Ｎ−アルコキシアミンの合成方法
【課題】Ｎ−アルコキシアミンの合成方法の提供。
【解決手段】本発明は、対応するオキソ−ピペリジンをヒドロキシ又はアミノ置換立体障害性アミンエーテルに変換することによる立体障害性アミンエーテルの新規製造方法、及びＮ−プロポキシ又はＮ−プロペノキシ置換立体障害性アミンの新規製造方法、及びこれらの方法によって得られるいくつかの新規化合物に関する。これらの方法によって得られる化合物は、光、酸素及び／又は熱の有害な影響に対するポリマー組成物の安定化において及びポリマーのための難燃剤として、特に効果的である。
【解決手段】本発明は、対応するオキソ−ピペリジンをヒドロキシ又はアミノ置換立体障害性アミンエーテルに変換することによる立体障害性アミンエーテルの新規製造方法、及びＮ−プロポキシ又はＮ−プロペノキシ置換立体障害性アミンの新規製造方法、及びこれらの方法によって得られるいくつかの新規化合物に関する。これらの方法によって得られる化合物は、光、酸素及び／又は熱の有害な影響に対するポリマー組成物の安定化において及びポリマーのための難燃剤として、特に効果的である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対応するオキソ−ピペリジンをヒドロキシ又はアミノ置換立体障害性アミンエーテルに変換することによる立体障害性アミンエーテルの新規製造方法、及びＮ−プロポキシ又はＮ−プロペノキシ置換立体障害性アミンの新規製造方法、及びこれらの方法によって得られるいくつかの新規化合物に関する。これらの方法によって得られる化合物は、光、酸素及び／又は熱の有害な影響に対するポリマー組成物の安定化において及びポリマーのための難燃剤として、特に効果的である。
【背景技術】
【０００２】
国際公開第０１／９２２２８号パンフレットは、有機ヒドロペルオキシド及び銅触媒の存在下における、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素の反応による、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換ヒンダードアミン化合物の製造方法を記載している。
【０００３】
国際公開第０３／０４５９１９号パンフレットは、有機ヒドロペルオキシド及びヨウ素触媒の存在下における、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素の反応による、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換ヒンダードアミン化合物の製造方法を記載している。
【０００４】
欧州特許第１９９０７９４５号明細書は、酸化による、１−アリル置換立体障害性アミンからの１−アリルオキシ置換立体障害性アミンの形成を記載している。
【０００５】
国際公開第９８／５４１７４号パンフレット及び米国特許第５，８４４，０２６号明細書は、Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２、２，６，６−テトラメチル−４−オキソ−ピペリジンの対応するアミンへの還元アミノ化を記載している。
【特許文献１】国際公開第０１／９２２２８号パンフレット
【特許文献２】国際公開第０３／０４５９１９号パンフレット
【特許文献３】欧州特許第１９９０７９４５号明細書
【特許文献４】国際公開第９８／５４１７４号パンフレット
【特許文献５】米国特許第５，８４４，０２６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
現技術の方法における問題は、アミンオキシドが飽和炭化水素と選択的に反応しないため、所望の生成物から除去し難い不要の副生成物が得られることにある。本発明の方法では、不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素が、飽和炭化水素よりもより選択的に反応するため、この問題が解消する、言い換えれば、本発明の方法に従って製造された化合物は、より純粋であり得る。本発明の方法の転換生成物は、蒸留等の標準的な方法によって、容易に精製され得る。１つの反応工程における不飽和炭素−炭素結合の水素化及びカルボニル基の還元又は還元アミノ化は、現技術、即ち２つの別の反応工程において行われる反応よりも、反応工程を１つ減らし、溶媒及び試剤の使用量を少なくし得る。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、式（１００）
【化１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１８のアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ1は、ヒドロキシ基、−ＮＴ2Ｔ3、−ＯＴ22、Ｔ20を又は式（１０２）で表わされる基を表わし；
Ｔ2は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又はＲ42を表わすか；又は、Ｔ2は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わし；
Ｔ3は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、
Ｔ2及びＴ3は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成し；
但し、Ｔ2及びＴ3は、ベンジル基ではなく；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
Ｔ21は、
【化２】
を表わし；
Ｔ20は、
【化３】
を表わし；
Ｒ30は、Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｒ30は、−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23−を表わし、
ここで、置換基Ｔ23の１つは水素原子を表わし、かつ置換基Ｔ23の２つは
【化４】
を表わし；
ｎは１ないし４を表わし；
ｐは１ないし３を表わし；
式（１０２）で表わされる基は、
【化５】
を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わす。）で表わされる立体障害性アミンエーテルの製造方法であって、該方法は、
１つの反応工程において、水素及び触媒の存在下で、式（１０１）
【化６】
（式中、Ｒ1は、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基を表わす。）で表わされる化合物を、Ｔ1がヒドロキシル基又は−ＮＴ2Ｔ3を表わすところの式（１００）で表わされる化合物に変換することを含み、
ここで、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3の化合物を得るためには、上記変換は、式ＨＮＴ2Ｔ30（式中、Ｔ30は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基又は−Ｑ−ＮＨＴ2を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、Ｔ2及びＴ30は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成するが；但し、Ｔ30は、ベンジル基ではない。）で表わされるアミンの存在下において行われること；及び、
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて式（１０３）
【化７】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を得[工程ａ１]、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること[工程ａ２]；
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、式（１０３）で表わされる化合物をＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させること；そして、
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて、式（１０４）
【化８】
で表わされる化合物を得[工程ｂ１]、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０５）
【化９】
で表わされる化合物を得[工程ｂ２]、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０６）
【化１０】
で表わされる化合物を得[工程ｂ３]、
その後、該化合物を化合物２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジンと反応させること[工程ｂ４]、からなる方法に関する。
【０００８】
特に指示がない限りは、本願明細書に記載される反応は、都合良くは、ほぼ大気圧、例えば０．５ないし１．５バール、特におおよそ大気圧において行われる。
【０００９】
Ｔ1＝ヒドロキシ基又は−ＮＴ2Ｔ3の式（１００）で表わされる化合物への変換のための触媒は、好ましくは、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｐｔ又はＰｄ担持木炭又はラネーニッケル、又は水素化ホウ素等の還元剤である。０．０００１ないし０．１当量、好ましくは０．０００５ないし０．０１当量、特に０．０００５ないし０．００５当量の触媒が、この反応において使用される（当量は、式（１０１）で表わされる化合物のモル当量において与えられる。）。
【００１０】
転換は、好ましくは、３５ないし１２０℃の温度、及び６ないし１００バールの水素圧下、例えば、４５ないし１１０℃の温度、及び８ないし６０バールの水素圧下で行われる；４５ないし１１０℃の温度、及び４０ないし６０バールの水素圧下もまた興味深い。
【００１１】
転換は、溶媒、好ましくは有機溶媒又はＨＮＴ2Ｔ30、例えばＨＮＴ2Ｔ30、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、プロパノール、ｉ−プロパノール、ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、ジ−ｉ−プロピルエーテル、シクロヘキサン、ヘキサン又はヘプタン中で行われ得る。
【００１２】
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表される化合物は、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させることによって得られ得る；該反応は、例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特にｐ．２０４及び４４７−４５０、又はＲ．Ｌａｒｏｃｋ，ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９８９，ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇ，ｐ．９８５−９８７及びそこに引用される文献に記載されている。
【００１３】
ハロゲン化物との反応は、中性、酸性又は塩基性媒体、例えば好ましくは過剰量の希ＮａＯＨ等の塩基性媒体中で行われ得る。カルボン酸は、無機酸、トリフルオロ酢酸、アレーンスルホン酸、ＺｎＣｌ2、酸性陽イオン交換体、ＳｎＣｌ2又は２−ハロゲン−１−メチルピリジウム塩等の触媒の存在下において、反応させられ得る。得られる水又はジエステルは、蒸留によって反応混合物から除去され得る。反応は、触媒の非存在下で行われ得る；このような場合には、反応は、ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミドの存在下において行われ得る。
【００１４】
メチルエステルとの反応は、触媒、例えばＮａＯＡｃ ＮａＣＮ、酸性触媒、（ｎ−Ｃ4Ｈ9）ＳｎＯＲ又はＴｉ−、Ｚｒ−又はＡｌ−アルコキシドの存在下において行われ得る
。興味深いのは、高温、例えば５０ないし２００°又は５０°ないし混合物の沸点において行われる該反応である。Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物は、等モル量又は過剰量で、例えば２ないし１０モル当量、好ましくは３ないし５モル当量の量で使用され得る。触媒は、０．５ないし０．０１モル当量、好ましくは０．２５ないし０．１モル当量の量で使用され得る（当量は、Ｔ1＝ヒドロキシ基の式（１００）で表わされる化合物のモル当量において与えられる。）。
【００１５】
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させることにより式（１０３）で表わされる化合物を得[工程ａ１]、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること[工程ａ２]によって得られる。
【００１６】
工程ａ１（例えば、欧州特許第４５５５８８に記載されるような；当量は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。）：
シアヌル酸ハロゲン化物は、シアヌル酸塩化物であり得る（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）。反応は、例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び所望による、０．０００１ないし０．１当量、例えば０．００１ないし０．０１当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相間移動触媒の存在下において、キシレン、トルエン又はシクロヘキサン等の有機溶媒中で行われ得る。反応温度は、６０ないし８０℃であり得る。
工程ａ２（例えば、米国特許第５，２１６，１５６号明細書に記載されるような；当量は、工程ａ１の生成物のモル当量として与えられる。）：
Ｒ42ＮＨ2又はヒドロキシ置換Ｒ42ＮＨ2は、０．５ないし５当量の量で使用され得る。反応は、キシレン等の有機溶媒中又はキシレンとトルエン又はシクロヘキサンの混合物中で行われ得る。所望により、反応は、例えば０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び／又は０．０００１ないし０．１当量、例えば０．００１ないし０．０１当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相間移動触媒の存在下において行われる。反応温度は、１００ないし１３０°であり得る。
【００１７】
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物は、欧州特許第８８９０８５号明細書に記載されるように、２ないし４当量の式（１０３）で表わされる化合物と１当量のＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2を反応させることよって製造され得る；例えば、反応は、反応において生成する塩酸を中和するために、酸受容体を有する炭化水素溶媒、例えば水酸化ナトリウム水溶液中で行われる。
【００１８】
例えば、２．５ないし３当量の式（１０３）で表わされる化合物、特に３当量の式（１０３）で表わされる化合物が１当量のＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させられる。該反応は、キシレン中又はキシレンとトルエン又はシクロヘキサンの混合物中で行われ得る。ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、２ないし４当量）及び
所望による、相間移動触媒（例えば、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4、例えば０．０２ないし０．０４当量）がこの反応において使用され得る（当量は、Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2のモル当量として与えられる。）。反応温度は、１００ないし２００℃であり得る。反応は、０．５ないし２０バール、例えば０．５ないし１０バール、特に０．５ないし５バールの圧力において、例えば、ほぼ大気圧において行われ得る。
【００１９】
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、この反応の全ての工程は、例えば独国特許第１９９０７９４５号明細書に記載されるように行われ得る。
工程ｂ１（当量は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。）：
シアヌル酸塩化物等のシアヌル酸ハロゲン化物は、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量の量で使用され得る。適当な溶媒の例は、キシレン、トルエン又はシクロヘキサンである。例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び所望による、０．００１ないし０．１当量、例えば０．００５ないし０．０５当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相転移触媒がこの反応工程に存在し得る。反応温度は、０ないし４０°であり得る。
工程ｂ２（当量は、工程ｂ１の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ１の生成物、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量の、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物及び例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基を６０ないし８０°の温度のいて反応させ得る。
工程ｂ３（当量は、工程ｂ２の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ２の生成物を、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物（例えば、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量）及び所望による、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量）と例えば１００ないし２００°の反応温度において反応させ得る。
工程ｂ４（当量は、工程ｂ３の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ３の生成物を、所望により、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）の存在下で、例えば１００ないし２００°の反応温度において、２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジン（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）と反応させる。
【００２０】
工程ｂ３及びｂ４は、０．５ないし２０バール、例えば０．５ないし１０バール、特に０．５ないし５バールの圧力において、例えば、ほぼ大気圧において行われ得る。
【００２１】
興味深いのは、
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１０のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ2は、水素原子を表わし；
Ｔ3は、Ｒ42、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わし；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−炭素原子数４ないし１０のアルキレン−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
ｎは、２ないし４を表わし；
ｙは、２ないし１０を表わし；
Ｒ1は、炭素原子数３ないし１０のアルケニル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルケニル基を表わし；
Ｘは、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす、方法である。
【００２２】
例えば、Ｘは塩素原子を表わす。
【００２３】
技術的に興味深いのは、Ｒ2が炭素原子数３又は炭素原子数８のアルキル基又は炭素原
子数６のシクロヘキシル基を表わし、Ｒ1が炭素原子数３又は炭素原子数８のアルケニル基又は炭素原子数６のシクロヘキセニル基を表わす方法である。
【００２４】
興味深いのは、Ｒ2が炭素原子数３のアルキル基を表わし、Ｒ1が炭素原子数３のアルケニル基を表わし、Ｔ1が−ＮＴ2Ｔ3を表わす方法である。
【００２５】
本発明の態様は、式（１０１）で表わされる化合物が、式（２００）
【化１１】
で表わされる化合物と炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンを反応させることによって得られるところの方法である。
【００２６】
炭素原子数３ないし１８のアルケンは、未枝分かれのアルケン、例えば炭素原子数３ないし１８のアルケ−１−エンであり得る。興味深いのは、炭素原子数３ないし１０のアルケン又は炭素原子数５ないし７のアルケン、例えば炭素原子数３又は炭素原子数８のアルケン又は炭素原子数６のシクロヘキセン、特に炭素原子数３のアルケンである。
【００２７】
この方法は、好ましくは、有機ヒドロペルオキシド及び所望による更なる触媒の存在下で行われる。
【００２８】
更なる触媒は、好ましくは、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、プラチナ、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス；それらの化合物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される。
【００２９】
更なる触媒は、第４級アンモニウム又はハロゲン化ホスホニウム、例えば塩化物又は臭化物でもあり得る。アンモニウム又はホスホニウムカチオンの構造は、重要ではない；通常、第４級アンモニウム又はホスホニウムカチオンは、例えば、アルキル基、フェニルアルキル基又はフェニル基であり得る、中心の窒素原子又はリン原子に結合される炭化水素残基を４個含む。いくつかの容易に入手可能な材料は、テトラ−炭素原子数１ないし１２のアルキル化されたものである。
【００３０】
更なる触媒は、有機及び無機ヨウ化化合物を含む、あらゆる他のヨウ化化合物も含み得る。例は、アルカリ又はアルカリ土類金属ヨウ化物、又はスルホニウムヨウ化物等のオニウムヨウ化物、特に第４級スルホニウムヨウ化物である。適当な金属ヨウ化物は、とりわけ、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムのヨウ化物である。
【００３１】
更なる触媒は、より好ましくは、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム；それらのハロゲン化物及び酸化物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される。
【００３２】
更なる触媒は、最も好ましくは、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅；それらのハ
ロゲン化物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウム、例えば置換された及び未置換のヨウ化第４級アンモニウム又はホスホニウム、特にヨウ化テトラアルキルアンモニウム又はヨウ化テトラフェニルホスホニウム及びヨウ化トリフェニルアルキルホスホニウムからなる群から選択される。
【００３３】
更なる触媒は、同種又は異種触媒系にするために、有機又は無機ポリマー骨格に結合され得る。
【００３４】
上記で言及された更なる触媒は、水素化物イオン（Ｈ-）又は無機又は有機酸から誘導されるアニオン等の遷移金属の錯体化学において一般に知られたアニオン性リガンドを含み得り、例えば、ハロゲン化物、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-又はI-等、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-又はＡｓＦ6-型のフルオロ錯体、酸素酸、アルコラート又はアセチリドのアニオン、又はシクロペンタジエン又はオキシドのアニオンである。
【００３５】
酸素酸のアニオンは、例えば、スルフェート、ホスフェート、過塩素酸塩、過臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、アンチモネート、アルセネート、ニトレート、カルボネート、炭素原子数１ないし８のカルボン酸のアニオン、例えばホルメート、アセテート、プロピオネート、ブチレート、ベンゾエート、フェニルアセテート、モノ−、ジ−又はトリクロロ−又はフルオロアセテート、スルホネート、例えば、メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、トリフルオロメチルスルホネート（トリフレート）、未置換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル−、炭素原子数１ないし４のアルコキシ−又はハロ−、特にフルオロ−、クロロ−又はブロモ−置換フェニルスルホネート又はベンジルスルホネート、例えば、トシレート、メシレート、ブロシレート、ｐ−メトキシ−又はｐ−エトキシ−フェニルスルホネート、ペンタフルオロフェニルスルホネート又は２，４，６−トリイソプロピルスルホネート、ホスホネート、例えばメチルホスホネート、エチルホスホネート、プロピルホスホネート、ブチルホスホネート、フェニルホスホネート、ｐ−メチルフェニルホスホネート又はベンジルホスホネート、炭素原子数１ないし８のカルボン酸から誘導されたカルボキシレート、例えばホルメート、アセテート、プロピオネート、ブチレート、ベンゾエート、フェニルアセテート、モノ−、ジー又はトリ−クロロ−又は−フルオロアセテート、及びまた、炭素原子数１ないし１２のアルコラート、例えば、直鎖の又は枝分かれした炭素原子数１ないし１２のアルコラート、例えばメタノレート又はエタノレートである。また、オキシドでもよい。
【００３６】
アニオン性及び中性のリガンドはまた、更なる触媒の錯カチオンの好ましい配位数まで、特に４個、５個又は６個存在し得る。更なる負電荷は、カチオン、特に、Ｎａ+、Ｋ+、ＮＨ4+又は（炭素原子数１ないし４のアルキル）4Ｎ+等の一価カチオンによって釣り合わせられる。
【００３７】
上記で言及した更なる触媒はまた、遷移金属の錯体化学において一般に知られた無機又は有機中性リガンド等の中性のリガンドも含み得る。適当な無機リガンドは、水（Ｈ2Ｏ）、アミノ、窒素、一酸化炭素及びニトロシルからなる群から選択される。適当な有機リガンドは、ホスフィン、例えば（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ、（ｉ−Ｃ3Ｈ7）3Ｐ、（Ｃ5Ｈ9）3Ｐ又は（Ｃ6Ｈ11）3Ｐ、ジ−、トリ−、テトラ−及びヒドロキシアミン、例えばエチレンジアミン、エチレンジアミノテトラアセテート（ＥＤＴＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ビス（２−ジメチルアミノエチル）−エチレンジアミン（Ｍｅ6ＴＲＥＮ）、カテコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ベンゼンジアミン、２−（メチルアミノ）フェノール、３−（メチルアミノ）−２−ブタノール又はＮ，Ｎ’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，２−エタンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−ペンタメチルジエチルトリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）、炭素原子数１ないし８のグリコール又はグリセリド、例えばエチレン又はプロピレングリコール又はそれらの誘導体、例えばジ−、トリ−又はテトラ
グリム及び単座又は二座の複素環式ｅ-ドナー配位子からなる群から選択される。
【００３８】
更なる触媒は、更に、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ビス−ピリジン、ピコリルイミン、ｇ−ピラン、ｇ−チオピラン、フェナントロリン、ピリミジン、ビス−ピリミジン、ピラジン、インドール、クマロン、チオナフテン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ビス−チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、キノリン、ビス−キノリン、イソキノリン、ビス−イソキノリン、アクリジン、クロメン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、トリアジン、チアントレン、プリン、ビス−イミダゾール及びビス−オキサゾールからなる群からの未置換の又は置換されたヘテロアレーンから誘導される複素環式ｅ-ドナー配位子を含み得る。
【００３９】
式（２００）で表わされる基を少なくとも１つ有する化合物を含む、本発明の方法においてＮ−オキシル抽出物ともみなされる立体障害性アミンオキシドは、技術的に良く知られ；それらは、適当な酸素ドナーを用いた対応するＮ−Ｈヒンダードアミンの酸化によって、例えば、対応するＮ−Ｈヒンダードアミンと、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｚａｎｔｓｅｖ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ中で，１９７１，１９２に記載されるように過酸化水素及びタングステン酸ナトリウムとの；又は米国特許第４，６９１，０１５号明細書に教示されるように第三ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（ＶＩ）との反応によって製造され得るか、又は同様の方法によって得られ得る。
【００４０】
炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンの量は、典型的には式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし１００モルの比の量、好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし５０モルの比の量、最も好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし３０モルの比の量である。
【００４１】
例えば、有機ヒドロペルオキシドの量は、式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし２０モルの量、好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし５モルの量、最も好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし３モルの量である。
【００４２】
本発明の方法において使用される有機ヒドロペルオキシドは、式Ｒ−ＯＯＨ（式中、Ｒは、通常、１ないし１８個の、好ましくは３ないし１８個の炭素原子を含む炭化水素を表わす。）で表わされるものであり得る。Ｒは、都合良くは、脂肪族、例えばアルキル基、好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基である。最も好ましくは、有機ヒドロペルオキシドは、第三ブチルヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシドである。
【００４３】
更なる触媒の好ましい量は、式（２００）で表わされる化合物 １モル当り約０．０００１ないし０．５、特に０．０００５ないし０．１モル当量の量であり、式（２００）で表わされる化合物 １モル当り更なる触媒 ０．００１ないし０．０５モルの比の量が最も好ましい。
【００４４】
反応は、好ましくは０℃ないし１００℃、より好ましくは２０℃ないし１００℃、特に２０℃ないし８０℃の範囲で行われる。
【００４５】
炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンは、反応のための反応剤及び溶媒の双方として２つの機能を果たし得る。反応はまた、不活性有機又は無機溶媒を使用して行われ得る。
【００４６】
このような溶媒は、特に、更なる触媒が炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン中にあまり溶解しない場合に使用され得る。典型的な不活性溶媒は、アセトニトリル、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、クロロベンゼン、ＣＣｌ4、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエステル）又はアルカン、例えばヘキサン、デカン等又はこれらの混合物である。水等の無機溶媒も良く使用される。
【００４７】
本発明の方法は、空気中又は窒素又はアルゴン等の不活性雰囲気中で行われ得る。本発明の方法は、大気圧下並びに減圧下又高圧下で行われ得る。
【００４８】
