【課題】被加工物の上面高さを計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】被加工物Ｗに向けて白色光を発光する白色光源６１と、発光した光が有する各波長を回折する回折手段６２と、回折された光の中央部を遮蔽して光を環状に形成するマスク手段６３と、形成された環状の光の像をリレーするリレーレンズ６４と、伝達された環状の光を集光して被加工物に照射する対物レンズ６５と、マスク６３手段とリレーレンズ６４との間に配設され被加工物に照射された光の反射光を分光するビームスプリッター６６と、分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６７と、通過した反射光を回折光に変換する回折格子６８と、回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６９と、波長検出手段６９からの波長信号に基いて被加工物Ｗの高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。
【解決手段】パターン形状計測方法において、ベストマッチとなる計算波形が選出不可能な場合は、形状パラメータの内、少なくとも１つのパラメータを、パターン形状計測に依らない計測方法を用いる他計測装置にて得られた情報に基づいて固定値とし、再度、ライブラリと検出波形のマッチングを行い、ベストマッチとなる計算波形を選出するステップと、ベストマッチした計算波形より対象パターンの形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】互いのウェハを位置合わせして重ね合わせるときに、ステージの回転量が所定量を超えてしまうと、ステージの正確な位置を把握することが困難となる。ステージの回転量が所定量を超えないように制御するには、そもそも最初にステージに置かれるウェハの位置を厳密に管理する必要がある。
【解決手段】位置検出装置は、第１基板に設けられた少なくとも２個の第１基板指標を一度の撮像動作により撮像する第１撮像ユニットと、第１撮像ユニットにより撮像された画像に基づいて第１基板指標の位置を計測することにより、第１基板の姿勢を測定する測定部とを備える。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】多重ヘッドアライメントシステムにおいて主アライメントヘッドを用い副アライメントヘッドの位置較正をするためのキャリブレーション方法が開示される。このシステムは例えばウェーハ表面のマーカ測定に使用され、そのウェーハ内またはウェーハ上に回路を形成するリソグラフィ処理中に行われる。複数のオフセット測定が少なくとも１つの副アライメントヘッドのために行われ、それにより副アライメントヘッドの主アライメントヘッドに対するオフセットが測定され、以降のウェーハ測定演算での補正データとして使用される。 （もっと読む）

【課題】広いダイナミックレンジを有する出力信号を提供する。
【解決手段】検出された出力信号は、それから分析されて欠陥が試料上に存在するか決定される。例えば、ターゲットダイからの強度値は、レファレンスダイの対応する部分からの強度値と比較され、大きな強度差は欠陥として定義される。具体的な実施形態において、試料上の欠陥を検出する検査システムが開示される。前記システムは、入射ビームを試料表面に向けて導くビーム発生器、および前記入射ビームに応答して前記試料表面から来るビームを検出するよう配置された検出器を含む。前記検出器は、前記検出されたビームを検出し、前記検出されたビームに基づいて信号を発生するセンサおよび前記センサに結合された非線形要素を有する。前記非線形要素は、前記検出された信号に基づいて非線形検出信号を発生する。さらに、前記非線形要素に結合された第１アナログディジタル変換器（ＡＤＣ）を含む。 （もっと読む）

【課題】プロダクトフィーチャと同じ感度を受けるオーバーレイエラーを決定する方法を提供する。
【解決手段】オーバーレイエラーの決定に用いるマークはサブフィーチャ（４６）を含んでおり、このサブフィーチャはプロダクトフィーチャの最も小さいピッチとほぼ同等である最も小さいピッチを有する。これにより、歪みおよび収差に対する感度はプロダクトフィーチャのものと同じになる。しかしながら、マークが現像されるとサブフィーチャは組み合わされ、より大きいフィーチャの輪郭のみが現像される。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】物体のアライメントを測定するための装置を備えるリソグラフィ装置であって、アライメント検出領域にてアライメントマークの位置を測定するためのアライメント検出器を各々が備える複数のアライメントセンサと、レベリングセンサ検出領域において物体の高さ及び／または傾斜を測定するためのレベリングセンサと、レベリングセンサとアライメントセンサとの間のフィードフォワード接続部と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】同じ基板について２種類以上の基準マークの位置を各々検出し、同じ種類の基準マークの検出結果から求めた補正量を、異なる種類の基準マークに適用して補正量を評価することで、同じ傾向を有する誤差を容易に検出して適正な補正を行うことができる、描画装置、プログラム及び描画方法を提供する。
【解決手段】第１基準マークに基づいて得られた第１補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第１ずれ量）を演算し、第２基準マークに基づいて得られた第２補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第２ずれ量）を演算する。第１補正量で第２基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第３ずれ量）を演算し、第２補正量で第１基準マークの設定位置を補正して、補正後位置の検出位置からの誤差（第４ずれ量）を演算する。 （もっと読む）

