、下面部４２、一方の側面部４３および他方の側面部４４を有する。図６には、残りの一対の側面部は図示されない。
【００６９】
ＦＰＣ基板１は、被覆層６ａ〜６ｎが形成された一面を内側にして図１の屈曲部Ｂ１に沿って折曲された状態でケーシング４０の上面部４１および下面部４２により狭持される。
【００７０】
ＦＰＣ基板１の引き出し電極５ａ，５ｂは、ケーシング４０の一方の側面部４３から外側に引き出される。引き出し電極５ａ，５ｂには、種々の外部回路の端子が電気的に接続される。
【００７１】
ケーシング４０内において、複数（本実施の形態では５個）の電極膜３５が、折曲されたＦＰＣ基板１の被覆層６ａと被覆層６ｆとの間、被覆層６ｂと被覆層６ｇとの間、被覆層６ｃと被覆層６ｈとの間、被覆層６ｄと被覆層６ｉとの間、および被覆層６ｅと被覆層６ｊとの間にそれぞれ配置される（図１（ａ）参照）。これにより、複数の電極膜３５が直列接続される。
【００７２】
各電極膜３５は空気極３５ａ、燃料極３５ｂおよび電解質膜３５ｃからなる。空気極３５ａは電解質膜３５ｃの一面に形成され、燃料極３５ｂは電解質膜３５ｃの他面に形成される。複数の電極膜３５の空気極３５ａはＦＰＣ基板１の被覆層６ｆ〜６ｊにそれぞれ対向し、複数の電極膜３５の燃料極３５ｂはＦＰＣ基板１の被覆層６ａ〜６ｅにそれぞれ対向する。
【００７３】
ケーシング４０内の上面部４１上には、集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１２に対応するように複数の開口Ｈ４１が形成される。電極膜３５の空気極３５ａには、ケーシング４０の複数の開口Ｈ４１、通気性を有するＦＰＣ基板１のベース絶縁層２、および集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１２を通して空気が供給される。
【００７４】
ケーシング４０の下面部４２には、ベース絶縁層２の第１絶縁部２ａ（図１（ａ）参照）に接するように燃料収容室５０が設けられる。燃料収容室５０には、燃料供給管５１の一端が接続される。燃料供給管５１の他端は、ケーシング４０の他方の側面部４４を通って外部の図示しない燃料供給部に接続される。燃料供給部から燃料供給管５１を通して燃料収容室５０内に燃料が供給される。各電極膜３５の燃料極３５ｂには、通気性を有するＦＰＣ基板１のベース絶縁層２および集電部３ｆ〜３ｊの複数の開口Ｈ１１を通して燃料が供給される。なお、本実施の形態では、燃料としてメタノールを用いる。
【００７５】
上記の構成においては、複数の燃料極３５ｂにおいて、メタノールが水素イオンと二酸化炭素とに分解され、電子が生成される。生成された電子は、ＦＰＣ基板１の集電部３ａ（図１参照）から引き出し電極５ａに導かれる。メタノールから分解された水素イオンは、電解質膜３５ｃを透過して空気極３５ａに達する。複数の空気極３５ａにおいて、引き出し電極５ｂから集電部３ｊに導かれた電子を消費しつつ水素イオンと酸素とが反応し、水が生成される。このようにして、引き出し電極５ａ，５ｂに接続された外部回路に電力が供給される。
【００７６】
（４）効果
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成時にはベース絶縁層２が存在せず、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成後に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２が接合される。そのため、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形成に伴ってベース絶縁層２がエッチング液等の薬液により溶解または変形することがない。それにより、ベース絶縁層２に用いられる材料の種類が限定されない。その結果、用途に応じた種々の材料を用いてベース絶縁層２を形成することができる。
【００７７】
また、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２が接合されるので、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐがベース絶縁層２から剥離することが確実に防止される。
【００７８】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１おいては、ベース絶縁層２が通気性を有する多孔質材料からなるので、ベース絶縁層２を燃料電池１００の気液分離膜として用いることができるとともに、ＦＰＣ基板１を燃料電池１００の電極として用いることが可能となる。
【００７９】
また、接着剤パターン７は集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一の形状を有するので、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐから露出するベース絶縁層２の領域には接着剤パターン７が形成されない。これにより、ＦＰＣ基板１のフレキシブル性の低下を防止することができる。さらに、空気および気化したメタノールがベース絶縁層２を透過して空気極３５ａおよび燃料極３５ｂに供給される際に、空気および気化したメタノールの透過が接着剤層により妨げられない。
【００８０】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うようにベース絶縁層２上に被覆層６ａ〜６ｎが形成され、かつベース絶縁層２と集電部３ａ〜３ｊとの間、ベース絶縁層２と接続導体部３ｋ〜３ｎとの間およびベース絶縁層２と引き出し導体部３ｏ，３ｐとの間に接着剤パターン７が形成される。これにより、メタノール等の酸が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接触することが防止される。その結果、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの腐食が防止される。
【００８１】
また、本実施の形態においては、接着剤層前駆体７ｐが感光性を有するので、露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターン７を形成することができる。
【００８２】
さらに、本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法によれば、透明材料からなるベース絶縁層２を用いることもできる。この場合には、ＦＰＣ基板１を太陽電池の電極として用いることが可能となる。
【００８３】
［２］第２の実施の形態
第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。図７および図８は、第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。