本発明の方法には、いくつかの変形がある。一つの変形は、Ｎ−オキシルヒンダードアミン、炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及び溶媒（必要に応じて）、及び任意の、所望の反応温度にする更なる触媒の混合物への有機ヒドロペルオキシド溶液の添加を含む。適当な温度が、ペルオキシドの添加速度を調節することによって、及び／又は加熱又は冷却浴を使用することによって維持され得る。ヒドロペルオキシドを添加した後、反応混合物は、出発アミンオキシドが存在しなくなるまで、又は所望の生成物、例えば式（１０１）で表わされる化合物へ転換されなくなるまで、都合良く撹拌される。反応は、現技術において既知の方法、例えばＵＶ−ＶＩＳ分光法、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー又は液体クロマトグラフィーによって観察され得る。反応の進行中に、更なる触媒が添加され得る。最初のヒドロペルオキシド添加量が反応混合物へ添加された後、より多くのヒドロペルオキシドが反応を完了させるために滴下添加され得る。
【００４９】
２つ目の本発明の方法の変形は、炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン、溶媒（必要に応じて）及び任意の更なる触媒の混合物へヒドロペルオキシド溶液と式（２００）で表わされる化合物の溶液を同時に添加することである。式（２００）で表わされる化合物は、反応において使用される水又は溶媒、例えばアルコール中に溶解され得る。式（２００）で表わされる化合物のいくつかは、ペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得、式（２００）で表わされる化合物の全てはペルオキシドの添加を完了する前に添加されるべきである。
【００５０】
本発明の方法の他の変形は、式（２００）で表わされる化合物、炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及び溶媒（必要に応じて）の混合物へのヒドロペルオキシド溶液と更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の同時添加を含む。更なる触媒のいくつかは、ペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得る。
【００５１】
本発明の方法の更なる他の変形は、炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及溶媒（必要に応じて）へのヒドロペルオキシド溶液、ニトロキシル化合物の水溶液又は溶媒溶液、及び更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の同時添加である。式（２００）で表わされる化合物及び／又は触媒の一部は、ヒドロペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得る。式（２００）で表わされる化合物の全ては、ヒドロペルオキシドの添加を完了する前に添加されるべきである。
【００５２】
反応の終わりにおいて、残りのヒドロペルオキシドは、あらゆる生成物の単離の前に注意深く分解され得る。
【００５３】
本発明の他の態様は、式（２００）で表わされる化合物が式（２０１）
【化１２】
で表わされる化合物の酸化によって得られるところの方法である。
式（２００）で表わされる化合物を含む立体障害性アミンオキシドは、現技術において良く知られ；それらは、適当な酸素ドナーを用いた対応するＮ−Ｈヒンダードアミンの酸化によって、例えば、対応するＮ−Ｈヒンダードアミンと、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｚａｎｔｓｅｖ
ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ中で，１９７１，１９２に記載されるように過酸化水素及びタングステン酸ナトリウムとの；又は米国特許第４，６９１，０１５号明細書に教示されるように第三ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（ＶＩ）との反応によって製造され得るか、又は同様の方法によって得られ得る。現技術において既知の式（２０１）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば米国特許第４，７３４，５０２号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って製造され得る。
【００５４】
上記で言及した方法は、中間生成物を単離することなく、式（２０１）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなり得る。
【００５５】
例えば、上記で言及した方法は、中間生成物を単離することなく、式（２００）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなり得る。
【００５６】
Ｒ1が、式
【化１３】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わし；Ｒ7及びＲ8はまた、一緒になって化学結合を形成してもよい。）で表わされる基を表わすところの式（１０１）で表わされる化合物は、以下のことを含む方法、式（２０２）
【化１４】
（式中、Ｔ4及びＴ5は、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすか；又は、Ｔ4は、ヒドロキシ基を表わし、Ｔ5は、水素原子を表わす。）で表わされる化合物と式（２０３）
【化１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を反応させることにより式（２０４）
【化１６】
で表わされる化合物を得；
式（２０４）で表わされる化合物を、酸素、過酸化物、過マンガン酸塩又は塩素酸塩の存在下において酸化することにより式（２０５）
【化１７】
で表わされる化合物を得；
Ｔ4及びＴ5が、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物を脱アセタール化することによって、又はＴ4＝ヒドロキシ基、Ｔ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物を酸化することによって得られる。
【００５７】
現技術において既知の式（２０２）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば欧州特許第０７４８８４９号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って合成され得る。
【００５８】
式（２０４）で表わされる化合物は、Ｃ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特に２１１−２１２頁及びそこに引用された文献に記載されるように、式（２０２）及び（２０３）で表わされる化合物から得られ得る。式（２０２）で表わされる化合物と式（２０３）で表わされる化合物のモル比は、０．５ないし４、好ましくは１ないし３、最も好ましくは１．５ないし２．５である。触媒として、Ｃｕ又はＰｄ粉末、Ｃｕ又はＰｄ塩又はそのホスフィン錯体又はＢｕ4Ｎ+塩等の第４級アンモニウム塩、例えば、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4が、触媒量で使用され得る。反応は、溶媒なし又はありで行われ得る。適当な溶媒は、炭化水素（例えば、キシレン又はトルエン）、アル
コール（特に、メタノール又はエタノール）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン）又はジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリドン等の極性溶媒であり得る。反応温度は、２０−１５０℃、例えば５０−１２０℃又は溶媒を含む反応のために５０°ないし該溶媒の沸点であり得る。所望により、アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩又は水酸化物、例えばＮａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3又はＮａＯＨ等の塩基が試剤として存在し得る。
【００５９】
式（２０３）で表わされる化合物において、Ｘは、好ましくは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子、最も好ましくは臭素原子又はヨウ素原子を表わす。
【００６０】
式（２０４）で表わされる化合物から式（２０５）で表わされる化合物を得るための酸化は、既知の酸化剤、例えば酸素、ペルオキシド又は他の酸化剤、例えばニトレート、過マンガン酸塩、塩素酸塩を使用して行われ得る。好ましいものは、ペルオキシド、例えば過酸化水素をベースとする系、特に過安息香酸又は過酢酸等の過酸である。酸化剤は、都合良くは、化学量論量又は過剰量で使用され、例えば式（２０４）で表わされる化合物のために、１−２モルの活性酸素原子が使用される。
【００６１】
反応は、適当な溶媒、例えば芳香族又は脂肪族炭化水素、アルコール、エステル、アミド、エーテル又はハロゲン化炭化水素；例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレンの存在下において行われ得る；好ましいものは、炭素原子数１ないし４のアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン又は塩素化された炭素原子数１ないし６の炭化水素である。
【００６２】
温度及び圧力は、重要ではなく、主に使用される酸化剤系に依存する；好ましくは、温度は、反応中、−２０℃ないし＋４０℃の範囲内で維持される。都合良くは、圧力は、ほぼ大気圧に、例えば０．５ないし１．５バールに維持される。酸化が、気体酸素によりなされる場合、酸素又は酸素／不活性ガスの圧力は、大気圧を超え得る。
【００６３】
Ｔ4及びＴ5が独立して炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物の脱アセタール化は、例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特に２４１頁、又はＪ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３版，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
１９８５，ＷＩＬＥＹ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ,特に３２９−３３１頁、又はＴｈ．Ｇｒｅｅｎｅ，ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９９１,１８０−１８３頁及びこれらの文献に引用される文献に記載されるような既知の方法によって行われ得る。脱アセタール化は、水及び酸の存在下において、例えば、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中で行われ得る。酸は、ＨＣｌ、ＨＢｒ又はＨＩ、特にＨＣｌであり得る。水は、過剰量で、即ち式（２０５）で表わされる化合物１モル当り１モル以上の量で使用され得る。脱アセタール化は、含水アセトニトリル中でＬｉＢＦ4を用いて、又は、塩化メチレン中又はクロロホルム中でＭｅ3ＳｉＩを用いて非水条件で行われ得る。技術的に興味深いものは、Ｈ2Ｏ／ＨＣｌを使用した脱アセタール化である。１ないし１００当量、好ましくは１０ないし５０当量の水、０．０１ないし１０当量、好ましくは０．１ないし１当量のＨＣｌ及びＴＨＦ、ＭｅＯＨ又はＥｔＯＨ等の共溶媒が使用される。反応温度は、０ないし８０℃、好ましくは２０ないし５０℃であり得る。
【００６４】
Ｔ4＝ヒドロキシ基、及びＴ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物の酸化は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９２，ｐ．１１６７−１１７１及びそこ
に引用される文献に記載されるような既知の方法で行われる。
【００６５】
主要な酸化剤は、例えば、触媒及び酸素、過酸化水素、次亜塩素酸塩、アルキルヒドロペルオキシド及びカルボニル化合物からなる群から選択される更なる物質等の、安価で、かつ環境に優しいために産業的に魅力的なものであり得るが、これらに制限はされない。
【００６６】
ａ）以下の共触媒１種以上と共に、酸素及び触媒、例えばニトロキシド（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド（ＴＥＭＰＯ）、４−[炭素原子数１ないし１６のアルキルオキシ、炭素原子数１ないし１６のアルカノイルオキシ、又はアロイルオキシ]−ＴＥＭＰＯ、チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４又は実施例１２の化合物Ｋ’）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリヒドロキシイソシアヌル酸又はＮ−ヒドロキシサッカリン；ポリオキソ金属酸又はそのアルカリ又はテトラアルキルアンモニウム塩（例えば、Ｈ5[ＰＭｏ10Ｖ2Ｏ40]；タングス酸塩、リンタングステン酸塩、シリコタングステン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｔｕｎｇｓｔａｔｅ）、ホウ化タングステン酸塩（ｂｏｒｏｔｕｎｇｓｔａｔｅ）、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、リンモリブデン酸塩、シリコモリブデン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｍｏｌｙｂｄａｔｅ）、チタン酸塩又はシリコチタン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｔｉｔａｎａｔｅ））；ＶＩＩＡ、ＶＩＩＩＡ又はＩＢ族の金属、その酸化物、その塩（例えば、クロリド、ブロミド、アセテート又はアセチルアセトネート）又はその錯体（例えば、Ｐｄ[ＰＰｈ3]2Ｃｌ2、Ｐｄ[ＰＰｈ3]4、Ｒｕ[ＰＰｈ3]4Ｈ2、Ｒｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2又はＣｕ[１，１０−フェナントロリン]Ｃｌ）；酵素、例えばクロロペルオキシダーゼ；更なる共触媒又は補助添加剤は、アルカリ、アルカリ土類又はテトラアルキルアンモニウムのヨウ化物であり得る；対称ジカルベトキシヒドラジン又はジエチルアゾジカルボキシレート；安息香酸、３−クロロ安息香酸、フタル酸又はイソフタル酸；アルカリ炭酸水素塩又は炭酸塩；ヒドロキノン又はｐ−ベンゾキノン；アスコルビン酸。
ｂ）以下の共触媒１種以上と共に、過酸化水素及び上記されたようなポリオキソ金属酸塩（例えば、Ｎａ2ＷＯ4）又は酵素（例えば、クロロペルオキシダーゼ）等の触媒；上記で定義されたニトロキシド、又はその脱酸素化前駆体（アミン）；テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物（特に、塩化物、臭化物、ヨウ化物又は硫酸水素塩、例えばトリオクチルメチル硫酸水素アンモニウム）等の相間移動剤。
ｃ）アルカリ又はアルカリ土類臭化物又はヨウ化物又はアルカリホウ酸塩等の共触媒と一緒の次亜塩素酸塩及び上記で定義したニトロキシド等の触媒。
ｄ）アルキルヒドロペルオキシド（例えば、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシド）及びＡｌ−、Ｚｒ−又はＴｉ−アルコキシド（例えば、ｎ−プロポキシド、ｉ−プロポキシド、ｔ−ブトキシド、例えばＺｒ[ＯnＰｒ]4、Ｚｒ[ＯiＰｒ]4又はＺｒ[ＯtＢｕ]4）、ＺｒＯ（ＯＡｃ）2又は酵素（例えば、クロロペルオキシダーゼ）の触媒。
ｅ）ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン）等のカルボニル化合物及びＡｌ−、Ｚｒ−又はＴｉ−アルコキシド（例えば、Ａｌ[ＯnＰｒ]3、Ａｌ[ＯiＰｒ]3又はＡｌ[ＯtＢｕ]3、金属（例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ又はラネーニッケル）又はＲｕ錯体（例えば、Ｒｕ[ＰＰｈ3]4Ｈ2又はＲｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2）等の触媒。
【００６７】
触媒は、同質又は異質のものであり得、反応は同質（１相）又は異質（２つ以上の相）であり得る。
【００６８】
反応ａ）ないしｅ）の例において、当量（ｅｑ）は、特に指示がない限りは、Ｔ4＝ヒドロキシ基及びＴ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。
【００６９】
酸素及び触媒の例は、
ａ１）Ｒ．Ｎｅｕｍａｎｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６６，８６５０−８６５３（２００１）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量のＨ5［ＰＭｏ10Ｖ2Ｏ40］；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５、特に０．０２ないし０．０４当量のＴＥＭＰＯ；反応は、アセトン等の溶媒又はアセトンと２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン又はクロロヘキサノンの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、１ないし１０、例えば１．５ないし５、約１．５ないし２．５ａｔｍであり得る；反応温度は２５ないし１２５°、好ましくは５０ないし１１０°、特に９０ないし１１０°であり得る。
ａ２）Ａ．Ｓｈｅｌｄｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１２３，６８２６−６８３３（２００１）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量のＲｕＣｌ2［ＰＰｈ3］3；０．００１ないし０．２、好ましくは０．０１５ないし０．１５当量のＴＥＭＰＯ；反応は、クロロベンゼン等の溶媒中で行われ得る；酸素の圧力は、１ないし２０、好ましくは５ないし１５、例えば８ないし１２バールであり得る；反応温度は２５ないし１２５°、好ましくは５０ないし１１０°、特に９０ないし１１０°であり得る。
ａ３）Ｙ．Ｉｓｈｉｉ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６５，６５０２−６５０７（２０００）に記載されている：０．０１ないし０．２、好ましくは０．０５ないし０．１５当量のＮ−ヒドロキシフタルイミド；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００２ないし０．０５当量のＣｏ（ＯＡｃ）2;０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量のｍ−クロロ過安息香酸；反応は、酢酸エチル等の溶媒中で又は酢酸エチルとクロロベンゼン、アセトニトリル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、０．５ないし５０、好ましくは０．５ないし２５、例えば０．５ないし２バールであり得る；反応温度は０ないし１００°、好ましくは２０ないし５０°、特に２０ないし３０°であり得る。
ａ４）Ｉ．Ｍａｒｋｏ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６４，２４３３−２４３９（１９９９）に記載されている:０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量のＣｕ［１，１０−フェナントロリン］Ｃｌ；０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量の対称ジカルベトキシヒドラジン又はジエチルアゾジカルボキシレート；０．１ないし４、好ましくは１ないし３当量のＫ2ＣＯ3；反応は、トルエン等の溶媒中で又はトルエンとクロロベンゼン、アセトニトリル、酢酸エチル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、０．５ないし５０、好ましくは０．５ないし２５、特に０．５ないし１．５バールであり得る；反応温度は２５ないし１２０°、好ましくは５０ないし１００°、特に８０ないし１００°であり得る。
【００７０】
過酸化水素及び触媒の例は、Ｒ．Ｎｏｙｏｒｉ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２００３，１９７７−１９８６に記載されている：
０．００１ないし０．１、好ましくは０．００１５ないし０．０５当量のＮａ2ＷＯ4；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００１５ないし０．０５当量の硫酸水素トリオクチルメチルアンモニウム；１ないし５、好ましくは１ないし２当量のＨ2Ｏ2（例えば、２５ないし３５％の水溶液）；反応温度は、２５ないし１００°、好ましくは５０ないし１００°、特に８５ないし９５°であり得る。
【００７１】
次亜塩素酸塩及び触媒の例は、Ｈ．ｖａｎ Ｂｅｋｋｕｍ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １０，１１５３−１１７４（１９９６）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量の４−メトキシ−ＴＥＭＰＯ；０．０１ないし０．３、好ましくは０．０５ないし０．２当量のＫＢｒ；１ないし３、好ましくは１．１ないし１．７５当量のＮａＯＣｌ（例えば、０．３５モル）；反応は、ジクロロメタン等の溶媒中で又はジクロロメタンと１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、酢酸メチル、クロロベンゼン又はトルエンの混合物中で行われ得る；反応温度は、−１０ないし
５０°、好ましくは−５ないし３０°、特に−５ないし１０°であり得る。
【００７２】
アルキルヒドロペルオキシド及び触媒の例は、Ｈ Ａｄａｍ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，１４６７−１４７２（１９９６）に記載されている：０．０１ないし１、好ましくは０．０５ないし０．５当量のＺｒ（ＯnＰｒ）4又はＺｒ（ＯｔＢｕ）4；１ないし５、好ましくは１．５ないし３当量のｔ−ＢｕＯＯＨ（例えば、無水）；反応は、トルエン等の溶媒中で又はトルエンとシクロヘキサン、ヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；所望により、反応は、モレキュラシーブスの存在下で行われる；反応温度は、−２５ないし１００°、好ましくは０ないし８０°、特に２０ないし５０°であり得る。
【００７３】
カルボニル化合物及び触媒の例は、
ｅ１）Ｊ．Ｂａｃｋｖａｌｌ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，６５８７−６５９０（１９９６）に記載されている：０．００１ないし０．０５、好ましくは０．００１５ないし０．０３当量のＲｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2；カルボニル化合物の例は、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン及びシクロヘキサノンであり、ここでアセトンは溶媒としても使用され得る；反応温度は、２５ないし１２０°、好ましくは５０ないし１００°、特に反応混合物のほぼ還流温度であり得る。
ｅ２）Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ
Ｃｈｅｍｉｅ，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７３，ｖｏｌ．７／２ａ，ｐ.７１４−７１８及びＯｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．ＩＶ，１９２−１９５（１９６３）に記載されている：０．０１ないし０．８、好ましくは０．０５ないし０．６当量、特には０．４ないし０．６当量のＡｌ（ＯｔＢｕ）3又はＡｌ（ＯｉＰｒ）3；カルボニル化合物の例は、シクロヘキサノン、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン及び４−メチル−２−ペンタノンであり、通常１ないし５０、好ましくは１０ないし３０当量のカルボニル化合物が使用される；トルエンとクロロベンゼン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン又は１，２−ジクロロエタンの混合物が溶媒として使用され得る；反応温度は、２５ないし１３０°、好ましくは５０ないし１２０°、特にほぼ還流温度であり得る。
【００７４】
好ましいものは、アルキルヒドロペルオキシドと上記触媒の存在下において行われる反応である。
【００７５】
式（２０５）で表わされる化合物はまた、式（１０１）で表わされる化合物への連続反応を有する、式（２０１）で表わされる化合物の式（２００）で表わされる化合物への反応と同様の方法によって、式（２０２）で表わされる化合物から得られ得る。このような式（２０２）で表わされる化合物は酸化され得、得られた生成物は上記した炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンと反応させられ得る。該反応シークエンスを実施例１１に示す。
【００７６】
式（２０５）で表わされる化合物は、まず、イミンを形成し、その後、水素化することによって、式（１００）で表わされる化合物へ直接転換され得る。該反応は、例えばにＳｃ（ＯＴｆ）3よって又はＬａ（ＯＴｆ）3よって触媒され得る。該反応は、例えばＨ．Ｈｅａｎｅｙ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｌｅｔｔ．１９９８，６４０−６４２に記載されている。
【００７７】
本発明はまた、 式（３００）
【化１８】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ40は、プロピル基又は２−プロペニル基を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わし；
ｑは、２ないし８を表わし；
Ｒ15は、モルホリノ基、ピペリジノ基、１−ピペリジニル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルキルアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、又は２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2を表わし；
Ｔ10は、
【化１９】
を表わし、
Ｒ16は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、塩素原子で１回置換され、かつＲ15で１回置換されたｓ−トリアジニル基、又はＲ15で２回置換されたｓ−トリアジニル基（２つの置換基Ｒ15は異なり得る。）を表わし；
Ｒ17は、塩素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基で又はＴ10で置換されたアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2又は基Ｔ13
【化２０】
を表わし；
Ｒ18は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基、又は−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わす。）で表わされる化合物の製造方法であって、該方法は、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる化合物を酸化してＯ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところの式（３００）で表わされる化合物
とし、その後、プロぺンと反応させ：そして、
Ｒ40＝プロピル基の式（３００）で表わされる化合物を得るために、該化合物を水素化することからなる方法に関する。
【００７８】
技術的に興味深いものは、Ｒ15が−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10を表わし、Ｒ16が、Ｒ15＝２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わし、Ｒ17がＴ13を表わし、Ｒ18が２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わすところの式（３００）で表わされる化合物である。
【００７９】
現技術において既知である、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば独国特許第１９９５９６１９号明細書又はカナダ国特許２１９１８３２号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って合成され得る。
【００８０】
対応するアミンオキシド（−Ｏ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところ式（３００）で表わされる化合物）は、式（２００）で表わされる化合物を得るために上記したように得られ得る。
【００８１】
Ｒ40＝プロペニル基の式（３００）で表わされる化合物は、式（２００）で表わされる化合物から式（１０１）で表わされる化合物を得るための方法において記載したように得られ得る。所望の生成物を得るために、４，４−ジ−第三ブチル−２，２−ジピリジル等のリガンドのいくつかを更なる触媒に添加することも必要であり得る。
【００８２】
有利には、Ｒ40＝プロペニル基の式（３００）で表わされる化合物の水素化は、水素化触媒の存在下で行われる。
【００８３】
水素化触媒は、好ましくは、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、プラチナ化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物及びコバルト化合物からなる群から選択される。
【００８４】
水素化触媒は、同種又は異種触媒系にするために、有機又は無機ポリマー骨格に結合され得る。水素化はまた、Ｓ．Ｍｕｒａｓｈｉ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ．（１９９８），９８，２５９９−２６６０に記載されるように移動水素化として行われ得るか、又はＬａｒｏｃｋ，ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓに記載されるような更なる水素化法で行われ得る。
【００８５】
より好ましくは、水素化触媒は、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、プラチナ化合物、パラジウム化合物及びルテニウム化合物からなる群から選択される。
【００８６】
最も好ましくは、水素化触媒は、プラチナ、パラジウム及びルテニウム；炭素上に固定されたプラチナ、パラジウム及びルテニウム；ＰｔＯ2、Ｐｄ−ＣａＣＯ3−ＰｂＯ、ＲｕＣｌＨ［ＰＰｈ3］3、ＲｈＣｌ［ＰＰｈ3］3及びＲｕＨ2［Ｐ（Ｐｈ）3］4からなる群から選択される。
【００８７】
水素化触媒の好ましい量は、不飽和のアミンエーテル部位１モル当り０．０００１ないし０．２モルである。水素化反応は、好ましくは０ないし８０℃において、特に２０ないし６０℃の範囲内で行われる。水素圧は、好ましくは１ないし２０ａｔｍ、例えば１ないし５ａｔｍである。
【００８８】
上記で言及した方法において、Ｇ1及びＧ2は、例えばメチル基を表わす。
【００８９】
本発明の方法によって得られる化合物のいくつかは、新規であり、本発明の他の態様である。これらの化合物は、式（４００）ないし（４０７）
【化２１】
【化２２】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ30は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
ｎ2は、２ないし２０を表わす。）で表わされるものである。
【００９０】
興味深いものは、（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物
【化２３】
（式中、Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。）の混合物である。
【００９１】
式（４０８）で表わされる化合物と式（４０９）で表わされる化合物の比が１：９ない
し７：３、特に１：４ないし３：２、例えば３：７ないし１：１、最も好ましくは７：１３ないし９：１１であるところの式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物が好ましい。
【００９２】
興味深いのは、Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わすところの化合物又は化合物の混合物である。
【００９３】
興味深いものは、Ｒ30がブチル基を表わすものである。
【００９４】
本発明の化合物は、本発明の方法の一つに従って製造され得る。
