露光ヘッド、画像形成ユニット、及び画像形成装置
【課題】発光強度の経時変化を正確に把握することができる露光ヘッドを得る。
【解決手段】透光性基板３０１と、透光性基板３０１の一方の面に配置された複数の発光素子３１０と、透光性基板３０１に配置された発光素子３１０から射出され透光性基板３０１内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段３２０と、を含む発光基板３００を備え、発光素子３１０から射出され透光性基板３０１を透過した光を、発光素子３１０と透光性基板３０１を介して対向する像担持体２１上に照射して、像担持体２１に所定のパターンを形成する露光ヘッド２９であって、透光性基板３０１内には、該透光性基板３０１内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点３３０が形成されていることを特徴とする露光ヘッド２９。
【解決手段】透光性基板３０１と、透光性基板３０１の一方の面に配置された複数の発光素子３１０と、透光性基板３０１に配置された発光素子３１０から射出され透光性基板３０１内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段３２０と、を含む発光基板３００を備え、発光素子３１０から射出され透光性基板３０１を透過した光を、発光素子３１０と透光性基板３０１を介して対向する像担持体２１上に照射して、像担持体２１に所定のパターンを形成する露光ヘッド２９であって、透光性基板３０１内には、該透光性基板３０１内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点３３０が形成されていることを特徴とする露光ヘッド２９。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の発光素子を備える露光ヘッド、該露光ヘッドを備える画像形成ユニット、及び、該露光ヘッドを備える画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光体ドラムを露光して該感光体ドラムの表面に形成した潜像を、１次転写ローラ等を介して紙等の媒体に転写して画像を形成する方式の画像形成装置に用いられる露光ヘッドのひとつとして、基板上に規則的に配置した発光素子と屈折率分布型レンズとを用いる型のものがある。１つの発光素子から射出された光を複数の屈折率分布型レンズの夫々が感光体ドラムの表面の同一位置に重なるように結像することで、該表面に１つのスポットが形成される。かかるスポットが集合することで、画像（潜像）となる。
【０００３】
かかる方式の露光ヘッドで起こり得る問題として、複数の発光素子間の光量のばらつきがある。発光頻度のばらつき等により、同一の電流あるいは電圧を印加した場合における各々の発光素子が射出する光の強度が経時的に変化してばらつきとなり、良好な画像（潜像）を形成する際の妨げとなる。かかる現象を抑制するために、例えば特許文献１に記載の露光ヘッドでは、発光基板上に発光素子と共に光検出手段を配置して、発光素子毎の光量を測定することが可能となっている。
【０００４】
図１６に、かかる方式、即ち従来の露光ヘッドが備える発光基板として、発光素子としてボトムエミッション型の有機ＥＬ素子３１０を用いる発光基板３００を模式的に示す。（ａ）が上面図、（ｂ）が側面図、（ｃ）がＢ−Ｂ’線における断面図である。図示するように、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された有機ＥＬ素子３１０の周辺に、光検出手段としてのフォトダイオード等の受光素子からなる光検出手段３２０が配置されている。
【０００５】
有機ＥＬ素子３１０から射出された光の一部が、透光性基板３０１の表面と裏面とで反射を繰り返しながら光検出手段３２０に到達する構成となっており、個々の有機ＥＬ素子３１０を順次点灯させて光量を測定できる。そして、かかる測定結果に基づき、各々の有機ＥＬ素子３１０に印加する電流（又は電圧）値を補正することで、高精度の画像（潜像）を形成することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−６６７５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記構成の発光基板では有機ＥＬ素子３１０が射出する光のうち光検出手段３２０で測定できる光の割合が少ないという課題がある。すなわち、図１６（ｃ）に示すように、光検出手段３２０に到達する光は角度範囲θａの範囲内の光Ｌ１に限られており、該角度範囲外の光は光検出手段３２０に到達することなく発光基板３００の外部に射出される。したがって、有機ＥＬ素子３１０の発光強度の経時変化を正確に把握することが困難であり、複雑な増幅回路あるいはノイズ低減回路等を用いない場合、上述の補正の精度が低下し得るという問題点がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］
透光性基板と、前記透光性基板の一方の面に配置された複数の発光素子と、前記透光性基板に配置された、前記発光素子から射出され前記透光性基板内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段と、を含む発光基板を備え、前記発光素子から射出され前記透光性基板を透過した光を、前記発光素子と前記透光性基板を介して対向する像担持体上に照射して、前記像担持体に所定のパターンを形成する露光ヘッドであって、前記透光性基板内には、該透光性基板内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点が形成されていることを特徴とする露光ヘッド。
【００１０】
このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を増加させることができる。したがって、上述の補正を高い精度で行うことができ、高精度の画像（潜像）を形成することができる。
【００１１】
［適用例２］
上述の露光ヘッドであって、前記透光性基板の表面における、前記発光素子が配置されている領域と該発光素子と対向する領域と前記光検出手段が配置されている領域と、を除く領域の少なくとも一部に、前記発光素子が射出する光を反射する光反射層が配置されていることを特徴とする露光ヘッド。
【００１２】
このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができる。したがって、上述の補正をより一層高い精度で行うことができ、より一層高精度の画像を形成することができる。
【００１３】
［適用例３］
上述の露光ヘッドであって、前記発光素子が有機ＥＬ素子であることを特徴とする露光ヘッド。
【００１４】
このような構成によれば、上記透光性基板上にＴＦＴプロセスで形成した駆動用トランジスタと有機ＥＬ素子を組み合わせることができ、上記露光ヘッドの製造コストを低減できる。
【００１５】
［適用例４］
上述の露光ヘッドであって、前記改質点はレーザ光で形成されたものであることを特徴とする露光ヘッド。
【００１６】
レーザ光を用いると上記透光性基板内の任意の位置に上記改質点を形成できる。したがって、このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができ、上述の補正を効率的に行える。
【００１７】
［適用例５］
上述の露光ヘッドであって、前記改質点の形成密度が、前記透光性基板内の位置により異なることを特徴とする露光ヘッド。
【００１８】
このような構成によれば、例えば上記光検出手段の近傍に高い密度で上記改質点を形成することで、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができる。したがって、上記露光ヘッドの製造コストを低減しつつ、上述の補正を効率的に行うことができる。
【００１９】
［適用例６］
上述の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成ユニット。
【００２０】
このような構成によれば、上記像担持体に高精度の画像（潜像）を形成できるため、紙等の媒体に形成する画像の品質を向上できる。
【００２１】
［適用例７］
上述の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成装置。
【００２２】
このような構成によれば、上記像担持体に高精度の画像（潜像）を形成できるため、紙等の媒体に形成する画像の品質を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照し、本発明を具体化した電気光学装置としての液晶装置の実施形態について述べる。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、該各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００２４】
（第１の実施形態）
図１〜図４に、本実施形態にかかる露光ヘッド、及び該露光ヘッドを備える画像形成ユニット、及び該画像形成ユニットを備える画像形成装置１を示す。
図１は、第１実施形態にかかる露光ヘッド２９を適用できる画像形成装置１を示す図である。また、図２は、図１に示す画像形成装置１の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の４色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック（Ｋ）のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置１である。
【００２５】
なお図１は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置１では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がＣＰＵやメモリなどを有するメインコントローラＭＣに与えられると、このメインコントローラＭＣはエンジンコントローラＥＣに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータＶＤをヘッドコントローラＨＣに与える。また、このヘッドコントローラＨＣは、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤとエンジンコントローラＥＣからの垂直同期信号Ｖsync及びパラメータ値とに基づき各色の露光ヘッド２９を制御する。これによって、エンジン部ＥＧが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙及びＯＨＰ用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
【００２６】
この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体３内には、電源回路基板、メインコントローラＭＣ、エンジンコントローラＥＣ及びヘッドコントローラＨＣを内蔵する電装品ボックス５が設けられている。また、画像形成ユニット７、転写ベルトユニット８及び給紙ユニット１１もハウジング本体３内に配設されている。また、図１においてハウジング本体３内右側には、２次転写ユニット１２、定着ユニット１３、シート案内部材１５が配設されている。なお、給紙ユニット１１は、画像形成装置１本体に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット及び転写ベルトユニット８については、それぞれ取り外して修理又は交換を行うことが可能な構成になっている。
【００２７】
画像形成ユニット７は、複数の異なる色の画像を形成する４個の画像形成ステーションＹ（イエロー用）、Ｍ（マゼンタ用）、Ｃ（シアン用）、Ｋ（ブラック用）を備えている。また、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋは、主走査方向ＭＤ（図３参照）に所定長さの表面を有する円筒形の感光体ドラム２１を設けている。そして、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれは、対応する色のトナー像を、感光体ドラム２１の表面に形成する。感光体ドラム２１は、軸方向が主走査方向ＭＤに略平行となるように配置されている。また、各感光体ドラム２１はそれぞれ専用の駆動モータに接続され、回転方向Ｄ２１（図１に示す矢印の方向）の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム２１の表面が、主走査方向ＭＤに略直交する副走査方向ＳＤ（図４参照）に搬送されることとなる。また、感光体ドラム２１の周囲には、回転方向に沿って帯電部２３、露光ヘッド２９、現像部２５及び感光体クリーナ２７が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋで形成されたトナー像を転写ベルトユニット８が有する転写ベルト８１に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションＫで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図１において、画像形成ユニット７の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
【００２８】
帯電部２３は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム２１の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム２１の回転動作に伴って感光体ドラム２１に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部（図示省略）に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部２３と感光体ドラム２１が当接する帯電位置で感光体ドラム２１の表面を帯電させる。
【００２９】
露光ヘッド２９は、その長手方向が主走査方向ＭＤに対応するとともに、その幅方向が副走査方向ＳＤに対応するように、感光体ドラム２１に対して配置されている。したがって、露光ヘッド２９の長手方向は、主走査方向ＭＤと略平行である。そして、露光ヘッド２９は、長手方向に並べて配置された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム２１から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部２３により帯電された感光体ドラム２１の表面に対して光を照射して（つまり、露光して）該表面に潜像を形成する。なお、この実施形態では、各色の露光ヘッド２９を制御するためにヘッドコントローラＨＣが設けられ、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤと、エンジンコントローラＥＣからの信号とに基づき各露光ヘッド２９を制御している。すなわち、この実施形態では、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラＭＣの画像処理部５１に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータＶＤが作成されるとともに、該ビデオデータＶＤがメイン側通信モジュール５２を介してヘッドコントローラＨＣに与えられる。また、ヘッドコントローラＨＣでは、ビデオデータＶＤはヘッド側通信モジュール５３を介してヘッド制御モジュール５４に与えられる。このヘッド制御モジュール５４には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号ＶsyncがエンジンコントローラＥＣから与えられている。そして、これらの信号及びビデオデータＶＤなどに基づきヘッドコントローラＨＣは各色の露光ヘッド２９に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各露光ヘッド２９に出力する。こうすることで、各露光ヘッド２９において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
