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Fターム[2C162FA23]の内容

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【課題】 光プリンタヘッドを用いて印画する際の印画ムラを抑制する。
【解決手段】
基板表面に主走査方向に沿って配列された複数の発光部と、複数の前記発光部からの発光を、各発光部毎に分離された結像位置に結像させるための結像光学系と、を備えた光プリンタヘッドであって、前記結像光学系は、一方の端面が前記基板表面と対向する複数のロッドレンズが、前記主走査方向に並んで配置され、前記発光部は、前記基板表面の、前記ロッドレンズの前記端面と対向する各領域に複数個ずつ配置され、前記発光部それぞれに、前記基板表面に形成された複数の発光素子が配置されており、隣り合う前記発光素子の前記主走査方向に沿った間隔が、隣り合う前記発光部の前記主走査方向に沿った間隔に比べ、より狭いことを特徴とする光プリンタヘッドを、提供する。 (もっと読む)


【課題】発光素子の素子寿命を長寿命化することを課題とする。
【解決手段】発光層72の中心部に非発光領域Hを形成する。非発光領域Hとは、発光層72が発光しない平面視における領域をいい、その領域において、少なくとも、発光層72、陽極71、陰極73のいずれか1つが形成されておらず、発光層72が発光しない領域をいう。 (もっと読む)


【課題】発光素子の素子寿命を長寿命化することを課題とする。
【解決手段】陽極71は、発光層72よりも熱伝導率が高い熱伝導率部材の一例としての高熱伝導部71Aと、高熱伝導部71Aよりも熱伝導率が低い低熱伝導部71Bとを有する。高熱伝導部71Aは、平面視において、発光層72の発光領域Rの中心部に重なる位置に形成され、低熱伝導部71Bは、高熱伝導部71Aの周縁部に形成されている。 (もっと読む)


【課題】転送異常が生じにくい発光素子アレイ駆動装置、プリントヘッドおよび画像形成装置を提供する。
【解決手段】点灯終了時点(期間T(L3)では時刻p)を固定とし、点灯開始時点(期間T(L3)では時刻n)を可変として、発光サイリスタの点灯期間tcを変えることで光量補正を行う。次段の転送サイリスタT4をオンにするタイミングにおいて、発光サイリスタL3を消灯しているので、例え、発光サイリスタL3の消灯によって、転送サイリスタT3がオフとなっても、転送サイリスタT4のゲート端子G4の電位が直ちに変化せず、転送サイリスタT4をオンにするタイミングにおいて転送サイリスタT4がオンになるため、転送動作が正常に行われ、転送異常を生じにくい。 (もっと読む)


【課題】 a−Si感光体ドラムを露光する露光装置において、a−Si感光体ドラムへの露光量を確保しつつ、省エネルギー化を可能にする。
【解決手段】 本発明に係る露光装置7は、シリコンを主体とする非晶質材料からなる光導電層を有している感光体ドラム3の表面に帯電した電荷を露光して静電潜像を形成する。露光装置7は、基板の上に形成されたAlGaInPからなる発光体を有する発光素子アレイを備えている。 (もっと読む)


【課題】発光素子ヘッドにおいて、許可信号端子を設けることにより、電流駆動能力が大きな電流バッファ回路の数を削減するとともに、許可信号を少ない電流で供給しうる発光素子チップを提供する。
【解決手段】発光素子チップ51は、基板105と、発光サイリスタアレイ102と、転送サイリスタアレイ103と、発光制御サイリスタアレイ104と、発光許可サイリスタTdとを備える。発光許可サイリスタTdが、そのゲート電極Gtに供給される発光許可信号Enによってオン状態になることにより、第2クロック信号線73を発光許可サイリスタTdのカソード電極の電位に固定する。これにより、発光制御サイリスタCi(iは1以上の整数)はオン状態に移行できず、対応する発光サイリスタLiの点灯が阻止される。 (もっと読む)