【００８４】
まず、図７（ａ）に示すように、キャリア層８と導体層３０とからなる二層基材を用意する。次に、図７（ｂ）に示すように、導体層３０上に接着剤層前駆体７ｐを塗布する。続いて、図７（ｃ）に示すように、図１（ａ）の集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと同一の形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐを露光した後、現像することにより、導体層３０上に所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成する。
【００８５】
次に、図７（ｄ）に示すように、塩化第二鉄を用いて接着剤パターン７から露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成される。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成される。
【００８６】
次に、図８（ｅ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図８（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【００８７】
次に、図８（ｇ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図８（ｇ）および図８（ｈ）の断面図は、図８（ｆ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００８８】
最後に、図８（ｈ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００８９】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、キャリア層８と導体層３０との積層構造を有する基材の導体層３０上に接着剤パターン７が形成される。また、接着剤パターン７をマスクとして用いて導体層３０の露出した領域が除去される。これにより、別途マスクパターンを用意することなく集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを形成することができる。その結果、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００９０】
また、接着剤パターン７が感光性を有するので、露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターン７を形成することができる。
【００９１】
［３］第３の実施の形態
第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。本実施の形態において、接着剤パターン７は感光性を有しない。図９は、第３の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法は、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法の図２（ａ）の工程から図３（ｆ）の工程と同様の工程を有する。
【００９２】
図３（ｆ）の工程の次に、図９（ａ）に示すように、接着剤層前駆体７ｐを乾燥させることにより接着剤層７ｑを形成し、接着剤層７ｑを介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。続いて、図９（ｂ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。その後、図９（ｃ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐから露出する接着剤層７ｑの領域をプラズマ処理により除去する。このようにして、接着剤パターン７を形成する。
【００９３】
次に、図９（ｄ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図９（ｄ）および図９（ｅ）の断面図は、図９（ｃ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【００９４】
最後に、図９（ｅ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【００９５】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法おいては、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐをマスクとして用いることができるので、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターン７を形成することができる。その結果、ＦＰＣ基板１の製造工程および製造コストを削減することができる。
【００９６】
また、接着剤パターン７がプラズマ処理により形成されるので、接着剤層前駆体７ｐが感光性であるか非感光性であるかにかかわらず、接着剤パターン７を容易に形成することができる。
【００９７】
［４］第４の実施の形態
第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。本実施の形態において、接着剤パターン７は感光性を有しない。図１０は、第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。
【００９８】
まず、図１０（ａ）に示すように、粘着剤層を有するキャリア層８、導体層３０、および接着剤層前駆体２２を用意する。接着剤層前駆体２２はセパレータ２３上に形成されている。
【００９９】
次に、図１０（ｂ）に示すように、キャリア層８上に導体層３０を貼り合わせるとともに導体層３０上に接着剤層前駆体２２を貼り合わせる。キャリア層８、導体層３０および接着剤層前駆体２２は、ラミネータにより貼り合わせてもよく、またはプレス機によって圧着することにより貼り合わせてもよい。その後、接着剤層前駆体２２からセパレータ２３を剥離する。接着剤層前駆体２２は、上記第１〜第３の実施の形態と同様に、塗布により導体層３０上に形成されてもよい。
【０１００】
次に、図１０（ｃ）に示すように、金型を用いて接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８の複数箇所を打ち抜くことにより、複数の貫通孔ＨＡを形成する。これにより、導体層３０に開口Ｈ１１，Ｈ１２が形成される。また、金型を用いて集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）の形状に沿った切り込みＴＨを接着剤層前駆体２２および導体層３０に形成する。この場合、共通の金型を用いて貫通孔ＨＡの形成と切り込みＴＨの形成とを同時に行ってもよく、または異なる金型を用いて貫通孔ＨＡの形成と切り込みＴＨの形成とを順に行ってもよい。切り込みＴＨは、キャリア層８の粘着剤層に達するように形成されることが好ましい。