オーバーレイオフセットを特定するための方法は：第１の散乱測定セルに関する第１の逆対称差分信号（ΔＳ１）の取得と；第２の散乱測定セルに関する第２の逆対称差分信号（ΔＳ２）の取得及び第１の散乱測定セルに関する第１の逆対称差分信号（ΔＳ１）及び第２の散乱測定セルに関する第２の逆対称差分信号（ΔＳ２）からのオーバーレイオフセットの計算を含むがそれに制限されるものではない。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高精度な膜測定を安価で容易に行なう膜測定方法を得ること。
【解決手段】第１の基板上に形成されたサンプル膜Ａに光を照射して膜質測定した場合の膜質情報３Ａと、第２の基板上に形成されサンプル膜Ａと同じ種類の膜材であるサンプル膜Ｂに光を照射して膜質測定した場合の膜質情報３Ｂと、を比較し、膜質測定結果の差が所定値よりも小さくなる波長の光を、膜厚測定に用いる波長領域の光として選択し、サンプル膜Ａ，Ｂと同じ種類の膜材である測定対象膜に、選択した波長領域の光を照射して、測定対象膜の膜厚を測定する。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、少なくとも熱線及び紫外光を含む光を射出する光源部と、前記光源部から射出された光のうち、紫外光を透過し、熱線を吸収する紫外光透過性熱線吸収膜と、所定の繰り返しパターンを有するウェハの表面に前記紫外光を用いた直線偏光を照射する照明部と、直線偏光が照射されたウェハの表面からの反射光のうち直線偏光と振動方向が略直角な偏光成分を検出する検出部と、検出部で検出された偏光成分に基づいて、繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、照明部または検査部の光路上に、直線偏光または偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設される。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの位置認識及び位置決めの精度を向上でき、信頼性を高めることができるようにすること。
【解決手段】位置認識装置１１は、半導体ウエハＷの端縁の位置を検出可能な複数のセンサａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２を備えた検出手段１６と、半導体ウエハＷと検出手段１６とを直線方向に相対移動可能な移動手段１７と、検出手段１６の検出データから半導体ウエハＷの中心位置を算出可能な制御手段１８とを備えて構成されている。検出手段１６は、前記相対移動する直線方向に対して直交する方向に、所定間隔を隔てて少なくとも４か所にセンサａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】検出する光の光量低下を防止した表面検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面検査装置１は、少なくとも熱線及び紫外光を射出する光源部と、所定の繰り返しパターンを有する被検基板の表面に、前記紫外光の直線偏光を照射する照明部と、前記直線偏光が照射された前記被検基板の表面からの反射光のうち前記直線偏光と振動方向が交差する偏光成分を検出する検出部と、前記検出部で検出された前記偏光成分に基づいて、前記繰り返しパターンにおける欠陥の有無を検査する検査部とを備え、
前記照明部または前記検査部の光路上に、前記直線偏光または前記偏光成分を得るための偏光板３４が密閉部材３６により外気に対して密閉された状態で配設されると共に、前記密閉部材３６のうちの前記紫外光の透過領域表面に紫外光透過性熱線吸収膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】正確かつ高速なパターンの形状評価を実現できるパターン形状評価方法および装置を提供する。
【解決手段】ダブルパターンニング用の設計パターンを用いて製造した回路パターンの接合部の画像を読み出し、その上に、目標境界線と評価領域とを設定する。評価領域において、目標境界線の方向に沿って画像処理を行ない、更に、二値化処理を行なう。こうして、得られた画像に基づいてパターンの欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】試料表面のパターン形状の良否を、環境温度変化の影響を受けることなく判定する表面検査方法を提供する。
【解決手段】偏光子７及び対物レンズ９を含み、ウェハ１０の表面を照明する照明光学系２１と、ウェハ１０の表面からの反射光を、対物レンズ９を介して集光し、偏光子７とクロスニコル条件を満たすように配置された検光子１２を通して対物レンズ９の瞳面の像を結像する検出光学系２２と、瞳面の像を検出する第１の撮像素子１７と、を有する表面検査装置１００による表面検査方法は、第１の基準像を取得する第１のステップと、検査像を取得する第２のステップと、第２の基準像を取得する第３のステップと、第１及び第２の基準像の階調値の差を求め、当該差が所定値を越えたときに、検査像の階調値を補正する第４のステップと、補正後の検査像及び第１若しくは第２の基準像の階調値を用いてウェハ１０の欠陥を検出する第５のステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップが集積したウエハーなどに代表される被検査対象物の集合体の外観検査方法およびその方法を用いて検査する外観検査装置に関する。特に、個々の被検査対象物が、ランダムに位置している場合でも外観検査を効率良くおこなうことに関する。
【解決手段】 被検査対象物の集合体として多数個形成された被検査対象物の欠陥を検出する外観検査をおこなうに際し、検査レシピ条件に沿って、照明の種類や角度その他撮像の倍率が変わる回数だけ何回も検査する必要があるが、その各々の被検査対象物の角度が基準となる水平な角度とずれている量を補正データとして格納することによって、次回からの繰り返しの検査においては、当該格納された情報を呼び出し、補正した後に外観検査をおこなうことによって、都度の位置や回転角度の測定作業を回避することにより、外観検査時間を短縮する。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】被覆膜の厚さと独立して、基板よりも反射率の低い被覆膜付きの基板上に存在するパターンの三次元形状を非破壊で測定することができる三次元形状測定装置を提供することである。
【解決手段】可視光に対して透明な被覆膜付きの基板上に設けられた不透明なパターンの物理的三次元形状を測定する三次元形状測定装置であって、第１波長の照明光と、前記第１波長と異なる第２波長の照明光とを切り替えて照射する光源部と、前記第１波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第１仮想段差と、前記第２波長の照明光を照射したときの前記パターンと前記被覆膜との第２仮想段差とを測定する光検出器と、前記第１仮想段差と前記第２仮想段差とに基づいて、前記パターンの物理的三次元形状を決定する処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型化したウエハの搬送を容易にする。
【解決手段】 露光装置は、ＸＹ平面に沿って移動可能であるとともに、互いに接近及び離間が可能な第１部分と第２部分とを含む粗動ステージＷＣＳ１と、ウエハＷを保持するとともに、粗動ステージＷＣＳ１によって少なくともＸＹ平面内で相対移動可能に支持される微動ステージＷＦＳ１と、粗動ステージＷＣＳ１に支持されている微動ステージＷＦＳ１を単独で若しくは粗動ステージＷＣＳ１と一体で駆動する駆動系と、を備える。また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。 （もっと読む）