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Fターム[2F065GG15]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 光源 (11,799) | 光源形態 (1,634) | 点の配列 (783) | 面状 (149)

Fターム[2F065GG15]に分類される特許

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【課題】リング状光源と光出射部との間に十分な距離を確保しつつ、非正反射領域の発生を防止する。
【解決手段】カメラ1の光軸12に沿って光を照射する第1照明部2Aの下方に設ける第2照明部2Bの光通過部を、下端部に向かうほど径が小さくなるすり鉢状に形成された中空体23と短筒部25とにより形成する。中空体23の周囲には、LED26によるリング状光源が配備され、短筒部25は、拡散剤を含む樹脂によりドーム状部24と一体に形成される。第1照明部2Aからの照明光は、中空体23から短筒部25を通過してワークWに照射されるが、短筒部25の上端の開口端面に達したときに、その開口に対応する大きさになるように調整される。LED26からの光は、ドーム状部24の傾斜面で拡散して短筒部23にまで伝搬され、その上端部からもワークWに向かう光が照射される。 (もっと読む)


【課題】画像データの高コントラストフレームを生成しながら、システムの体積を最小化できるようにする。
【解決手段】光ナビゲーションを実行するためのシステムと方法は、目標面に関する変位を推定するための画像データのフレームを生成するために散乱光を使用する。散乱光は、第1の光軸に沿って目標面へと放射された照明光ビーム(OI)から生成される。照明光ビーム(OI)は、第2の光軸に沿った鏡面反射光ビーム(OR)も生成する。第2の光軸に対して予め決められた角度θだけオフセットされた第3の光軸の周りの散乱光(OC)は、画像のいくつかのフレームを生成するために、画像センサアレイ218により受けられる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、白色光走査干渉原理を用いる単一装備で2次元と3次元情報の獲得を全て実施することができ、測定物の全体面積に対する検査を行う代わりに、特定領域のみに対して3次元検査を行えるようにする表面形状測定システム及びそれを用いた測定方法に関するものである。
【解決手段】本発明の表面形状測定システムは、主光源、集光レンズ及び投影レンズで構成される照明部と、前記照明部からの照明光がそれぞれ基準ミラーの基準面Rと測定物の測定面Pに照射されるように照明光を分割するビーム分割器と、前記測定面Pと前記基準面Rからそれぞれ反射される基準光と測定光の干渉によって生成された干渉縞を撮影する光検出素子と、前記光検出素子を通して撮像された画像から白色光干渉縞解析を通して表面形状情報を獲得し、獲得された情報を通して欠陥有無を検出する制御コンピュータとを含む表面形状測定システムにおいて、前記測定物とビーム分割器との間には、測定物に対して落射照明を提供する補助光源をさらに備えており、前記主光源と補助光源の点灯及び前記基準面Rへの照明照射を選択的に断続し、表面形状に対する2次元情報及び3次元情報を獲得するものである。 (もっと読む)


【課題】大面積不変形光斑撮像装置及びその方法の提供。
【解決手段】該大面積不変形光斑撮像装置は光発射器、光制限モジュール及びセンサを包含し、該光制限モジュールは該センサの前に取付られ、該光制限モジュールは複数の光制限素子を包含し、光制限素子は一次元或いは二次元アレイに配列され、該光発射器が光源を物体表面に発射し、散乱光を発生し、該光制限モジュールがこの散乱光を制限し、並びに回折光を発生し、該回折光が相互に干渉して複数のアレイ不変形光斑画像を発生し、且つ該センサ上に成像し、最後にアレイ光斑画像を画像リフォームして大面積且つ不変形の光斑図を得る。該光斑図は大面積不変形の光斑画像であり、且つ該光斑図は物体表面の三次元変化の特徴を記録するため、該大面積不変形光斑撮像装置はコンピュータマウス、手指ナビゲータ、スマートカード、三次元指紋識別装置、工作機械或いは機械アーム精密位置決めシステム等に応用可能である。 (もっと読む)