【００９５】
定義において、用語‘アルケン’は、例えば、プロペン、及び、枝分かれした及び非枝分かれのブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン及びドデセンの異性体を含む。用語‘アルケン’はまた、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上有する、例えば２重結合を１つ含み得る残基も含む。
【００９６】
シクロアルケンのいくつかの例は、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロペンテン、ジメチルシクロペンテン及びメチルシクロヘキセンである。シクロアルケンは、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上含み得、例えば１つの２重結合を含み得る。
【００９７】
定義において、用語‘アルキル基’は、炭素原子数が上記制限範囲内のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基又はドデシル基を含む。
【００９８】
アルケニル基の例は、炭素原子数が上記制限範囲内の、ビニル基、アリル基、及び、枝分かれした及び非枝分かれのブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基及びドデセニル基の異性体である。用語‘アルケニル基’はまた、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上有する、例えば１つの２重結合を含み得る残基も含む。
【００９９】
アルキレン基の例は、炭素原子数が上記制限範囲内の、枝分かれした及び非枝分かれのビニレン基、アリレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基及びドデシレン基の異性体である。
【０１００】
シクロアルキル基のいくつかの例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基及びメチルシクロヘキシル基である。
【０１０１】
シクロアルケニル基のいくつかの例は、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、ジメチルシクロペンテニル基及びメチルシクロヘキセニル基である。シクロアルケニル基は、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上含み得、例えば１つの２重結合を含み得る。
【０１０２】
アリール基は、例えばフェニル基又はナフチル基である。
【０１０３】
用語‘アルコキシ基’は、炭素原子数が上記制限範囲内のもの、例えばメトキシ基及びエトキシ基、及び、枝分かれした及び非枝分かれのプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基及びオクタデシルオキシ基の異性体を含み得る。
【０１０４】
用語‘ハロゲン原子’は、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を含み得る；例えば、ハロゲン原子は、式（２０３）以外では、塩素原子である。
【０１０５】
本発明はまた、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物の使用に関する。
【０１０６】
例えば、本発明は、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の少なくとも１種の使用に関する
【０１０７】
例えば、本発明は、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の混合物の使用に関する。
【０１０８】
本発明はまた、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１０９】
例えば、本発明は、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の少なくとも１種を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１１０】
例えば、本発明は、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１１１】
本発明は、更に、
Ａ）酸化、熱及び／又は化学線分解に敏感な有機ポリマー、及び、
Ｂ）本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物
を含む組成物に関する。
【０１１２】
興味深いものは、天然、半合成又は合成有機ポリマー、特にポリオレフィン又はポリオレフィンコポリマー、例えばポリオレフィンである。
【０１１３】
本発明に従った化合物で保護され得るポリマーの例を以下に示す：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰ
Ｅ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）である。
【０１１４】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【０１１５】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０１１６】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【０１１７】
４．水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
【０１１８】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【０１１９】
６．ジエン又はアクリル酸誘導体とのスチレン又はα−メチルスチレンのコポリマー、
例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
【０１２０】
７．スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【０１２１】
８．ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホ塩化ポリエチレン、エチレン及び塩化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデンならびに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコボリマーのようなハロゲン含有ポリマー。
【０１２２】
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【０１２３】
１０．９）で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【０１２４】
１１．不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上の１）で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
【０１２５】
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
【０１２６】
１３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタール及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【０１２７】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【０１２８】
１５．一方はヒドロキシル末端化されたポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
【０１２９】
１６．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０１３０】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【０１３１】
１８．ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【０１３２】
１９．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
【０１３３】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【０１３４】
２１．フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂のような、１方ではアルデヒドから、他方ではフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー。
【０１３５】
２２．乾性及び非乾性アルキド樹脂。
【０１３６】
２３．飽和及び不飽和ジカルボン酸と、架橋剤としての多価アルコール及びビニル化合物とのコポリマーから誘導される不飽和ポリエステル樹脂、及びまたそれ自体低易燃性のハロゲン含有変性体。
【０１３７】
２４．置換されたアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂、例えばエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
【０１３８】
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【０１３９】
２６．脂肪族、環式脂肪族、複素環式又は芳香族グリシジル化合物、例えばビスフェノールＡとビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物から誘導される架橋されたエポキシ樹脂であって、酸無水物又はアミンのような慣用の硬化剤により、又は所望により促進剤の存在下、架橋された前記エポキシ樹脂。
【０１４０】
２７．前記ポリマー（ポリブレンド）のブレンド、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０１４１】
特に興味深いのは、合成有機ポリマー、例えばコーティング又はバルクポリマー又はそれらから形成された物品における、特に熱可塑性ポリマー及び対応する組成物並びにコーティング組成物、例えば酸又は金属触媒コーティング組成物における、安定剤としての、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表される化合物の混合物の使用である。本発明の組成物において最も重要な熱可塑性ポリマーは、上記の１−３の項目において列挙したようなポリオレフィン（ＴＰＯ）及びそれらのコポリマー、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、上記の１９の項目において列挙したようなポリカ−ボネート、及び上記の２７の項目において列挙したようなブレンドである。最も重要なものは、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）及びＰＣ／ＡＢＳブレンド等のポリカーボネートブレンドである。
【０１４２】
一般に、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、（安定化する有機ポリマーに基づき）０．０１ないし１０％、好ましくは０．０１ないし５％、特に０．０１ないし２％の量で、安定化する有機ポリマーに添加される。特に好ましいのは、０．０５ないし１．５％、特に０．１ないし０．５％の量における、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物の使用である。式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物が難燃剤として使用される場合、使用量は、通常、より多く、燃焼に対して安定化及び保護する有機ポリマーに基づき、例えば０．１ないし２５質量％、主に０．１ないし１０質量％の量である。
【０１４３】
有機ポリマー中への配合は、現技術において慣用の方法により、例えば式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物及び所望により更なる添加剤を該有機ポリマーに混和することによって又は適用することによってもたらされ得る。配合は、成形操作前又は成形操作中に、又は、溶解又は分散した化合物又は混合物をポリマーに適用し、その後、必要に応じて溶媒を蒸発させることによって行われ得る。エラストマーの場合、これらはまた、ラテックスとしても安定化され得る。更に、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物のポリマー中への配合は、対応するモノマーの重合前、重合中又は重合直後に、又は架橋前にそれらを添加することにより行うこと
もできる。これに関連して、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、そのままの形態で又はカプセル化形態（例えば、ワックス、オイル又はポリマー中に）で添加され得る。
【０１４４】
式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物はまた、例えば、安定化されるポリマーに対して２．５ないし２５質量％の濃度で前記化合物を含むマスターバッチの形態においても添加され得る。
【０１４５】
式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、以下の方法によって配合され得る：
−エマルジョン又は分散液として（例えば、ラテックス又はエマルジョンポリマーに）。
−更なる成分又はポリマー混合物の混合中に乾燥混合物として。
−加工機（例えば、押出機、内部ミキサー等）中に直接導入することによって。
−溶液又は溶融液として。
【０１４６】
新規ポリマー組成物は、様々な形態で使用され得、及び／又は様々な製品を得るために加工され得る（例えば、フィルム、繊維、テープ、成形組成物、異形材として（を得るために）、又はコーティング材料のためのバインダー、接着剤又はパテとして）。
【０１４７】
興味深いものは、更なる添加剤を含む組成物である。
【０１４８】
特に興味深いものは、更なる添加剤として、フェノール系及び／又はアミン系抗酸化剤、ヒンダードアミン光安定剤、ＵＶ吸収剤、ホスフィット、ホスホナイト、ベンゾフラノン、金属ステアレート、金属酸化物、顔料、染料、有機リン化合物、ヒドロキシルアミン又は難燃剤及びそれらの混合物を含む組成物である。
【０１４９】
更なる添加剤の例を以下に示す：
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【０１５０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１５１】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタ
デシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１５２】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１５３】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１５４】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１５５】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１５６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１５７】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１５８】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１５９】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１６０】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１６１】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６４】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６５】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１；登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ）。
【０１６６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１６７】
１．１９．アミン酸化防止剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）−セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【０１６８】
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾレ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；Ｒが３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【０１６９】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１７０】
２．３．置換された及び非置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１７１】
２．４．アクリレート、
例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１７２】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うか又は伴わない１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル−ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、他の配位子を伴うか又は伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１７３】
２．６．更なる立体障害性アミン、
例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号：［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７４】
２．７．オキサミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリ
ド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１７５】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニル−エトキシ］フェニル｝−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ここで、オクチル部位は異なる異性体の混合物である。）。
【０１７６】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１７７】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット
、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）−ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【０１７８】
特に好ましいものは、以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製）、
トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化２４】
【０１７９】
５．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１８０】
６．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン
、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【０１８１】
７．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１８２】
８．ペルオキシド捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１８３】
９．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【０１８４】
１０．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１８５】
１１．核剤、
例えば、タルクのような無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（アイオノマー）のようなポリマー化合物。
【０１８６】
１２．充填剤及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１８７】
１３．他の添加剤
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ向上剤、蛍光増白剤、防炎剤、静電防止剤及び発泡剤。
【０１８８】
１４．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−
５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１８９】
慣用の添加剤は、安定化される有機ポリマーに基づき、０．１ないし１０質量％、例えば０．２ないし５質量％の量で使用される。
【実施例】
【０１９０】
実施例
ＮＯＲビルディングブロックの略記：
ＮＯＲビルディングブロックＡ
【化２５】
ＮＯＲビルディングブロックＢ
【化２６】
ＮＯＲビルディングブロックＣ
【化２７】
ＮＯＲビルディングブロックＤ
【化２８】
【０１９１】
実施例１：トリアセトンアミン（ＴＡＡ）からの、３工程におけるＮＯＲビルディングブロックＡの製造
【化２９】
ａ）トリアセトンアミン ４．１１ｇ（０．２７ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物 ３．９４ｇ（０．０１ｍｏｌ）及び水２５０ｍＬの撹拌混合物に、３０％過酸化水素水溶液 ６４．９ｇ（０．５７ｍｏｌ）を、５℃において１時間以内に添加した。オレンジ色の混合物を２５℃まで温め、撹拌を、２１時間続けた。その後、相分離が起こるまで、炭酸カリウムを添加し、トリアセトンアミン−Ｎ−オキシドを、総計２６８ｇ（２．３９ｍｏｌ）の１−オクテンを用いて３回抽出した。
ｂ）塩化第二銅 ０．６４ｇ（４．８ｍｍｏｌ）の添加後、一つにまとめた有機相を６０℃にし、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド ３９．９ｇ（０．３１ｍｏｌ）をゆっくりと添加した。混合物を、計５．６時間、６０℃に維持した。その後、緑色がかった懸濁液を２５℃まで冷却し、２０％亜硫酸ナトリウム水溶液 １９８ｇを添加した。一晩撹拌した後、水相を分離し、ヘキサンで抽出した。一つにまとめた有機相を水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｃ）残渣をメタノール５００ｍＬ中に溶解させ、Ｒｕ担持木炭（５％） ９ｇを添加し、混合物を、５０℃／４５バール（水素圧）において、１７時間水素化した。混合物を、ハイフロー（ｈｙｆｌｏ）を通して濾過し、濾液を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−ピペリジノ−４−オール（1Ｈ−ＮＨＲによると約４０ｍｏｌ％）と１−（１−エチル−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノ−４−オール（1Ｈ−ＮＨＲによると約６０ｍｏｌ％）の混合物からなるわずかに赤みを帯びたオイル ４０．４ｇ（５３．３％）を得た（沸点 １２３℃／０．４ミリバール）。
Ｃ17Ｈ35ＮＯ2（２８５．４７）において求められる分析値：Ｃ ７１．３５％、Ｈ １２．３６％、Ｎ ４．９１％；実測値：Ｃ ７０．６２％、Ｈ １２．６９％、Ｎ ４．９０％。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：３．６７（ｐ−ｌｉｋｅ，Ｏ−Ｃ（３）Ｈ），３．７２（ｔ，Ｊ＝約６．６Ｈｚ，Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），３．９５（ブロード ｍ，複素環からのＣ（４）ＨＯＨ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：６３．１５及び６３．２４（複素環からのＣ（４）ＨＯＨ），７７．０１（Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），８３．２３（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）．
【０１９２】
実施例２：ＮＯＲビルディングブロックＡとセバシン酸ジメチルエステルのエステル交換による化合物Ａ’の合成：
【化３０】
ＮＯＲビルディングブロックＡ １１．４ｇ（４０ｍｍｏｌ）、セバシン酸ジメチルエステル １．８６ｇ（８ｍｍｏｌ）及びＬｉＯｔＢｕ ０．１３５ｇ（１．６ｍｍｏｌ）の混合物を、２２時間、真空下で加熱した（１１０℃、２００ミリバール）。混合物を酢酸エチルで希釈し、ｐＨが中性になるまで洗浄し、有機相を回転エバポレーターで濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）を行い、生成物４ｇ（６８％）を淡いオレンジ色のオイルとして得た。
Ｃ44Ｈ84Ｎ2Ｏ6（７３７．１６）において求められる分析値：Ｃ ７１．６９％，Ｈ １１．４９％，Ｎ ３．８０％；実測値：Ｃ ７１．４７％，Ｈ １１．４７％，Ｎ ３．６９％．
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：３．６７（ｐ−ｌｉｋｅ，Ｏ−Ｃ（３）Ｈ），３．７２（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：７７．０５（Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），８３．３（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）．
【０１９３】
実施例３：トリアセトンアミン（ＴＡＡ）からのＮＯＲビルディングブロックＢの製造
【化３１】
ａ）トリアセトンアミン ７６．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物 ７．１ｇ（０．０２ｍｏｌ）及び水４４５ｍＬの撹拌混合物に、３０％過酸化水素水溶液 １２２．５ｇ（１．０８ｍｏｌ）を、５℃において１時間以内に添加した。オレンジ色の混合物を２５℃まで温め、撹拌を、１８時間続けた。その後、相分離が起こるまで、炭酸カリウムを添加し、トリアセトンアミン−Ｎ−オキシドを、総計３７１．５ｇ（４．５２ｍｏｌ）のシクロヘキセンを用いて４回抽出した。
ｂ）臭化第二銅 １．０１ｇ（４．５ｍｍｏｌ）の添加後、一つにまとめた有機相を６０℃にし、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド ４９ｇ（０．３８ｍｏｌ）をゆっくりと添加した。混合物を、計２．３時間、６０℃に維持した。その後、緑色がかった懸濁液を２５℃まで冷却し、２０％亜硫酸ナトリウム水溶液 ２８０ｇを添加した。一晩撹拌した後、水相を分離し、有機相を水及び塩水で洗浄し、その後、回転エバポレーターで濃縮した。
ｃ）残渣をメタノール１２００ｍＬ中に溶解させ、ブチルアミン ３５．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）及びＰｄ担持木炭（１０％） １６．３ｇを添加した。混合物を、２５℃にお
いて１．５時間撹拌し、その後、５０℃／１０バール（水素圧）において、１．５時間水素化した。混合物を、ハイフローを通して濾過し、濾液を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、黄色ないし淡いオレンジ色のオイル １１２ｇ（７３％）を得た（沸点
１２０℃／０．８ミリバール）。
Ｃ19Ｈ38Ｎ2Ｏ（３１０．５３）において求められる分析値：Ｃ ７３．４９％，Ｈ １２．３３％，Ｎ ９．０２％；実測値：Ｃ ７３．０９％，Ｈ １２．０４％，Ｎ ８．９３％．
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９（ｔ，３Ｈ），１．１−１．６（ｍ，２４Ｈ），１．７（ｍ，４Ｈ），２．０（ｍ，２Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），２．７（ｍ，１Ｈ），３．６（ｍ，１Ｈ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１４．０４，２０．５８，２１．１７，２５．０５，２５．９７，３２．８１，３２．８４，３４．６０，４６．７４，４７．２２，４８．２０，５９．７６，８１．６９．
【０１９４】
実施例４：ＮＯＲビルディングブロックＢと塩化シアヌル及びエタノールアミンの反応による化合物Ｂ’の合成：
【化３２】
ａ）シクロヘキサン１０ｍＬ中ＮＯＲビルディングブロックＢ ６．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃においてゆっくりと、シクロヘキサン ８．４ｇ中塩化シアヌル １．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）の撹拌懸濁液に添加した。撹拌を、３０分間続け、その後、３０％ ＮａＯＨ水溶液２．７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を７０℃まで加熱し、反応が完了するまで撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、濾過し、水相を分離し、有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｂ）過剰量のエタノールアミン（４ｇ、６５ｍｍｏｌ）を添加し、溶液を１１０℃まで加熱した。反応が完了するまで撹拌を続けた。混合物を２５℃まで冷却し、シクロヘキサンを添加した後、エタノールアミンを分離し、シクロヘキサン相を洗浄し、蒸発させ、白色粉末を得た。
Ｃ43Ｈ80Ｎ8Ｏ3（７５７．１７）において求められる分析値：Ｃ ６８．２１％，Ｈ １０．６５％，Ｎ １４．８０％；実測値：Ｃ ６８．３７％，Ｈ １０．６０％，Ｎ １４．０５％．
【０１９５】
製造されたままの生成物は、現技術の材料と比べて、モノマー含有量及び透過率に関して、より高い品質を示した：
【表１】
a)生成物（モノマー）のピーク面積（保持時間 ２８分間）は、ピークの合計に関連する；条件：変性カラム（ＺＯＲＢＡＸ Ｅｘｔｅｎｄ Ｃ−１８カラム、４．６ｍｍ×２５０ｍｍ／５μｍ、ＡＧＩＬＥＮＴ Ｎｏ．７７０４５０−９０２；高いｐＨにおいて増強された安定性を示すカラム）を用いるＡＡＤ−０００４／２；b)４２５ｎｍ、ｍ−キシレン中１０％ ｗ／ｖ溶液。
【０１９６】
実施例５：ＮＯＲビルディングブロックＢと塩化シアヌル及びＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンの反応による化合物Ｃ’の合成
【化３３】
ａ）シクロヘキサン１０ｇ中ＮＯＲビルディングブロックＢ ６．５ｇの溶液を、２５℃においてゆっくりと、シクロヘキサン １０ｇ中塩化シアヌル １．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）の撹拌懸濁液に添加した。撹拌を、３０分間続け、その後、３０％ ＮａＯＨ水溶液２．７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を７０℃まで加熱し、反応が完了するまで撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、濾過し、水相を分離し、有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｂ）上記粗生成物 ６ｇ（８．２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン ０．４７ｇ（２．７ｍｍｏｌ）及び２０％ＮａＯＨ水溶液 １．７ｇ（８．５ｍｍｏｌ）の混合物を、ガラス製の耐圧瓶中で１２５℃まで１７．５時間加熱した。混合物を２５℃まで冷却し、シクロヘキサンで希釈し、水相を分離した。有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。粗オイルをゆっくりと沸騰したメタノールに添加し、白色沈殿物を得た。懸濁液をウルトラツラックス（Ｕｌｔｒａｔｕｒｒａｘ）を用いて処理し、濾過し、濾過ケークを乾燥させ、白色粉末として生成物を得た。
Ｃ131Ｈ241Ｎ25Ｏ6（２２６２．５１）において求められる分析値：Ｃ ６９．５４％，Ｈ １０．７４％，Ｎ １５．４８％；実測値：Ｃ ６９．５６％，Ｈ １０．６０％，Ｎ １５．２５％．
