【課題】 電子デバイスをはじめとする基体から、ポリマー物質を除去するため
に有用な組成物および方法を提供する。該組成物および方法は、下地金属表面の腐蝕を低減し、電子デバイス基板からのポリマー残留物の除去に特に適する。
【解決手段】 基体からポリマー物質を除去するための組成物であって、他価アルコール、グリコールエーテル溶媒およびＮ−メチルピロリドンを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】浴の均一電着性に著しい影響を及ぼさず、平坦な銅堆積物を提供する、レベリング剤の提供。
【解決手段】窒素、硫黄および窒素と硫黄の混合から選択されるヘテロ原子を含む化合物の、エーテル結合を含有するポリエポキシド化合物との反応生成物であるレベリング剤を含有する銅メッキ浴であって、電子デバイスの表面上およびかかる基体上の開口部中に銅を堆積させる銅メッキ浴が提供される。かかるメッキ浴は、電解質濃度の範囲全体にわたって実質的に平面的な基体表面上に銅層を堆積させる。このような銅メッキ浴を用いて銅層を堆積させる方法も開示される。 （もっと読む）

【課題】傷および引っ掻き耐性であり、かつ少なくとも望ましくない光学的問題を低減する物品の提供。
【解決手段】組成物がナノ粒子、フッ素化合物、および該組成物を硬化させる化合物を含み、該組成物は支持膜の第１面に隣接し並びに接着剤が支持膜の第２面に隣接する物品である。フッ素化合物がフッ化ポリエーテル等および、フッ化ポリエーテルが組み込まれるポリウレタンからなり、ナノ粒子が表面処理されたナノ粒子、ニートのナノ粒子およびそれらの混合物の、分散体から選択される。 （もっと読む）

【課題】マルチビットデータを含有する装置の提供。
【解決手段】データがマルチビットフォーマットで記憶されている電界プログラマブル膜を含有しているクロスポイントメモリアレイ装置が提供される。データがマルチビットフォーマットで記憶されているクロスポイントメモリアレイ装置を含むデータ処理装置もまた提供される。マルチビットデータをクロスポイントメモリアレイ装置に記憶するための方法およびこのような装置の使用方法がさらに提供される。 （もっと読む）

【課題】オーバーコートされたフォトレジスト組成物と共に用いるための下地コーティング組成物を提供すること。
【解決手段】一態様において、このコーティング組成物は架橋可能であり、並びに架橋の後に反応性である１以上の酸不安定性基および／または１以上の塩基反応性基を含む１以上の成分を含有する。別の態様において、処理されて調製された水接触角を提供することができる下地コーティング組成物が提供される。好ましいコーティング組成物は関連づけられたフォトレジスト組成物のリソグラフィー性能を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】電界プログラマブル膜およびそれに基づくメモリデバイスの提供。
【解決手段】バインダー、並びに（ａ）（ｉ）電子供与体の濃度および（ｉｉ）電子受容体の濃度の少なくとも一方が０．０５重量％未満である電子供与体および電子受容体、または（ｂ）電子供与体および／または電子受容体がバインダーに化学結合された電子供与体および電子受容体、を含む電界プログラマブル膜組成物が開示される。基体上に電界プログラマブル膜を製造するための方法も開示される。電界プログラマブル膜を含むメモリデバイスをも開示される。 （もっと読む）

【課題】改善された輝きおよび色の一様性を有する堆積物をもたらす、カドミウムを含まない金合金電解質の提供。
【解決手段】金合金を堆積させるための組成物および方法が開示される。組成物は、特定のジチオカルボン酸およびこれらの塩およびエステルと、メルカプト基含有化合物を含み、一様な色を呈する輝いた金合金堆積物を提供する。 （もっと読む）

【課題】基体からオーバーコートされたフォトレジスト層中へ戻る露光放射線の反射を減少することができ、および／または平坦化またはビア−フィル層として機能することができる反射防止コーティング組成物を含む有機コーティング組成物を提供する。
【解決手段】本発明の好ましい組成物は、リソグラフィー処理の過程における、昇華または組成物コーティング層からの他の移動を抑えるクロスリンカー成分を含有する。 （もっと読む）

【課題】反射防止および液浸リソグラフィー用途において有用な組成物を含む、マイクロリソグラフィーのための新規物質を提供する。
【解決手段】一態様において、１以上のケイ素、アンチモン、アルミニウム、イットリウム、セリウム、ランタン、スズ、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、インジウムまたは亜鉛化合物を含む成分を含有するコーティング組成物が提供される。別の態様においては、複数の個別の粒子を含有するコーティング組成物が提供される。本発明の好ましいコーティング組成物は、反射防止の目的、特に下層をなすフォトレジストコーティング層を伴う場合に有用であり、並びに液浸リソグラフィーにおけるバリア層に有用である。 （もっと読む）

【課題】 高い規定度のアルカリ現像液を用いて、ミクロ橋かけを生ぜず、優れた解像力と感光速度を有するホトレジスト、およびそれに適する新規な重合体を提供する。
【解決手段】 フェノール単位および場合によってはシクロヘキサノール単位を含む（共）重合体において、上記の単位の環上のヒドルキシル基の一部を、不活性な閉塞基で置換した共重合体；およびそれを高分子結合剤として用いたネガ型ホトレジスト組成物。 （もっと読む）