【０１０１】
次に、図１０（ｄ）に示すように、切り込みＴＨによって分離された不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去する。これにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）および接着剤パターン７が形成される。なお、図１０（ｃ）の工程において、切り込みＴＨがキャリア層８の粘着剤層に達するように形成されることにより、不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去しやすくなる。
【０１０２】
次に、図１１（ｅ）に示すように、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ上にベース絶縁層２を接合する。その後、図１１（ｆ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離する。
【０１０３】
次に、図１１（ｇ）に示すように、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを覆うように、ベース絶縁層２上に塗布またはラミネートにより被覆層６ａ〜６ｎ（図１（ａ）参照）を形成する。ここで、引き出し電極５ａ，５ｂ（図１（ａ）参照）が被覆層６ａ，６ｊから露出する。なお、図１１（ｇ）および図１１（ｈ）の断面図は、図１１（ｆ）の断面図とは上下を逆にして示している。
【０１０４】
最後に、図１１（ｈ）に示すように、ベース絶縁層２を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層２、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび被覆層６ａ〜６ｎを備えるＦＰＣ基板１が完成する。
【０１０５】
本実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法においては、金型による貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨの形成により、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成される。この場合、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、ＦＰＣ基板１の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【０１０６】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成された後に、ベース絶縁層２が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接合されるので、金型による貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨの形成時に、ベース絶縁層２が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。
【０１０７】
なお、図１０（ｃ）の工程で接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いて貫通孔ＨＡを形成する代わりに、図１０（ｃ）の工程で接着剤層前駆体２２および導体層３０の対応箇所に円環状の切り込みを形成し、図１０（ｄ）の工程でその円環状の切り込みの内側における接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去してもよい。ただし、この場合には、複数の対応箇所において、接着剤層前駆体２２および導体層３０の除去処理が必要になる。製造工程の簡略化のためには、接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いて貫通孔ＨＡを形成することが好ましい。
【０１０８】
一方、図１０（ｃ）の工程で集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２および導体層３０に切り込みＴＨを形成し、図１０（ｄ）の工程で不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去する代わりに、図１０（ｃ）の工程で集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８を打ち抜いてもよい。ただし、この場合には、接着剤層前駆体２２、導体層３０およびキャリア層８が複数に分離する。取り扱いを容易にするためには、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの形状に沿うように接着剤層前駆体２２および導体層３０に切り込みＴＨを形成し、次工程で不要部分を除去することが好ましい。
【０１０９】
［５］第５の実施の形態
第５の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法について、第４の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法と異なる点を説明する。
【０１１０】
本実施の形態においては、図１０（ｃ）の工程において、金型を用いて貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨを形成する代わりに、レーザにより貫通孔ＨＡおよび切り込みＴＨを形成する。その後、図１０（ｄ）に示すように、切り込みＴＨによって分離された不要な接着剤層前駆体２２および導体層３０の部分を除去することにより、キャリア層８上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）および接着剤パターン７が形成される。
【０１１１】
本実施の形態に係る製造方法においても、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、ＦＰＣ基板１の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。
【０１１２】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎ、引き出し導体部３ｏ，３ｐおよび接着剤パターン７が形成された後に、ベース絶縁層２が集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐに接合されるので、レーザによる貫通孔ＨＡの形成および切り込みＴＨの形成時に、ベース絶縁層２が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。
