防眩性フィルム、防眩性偏光板及び画像表示装置
【課題】優れた防眩性等を示し、さらに気泡の発生を防止した防眩性フィルムを提供すること。
【解決手段】微細凹凸表面を有する防眩層１０１が、透明支持体１０４上に形成されている防眩性フィルム１であって、前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、前記塗工液の沈降度が、適切な範囲に制限される。
【解決手段】微細凹凸表面を有する防眩層１０１が、透明支持体１０４上に形成されている防眩性フィルム１であって、前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、前記塗工液の沈降度が、適切な範囲に制限される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルム及びその製法に関する。また、それら防眩性フィルムを用いた防眩性偏光板や、画像表示装置に関係する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、一般に、画像表示装置の表面に防眩性フィルムが配置される。
【０００３】
このような防眩性フィルムとしては、透明支持体上に、特に鋳型を用いることなく、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥、硬化して防眩層を形成したもの（特許文献１〜２）や、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥し、次いで賦型フィルムで凹凸形状を転写しながら硬化して防眩層を形成したもの（特許文献３）が、知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１８７０６号公報
【特許文献２】特開平１０−２０１０３号公報
【特許文献３】特開２００７−２５６９６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
防眩性フィルムには、防眩性が求められる他、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」の発生を抑制することなどが要望されている。しかしながら、前述した公知の防眩性フィルムは、それらの点で必ずしも十分なものとはいえなかった。また、特許文献３に記載された防眩性フィルムのように、透明支持体上に、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥し、次いで賦型フィルムで凹凸形状を転写しながら硬化する場合において、使用する塗工液によっては得られる防眩性フィルムに気泡が生じたり、塗工液を供給するダイなどに微粒子が蓄積し、これが製品や製造装置を汚染したりする問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つは、以下の構成を備えるものである。
微細凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルムであって、
前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、
前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、
下記式（Ａ）で示される前記塗工液における微粒子の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする防眩性フィルム。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【０００７】
また、本発明の１つは、前記防眩性フィルムを製造する方法であって、
前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程、
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程、
前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程、及び、
前記硬化工程の後、塗工面から鋳型を剥離する剥離工程
を含む防眩性フィルムの製造方法を提供するものである。
【０００８】
くわえて、本発明は、前記防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合されている防眩性偏光板を提供するものであり、さらに、前記防眩性偏光板と、画像表示素子とを備え、前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される画像表示装置を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、優れた防眩性を示しながら、「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止し、さらに気泡の発生を防止した防眩性フィルムを、安定した品質で製造して提供することができる。また、本発明の防眩性フィルムは、防眩性偏光板や画像表示装置の部材として好適に使用しうる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の防眩性フィルムの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の防眩性フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。
【図３】微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。
【図４】防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。
【図５】標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。
【図６】本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。
【図７】図６に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた標高のエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示したものである。
【図８】図７に示したエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。
【図９】本発明の防眩性フィルムを作製するために用いることができるパターンである画像データの一部を示す図である。
【図１０】図９に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示した図である。
【図１１】図１０に示したエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。
【図１２】本発明の防眩性フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図１３】本発明の防眩性フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図１４】第１エッチング工程によって形成された凹凸面が第２エッチング工程によって鈍る状態を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜防眩性フィルム＞
図１は、本発明の防眩性フィルムの一例を模式的に示す断面図である。本発明の防眩性フィルムは、図１に示される例のように、透明支持体１０４と、透明支持体１０４上に積層された防眩層１０１とを備える。防眩層１０１は、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物１０２と、微粒子１０３を含有する。防眩層１０１における透明支持体１０４とは反対側の表面は、微細な凹凸表面からなる。以下、本発明の防眩性フィルムについてより詳細に説明する。
【００１２】
透明支持体は、実質的に光学的に透明なフィルムである限り特に制限されず、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。透明支持体の厚みは特に制限されないが、通常、１０〜２５０μｍであり、好ましくは２０〜１２５μｍである。
【００１３】
防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いで凹凸形状を有する鋳型の該凹凸面を押し付けながら硬化処理することにより、形成される。ここでいう活性エネルギー線硬化型樹脂とは、活性エネルギー線の照射により重合、硬化する樹脂であり、たとえば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものであることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。活性エネルギー線硬化性樹脂は市販品であってもよく、多くの場合は、活性エネルギー線硬化性樹脂に、重合開始剤や、その他必要に応じて添加された界面活性剤等の添加剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として市販されている。
【００１４】
多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、たとえば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
【００１５】
多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。
【００１６】
これらから、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００１７】
また、ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応によって得ることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。
【００１８】
また、ポリエステル（メタ）アクリレートとして好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルであって、多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【００１９】
以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中で、硬化物（被膜）の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物、ヘキサメチレンジイソシアネートと、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、厚膜化したとき可撓性（可とう性：柔軟性を示す性質）が良い点からウレタンアクリレート化合物を使用することが好ましい。また、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。
【００２０】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類、スチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、フマル酸ジｔ−ブチル、フマル酸ジｎ−ブチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸ジエチル、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド等を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独または２種類以上を混合して用いられる。
【００２１】
また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、防眩層の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーとしては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、及び、エポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマー等である。
【００２２】
また、その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。ポリイソシアネートとしてはヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、例えば、多価アルコールとして１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。
【００２３】
さらに、その他の重合性オリゴマーの例としては、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものとが挙げられる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものが挙げられる。
【００２４】
以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテル、及び、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルのそれぞれ水酸基において、イソシアネート類と反応させて得られる化合物が挙げられる。水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルであって、多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で挙げられたものである。水酸基含有ポリエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド及び／またはε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルであって、多価アルコールとしては、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものである。水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとして好ましいものは、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで挙げられたものである。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。
【００２５】
これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。なお、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、前記単官能（メタ）アクリレート系化合物、及び、重合性オリゴマーも、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。
【００２６】
前記塗工液は、重合開始剤を含有するのが好ましい。ここでいう重合開始剤としては、たとえば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１−（４−イソプロピルフェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、カルバゾール、キサントン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、トリフェニルアミン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、３−メチルアセトフェノン、３，３’，４，４’−テトラｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、およびそれらの誘導体などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で使用してもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。
【００２７】
重合開始剤は色素増感剤と組み合わせて用いてもよい。色素増感剤としては、たとえば、キサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリンなどが挙げられる。重合開始剤と色素増感剤との組み合わせとしては、たとえば、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ／日本油脂（株）製）とキサンテンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとチオキサンテンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとクマリンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとケトクマリンとの組み合わせなどが挙げられる。
【００２８】
微粒子は、有機微粒子、無機微粒子のいずれも使用できる。有機微粒子としては、たとえば、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂等の高分子化合物からなる微粒子が挙げられ、架橋された高分子であってもよい。また、エチレン、プロピレン、スチレン、メタクリル酸メチル、ベンゾグアナミン、ホルムアルデヒド、メラミン、ブタジエン等から選ばれる２種以上のモノマーが共重合されてなる共重合体を使用することもできる。無機微粒子としては、たとえば、シリカ、シリコーン、酸化チタン等からなる微粒子や、ガラスビーズが挙げられる。また、これらを単独で使用してもよく、２種類以上を使用してもよい。本発明では、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子が、有機微粒子であることが好ましい。
【００２９】
微粒子の形状については適宜選択しうるが、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子は、球状であることが好ましい。また、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子の平均粒子径は、６μｍ以上１５μｍ以下であるのが好ましく、６μｍ以上１０μｍ以下であるのがより好ましい。当該平均粒子径が６μｍを下回る場合には、微粒子による広角側の散乱光強度が上昇し、画像表示装置に適用したときに透過鮮明度を低下させる傾向にあり好ましくない。また、当該平均粒子径が１５μｍを上回る場合には、微粒子によるレンズ効果が顕著となり、画像表示装置に適用したときにギラツキを増加させる傾向にあり好ましくない。
【００３０】
防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との屈折率差が、０．００５以上０．１６以下であるのが好ましく、０．０２以上０．０５以下であることがより好ましい。屈折率差が０．１６を上回る場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と微粒子の界面における反射率が増大し、結果として後方散乱が上昇し、全光線透過率が低下する傾向にある。全光線透過率の低下は、防眩性フィルムのヘイズを増大させ、画像表示装置に適用したときのコントラストの低下を生じさせるので好ましくない。屈折率差が０．００５を下回る場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と微粒子の界面における光屈折の効果がほとんど得られず、結果として目的とする防眩性能を得ることができないので好ましくない。
【００３１】
微粒子を構成する材料は、上述した屈折率差を満たすものであるのが好ましい。防眩層を形成する活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物の屈折率は、通常、１．５０程度であるため、微粒子の屈折率は、１．４０〜１．６５程度のものから、防眩性フィルムの設計に合わせて適宜選択することができる。かかる好適な微粒子の例を以下に掲げる。
メラミンビーズ（屈折率１．６０）、
ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、
メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０〜１．５９）、
ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、
ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、
ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、
ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、
シリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４３）など。
【００３２】
前記塗工液における微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対し１０重量部以上１００重量部以下であるのが好ましく、１５重量部以上７０重量部以下であるのがより好ましい。１０重量部未満である場合には、微粒子による防眩性能が不十分であるので好ましくない。また、１００重量部を超える場合には、微粒子による透過鮮明度の低下が顕著であるので好ましくない。
【００３３】
希釈溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから適宜選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃〜１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ〜２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。
【００３４】
本発明における防眩層を形成するための塗工液は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶媒を含有するものであり、かつ、下記式（Ａ）で示される前記塗工液の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする。
【００３５】
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
【００３６】
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【００３７】