【課題】
原点位置を再現性良く設定可能な絶対位置の計測装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】
第一の光源及びこれより干渉性の低い第二の光源を用いて被計測物の絶対位置を計測する計測装置であって、第一の光源及び第二の光源から得られる干渉信号の位相が一致する点、又は、第二の光源から得られる干渉信号の強度が最大となる点、を計測する計測部と、計測部により計測された点を原点位置として設定する原点設定部と、第一の光源から得られる干渉信号の原点位置における位相を記憶する位相記憶部と、原点位置の位置情報の消滅後に計測部により計測された計測結果と、第一の光源から得られる干渉信号と、位相記憶部に記憶された位相とを用いて原点位置を求め、原点を再設定する原点再設定部と、再設定された原点位置を基準として第一の光源からの光により生成される干渉信号を用いて被計測物の絶対位置を求める位置算出部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】部品実装機の吸着ノズルに吸着した部品を側面方向からカメラで撮像した画像に基づいて簡単な処理で該吸着部品の表裏を判定できるようにする。
【解決手段】吸着ノズルに吸着した部品を側面方向(水平方向)からカメラで撮像して吸着部品の側面の画像を取り込んで画像処理する。そして、画像に表される吸着部品の左右両端又はいずれか一方の端の高さ位置と該吸着部品の最下端の高さ位置を測定し、該吸着部品の左右両端又はいずれか一方の端の高さ位置と該吸着部品の最下端の高さ位置との差分値を算出して、該差分値が表裏判定しきい値以上であるか否かで、該吸着部品の吸着姿勢が表裏反対であるか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】実質的に所定平面に沿って移動する移動体の、該所定平面に垂直な方向の位置情報を、安定かつ高精度に計測する。
【解決手段】投影ユニットPUの+X,−X側にそれぞれ複数のZヘッド76,74が、常時各2つのZヘッドが対になってウエハステージ上の一対のYスケール(反射面)に対向するように、X軸と平行に、Yスケールの有効幅の半分以下の間隔WDで配列されている。同時にYスケールに対向する2つのZヘッドからなるヘッド対のうち、優先ヘッドの計測値を、優先ヘッドの計測値がヘッドの動作不良等により異常である場合には他方のヘッドの計測値を、使用して、ウエハステージの少なくともZ軸方向の位置情報を、安定かつ高精度に計測する。 (もっと読む)


【課題】測定死角を完全に排除した高精度な3次元測定を短時間でできる印刷半田検査装置を提供することにある。
【解決手段】基板に対して垂直上方から光照射する1つの光照射手段23と、前記基板で該照射光路に対し両側方向にそれぞれ反射した光を入射する2つの撮像手段32、33とを備え、該入射光に基づいて当該印刷半田を3次元画像処理して検査する。これにより、1つの光照射手段が、基板に対して垂直上方から光照射し、該光照射手段を挟んで相対する2つの撮像手段が、印刷半田によって生じる凹凸状態を斜め両側からそれぞれ撮像するので、照明の影を補うことが可能となって測定死角を完全に排除した高精度な3次元測定ができると共に、同時撮像処理が可能となって測定時間を短縮させることができる。 (もっと読む)


【課題】 電子部品実装用のテープキャリアに形成された配線パターンの外観検査を確実に行なうためのテープキャリア保持装置を提供する。
【解決手段】 被検査面を上向きにしてテープキャリア7を搬送する搬送手段と、被検査面に光を照射してその反射光を取得する撮像手段15、25と、上面に吸着面を有して昇降自在に設けられた吸着ステージ24とを備え、前記搬送手段がテープキャリア7を搬送するときは吸着ステージ24はこのテープキャリア7と接触しない下方に位置し、前記搬送を停止して撮像手段15、25が撮像を行なうときは、吸着ステージ24が上方に移動してその上面をテープキャリア7の下面に接触させ、このテープキャリアを吸着保持することを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略可能な検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置100は、それぞれ基本波を発光する複数の面発光レーザ素子146を有する光源140と、複数の面発光レーザ素子146から発光された複数の基本波をフォトマスク101に照射する照明光学系170と、フォトマスク101を載置するXYθテーブル102と、を備えたことを特徴とする。本発明の一態様によれば、光源を小型化すると共に、従来必要であったインコヒーレント化するための機器を省略することができる。 (もっと読む)