【０１１３】
［６］他の実施の形態
上記実施の形態において、ベース絶縁層２の材料として多孔質性のｅＰＴＦＥが用いられたが、これに限定されない。例えば、ベース絶縁層２の材料として、ｅＰＴＦＥに代えて、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリメチルメタクリレートポリマー樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂もしくはポリウレタン樹脂またはこれらの樹脂を多孔質化したフィルムを用いてもよい。
【０１１４】
また、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの材料として銅が用いられたが、これに限定されない。例えば、銅に代えて金（Ａｕ）、銀、もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。
【０１１５】
上記実施の形態において、ＦＰＣ基板１は５対の集電部（集電部３ａ，３ｆ、集電部３ｂ，３ｇ、集電部３ｃ，３ｈ、集電部３ｄ，３ｉおよび集電部３ｅ，３ｊ）を有するが、これに限定されない。ＦＰＣ基板１の集電部の数は４対以下であってもよいし、６対以上であってもよい。これにより、任意の数の電極膜３５を直列接続することができる。また、ＦＰＣ基板１が１対の集電部を有してもよい。この場合、接続導体部３ｋ〜３ｎは設けられない。
【０１１６】
［７］請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【０１１７】
上記実施の形態においては、キャリア層８が支持層の例であり、導体層３０が導体層の例であり、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐが導体パターンの例であり、ベース絶縁層２が絶縁層の例であり、ＦＰＣ基板１が配線回路基板の例であり、接着剤層前駆体７ｐが接着剤層の例であり、接着剤パターン７が接着剤パターンの例である。
【０１１８】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【０１１９】
［８］実施例
（１）実施例および比較例
実施例１〜４および比較例１では、上記実施の形態に基づいてＦＰＣ基板１を製造した。以下、実施例１〜４および比較例１におけるＦＰＣ基板１の製造方法を説明する。
【０１２０】
実施例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。エポキシ当量１９０のビフェニル型エポキシ樹脂４０重量部、エポキシ当量４５００のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂６０重量部および光酸発生剤である４，４−ビス［ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルフィニオ］フェニルスルフィドビス（ヘキサフルオロアンチモネート）９重量部をジオキサンに溶解することにより、固形分濃度が５０重量％である接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはネガ型の感光性を有する。
【０１２１】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例１のＦＰＣ基板１を製造した。実施例１のＦＰＣ基板１においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを温度９０℃、圧力０．４ＭＰａおよび速度１ｍ／ｍｉｎの条件で塗布した。
【０１２２】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度９０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、重量比が１対１である水とエタノールとの混合溶媒にＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド）を１．２％添加した現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１２３】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度１５０℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１２４】
実施例２における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。酸二無水物成分であるエチレングリコールビストリメリット酸二無水物６７重量％、ジアミン成分である１，１２−ジアミノデカン３２重量％および１，３−ビス−（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン１重量％をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中に溶解させ、室温で５時間反応させることによりポリイミド前駆体溶液を調製した。ここで、酸二無水物成分およびジアミン成分の合計の濃度は３０重量％である。このポリイミド前駆体溶液に、感光剤として１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンを添加した。ここで、添加した感光剤の濃度は、溶液の固形分に対して１５重量％である。その後、感光剤を均一に溶液に溶解させることにより感光性ポリイミドからなる接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはネガ型の感光性を有する。
【０１２５】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例２のＦＰＣ基板１を製造した。実施例２のＦＰＣ基板においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行った。
【０１２６】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度１３５℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、Ｎ−メチル−２−ピロリドンからなる現像液を用い、６分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１２７】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度２００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度２００℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１２８】