ここで沈降度Ｓは、前述したとおり、微粒子が分散している所定量の塗工液を所定時間放置して、微粒子の沈降度合いを評価した指標であり、沈降度Ｓが低い値を示すほど、微粒子が速く沈降することを意味し、沈降度Ｓが高い値を示すほど、微粒子が遅く沈降することを意味するものである。本発明では、沈降度Ｓは、１０以上４０以下が好ましい。沈降度Ｓが１を下回ると、塗工液を供給するダイなどに微粒子が蓄積し、これが原因となって製品や製造装置の汚染を引き起こしてしまう。一方、沈降度Ｓが７６を上回ると、形成される防眩層に気泡が生じてしまう。
【００３８】
沈降度Ｓを制御するには、主に塗工液の粘度、微粒子の平均粒子径、微粒子の密度を調整すればよい。微粒子の平均粒子径や、微粒子の密度は、防眩性フィルムに所望の光学特性を付与する点から決定されることが多いため、沈降度Ｓを制御する手段として、塗工液の粘度を調整することが好ましい。塗工液の粘度を調整するには、希釈溶剤の量、種類を調整することが好ましい。塗工液の粘度を低くするには、希釈溶剤の量を多く、また粘度の低い希釈溶媒を使用すればよく、塗工液の粘度を高くするには、希釈溶剤の量を少なく、また粘度の高い希釈溶媒を使用すればよい。
【００３９】
塗工液は、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するのが好ましい。レベリング剤を含有する塗工液を使用すると、耐汚染性、耐擦傷性を付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。
【００４０】
また、塗工液には、前述した成分の他に、必要に応じて、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、帯電防止剤、防汚剤などを添加してもよい。
【００４１】
図１に示すように、本発明の防眩性フィルムの防眩層１０１は微細な凹凸表面を有するものであり、その微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものである。このような所定の傾斜角度分布を有することにより、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止する上で一層有効となる。傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％を下回ると、凹凸表面の傾斜角度が急峻になって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が高ければ高いほどよく、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。
【００４２】
また、本発明の防眩層は、所定の塗工液を透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより、形成されるものである。このようにスタンパーで押し付けながら硬化処理しているため、図１に示すように、微粒子１０３は、防眩層１０１中に分散され、かつ、防眩層１０１の表面から突出していない状態となっている。そして、微粒子１０３が防眩層１０１の表面から突出していないことにより、たとえば、微粒子の形状の振れに伴う微細凹凸表面形状の振れといった該表面形状へ影響することが排除でき、その結果、該表面形状を高精度で制御することが可能となる。
【００４３】
図２は、本発明の防眩性フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。図２に示されるように、本発明の防眩性フィルム１は、微細な凹凸２から構成される微細凹凸表面を有する防眩層を備える。ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の傾斜角度」とは、図２を参照して、防眩性フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、防眩性フィルムの主法線方向５に対する、そこでの凹凸を加味した局所的な法線６のなす角度（表面傾斜角度）ψを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度については、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。
【００４４】
ここで、図３は、微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。
具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図３に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する防眩性フィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図３では、防眩性フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩性フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図３では、平面ＦＧＨＩに対して、実際の防眩性フィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際の防眩性フィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。
【００４５】
傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際の防眩性フィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際の防眩性フィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる平均法線ベクトル（平均法線ベクトルは、図２に示される凹凸を加味した局所的な法線６と同義である）の極角を、測定された表面形状の三次元情報から求めることにより得ることができる。各測定点について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。
【００４６】
図４は、防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図４に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。たとえば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図４では、横軸の２目盛毎に値の下限値を表示しており、たとえば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が１〜１．５°の範囲にある集合の分布を示す。また、縦軸は傾斜角度の分布を表し、合計すれば１（１００％）になる値である。この例では、傾斜角度が５°以下である面の割合は略１００％である。
【００４７】
また、防眩層の微細凹凸表面が「微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトル」を用いて規定される特定の空間周波数分布を有するのが好ましい。すなわち、防眩層における微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ12／Ｈ22が３〜１５の範囲内であり、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下であるのが好ましい。このような数値範囲となる防眩性フィルムは、優れた防眩性能を示し、かつ、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現するものとなる。
【００４８】
くわえて、前述したとおり、防眩層の表面から微粒子が突出していないことにより、微粒子による防眩層の微細凹凸表面への影響は排除しうるため、前記所定の空間周波数分布を精度よく制御することができ、その結果、優れた光学特性を有する本発明の防眩性フィルムを再現性よく得ることができる。また、本発明の防眩性フィルムは、その防眩層に微粒子を含有するため、微粒子を含有しない防眩性フィルムと比較して、防眩性能をより効果的に発現することができる。従来、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と異なる屈折率を有する微粒子を防眩層に分散させた防眩性フィルムを画像表示装置の表面に配置した場合、微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との界面における光の散乱によって、透過鮮明度の低下が過剰となる問題があったが、本発明の防眩性フィルムによれば、透過鮮明度の過剰な低下を生じさせることなく、微粒子による防眩性の効果が得られる。
【００４９】
防眩層が有する微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルについて説明する。図２に示されるように、本発明の防眩性フィルム１は、微細な凹凸２から構成される微細凹凸表面を有する防眩層を備える。ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、防眩性フィルム１表面の任意の点Ｐにおける、微細凹凸表面の最低点の高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面（標高は基準として０μｍ）からの防眩フィルムの主法線方向５（上記仮想的な平面における法線方向）における直線距離を意味する。図２に示すように、防眩フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、微細凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）で表すことができる。図２には、防眩フィルム全体の面を投影面３で表示している。
【００５０】
微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のエネルギースペクトルの分解能が０．０１μｍ-1以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μｍ以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μｍ×５００μｍ以上である。
【００５１】
次に、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より標高のエネルギースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、下記式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を求める。
【００５２】
【００５３】
ここで、ｆxおよびｆyは、それぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによって、標高のエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）を求めることができる。このエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）は、防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を表している。
【００５４】
以下、防眩層の微細凹凸表面のエネルギースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は、一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図５は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図５に示すように、防眩性フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩性フィルムの投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高は、防眩性フィルムの投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。
【００５５】
得られる標高値の数は、測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図５に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝ＭΔｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝ＮΔｙとすると、得られる標高値の数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個である。
【００５６】
図５に示すように、防眩性フィルムの投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここで、ｊは０以上Ｍ以下であり、ｋは０以上Ｎ以下である。）とすると、着目点Ａに対応する防眩性フィルム表面上の点Ｐの標高は、ｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。
【００５７】
ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは、測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに２００μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。
【００５８】
このように、実際の測定では微細凹凸表面の標高を表す関数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。したがって、測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と下記式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）が求まり、離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによってエネルギースペクトルの離散関数Ｈ2（ｆx，ｆy）が求められる。式（２）中のｌは−（Ｍ＋１）／２以上（Ｍ＋１）／２以下の整数であり、ｍは−（Ｎ＋１）／２以上（Ｎ＋１）／２以下の整数である。また、ΔｆxおよびΔｆyは、それぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数間隔であり、式（３）および式（４）で定義される。ΔｆxおよびΔｆyは、標高のエネルギースペクトルの水平分解能に相当する。
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
図６は、本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図の一例である。図６において標高は白と黒のグラデーションで示している。図６に示した離散関数ｈ（ｘ，ｙ）は、５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能ΔｘおよびΔｙは１．６６μｍである。
【００６３】
図６に示される例のように、本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面は、ランダムに形成された凹凸からなるため、標高のエネルギースペクトルは、図７に示されるように、原点を中心に対称となる。よって、空間周波数０．０１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ12、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22および空間周波数０．１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ32は、二次元関数であるエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）の原点を通る断面より求めることができる。図８に、図７に示したエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示した。図８より、空間周波数０．０１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ12は４．４、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22は０．３５、空間周波数０．１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ32は０．０００７６であることがわかり、比Ｈ12／Ｈ22は１４、比Ｈ32／Ｈ22は０．００２２と算出される。
【００６４】
上述したように、本発明に係る防眩層において、空間周波数０．０１μｍ-1における微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22との比Ｈ12／Ｈ22は、３〜１５の範囲内とされる。標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22が３を下回ることは、防眩層の微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が少なく、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が多いことを示している。そのような場合には外光の映り込みを効果的に防止することができず、十分な防眩性能が得られない。また、これに対して、標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22が１５を上回ることは、微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が多く、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が少ないことを示している。そのような場合には、防眩性フィルムを高精細の画像表示装置に配置した際にギラツキを発生させる傾向にある。より優れた防眩性能を示しつつ、ギラツキをより効果的に抑制するためには、標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22は、３．５〜１４．５の範囲内であることが好ましく、４〜１４の範囲内であることがより好ましい。
【００６５】
また、本発明に係る防眩層において、空間周波数０．１μｍ-1における微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22との比Ｈ32／Ｈ22は、０．１以下とされ、好ましくは０．０１以下とされる。比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下であることは、微細凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分が十分に低減されていることを示しており、これにより白ちゃけの発生を効果的に抑制することができる。微細凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分は、防眩性に効果的に寄与しない一方、微細凹凸表面に入射した光を散乱させて白ちゃけの原因となるものである。
【００６６】
本発明の防眩性フィルムは、好ましくは表面ヘイズが０．１％以上５％以下であり、全ヘイズが５％以上３０％以下である。表面ヘイズが０．１％未満の場合は防眩性能が不足し、５％を超える場合は表面凹凸による光散乱が大きくなるため、透過鮮明度の低下や白ちゃけが生じるため好ましくない。また、全ヘイズが５％未満の場合は防眩性能が不足し、３０％を超える場合は透過鮮明度が低下するため好ましくなく、また、場合によってはギラツキが生じるため好ましくない。
【００６７】
防眩性フィルムの全ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に示される方法に準拠して測定することができる。表面ヘイズと内部ヘイズの切り分けは、全体のヘイズを測定した後、その凹凸表面にヘイズがほぼＯの透明フィルムをグリセリンで貼り付けて内部ヘイズを測定し、次式により表面ヘイズを求めればよい。
表面ヘイズ（％） ＝ 全体のヘイズ（％） − 内部ヘイズ（％）
【００６８】
防眩性フィルムの凹凸表面にヘイズがほぼ０％の透明フィルムを貼り付けた状態で測定されるヘイズ値は、元の凹凸に起因する表面ヘイズがほぼ打ち消されることから、事実上内部ヘイズを表すとみてよい。ヘイズがほぼ０％の透明フィルムとしては、ヘイズが小さいものであれば特に制限されず、例えば、トリアセチルセルロースフィルムなどを使えばよい。
【００６９】
本発明の防眩性フィルムは、透過鮮明度が高いものが好ましい。このとき、防眩性能が充分に満たされる範囲内で、可能な限り透過鮮明度が高いことが好ましい。透過鮮明度を高くすることにより、鮮明度の高い表示画像が得られる。透過鮮明度は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した写像性測定器ＩＣＭ−ＩＤＰ（スガ試験機（株）製）を用いて測定される。より具体的には、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合し、ガラス側から測定光を入射させて測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。
【００７０】
＜防眩性フィルムの製造方法＞
本発明の防眩性フィルムを製造する方法には、前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程〔塗工工程〕、前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程〔乾燥工程〕、前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程〔硬化工程〕、及び、前記硬化工程の後、塗工面からスタンパーを剥離する剥離工程〔剥離工程〕が含まれる。
【００７１】
〔塗工工程〕
前記塗工液を透明支持体上に塗工する方法としては、公知の方法を適宜選択できる。具体的には、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、スロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スライドコート法、カーテンコート法、インクジェット法等が挙げられる。なかでも、塗工時の樹脂溶液中への異物等の混入を極力防止する点から、スロットダイコート法が望ましい。
【００７２】
〔乾燥工程〕
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して、透明支持体上に塗膜（塗工面）が形成された積層体を得ることができる。この乾燥方法としては、公知の方法を採用することができる。乾燥温度は、使用する溶媒や透明支持体によって適宜選択されるが、通常２０℃〜１２０℃の範囲である。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。