【課題】カラーハイライト照明で検出が難しいはんだの急峻な面や平坦面を判別できるようにするとともに、はんだ以外の部位を白色照明下で撮像できるようにする。
【解決手段】基板Sの上方に、カラーカメラ1Aと赤外線カメラ1Bとを各受光面が基板面に対向するように配備する。またカメラ1A,1Bと基板Sとの間には、赤、緑、青の各可視光をそれぞれ異なる方向から照射する第1照明部2Aと、カメラ1Aの光軸11に沿って赤外光を照射する第2照明部2Bとを設ける。カメラ1Aでは、第1照明部2Aからの光に対する基板Sからの反射光の入射によるカラー画像を生成し、カメラ1Bは、赤外光に対する反射光の入射による濃淡画像を生成する。フィレット以外の部位を検査する場合には、カラー画像の対応箇所の画像を処理し、フィレット検査の際には、カラー画像および濃淡画像を用いて5段階の傾斜レベルに相当する部位を特定する。 (もっと読む)


【課題】エンボステープのポケットに収納された状態等の電子部品の傷や欠け等の外観検査を精度よく行うことができる電子部品検査装置および電子部品検査方法を提供する。
【解決手段】電子部品13に対して直交する方向から第1照明光を照射するとともに、電子部品に対して斜め方向から第2照明光を照射し、電子部品13とこの周りの部位とにコントラスト差を生じさせて、電子部品13の輪郭を検出する工程を行う。電子部品13に対して斜め方向から第3照明光を照射して電子部品13の表面を検査する工程を行う。 (もっと読む)


【課題】ウェーブドベルトの周期長λと波高長2aの値を精度良く求めることのできるウェーブドベルトの波形計測方法とその装置を提供する。
【解決手段】試料台に波型面を表面側にして保持したウェーブドベルトに照射装置から照明光を照射しながら、CCDカメラにより撮影した画像を複数個のブロックに分割した後、上記ブロック中の画像を直線で近似してから、当該ベルトの長手方向と画面の水平方向とのなす角δを算出してその符号を調べ、波の頂点である、山もしくは谷となる位置を含む基準ブロックを指定し、この基準ブロックのうち、山となる位置を含む2つの基準ブロックの重心同士を結ぶ線分を引き、その長さを測定して周期長λを求めるとともに、上記2つの基準ブロックの中間に位置する谷となる位置を含むブロックの重心と上記線分との距離から波高長2aを求めるようにした。 (もっと読む)


【課題】隠れ点を考慮して簡易に精度良くマッピング画像を取得できるようにする。
【解決手段】同期制御部20により距離画像を取得するための撮像部2Aおよび撮像部2Bの駆動を同期させて距離画像および2次元画像を取得する。対応関係算出部30により、距離画像上における画素と、2次元画像上における画素との対応関係を算出する。この際、隠れ点検出部31において、撮像部2Aからは臨むことができるが撮像部2Bからは臨むことができない被写体上の隠れ点を距離画像および2次元画像上において検出する。マッピング部32により、対応関係に基づいて、隠れ点を視認可能に2次元画像を距離画像にマッピングしてマッピング画像を生成する。 (もっと読む)


【課題】被験者をできるだけ拘束せず、ハーフミラーの持つ欠点を低減しつつも、所定の向きの顔の三次元形状のデータを求めることができるようにする。
【解決手段】レンジファインダ100のカメラ110の上方に鏡130を設ける。被験者が顔を鏡130に映すと、その顔の向きはカメラ110に対して所定の向きを向いた状態となる。カメラ110は、鏡130を向いた顔を、幾分下方から見上げる角度(例えば12度)で撮影する。これにより、鼻の下部や顎の下面など顔の特徴的な部位の三次元形状を求めることができる。 (もっと読む)