製造されたままの生成物は、現技術の材料と比べて、透過率に関して、より高い品質を示した：
【表２】
【０１９７】
実施例６：トリアセトンアミンＮ−オキシドから、２工程におけるＮＯＲビルディングブロックＣの製造
【化３４】
３００ｍＬステンレス鋼製オートクレーブ中に、トリアセトンアミンＮ−オキシド ５．０１ｇ（２９．４５ｍｍｏｌ）、ＣｕＢｒ2 １９８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）及びＢｕ4ＮＢｒ ２８６ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を添加した。オートクレーブを密封し、プロピレン ３８．６ｇ（９２０ｍｍｏｌ）を添加した。反応を７０℃まで加熱した（圧力 約２８バール）。該温度に達したら、ｔ−ＢｕＯＯＨ ７．６ｇ（５８．８ｍｍｏｌ）（７０％ 水溶液）を２．５時間添加した。反応を、更に２時間撹拌した。測定された気相の酸素濃度は、反応を通して問題がなかった（＜５％）。その後、オートクレーブ中の圧力を開放した。オートクレーブから取り出し、ジクロロメタン ５０ｍＬですすいだ。反応混合物のＧＬＣ分析は、約９０％の転換率を示した。反応混合物から溶媒を除去し、粗生成物（６．９ｇ）をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製した。白色固体４．１ｇ（６６％）を得た（融点 ５０−５１℃；沸点 約８０℃／１ミリバール）。
Ｃ12Ｈ21ＮＯ2（２１１．３１）において求められる分析値：Ｃ ６８．２１％，Ｈ １０．０２％，Ｎ ６．６３％；実測値：Ｃ ６８．７６％，Ｈ １０．１５％，Ｎ ６．５５％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１８（ｓ，６Ｈ），１．３１（ｓ，６Ｈ），２．２２（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，２Ｈ），２．５７（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，２Ｈ），４．３８（ｄ ｘ ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ／１．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１７（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．３０（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．８８−５．９５（ｍ，１Ｈ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：２２．４（２ ＣＨ3），３２．４（２ ＣＨ3），５３．２（２ ＣＨ2），６２．９（２ ＣＮ），７８．４（ＯＣＨ2），１１６．６（ＣＨ2），１３３．３（ＣＨ），２０７．８（ＣＯ）．
ＬＣ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：２１２（ＭＨ+）
【０１９８】
ｂ）化合物Ｄ’ ８６．７ｇ（０．４１ｍｏｌ）、ブチルアミン ３５．２ｇ（０．４７６ｍｏｌ）及び１０％Ｐｔ担持木炭 ０．８ｇの混合物を８０℃、５０バールにおいて一晩水素化した。濾過及び揮発物の蒸発を行い、淡黄色オイル１０４．２ｇ（９３．９％）を得た。
Ｃ16Ｈ34Ｎ2Ｏ（２７０．４６）において求められる分析値：Ｃ ７１．０６％，Ｈ １２．６７％，Ｎ １０．３６％；実測値：Ｃ ７０．８６％，Ｈ １２．５４％，Ｎ １０．４９％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９３（ｑ，６Ｈ），１．１７（ｓ，６Ｈ），１．１９（ｓ，６Ｈ），１．２−１．３１（ｍ，２Ｈ），１．３２−１．３７（ｍ，２Ｈ），１．４１−１．４７（ｍ，２Ｈ），１．５１−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．７１−１．７４（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｔ，２Ｈ），２．７３−２．７８（ｍ，１Ｈ），３．６９（ｔ，２Ｈ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１０．９５（ＣＨ3），１４．０３（ＣＨ3），２０．６（ＣＨ2），２１．０（ＣＨ3），２１．８（ＣＨ2），３２．８（ＣＨ2），３３．３（ＣＨ3），４６．８（ＣＨ2），４８．２（ＣＨ），５９．８（Ｃ），７８．４（ＣＨ2）．
【０１９９】
実施例７：１工程におけるＮＯＲビルディングブロックＤの製造
【化３５】
化合物Ｄ’ ２７９ｇ（１．３２ｍｏｌ）、１，６−ジアミノヘキサン ７１．８ｇ（０．６ｍｏｌ）、エタノール ４２０ｍＬ及び１０％Ｐｔ担持木炭 １．２ｇの混合物を１００℃、５０バールにおいて一晩水素化した。反応混合物を濾過し、揮発物を蒸発させ、淡いオレンジ色の粘性オイル３１５．５ｇ（１００％）を得た。
Ｃ30Ｈ62Ｎ4Ｏ2（５１０．８５）において求められる分析値：Ｃ ７０．５４％，Ｈ １２．２３％，Ｎ １０．９７％；実測値：Ｃ ７０．４７％，Ｈ １２．３９％，Ｎ １０．９４％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９５（ｔ，６Ｈ），１．１５（ｓ，１２Ｈ），１．１８（ｓ，１２Ｈ），１．２０−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．３４−１．３６（ｂｒ ｍ，４Ｈ），１．４６−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．５１−１．５８（ｍ，４Ｈ），１．７２−１．７５（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｔ，４Ｈ），２．７５−２．８０（ｍ，２Ｈ），３．７１（ｔ，４Ｈ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１０．９５（ＣＨ3），２０．９５（ＣＨ3），２１．９６（ＣＨ2），２７．３８（ＣＨ2），３０．５７（ＣＨ2），３３．２４（ＣＨ3），４６．６３（ＣＨ2），４６．９８（ＣＨ2），４８．１４（ＣＨ），５９．７３（Ｃ），７８．４５（ＣＨ2）．
【０２００】
実施例８：塩化シアヌルとＮＯＲビルディングブロックＣ及びＤの反応
【化３６】
ａ）キシレン１２５ｍＬ中塩化シアヌル２４ｇ（０．１３ｍｏｌ）の懸濁液に、ＮＯＲビルディングブロックＣ ３５．２ｇ（０．１３ｍｏｌ）を５ないし１０℃においてゆっくりと添加した。混合物を４０℃まで温め、その後、ＮａＯＨ（２０％水溶液） ２９ｇ（０．１４５ｍｏｌ）を添加した。４０℃において１時間撹拌した後、サンプルを回収し、分析した。ＧＬＣは、＞９０％の転換率を示した。構造をＮＭＲによって確認した。
ｂ）水相を分離し、有機相を７０℃まで加熱し、その後、溶融したＮＯＲビルディングブロックＤ ３３．２ｇ（０．０６５ｍｏｌ）及び水３３ｇをゆっくりと添加した。ＮａＯＨ（３０％水溶液、２０ｇ、０．１５ｍｏｌ）を添加した後、混合物を８０℃にし、１時間放置した。構造をＮＭＲによって確認した。
ｃ）熱水相を分離した。有機相を２５℃まで冷却し、オートクレーブ中に移した。ＮＯＲビルディングブロックＤ ６６．４ｇ（０．１３ｍｏｌ）及びＮａＯＨ（２０％水溶液）２８．６ｇ（０．１４３ｍｏｌ）を添加した後、オートクレーブを密封し、１７５℃まで加熱し、４時間放置した。２５℃まで冷却した後、オートクレーブから取り出し、水相を分離した（８０℃において）。構造をＮＭＲによって確認した。Ｍｎ／Ｍｗ（ＧＰＣ）
１７００／３３００−１９００／３８００。ＮＯＲビルディングブロックＤの残量は、約１０％であった（面積％）。
【０２０１】
ｄ）２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンとの更なる反応は、
【化３７】
をもたらす。
【０２０２】
実施例９：化合物Ｄ’の製造
【化３８】
ａ）化合物Ｅ’（欧州特許第７４８８４９号明細書に従って合成、ローヌ‐プーラン社製） １５．１ｇ（７５ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（３０％水溶液） ２０ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4 １．２７ｇ（３．７ｍｍｏｌ）及びアリルブロミド １８．３ｇ（１５１．３ｍｍｏｌ）の混合物を９０℃において２４時間撹拌した（ＧＬＣによる転換率９５％）。混合物を２５℃まで冷却し、その後、トルエン（２０ｍＬ）を添加した。水相を分離し、有機相を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、淡黄色オイル８．１ｇ（４５％）を得た。
Ｃ14Ｈ27ＮＯ2（２４１．３８）において求められる分析値：Ｃ ６９．６７％，Ｈ １１．２７％，Ｎ ５．８０％；実測値：Ｃ ６９．６２％，Ｈ １０．９５％，Ｎ ５．７７％．
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１０（ｓ，１２Ｈ），１．７２（ｓ，４Ｈ），３．１８−３．２１（ｍ，２Ｈ），３．１９（ｓ，６Ｈ），４．９４（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ／２Ｈｚ，１Ｈ），５．１６（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ／２Ｈｚ，１Ｈ），５．８０−５．９２（ｍ，１Ｈ）．
【０２０３】
ｂ）トルエン２００ｍＬ中化合物Ｆ’ ２３ｇ（９５ｍｍｏｌ）及びＮａ2ＣＯ3 １９．２８ｇ（１８２ｍｍｏｌ）の混合物に、ＡｃＯＯＨ（ＡｃＯＨ中３９％） ２０．４８ｇ（１０５ｍｍｏｌ）を−５℃において４０分間で添加した。混合物を０℃において撹拌し（６時間；ＧＬＣによる転換率８３％）、その後、濾過した。濾液をＮａＯＨ １Ｍ（３×２０ｍＬ）及び塩水（３×２０ｍＬ）で洗浄した。有機相を乾燥させ（Ｎａ2ＳＯ4）、濾過し、溶媒を蒸発させた。残渣をシリカゲル上でフラッシュ濾過し（ヘキサン）、溶媒を蒸発させた後、黄色液体１５ｇ（６１％）を得た。
Ｃ14Ｈ27ＮＯ3（２５７．３８）において求められる分析値：Ｃ ６５．３３％，Ｈ １０．５７％，Ｎ ５．４４％；実測値：Ｃ ６５．４８％，Ｈ １０．８０％，Ｎ ５．３３％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１０（ｓ，６Ｈ），１．２７（ｓ，６Ｈ），１．５９（ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，２Ｈ），１．９４（ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｓ，６Ｈ），４．３０（ｄ ｘ ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ／１．６Ｈｚ，２Ｈ），５．１４（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．２９（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．８６−５．９６（ｍ，１Ｈ
）．
【０２０４】
ｃ）ＴＨＦ ６ｍＬ中化合物Ｇ’ １ｇ（３．９ｍｍｏｌ）、水 １ｇ及びＨＣｌ（３２％水溶液） 一滴（パスツールピペット）の溶液を２５℃において撹拌した。４時間後（ＧＬＣによる転換率９７％）、ＮａＨＣＯ3を添加し、混合物を濾過し、回転エバポレーターで濾液を濃縮した。残渣をヘキサンで抽出し、溶媒を蒸発させた後、白色固体０．６２ｇ（７５％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例６ａと同様。
【０２０５】
実施例１０：Ｈ．Ａｄａｍ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，１４６７−１４７２（１９９６）によって公開された酸化手順を使用した化合物Ｄ’の製造
【化３９】
トルエン４５ｍＬ中化合物Ｈ’（チバ スペシャルティ ケミカルズ社の特許である独国特許第１９９０７９４５号明細書に従って合成） ５.０５ｇ（２３．７ｍｍｏｌ）、Ｚｒ（ＯｔＢｕ）4 １．０３ｇ（２．７ｍｍｏｌ）及び活性化したモレキュラシーブス（４Å） ９．５ｇの混合物に、ｔ−ＢｕＯＯＨ（シクロヘキサン中４０％） １０．６６ｇ（４７．３ｍｍｏｌ）を２５℃においてゆっくりと添加した。混合物を２５℃において２４時間撹拌し（ＧＬＣによる転換率８６％）、その後、飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液及び塩水で洗浄した。水相を分離し、有機相を乾燥させた（Ｎａ2ＳＯ4）。溶媒を蒸発させ、淡いオレンジ色の固体 ３ｇを得、そしてそれを、内部標準として４，４’−ジ−第三ブチルビフェニルを使用した４００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲによって分析した。ＮＯ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2（δ＝４．３８ｐｐｍ）に基づいて計算した収率：２．１g（４２％）。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例６ａと同様。
【０２０６】
実施例１１：化合物Ｇ’の製造
【化４０】
ａ）水１０ｍＬ中化合物Ｅ’ ２．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）及びＮａ2ＷＯ4ｘ２Ｈ2Ｏ ０．１６ｇ（０．４８ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ2Ｏ2（３０％水溶液） ２．７ｇ（２４ｍｍｏｌ）を５℃においてゆっくりと添加した。出発材料がなくなるまで、混合物を２５℃において撹拌した（６時間）。ジエチルエーテル（２０ｍＬ）を添加し、水相をＫ2ＣＯ3で飽和させた。水相を分離し、ジエチルエーテルで洗浄した。有機相を一つにまとめ、溶媒を蒸発させ、残渣を油ポンプで乾燥させ、赤色液体２．１５ｇ（９９％）を得た。
Ｃ11Ｈ22ＮＯ3（２１６．３０）において求められる分析値：Ｃ ６１．０８％，Ｈ １０．２５％，Ｎ ６．４８％；実測値：Ｃ ６１．０３％，Ｈ １０．０８％，Ｎ ６．３９％．
【０２０７】
ｂ）化合物Ｇ’を、化合物Ｊ’ ６．３５ｇ（２９．４ｍｍｏｌ）、プロピレ ン
３８．６ｇ（９２０ｍｍｏｌ）、Ｂｕ4ＮＩ ０．３２８ｇ（０．９ｍｍｏｌ）及びｔ−ＢｕＯＯＨ（７０％水溶液） ７．６ｇ（５８．８ｍｍｏｌ）から、実施例６ａと同様にして合成した。反応混合物のＧＬＣ分析は、約５０％の転換率を示した。未反応のＧＣ４３−０８１９をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝８／２）により分離除去し、乾燥させた残渣を内部標準として４，４’−ジ−第三ブチルビフェニルを使用した４００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲによって分析した。ＮＯ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2（δ＝４．３０ｐｐｍ）に基づいて計算した収率：１．５g（２０％）。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例９ｂと同様．ＬＣ/ＭＳ（ｍ/ｚ）：２５８（ＭＨ+）
【０２０８】
実施例１２：チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０の酸化による化合物Ｋ’の製造
【化４１】
ＣＨ2Ｃｌ2 ４０ｍＬ中チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０（チバ スペシャルティ ケミカルズ社から市販で入手可能；ＧＰＣによるＭｎ：２８１９ｇ／ｍｏｌ、約３．５ｍｅｑ ＮＨ／ｇ；ＣＡＳ登録番号１９２２６８−６４−７） ２０ｇ及びＮａ2ＣＯ3 ３５．５ｇ（３３６．５ｍｍｏｌ）の混合物に、ＡｃＯＯＨ（ＡｃＯＨ中３９％） ２６．６ｇ（１３６．５ｍｍｏｌ）を−５℃においてゆっくりと添加した。計９０ｍＬの水を同時に、ゆっくりと添加することによって、混合物を撹拌可能に保った。その後、混合物を２０℃において一晩撹拌し、有機相を分離した。水相をＣＨ2Ｃｌ2で抽出し、一つにまとめた有機相をＮａＯＨ及び塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、溶媒を蒸発させ、赤色粉末１８ｇを得た。
分析：実測値：Ｃ ６５．１７％，Ｈ １０．００％，Ｎ １６．８４％，Ｏ
６．６４％．
【０２０９】
実施例１３：プロピレンからのｔ−ＢｕＯＯＨ水素引き抜きによる化合物Ｋ’からの化合物Ｌ’の製造：
【化４２】
オートクレーブに化合物Ｋ’（約３．３ｍｅｑ ＮＯ／ｇ） ２．２３ｇ、Ｂｕ4ＮＩ
０．０８１ｇ（０．２２ｍｍｏｌ）及びクロロベンゼン １０ｍＬを充填した。オートクレーブを密封し、その後、プロピレン １９．３ｇ（４５８．６ｍｍｏｌ）を添加した
。その後、系を７０℃にし（約２２バール）、その後、ｔ−ＢｕＯＯＨ（７０％水溶液）
２．８５ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を、ゆっくりと２時間注入した。反応混合物を７０℃において３０分間維持し、その後、２５℃まで冷却した（約１０バール）。圧力を開放し、オートクレーブから取り出した。揮発物を回転エバポレーターにより除去し、残渣を乾燥させ、黄色がかった粉末として化合物Ｌ’を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，ＮＯ−ＣＨ2ＣＨＣＨ2 ｏｎｌｙ）：４．３（ｂｒ ｓ）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対応するオキソ−ピペリジンをヒドロキシ又はアミノ置換立体障害性アミンエーテルに変換することによる立体障害性アミンエーテルの新規製造方法、及びＮ−プロポキシ又はＮ−プロペノキシ置換立体障害性アミンの新規製造方法、及びこれらの方法によって得られるいくつかの新規化合物に関する。これらの方法によって得られる化合物は、光、酸素及び／又は熱の有害な影響に対するポリマー組成物の安定化において及びポリマーのための難燃剤として、特に効果的である。
【背景技術】
【０００２】
国際公開第０１／９２２２８号パンフレットは、有機ヒドロペルオキシド及び銅触媒の存在下における、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素の反応による、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換ヒンダードアミン化合物の製造方法を記載している。
【０００３】
国際公開第０３／０４５９１９号パンフレットは、有機ヒドロペルオキシド及びヨウ素触媒の存在下における、対応するＮ−オキシル中間体と炭化水素の反応による、アミンエーテル、例えばＮ−ヒドロカルビルオキシ置換ヒンダードアミン化合物の製造方法を記載している。
【０００４】
欧州特許第１９９０７９４５号明細書は、酸化による、１−アリル置換立体障害性アミンからの１−アリルオキシ置換立体障害性アミンの形成を記載している。
【０００５】
国際公開第９８／５４１７４号パンフレット及び米国特許第５，８４４，０２６号明細書は、Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２、２，６，６−テトラメチル−４−オキソ−ピペリジンの対応するアミンへの還元アミノ化を記載している。
【特許文献１】国際公開第０１／９２２２８号パンフレット
【特許文献２】国際公開第０３／０４５９１９号パンフレット
【特許文献３】欧州特許第１９９０７９４５号明細書
【特許文献４】国際公開第９８／５４１７４号パンフレット
【特許文献５】米国特許第５，８４４，０２６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
現技術の方法における問題は、アミンオキシドが飽和炭化水素と選択的に反応しないため、所望の生成物から除去し難い不要の副生成物が得られることにある。本発明の方法では、不飽和炭素−炭素結合を有する炭化水素が、飽和炭化水素よりもより選択的に反応するため、この問題が解消する、言い換えれば、本発明の方法に従って製造された化合物は、より純粋であり得る。本発明の方法の転換生成物は、蒸留等の標準的な方法によって、容易に精製され得る。１つの反応工程における不飽和炭素−炭素結合の水素化及びカルボニル基の還元又は還元アミノ化は、現技術、即ち２つの別の反応工程において行われる反応よりも、反応工程を１つ減らし、溶媒及び試剤の使用量を少なくし得る。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、式（１００）
【化１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１８のアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ1は、ヒドロキシ基、−ＮＴ2Ｔ3、−ＯＴ22、Ｔ20を又は式（１０２）で表わされる基を表わし；
Ｔ2は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又はＲ42を表わすか；又は、Ｔ2は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わし；
Ｔ3は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、
Ｔ2及びＴ3は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成し；
但し、Ｔ2及びＴ3は、ベンジル基ではなく；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
Ｔ21は、
【化２】
を表わし；
Ｔ20は、
【化３】
を表わし；
Ｒ30は、Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｒ30は、−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23−を表わし、
ここで、置換基Ｔ23の１つは水素原子を表わし、かつ置換基Ｔ23の２つは
【化４】
を表わし；
ｎは１ないし４を表わし；
ｐは１ないし３を表わし；
式（１０２）で表わされる基は、
【化５】
を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わす。）で表わされる立体障害性アミンエーテルの製造方法であって、該方法は、
１つの反応工程において、水素及び触媒の存在下で、式（１０１）
【化６】
（式中、Ｒ1は、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基を表わす。）で表わされる化合物を、Ｔ1がヒドロキシル基又は−ＮＴ2Ｔ3を表わすところの式（１００）で表わされる化合物に変換することを含み、
ここで、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3の化合物を得るためには、上記変換は、式ＨＮＴ2Ｔ30（式中、Ｔ30は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基又は−Ｑ−ＮＨＴ2を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、Ｔ2及びＴ30は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成するが；但し、Ｔ30は、ベンジル基ではない。）で表わされるアミンの存在下において行われること；及び、
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて式（１０３）
【化７】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を得[工程ａ１]、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること[工程ａ２]；
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、式（１０３）で表わされる化合物をＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させること；そして、
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて、式（１０４）
【化８】
で表わされる化合物を得[工程ｂ１]、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０５）
【化９】
で表わされる化合物を得[工程ｂ２]、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０６）
【化１０】
で表わされる化合物を得[工程ｂ３]、
その後、該化合物を化合物２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジンと反応させること[工程ｂ４]、からなる方法に関する。
【０００８】
特に指示がない限りは、本願明細書に記載される反応は、都合良くは、ほぼ大気圧、例えば０．５ないし１．５バール、特におおよそ大気圧において行われる。
【０００９】
Ｔ1＝ヒドロキシ基又は−ＮＴ2Ｔ3の式（１００）で表わされる化合物への変換のための触媒は、好ましくは、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｐｔ又はＰｄ担持木炭又はラネーニッケル、又は水素化ホウ素等の還元剤である。０．０００１ないし０．１当量、好ましくは０．０００５ないし０．０１当量、特に０．０００５ないし０．００５当量の触媒が、この反応において使用される（当量は、式（１０１）で表わされる化合物のモル当量において与えられる。）。
【００１０】
転換は、好ましくは、３５ないし１２０℃の温度、及び６ないし１００バールの水素圧下、例えば、４５ないし１１０℃の温度、及び８ないし６０バールの水素圧下で行われる；４５ないし１１０℃の温度、及び４０ないし６０バールの水素圧下もまた興味深い。
【００１１】
転換は、溶媒、好ましくは有機溶媒又はＨＮＴ2Ｔ30、例えばＨＮＴ2Ｔ30、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、プロパノール、ｉ−プロパノール、ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジオキサン、ジ−ｉ−プロピルエーテル、シクロヘキサン、ヘキサン又はヘプタン中で行われ得る。
【００１２】
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表される化合物は、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させることによって得られ得る；該反応は、例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特にｐ．２０４及び４４７−４５０、又はＲ．Ｌａｒｏｃｋ，ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９８９，ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇ，ｐ．９８５−９８７及びそこに引用される文献に記載されている。
【００１３】
ハロゲン化物との反応は、中性、酸性又は塩基性媒体、例えば好ましくは過剰量の希ＮａＯＨ等の塩基性媒体中で行われ得る。カルボン酸は、無機酸、トリフルオロ酢酸、アレーンスルホン酸、ＺｎＣｌ2、酸性陽イオン交換体、ＳｎＣｌ2又は２−ハロゲン−１−メチルピリジウム塩等の触媒の存在下において、反応させられ得る。得られる水又はジエステルは、蒸留によって反応混合物から除去され得る。反応は、触媒の非存在下で行われ得る；このような場合には、反応は、ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミドの存在下において行われ得る。
【００１４】
メチルエステルとの反応は、触媒、例えばＮａＯＡｃ ＮａＣＮ、酸性触媒、（ｎ−Ｃ4Ｈ9）ＳｎＯＲ又はＴｉ−、Ｚｒ−又はＡｌ−アルコキシドの存在下において行われ得る
。興味深いのは、高温、例えば５０ないし２００°又は５０°ないし混合物の沸点において行われる該反応である。Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物は、等モル量又は過剰量で、例えば２ないし１０モル当量、好ましくは３ないし５モル当量の量で使用され得る。触媒は、０．５ないし０．０１モル当量、好ましくは０．２５ないし０．１モル当量の量で使用され得る（当量は、Ｔ1＝ヒドロキシ基の式（１００）で表わされる化合物のモル当量において与えられる。）。
【００１５】
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させることにより式（１０３）で表わされる化合物を得[工程ａ１]、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること[工程ａ２]によって得られる。
【００１６】
工程ａ１（例えば、欧州特許第４５５５８８に記載されるような；当量は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。）：
シアヌル酸ハロゲン化物は、シアヌル酸塩化物であり得る（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）。反応は、例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び所望による、０．０００１ないし０．１当量、例えば０．００１ないし０．０１当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相間移動触媒の存在下において、キシレン、トルエン又はシクロヘキサン等の有機溶媒中で行われ得る。反応温度は、６０ないし８０℃であり得る。
工程ａ２（例えば、米国特許第５，２１６，１５６号明細書に記載されるような；当量は、工程ａ１の生成物のモル当量として与えられる。）：
Ｒ42ＮＨ2又はヒドロキシ置換Ｒ42ＮＨ2は、０．５ないし５当量の量で使用され得る。反応は、キシレン等の有機溶媒中又はキシレンとトルエン又はシクロヘキサンの混合物中で行われ得る。所望により、反応は、例えば０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び／又は０．０００１ないし０．１当量、例えば０．００１ないし０．０１当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相間移動触媒の存在下において行われる。反応温度は、１００ないし１３０°であり得る。
【００１７】
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物は、欧州特許第８８９０８５号明細書に記載されるように、２ないし４当量の式（１０３）で表わされる化合物と１当量のＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2を反応させることよって製造され得る；例えば、反応は、反応において生成する塩酸を中和するために、酸受容体を有する炭化水素溶媒、例えば水酸化ナトリウム水溶液中で行われる。
【００１８】
例えば、２．５ないし３当量の式（１０３）で表わされる化合物、特に３当量の式（１０３）で表わされる化合物が１当量のＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させられる。該反応は、キシレン中又はキシレンとトルエン又はシクロヘキサンの混合物中で行われ得る。ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、２ないし４当量）及び
所望による、相間移動触媒（例えば、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4、例えば０．０２ないし０．０４当量）がこの反応において使用され得る（当量は、Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2のモル当量として与えられる。）。反応温度は、１００ないし２００℃であり得る。反応は、０．５ないし２０バール、例えば０．５ないし１０バール、特に０．５ないし５バールの圧力において、例えば、ほぼ大気圧において行われ得る。
【００１９】
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、この反応の全ての工程は、例えば独国特許第１９９０７９４５号明細書に記載されるように行われ得る。
工程ｂ１（当量は、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。）：
シアヌル酸塩化物等のシアヌル酸ハロゲン化物は、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量の量で使用され得る。適当な溶媒の例は、キシレン、トルエン又はシクロヘキサンである。例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基及び所望による、０．００１ないし０．１当量、例えば０．００５ないし０．０５当量のＢｕ4ＮＨＳＯ4等の相転移触媒がこの反応工程に存在し得る。反応温度は、０ないし４０°であり得る。