【００３０】
そして、この実施形態においては、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの感光体ドラム２１、帯電部２３、現像部２５及び感光体クリーナ２７を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラＥＣと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラＥＣに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
【００３１】
現像部２５は、その表面にトナーが担持する現像ローラ２５１を有する。そして、現像ローラ２５１と電気的に接続された現像バイアス発生部（図示省略）から現像ローラ２５１に印加される現像バイアスによって、現像ローラ２５１と感光体ドラム２１とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ２５１から感光体ドラム２１に移動して露光ヘッド２９により形成された静電潜像が顕在化される。
【００３２】
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１に搬送された後、後に詳述する転写ベルト８１と各感光体ドラム２１が当接する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１に１次転写される。
【００３３】
また、この実施形態では、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１の１次転写位置ＴＲ１の下流側でかつ帯電部２３の上流側に、感光体ドラム２１の表面に当接して感光体クリーナ２７が設けられている。この感光体クリーナ２７は、感光体ドラムの表面に当接することで１次転写後に感光体ドラム２１の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
【００３４】
転写ベルトユニット８は、駆動ローラ８２と、図１において駆動ローラ８２の左側に配設される従動ローラ８３（ブレード対向ローラ）と、これらのローラに張架され図示矢印Ｄ８１の方向（搬送方向）へ循環駆動される転写ベルト８１とを備えている。また、転写ベルトユニット８は、転写ベルト８１の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋが有する感光体ドラム２１各々に対して一対一で対向配置される、４個の１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを備えている。これらの１次転写ローラ８５は、それぞれ１次転写バイアス発生部（図示省略）と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図１に示すように全ての１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋ側に位置決めすることで、転写ベルト８１を画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれが有する感光体ドラム２１に押し遣り当接させて、各感光体ドラム２１と転写ベルト８１との間に１次転写位置ＴＲ１を形成する。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部から１次転写ローラ８５に１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してカラー画像を形成する。
【００３５】
一方、モノクロモード実行時は、４個の１次転写ローラ８５のうち、カラー１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃをそれぞれが対向する画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃから離間させるとともにモノクロ１次転写ローラ８５Ｋのみを画像形成ステーションＫに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションＫのみを転写ベルト８１に当接させる。その結果、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋと画像形成ステーションＫとの間にのみ１次転写位置ＴＲ１が形成される。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部からモノクロ１次転写ローラ８５Ｋに１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してモノクロ画像を形成する。
【００３６】
さらに、転写ベルトユニット８は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋの下流側でかつ駆動ローラ８２の上流側に配設された下流ガイドローラ８６を備える。また、この下流ガイドローラ８６は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋが画像形成ステーションＫの感光体ドラム２１に当接して形成する１次転写位置ＴＲ１での１次転写ローラ８５Ｋと感光体ドラム２１との共通内接線上において、転写ベルト８１に当接するように構成されている。
【００３７】
駆動ローラ８２は、転写ベルト８１を図示矢印Ｄ８１の方向に循環駆動するとともに、２次転写ローラ１２１のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ８２の周面には、厚さ３ｍｍ程度、体積抵抗率が１０００ｋΩ・ｃｍ以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する２次転写バイアス発生部から２次転写ローラ１２１を介して供給される２次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ８２に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ８２と２次転写ローラ１２１との当接部分（２次転写位置ＴＲ２）へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト８１に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
【００３８】
給紙ユニット１１は、シートを積層保持可能である給紙カセット７７と、給紙カセット７７からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ７９とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ７９により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対８０において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材１５に沿って２次転写位置ＴＲ２に給紙される。
【００３９】
２次転写ローラ１２１は、転写ベルト８１に対して離当接自在に設けられ、２次転写ローラ駆動機構（図示省略）により離当接駆動される。定着ユニット１３は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ１３１と、この加熱ローラ１３１を押圧付勢する加圧部１３２とを有している。そして、その表面に画像が２次転写されたシートは、シート案内部材１５により、加熱ローラ１３１と加圧部１３２の加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部１３２は、２つのローラ１３２１，１３２２と、これらに張架される加圧ベルト１３２３とで構成されている。そして、加圧ベルト１３２３の表面のうち、２つのローラ１３２１，１３２２により張られたベルト張面を加熱ローラ１３１の周面に押し付けることで、加熱ローラ１３１と加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体３の上面部に設けられた排紙トレイ４に搬送される。
【００４０】
また、この装置では、従動ローラ８３に対向してクリーナ部７１が配設されている。クリーナ部７１は、クリーナブレード７１１と廃トナーボックス７１３とを有する。クリーナブレード７１１は、その先端部を転写ベルト８１を介して従動ローラ８３に当接することで、２次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス７１３に回収される。また、クリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３は、従動ローラ８３と一体的に構成されている。したがって、次に説明するように従動ローラ８３が移動する場合は、従動ローラ８３と一緒にクリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３も移動することとなる。
【００４１】
図３は、本実施形態にかかる露光ヘッドの概略を示す斜視図である。また、図４は、図３に示した露光ヘッドの幅方向断面図である。上述の通り、その長手方向ＬＧＤが主走査方向ＭＤに対応するとともに、その幅方向ＬＴＤが副走査方向ＳＤに対応するように、露光ヘッド２９は感光体ドラム２１に対して配置されている。なお、長手方向ＬＧＤと幅方向ＬＴＤは、互いに略直交する。本実施形態における露光ヘッド２９は、ケース２９１を備えるとともに、かかるケース２９１の長手方向ＬＧＤの両端には、位置決めピン２９１１とねじ挿入孔２９１２が設けられている。そして、かかる位置決めピン２９１１を、感光体ドラム２１を覆うとともに感光体ドラム２１に対して位置決めされた感光体カバー（図示省略）に穿設された位置決め孔（図示省略）に嵌め込むことで、露光ヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決めされる。そしてさらに、ねじ挿入孔２９１２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、露光ヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決め固定される。
【００４２】
ケース２９１は感光体ドラム２１の表面に対向する位置にレンズアレイ２９９を保持するとともに、内部に該レンズアレイに対向するように発光基板３００を備えている。レンズアレイ２９９は複数の屈折率分布型のレンズを千鳥状に配置して構成されており、後述する有機ＥＬ素子３１０が射出する光を、感光体ドラム２１上に結像させている。
【００４３】
発光基板３００はガラス等の透光性材料からなる透光性基板３０１（図５参照）と、該透光性基板の裏面（レンズアレイ２９９と対向する面の反対側の面）に（長手方向に）千鳥状に配置された複数の、発光素子としての有機ＥＬ素子３１０等からなる。上記裏面に配置された図示しない駆動回路よって駆動され、レンズアレイ２９９の方向に向けて光を射出する。そして、かかる光がレンズアレイ２９９により、感光体ドラム２１の表面にスポットとして結像される。
なお、レンズアレイ２９９は、複数の同一形状の屈折率分布型レンズを二段に俵積みして構成されている。後述する発光基板３００上の有機ＥＬ素子３１０の配置に対応させた構成であり、光軸に垂直な断面は、円形断面が千鳥状に２列に並んだ状態である。
【００４４】
図４（幅方向断面図）に示すように、固定器具２９１４によって、裏蓋２９１３が発光基板３００を介してケース２９１に押圧されている。つまり、固定器具２９１４は、裏蓋２９１３をケース２９１側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース２９１の内部を光密に（つまり、ケース２９１内部から光が漏れないように、及び、ケース２９１の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具２９１４は、ケース２９１の長手方向（ＬＧＤ）に複数箇所設けられている。また、有機ＥＬ素子３１０は、封止部材２９４により覆われている。
【００４５】
図５は、本実施形態にかかる発光基板３００を模式的に示す図である。図５（ａ）は上述の裏面方向から見た平面図であり、図５（ｂ）は側面図である。そして図５（ｃ）は図５（ａ）のＡ−Ａ’線における断面を拡大して示す図であり、図５（ｄ）は後述する改質点３３０が形成されている部分を拡大して示す図である。
【００４６】
図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、発光基板３００は、透光性基板３０１と、該透光性基板の裏面に千鳥状に配置された複数の有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された複数の（フォトダイオード等の受光素子からなる）光検出手段３２０等からなっている。なお、上記図５（ａ）〜図５（ｄ）、及び、後に記載する図７から図１２において、有機ＥＬ素子３１０は一部のみ図示している。
【００４７】
透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域の厚さ方向に、光の直進性を妨げる複数の改質点３３０が形成されている。かかる改質点３３０は、透光性基板３０１の形成材料であるガラス等に形成された気泡、クラック、組織欠陥等であり、照射された光の直進性を妨げることができる。したがって、図５（ｃ）に示すように、角度範囲θａの範囲外の光Ｌ２、すなわち従来の発光基板においては光検出手段３２０に入射することのなかった光を反射等させて、進行方向を変化させることができる。上述の反射等は一回のみでなく連続して発生する。したがって、上述の光検出手段３２０が配置されている領域に照射された光は、直進せずに乱反射を繰り返す。
【００４８】
図５（ｄ）は、かかる乱反射の態様を示すものである。改質点３３０は複数個が密集するように形成されているため、上述の領域に入射した光Ｌ２は、光検出手段３２０に入射して取り込まれるか、あるいは上述の領域外に達するまでは、乱反射を継続する。したがって、改質点３３０を形成することにより、従来の発光基板においては光検出手段３２０に入射することのなかった光のうちの少なくとも一部を光検出手段３２０に入射させることができ、有機ＥＬ素子３１０から射出される光のうちの光検出手段３２０に入射する光の割合を増加させることができる。
【００４９】
上述したように、長手方向ＬＧＤ（図３参照）に配置した有機ＥＬ素子３１０を用いて感光体ドラム２１上に潜像を形成する発光基板３００においては、有機ＥＬ素子３１０毎の発光頻度により経時劣化の程度にばらつきが生じる。そのため、高精度の画像を形成するためには定期的に有機ＥＬ素子３１０毎の発光強度を測定して補正する必要がある。本実施形態の発光基板３００を用いる画像形成ユニット７、及び画像形成装置１は、は有機ＥＬ素子３１０及び光検出手段３２０等の配置の態様を、従来の発光基板等と同様にした場合において光検出手段に入射する光量を増加させることができる。したがって複雑な増幅回路あるいはノイズ低減回路等を用いることなく、有機ＥＬ素子３１０の発光強度の経時変化をより一層正確に把握してより一層正確に（各々の有機ＥＬ素子に印加する電流量等を）補正することができ、該経時変化にもかかわらず、より一層正確な画像を形成できる。