実施例３における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は、実施例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法と同様である。
【０１２９】
第２の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例３のＦＰＣ基板１を製造した。実施例３のＦＰＣ基板１においては、図７（ｂ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを温度９０℃、圧力０．４ＭＰａおよび速度１ｍ／ｍｉｎの条件で塗布した。
【０１３０】
続いて、図７（ｃ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体７ｐの上面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接しない面）から８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度９０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、重量比が１対１である水とエタノールとの混合溶媒にＴＭＡＨを１．２％添加した現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１３１】
図８（ｅ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度１５０℃で３０分間の硬化処理を行った。最後に、図８（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１３２】
実施例４における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。酸二無水物成分である３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびジアミン成分である４，４’−ジアミノジフェニルスルホンを略等モル量Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中に溶解させ、室温で２４時間反応させることによりポリイミド前駆体溶液を調製した。ここで、酸二無水物成分およびジアミン成分の合計の濃度は３０重量％である。このポリイミド前駆体溶液に、下記式（１）で表わされるビニルエーテル化合物を添加および混合した。ここで、添加したビニルエーテル化合物の量は、溶液の固形分１００重量部に対して４０重量部である。次に、このポリイミド前駆体溶液に、光分解性プロトン発生剤であるジフェニルイオドニウム−８−アニリノナフタレン−１−スルホネートを添加および混合した。ここで、添加した光分解性プロトン発生剤の量は、溶液の固形分１００重量部に対して１０重量部である。その後、ビニルエーテル化合物および光分解性プロトン発生剤を均一に溶液に溶解させることにより感光性ポリイミドからなる接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐはポジ型の感光性を有する。
【０１３３】
【化１】
【０１３４】
第１の実施の形態に係るＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて実施例４のＦＰＣ基板１を製造した。実施例４のＦＰＣ基板１においては、図３（ｆ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐの上面（キャリア層８と接しない面）を含む全面に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行った。
【０１３５】
続いて、図３（ｇ）に示す工程で、接着剤層前駆体７ｐの下面（集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐと接する面）から３０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、温度１１０℃で１０分間の硬化処理を行った。その後、１．５重量％のＴＭＡＨ水溶液からなる現像液を用い、９分間現像を行うことにより所定のパターンを有する接着剤パターン７を形成した。
【０１３６】
次に、図３（ｈ）に示す工程で、接着剤パターン７を介して集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐを、温度２００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に接合し、温度２００℃で１２０分間の硬化処理を行った。最後に、図４（ｉ）に示す工程で、集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐからキャリア層８を剥離した。
【０１３７】
比較例１における接着剤層前駆体７ｐの調製方法は以下の通りである。ＭＥＫ（Methyl Ethyl Ketone：メチルエチルケトン）に溶解させたエポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製ｊＥＲ−１００７）８０重量部およびエポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製ＹＬ−７４１０）２０重量部、硬化剤である酸無水物（新日本理化株式会社製ＭＨ−７００）８重量部ならびに触媒であるイミダゾール（四国化成工業株式会社製２Ｅ４ＭＺ）２重量部を混合し、接着剤層前駆体７ｐを調製した。この接着剤層前駆体７ｐは感光性を有しない。
【０１３８】
図１２は、比較例１におけるＦＰＣ基板１の製造方法を説明するための工程断面図である。図１２に示すＦＰＣ基板１の製造方法に基づいて比較例１のＦＰＣ基板１を製造した。比較例１のＦＰＣ基板１においては、図１２（ａ）に示すように、ｅＰＴＦＥ（日東電工株式会社製ＮＴＦ−１１２２）からなるベース絶縁層２に上記の接着剤層前駆体７ｐを塗布し、温度１００℃で１０分間の乾燥を行うことにより接着剤パターン７を形成した。
【０１３９】
次に、図１２（ｂ）に示すように、ベース絶縁層２上に接着剤パターン７を介して導体層３０を温度１００℃および圧力５ＭＰａの条件で３０分間圧着した。続いて、図１２（ｃ）に示すように、導体層３０上に感光性ドライフィルムレジストによりレジスト膜２２を形成した。その後、図１２（ｄ）に示すように、レジスト膜２２を所定のパターンで露光および現像した後、現像することによりエッチングレジストパターン２２ａを形成した。