工程ｂ２（当量は、工程ｂ１の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ１の生成物、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量の、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物及び例えば０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量のＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基を６０ないし８０°の温度のいて反応させ得る。
工程ｂ３（当量は、工程ｂ２の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ２の生成物を、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物（例えば、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量）及び所望による、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、０．５ないし１．５当量、特に０．９ないし１．１当量）と例えば１００ないし２００°の反応温度において反応させ得る。
工程ｂ４（当量は、工程ｂ３の生成物のモル当量として与えられる。）：
工程ｂ３の生成物を、所望により、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＮａＨＣＯ3又はＮａ2ＣＯ3等の塩基（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）の存在下で、例えば１００ないし２００°の反応温度において、２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジン（例えば、０．１ないし１当量、特に０．４ないし０．６当量）と反応させる。
【００２０】
工程ｂ３及びｂ４は、０．５ないし２０バール、例えば０．５ないし１０バール、特に０．５ないし５バールの圧力において、例えば、ほぼ大気圧において行われ得る。
【００２１】
興味深いのは、
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１０のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ2は、水素原子を表わし；
Ｔ3は、Ｒ42、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わし；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−炭素原子数４ないし１０のアルキレン−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
ｎは、２ないし４を表わし；
ｙは、２ないし１０を表わし；
Ｒ1は、炭素原子数３ないし１０のアルケニル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルケニル基を表わし；
Ｘは、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす、方法である。
【００２２】
例えば、Ｘは塩素原子を表わす。
【００２３】
技術的に興味深いのは、Ｒ2が炭素原子数３又は炭素原子数８のアルキル基又は炭素原
子数６のシクロヘキシル基を表わし、Ｒ1が炭素原子数３又は炭素原子数８のアルケニル基又は炭素原子数６のシクロヘキセニル基を表わす方法である。
【００２４】
興味深いのは、Ｒ2が炭素原子数３のアルキル基を表わし、Ｒ1が炭素原子数３のアルケニル基を表わし、Ｔ1が−ＮＴ2Ｔ3を表わす方法である。
【００２５】
本発明の態様は、式（１０１）で表わされる化合物が、式（２００）
【化１１】
で表わされる化合物と炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンを反応させることによって得られるところの方法である。
【００２６】
炭素原子数３ないし１８のアルケンは、未枝分かれのアルケン、例えば炭素原子数３ないし１８のアルケ−１−エンであり得る。興味深いのは、炭素原子数３ないし１０のアルケン又は炭素原子数５ないし７のアルケン、例えば炭素原子数３又は炭素原子数８のアルケン又は炭素原子数６のシクロヘキセン、特に炭素原子数３のアルケンである。
【００２７】
この方法は、好ましくは、有機ヒドロペルオキシド及び所望による更なる触媒の存在下で行われる。
【００２８】
更なる触媒は、好ましくは、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、ランタン、セリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、プラチナ、金、水銀、タリウム、鉛、ビスマス；それらの化合物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される。
【００２９】
更なる触媒は、第４級アンモニウム又はハロゲン化ホスホニウム、例えば塩化物又は臭化物でもあり得る。アンモニウム又はホスホニウムカチオンの構造は、重要ではない；通常、第４級アンモニウム又はホスホニウムカチオンは、例えば、アルキル基、フェニルアルキル基又はフェニル基であり得る、中心の窒素原子又はリン原子に結合される炭化水素残基を４個含む。いくつかの容易に入手可能な材料は、テトラ−炭素原子数１ないし１２のアルキル化されたものである。
【００３０】
更なる触媒は、有機及び無機ヨウ化化合物を含む、あらゆる他のヨウ化化合物も含み得る。例は、アルカリ又はアルカリ土類金属ヨウ化物、又はスルホニウムヨウ化物等のオニウムヨウ化物、特に第４級スルホニウムヨウ化物である。適当な金属ヨウ化物は、とりわけ、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウムのヨウ化物である。
【００３１】
更なる触媒は、より好ましくは、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、セリウム；それらのハロゲン化物及び酸化物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウムからなる群から選択される。
【００３２】
更なる触媒は、最も好ましくは、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅；それらのハ
ロゲン化物；置換された及び未置換のヨウ化アンモニウム及びヨウ化ホスホニウム、例えば置換された及び未置換のヨウ化第４級アンモニウム又はホスホニウム、特にヨウ化テトラアルキルアンモニウム又はヨウ化テトラフェニルホスホニウム及びヨウ化トリフェニルアルキルホスホニウムからなる群から選択される。
【００３３】
更なる触媒は、同種又は異種触媒系にするために、有機又は無機ポリマー骨格に結合され得る。
【００３４】
上記で言及された更なる触媒は、水素化物イオン（Ｈ-）又は無機又は有機酸から誘導されるアニオン等の遷移金属の錯体化学において一般に知られたアニオン性リガンドを含み得り、例えば、ハロゲン化物、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-又はI-等、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-又はＡｓＦ6-型のフルオロ錯体、酸素酸、アルコラート又はアセチリドのアニオン、又はシクロペンタジエン又はオキシドのアニオンである。
【００３５】
酸素酸のアニオンは、例えば、スルフェート、ホスフェート、過塩素酸塩、過臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、アンチモネート、アルセネート、ニトレート、カルボネート、炭素原子数１ないし８のカルボン酸のアニオン、例えばホルメート、アセテート、プロピオネート、ブチレート、ベンゾエート、フェニルアセテート、モノ−、ジ−又はトリクロロ−又はフルオロアセテート、スルホネート、例えば、メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、トリフルオロメチルスルホネート（トリフレート）、未置換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル−、炭素原子数１ないし４のアルコキシ−又はハロ−、特にフルオロ−、クロロ−又はブロモ−置換フェニルスルホネート又はベンジルスルホネート、例えば、トシレート、メシレート、ブロシレート、ｐ−メトキシ−又はｐ−エトキシ−フェニルスルホネート、ペンタフルオロフェニルスルホネート又は２，４，６−トリイソプロピルスルホネート、ホスホネート、例えばメチルホスホネート、エチルホスホネート、プロピルホスホネート、ブチルホスホネート、フェニルホスホネート、ｐ−メチルフェニルホスホネート又はベンジルホスホネート、炭素原子数１ないし８のカルボン酸から誘導されたカルボキシレート、例えばホルメート、アセテート、プロピオネート、ブチレート、ベンゾエート、フェニルアセテート、モノ−、ジー又はトリ−クロロ−又は−フルオロアセテート、及びまた、炭素原子数１ないし１２のアルコラート、例えば、直鎖の又は枝分かれした炭素原子数１ないし１２のアルコラート、例えばメタノレート又はエタノレートである。また、オキシドでもよい。
【００３６】
アニオン性及び中性のリガンドはまた、更なる触媒の錯カチオンの好ましい配位数まで、特に４個、５個又は６個存在し得る。更なる負電荷は、カチオン、特に、Ｎａ+、Ｋ+、ＮＨ4+又は（炭素原子数１ないし４のアルキル）4Ｎ+等の一価カチオンによって釣り合わせられる。
【００３７】
上記で言及した更なる触媒はまた、遷移金属の錯体化学において一般に知られた無機又は有機中性リガンド等の中性のリガンドも含み得る。適当な無機リガンドは、水（Ｈ2Ｏ）、アミノ、窒素、一酸化炭素及びニトロシルからなる群から選択される。適当な有機リガンドは、ホスフィン、例えば（Ｃ6Ｈ5）3Ｐ、（ｉ−Ｃ3Ｈ7）3Ｐ、（Ｃ5Ｈ9）3Ｐ又は（Ｃ6Ｈ11）3Ｐ、ジ−、トリ−、テトラ−及びヒドロキシアミン、例えばエチレンジアミン、エチレンジアミノテトラアセテート（ＥＤＴＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’，Ｎ’−ビス（２−ジメチルアミノエチル）−エチレンジアミン（Ｍｅ6ＴＲＥＮ）、カテコール、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−１，２−ベンゼンジアミン、２−（メチルアミノ）フェノール、３−（メチルアミノ）−２−ブタノール又はＮ，Ｎ’−ビス（１，１−ジメチルエチル）−１，２−エタンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−ペンタメチルジエチルトリアミン（ＰＭＤＥＴＡ）、炭素原子数１ないし８のグリコール又はグリセリド、例えばエチレン又はプロピレングリコール又はそれらの誘導体、例えばジ−、トリ−又はテトラ
グリム及び単座又は二座の複素環式ｅ-ドナー配位子からなる群から選択される。
【００３８】
更なる触媒は、更に、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、ビス−ピリジン、ピコリルイミン、ｇ−ピラン、ｇ−チオピラン、フェナントロリン、ピリミジン、ビス−ピリミジン、ピラジン、インドール、クマロン、チオナフテン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ビス−チアゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、キノリン、ビス−キノリン、イソキノリン、ビス−イソキノリン、アクリジン、クロメン、フェナジン、フェノキサジン、フェノチアジン、トリアジン、チアントレン、プリン、ビス−イミダゾール及びビス−オキサゾールからなる群からの未置換の又は置換されたヘテロアレーンから誘導される複素環式ｅ-ドナー配位子を含み得る。
【００３９】
式（２００）で表わされる基を少なくとも１つ有する化合物を含む、本発明の方法においてＮ−オキシル抽出物ともみなされる立体障害性アミンオキシドは、技術的に良く知られ；それらは、適当な酸素ドナーを用いた対応するＮ−Ｈヒンダードアミンの酸化によって、例えば、対応するＮ−Ｈヒンダードアミンと、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｚａｎｔｓｅｖ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ中で，１９７１，１９２に記載されるように過酸化水素及びタングステン酸ナトリウムとの；又は米国特許第４，６９１，０１５号明細書に教示されるように第三ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（ＶＩ）との反応によって製造され得るか、又は同様の方法によって得られ得る。
【００４０】
炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンの量は、典型的には式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし１００モルの比の量、好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし５０モルの比の量、最も好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当り炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン １ないし３０モルの比の量である。
【００４１】
例えば、有機ヒドロペルオキシドの量は、式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし２０モルの量、好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし５モルの量、最も好ましくは式（２００）で表わされる化合物１モル当りペルオキシド ０．５ないし３モルの量である。
【００４２】
本発明の方法において使用される有機ヒドロペルオキシドは、式Ｒ−ＯＯＨ（式中、Ｒは、通常、１ないし１８個の、好ましくは３ないし１８個の炭素原子を含む炭化水素を表わす。）で表わされるものであり得る。Ｒは、都合良くは、脂肪族、例えばアルキル基、好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキル基である。最も好ましくは、有機ヒドロペルオキシドは、第三ブチルヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシドである。
【００４３】
更なる触媒の好ましい量は、式（２００）で表わされる化合物 １モル当り約０．０００１ないし０．５、特に０．０００５ないし０．１モル当量の量であり、式（２００）で表わされる化合物 １モル当り更なる触媒 ０．００１ないし０．０５モルの比の量が最も好ましい。
【００４４】
反応は、好ましくは０℃ないし１００℃、より好ましくは２０℃ないし１００℃、特に２０℃ないし８０℃の範囲で行われる。
【００４５】
炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンは、反応のための反応剤及び溶媒の双方として２つの機能を果たし得る。反応はまた、不活性有機又は無機溶媒を使用して行われ得る。
【００４６】
このような溶媒は、特に、更なる触媒が炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン中にあまり溶解しない場合に使用され得る。典型的な不活性溶媒は、アセトニトリル、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、クロロベンゼン、ＣＣｌ4、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエステル）又はアルカン、例えばヘキサン、デカン等又はこれらの混合物である。水等の無機溶媒も良く使用される。
【００４７】
本発明の方法は、空気中又は窒素又はアルゴン等の不活性雰囲気中で行われ得る。本発明の方法は、大気圧下並びに減圧下又高圧下で行われ得る。
【００４８】
本発明の方法には、いくつかの変形がある。一つの変形は、Ｎ−オキシルヒンダードアミン、炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及び溶媒（必要に応じて）、及び任意の、所望の反応温度にする更なる触媒の混合物への有機ヒドロペルオキシド溶液の添加を含む。適当な温度が、ペルオキシドの添加速度を調節することによって、及び／又は加熱又は冷却浴を使用することによって維持され得る。ヒドロペルオキシドを添加した後、反応混合物は、出発アミンオキシドが存在しなくなるまで、又は所望の生成物、例えば式（１０１）で表わされる化合物へ転換されなくなるまで、都合良く撹拌される。反応は、現技術において既知の方法、例えばＵＶ−ＶＩＳ分光法、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー又は液体クロマトグラフィーによって観察され得る。反応の進行中に、更なる触媒が添加され得る。最初のヒドロペルオキシド添加量が反応混合物へ添加された後、より多くのヒドロペルオキシドが反応を完了させるために滴下添加され得る。
【００４９】
２つ目の本発明の方法の変形は、炭素原子数５ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン、溶媒（必要に応じて）及び任意の更なる触媒の混合物へヒドロペルオキシド溶液と式（２００）で表わされる化合物の溶液を同時に添加することである。式（２００）で表わされる化合物は、反応において使用される水又は溶媒、例えばアルコール中に溶解され得る。式（２００）で表わされる化合物のいくつかは、ペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得、式（２００）で表わされる化合物の全てはペルオキシドの添加を完了する前に添加されるべきである。
【００５０】
本発明の方法の他の変形は、式（２００）で表わされる化合物、炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及び溶媒（必要に応じて）の混合物へのヒドロペルオキシド溶液と更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の同時添加を含む。更なる触媒のいくつかは、ペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得る。
【００５１】
本発明の方法の更なる他の変形は、炭素原子数５ないし１８のアルケ−１−エン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケン及溶媒（必要に応じて）へのヒドロペルオキシド溶液、ニトロキシル化合物の水溶液又は溶媒溶液、及び更なる触媒の水溶液又は溶媒溶液の同時添加である。式（２００）で表わされる化合物及び／又は触媒の一部は、ヒドロペルオキシドの添加を開始する前に反応混合物中に導入され得る。式（２００）で表わされる化合物の全ては、ヒドロペルオキシドの添加を完了する前に添加されるべきである。
【００５２】
反応の終わりにおいて、残りのヒドロペルオキシドは、あらゆる生成物の単離の前に注意深く分解され得る。
【００５３】
本発明の他の態様は、式（２００）で表わされる化合物が式（２０１）
【化１２】
で表わされる化合物の酸化によって得られるところの方法である。
式（２００）で表わされる化合物を含む立体障害性アミンオキシドは、現技術において良く知られ；それらは、適当な酸素ドナーを用いた対応するＮ−Ｈヒンダードアミンの酸化によって、例えば、対応するＮ−Ｈヒンダードアミンと、Ｅ．Ｇ．Ｒｏｚａｎｔｓｅｖ
ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ中で，１９７１，１９２に記載されるように過酸化水素及びタングステン酸ナトリウムとの；又は米国特許第４，６９１，０１５号明細書に教示されるように第三ブチルヒドロペルオキシド及びモリブデン（ＶＩ）との反応によって製造され得るか、又は同様の方法によって得られ得る。現技術において既知の式（２０１）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば米国特許第４，７３４，５０２号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って製造され得る。
【００５４】
上記で言及した方法は、中間生成物を単離することなく、式（２０１）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなり得る。
【００５５】
例えば、上記で言及した方法は、中間生成物を単離することなく、式（２００）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなり得る。
【００５６】
Ｒ1が、式
【化１３】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わし；Ｒ7及びＲ8はまた、一緒になって化学結合を形成してもよい。）で表わされる基を表わすところの式（１０１）で表わされる化合物は、以下のことを含む方法、式（２０２）
【化１４】
（式中、Ｔ4及びＴ5は、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすか；又は、Ｔ4は、ヒドロキシ基を表わし、Ｔ5は、水素原子を表わす。）で表わされる化合物と式（２０３）
【化１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を反応させることにより式（２０４）
【化１６】
で表わされる化合物を得；
式（２０４）で表わされる化合物を、酸素、過酸化物、過マンガン酸塩又は塩素酸塩の存在下において酸化することにより式（２０５）
【化１７】
で表わされる化合物を得；
Ｔ4及びＴ5が、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物を脱アセタール化することによって、又はＴ4＝ヒドロキシ基、Ｔ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物を酸化することによって得られる。
【００５７】
現技術において既知の式（２０２）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば欧州特許第０７４８８４９号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って合成され得る。
【００５８】
式（２０４）で表わされる化合物は、Ｃ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特に２１１−２１２頁及びそこに引用された文献に記載されるように、式（２０２）及び（２０３）で表わされる化合物から得られ得る。式（２０２）で表わされる化合物と式（２０３）で表わされる化合物のモル比は、０．５ないし４、好ましくは１ないし３、最も好ましくは１．５ないし２．５である。触媒として、Ｃｕ又はＰｄ粉末、Ｃｕ又はＰｄ塩又はそのホスフィン錯体又はＢｕ4Ｎ+塩等の第４級アンモニウム塩、例えば、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4が、触媒量で使用され得る。反応は、溶媒なし又はありで行われ得る。適当な溶媒は、炭化水素（例えば、キシレン又はトルエン）、アル
コール（特に、メタノール又はエタノール）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン）又はジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリドン等の極性溶媒であり得る。反応温度は、２０−１５０℃、例えば５０−１２０℃又は溶媒を含む反応のために５０°ないし該溶媒の沸点であり得る。所望により、アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩又は水酸化物、例えばＮａ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3又はＮａＯＨ等の塩基が試剤として存在し得る。
【００５９】
式（２０３）で表わされる化合物において、Ｘは、好ましくは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子、最も好ましくは臭素原子又はヨウ素原子を表わす。
【００６０】
式（２０４）で表わされる化合物から式（２０５）で表わされる化合物を得るための酸化は、既知の酸化剤、例えば酸素、ペルオキシド又は他の酸化剤、例えばニトレート、過マンガン酸塩、塩素酸塩を使用して行われ得る。好ましいものは、ペルオキシド、例えば過酸化水素をベースとする系、特に過安息香酸又は過酢酸等の過酸である。酸化剤は、都合良くは、化学量論量又は過剰量で使用され、例えば式（２０４）で表わされる化合物のために、１−２モルの活性酸素原子が使用される。
【００６１】
反応は、適当な溶媒、例えば芳香族又は脂肪族炭化水素、アルコール、エステル、アミド、エーテル又はハロゲン化炭化水素；例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、塩化メチレンの存在下において行われ得る；好ましいものは、炭素原子数１ないし４のアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン又は塩素化された炭素原子数１ないし６の炭化水素である。
【００６２】
温度及び圧力は、重要ではなく、主に使用される酸化剤系に依存する；好ましくは、温度は、反応中、−２０℃ないし＋４０℃の範囲内で維持される。都合良くは、圧力は、ほぼ大気圧に、例えば０．５ないし１．５バールに維持される。酸化が、気体酸素によりなされる場合、酸素又は酸素／不活性ガスの圧力は、大気圧を超え得る。
【００６３】
Ｔ4及びＴ5が独立して炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物の脱アセタール化は、例えばＣ．Ｆｅｒｒｉ，Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｓｙｎｔｈｅｓｅ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７８，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，特に２４１頁、又はＪ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３版，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
１９８５，ＷＩＬＥＹ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ,特に３２９−３３１頁、又はＴｈ．Ｇｒｅｅｎｅ，ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ Ｉｎｃ．，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９９１,１８０−１８３頁及びこれらの文献に引用される文献に記載されるような既知の方法によって行われ得る。脱アセタール化は、水及び酸の存在下において、例えば、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中で行われ得る。酸は、ＨＣｌ、ＨＢｒ又はＨＩ、特にＨＣｌであり得る。水は、過剰量で、即ち式（２０５）で表わされる化合物１モル当り１モル以上の量で使用され得る。脱アセタール化は、含水アセトニトリル中でＬｉＢＦ4を用いて、又は、塩化メチレン中又はクロロホルム中でＭｅ3ＳｉＩを用いて非水条件で行われ得る。技術的に興味深いものは、Ｈ2Ｏ／ＨＣｌを使用した脱アセタール化である。１ないし１００当量、好ましくは１０ないし５０当量の水、０．０１ないし１０当量、好ましくは０．１ないし１当量のＨＣｌ及びＴＨＦ、ＭｅＯＨ又はＥｔＯＨ等の共溶媒が使用される。反応温度は、０ないし８０℃、好ましくは２０ないし５０℃であり得る。
【００６４】
Ｔ4＝ヒドロキシ基、及びＴ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物の酸化は、Ｊ．Ｍａｒｃｈ，Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９２，ｐ．１１６７−１１７１及びそこ
に引用される文献に記載されるような既知の方法で行われる。
【００６５】
主要な酸化剤は、例えば、触媒及び酸素、過酸化水素、次亜塩素酸塩、アルキルヒドロペルオキシド及びカルボニル化合物からなる群から選択される更なる物質等の、安価で、かつ環境に優しいために産業的に魅力的なものであり得るが、これらに制限はされない。
【００６６】
ａ）以下の共触媒１種以上と共に、酸素及び触媒、例えばニトロキシド（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド（ＴＥＭＰＯ）、４−[炭素原子数１ないし１６のアルキルオキシ、炭素原子数１ないし１６のアルカノイルオキシ、又はアロイルオキシ]−ＴＥＭＰＯ、チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４又は実施例１２の化合物Ｋ’）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリヒドロキシイソシアヌル酸又はＮ−ヒドロキシサッカリン；ポリオキソ金属酸又はそのアルカリ又はテトラアルキルアンモニウム塩（例えば、Ｈ5[ＰＭｏ10Ｖ2Ｏ40]；タングス酸塩、リンタングステン酸塩、シリコタングステン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｔｕｎｇｓｔａｔｅ）、ホウ化タングステン酸塩（ｂｏｒｏｔｕｎｇｓｔａｔｅ）、バナジウム酸塩、モリブデン酸塩、リンモリブデン酸塩、シリコモリブデン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｍｏｌｙｂｄａｔｅ）、チタン酸塩又はシリコチタン酸塩（ｓｉｌｉｃｏｔｉｔａｎａｔｅ））；ＶＩＩＡ、ＶＩＩＩＡ又はＩＢ族の金属、その酸化物、その塩（例えば、クロリド、ブロミド、アセテート又はアセチルアセトネート）又はその錯体（例えば、Ｐｄ[ＰＰｈ3]2Ｃｌ2、Ｐｄ[ＰＰｈ3]4、Ｒｕ[ＰＰｈ3]4Ｈ2、Ｒｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2又はＣｕ[１，１０−フェナントロリン]Ｃｌ）；酵素、例えばクロロペルオキシダーゼ；更なる共触媒又は補助添加剤は、アルカリ、アルカリ土類又はテトラアルキルアンモニウムのヨウ化物であり得る；対称ジカルベトキシヒドラジン又はジエチルアゾジカルボキシレート；安息香酸、３−クロロ安息香酸、フタル酸又はイソフタル酸；アルカリ炭酸水素塩又は炭酸塩；ヒドロキノン又はｐ−ベンゾキノン；アスコルビン酸。
ｂ）以下の共触媒１種以上と共に、過酸化水素及び上記されたようなポリオキソ金属酸塩（例えば、Ｎａ2ＷＯ4）又は酵素（例えば、クロロペルオキシダーゼ）等の触媒；上記で定義されたニトロキシド、又はその脱酸素化前駆体（アミン）；テトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物（特に、塩化物、臭化物、ヨウ化物又は硫酸水素塩、例えばトリオクチルメチル硫酸水素アンモニウム）等の相間移動剤。
ｃ）アルカリ又はアルカリ土類臭化物又はヨウ化物又はアルカリホウ酸塩等の共触媒と一緒の次亜塩素酸塩及び上記で定義したニトロキシド等の触媒。
ｄ）アルキルヒドロペルオキシド（例えば、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド又はクミルヒドロペルオキシド）及びＡｌ−、Ｚｒ−又はＴｉ−アルコキシド（例えば、ｎ−プロポキシド、ｉ−プロポキシド、ｔ−ブトキシド、例えばＺｒ[ＯnＰｒ]4、Ｚｒ[ＯiＰｒ]4又はＺｒ[ＯtＢｕ]4）、ＺｒＯ（ＯＡｃ）2又は酵素（例えば、クロロペルオキシダーゼ）の触媒。
ｅ）ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン）等のカルボニル化合物及びＡｌ−、Ｚｒ−又はＴｉ−アルコキシド（例えば、Ａｌ[ＯnＰｒ]3、Ａｌ[ＯiＰｒ]3又はＡｌ[ＯtＢｕ]3、金属（例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｕ又はラネーニッケル）又はＲｕ錯体（例えば、Ｒｕ[ＰＰｈ3]4Ｈ2又はＲｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2）等の触媒。
【００６７】
触媒は、同質又は異質のものであり得、反応は同質（１相）又は異質（２つ以上の相）であり得る。
【００６８】
反応ａ）ないしｅ）の例において、当量（ｅｑ）は、特に指示がない限りは、Ｔ4＝ヒドロキシ基及びＴ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物のモル当量として与えられる。
【００６９】
酸素及び触媒の例は、