【００５０】
なお、図示するように、光検出手段３２０は１つの発光基板３００に複数個配置されている。そして、１つの有機ＥＬ素子が射出する光は、かかる複数個の光検出手段３２０全てに入射される。（入射する光量は、個々の光検出手段３２０の位置により異なる。）したがって、光検出手段３２０による測定値（後述するＰｈｎ）とは、全ての光検出手段３２０の測定値の合計量である。
【００５１】
上記補正は以下のように実施される。まず、露光ヘッド２９を形成した段階（画像形成装置に組み込む前の段階）で、有機ＥＬ素子３１０から光を射出させて感光体ドラム２１の表面に相当する位置に形成されるスポットの光量を、各有機ＥＬ素子３１０について測定する。具体的には、露光ヘッド２９を検査装置に取り付ける。検査装置には、露光ヘッド２９の各有機ＥＬ素子３１０から射出される光の光量を、感光体ドラム２１の表面に対応する像面位置で検出する光量検出器が配置されている。この光量検出器は、１個の検出器を移動させつつ各有機ＥＬ素子３１０から射出される光の光量を検出するものでもよいし、有機ＥＬ素子３１０毎に検出器を配置したものでもよい。そして、各有機ＥＬ素子３１０を順に発光させて、検査装置の光量検出器で検出した値Ｐｇｎと、露光ヘッド２９の光検出手段３２０で検出した値Ｐｈｎ（ｎはｎ番目の発光素子を表す）とを得るとともに、各有機ＥＬ素子３１０について補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎを算出する。このようにして求めた補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎは、例えば図２に示すエンジンコントローラＥＣに記憶しておく。そして、次に説明するように、補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎに基づいて、画像形成装置としての補正が実施される。
【００５２】
画像形成装置１としての補正は、まず有機ＥＬ素子３１０の光量ばらつきが検出される。かかる光量ばらつき検出は、画像形成装置１の電源投入時、画像形成動作開始前等の、通常の画像形成動作が実行されていない間に行われる。具体的には、各有機ＥＬ素子３１０を順番に発光させながら、光検出手段３２０の検出値が測定される。そして、光検出手段３２０の測定値に補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎを乗じることによって、各有機ＥＬ素子３１０により感光体ドラム２１の表面で形成されるスポットの光量が算出される。算出された光量がばらついており、所望の光量が実現されていない場合は、所望の光量が得られるように有機ＥＬ素子３１０の駆動を制御する。つまり、所望の光量と算出された光量とを比較して、算出された光量が所望の光量となるように、有機ＥＬ素子３１０に流す電流等を調整する。そして、このような調整動作を全ての有機ＥＬ素子３１０について実行することで、複数の有機ＥＬ素子３１０の間での光量ばらつきが抑制される。その結果、良好な露光が実現される。なお、所望の光量に関する情報や、駆動制御動作を実行させるプログラム等は、例えばエンジンコントローラＥＣに予め記憶しておいてもよい。
【００５３】
次に、改質点３３０の形成方法について述べる。図６は、改質点３３０の形成方法の一例を示すものであり、レーザ光３５５を用いて透光性基板３０１に改質点を形成する態様を示している。図６（ａ）に示すように、図示しない光源から射出される所定の径を有するレーザ光３５５を、集光レンズ３５０により透光性基板３０１内の一点に集光させることで、周囲の形質（透光性等）に影響を及ぼすことなくかかる一点に気泡、クラック等を形成して、改質点３３０とすることができる。そして図示しない光源と集光レンズ３５０とを備えるユニットと、透光性基板３０１とを相対的に移動させることにより、透光性基板３０１内部の任意の部分に複数個の改質点３３０を形成できる。
【００５４】
図６（ｂ）は、上述の光源と集光レンズ３５０とを備えるユニットを２組用いて改質点３３０を形成する態様を示す図である。２組のレーザ光３５５を同一の点に集光することで、より多くのエネルギーを一点に集中でき、より一層周囲の形質に影響を及ぼすことなく、また短時間で、透光性基板内の一点を改質できる。なお、上記ユニットを３組以上用いることも可能である。また、改質点３３０の形成は、透光性基板３０１上に有機ＥＬ素子を形成する前、あるいは後のいずれの時点でも可能である。
【００５５】
レーザ光３５５は、ＹＡＧレーザの第２高調波（波長＝５３２ｎｍ）あるいはＹＡＧレーザの第３高調波（波長＝３５５ｎｍ）が好ましい。長パルス幅を有するため、形成される改質点３３０がクラック状となり、有機ＥＬ素子から射出される光を効率よく反射できる。また、チタンサファイヤ固体フェムト秒レーザ（波長＝８００ｎｍ）を用いてもよい。
【００５６】
（第２の実施形態）
続いて、第２の実施形態について説明する。第２の実施形態の発光基板３００、及び後述する第３〜第７の実施形態の発光基板３００は、第１の実施形態の発光基板３００と同様に、レンズアレイ２９９等と組み合わされて露光ヘッド２９となり、さらに画像形成ユニット７、及び画像形成装置１の構成要素となる。そして、かかる場合における、レンズアレイ２９９等の構成要素は、発光基板３００を除くと共通である。そこで、本実施形態及び第３〜第７の実施形態については、発光基板３００についてのみ述べる。
【００５７】
図７は、第２の実施形態の発光基板３００を示す図である。図７（ａ）が平面図、図７（ｂ）が側面図である。発光基板３００の構成は、第１の実施形態の発光基板３００と、後述する光反射層の有無を除くと共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０等からなる。そして、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域の厚さ方向に、光の直進性を妨げる複数の改質点３３０が形成されている。そして、透光性基板３０１の下面の光検出手段３２０と対向する領域には、光反射層３１５が配置されている。光反射層３１５はアルミニウム等の反射性の高い金属で形成されている。形成方法はスパッタ法等による成膜でもよく、また金属板を貼付してもよい。
【００５８】
かかる構成によれば、改質点３３０によって反射された後、透光性基板３０１の外部に向かう光を、再度改質点３３０が形成されている領域に戻して乱反射させることができる。したがって、光検出手段３２０の寸法等を変化させることなく、該光検出手段に入射する光の割合を増加させることができる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化の程度をより一層正確に把握してより一層正確な補正（調整）を実施でき、より一層高品質の画像を形成できる。なお、光反射層３１５は鏡面反射層でもよく、また、乱反射層であってもよい。
【００５９】
図７においては、光反射層３１５の形状（平面視での形状）は、光検出手段３２０の形状と略一致するように図示されているが、光反射層３１５の形状は、かかる形状に限定されるものではない。また、光反射層３１５の配置位置は透光性基板３０１の下面（有機ＥＬ素子３１０が形成されている面と対向する面）に限定されない。有機ＥＬ素子３１０が形成されている領域、及び有機ＥＬ素子３１０から射出されてレンズアレイ２９９に入射する光の経路と重なる領域を除く全域に配置することもできる。したがって、透光性基板３０１の側面（上面及び下面以外の面）にも配置できる。
【００６０】
（第３の実施形態）
図８は、第３の実施形態の発光基板３００を示す図である。図８（ａ）が平面図、図８（ｂ）が側面図である。発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５等からなる。
【００６１】
第２の実施形態の発光基板と異なる点は、光検出手段３２０及び光反射層３１５の位置である。透光性基板３０１の下面、すなわち有機ＥＬ素子３１０が配置されている面（上面）の反対側の面に光検出手段３２０が配置されており、光反射層３１５は上面に配置されている。
かかる構成によれば、有機ＥＬ素子３１０から射出され、改質点３３０に一回も当たらずに下面に到達する光のうちの一部を、光検出手段３２０に受光させることができる。また、改質点３３０により乱反射した後、上面に向かう光を光反射層３１５で反射して、再度改質点３３０が密集している部分に向かわせて、再度乱反射させることができる。そして、再度乱反射させた光の一部を、光検出手段３２０に入射させることができる。そのため、光検出手段３２０の寸法等を変化させることなく、該光検出手段に入射する光の割合を増加させることができる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化の程度をより一層正確に把握してより一層正確な補正（調整）を実施でき、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６２】
（第４の実施形態）
図９は、第４の実施形態の発光基板３００を示す図である。図９（ａ）が平面図、図９（ｂ）が側面図である。本実施形態の発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態及び第３の実施形態の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成っている。そして光検出手段３２０が配置される位置が、第１の実施形態の発光基板３００とは異なっている。
【００６３】
本実施形態の発光基板３００においては、第１の実施形態の発光基板３００において光検出手段３２０が配置されていた領域、及び該領域に対向する領域に、光反射層３１５が配置されている。そして上述双方の光反射層３１５の間（双方の光反射層３１５で挟持される領域）に複数の改質点３３０が形成されている。そして光検出手段３２０は、透光性基板３０１のかかる改質点３３０が形成されている部分の側面に配置されている。
【００６４】
対向する光反射層の間に、改質点３３０が密集するように形成されているため、改質点３３０に当たって乱反射した後に、透光性基板３０１の上面あるいは下面に向かう光は、どちらかの光反射層３１５で反射されて再度改質点３３０に向かう。そして、改質点３３０に当たって乱反射した後に、透光性基板３０１の側面に向かう光は光検出手段３２０に入射する。したがって、光検出手段３２０に入射する光の割合をより一層増加させることができる。その結果、より一層正確な補正（調整）を実施することができ、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６５】
（第５の実施形態）
図１０は、第５の実施形態の発光基板３００を示す図である。本実施形態の発光基板３００の構成は、第２の実施形態の発光基板３００の構成と略一致している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成り、光検出手段３２０は透光性基板３０１の上面に配置されている。
【００６６】
本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０の（透光性基板３０１における）厚さ方向の配置に特徴がある。そこで、平面図は省略して側面図のみを示す。本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０が、上述の厚さ方向では重ならない様に形成されていることが特徴である。改質点３３０で反射されて光検出手段３２０の方向に向かう光が他の改質点３３０に当たって反射することが抑制されるため、光検出手段３２０に入射する光の割合を増加させることができる。その結果、より一層正確な補正（調整）を実施することができ、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６７】
（第６の実施形態）
図１１は、第６の実施形態の発光基板３００を示す図である。本実施形態の発光基板３００の構成は、第２の実施形態の発光基板３００の構成と略一致している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成り、光検出手段３２０は透光性基板３０１の上面に配置されている。
【００６８】
本実施形態の発光基板３００は、第５の実施形態の発光基板３００と同様に、改質点３３０の（透光性基板３０１における）厚さ方向の配置に特徴がある。そこで、平面図は省略して側面図のみを示す。
【００６９】
本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０が、上述の厚さ方向で密度に差が生じるように形成されていることが特徴である。すなわち、改質点３３０は上面に近づくにつれて高密度となるように形成されている。かかる構成によれば光検出手段３２０に近い領域で乱反射が高い頻度で発生するため、有機ＥＬ素子３１０から射出され光検出手段３２０の近傍を透過する光を、高い割合で光検出手段３２０に入射させることができる。また、効果が薄い改質点３３０を形成することを抑制できるため、製造コストを低減できる。
【００７０】
（第７の実施形態）
図１２は、第７の実施形態の発光基板３００を示す図である。図１２（ａ）が平面図、図１２（ｂ）が側面図である。本実施形態の発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態等の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成っている。そして、光検出手段３２０等の数が増加している点で、第２の実施形態の発光基板３００等と異なっている。
【００７１】
本実施形態の発光基板３００においては、透光性基板３０１の中央部の、有機ＥＬ素子３１０が千鳥状に配置されている領域の周辺を取り囲むように光検出手段３２０が配置されている。そして透光性基板３０１の下面の、平面視で光検出手段３２０と重なる領域には光反射層３１５が配置され、該光反射層と光検出手段３２０との間には改質点３３０が形成されている。
【００７２】
有機ＥＬ素子３１０の周囲が、平面視で、光検出手段３２０と改質点３３０と光反射層３１５とで囲まれているため、有機ＥＬ素子３１０から射出される光は高い確率でいずれかの光検出手段３２０に入射する。したがって、光検出手段３２０に入射する光の割合をより一層増加させることができ、より一層正確な補正（調整）を実施して、より一層高品質の画像を形成できる。
【００７３】
なお、光反射層３１５は完全に連続させて環状にしてもよい。また、光検出手段３２０も透光性基板３０１上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）あるいはＴＦＤ（薄膜ダイオード）等を造りこむことで、環状に配置することもできる。
【００７４】
（変形例）
次に変形例として、透光性基板３０１上に形成された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と該有機ＥＬ素子の近辺に配置された光検出手段３２０と該光検出手段の近辺に形成された改質点３３０を有する発光基板３００を備える有機ＥＬ装置及び該有機ＥＬ装置を有する電子機器について述べる。
【００７５】
図１３は、上記の有機ＥＬ装置を有する電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図である。パーソナルコンピュータ１２００はキーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、光検出手段と該光検出手段の近辺に形成された改質点とを有する発光基板を備え、表示領域１２０８に画像表示可能な有機ＥＬ装置１２０６とを備えている。