【課題】コストがかかることがなく、姿勢角または走行する平面を検出する。
【解決手段】距離演算部28は、受光装置20で受光された反射光に基づいて、床面上の複数の点までの距離Lm(i)を演算する。姿勢検出部30は、受光装置20の各受光素子の出力から演算された各々の距離Lm(i)と、複数の候補姿勢角θ´の各々の場合における距離計測装置12から床面までの理論上の各々の距離Lr(θ´)とに基づいて、姿勢角θを検出する。 (もっと読む)


本発明は、サンプル(5)を検査する撮像光学検査装置に関する。前記検査装置は、照射面内でサンプル表面の指定の部分を非平行光(4)で照射する光源(3)と、前記部分から反射される反射光(4’)の経路及び/又は前記サンプル部分内のサンプル(5)の厚さ全体を通って進む透過光(4”)の経路内に配置された、少なくとも照射面内に延びる少なくとも1つのピンホール(7)と、前記ピンホール(7)を通過する光(4’、4”)の経路内に配置されて前記光(4’、4”)を遮断するように構成された、少なくとも1つの線に沿って光強度分布を感知することが可能な少なくとも1つのスクリーン及び/又は少なくとも1つの位置敏感型検出器システム(8)とを備える。 (もっと読む)


【課題】被検物の表面に溝や段差があっても計測が可能な計測装置を提供すること。
【解決手段】被検物(被検物50)にパターン光を投影するパターン投影部(液晶素子41、投影レンズ42、バックライト44)と、前記パターン光の一部を変調させるパターン変調部(パターン発生回路20中の点滅データ発生回路22)と、前記被検物に投影された前記パターン光の投影像(投影パターン60)を撮影するパターン撮影部(撮影カメラ43)と、前記投影像から前記パターン変調部によって変調された領域(点滅部分60c)を検出する変調領域検出部(パターン処理回路30中の点滅部検出回路31)と、前記変調領域検出部によって検出された変調領域の情報に基づいて前記被検物の形状を計測する形状計測部(パターン処理回路30中の断面形状計測回路32)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】欠陥を漏れなく精度良く検査するとともに、検査結果を分かりやすく正確に表示し、検査に必要な各装置を自在に増設して、効率良く外観検査を行うシステムを安価に提供する。
【解決手段】外観検査システム10で扱うレンズ17は、検査トレイ16に配列され、外観検査装置22で良,不良,再検査の何れかに各々評価される。レンズ17の評価や検査に用いた画像は、サーバ21のデータベース28に登録される。レンズ17を配置した検査トレイ16がトレイ保管庫26に保管されている間に、再検査装置23でサーバ21から検査時の画像等が読み出され、再検査のレンズ17は良又は不良に分類される。検査結果表示装置24には検査時のままレンズが配列された検査トレイ16が配置され、サーバ21から取得した各々のレンズ17の評価が各々のレンズ17に直接的に表示され、レンズ17は選別される。 (もっと読む)


【課題】多数の画素からなる変調手段の全ての描画点の位置を示す全画素座標データを短時間で取得し、生産性の向上を図る。
【解決手段】多数の画素から一部の画素を間引いた残りの第1間引済画素の描画点の位置を測定して詳細測定座標データPを取得し、その詳細測定座標データPを補間して全ての画素の第1全画素座標データRを取得し、第1間引済画素からさらに一部の画素を間引いた残りの第2間引済画素の描画点の位置を測定して第1簡易測定座標データQを取得し、第1簡易測定座標データQと詳細測定座標データPのうち第2間引済画素の詳細測定座標データPとの関係に基づいて詳細測定座標データPを補正して第1補正済詳細測定座標データP1−1を取得し、その第1補正済詳細測定座標データP1−1を補間して第2全画素座標データR1−1を取得する。 (もっと読む)


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