ａ１）Ｒ．Ｎｅｕｍａｎｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６６，８６５０−８６５３（２００１）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量のＨ5［ＰＭｏ10Ｖ2Ｏ40］；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５、特に０．０２ないし０．０４当量のＴＥＭＰＯ；反応は、アセトン等の溶媒又はアセトンと２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン又はクロロヘキサノンの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、１ないし１０、例えば１．５ないし５、約１．５ないし２．５ａｔｍであり得る；反応温度は２５ないし１２５°、好ましくは５０ないし１１０°、特に９０ないし１１０°であり得る。
ａ２）Ａ．Ｓｈｅｌｄｏｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１２３，６８２６−６８３３（２００１）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量のＲｕＣｌ2［ＰＰｈ3］3；０．００１ないし０．２、好ましくは０．０１５ないし０．１５当量のＴＥＭＰＯ；反応は、クロロベンゼン等の溶媒中で行われ得る；酸素の圧力は、１ないし２０、好ましくは５ないし１５、例えば８ないし１２バールであり得る；反応温度は２５ないし１２５°、好ましくは５０ないし１１０°、特に９０ないし１１０°であり得る。
ａ３）Ｙ．Ｉｓｈｉｉ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６５，６５０２−６５０７（２０００）に記載されている：０．０１ないし０．２、好ましくは０．０５ないし０．１５当量のＮ−ヒドロキシフタルイミド；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００２ないし０．０５当量のＣｏ（ＯＡｃ）2;０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量のｍ−クロロ過安息香酸；反応は、酢酸エチル等の溶媒中で又は酢酸エチルとクロロベンゼン、アセトニトリル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、０．５ないし５０、好ましくは０．５ないし２５、例えば０．５ないし２バールであり得る；反応温度は０ないし１００°、好ましくは２０ないし５０°、特に２０ないし３０°であり得る。
ａ４）Ｉ．Ｍａｒｋｏ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６４，２４３３−２４３９（１９９９）に記載されている:０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量のＣｕ［１，１０−フェナントロリン］Ｃｌ；０．０１ないし０．５、好ましくは０．０２ないし０．１当量の対称ジカルベトキシヒドラジン又はジエチルアゾジカルボキシレート；０．１ないし４、好ましくは１ないし３当量のＫ2ＣＯ3；反応は、トルエン等の溶媒中で又はトルエンとクロロベンゼン、アセトニトリル、酢酸エチル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；酸素の圧力は、０．５ないし５０、好ましくは０．５ないし２５、特に０．５ないし１．５バールであり得る；反応温度は２５ないし１２０°、好ましくは５０ないし１００°、特に８０ないし１００°であり得る。
【００７０】
過酸化水素及び触媒の例は、Ｒ．Ｎｏｙｏｒｉ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２００３，１９７７−１９８６に記載されている：
０．００１ないし０．１、好ましくは０．００１５ないし０．０５当量のＮａ2ＷＯ4；０．００１ないし０．１、好ましくは０．００１５ないし０．０５当量の硫酸水素トリオクチルメチルアンモニウム；１ないし５、好ましくは１ないし２当量のＨ2Ｏ2（例えば、２５ないし３５％の水溶液）；反応温度は、２５ないし１００°、好ましくは５０ないし１００°、特に８５ないし９５°であり得る。
【００７１】
次亜塩素酸塩及び触媒の例は、Ｈ．ｖａｎ Ｂｅｋｋｕｍ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １０，１１５３−１１７４（１９９６）に記載されている：０．００１ないし０．１、好ましくは０．００５ないし０．０５当量の４−メトキシ−ＴＥＭＰＯ；０．０１ないし０．３、好ましくは０．０５ないし０．２当量のＫＢｒ；１ないし３、好ましくは１．１ないし１．７５当量のＮａＯＣｌ（例えば、０．３５モル）；反応は、ジクロロメタン等の溶媒中で又はジクロロメタンと１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、酢酸メチル、クロロベンゼン又はトルエンの混合物中で行われ得る；反応温度は、−１０ないし
５０°、好ましくは−５ないし３０°、特に−５ないし１０°であり得る。
【００７２】
アルキルヒドロペルオキシド及び触媒の例は、Ｈ Ａｄａｍ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，１４６７−１４７２（１９９６）に記載されている：０．０１ないし１、好ましくは０．０５ないし０．５当量のＺｒ（ＯnＰｒ）4又はＺｒ（ＯｔＢｕ）4；１ないし５、好ましくは１．５ないし３当量のｔ−ＢｕＯＯＨ（例えば、無水）；反応は、トルエン等の溶媒中で又はトルエンとシクロヘキサン、ヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル又は酢酸メチルの混合物中で行われ得る；所望により、反応は、モレキュラシーブスの存在下で行われる；反応温度は、−２５ないし１００°、好ましくは０ないし８０°、特に２０ないし５０°であり得る。
【００７３】
カルボニル化合物及び触媒の例は、
ｅ１）Ｊ．Ｂａｃｋｖａｌｌ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，６５８７−６５９０（１９９６）に記載されている：０．００１ないし０．０５、好ましくは０．００１５ないし０．０３当量のＲｕ（ＰＰｈ3）3Ｃｌ2；カルボニル化合物の例は、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノン及びシクロヘキサノンであり、ここでアセトンは溶媒としても使用され得る；反応温度は、２５ないし１２０°、好ましくは５０ないし１００°、特に反応混合物のほぼ還流温度であり得る。
ｅ２）Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ
Ｃｈｅｍｉｅ，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ，Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ １９７３，ｖｏｌ．７／２ａ，ｐ.７１４−７１８及びＯｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．ＩＶ，１９２−１９５（１９６３）に記載されている：０．０１ないし０．８、好ましくは０．０５ないし０．６当量、特には０．４ないし０．６当量のＡｌ（ＯｔＢｕ）3又はＡｌ（ＯｉＰｒ）3；カルボニル化合物の例は、シクロヘキサノン、アセトン、２−ブタノン、３−ペンタノン及び４−メチル−２−ペンタノンであり、通常１ないし５０、好ましくは１０ないし３０当量のカルボニル化合物が使用される；トルエンとクロロベンゼン、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン又は１，２−ジクロロエタンの混合物が溶媒として使用され得る；反応温度は、２５ないし１３０°、好ましくは５０ないし１２０°、特にほぼ還流温度であり得る。
【００７４】
好ましいものは、アルキルヒドロペルオキシドと上記触媒の存在下において行われる反応である。
【００７５】
式（２０５）で表わされる化合物はまた、式（１０１）で表わされる化合物への連続反応を有する、式（２０１）で表わされる化合物の式（２００）で表わされる化合物への反応と同様の方法によって、式（２０２）で表わされる化合物から得られ得る。このような式（２０２）で表わされる化合物は酸化され得、得られた生成物は上記した炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンと反応させられ得る。該反応シークエンスを実施例１１に示す。
【００７６】
式（２０５）で表わされる化合物は、まず、イミンを形成し、その後、水素化することによって、式（１００）で表わされる化合物へ直接転換され得る。該反応は、例えばにＳｃ（ＯＴｆ）3よって又はＬａ（ＯＴｆ）3よって触媒され得る。該反応は、例えばＨ．Ｈｅａｎｅｙ ｅｔ ａｌ．，Ｓｙｎｌｅｔｔ．１９９８，６４０−６４２に記載されている。
【００７７】
本発明はまた、 式（３００）
【化１８】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ40は、プロピル基又は２−プロペニル基を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わし；
ｑは、２ないし８を表わし；
Ｒ15は、モルホリノ基、ピペリジノ基、１−ピペリジニル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルキルアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、又は２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2を表わし；
Ｔ10は、
【化１９】
を表わし、
Ｒ16は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、塩素原子で１回置換され、かつＲ15で１回置換されたｓ−トリアジニル基、又はＲ15で２回置換されたｓ−トリアジニル基（２つの置換基Ｒ15は異なり得る。）を表わし；
Ｒ17は、塩素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基で又はＴ10で置換されたアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2又は基Ｔ13
【化２０】
を表わし；
Ｒ18は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基、又は−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わす。）で表わされる化合物の製造方法であって、該方法は、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる化合物を酸化してＯ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところの式（３００）で表わされる化合物
とし、その後、プロぺンと反応させ：そして、
Ｒ40＝プロピル基の式（３００）で表わされる化合物を得るために、該化合物を水素化することからなる方法に関する。
【００７８】
技術的に興味深いものは、Ｒ15が−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10を表わし、Ｒ16が、Ｒ15＝２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わし、Ｒ17がＴ13を表わし、Ｒ18が２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わすところの式（３００）で表わされる化合物である。
【００７９】
現技術において既知である、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる出発化合物は、一部は市販で入手可能であるか、又は、例えば独国特許第１９９５９６１９号明細書又はカナダ国特許２１９１８３２号明細書に記載されるような現技術において既知の方法に従って合成され得る。
【００８０】
対応するアミンオキシド（−Ｏ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところ式（３００）で表わされる化合物）は、式（２００）で表わされる化合物を得るために上記したように得られ得る。
【００８１】
Ｒ40＝プロペニル基の式（３００）で表わされる化合物は、式（２００）で表わされる化合物から式（１０１）で表わされる化合物を得るための方法において記載したように得られ得る。所望の生成物を得るために、４，４−ジ−第三ブチル−２，２−ジピリジル等のリガンドのいくつかを更なる触媒に添加することも必要であり得る。
【００８２】
有利には、Ｒ40＝プロペニル基の式（３００）で表わされる化合物の水素化は、水素化触媒の存在下で行われる。
【００８３】
水素化触媒は、好ましくは、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、リンドラー触媒、プラチナ化合物、パラジウム化合物、ルテニウム化合物、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ニッケル化合物、亜鉛化合物及びコバルト化合物からなる群から選択される。
【００８４】
水素化触媒は、同種又は異種触媒系にするために、有機又は無機ポリマー骨格に結合され得る。水素化はまた、Ｓ．Ｍｕｒａｓｈｉ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ．（１９９８），９８，２５９９−２６６０に記載されるように移動水素化として行われ得るか、又はＬａｒｏｃｋ，ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓに記載されるような更なる水素化法で行われ得る。
【００８５】
より好ましくは、水素化触媒は、プラチナ、パラジウム、ルテニウム、プラチナ化合物、パラジウム化合物及びルテニウム化合物からなる群から選択される。
【００８６】
最も好ましくは、水素化触媒は、プラチナ、パラジウム及びルテニウム；炭素上に固定されたプラチナ、パラジウム及びルテニウム；ＰｔＯ2、Ｐｄ−ＣａＣＯ3−ＰｂＯ、ＲｕＣｌＨ［ＰＰｈ3］3、ＲｈＣｌ［ＰＰｈ3］3及びＲｕＨ2［Ｐ（Ｐｈ）3］4からなる群から選択される。
【００８７】
水素化触媒の好ましい量は、不飽和のアミンエーテル部位１モル当り０．０００１ないし０．２モルである。水素化反応は、好ましくは０ないし８０℃において、特に２０ないし６０℃の範囲内で行われる。水素圧は、好ましくは１ないし２０ａｔｍ、例えば１ないし５ａｔｍである。
【００８８】
上記で言及した方法において、Ｇ1及びＧ2は、例えばメチル基を表わす。
【００８９】
本発明の方法によって得られる化合物のいくつかは、新規であり、本発明の他の態様である。これらの化合物は、式（４００）ないし（４０７）
【化２１】
【化２２】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ30は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
ｎ2は、２ないし２０を表わす。）で表わされるものである。
【００９０】
興味深いものは、（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物
【化２３】
（式中、Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。）の混合物である。
【００９１】
式（４０８）で表わされる化合物と式（４０９）で表わされる化合物の比が１：９ない
し７：３、特に１：４ないし３：２、例えば３：７ないし１：１、最も好ましくは７：１３ないし９：１１であるところの式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物が好ましい。
【００９２】
興味深いのは、Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わすところの化合物又は化合物の混合物である。
【００９３】
興味深いものは、Ｒ30がブチル基を表わすものである。
【００９４】
本発明の化合物は、本発明の方法の一つに従って製造され得る。
【００９５】
定義において、用語‘アルケン’は、例えば、プロペン、及び、枝分かれした及び非枝分かれのブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン及びドデセンの異性体を含む。用語‘アルケン’はまた、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上有する、例えば２重結合を１つ含み得る残基も含む。
【００９６】
シクロアルケンのいくつかの例は、シクロペンテン、シクロヘキセン、メチルシクロペンテン、ジメチルシクロペンテン及びメチルシクロヘキセンである。シクロアルケンは、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上含み得、例えば１つの２重結合を含み得る。
【００９７】
定義において、用語‘アルキル基’は、炭素原子数が上記制限範囲内のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基又はドデシル基を含む。
【００９８】
アルケニル基の例は、炭素原子数が上記制限範囲内の、ビニル基、アリル基、及び、枝分かれした及び非枝分かれのブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基及びドデセニル基の異性体である。用語‘アルケニル基’はまた、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上有する、例えば１つの２重結合を含み得る残基も含む。
【００９９】
アルキレン基の例は、炭素原子数が上記制限範囲内の、枝分かれした及び非枝分かれのビニレン基、アリレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基及びドデシレン基の異性体である。
【０１００】
シクロアルキル基のいくつかの例は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基及びメチルシクロヘキシル基である。
【０１０１】
シクロアルケニル基のいくつかの例は、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、ジメチルシクロペンテニル基及びメチルシクロヘキセニル基である。シクロアルケニル基は、共役又は非共役であり得る２重結合を１つ以上含み得、例えば１つの２重結合を含み得る。
【０１０２】
アリール基は、例えばフェニル基又はナフチル基である。
【０１０３】
用語‘アルコキシ基’は、炭素原子数が上記制限範囲内のもの、例えばメトキシ基及びエトキシ基、及び、枝分かれした及び非枝分かれのプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基及びオクタデシルオキシ基の異性体を含み得る。
【０１０４】
用語‘ハロゲン原子’は、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を含み得る；例えば、ハロゲン原子は、式（２０３）以外では、塩素原子である。
【０１０５】
本発明はまた、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物の使用に関する。
【０１０６】
例えば、本発明は、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の少なくとも１種の使用に関する
【０１０７】
例えば、本発明は、光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての本発明に従った化合物の混合物の使用に関する。
【０１０８】
本発明はまた、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１０９】
例えば、本発明は、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の少なくとも１種を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１１０】
例えば、本発明は、有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに本発明に従った化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法に関する。
【０１１１】
本発明は、更に、
Ａ）酸化、熱及び／又は化学線分解に敏感な有機ポリマー、及び、
Ｂ）本発明に従った化合物の少なくとも１種又は化合物の混合物
を含む組成物に関する。
【０１１２】
興味深いものは、天然、半合成又は合成有機ポリマー、特にポリオレフィン又はポリオレフィンコポリマー、例えばポリオレフィンである。
【０１１３】
本発明に従った化合物で保護され得るポリマーの例を以下に示す：
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰ
Ｅ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）である。
【０１１４】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一つ又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又は他の活性化剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性化剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【０１１５】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【０１１６】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー及び一酸化炭素とのそれらのコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互又はランダムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【０１１７】
４．水素化変性物（例えば粘着付与剤）を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）及びポリアルキレン及びデンプンの混合物。
【０１１８】
５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【０１１９】
６．ジエン又はアクリル酸誘導体とのスチレン又はα−メチルスチレンのコポリマー、
例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／マレイン酸無水物、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマー及び他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーの高耐衝撃性の混合物；及びスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
【０１２０】
７．スチレン又はα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレン又はポリブタジエン−アクリロニトリルコポリマーにスチレン；ポリブタジエンにスチレン及びアクリロニトリル（又はメタクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレン及びマレイン酸無水物；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリル及びマレイン酸無水物又はマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びマレイミド；ポリブタジエンにスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリレート；エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタクリレートにスチレン及びアクリロニトリル；アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレン及びアクリロニトリル、並びにそれらの６）に列挙されたコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ又はＡＥＳポリマーとして既知であるコポリマー混合物。
【０１２１】
８．ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩化及び臭化コポリマー（ハロブチルゴム）、塩化又はスルホ塩化ポリエチレン、エチレン及び塩化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、とりわけハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ボリフッ化ビニリデンならびに塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル又は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコボリマーのようなハロゲン含有ポリマー。
【０１２２】
９．α，β−不飽和酸から誘導されたポリマー及びポリアクリレート及びポリメタクリレートのようなその誘導体；ブチルアクリレートで耐衝撃改善されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。
【０１２３】
１０．９）で言及されたモノマーの互いの又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル／ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。
【０１２４】
１１．不飽和アルコール及びアミンから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体又はアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン；並びに上の１）で言及されたオレフィンとそれらのコポリマー。
【０１２５】
１２．ポリアルキレングリコール、ボリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はビスグリシジルエーテルとそれらのコポリマーのような環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー。
【０１２６】
１３．ポリオキシメチレンのようなポリアセタール及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。
【０１２７】
１４．ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
【０１２８】
１５．一方はヒドロキシル末端化されたポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他方は脂肪族又は芳香族のポリイソシアナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
【０１２９】
１６．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタル酸から及び変性剤としてのエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及び加工の間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【０１３０】
１７．ポリ尿素、ポリイミド、ボリアミド−イミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントイン及びポリベンズイミダゾール。
【０１３１】
１８．ジカルボン酸とジオールから及び／又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒドロキシベンゾエート、ならびにヒドロキシル末端ポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル；及びまたポリカーボネート又はＭＢＳで変性されたポリエステル。
【０１３２】
１９．ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
【０１３３】
２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
【０１３４】
２１．フェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂のような、１方ではアルデヒドから、他方ではフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー。
【０１３５】
２２．乾性及び非乾性アルキド樹脂。
【０１３６】
２３．飽和及び不飽和ジカルボン酸と、架橋剤としての多価アルコール及びビニル化合物とのコポリマーから誘導される不飽和ポリエステル樹脂、及びまたそれ自体低易燃性のハロゲン含有変性体。
【０１３７】
２４．置換されたアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂、例えばエポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
【０１３８】
２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
【０１３９】
２６．脂肪族、環式脂肪族、複素環式又は芳香族グリシジル化合物、例えばビスフェノールＡとビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物から誘導される架橋されたエポキシ樹脂であって、酸無水物又はアミンのような慣用の硬化剤により、又は所望により促進剤の存在下、架橋された前記エポキシ樹脂。
【０１４０】
２７．前記ポリマー（ポリブレンド）のブレンド、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６及びコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳ又はＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【０１４１】
特に興味深いのは、合成有機ポリマー、例えばコーティング又はバルクポリマー又はそれらから形成された物品における、特に熱可塑性ポリマー及び対応する組成物並びにコーティング組成物、例えば酸又は金属触媒コーティング組成物における、安定剤としての、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表される化合物の混合物の使用である。本発明の組成物において最も重要な熱可塑性ポリマーは、上記の１−３の項目において列挙したようなポリオレフィン（ＴＰＯ）及びそれらのコポリマー、熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）、熱可塑性ゴム（ＴＰＲ）、上記の１９の項目において列挙したようなポリカ−ボネート、及び上記の２７の項目において列挙したようなブレンドである。最も重要なものは、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）及びＰＣ／ＡＢＳブレンド等のポリカーボネートブレンドである。
【０１４２】
一般に、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、（安定化する有機ポリマーに基づき）０．０１ないし１０％、好ましくは０．０１ないし５％、特に０．０１ないし２％の量で、安定化する有機ポリマーに添加される。特に好ましいのは、０．０５ないし１．５％、特に０．１ないし０．５％の量における、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物の使用である。式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物が難燃剤として使用される場合、使用量は、通常、より多く、燃焼に対して安定化及び保護する有機ポリマーに基づき、例えば０．１ないし２５質量％、主に０．１ないし１０質量％の量である。
【０１４３】
有機ポリマー中への配合は、現技術において慣用の方法により、例えば式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物及び所望により更なる添加剤を該有機ポリマーに混和することによって又は適用することによってもたらされ得る。配合は、成形操作前又は成形操作中に、又は、溶解又は分散した化合物又は混合物をポリマーに適用し、その後、必要に応じて溶媒を蒸発させることによって行われ得る。エラストマーの場合、これらはまた、ラテックスとしても安定化され得る。更に、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物のポリマー中への配合は、対応するモノマーの重合前、重合中又は重合直後に、又は架橋前にそれらを添加することにより行うこと
