【課題】 Ｘ線分析装置において、既知なＸ線をモニターする必要が無く、高エネルギー分解能を得ること。
【解決手段】 Ｘ線を受けてそのエネルギーを温度変化として検出し電流信号として出力するＴＥＳ１を有するセンサ回路部２と、これに定電圧を印加してバイアス電流を流すバイアス電流源３と、ＴＥＳ１に流れる電流を検出する電流検出機構４と、電流検出機構４に接続され検出された電流に基づいて波高値を測定する波高分析器５と、電流検出機構４に接続されバイアス電流によってＴＥＳ１に流れるベースライン電流を検出するベースラインモニター機構６と、ベースラインモニター機構６で検出したベースライン電流が既定値からずれて変動している場合にその変動幅に応じて電流検出機構４で検出した電流又は波高分析器５で測定した波高値を補正する感度補正演算部７と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】液体に何ら影響を受けずに自己検知型プローブを利用して試料を液中観察すること。
【解決手段】探針３０ａが先端に形成されていると共に基端側が本体部３０ｂに支持されたカンチレバー３０と、該カンチレバーの変位量に応じて抵抗値が変化する歪抵抗素子と、歪抵抗素子に電気接続された配線部３２と、を有する自己検知型プローブ２と、２枚の絶縁性シート２１と両シートの間にパターニングされた配線パターン２２とを有し、カンチレバーを外側に突出させた状態で本体部を支持すると共に、少なくとも一端側が液体外に引き出されるように長尺な帯状に形成されたフレキシブル基板２０と、配線部と配線パターンとを接続する接続部材２３と、配線部、接続部材及び該接続部材と配線パターンとの電気接続箇所を被覆する樹脂部２４と、液体外に引き出されたフレキシブル基板の端部に形成された外部接点２２ａと、を備えている液中観察用センサ３を提供する。 （もっと読む）

【課題】 検出手段を支持する支持構造において、外乱に強く、大きな試料測定に対しても分解能の低下を抑えた剛性の高い、分析、検査及び計測に係わる装置構造の提供およびその構造を用いたプローブ顕微鏡の提供を目的とするものである。
【解決手段】 少なくても１軸方向に移動可能な手段に設置された分析対象となる試料に対して、相対する位置に設置される検出手段を支持する構造として門型円弧形状を有する形にした。また、前記検出手段の支持が該門型円弧形状を有する構造に直下に配置する試料ホルダの平面部に略垂直な面を形成し、該垂直面に検出手段を支持する配置構成にした。そして、前記門型円弧形状の曲線は、カテナリ−曲線（懸垂線）に順ずる曲線構造を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】微小マニピュレータ自体の振動を軽減することで、微小な試料を確実に操作できる微小マニピュレータ、及びそれを備えた観察装置を提供する。
【解決手段】試料３００（４００）を把持するための対向する一対のアーム７１と、アームを支持するベース部１１と、ベース部に取り付けられてアームを開閉させる開閉アクチュエータ３５とを有するマニピュレータ部１００ａと、マニピュレータ部の変位を検出する変位検出部１１０ａ１、１１０ａ２と、ベース部と外部装置２００との間に取り付けられ、マニピュレータ部を試料に対して３次元移動させる移動機構１２０と、変位検出部によって検出された変位を打ち消すように、移動機構を制御する制御部１３０とを備えた微小マニピュレータである。 （もっと読む）

【課題】対象試料から薄片試料を切り出した後に、正確に対象断面に仕上げ加工を行うことが可能な薄片試料作製方法を提供する。
【解決手段】薄片試料作製方法は、対象試料の対象断面を含む位置に荷電粒子ビームを照射して、対象試料Ａに対象断面を含む薄片部を形成する薄片部形成工程Ｓ２と、細長な保持手段の先端によって薄片部を保持して薄片試料として対象試料から取り出す試料取り出し工程Ｓ３と、保持手段を軸回りに回転させることで、取り出した薄片試料を反転させる試料反転工程Ｓ４と反転した薄片試料の一部を、薄片試料を固定するための固定台に予め形成した薄片試料の側面を支持する挿入溝に挿入した後に、薄片試料と固定台とを少なくとも一箇所で接合させる試料固定工程と、固定台に固定された薄片試料の対象断面を含む面に荷電粒子ビームを照射する仕上げ工程Ｓ７とを備える。 （もっと読む）

【課題】吸収層５６のパターンを精度よく加工することが可能な、ＥＵＶＬマスク５０の加工方法を提供する。
【解決手段】ＥＵＶＬマスク５０における吸収層５６に、フッ化キセノンガス７１を供給しつつイオンビーム２０Ａを照射して、吸収層５６の黒欠陥６０をエッチングするエッチング工程を有するＥＵＶＬマスクの加工方法であって、エッチング工程の後に、吸収層５６に酸化剤ガス７２を供給する酸化剤供給工程を有し、エッチング工程と酸化剤供給工程とを交互に複数回実施することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】断面加工方法および装置において、断面加工の加工効率を向上することができるようにする。
【解決手段】観察目標断面２、または観察目標断面２を含む観察領域で、試料１の断面観察を行うために、試料１に対して順次除去加工を施すことによって破断位置を移動させて破断面１ｃを形成していく断面加工方法であって、観察目標断面２の近傍において破断面１ｃが形成可能な範囲に、除去加工によって破断可能、かつ破断面１ｃ内で破断形状が識別可能となるマーク部４Ａ、４Ｂを形成するマーク部形成工程と、このマーク部形成工程で形成されたマーク部４Ａ、４Ｂを含む範囲で、試料１およびマーク部４Ａ、４Ｂに対して除去加工を施して、破断面１ｃを形成する断面形成工程と、この該断面形成工程で形成中または形成後の試料１の断面の観察像を取得する観察像取得工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 凹凸がある試料において分析不可能な領域を測定者が判断可能なＸ線分析装置及びＸ線分析方法を提供すること。
【解決手段】 試料Ｓ上の任意の照射ポイントＰに放射線を照射するＸ線管球１１と、試料Ｓから放出される特性Ｘ線及び散乱Ｘ線を検出し該特性Ｘ線及び散乱Ｘ線のエネルギー情報を含む信号を出力するＸ線検出器１２と、試料Ｓに対して照明光を出射して照明する狭域照明機構１３Ａ及び広域照明機構１３Ｂと、照明光で照明された試料Ｓの照明画像を画像データとして取得する狭域観察機構１４Ａ及び広域観察機構１４Ｂと、を備え、これら観察機構が、検出時における照射ポイントＰとＸ線検出器１２とを結んだ方向と同じ方向に照明時における照明光の光軸が照射ポイントＰに向けて設定される狭域斜め照明部１９及び広域斜め照明部２１を有している。 （もっと読む）

【課題】試料の薄膜化が進む中、試料の湾曲を押さえて所望の極薄の試料を作製することができ、しかも、観察領域も失われない。
【解決手段】薄膜状の試料１の一面側からイオンビームを照射して、試料の一面を観察面１２ａが露出するまで削り加工する工程と、試料の削り加工した一面に試料を補強するための補強層２を形成する工程と、試料１の他面側からイオンビームを照射して、試料の他面を観察面が露出するまで削り加工する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 微量で均一な濃度のアシストガスを供給する。
【解決手段】マスフローコントローラ２でガスの供給量を断続させ、マスフローコントローラ２に接続される拡散機構３を通すことで均一で微量な濃度のアシストガスを供給する。 （もっと読む）