【００７３】
〔硬化工程〕
本発明では、前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる。スタンパーとしては、たとえば、金型版、ガラス製版、ゴム製版、金型ロールが挙げられる。また、鏡面状のものや、凹凸形状を有するエンボス状のものが挙げられ、たとえば、金型版としては、エンボス版や鏡面版等が挙げられ、金型ロールとしては、エンボスロールや鏡面ロール等が挙げられる。防眩層の微細凹凸表面の形状を精度よく制御する観点から、凹凸形状を有する鋳型が好ましく、なかでも、エンボスロールが好ましい。
【００７４】
前記スタンパーを押し付ける際、塗膜とスタンパーとの間に気泡が混入し、欠陥となることを防止するため、ニップロールのごとき圧着装置を用いることが好ましい。その際、ニップ圧に特に制限はないが、好ましくは０．０５ＭＰａ以上、０．５ＭＰａ以下である。０．０５ＭＰａ以下であると、気泡が混入しやすくなる。一方、０．５ＭＰａ以上であると、透明支持体の搬送時のわずかなずれにより透明支持体が破断したり、塗工した樹脂が端部からはみ出して工程汚染の原因となったりするため好ましくない。
【００７５】
スタンパーを塗工面に押し付けながら、活性エネルギー線を照射する。活性エネルギー線は、塗工面側から照射してもよく、塗工面と反対側から照射してもよい。このうち、塗工面と反対側から照射するのが好ましい。活性エネルギー線として、活性エネルギー線硬化性樹脂や重合開始剤の種類に応じてγ線、Ｘ線、紫外線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、電子線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが得られるため、硬化性や生産性に優れるという観点から紫外線が好ましい。
【００７６】
紫外線の光源としては、たとえば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、カーボンアークランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ等を用いることができるが、これらに限定されるものではなく、紫外線を発生する光源であれば特に制限はない。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。なかでも、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、メタルハライドランプが好ましく利用できる。また、光源の数に制限はなく、１灯であってもよいし、２灯以上あってもよい。
【００７７】
紫外線のＵＶＡ領域の照度の範囲は、好ましくは２００ｍＷ／ｃｍ２〜７００ｍＷ／ｃｍ２であり、より好ましくは３００ｍＷ／ｃｍ２〜７００ｍＷ／ｃｍ２である。２００ｍＷ／ｃｍ２以下では樹脂が十分に硬化しない恐れがある。一方、７００ｍＷ／ｃｍ２を越えると樹脂の十分な硬化を阻害する可能性があり、また透明支持体にダメージを与える恐れがある。また、硬化工程における紫外線のＵＶＡ領域の積算光量の範囲は、好ましくは４０ｍＪ／ｃｍ２以上であり、より好ましくは７０ｍＪ／ｃｍ２以上である。４０ｍＪ／ｃｍ２以下では防眩層が十分に硬化しない恐れがある。一方、積算光量の上限については特に制限はない。
【００７８】
紫外線の照射により、透明支持体、防眩性フィルム、スタンパーが過度に加熱されて熱ダメージを受けることを防ぐため、スタンパーは冷却機構を備ることが好ましい。スタンパーとしてエンボスロールを使用する場合、冷却機構としては、例えば、エンボスロールの内部に冷却管を設け、エンボスロールの内部の冷却管と外部に設置したチラーユニットとを接続し、冷媒を循環させるような構造が挙げられる。冷却温度としては、エンボスロールの表面の温度が１０℃〜７０℃、好ましくは２０℃〜６０℃となるように設定する。１０℃以下では樹脂の粘度が上昇し、特定の表面凹凸形状が転写できなくなる恐れがあり、７０℃を越えると、エンボスロールの金属や透明支持体が熱ダメージにより劣化する恐れがあるため好ましくない。
【００７９】
〔剥離工程〕
塗工面からスタンパーを剥離する方法としては、公知の方法を採用できるが、活性エネルギー線の照射中にフィルムがスタンパーから剥がれることを防ぐため、剥離地点にもニップロールのごとき圧着装置を設置し、硬化工程が終了するまでスタンパーに対して密着した状態を維持することが、正確に特定形状を転写する上で好ましい。
【００８０】
前述した硬化工程で使用するスタンパーとして、防眩層の微細凹凸表面の形状を精度よく制御する観点から、所定のパターンを用いて作成したエンボスロールがより好ましい。そのエンボスロールについて以下に説明する。
【００８１】
〔所定のパターンを用いて作成したエンボスロール〕
このエンボスロールは、０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内に極大値を持たないエネルギースペクトルを示すパターンを用いて作製されるものである。かかるパターンを使用することにより、エンボスロール表面に所定の空間周波数分布を持つ微細凹凸形状を形成することが可能となる。ここでいう「パターン」とは、防眩性フィルムにおける防眩層の表面凹凸形状の元となるものであり、該表面凹凸を形成するために用いられる、典型的には計算機によって作成された２階調（たとえば、白と黒とに二値化された画像データ）または３階調以上のグラデーションからなる画像データを意味するが、当該画像データへ一義的に変換可能なデータ（行列データなど）も含み得る。画像データへ一義的に変換可能なデータとしては、各画素の座標および階調のみが保存されたデータなどが挙げられる。
【００８２】
エンボスロールを作成する際に使用するパターンのエネルギースペクトルは、たとえば画像データであれば、画像データを２５６階調のグレースケールに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは、画像データ面内の直交座標を表し、ｆxおよびｆyはそれぞれ、ｘ方向の空間周波数およびｙ方向の空間周波数を表している。
【００８３】
微細表面凹凸の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、パターンのエネルギースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、微細表面凹凸の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、エネルギースペクトルが計算される。具体的には、式（５）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｇ（ｆx，ｆy）を計算し、離散関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗することによってエネルギースペクトルが求められる。ここで、式（５）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。また、Ｍはｘ方向の画素数であり、Ｎはｙ方向の画素数であり、ｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。さらに、ΔｆxおよびΔｆyはそれぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数間隔であり、式（６）および式（７）で定義される。式（５）および式（６）中のΔｘおよびΔｙはそれぞれ、ｘ軸方向、ｙ軸方向における水平分解能である。なお、パターンが画像データである場合には、ΔｘおよびΔｙは、それぞれ１画素のｘ軸方向の長さおよびｙ軸方向の長さと等しい。すなわち、６４００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝４μｍであり、１２８００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝２μｍである。
【００８４】
【００８５】
図９は、本発明の防眩性フィルムを作製するために用いることができるパターンである画像データの一部を示す図であり、階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表したものである。図９に示したパターンである画像データは２ｍｍ×２ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。
【００８６】
図１０は、図９に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示した図である。図９に示されるパターンは、ドットをランダムに配置したものであるため、そのエネルギースペクトルは、図１０に示されるように、原点を中心に対称となる。よって、パターンのエネルギースペクトルの極大値を示す空間周波数はエネルギースペクトルの原点を通る断面より求めることができる。図１１は、図１０に示したエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。これより図９に示したパターンは、空間周波数０．０４５μｍ-1に極大値を持つが、０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内には極大値を持たないことがわかる。
【００８７】
防眩性フィルムを作製するためのパターンのエネルギースペクトルが０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内に極大値を持つ場合には、得られる防眩フィルムの微細凹凸表面が上記した特定の空間周波数分布を示さなくなるため、ギラツキの解消と十分な防眩性を兼備することができない。
【００８８】
次に、前記エンボスロールの製造方法について説明する。このエンボスロールは、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。図１２は、金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１２には、各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図１２を参照しながら、上記各工程について詳細に説明する。
【００８９】
〔１〕第１めっき工程
本工程では、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。
【００９０】
第１めっき工程において用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味であり、また「ニッケル」は、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行なっても無電解めっきで行なってもよいが、通常は電解めっきが採用される。
【００９１】
銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどに鑑み、５００μｍ程度までとすることが好ましい。
【００９２】
金型用基材を構成する金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性を考慮すると、軽量なアルミニウムを用いることが好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。
【００９３】
また、金型用基材の形状は、円柱状または円筒状のロールであるのが好ましい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。
【００９４】
〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。当該工程を経て、基材表面は、鏡面に近い状態に研磨されることが好ましい。これは、基材となる金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１２（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。
【００９５】
銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材表面７を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。
【００９６】
研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性がある。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストなどを考慮して適宜決定される。
【００９７】
〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した金型用基材７の研磨された表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図１２（ｂ）には、金型用基材７の研磨された表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。
【００９８】
感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、たとえば、分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物等を用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としては、たとえば、フェノール樹脂系やノボラック樹脂系等を用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤等の各種添加剤を配合してもよい。
【００９９】
これらの感光性樹脂を金型用基材７の研磨された表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましい。溶媒としては、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒等を使用することができる。
【０１００】
感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、およびカーテン塗布等の公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜６μｍの範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
〔４〕露光工程
続く露光工程では、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は、塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍ等）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
【０１０２】
金型の表面凹凸形状、ひいては防眩層の表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上記パターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましく、具体的には、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行なうに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）等が挙げられる。
【０１０３】
図１２（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１１は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域１１が現像液によって溶解され、露光されていない領域１０のみ基材表面上に残り、図１２（ｄ）に示すようなマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１１は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域１０が現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ基材表面上に残り、図１２（ｅ）に示すようなマスクとなる。
【０１０４】
〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１０は現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１１のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１０が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。
【０１０５】
現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等のアルカリ性水溶液；および、キシレン、トルエン等の有機溶剤等を挙げることができる。
【０１０６】
現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
【０１０７】
図１２（ｅ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行なった状態を模式的に示している。図１２（ｃ）において露光されていない領域１０が現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図１２（ｄ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行なった状態を模式的に示している。図１２（ｃ）において露光された領域１１が現像液によって溶解され、露光されていない領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。
【０１０８】
〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材をエッチングし、研磨されためっき面に凹凸を形成する。図１３は、金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１３（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い箇所１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い箇所１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い箇所１３との境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い箇所１３との境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることをサイドエッチングと呼ぶ。
【０１０９】
第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）等を用いて、金属表面を腐食させることによって行なわれるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法等によって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。
【０１１０】
第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムを適用した画像表示装置において白ちゃけが生じる虞がある。傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む微細凹凸表面を有する防眩フィルムを得るためには、第１エッチング工程におけるエッチング量は、２〜８μｍであることがより好ましい。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行なってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行なってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行なう場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。
【０１１１】
〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができる。剥離液のｐＨ、温度、濃度および浸漬時間等を変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
【０１１２】
図１３（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスク１２として使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜からなるマスク１２を利用したエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成されている。
【０１１３】
〔８〕第２めっき工程
続いて、形成された凹凸面へクロムめっきを施すことによって、さらに表面の凹凸形状を鈍らせる。図１３（ｃ）には、第１エッチング工程のエッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５にクロムめっき層１６を形成することにより、第１の表面凹凸形状１５よりも凹凸が鈍った表面（クロムめっきの表面１７）が形成されている状態が示されている。
【０１１４】
クロムめっきとしては、ロールの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用することが好ましい。このようなクロムめっきとしては特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行なわれ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ3）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。
【０１１５】
なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、防眩フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。
【０１１６】
また、めっき後の表面研磨も好ましくない。すなわち、第２のめっき工程後に表面を研磨する工程を設けることなく、クロムめっきが施された凹凸面を、そのまま基材フィルム上の樹脂層表面に転写される金型の凹凸面として用いることが好ましい。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。
【０１１７】
このように、微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られる。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなる上に、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。