【００７６】
図１４は、変形例にかかる有機ＥＬ装置１２０６の表示領域１２０８における画素の配置等を示す図である。図１４（ａ）は画素Ｐの配置を示し、図１４（ｂ）及び図１４（ｃ）は画素Ｐ内のサブ画素及び光検出手段の配置の一例を示している。有機ＥＬ装置１２０６はカラー表示可能であり、有機ＥＬ装置１２０６の表示領域１２０８には、図１４（ａ）に示すように画素Ｐが規則的に配置されている。各々の画素が、（発光の）強度及び色彩等が個別に制御された光を射出することで表示領域１２０８にカラー画像を表示できる。なお、上記の図において画素Ｐはマトリクス状に配置されているが、千鳥状等の他の配置とすることもできる。
【００７７】
各々画素Ｐは、サブ画素である、赤色光を射出する赤画素Ｒと緑色光を射出する緑画素Ｇと青色光を射出する青画素Ｂ、及び少なくとも１つの光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１を、各１つずつ備えている。各々のサブ画素は、有機ＥＬ素子３１０と後述する駆動用ＴＦＴ６２０（図１５参照）とを備えている。上記サブ画素等の配置は、図１４（ｂ）に示すように一列に並べて配置されてもよく、また、図１４（ｃ）に示すように、センサＴＦＴ３２１が各サブ画素と隣り合うように配置されてもよい。
【００７８】
本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６は上記の画像形成装置１と同じく、電源投入時等に表示領域に配置された全てのサブ画素を順次発光させて、各々の画素毎にセンサＴＦＴ３２１で光量を測定できる。そして、かかる測定値と、有機ＥＬ装置１２０６の製造時において同一の手法で測定して得た値とを比較することにより各々のサブ画素毎の経時劣化の程度を算出して、画像を表示する際には補正することができる。すなわち、好ましい光量が得られるように、各々の有機ＥＬ素子３１０に流す電流等を補正できる。
【００７９】
そして、後述するように、光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１が形成されている領域に複数の改質点３３０（図１５参照）が形成されているため、有機ＥＬ素子３１０から射出される光のうちのセンサＴＦＴ３２１に入射する光の割合を増加させることができる。その結果、上記補正をより一層高い精度で実施でき、より一層高品質の画像を表示できる。
【００８０】
なお、有機ＥＬ装置１２０６は、画像表示時には、個々の画素毎に夫々異なる値の電流等を供給して任意の光量を得ているが、上述の光量測定時には全ての画素（サブ画素）が備える有機ＥＬ素子に同一の電流量等供給する。したがって、上記測定値は、各々の有機ＥＬ素子３１０に対して同一の電流を供給した場合における、各々の有機ＥＬ素子３１０が射出する光量の測定値である。以下、本変形例にかかる有機ＥＬ装置１２０６の構成について述べる。
【００８１】
図１５は、本変形例の有機ＥＬ装置１２０６が備える発光基板３００における、１つの画素Ｐを構成する領域の模式断面図である。発光基板３００は、透光性基板３０１、及び該透光性基板上に形成された駆動用ＴＦＴ６２０及び有機ＥＬ素子３１０等からなる。そして発光基板３００が後述するように接着層６５６により対向基板３０２と貼り合わされて有機ＥＬ装置１２０６となる。図示するように画素Ｐは、透光性基板３０１と対向基板３０２との間に形成された有機ＥＬ素子３１０等からなる。上述したように、画素Ｐは３種類のサブ画素と光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１とからなる。上述したように各々のサブ画素は有機ＥＬ素子３１０と該有機ＥＬ素子を駆動する駆動用ＴＦＴ６２０、及び図示しない保持容量等からなる。
【００８２】
図示するように、透光性基板３０１上には駆動用ＴＦＴ６２０に隣り合うようにセンサＴＦＴ３２１が形成されている。センサＴＦＴ３２１は有機ＥＬ素子３１０が射出する光の一部を受光して、各々の有機ＥＬ素子３１０の発光強度を測定できる。かかる測定結果に基づいて各々の有機ＥＬ素子３１０に供給する電流量を補正（調整）することで高品質の画像を表示（形成）できる。
【００８３】
そして、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６が備える発光基板３００の、センサＴＦＴ３２１が形成されている領域の透光性基板３０１内には、複数の改質点３３０が密集するように形成されている。上述の露光ヘッド２９と同様に、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６のセンサＴＦＴ３２１は、有機ＥＬ素子が射出する光を、改質点３３０により高い比率で受光することができ、上述の補正をより一層有効に実施できる。有機ＥＬ素子３１０及び駆動用ＴＦＴ６２０の構成は、以下の通りである。
【００８４】
透光性基板３０１上には、多結晶シリコン層を島状にパターニングして形成された半導体層６１０、ＳｉＯ2等の絶縁材料からなるゲート絶縁膜６０８、及びクロム等の高融点金属からなるゲート電極６１２が、順に形成されている。半導体層６１０の平面視でゲート電極６１２と重なる領域がチャネル領域６０２であり、該領域の両側はＰ（燐）等の不純物が導入されてソース領域６０４及びドレイン領域６０６となっている。かかる要素により、駆動用ＴＦＴ６２０が構成されている。なお、透光性基板３０１と半導体層６１０との間に、ＳｉＯ2等からなるバッファー層を形成してもよい。
【００８５】
ゲート電極６１２上にはＳＩＯ2等からなる第１の層間絶縁膜６３２が形成されている。そして、半導体層６１０のソース領域６０４及びドレイン領域６０６に対応する位置に第１のコンタクトホール６４１及び第２のコンタクトホール６４３が形成されている。上記双方のコンタクトホールにはアルミニウム等からなるソース電極６４２及びドレイン電極６４４が形成され、該双方の電極上にはＳＩＯ2等からなる第２の層間絶縁膜６３４が形成されている。そして、第２の層間絶縁膜６３４のドレイン電極６４４に対応する位置には、第３のコンタクトホール６４５が形成され、該第３のコンタクトホールを介してドレイン電極６４４と接続する画素電極（陽極）６５０が形成されている。画素電極６５０はＩＴＯ（酸化インジウム・すず）等の透光性導電材料層を島状にパターニングして形成されており、後述する機能層に通電するとともに機能層内で生じた光を投下させて透光性基板３０１を介して発光基板３００の外部に射出できる。なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６が備える有機ＥＬ素子３１０は、透光性基板３０１側に光を射出するボトムエミッション型である。各々の画素電極６５０はポリイミド等の絶縁性有機材料層、又は絶縁性無機材料層を画素電極６５０が露出するようにパターニングして形成された隔壁６３６により区画されている。
【００８６】
隔壁６３６と画素電極６５０とからなる凹部には、各々のサブ画素が備える有機ＥＬ素子３１０が射出する光に対応する機能層が形成されている。すなわち、赤画素Ｒには赤色光に対応する赤色機能層６５２Ｒが、緑画素Ｇには緑色光に対応する緑色機能層６５２Ｇが、青画素Ｂには青色光に対応する青色機能層６５２Ｂが夫々形成されている。なお（図示は省略しているが）各機能層は、正孔注入輸送層と発光層と電子注入輸送層とを積層して形成されている。上記の３要素の内でサブ画素間で異なる要素は発光層のみであり、正孔注入輸送層と電子注入輸送層とはサブ画素間で共通である。
【００８７】
上記各機能層及び隔壁６３６の上には、発光基板３００上の全面にアルミニウム、マグネシウム・銀合金等からなる陰極６５４が形成されている。画素電極６５０、陰極６５４、及び該一対の電極間の機能層とで有機ＥＬ素子３１０となる。画素電極６５０と陰極６５４との間に電圧を印加して機能層（に含まれる発光層）に電流を流すことにより、画素電極６５０から供給される正孔と陰極から供給される電子とが発光層内で結合する。そして、結合によるエネルギーで励起された発光層（内の発光材料）が、励起状態から再び基底状態に戻る際に光を発生する。発光基板３００はかかる光を透光性基板３０１から射出することで画像を形成する。そして、陰極６５４の形成により発光基板３００が完成し、該発光基板が接着層６５６により対向基板３０２と貼り合わされて、有機ＥＬ装置１２０６となる。
【００８８】
透光性基板３０１上には上記のサブ画素と並んで、光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１が形成されている。センサＴＦＴ３２１の構成は（寸法を除いて）駆動用ＴＦＴ６２０と同様であり、用途が異なっている。したがって、別の工程を加えることなしに、駆動用ＴＦＴ６２０と同時に形成できる。
【００８９】
上述の電源投入時等における光量測定において、センサＴＦＴ３２１は、隣り合うサブ画素が射出する光の一部を受光して、受光した光の強度、すなわち劣化の程度に応じた電流又は電圧を出力する。そして、かかる電流値又は電圧値は、マトリクス状に配置された画素Ｐの周囲に配置されている制御回路に伝達され記憶される。センサＴＦＴ３２１はサブ画素からなる画素Ｐ毎に配置されているため、個々のサブ画素の劣化の程度を検出できる。したがって、上述の制御回路は、画像表示時に各々のサブ画素毎に（該各々のサブ画素の劣化の程度に応じた）異なる電流を供給して、該劣化による光量の低下を補正できる。その結果、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６は、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化にもかかわらず、常に高品質の画像を表示できる。
【００９０】
ここで上述の有機ＥＬ素子が射出する光は、図１５の矢印に示すように、透光性基板３０１に対して垂直の方向に多くの割合で向かう。しかし、上述の第１の実施形態で述べたように、透光性基板３０１に所定の範囲の角度で照射される一部（透光性基板と外部との界面）は該表面で反射されて透光性基板３０１に向かい、その内のさらに一部はセンサＴＦＴ３２１の半導体層６１０に入射する。
【００９１】
そして、センサＴＦＴ３２１が形成されている領域には、複数の改質点３３０が密集するように形成されている。したがって、上述の第１の実施形態で述べたように、透光性基板３０１のセンサＴＦＴ３２１と平面視で重なる領域に入射した光を効率よく受光できる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化をより一層正確に把握でき、より一層好ましい調整（補正）を実施することができる。したがって、有機ＥＬ装置１２０６を備える電子機器としてのパーソナルコンピュータ１２００において、より一層高品質の画像を表示できる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】第１の実施形態にかかる露光ヘッドを適用できる画像形成装置を示す図。
【図２】第１の実施形態にかかる画像形成装置の電気的構成を示す図。
【図３】第１の実施形態にかかる露光ヘッドの概略を示す斜視図。
【図４】第１の実施形態にかかる露光ヘッドの幅方向断面図。
【図５】第１の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図６】改質点の形成方法の一例を示す図。
【図７】第２の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図８】第３の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図９】第４の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１０】第５の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１１】第６の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１２】第７の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１３】変形例にかかる電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図。
【図１４】変形例にかかる有機ＥＬ装置の表示領域における画素の配置等を示す図。
【図１５】変形例にかかる有機ＥＬ装置が備える発光基板における、画素の模式断面図。
【図１６】従来の露光ヘッドが備える発光基板を模式的に示す図。
【符号の説明】
【００９３】
１…画像形成装置本体、３…ハウジング本体、４…排紙トレイ、５…電装品ボックス、７…画像形成ユニット、８…転写ベルトユニット、１１…給紙ユニット、１２…２次転写ユニット、１３…定着ユニット、１５…シート案内部材、２１…像担持体としての感光体ドラム、２３…帯電部、２５…現像部、２７…感光体クリーナ、２９…露光ヘッド、５１…画像処理部、５２…メイン側通信モジュール、５３…ヘッド側通信モジュール、５４…ヘッド制御モジュール、７１…クリーナ部、７７…給紙カセット、７９…ピックアップローラ、８０…レジストローラ対、８１…転写ベルト、８２…駆動ローラ、８３…従動ローラ、８５…１次転写ローラ、８６…下流ガイドローラ、１２１…２次転写ローラ、１３１…加熱ローラ、１３２…加圧部、２５１…現像ローラ、２９１…ケース、２９４…封止部材、２９９…レンズアレイ、３００…発光基板、３０１…透光性基板、３０２…対向基板、３１０…発光素子としての有機ＥＬ素子、３１５…光反射層、３２０…光検出手段、３２１…光検出手段としてのセンサＴＦＴ、３３０…改質点、３５０…集光レンズ、３５５…レーザ光、６０２…チャネル領域、６０４…ソース領域、６０６…ドレイン領域、６０８…ゲート絶縁膜、６１０…半導体層、６１２…ゲート電極、６２０…駆動用ＴＦＴ、６３２…第１の層間絶縁膜、６３４…第２の層間絶縁膜、６４１…第１のコンタクトホール、６４２…ソース電極、６４３…第２のコンタクトホール、６４４…ドレイン電極、６４５…第３のコンタクトホール、６５０…画素電極、６５２Ｂ…青色機能層、６５２Ｇ…緑色機能層、６５２Ｒ…赤色機能層、６５４…陰極、６５６…接着層、７１１…クリーナブレード、７１３…廃トナーボックス、１２００…パーソナルコンピュータ、１２０２…キーボード、１２０４…本体部、１２０６…有機ＥＬ装置、１２０８…表示領域、１３２１…ローラ、１３２２…ローラ、１３２３…加圧ベルト、２９１１…位置決めピン、２９１２…ねじ挿入孔、２９１３…裏蓋、２９１４…固定器具、Ｂ…青画素、Ｇ…緑画素、Ｒ…赤画素。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の発光素子を備える露光ヘッド、該露光ヘッドを備える画像形成ユニット、及び、該露光ヘッドを備える画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光体ドラムを露光して該感光体ドラムの表面に形成した潜像を、１次転写ローラ等を介して紙等の媒体に転写して画像を形成する方式の画像形成装置に用いられる露光ヘッドのひとつとして、基板上に規則的に配置した発光素子と屈折率分布型レンズとを用いる型のものがある。１つの発光素子から射出された光を複数の屈折率分布型レンズの夫々が感光体ドラムの表面の同一位置に重なるように結像することで、該表面に１つのスポットが形成される。かかるスポットが集合することで、画像（潜像）となる。
【０００３】
かかる方式の露光ヘッドで起こり得る問題として、複数の発光素子間の光量のばらつきがある。発光頻度のばらつき等により、同一の電流あるいは電圧を印加した場合における各々の発光素子が射出する光の強度が経時的に変化してばらつきとなり、良好な画像（潜像）を形成する際の妨げとなる。かかる現象を抑制するために、例えば特許文献１に記載の露光ヘッドでは、発光基板上に発光素子と共に光検出手段を配置して、発光素子毎の光量を測定することが可能となっている。
