説明

東ソー株式会社により出願された特許

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【課題】高効率・高寿命で不純物の少ない有機エレクトロルミネセンス素子の提供。
【解決手段】式1又は2で表される有機基を部分構造として有する有機エレクトロルミネセンス材料を素子の発光層、正孔輸送層、正孔注入層のいずれかに用いる。


(式中、R,Rは各々独立して炭素数1〜8のアルキル基、または炭素数6〜12のアリール基を表す。なお、RとRは結合して環を形成してもよい。) (もっと読む)


【課題】本発明は、パーフルオロアルキル基を有するα,β−不飽和カルボニル化合物およびその簡便で効率の良い製造方法を開発する。
【解決手段】スルホキシド類、過酸化物および鉄化合物の存在下、ハロゲン化パーフルオロアルキル類とα,β−不飽和カルボニル化合物とを反応させることにより、医農薬の合成中間体として有用なパーフルオロアルキル基を有するα,β−不飽和カルボニル化合物を効率良く製造する。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤に可溶で成膜性に優れ、有機EL素子の正孔輸送層としてキャリア輸送性に優れた重合体の提供。
【解決手段】トリアリールアミン化合物と一般式(15)


(式中、Aは単結合か置換若しくは無置換の炭素数6〜36のアリーレン基若しくはヘテロアリーレン基であり、Rは水素原子、炭素数1〜18のアルキル基若しくはアルコキシ基、または炭素数6〜18のアリール基である。Rは隣り合う炭素原子と縮合環を形成してもよい。Y及びYはボロン酸またはボロン酸エステルである。)で表されるビスボロン酸またはビスボロン酸エステルを重合。 (もっと読む)


【課題】従来の電子輸送材料は、有機電界発光素子の駆動電圧の低下や高効率化の効果については、十分ではなかった。
【解決手段】一般式(1)


[式中、ArおよびArは、各々独立にフェニル基等を示し、R、RおよびRは、各々独立に水素原子等を示す。Xは、同一または相異なって、フェニレン基等を示す。pは、同一または相異なって0から2の整数を示す。Arは、同一または相異なってピリジル基等を示す。]で表されることを特徴とするフェニル基置換1,3,5−トリアジン化合物を製造し、これを構成成分とする有機電界発光素子を作製する。 (もっと読む)


【課題】 装置を汚染せず低コストで、強アルカリを使用することなくルテニウムをエッチングできるエッチング用組成物、及びそれを用いたエッチング方法を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハ等の基板上のルテニウムや、半導体製造装置に付着したルテニウムを、塩素及び水を含むルテニウムのエッチング用組成物でエッチングする。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤に可溶で成膜性に優れ、有機EL素子用途としてキャリア輸送性に優れた新規な重合体を提供する。
【解決手段】


(式中、Arは縮合多環基であり、Aは置換若しくは無置換の炭素数6〜36のアリーレン基若しくはヘテロアリーレン基である。X及びXはハロゲン原子である。)で表される芳香族ジハライドと


(式中、Arはフェニレン基またはフルオレン基。)で表される芳香族一級アミンを、パラジウム化合物とホスフィンからなる触媒並びに塩基の存在下で重合させる。 (もっと読む)


【課題】エッチング工程がなくても、所定のパターンを有する銅膜を形成することを可能とした銅膜の形成方法、およびそのために使用することができる組成物を提供する。
【解決手段】窒化銅粉末、有機バインダー及び有機溶剤からなる組成物を、スクリーン印刷法やインクジェット法等の印刷法、スピンコート法、ディスペンサーを用いるパターン形成方法、噴霧法などにより基板上に適用し、その後、300℃以上で真空中又は不活性ガス中で焼成することにより、銅膜を形成させる。 (もっと読む)


【課題】ゴミ焼却場から排出される焼却灰及び飛灰、重金属に汚染された土壌、排水処理後に生じる汚泥等に含有される鉛、水銀、クロム、カドミウム等の有害な重金属を不溶化することが出来、より少量で有害な重金属処理を可能とする重金属処理剤及びそれを用いた処理方法を提供する。
【解決手段】分子内に三つ以上のアミノ基を有する直鎖状及び/または分岐状のポリアミンからなる群より選ばれる1種または2種以上、及びアミンのカルボジチオ酸塩を含んでなる重金属処理剤では、有害な重金属に対する不溶化選択性が高く、少ない薬剤量で有害重金属の不溶化ができる。ポリアミンの添加量としてはカルボジチオ酸塩に対して100モル%を超える範囲であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 重金属汚染物質の昭和48年環境庁告示13号試験における溶出液のpHを8〜11とする従来の処理方法では、処理物のpH変動に伴い、重金属が溶出する問題があった。
【解決手段】 重金属汚染物質をアミンのカルボジチオ酸塩を用いて処理する際に、金属水酸化物とアミンのカルボジチオ酸塩を用いることによって、処理物の昭和48年環境庁告示13号試験における溶出液のpHを12超とすることにより、重金属を高効率に処理することができ、なおかつ処理物のpHの変動に伴って重金属が溶出することなく、固定化できる。 (もっと読む)


【課題】希土類窒化物は、イットリア以上の耐蝕性を持つ半導体製造装置用部材を作製できると期待されるが、希土類窒化物単体では酸化しやすい性質であり、例えば大気中では希土類酸化物に変化してしまう問題があった。
【解決手段】希土類窒化物からなるプラズマ耐蝕性材料であって、金属元素としてTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Au、Al、Ga、Inの中から少なくとも1種類の元素を金属元素の割合として0.1〜20原子%含有することを特徴とするプラズマ耐蝕性材料は、プラズマに対する耐性が高く、このようなプラズマ耐蝕性材料は、希土類窒化物粉末に金属を混合した粉末を使用して溶射膜を形成することで製造することが出来る。 (もっと読む)


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