【０１１８】
当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下する上に、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。
【０１１９】
また、本発明の防眩フィルムを作製するための金型の製造方法においては、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程の後に、第１エッチング工程によって形成された凹凸面を、さらにエッチング処理により鈍らせる第２エッチング工程を実施することも出来る。すなわち、第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、さらにエッチング処理によって鈍らせる。
この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図１４には、第２エッチング処理によって、金型用基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１８が形成された状態が示されている。
【０１２０】
第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）などを用い、表面を腐食させることによって行なわれるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内とすることが好ましく、また、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む微細凹凸表面を有する防眩フィルムを得るために、４〜２０μｍの範囲内とすることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行なってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行なってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行なう場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。
【０１２１】
＜防眩性偏光板、画像表示装置＞
本発明の防眩性フィルムは、優れた防眩性を示し、良好なコントラストを発現しながら、「白ちゃけ」および「ギラツキ」の発生による視認性の低下を効果的に防止できるため、画像表示装置に装着したときに視認性に優れたものとなる。また、本発明の防眩性フィルムは、防眩層に微粒子を含有させているものの、該防眩層への気泡の発生を防止しており、安定した品質のものとなっている。
【０１２２】
くわえて、本発明の防眩性フィルムは、防眩性偏光板や画像表示装置の部材として好適に使用しうる。画像表示装置が液晶ディスプレイである場合には、この防眩性フィルムを偏光板に適用することができる。すなわち、偏光板は一般に、ヨウ素または二色性染料が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムからなる偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された形態のものが多いが、その一方の保護フィルムを本発明の防眩性フィルムで構成する。偏光フィルムと、本発明の防眩性フィルムとを、その防眩性フィルムの基材フィルム側で貼り合わせることにより、防眩性偏光板とすることができる。この場合、偏光フィルムの他方の面は、何も積層されていない状態でもよいし、保護フィルムまたは他の光学フィルムが積層されていてもよいし、また液晶セルに貼合するための粘着剤層が積層されていてもよい。また、偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された偏光板の当該保護フィルム上に、本発明の防眩性フィルムをその基材フィルム側で貼合して、防眩性偏光板とすることもできる。さらに、偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された偏光板において、当該保護フィルムとして上記基材フィルムを偏光フィルムに貼合した後、この基材フィルム上に防眩層を形成することにより、防眩性偏光板とすることもできる。
【０１２３】
また、前記防眩性偏光板をさらに画像表示装置の部材として使用しうる。この場合、画像表示装置は、該防眩性偏光板と画像表示素子とを備えるものであり、前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される。
【実施例】
【０１２４】
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１２５】
〔１〕防眩性フィルムの表面形状の測定
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩性フィルムの表面形状を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍とした。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は８５０μｍ×８５０μｍであった。
【０１２６】
（標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22およびＨ32／Ｈ22）
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて得られた測定データから、防眩性フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求め、得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ2（ｆx，ｆy）を計算し、ｆx＝０の断面曲線であるＨ2（０，ｆy）より、空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12および空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22を計算した。また、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ32／Ｈ22についても計算した。
【０１２７】
（微細凹凸表面の傾斜角度）
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて得られた測定データをもとに、発明を実施するための形態の内容で前述したアルゴリズムに基づいて計算し、凹凸面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以下である面の割合を計算した。
【０１２８】
（防眩層における微粒子の突出程度（埋没状態）の評価）
防眩層が微粒子を含有しないこと以外は同様にして作製された防眩性フィルムを比較対象とし、微細凹凸表面の空間周波数分布および凹凸面の傾斜角度のヒストグラムが当該比較対象と同じである場合、すなわち、標高のエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）のｆx＝０の断面曲線であるＨ2（０，ｆy）および傾斜角度のヒストグラムが当該比較対象と略重なる場合、微粒子を含有する防眩フィルムの凹凸表面形状は、微粒子によって影響を受けていないといえることから、微粒子は防眩層表面から突出しておらず（防眩層中に埋没しており）、凹凸表面は、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物によって形成された表面のみからなると判断した。下記表１において、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物によって形成された表面のみからなる場合を○と示し、そうでない場合を×と示した。
【０１２９】
（防眩層への気泡混入の観察）
実施例及び比較例で得られた防眩性フィルムを、１ｍｍ×１ｍｍの範囲を光学顕微鏡で拡大しながら、測定箇所を３点観察する。１０μｍ以上の気泡が５個以上観察された場合は×と示し、５個未満の場合を○と示した。
【０１３０】
〔２〕防眩性フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩性フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠したヘイズメータ「ＨＭ−１５０型」（村上色彩技術研究所製）を用いてヘイズを測定した。防眩性フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。
【０１３１】
〔３〕防眩性フィルムの防眩性能の評価
（映り込み目視評価）
防眩性フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無を目視で評価した。映り込み、白ちゃけおよび質感は、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。
【０１３２】
映り込み １：映り込みが観察されない、
２：映り込みが少し観察される、
３：映り込みが明瞭に観察される。
【０１３３】
（ギラツキの評価）
ギラツキは、以下の方法で評価した。まず、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターンが形成され、そのクロム遮光パターンの形成されていない部分が開口部となっているユニットセルを用意した。なお、このユニットセルの寸法は２５４μｍ×８４μｍ（縦×横）であるため、開口部の寸法は２４４μｍ×７４μｍ（縦×横）となる。次いで、当該ユニットセルを縦横に多数並べて、フォトマスクを形成した。
次に、クロム遮光パターンが表面側になるように前記フォトマスクを面光源の上に置いた。さらに、防眩層が表面側になるように防眩性フィルムをガラス板に粘着剤で貼ったサンプルを、防眩層が表面側になるように前記フォトマスクの上に置いた。
なお、下から、面光源、フォトマスク、ガラス板、防眩性フィルムの順で置かれた状態になっている。
【０１３４】
この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル３はごくわずかにギラツキが観察される状態である。
【０１３５】
〔４〕防眩性フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２５６階調のグレースケールの画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｇ2（ｆx，ｆy）を計算し、ｆx＝０の断面曲線であるＧ2（０，ｆy）より、空間周波数が０μｍ-1より大きく、かつ、絶対値が最も小さい空間周波数での極大値を求めた。
【０１３６】
〔５〕塗工液の沈降度測定
微粒子が分散している塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置し、該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を観測した。その値をｘとし、下記式（Ａ）から沈降度Ｓを算出した。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
【０１３７】
〔６〕塗工液による塗工装置汚染性評価
塗工装置（スロットダイコーター）内部で微粒子が沈降した場合、スロットダイコーターの吐出部であるスロットに、内部で蓄積した微粒子が詰まるため、防眩性フィルムに連続したスジムラ等のムラが発生する。従って、このスジムラの有無とスロットダイコーターのマニフォールド部の粒子が沈殿している様を観察し、スジムラが無く、マニフォールド部に粒子の沈殿が無い場合を○、スジムラがある場合もしくはマニフォールド部に粒子の沈殿が確認された場合を×した。
【０１３８】
＜実施例１＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図９に示される画像データからなるパターンの複数を連続して繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザー光によって露光し、現像した。レーザー光による露光、および現像は「Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ」（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行なった。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。図９に示されるパターンから計算されるエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面は、図１１に示されるとおりである。図９に示されるパターンは、空間周波数０．０４５μｍ-1にエネルギースペクトルの極大値を示す。
【０１３９】
その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は７μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は１８μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行ない、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。
【０１４０】
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０重量％で溶解されており、硬化後に１．５３の屈折率を示す紫外線硬化型樹脂組成物を入手した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０重量部、
多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの反応生成物） ４０重量部、
レベリング剤（メガファックＦ−４７７（ＤＩＣ社製、フッ素系レベリング剤）） ０．５重量部
重合開始剤（ルシリンＴＰＯ”（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）） ５重量部
【０１４１】
この紫外線硬化型樹脂組成物に、平均粒子径が６．５μｍで屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズ（微粒子）を、紫外線硬化型樹脂１００重量部（当該紫外線硬化型樹脂の硬化により形成されるバインダ樹脂も実質的に１００重量部となる）あたり２０重量部添加した後、固形分（樹脂ビーズを含む）の濃度が４０重量％となるように酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤を添加して塗工液を調製した。
【０１４２】
透明支持体である厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが１０μｍとなるように塗布し、８０℃に設定した乾燥機中で１分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、紫外線硬化型樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、フュージョン社製の“Ｖバルブ”ランプ（最大発光波長４２０ｎｍ）を光源として、積算光量５５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射した（第一照射）。その後、ニッケル平板から硬化塗膜を剥がし、その硬化塗膜側から、フュージョン社製の“Ｄバルブ”ランプ（最大発光波長３８０ｎｍ）を光源として、積算光量８５０ｍＪ／ｃｍ２で２回連続して紫外線を照射した（第二照射）。こうして、表面にハードコート層とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩性フィルムＡを作製した。
【０１４３】
＜実施例２＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルとしたこと以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＢを作製した。
【０１４４】
＜実施例３＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとしたこと以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＣを作製した。
【０１４５】
＜比較例１＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤を酢酸エチルとし、さらに、屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズ（微粒子）の平均粒子径を、６．５μｍから７．３μｍとした以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＤを作製した。
【０１４６】
＜比較例２＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルとし、さらに、平均粒子径が６．５μｍで屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズを、平均粒子径が３．５μｍで屈折率が１．５９のメタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズとした以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＥを作製した。
【０１４７】
得られた防眩フィルムの表面形状および光学特性の評価結果を表１および表２に示す。
【０１４８】
【表１】
【０１４９】
【表２】
【符号の説明】
【０１５０】
１ 防眩性フィルム
１０１ 防眩層
１０２ 活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物
１０３ 微粒子
１０４ 透明支持体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルム及びその製法に関する。また、それら防眩性フィルムを用いた防眩性偏光板や、画像表示装置に関係する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、一般に、画像表示装置の表面に防眩性フィルムが配置される。
【０００３】
このような防眩性フィルムとしては、透明支持体上に、特に鋳型を用いることなく、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥、硬化して防眩層を形成したもの（特許文献１〜２）や、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥し、次いで賦型フィルムで凹凸形状を転写しながら硬化して防眩層を形成したもの（特許文献３）が、知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１８７０６号公報
【特許文献２】特開平１０−２０１０３号公報
【特許文献３】特開２００７−２５６９６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
防眩性フィルムには、防眩性が求められる他、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」の発生を抑制することなどが要望されている。しかしながら、前述した公知の防眩性フィルムは、それらの点で必ずしも十分なものとはいえなかった。また、特許文献３に記載された防眩性フィルムのように、透明支持体上に、微粒子を含有した塗工液を塗工した後、乾燥し、次いで賦型フィルムで凹凸形状を転写しながら硬化する場合において、使用する塗工液によっては得られる防眩性フィルムに気泡が生じたり、塗工液を供給するダイなどに微粒子が蓄積し、これが製品や製造装置を汚染したりする問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つは、以下の構成を備えるものである。
微細凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルムであって、
前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、
前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、
下記式（Ａ）で示される前記塗工液における微粒子の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする防眩性フィルム。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【０００７】
また、本発明の１つは、前記防眩性フィルムを製造する方法であって、
前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程、
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程、
前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程、及び、
前記硬化工程の後、塗工面から鋳型を剥離する剥離工程
を含む防眩性フィルムの製造方法を提供するものである。
【０００８】
くわえて、本発明は、前記防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合されている防眩性偏光板を提供するものであり、さらに、前記防眩性偏光板と、画像表示素子とを備え、前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される画像表示装置を提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、優れた防眩性を示しながら、「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止し、さらに気泡の発生を防止した防眩性フィルムを、安定した品質で製造して提供することができる。また、本発明の防眩性フィルムは、防眩性偏光板や画像表示装置の部材として好適に使用しうる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の防眩性フィルムの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の防眩性フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。
【図３】微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。
【図４】防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。