もできる。これに関連して、式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、そのままの形態で又はカプセル化形態（例えば、ワックス、オイル又はポリマー中に）で添加され得る。
【０１４４】
式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物はまた、例えば、安定化されるポリマーに対して２．５ないし２５質量％の濃度で前記化合物を含むマスターバッチの形態においても添加され得る。
【０１４５】
式（４００）ないし（４０７）で表わされる化合物又は式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物の混合物は、以下の方法によって配合され得る：
−エマルジョン又は分散液として（例えば、ラテックス又はエマルジョンポリマーに）。
−更なる成分又はポリマー混合物の混合中に乾燥混合物として。
−加工機（例えば、押出機、内部ミキサー等）中に直接導入することによって。
−溶液又は溶融液として。
【０１４６】
新規ポリマー組成物は、様々な形態で使用され得、及び／又は様々な製品を得るために加工され得る（例えば、フィルム、繊維、テープ、成形組成物、異形材として（を得るために）、又はコーティング材料のためのバインダー、接着剤又はパテとして）。
【０１４７】
興味深いものは、更なる添加剤を含む組成物である。
【０１４８】
特に興味深いものは、更なる添加剤として、フェノール系及び／又はアミン系抗酸化剤、ヒンダードアミン光安定剤、ＵＶ吸収剤、ホスフィット、ホスホナイト、ベンゾフラノン、金属ステアレート、金属酸化物、顔料、染料、有機リン化合物、ヒドロキシルアミン又は難燃剤及びそれらの混合物を含む組成物である。
【０１４９】
更なる添加剤の例を以下に示す：
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【０１５０】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１５１】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタ
デシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１５２】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１５３】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１５４】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１５５】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１５６】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１５７】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１５８】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１５９】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１６０】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１６１】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６２】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価または多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６３】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６４】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１６５】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１；登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ）。
【０１６６】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【０１６７】
１．１９．アミン酸化防止剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）−セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【０１６８】
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾレ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；Ｒが３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’− （１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【０１６９】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【０１７０】
２．３．置換された及び非置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１７１】
２．４．アクリレート、
例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０１７２】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うか又は伴わない１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル−ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、他の配位子を伴うか又は伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１７３】
２．６．更なる立体障害性アミン、
例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号：［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン。
【０１７４】
２．７．オキサミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリ
ド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１７５】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニル−エトキシ］フェニル｝−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ここで、オクチル部位は異なる異性体の混合物である。）。
【０１７６】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１７７】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット
、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）−ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
【０１７８】
特に好ましいものは、以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、チバ スペシャルティ ケミカルズ社製）、
トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化２４】
【０１７９】
５．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１８０】
６．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニトロン
、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【０１８１】
７．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１８２】
８．ペルオキシド捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１８３】
９．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【０１８４】
１０．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１８５】
１１．核剤、
例えば、タルクのような無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムのような金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオンコポリマー（アイオノマー）のようなポリマー化合物。
【０１８６】
１２．充填剤及び強化剤、
例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０１８７】
１３．他の添加剤
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ向上剤、蛍光増白剤、防炎剤、静電防止剤及び発泡剤。
【０１８８】
１４．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に開示されるもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−
５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１８９】
慣用の添加剤は、安定化される有機ポリマーに基づき、０．１ないし１０質量％、例えば０．２ないし５質量％の量で使用される。
【実施例】
【０１９０】
実施例
ＮＯＲビルディングブロックの略記：
ＮＯＲビルディングブロックＡ
【化２５】
ＮＯＲビルディングブロックＢ
【化２６】
ＮＯＲビルディングブロックＣ
【化２７】
ＮＯＲビルディングブロックＤ
【化２８】
【０１９１】
実施例１：トリアセトンアミン（ＴＡＡ）からの、３工程におけるＮＯＲビルディングブロックＡの製造
【化２９】
ａ）トリアセトンアミン ４．１１ｇ（０．２７ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物 ３．９４ｇ（０．０１ｍｏｌ）及び水２５０ｍＬの撹拌混合物に、３０％過酸化水素水溶液 ６４．９ｇ（０．５７ｍｏｌ）を、５℃において１時間以内に添加した。オレンジ色の混合物を２５℃まで温め、撹拌を、２１時間続けた。その後、相分離が起こるまで、炭酸カリウムを添加し、トリアセトンアミン−Ｎ−オキシドを、総計２６８ｇ（２．３９ｍｏｌ）の１−オクテンを用いて３回抽出した。
ｂ）塩化第二銅 ０．６４ｇ（４．８ｍｍｏｌ）の添加後、一つにまとめた有機相を６０℃にし、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド ３９．９ｇ（０．３１ｍｏｌ）をゆっくりと添加した。混合物を、計５．６時間、６０℃に維持した。その後、緑色がかった懸濁液を２５℃まで冷却し、２０％亜硫酸ナトリウム水溶液 １９８ｇを添加した。一晩撹拌した後、水相を分離し、ヘキサンで抽出した。一つにまとめた有機相を水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｃ）残渣をメタノール５００ｍＬ中に溶解させ、Ｒｕ担持木炭（５％） ９ｇを添加し、混合物を、５０℃／４５バール（水素圧）において、１７時間水素化した。混合物を、ハイフロー（ｈｙｆｌｏ）を通して濾過し、濾液を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−ピペリジノ−４−オール（1Ｈ−ＮＨＲによると約４０ｍｏｌ％）と１−（１−エチル−ヘキシルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノ−４−オール（1Ｈ−ＮＨＲによると約６０ｍｏｌ％）の混合物からなるわずかに赤みを帯びたオイル ４０．４ｇ（５３．３％）を得た（沸点 １２３℃／０．４ミリバール）。
Ｃ17Ｈ35ＮＯ2（２８５．４７）において求められる分析値：Ｃ ７１．３５％、Ｈ １２．３６％、Ｎ ４．９１％；実測値：Ｃ ７０．６２％、Ｈ １２．６９％、Ｎ ４．９０％。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：３．６７（ｐ−ｌｉｋｅ，Ｏ−Ｃ（３）Ｈ），３．７２（ｔ，Ｊ＝約６．６Ｈｚ，Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），３．９５（ブロード ｍ，複素環からのＣ（４）ＨＯＨ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：６３．１５及び６３．２４（複素環からのＣ（４）ＨＯＨ），７７．０１（Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），８３．２３（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）．
【０１９２】
実施例２：ＮＯＲビルディングブロックＡとセバシン酸ジメチルエステルのエステル交換による化合物Ａ’の合成：
【化３０】
ＮＯＲビルディングブロックＡ １１．４ｇ（４０ｍｍｏｌ）、セバシン酸ジメチルエステル １．８６ｇ（８ｍｍｏｌ）及びＬｉＯｔＢｕ ０．１３５ｇ（１．６ｍｍｏｌ）の混合物を、２２時間、真空下で加熱した（１１０℃、２００ミリバール）。混合物を酢酸エチルで希釈し、ｐＨが中性になるまで洗浄し、有機相を回転エバポレーターで濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）を行い、生成物４ｇ（６８％）を淡いオレンジ色のオイルとして得た。
Ｃ44Ｈ84Ｎ2Ｏ6（７３７．１６）において求められる分析値：Ｃ ７１．６９％，Ｈ １１．４９％，Ｎ ３．８０％；実測値：Ｃ ７１．４７％，Ｈ １１．４７％，Ｎ ３．６９％．
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：３．６７（ｐ−ｌｉｋｅ，Ｏ−Ｃ（３）Ｈ），３．７２（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，Ｏ−Ｃ（ｎ）ＨX ｏｎｌｙ）：７７．０５（Ｏ−Ｃ（１）Ｈ2），８３．３（Ｏ−Ｃ（３）Ｈ）．
【０１９３】
実施例３：トリアセトンアミン（ＴＡＡ）からのＮＯＲビルディングブロックＢの製造
【化３１】
ａ）トリアセトンアミン ７６．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）、タングステン酸ナトリウム二水和物 ７．１ｇ（０．０２ｍｏｌ）及び水４４５ｍＬの撹拌混合物に、３０％過酸化水素水溶液 １２２．５ｇ（１．０８ｍｏｌ）を、５℃において１時間以内に添加した。オレンジ色の混合物を２５℃まで温め、撹拌を、１８時間続けた。その後、相分離が起こるまで、炭酸カリウムを添加し、トリアセトンアミン−Ｎ−オキシドを、総計３７１．５ｇ（４．５２ｍｏｌ）のシクロヘキセンを用いて４回抽出した。
ｂ）臭化第二銅 １．０１ｇ（４．５ｍｍｏｌ）の添加後、一つにまとめた有機相を６０℃にし、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド ４９ｇ（０．３８ｍｏｌ）をゆっくりと添加した。混合物を、計２．３時間、６０℃に維持した。その後、緑色がかった懸濁液を２５℃まで冷却し、２０％亜硫酸ナトリウム水溶液 ２８０ｇを添加した。一晩撹拌した後、水相を分離し、有機相を水及び塩水で洗浄し、その後、回転エバポレーターで濃縮した。
ｃ）残渣をメタノール１２００ｍＬ中に溶解させ、ブチルアミン ３５．８ｇ（０．４９ｍｏｌ）及びＰｄ担持木炭（１０％） １６．３ｇを添加した。混合物を、２５℃にお
いて１．５時間撹拌し、その後、５０℃／１０バール（水素圧）において、１．５時間水素化した。混合物を、ハイフローを通して濾過し、濾液を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、黄色ないし淡いオレンジ色のオイル １１２ｇ（７３％）を得た（沸点
１２０℃／０．８ミリバール）。
Ｃ19Ｈ38Ｎ2Ｏ（３１０．５３）において求められる分析値：Ｃ ７３．４９％，Ｈ １２．３３％，Ｎ ９．０２％；実測値：Ｃ ７３．０９％，Ｈ １２．０４％，Ｎ ８．９３％．
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９（ｔ，３Ｈ），１．１−１．６（ｍ，２４Ｈ），１．７（ｍ，４Ｈ），２．０（ｍ，２Ｈ），２．６（ｔ，２Ｈ），２．７（ｍ，１Ｈ），３．６（ｍ，１Ｈ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１４．０４，２０．５８，２１．１７，２５．０５，２５．９７，３２．８１，３２．８４，３４．６０，４６．７４，４７．２２，４８．２０，５９．７６，８１．６９．
【０１９４】
実施例４：ＮＯＲビルディングブロックＢと塩化シアヌル及びエタノールアミンの反応による化合物Ｂ’の合成：
【化３２】
ａ）シクロヘキサン１０ｍＬ中ＮＯＲビルディングブロックＢ ６．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）の溶液を、２５℃においてゆっくりと、シクロヘキサン ８．４ｇ中塩化シアヌル １．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）の撹拌懸濁液に添加した。撹拌を、３０分間続け、その後、３０％ ＮａＯＨ水溶液２．７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を７０℃まで加熱し、反応が完了するまで撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、濾過し、水相を分離し、有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｂ）過剰量のエタノールアミン（４ｇ、６５ｍｍｏｌ）を添加し、溶液を１１０℃まで加熱した。反応が完了するまで撹拌を続けた。混合物を２５℃まで冷却し、シクロヘキサンを添加した後、エタノールアミンを分離し、シクロヘキサン相を洗浄し、蒸発させ、白色粉末を得た。
Ｃ43Ｈ80Ｎ8Ｏ3（７５７．１７）において求められる分析値：Ｃ ６８．２１％，Ｈ １０．６５％，Ｎ １４．８０％；実測値：Ｃ ６８．３７％，Ｈ １０．６０％，Ｎ １４．０５％．
【０１９５】
製造されたままの生成物は、現技術の材料と比べて、モノマー含有量及び透過率に関して、より高い品質を示した：
【表１】
a)生成物（モノマー）のピーク面積（保持時間 ２８分間）は、ピークの合計に関連する；条件：変性カラム（ＺＯＲＢＡＸ Ｅｘｔｅｎｄ Ｃ−１８カラム、４．６ｍｍ×２５０ｍｍ／５μｍ、ＡＧＩＬＥＮＴ Ｎｏ．７７０４５０−９０２；高いｐＨにおいて増強された安定性を示すカラム）を用いるＡＡＤ−０００４／２；b)４２５ｎｍ、ｍ−キシレン中１０％ ｗ／ｖ溶液。
【０１９６】
実施例５：ＮＯＲビルディングブロックＢと塩化シアヌル及びＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンの反応による化合物Ｃ’の合成
【化３３】
ａ）シクロヘキサン１０ｇ中ＮＯＲビルディングブロックＢ ６．５ｇの溶液を、２５℃においてゆっくりと、シクロヘキサン １０ｇ中塩化シアヌル １．９ｇ（１０ｍｍｏｌ）の撹拌懸濁液に添加した。撹拌を、３０分間続け、その後、３０％ ＮａＯＨ水溶液２．７ｇ（２０．４ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を７０℃まで加熱し、反応が完了するまで撹拌した。混合物を２５℃まで冷却し、濾過し、水相を分離し、有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。
ｂ）上記粗生成物 ６ｇ（８．２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン ０．４７ｇ（２．７ｍｍｏｌ）及び２０％ＮａＯＨ水溶液 １．７ｇ（８．５ｍｍｏｌ）の混合物を、ガラス製の耐圧瓶中で１２５℃まで１７．５時間加熱した。混合物を２５℃まで冷却し、シクロヘキサンで希釈し、水相を分離した。有機相を塩水で洗浄し、回転エバポレーターで濃縮した。粗オイルをゆっくりと沸騰したメタノールに添加し、白色沈殿物を得た。懸濁液をウルトラツラックス（Ｕｌｔｒａｔｕｒｒａｘ）を用いて処理し、濾過し、濾過ケークを乾燥させ、白色粉末として生成物を得た。
Ｃ131Ｈ241Ｎ25Ｏ6（２２６２．５１）において求められる分析値：Ｃ ６９．５４％，Ｈ １０．７４％，Ｎ １５．４８％；実測値：Ｃ ６９．５６％，Ｈ １０．６０％，Ｎ １５．２５％．
製造されたままの生成物は、現技術の材料と比べて、透過率に関して、より高い品質を示した：
【表２】
【０１９７】
実施例６：トリアセトンアミンＮ−オキシドから、２工程におけるＮＯＲビルディングブロックＣの製造
【化３４】
３００ｍＬステンレス鋼製オートクレーブ中に、トリアセトンアミンＮ−オキシド ５．０１ｇ（２９．４５ｍｍｏｌ）、ＣｕＢｒ2 １９８ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）及びＢｕ4ＮＢｒ ２８６ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）を添加した。オートクレーブを密封し、プロピレン ３８．６ｇ（９２０ｍｍｏｌ）を添加した。反応を７０℃まで加熱した（圧力 約２８バール）。該温度に達したら、ｔ−ＢｕＯＯＨ ７．６ｇ（５８．８ｍｍｏｌ）（７０％ 水溶液）を２．５時間添加した。反応を、更に２時間撹拌した。測定された気相の酸素濃度は、反応を通して問題がなかった（＜５％）。その後、オートクレーブ中の圧力を開放した。オートクレーブから取り出し、ジクロロメタン ５０ｍＬですすいだ。反応混合物のＧＬＣ分析は、約９０％の転換率を示した。反応混合物から溶媒を除去し、粗生成物（６．９ｇ）をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）により精製した。白色固体４．１ｇ（６６％）を得た（融点 ５０−５１℃；沸点 約８０℃／１ミリバール）。
Ｃ12Ｈ21ＮＯ2（２１１．３１）において求められる分析値：Ｃ ６８．２１％，Ｈ １０．０２％，Ｎ ６．６３％；実測値：Ｃ ６８．７６％，Ｈ １０．１５％，Ｎ ６．５５％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１８（ｓ，６Ｈ），１．３１（ｓ，６Ｈ），２．２２（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，２Ｈ），２．５７（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，２Ｈ），４．３８（ｄ ｘ ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ／１．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１７（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．３０（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．８８−５．９５（ｍ，１Ｈ）．
13Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：２２．４（２ ＣＨ3），３２．４（２ ＣＨ3），５３．２（２ ＣＨ2），６２．９（２ ＣＮ），７８．４（ＯＣＨ2），１１６．６（ＣＨ2），１３３．３（ＣＨ），２０７．８（ＣＯ）．
ＬＣ／ＭＳ（ｍ／ｚ）：２１２（ＭＨ+）
【０１９８】
ｂ）化合物Ｄ’ ８６．７ｇ（０．４１ｍｏｌ）、ブチルアミン ３５．２ｇ（０．４７６ｍｏｌ）及び１０％Ｐｔ担持木炭 ０．８ｇの混合物を８０℃、５０バールにおいて一晩水素化した。濾過及び揮発物の蒸発を行い、淡黄色オイル１０４．２ｇ（９３．９％）を得た。
Ｃ16Ｈ34Ｎ2Ｏ（２７０．４６）において求められる分析値：Ｃ ７１．０６％，Ｈ １２．６７％，Ｎ １０．３６％；実測値：Ｃ ７０．８６％，Ｈ １２．５４％，Ｎ １０．４９％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９３（ｑ，６Ｈ），１．１７（ｓ，６Ｈ），１．１９（ｓ，６Ｈ），１．２−１．３１（ｍ，２Ｈ），１．３２−１．３７（ｍ，２Ｈ），１．４１−１．４７（ｍ，２Ｈ），１．５１−１．５６（ｍ，２Ｈ），１．７１−１．７４（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｔ，２Ｈ），２．７３−２．７８（ｍ，１Ｈ），３．６９（ｔ，２Ｈ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１０．９５（ＣＨ3），１４．０３（ＣＨ3），２０．６（ＣＨ2），２１．０（ＣＨ3），２１．８（ＣＨ2），３２．８（ＣＨ2），３３．３（ＣＨ3），４６．８（ＣＨ2），４８．２（ＣＨ），５９．８（Ｃ），７８．４（ＣＨ2）．
【０１９９】
実施例７：１工程におけるＮＯＲビルディングブロックＤの製造
【化３５】
化合物Ｄ’ ２７９ｇ（１．３２ｍｏｌ）、１，６−ジアミノヘキサン ７１．８ｇ（０．６ｍｏｌ）、エタノール ４２０ｍＬ及び１０％Ｐｔ担持木炭 １．２ｇの混合物を１００℃、５０バールにおいて一晩水素化した。反応混合物を濾過し、揮発物を蒸発させ、淡いオレンジ色の粘性オイル３１５．５ｇ（１００％）を得た。
Ｃ30Ｈ62Ｎ4Ｏ2（５１０．８５）において求められる分析値：Ｃ ７０．５４％，Ｈ １２．２３％，Ｎ １０．９７％；実測値：Ｃ ７０．４７％，Ｈ １２．３９％，Ｎ １０．９４％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：０．９５（ｔ，６Ｈ），１．１５（ｓ，１２Ｈ），１．１８（ｓ，１２Ｈ），１．２０−１．２６（ｍ，４Ｈ），１．３４−１．３６（ｂｒ ｍ，４Ｈ），１．４６−１．４９（ｍ，４Ｈ），１．５１−１．５８（ｍ，４Ｈ），１．７２−１．７５（ｍ，４Ｈ），２．６０（ｔ，４Ｈ），２．７５−２．８０（ｍ，２Ｈ），３．７１（ｔ，４Ｈ）．
13Ｃ（ＤＥＰＴ）−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１０．９５（ＣＨ3），２０．９５（ＣＨ3），２１．９６（ＣＨ2），２７．３８（ＣＨ2），３０．５７（ＣＨ2），３３．２４（ＣＨ3），４６．６３（ＣＨ2），４６．９８（ＣＨ2），４８．１４（ＣＨ），５９．７３（Ｃ），７８．４５（ＣＨ2）．
【０２００】
実施例８：塩化シアヌルとＮＯＲビルディングブロックＣ及びＤの反応
【化３６】
ａ）キシレン１２５ｍＬ中塩化シアヌル２４ｇ（０．１３ｍｏｌ）の懸濁液に、ＮＯＲビルディングブロックＣ ３５．２ｇ（０．１３ｍｏｌ）を５ないし１０℃においてゆっくりと添加した。混合物を４０℃まで温め、その後、ＮａＯＨ（２０％水溶液） ２９ｇ（０．１４５ｍｏｌ）を添加した。４０℃において１時間撹拌した後、サンプルを回収し、分析した。ＧＬＣは、＞９０％の転換率を示した。構造をＮＭＲによって確認した。
ｂ）水相を分離し、有機相を７０℃まで加熱し、その後、溶融したＮＯＲビルディングブロックＤ ３３．２ｇ（０．０６５ｍｏｌ）及び水３３ｇをゆっくりと添加した。ＮａＯＨ（３０％水溶液、２０ｇ、０．１５ｍｏｌ）を添加した後、混合物を８０℃にし、１時間放置した。構造をＮＭＲによって確認した。
ｃ）熱水相を分離した。有機相を２５℃まで冷却し、オートクレーブ中に移した。ＮＯＲビルディングブロックＤ ６６．４ｇ（０．１３ｍｏｌ）及びＮａＯＨ（２０％水溶液）２８．６ｇ（０．１４３ｍｏｌ）を添加した後、オートクレーブを密封し、１７５℃まで加熱し、４時間放置した。２５℃まで冷却した後、オートクレーブから取り出し、水相を分離した（８０℃において）。構造をＮＭＲによって確認した。Ｍｎ／Ｍｗ（ＧＰＣ）
１７００／３３００−１９００／３８００。ＮＯＲビルディングブロックＤの残量は、約１０％であった（面積％）。
【０２０１】
ｄ）２−クロロ−４，６−ビス（ジブチルアミノ）−ｓ−トリアジンとの更なる反応は、
【化３７】
をもたらす。
【０２０２】
実施例９：化合物Ｄ’の製造
【化３８】
ａ）化合物Ｅ’（欧州特許第７４８８４９号明細書に従って合成、ローヌ‐プーラン社製） １５．１ｇ（７５ｍｍｏｌ）、ＮａＯＨ（３０％水溶液） ２０ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、Ｂｕ4ＮＨＳＯ4 １．２７ｇ（３．７ｍｍｏｌ）及びアリルブロミド １８．３ｇ（１５１．３ｍｍｏｌ）の混合物を９０℃において２４時間撹拌した（ＧＬＣによる転換率９５％）。混合物を２５℃まで冷却し、その後、トルエン（２０ｍＬ）を添加した。水相を分離し、有機相を回転エバポレーターで濃縮した。残渣を蒸留し、淡黄色オイル８．１ｇ（４５％）を得た。
Ｃ14Ｈ27ＮＯ2（２４１．３８）において求められる分析値：Ｃ ６９．６７％，Ｈ １１．２７％，Ｎ ５．８０％；実測値：Ｃ ６９．６２％，Ｈ １０．９５％，Ｎ ５．７７％．
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１０（ｓ，１２Ｈ），１．７２（ｓ，４Ｈ），３．１８−３．２１（ｍ，２Ｈ），３．１９（ｓ，６Ｈ），４．９４（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ／２Ｈｚ，１Ｈ），５．１６（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ／２Ｈｚ，１Ｈ），５．８０−５．９２（ｍ，１Ｈ）．
【０２０３】
ｂ）トルエン２００ｍＬ中化合物Ｆ’ ２３ｇ（９５ｍｍｏｌ）及びＮａ2ＣＯ3 １９．２８ｇ（１８２ｍｍｏｌ）の混合物に、ＡｃＯＯＨ（ＡｃＯＨ中３９％） ２０．４８ｇ（１０５ｍｍｏｌ）を−５℃において４０分間で添加した。混合物を０℃において撹拌し（６時間；ＧＬＣによる転換率８３％）、その後、濾過した。濾液をＮａＯＨ １Ｍ（３×２０ｍＬ）及び塩水（３×２０ｍＬ）で洗浄した。有機相を乾燥させ（Ｎａ2ＳＯ4）、濾過し、溶媒を蒸発させた。残渣をシリカゲル上でフラッシュ濾過し（ヘキサン）、溶媒を蒸発させた後、黄色液体１５ｇ（６１％）を得た。
Ｃ14Ｈ27ＮＯ3（２５７．３８）において求められる分析値：Ｃ ６５．３３％，Ｈ １０．５７％，Ｎ ５．４４％；実測値：Ｃ ６５．４８％，Ｈ １０．８０％，Ｎ ５．３３％．
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ）：１．１０（ｓ，６Ｈ），１．２７（ｓ，６Ｈ），１．５９（ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，２Ｈ），１．９４（ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｓ，６Ｈ），４．３０（ｄ ｘ ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ／１．６Ｈｚ，２Ｈ），５．１４（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．２９（ｄ ｘ ｑ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ／１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．８６−５．９６（ｍ，１Ｈ
）．
【０２０４】
ｃ）ＴＨＦ ６ｍＬ中化合物Ｇ’ １ｇ（３．９ｍｍｏｌ）、水 １ｇ及びＨＣｌ（３２％水溶液） 一滴（パスツールピペット）の溶液を２５℃において撹拌した。４時間後（ＧＬＣによる転換率９７％）、ＮａＨＣＯ3を添加し、混合物を濾過し、回転エバポレーターで濾液を濃縮した。残渣をヘキサンで抽出し、溶媒を蒸発させた後、白色固体０．６２ｇ（７５％）を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例６ａと同様。
【０２０５】
実施例１０：Ｈ．Ａｄａｍ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．６１，１４６７−１４７２（１９９６）によって公開された酸化手順を使用した化合物Ｄ’の製造
【化３９】
トルエン４５ｍＬ中化合物Ｈ’（チバ スペシャルティ ケミカルズ社の特許である独国特許第１９９０７９４５号明細書に従って合成） ５.０５ｇ（２３．７ｍｍｏｌ）、Ｚｒ（ＯｔＢｕ）4 １．０３ｇ（２．７ｍｍｏｌ）及び活性化したモレキュラシーブス（４Å） ９．５ｇの混合物に、ｔ−ＢｕＯＯＨ（シクロヘキサン中４０％） １０．６６ｇ（４７．３ｍｍｏｌ）を２５℃においてゆっくりと添加した。混合物を２５℃において２４時間撹拌し（ＧＬＣによる転換率８６％）、その後、飽和酒石酸カリウムナトリウム水溶液及び塩水で洗浄した。水相を分離し、有機相を乾燥させた（Ｎａ2ＳＯ4）。溶媒を蒸発させ、淡いオレンジ色の固体 ３ｇを得、そしてそれを、内部標準として４，４’−ジ−第三ブチルビフェニルを使用した４００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲによって分析した。ＮＯ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2（δ＝４．３８ｐｐｍ）に基づいて計算した収率：２．１g（４２％）。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例６ａと同様。