【０００４】
図１６に、かかる方式、即ち従来の露光ヘッドが備える発光基板として、発光素子としてボトムエミッション型の有機ＥＬ素子３１０を用いる発光基板３００を模式的に示す。（ａ）が上面図、（ｂ）が側面図、（ｃ）がＢ−Ｂ’線における断面図である。図示するように、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された有機ＥＬ素子３１０の周辺に、光検出手段としてのフォトダイオード等の受光素子からなる光検出手段３２０が配置されている。
【０００５】
有機ＥＬ素子３１０から射出された光の一部が、透光性基板３０１の表面と裏面とで反射を繰り返しながら光検出手段３２０に到達する構成となっており、個々の有機ＥＬ素子３１０を順次点灯させて光量を測定できる。そして、かかる測定結果に基づき、各々の有機ＥＬ素子３１０に印加する電流（又は電圧）値を補正することで、高精度の画像（潜像）を形成することができる。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−６６７５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記構成の発光基板では有機ＥＬ素子３１０が射出する光のうち光検出手段３２０で測定できる光の割合が少ないという課題がある。すなわち、図１６（ｃ）に示すように、光検出手段３２０に到達する光は角度範囲θａの範囲内の光Ｌ１に限られており、該角度範囲外の光は光検出手段３２０に到達することなく発光基板３００の外部に射出される。したがって、有機ＥＬ素子３１０の発光強度の経時変化を正確に把握することが困難であり、複雑な増幅回路あるいはノイズ低減回路等を用いない場合、上述の補正の精度が低下し得るという問題点がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例１］
透光性基板と、前記透光性基板の一方の面に配置された複数の発光素子と、前記透光性基板に配置された、前記発光素子から射出され前記透光性基板内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段と、を含む発光基板を備え、前記発光素子から射出され前記透光性基板を透過した光を、前記発光素子と前記透光性基板を介して対向する像担持体上に照射して、前記像担持体に所定のパターンを形成する露光ヘッドであって、前記透光性基板内には、該透光性基板内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点が形成されていることを特徴とする露光ヘッド。
【００１０】
このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を増加させることができる。したがって、上述の補正を高い精度で行うことができ、高精度の画像（潜像）を形成することができる。
【００１１】
［適用例２］
上述の露光ヘッドであって、前記透光性基板の表面における、前記発光素子が配置されている領域と該発光素子と対向する領域と前記光検出手段が配置されている領域と、を除く領域の少なくとも一部に、前記発光素子が射出する光を反射する光反射層が配置されていることを特徴とする露光ヘッド。
【００１２】
このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができる。したがって、上述の補正をより一層高い精度で行うことができ、より一層高精度の画像を形成することができる。
【００１３】
［適用例３］
上述の露光ヘッドであって、前記発光素子が有機ＥＬ素子であることを特徴とする露光ヘッド。
【００１４】
このような構成によれば、上記透光性基板上にＴＦＴプロセスで形成した駆動用トランジスタと有機ＥＬ素子を組み合わせることができ、上記露光ヘッドの製造コストを低減できる。
【００１５】
［適用例４］
上述の露光ヘッドであって、前記改質点はレーザ光で形成されたものであることを特徴とする露光ヘッド。
【００１６】
レーザ光を用いると上記透光性基板内の任意の位置に上記改質点を形成できる。したがって、このような構成によれば、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができ、上述の補正を効率的に行える。
【００１７】
［適用例５］
上述の露光ヘッドであって、前記改質点の形成密度が、前記透光性基板内の位置により異なることを特徴とする露光ヘッド。
【００１８】
このような構成によれば、例えば上記光検出手段の近傍に高い密度で上記改質点を形成することで、上記光検出手段に入射する光の量を効率的に増加させることができる。したがって、上記露光ヘッドの製造コストを低減しつつ、上述の補正を効率的に行うことができる。
【００１９】
［適用例６］
上述の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成ユニット。
【００２０】
このような構成によれば、上記像担持体に高精度の画像（潜像）を形成できるため、紙等の媒体に形成する画像の品質を向上できる。
【００２１】
［適用例７］
上述の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成装置。
【００２２】
このような構成によれば、上記像担持体に高精度の画像（潜像）を形成できるため、紙等の媒体に形成する画像の品質を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照し、本発明を具体化した電気光学装置としての液晶装置の実施形態について述べる。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、該各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００２４】
（第１の実施形態）
図１〜図４に、本実施形態にかかる露光ヘッド、及び該露光ヘッドを備える画像形成ユニット、及び該画像形成ユニットを備える画像形成装置１を示す。
図１は、第１実施形態にかかる露光ヘッド２９を適用できる画像形成装置１を示す図である。また、図２は、図１に示す画像形成装置１の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック（Ｋ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）の４色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック（Ｋ）のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置１である。
【００２５】
なお図１は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置１では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がＣＰＵやメモリなどを有するメインコントローラＭＣに与えられると、このメインコントローラＭＣはエンジンコントローラＥＣに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータＶＤをヘッドコントローラＨＣに与える。また、このヘッドコントローラＨＣは、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤとエンジンコントローラＥＣからの垂直同期信号Ｖsync及びパラメータ値とに基づき各色の露光ヘッド２９を制御する。これによって、エンジン部ＥＧが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙及びＯＨＰ用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
【００２６】
この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体３内には、電源回路基板、メインコントローラＭＣ、エンジンコントローラＥＣ及びヘッドコントローラＨＣを内蔵する電装品ボックス５が設けられている。また、画像形成ユニット７、転写ベルトユニット８及び給紙ユニット１１もハウジング本体３内に配設されている。また、図１においてハウジング本体３内右側には、２次転写ユニット１２、定着ユニット１３、シート案内部材１５が配設されている。なお、給紙ユニット１１は、画像形成装置１本体に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット及び転写ベルトユニット８については、それぞれ取り外して修理又は交換を行うことが可能な構成になっている。
【００２７】
画像形成ユニット７は、複数の異なる色の画像を形成する４個の画像形成ステーションＹ（イエロー用）、Ｍ（マゼンタ用）、Ｃ（シアン用）、Ｋ（ブラック用）を備えている。また、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋは、主走査方向ＭＤ（図３参照）に所定長さの表面を有する円筒形の感光体ドラム２１を設けている。そして、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれは、対応する色のトナー像を、感光体ドラム２１の表面に形成する。感光体ドラム２１は、軸方向が主走査方向ＭＤに略平行となるように配置されている。また、各感光体ドラム２１はそれぞれ専用の駆動モータに接続され、回転方向Ｄ２１（図１に示す矢印の方向）の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム２１の表面が、主走査方向ＭＤに略直交する副走査方向ＳＤ（図４参照）に搬送されることとなる。また、感光体ドラム２１の周囲には、回転方向に沿って帯電部２３、露光ヘッド２９、現像部２５及び感光体クリーナ２７が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋで形成されたトナー像を転写ベルトユニット８が有する転写ベルト８１に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションＫで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図１において、画像形成ユニット７の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
【００２８】
帯電部２３は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム２１の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム２１の回転動作に伴って感光体ドラム２１に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部（図示省略）に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部２３と感光体ドラム２１が当接する帯電位置で感光体ドラム２１の表面を帯電させる。
【００２９】
露光ヘッド２９は、その長手方向が主走査方向ＭＤに対応するとともに、その幅方向が副走査方向ＳＤに対応するように、感光体ドラム２１に対して配置されている。したがって、露光ヘッド２９の長手方向は、主走査方向ＭＤと略平行である。そして、露光ヘッド２９は、長手方向に並べて配置された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム２１から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部２３により帯電された感光体ドラム２１の表面に対して光を照射して（つまり、露光して）該表面に潜像を形成する。なお、この実施形態では、各色の露光ヘッド２９を制御するためにヘッドコントローラＨＣが設けられ、メインコントローラＭＣからのビデオデータＶＤと、エンジンコントローラＥＣからの信号とに基づき各露光ヘッド２９を制御している。すなわち、この実施形態では、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラＭＣの画像処理部５１に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータＶＤが作成されるとともに、該ビデオデータＶＤがメイン側通信モジュール５２を介してヘッドコントローラＨＣに与えられる。また、ヘッドコントローラＨＣでは、ビデオデータＶＤはヘッド側通信モジュール５３を介してヘッド制御モジュール５４に与えられる。このヘッド制御モジュール５４には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号ＶsyncがエンジンコントローラＥＣから与えられている。そして、これらの信号及びビデオデータＶＤなどに基づきヘッドコントローラＨＣは各色の露光ヘッド２９に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各露光ヘッド２９に出力する。こうすることで、各露光ヘッド２９において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
【００３０】
そして、この実施形態においては、各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの感光体ドラム２１、帯電部２３、現像部２５及び感光体クリーナ２７を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラＥＣと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラＥＣに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
【００３１】
現像部２５は、その表面にトナーが担持する現像ローラ２５１を有する。そして、現像ローラ２５１と電気的に接続された現像バイアス発生部（図示省略）から現像ローラ２５１に印加される現像バイアスによって、現像ローラ２５１と感光体ドラム２１とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ２５１から感光体ドラム２１に移動して露光ヘッド２９により形成された静電潜像が顕在化される。
【００３２】
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１に搬送された後、後に詳述する転写ベルト８１と各感光体ドラム２１が当接する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１に１次転写される。
【００３３】
また、この実施形態では、感光体ドラム２１の回転方向Ｄ２１の１次転写位置ＴＲ１の下流側でかつ帯電部２３の上流側に、感光体ドラム２１の表面に当接して感光体クリーナ２７が設けられている。この感光体クリーナ２７は、感光体ドラムの表面に当接することで１次転写後に感光体ドラム２１の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
【００３４】