【図５】標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。
【図６】本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。
【図７】図６に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた標高のエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示したものである。
【図８】図７に示したエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。
【図９】本発明の防眩性フィルムを作製するために用いることができるパターンである画像データの一部を示す図である。
【図１０】図９に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示した図である。
【図１１】図１０に示したエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。
【図１２】本発明の防眩性フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図１３】本発明の防眩性フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。
【図１４】第１エッチング工程によって形成された凹凸面が第２エッチング工程によって鈍る状態を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜防眩性フィルム＞
図１は、本発明の防眩性フィルムの一例を模式的に示す断面図である。本発明の防眩性フィルムは、図１に示される例のように、透明支持体１０４と、透明支持体１０４上に積層された防眩層１０１とを備える。防眩層１０１は、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物１０２と、微粒子１０３を含有する。防眩層１０１における透明支持体１０４とは反対側の表面は、微細な凹凸表面からなる。以下、本発明の防眩性フィルムについてより詳細に説明する。
【００１２】
透明支持体は、実質的に光学的に透明なフィルムである限り特に制限されず、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。透明支持体の厚みは特に制限されないが、通常、１０〜２５０μｍであり、好ましくは２０〜１２５μｍである。
【００１３】
防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いで凹凸形状を有する鋳型の該凹凸面を押し付けながら硬化処理することにより、形成される。ここでいう活性エネルギー線硬化型樹脂とは、活性エネルギー線の照射により重合、硬化する樹脂であり、たとえば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものであることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。活性エネルギー線硬化性樹脂は市販品であってもよく、多くの場合は、活性エネルギー線硬化性樹脂に、重合開始剤や、その他必要に応じて添加された界面活性剤等の添加剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として市販されている。
【００１４】
多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、たとえば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
【００１５】
多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。
【００１６】
これらから、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００１７】
また、ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有するイソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応によって得ることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。
【００１８】
また、ポリエステル（メタ）アクリレートとして好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルであって、多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
【００１９】
以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中で、硬化物（被膜）の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物、ヘキサメチレンジイソシアネートと、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体、アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、活性エネルギー線硬化型樹脂としては、厚膜化したとき可撓性（可とう性：柔軟性を示す性質）が良い点からウレタンアクリレート化合物を使用することが好ましい。また、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。
【００２０】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類、スチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、フマル酸ジｔ−ブチル、フマル酸ジｎ−ブチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸ジエチル、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド等を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独または２種類以上を混合して用いられる。
【００２１】
また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、防眩層の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーとしては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、及び、エポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマー等である。
【００２２】
また、その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。ポリイソシアネートとしてはヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、例えば、多価アルコールとして１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。
【００２３】
さらに、その他の重合性オリゴマーの例としては、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものとが挙げられる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものが挙げられる。
【００２４】
以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテル、及び、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルのそれぞれ水酸基において、イソシアネート類と反応させて得られる化合物が挙げられる。水酸基含有ポリエステルとして好ましいものは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルであって、多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／またはその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で挙げられたものである。水酸基含有ポリエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド及び／またはε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルであって、多価アルコールとしては、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものである。水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとして好ましいものは、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで挙げられたものである。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。
【００２５】
これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。なお、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、前記単官能（メタ）アクリレート系化合物、及び、重合性オリゴマーも、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。
【００２６】
前記塗工液は、重合開始剤を含有するのが好ましい。ここでいう重合開始剤としては、たとえば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、アントラキノン、１−（４−イソプロピルフェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、カルバゾール、キサントン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，１−ジメトキシデオキシベンゾイン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、トリフェニルアミン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、３−メチルアセトフェノン、３，３’，４，４’−テトラｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニルベンゾフェノン（ＢＴＴＢ）、２−（ジメチルアミノ）−１−〔４−（モルフォリニル）フェニル〕−２−フェニルメチル）−１−ブタノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジル、およびそれらの誘導体などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で使用してもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。
【００２７】
重合開始剤は色素増感剤と組み合わせて用いてもよい。色素増感剤としては、たとえば、キサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリンなどが挙げられる。重合開始剤と色素増感剤との組み合わせとしては、たとえば、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ／日本油脂（株）製）とキサンテンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとチオキサンテンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとクマリンとの組み合わせ、ＢＴＴＢとケトクマリンとの組み合わせなどが挙げられる。
【００２８】
微粒子は、有機微粒子、無機微粒子のいずれも使用できる。有機微粒子としては、たとえば、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂等の高分子化合物からなる微粒子が挙げられ、架橋された高分子であってもよい。また、エチレン、プロピレン、スチレン、メタクリル酸メチル、ベンゾグアナミン、ホルムアルデヒド、メラミン、ブタジエン等から選ばれる２種以上のモノマーが共重合されてなる共重合体を使用することもできる。無機微粒子としては、たとえば、シリカ、シリコーン、酸化チタン等からなる微粒子や、ガラスビーズが挙げられる。また、これらを単独で使用してもよく、２種類以上を使用してもよい。本発明では、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子が、有機微粒子であることが好ましい。
【００２９】
微粒子の形状については適宜選択しうるが、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子は、球状であることが好ましい。また、防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子の平均粒子径は、６μｍ以上１５μｍ以下であるのが好ましく、６μｍ以上１０μｍ以下であるのがより好ましい。当該平均粒子径が６μｍを下回る場合には、微粒子による広角側の散乱光強度が上昇し、画像表示装置に適用したときに透過鮮明度を低下させる傾向にあり好ましくない。また、当該平均粒子径が１５μｍを上回る場合には、微粒子によるレンズ効果が顕著となり、画像表示装置に適用したときにギラツキを増加させる傾向にあり好ましくない。
【００３０】
防眩層に含有させる微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子と、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との屈折率差が、０．００５以上０．１６以下であるのが好ましく、０．０２以上０．０５以下であることがより好ましい。屈折率差が０．１６を上回る場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と微粒子の界面における反射率が増大し、結果として後方散乱が上昇し、全光線透過率が低下する傾向にある。全光線透過率の低下は、防眩性フィルムのヘイズを増大させ、画像表示装置に適用したときのコントラストの低下を生じさせるので好ましくない。屈折率差が０．００５を下回る場合には、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と微粒子の界面における光屈折の効果がほとんど得られず、結果として目的とする防眩性能を得ることができないので好ましくない。
【００３１】
微粒子を構成する材料は、上述した屈折率差を満たすものであるのが好ましい。防眩層を形成する活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物の屈折率は、通常、１．５０程度であるため、微粒子の屈折率は、１．４０〜１．６５程度のものから、防眩性フィルムの設計に合わせて適宜選択することができる。かかる好適な微粒子の例を以下に掲げる。
メラミンビーズ（屈折率１．６０）、
ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、
メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０〜１．５９）、
ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、
ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、
ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、
ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、
シリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４３）など。
【００３２】
前記塗工液における微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対し１０重量部以上１００重量部以下であるのが好ましく、１５重量部以上７０重量部以下であるのがより好ましい。１０重量部未満である場合には、微粒子による防眩性能が不十分であるので好ましくない。また、１００重量部を超える場合には、微粒子による透過鮮明度の低下が顕著であるので好ましくない。
【００３３】
希釈溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから適宜選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃〜１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ〜２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。
【００３４】
本発明における防眩層を形成するための塗工液は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶媒を含有するものであり、かつ、下記式（Ａ）で示される前記塗工液の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする。
【００３５】
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
【００３６】
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【００３７】
ここで沈降度Ｓは、前述したとおり、微粒子が分散している所定量の塗工液を所定時間放置して、微粒子の沈降度合いを評価した指標であり、沈降度Ｓが低い値を示すほど、微粒子が速く沈降することを意味し、沈降度Ｓが高い値を示すほど、微粒子が遅く沈降することを意味するものである。本発明では、沈降度Ｓは、１０以上４０以下が好ましい。沈降度Ｓが１を下回ると、塗工液を供給するダイなどに微粒子が蓄積し、これが原因となって製品や製造装置の汚染を引き起こしてしまう。一方、沈降度Ｓが７６を上回ると、形成される防眩層に気泡が生じてしまう。
【００３８】
沈降度Ｓを制御するには、主に塗工液の粘度、微粒子の平均粒子径、微粒子の密度を調整すればよい。微粒子の平均粒子径や、微粒子の密度は、防眩性フィルムに所望の光学特性を付与する点から決定されることが多いため、沈降度Ｓを制御する手段として、塗工液の粘度を調整することが好ましい。塗工液の粘度を調整するには、希釈溶剤の量、種類を調整することが好ましい。塗工液の粘度を低くするには、希釈溶剤の量を多く、また粘度の低い希釈溶媒を使用すればよく、塗工液の粘度を高くするには、希釈溶剤の量を少なく、また粘度の高い希釈溶媒を使用すればよい。
【００３９】
塗工液は、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を含有するのが好ましい。レベリング剤を含有する塗工液を使用すると、耐汚染性、耐擦傷性を付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。
【００４０】
また、塗工液には、前述した成分の他に、必要に応じて、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、帯電防止剤、防汚剤などを添加してもよい。
【００４１】
図１に示すように、本発明の防眩性フィルムの防眩層１０１は微細な凹凸表面を有するものであり、その微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものである。このような所定の傾斜角度分布を有することにより、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止する上で一層有効となる。傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％を下回ると、凹凸表面の傾斜角度が急峻になって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が高ければ高いほどよく、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。
【００４２】
また、本発明の防眩層は、所定の塗工液を透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより、形成されるものである。このようにスタンパーで押し付けながら硬化処理しているため、図１に示すように、微粒子１０３は、防眩層１０１中に分散され、かつ、防眩層１０１の表面から突出していない状態となっている。そして、微粒子１０３が防眩層１０１の表面から突出していないことにより、たとえば、微粒子の形状の振れに伴う微細凹凸表面形状の振れといった該表面形状へ影響することが排除でき、その結果、該表面形状を高精度で制御することが可能となる。
【００４３】
図２は、本発明の防眩性フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。図２に示されるように、本発明の防眩性フィルム１は、微細な凹凸２から構成される微細凹凸表面を有する防眩層を備える。ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の傾斜角度」とは、図２を参照して、防眩性フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、防眩性フィルムの主法線方向５に対する、そこでの凹凸を加味した局所的な法線６のなす角度（表面傾斜角度）ψを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度については、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。
【００４４】
ここで、図３は、微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。
具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図３に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する防眩性フィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図３では、防眩性フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩性フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図３では、平面ＦＧＨＩに対して、実際の防眩性フィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際の防眩性フィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。