【０２０６】
実施例１１：化合物Ｇ’の製造
【化４０】
ａ）水１０ｍＬ中化合物Ｅ’ ２．１ｇ（１０ｍｍｏｌ）及びＮａ2ＷＯ4ｘ２Ｈ2Ｏ ０．１６ｇ（０．４８ｍｍｏｌ）の混合物に、Ｈ2Ｏ2（３０％水溶液） ２．７ｇ（２４ｍｍｏｌ）を５℃においてゆっくりと添加した。出発材料がなくなるまで、混合物を２５℃において撹拌した（６時間）。ジエチルエーテル（２０ｍＬ）を添加し、水相をＫ2ＣＯ3で飽和させた。水相を分離し、ジエチルエーテルで洗浄した。有機相を一つにまとめ、溶媒を蒸発させ、残渣を油ポンプで乾燥させ、赤色液体２．１５ｇ（９９％）を得た。
Ｃ11Ｈ22ＮＯ3（２１６．３０）において求められる分析値：Ｃ ６１．０８％，Ｈ １０．２５％，Ｎ ６．４８％；実測値：Ｃ ６１．０３％，Ｈ １０．０８％，Ｎ ６．３９％．
【０２０７】
ｂ）化合物Ｇ’を、化合物Ｊ’ ６．３５ｇ（２９．４ｍｍｏｌ）、プロピレ ン
３８．６ｇ（９２０ｍｍｏｌ）、Ｂｕ4ＮＩ ０．３２８ｇ（０．９ｍｍｏｌ）及びｔ−ＢｕＯＯＨ（７０％水溶液） ７．６ｇ（５８．８ｍｍｏｌ）から、実施例６ａと同様にして合成した。反応混合物のＧＬＣ分析は、約５０％の転換率を示した。未反応のＧＣ４３−０８１９をフラッシュクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル＝８／２）により分離除去し、乾燥させた残渣を内部標準として４，４’−ジ−第三ブチルビフェニルを使用した４００ＭＨｚ 1Ｈ−ＮＭＲによって分析した。ＮＯ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2（δ＝４．３０ｐｐｍ）に基づいて計算した収率：１．５g（２０％）。
1Ｈ−ＮＭＲ：実施例９ｂと同様．ＬＣ/ＭＳ（ｍ/ｚ）：２５８（ＭＨ+）
【０２０８】
実施例１２：チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０の酸化による化合物Ｋ’の製造
【化４１】
ＣＨ2Ｃｌ2 ４０ｍＬ中チマソルブ（登録商標：Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０（チバ スペシャルティ ケミカルズ社から市販で入手可能；ＧＰＣによるＭｎ：２８１９ｇ／ｍｏｌ、約３．５ｍｅｑ ＮＨ／ｇ；ＣＡＳ登録番号１９２２６８−６４−７） ２０ｇ及びＮａ2ＣＯ3 ３５．５ｇ（３３６．５ｍｍｏｌ）の混合物に、ＡｃＯＯＨ（ＡｃＯＨ中３９％） ２６．６ｇ（１３６．５ｍｍｏｌ）を−５℃においてゆっくりと添加した。計９０ｍＬの水を同時に、ゆっくりと添加することによって、混合物を撹拌可能に保った。その後、混合物を２０℃において一晩撹拌し、有機相を分離した。水相をＣＨ2Ｃｌ2で抽出し、一つにまとめた有機相をＮａＯＨ及び塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥させ、溶媒を蒸発させ、赤色粉末１８ｇを得た。
分析：実測値：Ｃ ６５．１７％，Ｈ １０．００％，Ｎ １６．８４％，Ｏ
６．６４％．
【０２０９】
実施例１３：プロピレンからのｔ−ＢｕＯＯＨ水素引き抜きによる化合物Ｋ’からの化合物Ｌ’の製造：
【化４２】
オートクレーブに化合物Ｋ’（約３．３ｍｅｑ ＮＯ／ｇ） ２．２３ｇ、Ｂｕ4ＮＩ
０．０８１ｇ（０．２２ｍｍｏｌ）及びクロロベンゼン １０ｍＬを充填した。オートクレーブを密封し、その後、プロピレン １９．３ｇ（４５８．６ｍｍｏｌ）を添加した
。その後、系を７０℃にし（約２２バール）、その後、ｔ−ＢｕＯＯＨ（７０％水溶液）
２．８５ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を、ゆっくりと２時間注入した。反応混合物を７０℃において３０分間維持し、その後、２５℃まで冷却した（約１０バール）。圧力を開放し、オートクレーブから取り出した。揮発物を回転エバポレーターにより除去し、残渣を乾燥させ、黄色がかった粉末として化合物Ｌ’を得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3），δ（ｐｐｍ，ＮＯ−ＣＨ2ＣＨＣＨ2 ｏｎｌｙ）：４．３（ｂｒ ｓ）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１００）
【化１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１８のアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ1は、ヒドロキシ基、−ＮＴ2Ｔ3、−ＯＴ22、Ｔ20を又は式（１０２）で表わされる基を表わし；
Ｔ2は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又はＲ42を表わすか；又は、Ｔ2は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わし；
Ｔ3は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、
Ｔ2及びＴ3は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成し；
但し、Ｔ2及びＴ3は、ベンジル基ではなく；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
Ｔ21は、
【化２】
を表わし；
Ｔ20は、
【化３】
を表わし；
Ｒ30は、Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｒ30は、−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23−を表わし、
ここで、置換基Ｔ23の１つは水素原子を表わし、かつ置換基Ｔ23の２つは
【化４】
を表わし；
ｎは１ないし４を表わし；
ｐは１ないし３を表わし；
式（１０２）で表わされる基は、
【化５】
を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わす。）で表わされる立体障害性アミンエーテルの製造方法であって、該方法は、
１つの反応工程において、水素及び触媒の存在下で、式（１０１）
【化６】
（式中、Ｒ1は、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基を表わす。）で表わされる化合物を、Ｔ1がヒドロキシル基又は−ＮＴ2Ｔ3を表わすところの式（１００）で表わされる化合物に変換することを含み、
ここで、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3の化合物を得るためには、上記変換は、式ＨＮＴ2Ｔ30（式中、Ｔ30は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基又は−Ｑ−ＮＨＴ2を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置
換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、Ｔ2及びＴ30は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成するが；但し、Ｔ30は、ベンジル基ではない。）で表わされるアミンの存在下において行われること；及び、
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝ヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて式（１０３）
【化７】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を得、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、式（１０３）で表わされる化合物をＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させること；そして、
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて、式（１０４）
【化８】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０５）
【化９】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０６）
【化１０】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物を化合物２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジンと反応させること、からなる方法。
【請求項２】
前記触媒がＲｕ、Ｐｔ又はＰｄ担持木炭又はラネーニッケルである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記変換が、３５ないし１２０℃の温度、及び６ないし１００バールの水素圧下で行われる請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記温度が４５ないし１１０℃であり、前記水素圧が８ないし６０バールである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ2が炭素原子数３ないし１０のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ2が、水素原子を表わし；
Ｔ3が、Ｒ42、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わし；
Ｒ42が、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
Ｑが、炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし；
Ｔ22が、−（ＣＯ）−炭素原子数４ないし１０のアルキレン−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
ｎが、２ないし４を表わし；
ｙが、２ないし１０を表わし；
Ｒ1が、炭素原子数３ないし１０のアルケニル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルケニル基を表わし；
Ｘが、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記式（１０１）で表わされる化合物が、式（２００）
【化１１】
で表わされる化合物と炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンを反応させることによって得られる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記式（２００）で表わされる化合物が、式（２０１）
【化１２】
で表わされる化合物を酸化することによって得られる請求項６に記載の方法。
【請求項８】
中間生成物の単離なく、式（２０１）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなる請求項１、６又は７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
中間生成物の単離なく、式（２００）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなる請求項１又は６に記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ1が、式
【化１３】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わし；Ｒ7及びＲ8はまた、一緒になって化学結合を形成してもよい。）で表わされる基を表わすところの式（１０１）で表わされる化合物が、式（２０２）
【化１４】
（式中、Ｔ4及びＴ5は、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすか；又は、Ｔ4は、ヒドロキシ基を表わし、Ｔ5は、水素原子を表わす。）で表わされる化合物と式（２０３）
【化１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を反応させることにより式（２０４）
【化１６】
で表わされる化合物を得；
式（２０４）で表わされる化合物を、酸素、過酸化物、過マンガン酸塩又は塩素酸塩の存在下において酸化することにより式（２０５）
【化１７】
で表わされる化合物を得；
Ｔ4及びＴ5が、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物を脱アセタール化することによって、又はＴ4＝ヒドロキシ基、Ｔ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物を酸化することによって得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
式（３００）
【化１８】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ40は、プロピル基又は２−プロペニル基を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わし；
ｑは、２ないし８を表わし；
Ｒ15は、モルホリノ基、ピペリジノ基、１−ピペリジニル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルキルアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、又は２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2を表わし；
Ｔ10は、
【化１９】
を表わし、
Ｒ16は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、塩素原子で１回置換され、かつＲ15で１回置換されたｓ−トリアジニル基、又はＲ15で２回置換されたｓ−トリアジニル基（２つの置換基Ｒ15は異なり得る。）を表わし；
Ｒ17は、塩素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基で又はＴ10で置換されたアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2又は基Ｔ13
【化２０】
を表わし；
Ｒ18は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基、又は−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わす。）で表わされる化合物の製造方法であって、該方法は、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる化合物を酸化してＯ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところの式（３００）で表わされる化合物とし、その後、プロぺンと反応させ：そして、
Ｒ40＝プロピル基の式（３００）で表わされる化合物を得るために、該化合物を水素化することからなる方法。
【請求項１２】
Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わす請求項１、６、７、１０又は１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
式（４００）ないし（４０７）
【化２１】
【化２２】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ30は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
ｎ2は、２ないし２０を表わす。）で表わされる化合物。
【請求項１４】
式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物
【化２３】
（式中、Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。）の混合物。
【請求項１５】
Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わす、請求項１３に記載の化合物又は請求項１４に記載の化合物の混合物。
【請求項１６】
光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物の使用。
【請求項１７】
有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法。
【請求項１８】
Ａ）酸化、熱及び／又は化学線分解に敏感な有機ポリマー、及び、
Ｂ）請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物
を含む組成物。
【請求項１９】
更なる添加剤を含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
更なる添加剤として、フェノール系及び／又はアミン系抗酸化剤、ヒンダードアミン光安定剤、ＵＶ吸収剤、ホスフィット、ホスホナイト、ベンゾフラノン、金属ステアレート、金属酸化物、顔料、染料、有機リン化合物、ヒドロキシルアミン又は難燃剤及びそれらの混合物を含む請求項１９に記載の組成物。
【請求項１】
式（１００）
【化１】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ2は、炭素原子数３ないし１８のアルキル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ1は、ヒドロキシ基、−ＮＴ2Ｔ3、−ＯＴ22、Ｔ20を又は式（１０２）で表わされる基を表わし；
Ｔ2は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基又はＲ42を表わすか；又は、Ｔ2は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わし；
Ｔ3は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ3は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、
Ｔ2及びＴ3は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成し；
但し、Ｔ2及びＴ3は、ベンジル基ではなく；
Ｒ42は、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし；
Ｑは、炭素原子数２ないし１８のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基又はフェニレン基を表わし；
Ｔ22は、−（ＣＯ）−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
Ｔ21は、
【化２】
を表わし；
Ｔ20は、
【化３】
を表わし；
Ｒ30は、Ｒ42又はヒドロキシ基で置換されたＲ42を表わすか；又は、Ｒ30は、−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23−を表わし、
ここで、置換基Ｔ23の１つは水素原子を表わし、かつ置換基Ｔ23の２つは
【化４】
を表わし；
ｎは１ないし４を表わし；
ｐは１ないし３を表わし；
式（１０２）で表わされる基は、
【化５】
を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わす。）で表わされる立体障害性アミンエーテルの製造方法であって、該方法は、
１つの反応工程において、水素及び触媒の存在下で、式（１０１）
【化６】
（式中、Ｒ1は、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケニル基を表わす。）で表わされる化合物を、Ｔ1がヒドロキシル基又は−ＮＴ2Ｔ3を表わすところの式（１００）で表わされる化合物に変換することを含み、
ここで、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3の化合物を得るためには、上記変換は、式ＨＮＴ2Ｔ30（式中、Ｔ30は、水素原子、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、Ｒ42、アリール基又は−Ｑ−ＮＨＴ2を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置
換されたＲ42を表わすか；又は、Ｔ30は、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42又はハロゲン原子で置換されたアリール基を表わすか；又は、Ｔ2及びＴ30は、一緒になって、炭素原子数４ないし１１のアルキレン基又は炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、アリール基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ42又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ42で置換された炭素原子数４ないし１１のアルキレン基を形成するが；但し、Ｔ30は、ベンジル基ではない。）で表わされるアミンの存在下において行われること；及び、
Ｔ1＝−ＯＴ22の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝ヒドロキシル基の式（１００）で表わされる化合物とＨＯＯＣ−（炭素原子数１ないし１６のアルキレン）0又は１−ＣＯＯＨ又はそのハロゲン化物又はそのメチルエステルを反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20、及びＲ30＝ヒドロキシ基で置換されたＲ42の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて式（１０３）
【化７】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を得、その後、該化合物をＲ42ＮＨ2又はヒドロキシ−置換Ｒ42ＮＨ2と反応させること；
Ｔ1＝Ｔ20及びＲ30＝−（ＣＨ2）n−ＮＴ23−（ＣＨ2）p−ＮＴ23−（ＣＨ2）n−ＮＨＴ23の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、式（１０３）で表わされる化合物をＨ2Ｎ−（ＣＨ2）n−ＮＨ−（ＣＨ2）p−ＮＨ−（ＣＨ2）n−ＮＨ2と反応させること；そして、
Ｔ1＝式（１０２）で表わされる基の式（１００）で表わされる化合物を得るためには、Ｔ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝Ｒ42の式（１００）で表わされる化合物とシアヌル酸ハロゲン化物を反応させて、式（１０４）
【化８】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０５）
【化９】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物をＴ1＝−ＮＴ2Ｔ3、Ｔ2＝Ｈ、Ｔ3＝−Ｑ−ＮＨＴ21の式（１００）で表わされる化合物と反応させて式（１０６）
【化１０】
で表わされる化合物を得、
その後、該化合物を化合物２−Ｘ−４，６−ビス（（Ｒ42）2アミノ）−ｓ−トリアジンと反応させること、からなる方法。
【請求項２】
前記触媒がＲｕ、Ｐｔ又はＰｄ担持木炭又はラネーニッケルである請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記変換が、３５ないし１２０℃の温度、及び６ないし１００バールの水素圧下で行われる請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記温度が４５ないし１１０℃であり、前記水素圧が８ないし６０バールである請求項３に記載の方法。
【請求項５】
Ｒ2が炭素原子数３ないし１０のアルキル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基を表わし；
Ｔ2が、水素原子を表わし；
Ｔ3が、Ｒ42、−Ｑ−ＮＨＴ2又は−Ｑ−ＮＴ2Ｔ21を表わし；
Ｒ42が、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
Ｑが、炭素原子数２ないし８のアルキレン基を表わし；
Ｔ22が、−（ＣＯ）−炭素原子数４ないし１０のアルキレン−（ＣＯ）−Ｏ−Ｔ21を表わし；
ｎが、２ないし４を表わし；
ｙが、２ないし１０を表わし；
Ｒ1が、炭素原子数３ないし１０のアルケニル基又は炭素原子数５ないし７のシクロアルケニル基を表わし；
Ｘが、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記式（１０１）で表わされる化合物が、式（２００）
【化１１】
で表わされる化合物と炭素原子数３ないし１８のアルケン又は炭素原子数５ないし１２のシクロアルケンを反応させることによって得られる請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記式（２００）で表わされる化合物が、式（２０１）
【化１２】
で表わされる化合物を酸化することによって得られる請求項６に記載の方法。
【請求項８】
中間生成物の単離なく、式（２０１）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなる請求項１、６又は７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
中間生成物の単離なく、式（２００）で表わされる化合物を式（１００）で表わされる化合物へ転換することからなる請求項１又は６に記載の方法。
【請求項１０】
Ｒ1が、式
【化１３】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、互いに独立して、Ｈ、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わし；Ｒ7及びＲ8はまた、一緒になって化学結合を形成してもよい。）で表わされる基を表わすところの式（１０１）で表わされる化合物が、式（２０２）
【化１４】
（式中、Ｔ4及びＴ5は、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすか；又は、Ｔ4は、ヒドロキシ基を表わし、Ｔ5は、水素原子を表わす。）で表わされる化合物と式（２０３）
【化１５】
（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）で表わされる化合物を反応させることにより式（２０４）
【化１６】
で表わされる化合物を得；
式（２０４）で表わされる化合物を、酸素、過酸化物、過マンガン酸塩又は塩素酸塩の存在下において酸化することにより式（２０５）
【化１７】
で表わされる化合物を得；
Ｔ4及びＴ5が、独立して、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基を表わすところの式（２０５）で表わされる化合物を脱アセタール化することによって、又はＴ4＝ヒドロキシ基、Ｔ5＝水素原子の式（２０５）で表わされる化合物を酸化することによって得られる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
式（３００）
【化１８】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ40は、プロピル基又は２−プロペニル基を表わし；
ｙは、２ないし２０を表わし；
ｑは、２ないし８を表わし；
Ｒ15は、モルホリノ基、ピペリジノ基、１−ピペリジニル基、１ないし８個の炭素原子を有するアルキルアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、又は２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2を表わし；
Ｔ10は、
【化１９】
を表わし、
Ｒ16は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、塩素原子で１回置換され、かつＲ15で１回置換されたｓ−トリアジニル基、又はＲ15で２回置換されたｓ−トリアジニル基（２つの置換基Ｒ15は異なり得る。）を表わし；
Ｒ17は、塩素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基で又はＴ10で置換されたアミノ基、−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2又は基Ｔ13
【化２０】
を表わし；
Ｒ18は、水素原子、炭素原子数２ないし４のアシル基、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたカルバモイル基、２ないし１６個の炭素原子を有する−Ｎ（アルキル）2で２回置換されたｓ−トリアジニル基、又は−Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）Ｔ10で２回置換されたｓ−トリアジニル基を表わす。）で表わされる化合物の製造方法であって、該方法は、＞Ｎ−Ｏ−Ｒ40が＞Ｎ−Ｈを表わすところの式（３００）で表わされる化合物を酸化してＯ−Ｒ40が−Ｏ・を表わすところの式（３００）で表わされる化合物とし、その後、プロぺンと反応させ：そして、
Ｒ40＝プロピル基の式（３００）で表わされる化合物を得るために、該化合物を水素化することからなる方法。
【請求項１２】
Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わす請求項１、６、７、１０又は１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
式（４００）ないし（４０７）
【化２１】
【化２２】
（式中、
Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし；
Ｒ30は、炭素原子数１ないし８のアルキル基を表わし；
ｎ2は、２ないし２０を表わす。）で表わされる化合物。
【請求項１４】
式（４０８）及び（４０９）で表わされる化合物
【化２３】
（式中、Ｇ1及びＧ2は、独立して、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わす。）の混合物。
【請求項１５】
Ｇ1及びＧ2がメチル基を表わす、請求項１３に記載の化合物又は請求項１４に記載の化合物の混合物。
【請求項１６】
光、酸素及び／又は熱による分解に対する有機ポリマーのための安定剤としての、又は有機ポリマーのための難燃剤としての請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物の使用。
【請求項１７】
有機ポリマーを難燃化するための、又は光、酸素及び／又は熱による分解に対して有機ポリマーを安定化するための方法であって、該方法は、前記ポリマーに請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物を適用又は配合することからなる方法。
【請求項１８】
Ａ）酸化、熱及び／又は化学線分解に敏感な有機ポリマー、及び、
Ｂ）請求項１３で定義された化合物の少なくとも１種又は請求項１４で定義された化合物の混合物
を含む組成物。
【請求項１９】
更なる添加剤を含む、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
更なる添加剤として、フェノール系及び／又はアミン系抗酸化剤、ヒンダードアミン光安定剤、ＵＶ吸収剤、ホスフィット、ホスホナイト、ベンゾフラノン、金属ステアレート、金属酸化物、顔料、染料、有機リン化合物、ヒドロキシルアミン又は難燃剤及びそれらの混合物を含む請求項１９に記載の組成物。
【公表番号】特表２００８−５１９００３（Ｐ２００８−５１９００３Ａ）
【公表日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５３９５６８（Ｐ２００７−５３９５６８）
【出願日】平成１７年１０月２４日（２００５．１０．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０５５４７２
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０４８３８９
【国際公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２０年６月５日（２００８．６．５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１０月２４日（２００５．１０．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００５／０５５４７２
【国際公開番号】ＷＯ２００６／０４８３８９
【国際公開日】平成１８年５月１１日（２００６．５．１１）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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