転写ベルトユニット８は、駆動ローラ８２と、図１において駆動ローラ８２の左側に配設される従動ローラ８３（ブレード対向ローラ）と、これらのローラに張架され図示矢印Ｄ８１の方向（搬送方向）へ循環駆動される転写ベルト８１とを備えている。また、転写ベルトユニット８は、転写ベルト８１の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋが有する感光体ドラム２１各々に対して一対一で対向配置される、４個の１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを備えている。これらの１次転写ローラ８５は、それぞれ１次転写バイアス発生部（図示省略）と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図１に示すように全ての１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃ，８５Ｋを画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋ側に位置決めすることで、転写ベルト８１を画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋそれぞれが有する感光体ドラム２１に押し遣り当接させて、各感光体ドラム２１と転写ベルト８１との間に１次転写位置ＴＲ１を形成する。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部から１次転写ローラ８５に１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してカラー画像を形成する。
【００３５】
一方、モノクロモード実行時は、４個の１次転写ローラ８５のうち、カラー１次転写ローラ８５Ｙ，８５Ｍ，８５Ｃをそれぞれが対向する画像形成ステーションＹ，Ｍ，Ｃから離間させるとともにモノクロ１次転写ローラ８５Ｋのみを画像形成ステーションＫに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションＫのみを転写ベルト８１に当接させる。その結果、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋと画像形成ステーションＫとの間にのみ１次転写位置ＴＲ１が形成される。そして、適当なタイミングで上記１次転写バイアス発生部からモノクロ１次転写ローラ８５Ｋに１次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム２１の表面上に形成されたトナー像を、１次転写位置ＴＲ１において転写ベルト８１表面に転写してモノクロ画像を形成する。
【００３６】
さらに、転写ベルトユニット８は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋの下流側でかつ駆動ローラ８２の上流側に配設された下流ガイドローラ８６を備える。また、この下流ガイドローラ８６は、モノクロ１次転写ローラ８５Ｋが画像形成ステーションＫの感光体ドラム２１に当接して形成する１次転写位置ＴＲ１での１次転写ローラ８５Ｋと感光体ドラム２１との共通内接線上において、転写ベルト８１に当接するように構成されている。
【００３７】
駆動ローラ８２は、転写ベルト８１を図示矢印Ｄ８１の方向に循環駆動するとともに、２次転写ローラ１２１のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ８２の周面には、厚さ３ｍｍ程度、体積抵抗率が１０００ｋΩ・ｃｍ以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する２次転写バイアス発生部から２次転写ローラ１２１を介して供給される２次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ８２に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ８２と２次転写ローラ１２１との当接部分（２次転写位置ＴＲ２）へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト８１に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
【００３８】
給紙ユニット１１は、シートを積層保持可能である給紙カセット７７と、給紙カセット７７からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ７９とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ７９により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対８０において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材１５に沿って２次転写位置ＴＲ２に給紙される。
【００３９】
２次転写ローラ１２１は、転写ベルト８１に対して離当接自在に設けられ、２次転写ローラ駆動機構（図示省略）により離当接駆動される。定着ユニット１３は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ１３１と、この加熱ローラ１３１を押圧付勢する加圧部１３２とを有している。そして、その表面に画像が２次転写されたシートは、シート案内部材１５により、加熱ローラ１３１と加圧部１３２の加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部１３２は、２つのローラ１３２１，１３２２と、これらに張架される加圧ベルト１３２３とで構成されている。そして、加圧ベルト１３２３の表面のうち、２つのローラ１３２１，１３２２により張られたベルト張面を加熱ローラ１３１の周面に押し付けることで、加熱ローラ１３１と加圧ベルト１３２３とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体３の上面部に設けられた排紙トレイ４に搬送される。
【００４０】
また、この装置では、従動ローラ８３に対向してクリーナ部７１が配設されている。クリーナ部７１は、クリーナブレード７１１と廃トナーボックス７１３とを有する。クリーナブレード７１１は、その先端部を転写ベルト８１を介して従動ローラ８３に当接することで、２次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス７１３に回収される。また、クリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３は、従動ローラ８３と一体的に構成されている。したがって、次に説明するように従動ローラ８３が移動する場合は、従動ローラ８３と一緒にクリーナブレード７１１及び廃トナーボックス７１３も移動することとなる。
【００４１】
図３は、本実施形態にかかる露光ヘッドの概略を示す斜視図である。また、図４は、図３に示した露光ヘッドの幅方向断面図である。上述の通り、その長手方向ＬＧＤが主走査方向ＭＤに対応するとともに、その幅方向ＬＴＤが副走査方向ＳＤに対応するように、露光ヘッド２９は感光体ドラム２１に対して配置されている。なお、長手方向ＬＧＤと幅方向ＬＴＤは、互いに略直交する。本実施形態における露光ヘッド２９は、ケース２９１を備えるとともに、かかるケース２９１の長手方向ＬＧＤの両端には、位置決めピン２９１１とねじ挿入孔２９１２が設けられている。そして、かかる位置決めピン２９１１を、感光体ドラム２１を覆うとともに感光体ドラム２１に対して位置決めされた感光体カバー（図示省略）に穿設された位置決め孔（図示省略）に嵌め込むことで、露光ヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決めされる。そしてさらに、ねじ挿入孔２９１２を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔（図示省略）にねじ込んで固定することで、露光ヘッド２９が感光体ドラム２１に対して位置決め固定される。
【００４２】
ケース２９１は感光体ドラム２１の表面に対向する位置にレンズアレイ２９９を保持するとともに、内部に該レンズアレイに対向するように発光基板３００を備えている。レンズアレイ２９９は複数の屈折率分布型のレンズを千鳥状に配置して構成されており、後述する有機ＥＬ素子３１０が射出する光を、感光体ドラム２１上に結像させている。
【００４３】
発光基板３００はガラス等の透光性材料からなる透光性基板３０１（図５参照）と、該透光性基板の裏面（レンズアレイ２９９と対向する面の反対側の面）に（長手方向に）千鳥状に配置された複数の、発光素子としての有機ＥＬ素子３１０等からなる。上記裏面に配置された図示しない駆動回路よって駆動され、レンズアレイ２９９の方向に向けて光を射出する。そして、かかる光がレンズアレイ２９９により、感光体ドラム２１の表面にスポットとして結像される。
なお、レンズアレイ２９９は、複数の同一形状の屈折率分布型レンズを二段に俵積みして構成されている。後述する発光基板３００上の有機ＥＬ素子３１０の配置に対応させた構成であり、光軸に垂直な断面は、円形断面が千鳥状に２列に並んだ状態である。
【００４４】
図４（幅方向断面図）に示すように、固定器具２９１４によって、裏蓋２９１３が発光基板３００を介してケース２９１に押圧されている。つまり、固定器具２９１４は、裏蓋２９１３をケース２９１側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース２９１の内部を光密に（つまり、ケース２９１内部から光が漏れないように、及び、ケース２９１の外部から光が侵入しないように）密閉している。なお、固定器具２９１４は、ケース２９１の長手方向（ＬＧＤ）に複数箇所設けられている。また、有機ＥＬ素子３１０は、封止部材２９４により覆われている。
【００４５】
図５は、本実施形態にかかる発光基板３００を模式的に示す図である。図５（ａ）は上述の裏面方向から見た平面図であり、図５（ｂ）は側面図である。そして図５（ｃ）は図５（ａ）のＡ−Ａ’線における断面を拡大して示す図であり、図５（ｄ）は後述する改質点３３０が形成されている部分を拡大して示す図である。
【００４６】
図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、発光基板３００は、透光性基板３０１と、該透光性基板の裏面に千鳥状に配置された複数の有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された複数の（フォトダイオード等の受光素子からなる）光検出手段３２０等からなっている。なお、上記図５（ａ）〜図５（ｄ）、及び、後に記載する図７から図１２において、有機ＥＬ素子３１０は一部のみ図示している。
【００４７】
透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域の厚さ方向に、光の直進性を妨げる複数の改質点３３０が形成されている。かかる改質点３３０は、透光性基板３０１の形成材料であるガラス等に形成された気泡、クラック、組織欠陥等であり、照射された光の直進性を妨げることができる。したがって、図５（ｃ）に示すように、角度範囲θａの範囲外の光Ｌ２、すなわち従来の発光基板においては光検出手段３２０に入射することのなかった光を反射等させて、進行方向を変化させることができる。上述の反射等は一回のみでなく連続して発生する。したがって、上述の光検出手段３２０が配置されている領域に照射された光は、直進せずに乱反射を繰り返す。
【００４８】
図５（ｄ）は、かかる乱反射の態様を示すものである。改質点３３０は複数個が密集するように形成されているため、上述の領域に入射した光Ｌ２は、光検出手段３２０に入射して取り込まれるか、あるいは上述の領域外に達するまでは、乱反射を継続する。したがって、改質点３３０を形成することにより、従来の発光基板においては光検出手段３２０に入射することのなかった光のうちの少なくとも一部を光検出手段３２０に入射させることができ、有機ＥＬ素子３１０から射出される光のうちの光検出手段３２０に入射する光の割合を増加させることができる。
【００４９】
上述したように、長手方向ＬＧＤ（図３参照）に配置した有機ＥＬ素子３１０を用いて感光体ドラム２１上に潜像を形成する発光基板３００においては、有機ＥＬ素子３１０毎の発光頻度により経時劣化の程度にばらつきが生じる。そのため、高精度の画像を形成するためには定期的に有機ＥＬ素子３１０毎の発光強度を測定して補正する必要がある。本実施形態の発光基板３００を用いる画像形成ユニット７、及び画像形成装置１は、は有機ＥＬ素子３１０及び光検出手段３２０等の配置の態様を、従来の発光基板等と同様にした場合において光検出手段に入射する光量を増加させることができる。したがって複雑な増幅回路あるいはノイズ低減回路等を用いることなく、有機ＥＬ素子３１０の発光強度の経時変化をより一層正確に把握してより一層正確に（各々の有機ＥＬ素子に印加する電流量等を）補正することができ、該経時変化にもかかわらず、より一層正確な画像を形成できる。
【００５０】
なお、図示するように、光検出手段３２０は１つの発光基板３００に複数個配置されている。そして、１つの有機ＥＬ素子が射出する光は、かかる複数個の光検出手段３２０全てに入射される。（入射する光量は、個々の光検出手段３２０の位置により異なる。）したがって、光検出手段３２０による測定値（後述するＰｈｎ）とは、全ての光検出手段３２０の測定値の合計量である。
【００５１】
上記補正は以下のように実施される。まず、露光ヘッド２９を形成した段階（画像形成装置に組み込む前の段階）で、有機ＥＬ素子３１０から光を射出させて感光体ドラム２１の表面に相当する位置に形成されるスポットの光量を、各有機ＥＬ素子３１０について測定する。具体的には、露光ヘッド２９を検査装置に取り付ける。検査装置には、露光ヘッド２９の各有機ＥＬ素子３１０から射出される光の光量を、感光体ドラム２１の表面に対応する像面位置で検出する光量検出器が配置されている。この光量検出器は、１個の検出器を移動させつつ各有機ＥＬ素子３１０から射出される光の光量を検出するものでもよいし、有機ＥＬ素子３１０毎に検出器を配置したものでもよい。そして、各有機ＥＬ素子３１０を順に発光させて、検査装置の光量検出器で検出した値Ｐｇｎと、露光ヘッド２９の光検出手段３２０で検出した値Ｐｈｎ（ｎはｎ番目の発光素子を表す）とを得るとともに、各有機ＥＬ素子３１０について補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎを算出する。このようにして求めた補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎは、例えば図２に示すエンジンコントローラＥＣに記憶しておく。そして、次に説明するように、補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎに基づいて、画像形成装置としての補正が実施される。
【００５２】
画像形成装置１としての補正は、まず有機ＥＬ素子３１０の光量ばらつきが検出される。かかる光量ばらつき検出は、画像形成装置１の電源投入時、画像形成動作開始前等の、通常の画像形成動作が実行されていない間に行われる。具体的には、各有機ＥＬ素子３１０を順番に発光させながら、光検出手段３２０の検出値が測定される。そして、光検出手段３２０の測定値に補正係数Ｐｇｎ／Ｐｈｎを乗じることによって、各有機ＥＬ素子３１０により感光体ドラム２１の表面で形成されるスポットの光量が算出される。算出された光量がばらついており、所望の光量が実現されていない場合は、所望の光量が得られるように有機ＥＬ素子３１０の駆動を制御する。つまり、所望の光量と算出された光量とを比較して、算出された光量が所望の光量となるように、有機ＥＬ素子３１０に流す電流等を調整する。そして、このような調整動作を全ての有機ＥＬ素子３１０について実行することで、複数の有機ＥＬ素子３１０の間での光量ばらつきが抑制される。その結果、良好な露光が実現される。なお、所望の光量に関する情報や、駆動制御動作を実行させるプログラム等は、例えばエンジンコントローラＥＣに予め記憶しておいてもよい。