【００４５】
傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際の防眩性フィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際の防眩性フィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる平均法線ベクトル（平均法線ベクトルは、図２に示される凹凸を加味した局所的な法線６と同義である）の極角を、測定された表面形状の三次元情報から求めることにより得ることができる。各測定点について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。
【００４６】
図４は、防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図４に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。たとえば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図４では、横軸の２目盛毎に値の下限値を表示しており、たとえば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が１〜１．５°の範囲にある集合の分布を示す。また、縦軸は傾斜角度の分布を表し、合計すれば１（１００％）になる値である。この例では、傾斜角度が５°以下である面の割合は略１００％である。
【００４７】
また、防眩層の微細凹凸表面が「微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトル」を用いて規定される特定の空間周波数分布を有するのが好ましい。すなわち、防眩層における微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ12／Ｈ22が３〜１５の範囲内であり、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下であるのが好ましい。このような数値範囲となる防眩性フィルムは、優れた防眩性能を示し、かつ、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現するものとなる。
【００４８】
くわえて、前述したとおり、防眩層の表面から微粒子が突出していないことにより、微粒子による防眩層の微細凹凸表面への影響は排除しうるため、前記所定の空間周波数分布を精度よく制御することができ、その結果、優れた光学特性を有する本発明の防眩性フィルムを再現性よく得ることができる。また、本発明の防眩性フィルムは、その防眩層に微粒子を含有するため、微粒子を含有しない防眩性フィルムと比較して、防眩性能をより効果的に発現することができる。従来、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物と異なる屈折率を有する微粒子を防眩層に分散させた防眩性フィルムを画像表示装置の表面に配置した場合、微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との界面における光の散乱によって、透過鮮明度の低下が過剰となる問題があったが、本発明の防眩性フィルムによれば、透過鮮明度の過剰な低下を生じさせることなく、微粒子による防眩性の効果が得られる。
【００４９】
防眩層が有する微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルについて説明する。図２に示されるように、本発明の防眩性フィルム１は、微細な凹凸２から構成される微細凹凸表面を有する防眩層を備える。ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、防眩性フィルム１表面の任意の点Ｐにおける、微細凹凸表面の最低点の高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面（標高は基準として０μｍ）からの防眩フィルムの主法線方向５（上記仮想的な平面における法線方向）における直線距離を意味する。図２に示すように、防眩フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、微細凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）で表すことができる。図２には、防眩フィルム全体の面を投影面３で表示している。
【００５０】
微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μｍ以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μｍ以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のエネルギースペクトルの分解能が０．０１μｍ-1以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μｍ以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μｍ×５００μｍ以上である。
【００５１】
次に、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より標高のエネルギースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、下記式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を求める。
【００５２】
【００５３】
ここで、ｆxおよびｆyは、それぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによって、標高のエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）を求めることができる。このエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）は、防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を表している。
【００５４】
以下、防眩層の微細凹凸表面のエネルギースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は、一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図５は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図５に示すように、防眩性フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、防眩性フィルムの投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高は、防眩性フィルムの投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。
【００５５】
得られる標高値の数は、測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図５に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝ＭΔｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝ＮΔｙとすると、得られる標高値の数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個である。
【００５６】
図５に示すように、防眩性フィルムの投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここで、ｊは０以上Ｍ以下であり、ｋは０以上Ｎ以下である。）とすると、着目点Ａに対応する防眩性フィルム表面上の点Ｐの標高は、ｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。
【００５７】
ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは、測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに２００μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。
【００５８】
このように、実際の測定では微細凹凸表面の標高を表す関数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。したがって、測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と下記式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）が求まり、離散関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗することによってエネルギースペクトルの離散関数Ｈ2（ｆx，ｆy）が求められる。式（２）中のｌは−（Ｍ＋１）／２以上（Ｍ＋１）／２以下の整数であり、ｍは−（Ｎ＋１）／２以上（Ｎ＋１）／２以下の整数である。また、ΔｆxおよびΔｆyは、それぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数間隔であり、式（３）および式（４）で定義される。ΔｆxおよびΔｆyは、標高のエネルギースペクトルの水平分解能に相当する。
【００５９】
【００６０】
【００６１】
【００６２】
図６は、本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図の一例である。図６において標高は白と黒のグラデーションで示している。図６に示した離散関数ｈ（ｘ，ｙ）は、５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能ΔｘおよびΔｙは１．６６μｍである。
【００６３】
図６に示される例のように、本発明の防眩性フィルムが備える防眩層の微細凹凸表面は、ランダムに形成された凹凸からなるため、標高のエネルギースペクトルは、図７に示されるように、原点を中心に対称となる。よって、空間周波数０．０１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ12、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22および空間周波数０．１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ32は、二次元関数であるエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）の原点を通る断面より求めることができる。図８に、図７に示したエネルギースペクトルＨ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示した。図８より、空間周波数０．０１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ12は４．４、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22は０．３５、空間周波数０．１μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ32は０．０００７６であることがわかり、比Ｈ12／Ｈ22は１４、比Ｈ32／Ｈ22は０．００２２と算出される。
【００６４】
上述したように、本発明に係る防眩層において、空間周波数０．０１μｍ-1における微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22との比Ｈ12／Ｈ22は、３〜１５の範囲内とされる。標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22が３を下回ることは、防眩層の微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が少なく、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が多いことを示している。そのような場合には外光の映り込みを効果的に防止することができず、十分な防眩性能が得られない。また、これに対して、標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22が１５を上回ることは、微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が多く、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が少ないことを示している。そのような場合には、防眩性フィルムを高精細の画像表示装置に配置した際にギラツキを発生させる傾向にある。より優れた防眩性能を示しつつ、ギラツキをより効果的に抑制するためには、標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22は、３．５〜１４．５の範囲内であることが好ましく、４〜１４の範囲内であることがより好ましい。
【００６５】
また、本発明に係る防眩層において、空間周波数０．１μｍ-1における微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1における標高のエネルギースペクトルＨ22との比Ｈ32／Ｈ22は、０．１以下とされ、好ましくは０．０１以下とされる。比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下であることは、微細凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分が十分に低減されていることを示しており、これにより白ちゃけの発生を効果的に抑制することができる。微細凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分は、防眩性に効果的に寄与しない一方、微細凹凸表面に入射した光を散乱させて白ちゃけの原因となるものである。
【００６６】
本発明の防眩性フィルムは、好ましくは表面ヘイズが０．１％以上５％以下であり、全ヘイズが５％以上３０％以下である。表面ヘイズが０．１％未満の場合は防眩性能が不足し、５％を超える場合は表面凹凸による光散乱が大きくなるため、透過鮮明度の低下や白ちゃけが生じるため好ましくない。また、全ヘイズが５％未満の場合は防眩性能が不足し、３０％を超える場合は透過鮮明度が低下するため好ましくなく、また、場合によってはギラツキが生じるため好ましくない。
【００６７】
防眩性フィルムの全ヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に示される方法に準拠して測定することができる。表面ヘイズと内部ヘイズの切り分けは、全体のヘイズを測定した後、その凹凸表面にヘイズがほぼＯの透明フィルムをグリセリンで貼り付けて内部ヘイズを測定し、次式により表面ヘイズを求めればよい。
表面ヘイズ（％） ＝ 全体のヘイズ（％） − 内部ヘイズ（％）
【００６８】
防眩性フィルムの凹凸表面にヘイズがほぼ０％の透明フィルムを貼り付けた状態で測定されるヘイズ値は、元の凹凸に起因する表面ヘイズがほぼ打ち消されることから、事実上内部ヘイズを表すとみてよい。ヘイズがほぼ０％の透明フィルムとしては、ヘイズが小さいものであれば特に制限されず、例えば、トリアセチルセルロースフィルムなどを使えばよい。
【００６９】
本発明の防眩性フィルムは、透過鮮明度が高いものが好ましい。このとき、防眩性能が充分に満たされる範囲内で、可能な限り透過鮮明度が高いことが好ましい。透過鮮明度を高くすることにより、鮮明度の高い表示画像が得られる。透過鮮明度は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠した写像性測定器ＩＣＭ−ＩＤＰ（スガ試験機（株）製）を用いて測定される。より具体的には、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合し、ガラス側から測定光を入射させて測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。
【００７０】
＜防眩性フィルムの製造方法＞
本発明の防眩性フィルムを製造する方法には、前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程〔塗工工程〕、前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程〔乾燥工程〕、前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程〔硬化工程〕、及び、前記硬化工程の後、塗工面からスタンパーを剥離する剥離工程〔剥離工程〕が含まれる。
【００７１】
〔塗工工程〕
前記塗工液を透明支持体上に塗工する方法としては、公知の方法を適宜選択できる。具体的には、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ナイフコート法、スロットダイコート法、スピンコート法、スプレーコート法、スライドコート法、カーテンコート法、インクジェット法等が挙げられる。なかでも、塗工時の樹脂溶液中への異物等の混入を極力防止する点から、スロットダイコート法が望ましい。
【００７２】
〔乾燥工程〕
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して、透明支持体上に塗膜（塗工面）が形成された積層体を得ることができる。この乾燥方法としては、公知の方法を採用することができる。乾燥温度は、使用する溶媒や透明支持体によって適宜選択されるが、通常２０℃〜１２０℃の範囲である。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。
【００７３】
〔硬化工程〕
本発明では、前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる。スタンパーとしては、たとえば、金型版、ガラス製版、ゴム製版、金型ロールが挙げられる。また、鏡面状のものや、凹凸形状を有するエンボス状のものが挙げられ、たとえば、金型版としては、エンボス版や鏡面版等が挙げられ、金型ロールとしては、エンボスロールや鏡面ロール等が挙げられる。防眩層の微細凹凸表面の形状を精度よく制御する観点から、凹凸形状を有する鋳型が好ましく、なかでも、エンボスロールが好ましい。
【００７４】
前記スタンパーを押し付ける際、塗膜とスタンパーとの間に気泡が混入し、欠陥となることを防止するため、ニップロールのごとき圧着装置を用いることが好ましい。その際、ニップ圧に特に制限はないが、好ましくは０．０５ＭＰａ以上、０．５ＭＰａ以下である。０．０５ＭＰａ以下であると、気泡が混入しやすくなる。一方、０．５ＭＰａ以上であると、透明支持体の搬送時のわずかなずれにより透明支持体が破断したり、塗工した樹脂が端部からはみ出して工程汚染の原因となったりするため好ましくない。
【００７５】
スタンパーを塗工面に押し付けながら、活性エネルギー線を照射する。活性エネルギー線は、塗工面側から照射してもよく、塗工面と反対側から照射してもよい。このうち、塗工面と反対側から照射するのが好ましい。活性エネルギー線として、活性エネルギー線硬化性樹脂や重合開始剤の種類に応じてγ線、Ｘ線、紫外線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、電子線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが得られるため、硬化性や生産性に優れるという観点から紫外線が好ましい。
【００７６】
紫外線の光源としては、たとえば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、カーボンアークランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ等を用いることができるが、これらに限定されるものではなく、紫外線を発生する光源であれば特に制限はない。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。なかでも、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、メタルハライドランプが好ましく利用できる。また、光源の数に制限はなく、１灯であってもよいし、２灯以上あってもよい。
【００７７】
紫外線のＵＶＡ領域の照度の範囲は、好ましくは２００ｍＷ／ｃｍ２〜７００ｍＷ／ｃｍ２であり、より好ましくは３００ｍＷ／ｃｍ２〜７００ｍＷ／ｃｍ２である。２００ｍＷ／ｃｍ２以下では樹脂が十分に硬化しない恐れがある。一方、７００ｍＷ／ｃｍ２を越えると樹脂の十分な硬化を阻害する可能性があり、また透明支持体にダメージを与える恐れがある。また、硬化工程における紫外線のＵＶＡ領域の積算光量の範囲は、好ましくは４０ｍＪ／ｃｍ２以上であり、より好ましくは７０ｍＪ／ｃｍ２以上である。４０ｍＪ／ｃｍ２以下では防眩層が十分に硬化しない恐れがある。一方、積算光量の上限については特に制限はない。
【００７８】
紫外線の照射により、透明支持体、防眩性フィルム、スタンパーが過度に加熱されて熱ダメージを受けることを防ぐため、スタンパーは冷却機構を備ることが好ましい。スタンパーとしてエンボスロールを使用する場合、冷却機構としては、例えば、エンボスロールの内部に冷却管を設け、エンボスロールの内部の冷却管と外部に設置したチラーユニットとを接続し、冷媒を循環させるような構造が挙げられる。冷却温度としては、エンボスロールの表面の温度が１０℃〜７０℃、好ましくは２０℃〜６０℃となるように設定する。１０℃以下では樹脂の粘度が上昇し、特定の表面凹凸形状が転写できなくなる恐れがあり、７０℃を越えると、エンボスロールの金属や透明支持体が熱ダメージにより劣化する恐れがあるため好ましくない。
【００７９】
〔剥離工程〕
塗工面からスタンパーを剥離する方法としては、公知の方法を採用できるが、活性エネルギー線の照射中にフィルムがスタンパーから剥がれることを防ぐため、剥離地点にもニップロールのごとき圧着装置を設置し、硬化工程が終了するまでスタンパーに対して密着した状態を維持することが、正確に特定形状を転写する上で好ましい。
【００８０】
前述した硬化工程で使用するスタンパーとして、防眩層の微細凹凸表面の形状を精度よく制御する観点から、所定のパターンを用いて作成したエンボスロールがより好ましい。そのエンボスロールについて以下に説明する。