【課題】比較的結晶欠陥の少ない窒化ガリウム系化合物半導体層を比較的低コストで得ることができる技術を提供する。
【解決手段】サファイア基板10上に、SiO層13を形成し、層13を部分的に除去してサファイア基板の露出部を形成し、露出部を持つサファイア基板上に、非晶質窒化ガリウム系化合物半導体を堆積し、層13上の非晶質窒化ガリウム系化合物半導体を蒸発させ、サファイア基板の露出部上に非晶質窒化ガリウム系化合物半導体の核を形成し、核のサイズ増大、合体、結晶成長、層13上への横方向結晶成長、平坦表面形成などを経て、サファイア基板上に窒化ガリウム系化合物半導体層20を形成し、サファイア基板10の露出部上の窒化ガリウム系化合物半導体層を除去して分離溝25を形成する。サファイア基板上の窒化ガリウム系化合物半導体層20は他の基板に移設される。 (もっと読む)


【課題】異なる結像光学系の露光領域が重複する構成において、良好な潜像の形成を実現可能とする技術の提供を目的とする。
【解決手段】潜像担持体と、第1方向MDに配された複数の発光素子、および、複数の発光素子からの光を結像して潜像担持体に集光部SP_1、SP_2を形成する結像光学系を有する露光ヘッドとを備え、第1の結像光学系が形成する集光部SG_1と第2の結像光学系が形成する集光部SG_2とは、第1方向MDに隣り合うとともに第1方向MDに直交もしくは略直交する第2方向SDから見て重なっており、当該重複する領域EX_olでは、第1の結像光学系は第1方向MDに第1ビームスポット中心間距離Dsp_1でビームスポットSPを形成し、第2の結像光学系は第1方向MDに第1ビームスポット中心間距離Dsp_1と異なる第2ビームスポット中心間距離Dsp_2でビームスポットSPを形成する。 (もっと読む)


【課題】高解像度を実現しつつも各発光素子を比較的広いスペースに形成することを可能とし、しかも、各発光素子の光量ばらつきを抑えて良好な露光を実現する。
【解決手段】被露光面の移動方向および当該移動方向に直交もしくは略直交する第1方向のいずれの方向とも異なる方向にN個(Nは4以上の整数)の発光素子を配設した発光素子列および当該発光素子列を囲むバンクを第1方向に複数配設した基板と、発光素子からの光を結像して、被露光面を露光する結像光学系とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、発光素子アレイの構造を利用して信号線の引き回しの複雑化を軽減した発光素子チップを提供する。
【解決手段】発光素子チップ51aは、GaAs系の半導体で構成され、基板200上に形成されたpnpn構造からなる、発光部120の発光サイリスタ401と、設定部130の転送サイリスタ402と、制御部140の論理演算素子403とを備え、基板200上にp型の第1半導体層201とn型の第2半導体層202と、p型の第3半導体層203と、n型の第4半導体層204とを積層し、その後、予め定められた箇所をエッチングして形成される。 (もっと読む)


【課題】LED用の半導体装置において、発光効率を向上する。
【解決手段】LED用の半導体装置は、基板10上に形成されたオーミック電極11と、このオーミック電極11上に接合され、電気を光に変換して出射するLED用の半導体薄膜20と、オーミック電極膜11の開口部内に形成され、半導体薄膜20の裏面側から漏れる光を反射する反射部12とを有している。反射部12は、高反射金属膜により形成され、半導体薄膜20の裏面側から漏れる光をその半導体薄膜20の方向へ反射する機能を有している。そのため、反射部12の光反射により、光出力を向上できる。 (もっと読む)


【課題】素子群の両側に配置された駆動回路の特性がばらつくことを抑制する。
【解決手段】X方向に沿って配列する複数の発光素子14からなる素子群Gと、素子群Gから見てX方向の負側に配置されて素子群Gに属する2以上の第1発光素子14aの各々を駆動する複数の第1駆動回路20aと、素子群Gから見てX方向の正側に配置されて素子群Gに属する2以上の第2発光素子14bの各々を駆動する複数の第2駆動回路20bと、を備え、各第1駆動回路20aに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置は、各第2駆動回路20bに含まれるトランジスタの半導体層のX方向における位置と同じである。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハをダイシングする際に、半導体チップ内にクラックが伝搬することを防止する。
【解決手段】 ダイシング位置のデバイス形成領域10側近傍において、半導体基板3上に形成された複数の配線層2同士を接合する接合部8を設ける。この接合部8により、ダイシングの際の外力による配線層2の剥離を防止する。 (もっと読む)