【０１４０】
次に、図１２（ｅ）に示すように、塩化第二鉄を用いてエッチングレジストパターン２２ａから露出する導体層３０の領域をエッチングにより除去した。続いて、図１２（ｆ）に示すように、エッチングレジストパターン２２ａを剥離液により除去した。これにより、ベース絶縁層２上に集電部３ａ〜３ｊ、接続導体部３ｋ〜３ｎおよび引き出し導体部３ｏ，３ｐ（図１（ａ）参照）が形成された。また、集電部３ａ〜３ｅには複数の開口Ｈ１１が形成され、集電部３ｆ〜３ｊには複数の開口Ｈ１２が形成された。
【０１４１】
（２）ＦＰＣ基板の表面の汚れおよび不具合の検査
実施例１〜４および比較例１の各ＦＰＣ基板１を光学顕微鏡により観察し、ＦＰＣ基板１の表面の汚れおよび不具合を検査した。ここで、ＦＰＣ基板１の表面の不具合とは、ベース絶縁層２が変形していること、またはＦＰＣ基板１の製造工程における薬液がベース絶縁層２に残存していることである。
【０１４２】
実施例１〜４のＦＰＣ基板１の表面には汚れおよび不具合が確認されなかった。これに対し、比較例１のＦＰＣ基板１の表面には汚れおよび不具合が確認された。
【０１４３】
実施例１〜４および比較例１の結果から、本実施の形態に係る製造方法により製造されるＦＰＣ基板１においては、表面に汚れおよび不具合の発生が防止されることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明は、種々の配線回路基板の製造に有効に利用できる。
【符号の説明】
【０１４５】
１ ＦＰＣ基板
２ ベース絶縁層
２ａ 第１絶縁部
２ｂ 第２絶縁部
２ｃ 第３絶縁部
２ｄ 第４絶縁部
３ａ〜３ｊ 集電部
３ｋ〜３ｎ 接続導体部
３ｏ，３ｐ 引き出し導体部
５ａ，５ｂ 引き出し電極
６ａ〜６ｎ 被覆層
７ 接着剤パターン
７ｐ 接着剤層前駆体
７ｑ 接着剤層
８ キャリア層
２２ レジスト膜
２２ エッチングレジストパターン
３０ 導体層
３５ 電極膜
３５ａ 空気極
３５ｂ 燃料極
３５ｃ 電解質膜
４０ ケーシング
４１ 上面部
４２ 下面部
４３，４４ 側面部
５０ 燃料収容室
Ｂ１ 屈曲部
Ｈ１１，Ｈ１２，Ｈ４１ 開口
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンを形成するステップと、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップと、
前記導体パターンから前記支持層を剥離するステップとを含むことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
【請求項２】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層を加工することにより前記支持層の前記一面上に前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターン上に前記所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップとを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項３】
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターンを覆うように前記支持層上に接着剤層を形成するステップと、
前記接着剤層を加工することにより前記接着剤パターンを形成するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項２記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項４】
前記接着剤層は感光性を有し、
前記接着剤層を加工するステップは、
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより前記接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項３記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項５】
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うステップは、
前記導体パターンをマスクとして用いて光を前記支持層を通して前記接着剤層に照射するステップを含むことを特徴とする請求項４記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項６】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層上に前記所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、
前記接着剤パターンをマスクとして用いて前記導体層の露出した領域を除去することにより前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項７】
前記接着剤層は感光性を有し、
前記導体層上に前記接着剤パターンを形成するステップは、
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより前記接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項６記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項８】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層を加工することにより前記支持層の前記一面上に前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターン上に接着剤層および前記絶縁層の積層構造を形成するステップを含み、
前記方法は、
前記支持層を剥離した後、前記導体パターンから露出する前記接着剤層の領域を除去することにより前記所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項９】
前記導体パターンから露出する前記接着剤層の領域を除去するステップは、プラズマを用いて前記接着剤層の前記領域を除去するステップを含むことを特徴とする請求項８記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１０】
前記導体パターンを形成するステップは、ウェットエッチングにより導体パターンをエッチングするステップを含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１１】