【００８１】
〔所定のパターンを用いて作成したエンボスロール〕
このエンボスロールは、０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内に極大値を持たないエネルギースペクトルを示すパターンを用いて作製されるものである。かかるパターンを使用することにより、エンボスロール表面に所定の空間周波数分布を持つ微細凹凸形状を形成することが可能となる。ここでいう「パターン」とは、防眩性フィルムにおける防眩層の表面凹凸形状の元となるものであり、該表面凹凸を形成するために用いられる、典型的には計算機によって作成された２階調（たとえば、白と黒とに二値化された画像データ）または３階調以上のグラデーションからなる画像データを意味するが、当該画像データへ一義的に変換可能なデータ（行列データなど）も含み得る。画像データへ一義的に変換可能なデータとしては、各画素の座標および階調のみが保存されたデータなどが挙げられる。
【００８２】
エンボスロールを作成する際に使用するパターンのエネルギースペクトルは、たとえば画像データであれば、画像データを２５６階調のグレースケールに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは、画像データ面内の直交座標を表し、ｆxおよびｆyはそれぞれ、ｘ方向の空間周波数およびｙ方向の空間周波数を表している。
【００８３】
微細表面凹凸の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、パターンのエネルギースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、微細表面凹凸の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、エネルギースペクトルが計算される。具体的には、式（５）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｇ（ｆx，ｆy）を計算し、離散関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗することによってエネルギースペクトルが求められる。ここで、式（５）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。また、Ｍはｘ方向の画素数であり、Ｎはｙ方向の画素数であり、ｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。さらに、ΔｆxおよびΔｆyはそれぞれｘ方向およびｙ方向の空間周波数間隔であり、式（６）および式（７）で定義される。式（５）および式（６）中のΔｘおよびΔｙはそれぞれ、ｘ軸方向、ｙ軸方向における水平分解能である。なお、パターンが画像データである場合には、ΔｘおよびΔｙは、それぞれ１画素のｘ軸方向の長さおよびｙ軸方向の長さと等しい。すなわち、６４００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝４μｍであり、１２８００ｄｐｉの画像データとしてパターンを作成した場合には、Δｘ＝Δｙ＝２μｍである。
【００８４】
【００８５】
図９は、本発明の防眩性フィルムを作製するために用いることができるパターンである画像データの一部を示す図であり、階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表したものである。図９に示したパターンである画像データは２ｍｍ×２ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。
【００８６】
図１０は、図９に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）を白と黒のグラデーションで示した図である。図９に示されるパターンは、ドットをランダムに配置したものであるため、そのエネルギースペクトルは、図１０に示されるように、原点を中心に対称となる。よって、パターンのエネルギースペクトルの極大値を示す空間周波数はエネルギースペクトルの原点を通る断面より求めることができる。図１１は、図１０に示したエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面を示す図である。これより図９に示したパターンは、空間周波数０．０４５μｍ-1に極大値を持つが、０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内には極大値を持たないことがわかる。
【００８７】
防眩性フィルムを作製するためのパターンのエネルギースペクトルが０μｍ-1より大きく０．０４μｍ-1以下の範囲内に極大値を持つ場合には、得られる防眩フィルムの微細凹凸表面が上記した特定の空間周波数分布を示さなくなるため、ギラツキの解消と十分な防眩性を兼備することができない。
【００８８】
次に、前記エンボスロールの製造方法について説明する。このエンボスロールは、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。図１２は、金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１２には、各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図１２を参照しながら、上記各工程について詳細に説明する。
【００８９】
〔１〕第１めっき工程
本工程では、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。
【００９０】
第１めっき工程において用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味であり、また「ニッケル」は、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行なっても無電解めっきで行なってもよいが、通常は電解めっきが採用される。
【００９１】
銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどに鑑み、５００μｍ程度までとすることが好ましい。
【００９２】
金型用基材を構成する金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性を考慮すると、軽量なアルミニウムを用いることが好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。
【００９３】
また、金型用基材の形状は、円柱状または円筒状のロールであるのが好ましい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。
【００９４】
〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。当該工程を経て、基材表面は、鏡面に近い状態に研磨されることが好ましい。これは、基材となる金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１２（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。
【００９５】
銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材表面７を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。
【００９６】
研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性がある。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストなどを考慮して適宜決定される。
【００９７】
〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した金型用基材７の研磨された表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図１２（ｂ）には、金型用基材７の研磨された表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。
【００９８】
感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、たとえば、分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物等を用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としては、たとえば、フェノール樹脂系やノボラック樹脂系等を用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤等の各種添加剤を配合してもよい。
【００９９】
これらの感光性樹脂を金型用基材７の研磨された表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましい。溶媒としては、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒等を使用することができる。
【０１００】
感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、およびカーテン塗布等の公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜６μｍの範囲とすることが好ましい。
【０１０１】
〔４〕露光工程
続く露光工程では、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は、塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍ等）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。
【０１０２】
金型の表面凹凸形状、ひいては防眩層の表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上記パターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましく、具体的には、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行なうに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）等が挙げられる。
【０１０３】
図１２（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１１は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域１１が現像液によって溶解され、露光されていない領域１０のみ基材表面上に残り、図１２（ｄ）に示すようなマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１１は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域１０が現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ基材表面上に残り、図１２（ｅ）に示すようなマスクとなる。
【０１０４】
〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１０は現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１１のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１０が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。
【０１０５】
現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等のアルカリ性水溶液；および、キシレン、トルエン等の有機溶剤等を挙げることができる。
【０１０６】
現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
【０１０７】
図１２（ｅ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行なった状態を模式的に示している。図１２（ｃ）において露光されていない領域１０が現像液によって溶解され、露光された領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図１２（ｄ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行なった状態を模式的に示している。図１２（ｃ）において露光された領域１１が現像液によって溶解され、露光されていない領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。
【０１０８】
〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材をエッチングし、研磨されためっき面に凹凸を形成する。図１３は、金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１３（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い箇所１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い箇所１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い箇所１３との境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い箇所１３との境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることをサイドエッチングと呼ぶ。
【０１０９】
第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）等を用いて、金属表面を腐食させることによって行なわれるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法等によって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。
【０１１０】
第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムを適用した画像表示装置において白ちゃけが生じる虞がある。傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む微細凹凸表面を有する防眩フィルムを得るためには、第１エッチング工程におけるエッチング量は、２〜８μｍであることがより好ましい。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行なってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行なってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行なう場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。
【０１１１】
〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができる。剥離液のｐＨ、温度、濃度および浸漬時間等を変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像等の方法を用いることができる。
【０１１２】
図１３（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスク１２として使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜からなるマスク１２を利用したエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成されている。
【０１１３】
〔８〕第２めっき工程
続いて、形成された凹凸面へクロムめっきを施すことによって、さらに表面の凹凸形状を鈍らせる。図１３（ｃ）には、第１エッチング工程のエッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５にクロムめっき層１６を形成することにより、第１の表面凹凸形状１５よりも凹凸が鈍った表面（クロムめっきの表面１７）が形成されている状態が示されている。
【０１１４】
クロムめっきとしては、ロールの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用することが好ましい。このようなクロムめっきとしては特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行なわれ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ3）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。
【０１１５】
なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、防眩フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。
【０１１６】
また、めっき後の表面研磨も好ましくない。すなわち、第２のめっき工程後に表面を研磨する工程を設けることなく、クロムめっきが施された凹凸面を、そのまま基材フィルム上の樹脂層表面に転写される金型の凹凸面として用いることが好ましい。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。
【０１１７】
このように、微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られる。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなる上に、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。
【０１１８】
当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下する上に、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。
【０１１９】
また、本発明の防眩フィルムを作製するための金型の製造方法においては、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程の後に、第１エッチング工程によって形成された凹凸面を、さらにエッチング処理により鈍らせる第２エッチング工程を実施することも出来る。すなわち、第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、さらにエッチング処理によって鈍らせる。
この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図１４には、第２エッチング処理によって、金型用基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１８が形成された状態が示されている。
【０１２０】
第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ3）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ2）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ3）4Ｃｌ2）などを用い、表面を腐食させることによって行なわれるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内とすることが好ましく、また、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含む微細凹凸表面を有する防眩フィルムを得るために、４〜２０μｍの範囲内とすることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行なってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行なってもよい。エッチング処理を２回以上に分けて行なう場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が上記範囲内とされることが好ましい。
【０１２１】
＜防眩性偏光板、画像表示装置＞
本発明の防眩性フィルムは、優れた防眩性を示し、良好なコントラストを発現しながら、「白ちゃけ」および「ギラツキ」の発生による視認性の低下を効果的に防止できるため、画像表示装置に装着したときに視認性に優れたものとなる。また、本発明の防眩性フィルムは、防眩層に微粒子を含有させているものの、該防眩層への気泡の発生を防止しており、安定した品質のものとなっている。
【０１２２】
くわえて、本発明の防眩性フィルムは、防眩性偏光板や画像表示装置の部材として好適に使用しうる。画像表示装置が液晶ディスプレイである場合には、この防眩性フィルムを偏光板に適用することができる。すなわち、偏光板は一般に、ヨウ素または二色性染料が吸着配向されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムからなる偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された形態のものが多いが、その一方の保護フィルムを本発明の防眩性フィルムで構成する。偏光フィルムと、本発明の防眩性フィルムとを、その防眩性フィルムの基材フィルム側で貼り合わせることにより、防眩性偏光板とすることができる。この場合、偏光フィルムの他方の面は、何も積層されていない状態でもよいし、保護フィルムまたは他の光学フィルムが積層されていてもよいし、また液晶セルに貼合するための粘着剤層が積層されていてもよい。また、偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された偏光板の当該保護フィルム上に、本発明の防眩性フィルムをその基材フィルム側で貼合して、防眩性偏光板とすることもできる。さらに、偏光フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼合された偏光板において、当該保護フィルムとして上記基材フィルムを偏光フィルムに貼合した後、この基材フィルム上に防眩層を形成することにより、防眩性偏光板とすることもできる。
【０１２３】
また、前記防眩性偏光板をさらに画像表示装置の部材として使用しうる。この場合、画像表示装置は、該防眩性偏光板と画像表示素子とを備えるものであり、前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される。