【００５３】
次に、改質点３３０の形成方法について述べる。図６は、改質点３３０の形成方法の一例を示すものであり、レーザ光３５５を用いて透光性基板３０１に改質点を形成する態様を示している。図６（ａ）に示すように、図示しない光源から射出される所定の径を有するレーザ光３５５を、集光レンズ３５０により透光性基板３０１内の一点に集光させることで、周囲の形質（透光性等）に影響を及ぼすことなくかかる一点に気泡、クラック等を形成して、改質点３３０とすることができる。そして図示しない光源と集光レンズ３５０とを備えるユニットと、透光性基板３０１とを相対的に移動させることにより、透光性基板３０１内部の任意の部分に複数個の改質点３３０を形成できる。
【００５４】
図６（ｂ）は、上述の光源と集光レンズ３５０とを備えるユニットを２組用いて改質点３３０を形成する態様を示す図である。２組のレーザ光３５５を同一の点に集光することで、より多くのエネルギーを一点に集中でき、より一層周囲の形質に影響を及ぼすことなく、また短時間で、透光性基板内の一点を改質できる。なお、上記ユニットを３組以上用いることも可能である。また、改質点３３０の形成は、透光性基板３０１上に有機ＥＬ素子を形成する前、あるいは後のいずれの時点でも可能である。
【００５５】
レーザ光３５５は、ＹＡＧレーザの第２高調波（波長＝５３２ｎｍ）あるいはＹＡＧレーザの第３高調波（波長＝３５５ｎｍ）が好ましい。長パルス幅を有するため、形成される改質点３３０がクラック状となり、有機ＥＬ素子から射出される光を効率よく反射できる。また、チタンサファイヤ固体フェムト秒レーザ（波長＝８００ｎｍ）を用いてもよい。
【００５６】
（第２の実施形態）
続いて、第２の実施形態について説明する。第２の実施形態の発光基板３００、及び後述する第３〜第７の実施形態の発光基板３００は、第１の実施形態の発光基板３００と同様に、レンズアレイ２９９等と組み合わされて露光ヘッド２９となり、さらに画像形成ユニット７、及び画像形成装置１の構成要素となる。そして、かかる場合における、レンズアレイ２９９等の構成要素は、発光基板３００を除くと共通である。そこで、本実施形態及び第３〜第７の実施形態については、発光基板３００についてのみ述べる。
【００５７】
図７は、第２の実施形態の発光基板３００を示す図である。図７（ａ）が平面図、図７（ｂ）が側面図である。発光基板３００の構成は、第１の実施形態の発光基板３００と、後述する光反射層の有無を除くと共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０等からなる。そして、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域の厚さ方向に、光の直進性を妨げる複数の改質点３３０が形成されている。そして、透光性基板３０１の下面の光検出手段３２０と対向する領域には、光反射層３１５が配置されている。光反射層３１５はアルミニウム等の反射性の高い金属で形成されている。形成方法はスパッタ法等による成膜でもよく、また金属板を貼付してもよい。
【００５８】
かかる構成によれば、改質点３３０によって反射された後、透光性基板３０１の外部に向かう光を、再度改質点３３０が形成されている領域に戻して乱反射させることができる。したがって、光検出手段３２０の寸法等を変化させることなく、該光検出手段に入射する光の割合を増加させることができる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化の程度をより一層正確に把握してより一層正確な補正（調整）を実施でき、より一層高品質の画像を形成できる。なお、光反射層３１５は鏡面反射層でもよく、また、乱反射層であってもよい。
【００５９】
図７においては、光反射層３１５の形状（平面視での形状）は、光検出手段３２０の形状と略一致するように図示されているが、光反射層３１５の形状は、かかる形状に限定されるものではない。また、光反射層３１５の配置位置は透光性基板３０１の下面（有機ＥＬ素子３１０が形成されている面と対向する面）に限定されない。有機ＥＬ素子３１０が形成されている領域、及び有機ＥＬ素子３１０から射出されてレンズアレイ２９９に入射する光の経路と重なる領域を除く全域に配置することもできる。したがって、透光性基板３０１の側面（上面及び下面以外の面）にも配置できる。
【００６０】
（第３の実施形態）
図８は、第３の実施形態の発光基板３００を示す図である。図８（ａ）が平面図、図８（ｂ）が側面図である。発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５等からなる。
【００６１】
第２の実施形態の発光基板と異なる点は、光検出手段３２０及び光反射層３１５の位置である。透光性基板３０１の下面、すなわち有機ＥＬ素子３１０が配置されている面（上面）の反対側の面に光検出手段３２０が配置されており、光反射層３１５は上面に配置されている。
かかる構成によれば、有機ＥＬ素子３１０から射出され、改質点３３０に一回も当たらずに下面に到達する光のうちの一部を、光検出手段３２０に受光させることができる。また、改質点３３０により乱反射した後、上面に向かう光を光反射層３１５で反射して、再度改質点３３０が密集している部分に向かわせて、再度乱反射させることができる。そして、再度乱反射させた光の一部を、光検出手段３２０に入射させることができる。そのため、光検出手段３２０の寸法等を変化させることなく、該光検出手段に入射する光の割合を増加させることができる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化の程度をより一層正確に把握してより一層正確な補正（調整）を実施でき、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６２】
（第４の実施形態）
図９は、第４の実施形態の発光基板３００を示す図である。図９（ａ）が平面図、図９（ｂ）が側面図である。本実施形態の発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態及び第３の実施形態の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に配置された光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成っている。そして光検出手段３２０が配置される位置が、第１の実施形態の発光基板３００とは異なっている。
【００６３】
本実施形態の発光基板３００においては、第１の実施形態の発光基板３００において光検出手段３２０が配置されていた領域、及び該領域に対向する領域に、光反射層３１５が配置されている。そして上述双方の光反射層３１５の間（双方の光反射層３１５で挟持される領域）に複数の改質点３３０が形成されている。そして光検出手段３２０は、透光性基板３０１のかかる改質点３３０が形成されている部分の側面に配置されている。
【００６４】
対向する光反射層の間に、改質点３３０が密集するように形成されているため、改質点３３０に当たって乱反射した後に、透光性基板３０１の上面あるいは下面に向かう光は、どちらかの光反射層３１５で反射されて再度改質点３３０に向かう。そして、改質点３３０に当たって乱反射した後に、透光性基板３０１の側面に向かう光は光検出手段３２０に入射する。したがって、光検出手段３２０に入射する光の割合をより一層増加させることができる。その結果、より一層正確な補正（調整）を実施することができ、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６５】
（第５の実施形態）
図１０は、第５の実施形態の発光基板３００を示す図である。本実施形態の発光基板３００の構成は、第２の実施形態の発光基板３００の構成と略一致している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成り、光検出手段３２０は透光性基板３０１の上面に配置されている。
【００６６】
本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０の（透光性基板３０１における）厚さ方向の配置に特徴がある。そこで、平面図は省略して側面図のみを示す。本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０が、上述の厚さ方向では重ならない様に形成されていることが特徴である。改質点３３０で反射されて光検出手段３２０の方向に向かう光が他の改質点３３０に当たって反射することが抑制されるため、光検出手段３２０に入射する光の割合を増加させることができる。その結果、より一層正確な補正（調整）を実施することができ、より一層高品質の画像を形成できる。
【００６７】
（第６の実施形態）
図１１は、第６の実施形態の発光基板３００を示す図である。本実施形態の発光基板３００の構成は、第２の実施形態の発光基板３００の構成と略一致している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成り、光検出手段３２０は透光性基板３０１の上面に配置されている。
【００６８】
本実施形態の発光基板３００は、第５の実施形態の発光基板３００と同様に、改質点３３０の（透光性基板３０１における）厚さ方向の配置に特徴がある。そこで、平面図は省略して側面図のみを示す。
【００６９】
本実施形態の発光基板３００は、改質点３３０が、上述の厚さ方向で密度に差が生じるように形成されていることが特徴である。すなわち、改質点３３０は上面に近づくにつれて高密度となるように形成されている。かかる構成によれば光検出手段３２０に近い領域で乱反射が高い頻度で発生するため、有機ＥＬ素子３１０から射出され光検出手段３２０の近傍を透過する光を、高い割合で光検出手段３２０に入射させることができる。また、効果が薄い改質点３３０を形成することを抑制できるため、製造コストを低減できる。
【００７０】
（第７の実施形態）
図１２は、第７の実施形態の発光基板３００を示す図である。図１２（ａ）が平面図、図１２（ｂ）が側面図である。本実施形態の発光基板３００を構成する要素は、第２の実施形態等の発光基板３００と略共通している。すなわち、発光基板３００は、透光性基板３０１と、透光性基板３０１上に千鳥状に配置された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と、該有機ＥＬ素子の周囲に光検出手段３２０と、透光性基板３０１の光検出手段３２０が配置されている領域に形成された光の直進性を妨げる複数の改質点３３０と、光反射層３１５と、から成っている。そして、光検出手段３２０等の数が増加している点で、第２の実施形態の発光基板３００等と異なっている。
【００７１】
本実施形態の発光基板３００においては、透光性基板３０１の中央部の、有機ＥＬ素子３１０が千鳥状に配置されている領域の周辺を取り囲むように光検出手段３２０が配置されている。そして透光性基板３０１の下面の、平面視で光検出手段３２０と重なる領域には光反射層３１５が配置され、該光反射層と光検出手段３２０との間には改質点３３０が形成されている。
【００７２】
有機ＥＬ素子３１０の周囲が、平面視で、光検出手段３２０と改質点３３０と光反射層３１５とで囲まれているため、有機ＥＬ素子３１０から射出される光は高い確率でいずれかの光検出手段３２０に入射する。したがって、光検出手段３２０に入射する光の割合をより一層増加させることができ、より一層正確な補正（調整）を実施して、より一層高品質の画像を形成できる。
【００７３】
なお、光反射層３１５は完全に連続させて環状にしてもよい。また、光検出手段３２０も透光性基板３０１上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）あるいはＴＦＤ（薄膜ダイオード）等を造りこむことで、環状に配置することもできる。
【００７４】
（変形例）
次に変形例として、透光性基板３０１上に形成された発光素子としての有機ＥＬ素子３１０と該有機ＥＬ素子の近辺に配置された光検出手段３２０と該光検出手段の近辺に形成された改質点３３０を有する発光基板３００を備える有機ＥＬ装置及び該有機ＥＬ装置を有する電子機器について述べる。
【００７５】
図１３は、上記の有機ＥＬ装置を有する電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図である。パーソナルコンピュータ１２００はキーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、光検出手段と該光検出手段の近辺に形成された改質点とを有する発光基板を備え、表示領域１２０８に画像表示可能な有機ＥＬ装置１２０６とを備えている。
【００７６】
図１４は、変形例にかかる有機ＥＬ装置１２０６の表示領域１２０８における画素の配置等を示す図である。図１４（ａ）は画素Ｐの配置を示し、図１４（ｂ）及び図１４（ｃ）は画素Ｐ内のサブ画素及び光検出手段の配置の一例を示している。有機ＥＬ装置１２０６はカラー表示可能であり、有機ＥＬ装置１２０６の表示領域１２０８には、図１４（ａ）に示すように画素Ｐが規則的に配置されている。各々の画素が、（発光の）強度及び色彩等が個別に制御された光を射出することで表示領域１２０８にカラー画像を表示できる。なお、上記の図において画素Ｐはマトリクス状に配置されているが、千鳥状等の他の配置とすることもできる。
【００７７】
各々画素Ｐは、サブ画素である、赤色光を射出する赤画素Ｒと緑色光を射出する緑画素Ｇと青色光を射出する青画素Ｂ、及び少なくとも１つの光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１を、各１つずつ備えている。各々のサブ画素は、有機ＥＬ素子３１０と後述する駆動用ＴＦＴ６２０（図１５参照）とを備えている。上記サブ画素等の配置は、図１４（ｂ）に示すように一列に並べて配置されてもよく、また、図１４（ｃ）に示すように、センサＴＦＴ３２１が各サブ画素と隣り合うように配置されてもよい。
【００７８】
本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６は上記の画像形成装置１と同じく、電源投入時等に表示領域に配置された全てのサブ画素を順次発光させて、各々の画素毎にセンサＴＦＴ３２１で光量を測定できる。そして、かかる測定値と、有機ＥＬ装置１２０６の製造時において同一の手法で測定して得た値とを比較することにより各々のサブ画素毎の経時劣化の程度を算出して、画像を表示する際には補正することができる。すなわち、好ましい光量が得られるように、各々の有機ＥＬ素子３１０に流す電流等を補正できる。
【００７９】
そして、後述するように、光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１が形成されている領域に複数の改質点３３０（図１５参照）が形成されているため、有機ＥＬ素子３１０から射出される光のうちのセンサＴＦＴ３２１に入射する光の割合を増加させることができる。その結果、上記補正をより一層高い精度で実施でき、より一層高品質の画像を表示できる。
【００８０】
なお、有機ＥＬ装置１２０６は、画像表示時には、個々の画素毎に夫々異なる値の電流等を供給して任意の光量を得ているが、上述の光量測定時には全ての画素（サブ画素）が備える有機ＥＬ素子に同一の電流量等供給する。したがって、上記測定値は、各々の有機ＥＬ素子３１０に対して同一の電流を供給した場合における、各々の有機ＥＬ素子３１０が射出する光量の測定値である。以下、本変形例にかかる有機ＥＬ装置１２０６の構成について述べる。
【００８１】