前記絶縁層は多孔質材料を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層、導体層および接着剤層の積層構造を形成するステップと、
前記積層構造から前記導体層および前記接着剤層の不要な部分を分離することにより前記支持層の前記一面上に前記所定のパターンを有する前記導体パターンを形成するとともに前記導体パターン上に前記所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップとを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１】
支持層の一面上に所定のパターンを有する導体層からなる導体パターンを形成するステップと、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップと、
前記導体パターンから前記支持層を剥離するステップとを含むことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
【請求項２】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層を加工することにより前記支持層の前記一面上に前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターン上に前記所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップとを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項３】
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターンを覆うように前記支持層上に接着剤層を形成するステップと、
前記接着剤層を加工することにより前記接着剤パターンを形成するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項２記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項４】
前記接着剤層は感光性を有し、
前記接着剤層を加工するステップは、
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより前記接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項３記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項５】
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うステップは、
前記導体パターンをマスクとして用いて光を前記支持層を通して前記接着剤層に照射するステップを含むことを特徴とする請求項４記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項６】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層上に前記所定のパターンを有する接着剤層からなる接着剤パターンを形成するステップと、
前記接着剤パターンをマスクとして用いて前記導体層の露出した領域を除去することにより前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項７】
前記接着剤層は感光性を有し、
前記導体層上に前記接着剤パターンを形成するステップは、
前記接着剤層に露光処理および現像処理を行うことにより前記接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項６記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項８】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層と導体層との積層構造を有する基材を用意するステップと、
前記導体層を加工することにより前記支持層の前記一面上に前記導体パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記導体パターン上に接着剤層および前記絶縁層の積層構造を形成するステップを含み、
前記方法は、
前記支持層を剥離した後、前記導体パターンから露出する前記接着剤層の領域を除去することにより前記所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項９】
前記導体パターンから露出する前記接着剤層の領域を除去するステップは、プラズマを用いて前記接着剤層の前記領域を除去するステップを含むことを特徴とする請求項８記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１０】
前記導体パターンを形成するステップは、ウェットエッチングにより導体パターンをエッチングするステップを含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１１】
前記絶縁層は多孔質材料を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の配線回路基板の製造方法。
【請求項１２】
前記導体パターンを形成するステップは、
前記支持層、導体層および接着剤層の積層構造を形成するステップと、
前記積層構造から前記導体層および前記接着剤層の不要な部分を分離することにより前記支持層の前記一面上に前記所定のパターンを有する前記導体パターンを形成するとともに前記導体パターン上に前記所定のパターンを有する接着剤パターンを形成するステップとを含み、
前記導体パターン上に絶縁層を接合するステップは、
前記接着剤パターンを介して前記導体パターン上に前記絶縁層を接合するステップとを含むことを特徴とする請求項１記載の配線回路基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１２−４５２３（Ｐ２０１２−４５２３Ａ）
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１８５２６７（Ｐ２０１０−１８５２６７）
【出願日】平成２２年８月２０日（２０１０．８．２０）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月５日（２０１２．１．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年８月２０日（２０１０．８．２０）
【出願人】（０００００３９６４）日東電工株式会社 (5,557)
【Ｆターム（参考）】
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