【実施例】
【０１２４】
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１２５】
〔１〕防眩性フィルムの表面形状の測定
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩性フィルムの表面形状を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍とした。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は８５０μｍ×８５０μｍであった。
【０１２６】
（標高のエネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22およびＨ32／Ｈ22）
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて得られた測定データから、防眩性フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求め、得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ2（ｆx，ｆy）を計算し、ｆx＝０の断面曲線であるＨ2（０，ｆy）より、空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12および空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ12／Ｈ22を計算した。また、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ32／Ｈ22についても計算した。
【０１２７】
（微細凹凸表面の傾斜角度）
三次元顕微鏡「ＰＬμ２３００」（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて得られた測定データをもとに、発明を実施するための形態の内容で前述したアルゴリズムに基づいて計算し、凹凸面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以下である面の割合を計算した。
【０１２８】
（防眩層における微粒子の突出程度（埋没状態）の評価）
防眩層が微粒子を含有しないこと以外は同様にして作製された防眩性フィルムを比較対象とし、微細凹凸表面の空間周波数分布および凹凸面の傾斜角度のヒストグラムが当該比較対象と同じである場合、すなわち、標高のエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ（ｆx，ｆy）のｆx＝０の断面曲線であるＨ2（０，ｆy）および傾斜角度のヒストグラムが当該比較対象と略重なる場合、微粒子を含有する防眩フィルムの凹凸表面形状は、微粒子によって影響を受けていないといえることから、微粒子は防眩層表面から突出しておらず（防眩層中に埋没しており）、凹凸表面は、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物によって形成された表面のみからなると判断した。下記表１において、活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物によって形成された表面のみからなる場合を○と示し、そうでない場合を×と示した。
【０１２９】
（防眩層への気泡混入の観察）
実施例及び比較例で得られた防眩性フィルムを、１ｍｍ×１ｍｍの範囲を光学顕微鏡で拡大しながら、測定箇所を３点観察する。１０μｍ以上の気泡が５個以上観察された場合は×と示し、５個未満の場合を○と示した。
【０１３０】
〔２〕防眩性フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩性フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠したヘイズメータ「ＨＭ−１５０型」（村上色彩技術研究所製）を用いてヘイズを測定した。防眩性フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。
【０１３１】
〔３〕防眩性フィルムの防眩性能の評価
（映り込み目視評価）
防眩性フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無を目視で評価した。映り込み、白ちゃけおよび質感は、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。
【０１３２】
映り込み １：映り込みが観察されない、
２：映り込みが少し観察される、
３：映り込みが明瞭に観察される。
【０１３３】
（ギラツキの評価）
ギラツキは、以下の方法で評価した。まず、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターンが形成され、そのクロム遮光パターンの形成されていない部分が開口部となっているユニットセルを用意した。なお、このユニットセルの寸法は２５４μｍ×８４μｍ（縦×横）であるため、開口部の寸法は２４４μｍ×７４μｍ（縦×横）となる。次いで、当該ユニットセルを縦横に多数並べて、フォトマスクを形成した。
次に、クロム遮光パターンが表面側になるように前記フォトマスクを面光源の上に置いた。さらに、防眩層が表面側になるように防眩性フィルムをガラス板に粘着剤で貼ったサンプルを、防眩層が表面側になるように前記フォトマスクの上に置いた。
なお、下から、面光源、フォトマスク、ガラス板、防眩性フィルムの順で置かれた状態になっている。
【０１３４】
この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル３はごくわずかにギラツキが観察される状態である。
【０１３５】
〔４〕防眩性フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２５６階調のグレースケールの画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆx，ｆy）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｇ2（ｆx，ｆy）を計算し、ｆx＝０の断面曲線であるＧ2（０，ｆy）より、空間周波数が０μｍ-1より大きく、かつ、絶対値が最も小さい空間周波数での極大値を求めた。
【０１３６】
〔５〕塗工液の沈降度測定
微粒子が分散している塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置し、該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を観測した。その値をｘとし、下記式（Ａ）から沈降度Ｓを算出した。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
【０１３７】
〔６〕塗工液による塗工装置汚染性評価
塗工装置（スロットダイコーター）内部で微粒子が沈降した場合、スロットダイコーターの吐出部であるスロットに、内部で蓄積した微粒子が詰まるため、防眩性フィルムに連続したスジムラ等のムラが発生する。従って、このスジムラの有無とスロットダイコーターのマニフォールド部の粒子が沈殿している様を観察し、スジムラが無く、マニフォールド部に粒子の沈殿が無い場合を○、スジムラがある場合もしくはマニフォールド部に粒子の沈殿が確認された場合を×した。
【０１３８】
＜実施例１＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図９に示される画像データからなるパターンの複数を連続して繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザー光によって露光し、現像した。レーザー光による露光、および現像は「Ｌａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ」（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行なった。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。図９に示されるパターンから計算されるエネルギースペクトルＧ2（ｆx，ｆy）のｆx＝０における断面は、図１１に示されるとおりである。図９に示されるパターンは、空間周波数０．０４５μｍ-1にエネルギースペクトルの極大値を示す。
【０１３９】
その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は７μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行なった。その際のエッチング量は１８μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行ない、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。
【０１４０】
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０重量％で溶解されており、硬化後に１．５３の屈折率を示す紫外線硬化型樹脂組成物を入手した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０重量部、
多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの反応生成物） ４０重量部、
レベリング剤（メガファックＦ−４７７（ＤＩＣ社製、フッ素系レベリング剤）） ０．５重量部
重合開始剤（ルシリンＴＰＯ”（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）） ５重量部
【０１４１】
この紫外線硬化型樹脂組成物に、平均粒子径が６．５μｍで屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズ（微粒子）を、紫外線硬化型樹脂１００重量部（当該紫外線硬化型樹脂の硬化により形成されるバインダ樹脂も実質的に１００重量部となる）あたり２０重量部添加した後、固形分（樹脂ビーズを含む）の濃度が４０重量％となるように酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤を添加して塗工液を調製した。
【０１４２】
透明支持体である厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが１０μｍとなるように塗布し、８０℃に設定した乾燥機中で１分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、紫外線硬化型樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、フュージョン社製の“Ｖバルブ”ランプ（最大発光波長４２０ｎｍ）を光源として、積算光量５５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射した（第一照射）。その後、ニッケル平板から硬化塗膜を剥がし、その硬化塗膜側から、フュージョン社製の“Ｄバルブ”ランプ（最大発光波長３８０ｎｍ）を光源として、積算光量８５０ｍＪ／ｃｍ２で２回連続して紫外線を照射した（第二照射）。こうして、表面にハードコート層とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩性フィルムＡを作製した。
【０１４３】
＜実施例２＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルとしたこと以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＢを作製した。
【０１４４】
＜実施例３＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとしたこと以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＣを作製した。
【０１４５】
＜比較例１＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤を酢酸エチルとし、さらに、屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズ（微粒子）の平均粒子径を、６．５μｍから７．３μｍとした以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＤを作製した。
【０１４６】
＜比較例２＞
酢酸エチルとプロピレングリコールモノメチルエーテルの５／５溶剤をプロピレングリコールモノメチルエーテルとし、さらに、平均粒子径が６．５μｍで屈折率が１．４９のメタクリル酸メチル重合体樹脂ビーズを、平均粒子径が３．５μｍで屈折率が１．５９のメタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズとした以外は、実施例１と同様にして防眩性フィルムＥを作製した。
【０１４７】
得られた防眩フィルムの表面形状および光学特性の評価結果を表１および表２に示す。
【０１４８】
【表１】
【０１４９】
【表２】
【符号の説明】
【０１５０】
１ 防眩性フィルム
１０１ 防眩層
１０２ 活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物
１０３ 微粒子
１０４ 透明支持体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルムであって、
前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、
前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、
下記式（Ａ）で示される前記塗工液の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする防眩性フィルム。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【請求項２】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子が、有機微粒子である請求項１に記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子の平均粒子径が、６μｍ以上１５μｍ以下である請求項１又は２に記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との屈折率差が、０．００５以上０．１６以下である請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
前記塗工液における微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して１０重量部以上１００重量部以下である請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項６】
表面ヘイズが０．１％以上５％以下であり、全ヘイズが５％以上３０％以下である請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項７】
前記防眩層における微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ12／Ｈ22が３〜１５の範囲内であり、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下である請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の防眩性フィルムを製造する方法であって、
前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程、
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程、
前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程、及び、
前記硬化工程の後、塗工面からスタンパーを剥離する剥離工程
を含む防眩性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記スタンパーが凹凸形状を有する鋳型であり、前記硬化工程において、積層体の塗工面に、凹凸形状を有する鋳型の該凹凸面を押し付けながら硬化する請求項８に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
凹凸形状を有する鋳型が、エンボスロールである請求項９に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれかに記載の防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合している防眩性偏光板。
【請求項１２】
請求項８〜１０のいずれかに記載の方法により製造された防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合している防眩性偏光板。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の防眩性偏光板と、画像表示素子とを備え、
前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される画像表示装置。
【請求項１】
微細凹凸表面を有する防眩層が、透明支持体上に形成されている防眩性フィルムであって、
前記微細凹凸表面は、傾斜角度が５°以下である面を９５％以上含むものであり、
前記防眩層は、活性エネルギー線硬化型樹脂、微粒子及び希釈溶剤を含有する塗工液を前記透明支持体上に塗工した後、乾燥し、次いでスタンパーを押し付けながら硬化処理することにより形成されるものであり、且つ、
下記式（Ａ）で示される前記塗工液の沈降度Ｓが、１以上７６以下であることを特徴とする防眩性フィルム。
Ｓ＝１００−ｘ／３０×１００ （Ａ）
〔式中、ｘは、微粒子が分散している前記塗工液３０ｍｌを１００ｍｌのメスシリンダーに入れた後、６時間放置して観測される該塗工液の透明上澄み層と懸濁層との界面の目盛り（ｍｌ）を表し、Ｓは、前記塗工液の沈降度を表す。〕
【請求項２】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子が、有機微粒子である請求項１に記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子の平均粒子径が、６μｍ以上１５μｍ以下である請求項１又は２に記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
前記微粒子のうち少なくとも１種類の微粒子と活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化物との屈折率差が、０．００５以上０．１６以下である請求項１〜３のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
前記塗工液における微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化型樹脂１００重量部に対して１０重量部以上１００重量部以下である請求項１〜４のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項６】
表面ヘイズが０．１％以上５％以下であり、全ヘイズが５％以上３０％以下である請求項１〜５のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項７】
前記防眩層における微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ12と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ12／Ｈ22が３〜１５の範囲内であり、空間周波数０．１μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ32と、空間周波数０．０４μｍ-1におけるエネルギースペクトルＨ22の比Ｈ32／Ｈ22が０．１以下である請求項１〜６のいずれかに記載の防眩性フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の防眩性フィルムを製造する方法であって、
前記塗工液を透明支持体上に塗工する塗工工程、
前記塗工工程において塗工された塗工液を乾燥して積層体を得る乾燥工程、
前記乾燥工程で得られる積層体の塗工面に、スタンパーを押し付けながら活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化型樹脂を硬化させる硬化工程、及び、
前記硬化工程の後、塗工面からスタンパーを剥離する剥離工程
を含む防眩性フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記スタンパーが凹凸形状を有する鋳型であり、前記硬化工程において、積層体の塗工面に、凹凸形状を有する鋳型の該凹凸面を押し付けながら硬化する請求項８に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
凹凸形状を有する鋳型が、エンボスロールである請求項９に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜７のいずれかに記載の防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合している防眩性偏光板。
【請求項１２】
請求項８〜１０のいずれかに記載の方法により製造された防眩性フィルムの防眩層と反対側の面に偏光フィルムが貼合している防眩性偏光板。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の防眩性偏光板と、画像表示素子とを備え、
前記防眩性偏光板が、防眩層を外側にして前記画像表示素子の視認側に配置される画像表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２０１１−２４８２８９（Ｐ２０１１−２４８２８９Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２４２２２（Ｐ２０１０−１２４２２２）
【出願日】平成２２年５月３１日（２０１０．５．３１）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月３１日（２０１０．５．３１）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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