【課題】小型化及び材料コストの低減を図ることができる半導体複合装置を提供する。
【解決手段】半導体複合装置は、基板と、内部に一つだけ半導体素子を有する半導体薄膜であって、基板上に設けられた10μm以下の厚さでシート状のLEDエピタキシャルフィルム103と、集積回路及び第1の端子領域を有し、基板上に設けられた10μm以下の厚さでシート状の集積回路薄膜104と、LEDエピタキシャルフィルム103の半導体素子上から基板の表面を経由して集積回路薄膜104の第1の端子領域上に至る領域に設けられ、LEDエピタキシャルフィルム103の半導体素子と集積回路薄膜104の第1の端子領域とを電気的に接続する薄膜の個別配線層105と、個別配線層105下の個別配線層のコンタクト領域以外の部分に設けられた層間絶縁膜とを有する。 (もっと読む)


【課題】小型化及び材料コストの低減を図ることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、端子領域を備えた基板101と、内部に一つだけ半導体素子を有する半導体薄膜であって、基板101上に複数枚設けられた10μm以下の厚さのシート状のエピフィルム191と、エピフィルム191の半導体素子上から基板101の端子領域上に至る領域に設けられ、半導体素子と基板101上の端子領域とを電気的に接続する薄膜の個別配線層107aと、個別配線層107a下の個別配線層のコンタクト領域以外の部分に設けられた層間絶縁膜とを有する。 (もっと読む)


【課題】低価格且つ低電力で光書き込みの高速化が実現される光源ヘッド、及びそれを利用した画像形成装置を提供すること。
【解決手段】基板と基板上にアレイ状に配設された面発光型半導体レーザと基板上に配設され、前記面発光型半導体レーザの発光を選択的にオン・オフさせるスイッチ素子としてのサイリスタとを備える自己走査型の光源ヘッド、及びそれを利用した画像形成装置である。 (もっと読む)


【課題】半導体薄膜を基板に貼り付けて製造する半導体複合装置の製造方法において、素子分離された個別半導体素子を上記基板上に高い位置精度でかつ容易に形成できるようにする。
【解決手段】半導体複合装置の製造方法は、薄膜の半導体薄膜120を、該半導体薄膜120の貼り付け面と基板301上に設けた導通層302の表面との間の分子間力により、該基板301に貼り付ける工程と、上記半導体薄膜120を上記基板301上で一括して個別の半導体素子(発光素子)501に素子分離する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 発光部2を有する半導体装置1を所定の基板上の貼付け領域に貼付けるときに、貼付ける前に形成された上記発光部2のPN接合領域と上記他の基板上に設けられている機能領域とを電気的に接続させるための正確な位置合わせを容易にすること。
【解決手段】 半導体装置1の両端に設けられた位置決め手段3aは、貫通穴であり、上記所定の基板の貼付け領域に設けられた所定のパターンと照合し、上記半導体装置1の貼付け位置を位置決めする。 (もっと読む)


【課題】一の結像光学系に対して複数の発光素子が配された構成においても、良好な潜像形成を実行可能とする技術を提供する。
【解決手段】複数の発光素子を有する基板と、複数の発光素子に対して配されて発光素子からの光を結像する結像光学系とを備え、複数の発光素子は、2個以上の発光素子を第1方向の互いに異なる位置に配した発光素子行を構成するようにして設けられており、発光素子行では、少なくとも2個の発光素子が第1方向に直交もしくは略直交する第2方向において互いに異なる位置に配されている。 (もっと読む)


【課題】成形時の樹脂のはみ出しを防止すると共に成形型の離型を簡単に行うことができ、簡単な構成で効率よく生産を行うことができる発光素子アレイチップの製造方法等を提供する。
【解決手段】基板上にてLED102が形成される発光素子部および基板上にて発光素子部に隣接する隣接部に光硬化性樹脂302を被覆する被覆工程と、マイクロレンズ成形型200を光硬化性樹脂302に押圧し、光硬化性樹脂302をマイクロレンズ形状に成形する成形工程と、を含み、発光素子部および隣接部にマイクロレンズ103を形成することを特徴とする発光素子アレイチップ100の製造方法。 (もっと読む)


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