図１５は、本変形例の有機ＥＬ装置１２０６が備える発光基板３００における、１つの画素Ｐを構成する領域の模式断面図である。発光基板３００は、透光性基板３０１、及び該透光性基板上に形成された駆動用ＴＦＴ６２０及び有機ＥＬ素子３１０等からなる。そして発光基板３００が後述するように接着層６５６により対向基板３０２と貼り合わされて有機ＥＬ装置１２０６となる。図示するように画素Ｐは、透光性基板３０１と対向基板３０２との間に形成された有機ＥＬ素子３１０等からなる。上述したように、画素Ｐは３種類のサブ画素と光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１とからなる。上述したように各々のサブ画素は有機ＥＬ素子３１０と該有機ＥＬ素子を駆動する駆動用ＴＦＴ６２０、及び図示しない保持容量等からなる。
【００８２】
図示するように、透光性基板３０１上には駆動用ＴＦＴ６２０に隣り合うようにセンサＴＦＴ３２１が形成されている。センサＴＦＴ３２１は有機ＥＬ素子３１０が射出する光の一部を受光して、各々の有機ＥＬ素子３１０の発光強度を測定できる。かかる測定結果に基づいて各々の有機ＥＬ素子３１０に供給する電流量を補正（調整）することで高品質の画像を表示（形成）できる。
【００８３】
そして、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６が備える発光基板３００の、センサＴＦＴ３２１が形成されている領域の透光性基板３０１内には、複数の改質点３３０が密集するように形成されている。上述の露光ヘッド２９と同様に、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６のセンサＴＦＴ３２１は、有機ＥＬ素子が射出する光を、改質点３３０により高い比率で受光することができ、上述の補正をより一層有効に実施できる。有機ＥＬ素子３１０及び駆動用ＴＦＴ６２０の構成は、以下の通りである。
【００８４】
透光性基板３０１上には、多結晶シリコン層を島状にパターニングして形成された半導体層６１０、ＳｉＯ2等の絶縁材料からなるゲート絶縁膜６０８、及びクロム等の高融点金属からなるゲート電極６１２が、順に形成されている。半導体層６１０の平面視でゲート電極６１２と重なる領域がチャネル領域６０２であり、該領域の両側はＰ（燐）等の不純物が導入されてソース領域６０４及びドレイン領域６０６となっている。かかる要素により、駆動用ＴＦＴ６２０が構成されている。なお、透光性基板３０１と半導体層６１０との間に、ＳｉＯ2等からなるバッファー層を形成してもよい。
【００８５】
ゲート電極６１２上にはＳＩＯ2等からなる第１の層間絶縁膜６３２が形成されている。そして、半導体層６１０のソース領域６０４及びドレイン領域６０６に対応する位置に第１のコンタクトホール６４１及び第２のコンタクトホール６４３が形成されている。上記双方のコンタクトホールにはアルミニウム等からなるソース電極６４２及びドレイン電極６４４が形成され、該双方の電極上にはＳＩＯ2等からなる第２の層間絶縁膜６３４が形成されている。そして、第２の層間絶縁膜６３４のドレイン電極６４４に対応する位置には、第３のコンタクトホール６４５が形成され、該第３のコンタクトホールを介してドレイン電極６４４と接続する画素電極（陽極）６５０が形成されている。画素電極６５０はＩＴＯ（酸化インジウム・すず）等の透光性導電材料層を島状にパターニングして形成されており、後述する機能層に通電するとともに機能層内で生じた光を投下させて透光性基板３０１を介して発光基板３００の外部に射出できる。なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６が備える有機ＥＬ素子３１０は、透光性基板３０１側に光を射出するボトムエミッション型である。各々の画素電極６５０はポリイミド等の絶縁性有機材料層、又は絶縁性無機材料層を画素電極６５０が露出するようにパターニングして形成された隔壁６３６により区画されている。
【００８６】
隔壁６３６と画素電極６５０とからなる凹部には、各々のサブ画素が備える有機ＥＬ素子３１０が射出する光に対応する機能層が形成されている。すなわち、赤画素Ｒには赤色光に対応する赤色機能層６５２Ｒが、緑画素Ｇには緑色光に対応する緑色機能層６５２Ｇが、青画素Ｂには青色光に対応する青色機能層６５２Ｂが夫々形成されている。なお（図示は省略しているが）各機能層は、正孔注入輸送層と発光層と電子注入輸送層とを積層して形成されている。上記の３要素の内でサブ画素間で異なる要素は発光層のみであり、正孔注入輸送層と電子注入輸送層とはサブ画素間で共通である。
【００８７】
上記各機能層及び隔壁６３６の上には、発光基板３００上の全面にアルミニウム、マグネシウム・銀合金等からなる陰極６５４が形成されている。画素電極６５０、陰極６５４、及び該一対の電極間の機能層とで有機ＥＬ素子３１０となる。画素電極６５０と陰極６５４との間に電圧を印加して機能層（に含まれる発光層）に電流を流すことにより、画素電極６５０から供給される正孔と陰極から供給される電子とが発光層内で結合する。そして、結合によるエネルギーで励起された発光層（内の発光材料）が、励起状態から再び基底状態に戻る際に光を発生する。発光基板３００はかかる光を透光性基板３０１から射出することで画像を形成する。そして、陰極６５４の形成により発光基板３００が完成し、該発光基板が接着層６５６により対向基板３０２と貼り合わされて、有機ＥＬ装置１２０６となる。
【００８８】
透光性基板３０１上には上記のサブ画素と並んで、光検出手段としてのセンサＴＦＴ３２１が形成されている。センサＴＦＴ３２１の構成は（寸法を除いて）駆動用ＴＦＴ６２０と同様であり、用途が異なっている。したがって、別の工程を加えることなしに、駆動用ＴＦＴ６２０と同時に形成できる。
【００８９】
上述の電源投入時等における光量測定において、センサＴＦＴ３２１は、隣り合うサブ画素が射出する光の一部を受光して、受光した光の強度、すなわち劣化の程度に応じた電流又は電圧を出力する。そして、かかる電流値又は電圧値は、マトリクス状に配置された画素Ｐの周囲に配置されている制御回路に伝達され記憶される。センサＴＦＴ３２１はサブ画素からなる画素Ｐ毎に配置されているため、個々のサブ画素の劣化の程度を検出できる。したがって、上述の制御回路は、画像表示時に各々のサブ画素毎に（該各々のサブ画素の劣化の程度に応じた）異なる電流を供給して、該劣化による光量の低下を補正できる。その結果、本実施形態の有機ＥＬ装置１２０６は、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化にもかかわらず、常に高品質の画像を表示できる。
【００９０】
ここで上述の有機ＥＬ素子が射出する光は、図１５の矢印に示すように、透光性基板３０１に対して垂直の方向に多くの割合で向かう。しかし、上述の第１の実施形態で述べたように、透光性基板３０１に所定の範囲の角度で照射される一部（透光性基板と外部との界面）は該表面で反射されて透光性基板３０１に向かい、その内のさらに一部はセンサＴＦＴ３２１の半導体層６１０に入射する。
【００９１】
そして、センサＴＦＴ３２１が形成されている領域には、複数の改質点３３０が密集するように形成されている。したがって、上述の第１の実施形態で述べたように、透光性基板３０１のセンサＴＦＴ３２１と平面視で重なる領域に入射した光を効率よく受光できる。したがって、有機ＥＬ素子３１０の経時劣化をより一層正確に把握でき、より一層好ましい調整（補正）を実施することができる。したがって、有機ＥＬ装置１２０６を備える電子機器としてのパーソナルコンピュータ１２００において、より一層高品質の画像を表示できる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】第１の実施形態にかかる露光ヘッドを適用できる画像形成装置を示す図。
【図２】第１の実施形態にかかる画像形成装置の電気的構成を示す図。
【図３】第１の実施形態にかかる露光ヘッドの概略を示す斜視図。
【図４】第１の実施形態にかかる露光ヘッドの幅方向断面図。
【図５】第１の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図６】改質点の形成方法の一例を示す図。
【図７】第２の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図８】第３の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図９】第４の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１０】第５の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１１】第６の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１２】第７の実施形態にかかる発光基板を模式的に示す図。
【図１３】変形例にかかる電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図。
【図１４】変形例にかかる有機ＥＬ装置の表示領域における画素の配置等を示す図。
【図１５】変形例にかかる有機ＥＬ装置が備える発光基板における、画素の模式断面図。
【図１６】従来の露光ヘッドが備える発光基板を模式的に示す図。
【符号の説明】
【００９３】
１…画像形成装置本体、３…ハウジング本体、４…排紙トレイ、５…電装品ボックス、７…画像形成ユニット、８…転写ベルトユニット、１１…給紙ユニット、１２…２次転写ユニット、１３…定着ユニット、１５…シート案内部材、２１…像担持体としての感光体ドラム、２３…帯電部、２５…現像部、２７…感光体クリーナ、２９…露光ヘッド、５１…画像処理部、５２…メイン側通信モジュール、５３…ヘッド側通信モジュール、５４…ヘッド制御モジュール、７１…クリーナ部、７７…給紙カセット、７９…ピックアップローラ、８０…レジストローラ対、８１…転写ベルト、８２…駆動ローラ、８３…従動ローラ、８５…１次転写ローラ、８６…下流ガイドローラ、１２１…２次転写ローラ、１３１…加熱ローラ、１３２…加圧部、２５１…現像ローラ、２９１…ケース、２９４…封止部材、２９９…レンズアレイ、３００…発光基板、３０１…透光性基板、３０２…対向基板、３１０…発光素子としての有機ＥＬ素子、３１５…光反射層、３２０…光検出手段、３２１…光検出手段としてのセンサＴＦＴ、３３０…改質点、３５０…集光レンズ、３５５…レーザ光、６０２…チャネル領域、６０４…ソース領域、６０６…ドレイン領域、６０８…ゲート絶縁膜、６１０…半導体層、６１２…ゲート電極、６２０…駆動用ＴＦＴ、６３２…第１の層間絶縁膜、６３４…第２の層間絶縁膜、６４１…第１のコンタクトホール、６４２…ソース電極、６４３…第２のコンタクトホール、６４４…ドレイン電極、６４５…第３のコンタクトホール、６５０…画素電極、６５２Ｂ…青色機能層、６５２Ｇ…緑色機能層、６５２Ｒ…赤色機能層、６５４…陰極、６５６…接着層、７１１…クリーナブレード、７１３…廃トナーボックス、１２００…パーソナルコンピュータ、１２０２…キーボード、１２０４…本体部、１２０６…有機ＥＬ装置、１２０８…表示領域、１３２１…ローラ、１３２２…ローラ、１３２３…加圧ベルト、２９１１…位置決めピン、２９１２…ねじ挿入孔、２９１３…裏蓋、２９１４…固定器具、Ｂ…青画素、Ｇ…緑画素、Ｒ…赤画素。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板と、
前記透光性基板の一方の面に配置された複数の発光素子と、
前記透光性基板に配置された、前記発光素子から射出され前記透光性基板内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段と、
を含む発光基板を備え、
前記発光素子から射出され前記透光性基板を透過した光を、前記発光素子と前記透光性基板を介して対向する像担持体上に照射して、前記像担持体に所定のパターンを形成する露光ヘッドであって、
前記透光性基板内には、該透光性基板内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点が形成されていることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の露光ヘッドであって、前記透光性基板の表面における、前記発光素子が配置されている領域と該発光素子と対向する領域と前記光検出手段が配置されている領域と、を除く領域の少なくとも一部に、前記発光素子が射出する光を反射する光反射層が配置されていることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光ヘッドであって、前記発光素子が有機ＥＬ素子であることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の露光ヘッドであって、前記改質点はレーザ光で形成されたものであることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光ヘッドであって、前記改質点の形成密度が、前記透光性基板内の位置により異なることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成ユニット。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１】
透光性基板と、
前記透光性基板の一方の面に配置された複数の発光素子と、
前記透光性基板に配置された、前記発光素子から射出され前記透光性基板内を伝播する光を検出可能な１又は複数の光検出手段と、
を含む発光基板を備え、
前記発光素子から射出され前記透光性基板を透過した光を、前記発光素子と前記透光性基板を介して対向する像担持体上に照射して、前記像担持体に所定のパターンを形成する露光ヘッドであって、
前記透光性基板内には、該透光性基板内を伝播する光を乱反射させる複数の改質点が形成されていることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の露光ヘッドであって、前記透光性基板の表面における、前記発光素子が配置されている領域と該発光素子と対向する領域と前記光検出手段が配置されている領域と、を除く領域の少なくとも一部に、前記発光素子が射出する光を反射する光反射層が配置されていることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光ヘッドであって、前記発光素子が有機ＥＬ素子であることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の露光ヘッドであって、前記改質点はレーザ光で形成されたものであることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光ヘッドであって、前記改質点の形成密度が、前記透光性基板内の位置により異なることを特徴とする露光ヘッド。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成ユニット。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光ヘッドを備えることを特徴とする画像形成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２００９−１８４２８１（Ｐ２００９−１８４２８１Ａ）
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２８４９２（Ｐ２００８−２８４９２）
【出願日】平成２０年２月８日（２００８．２．８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月８日（２００８．２．８）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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